JP3502789B2 - Method for producing thin film hologram forming sheet for hologram pigment - Google Patents
Method for producing thin film hologram forming sheet for hologram pigmentInfo
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/0276—Replicating a master hologram without interference recording
- G03H1/028—Replicating a master hologram without interference recording by embossing
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は塗料の光輝材として
用いられるホログラム顔料の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a holographic pigment used as a glitter material for paint.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えば、自動車のボディ用に用いられる
塗料に、メタリック感を出すため、光輝材を含有させる
ことがある。従来の光輝材としては、図６に示すマイカ
等が挙げられるが、近年更なる光輝性向上の要請があ
る。そこで、近年光輝性の高いホログラム顔料が注目さ
れている。2. Description of the Related Art For example, a paint used for an automobile body may contain a glitter material in order to give a metallic feeling. Mica and the like shown in FIG. 6 can be cited as a conventional glitter material, but in recent years there has been a demand for further improvement in glitter. Therefore, in recent years, hologram pigments having high glitter have been attracting attention.
【０００３】ホログラム顔料は、図５に示されるよう
に、エンボス模様が形成されたエンボス面上に金属薄膜
が積層され、この金属薄膜からなる金属反射層に入射し
た光が回折、干渉することによって、高い玉虫色効果が
得られる顔料である。このようなホログラム顔料では、
図６に示された、従来のマイカ等に比べ強い干渉色を得
ることができる。As shown in FIG. 5, a hologram pigment has a metal thin film laminated on an embossed surface on which an embossed pattern is formed, and light incident on a metal reflection layer made of this metal thin film is diffracted and interfered with. , A pigment that gives a high iridescent effect. With such hologram pigments,
It is possible to obtain a stronger interference color than that of the conventional mica shown in FIG.
【０００４】上記ホログラム顔料は、ホログラム形成シ
ートを粉砕することによって得られるが、一般的なホロ
グラム形成シートの製造方法が、特開昭６１−２３８０
７９号公報の「着色ホログラムシート」に例示されてい
る。すなわち、上記公報のホログラムシートは、基材フ
ィルム上に合成樹脂層が積層され、この合成樹脂層上に
ホログラム用の微小凹凸（以下「エンボス模様」とい
う）が形成され、このエンボス模様の形成された面上に
反射性の金属薄膜層を積層してなる。The above-mentioned hologram pigment can be obtained by crushing a hologram-forming sheet, and a general method for producing a hologram-forming sheet is disclosed in JP-A-61-2380.
No. 79, “Colored hologram sheet” is illustrated. That is, in the hologram sheet of the above publication, a synthetic resin layer is laminated on a base material film, and minute irregularities for hologram (hereinafter referred to as “emboss pattern”) are formed on the synthetic resin layer, and this emboss pattern is formed. The reflective metal thin film layer is laminated on the exposed surface.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】従来のホログラム形成
シートの製造方法により製造されたシートの厚みは、例
えば２０μｍ以上である。一方、塗料の光輝材として使
用されるホログラム顔料の要求厚みは、１μｍ以下であ
る。従って、従来の製造方法により得られたホログラム
形成シートを粉砕しても、所望のホログラム顔料を得る
ことは困難である。The thickness of the sheet manufactured by the conventional method for manufacturing a hologram forming sheet is, for example, 20 μm or more. On the other hand, the required thickness of the hologram pigment used as the luster material of the paint is 1 μm or less. Therefore, it is difficult to obtain a desired hologram pigment even if the hologram forming sheet obtained by the conventional manufacturing method is crushed.
【０００６】そこで、一般に使用されている金属製のエ
ンボス原版を連ねた金属ベルト上に、熱硬化性樹脂を薄
く塗布し、薄膜の樹脂層を形成し、更にこの樹脂層にエ
ンボス模様を形成し、その後エンボス面に金属薄膜を形
成してホログラム形成シートを作成した後、ホログラム
シートを粉砕してホログラム顔料を製造することが提案
される。Therefore, a thermosetting resin is thinly applied on a metal belt having a generally used metal embossing master plate to form a thin resin layer, and an embossed pattern is formed on the resin layer. After that, it is proposed that a metal thin film is formed on the embossed surface to form a hologram forming sheet, and then the hologram sheet is crushed to produce a hologram pigment.
【０００７】上記金属ベルトは、エンボスパターンが形
成された、例えばニッケル等の金属からなり、金属ベル
トを形成する場合には、一般的に複数の金属矩形型を張
り合わせる必要がある。The metal belt is made of a metal such as nickel on which an embossed pattern is formed. When forming the metal belt, it is generally necessary to bond a plurality of metal rectangular shapes.
【０００８】一方、ホログラム形成シートを連続作業で
製造するためには、その原料のエンボス面が形成された
薄膜樹脂シートが、長いロール状の連続体であることが
好ましい。かかる場合、金属ベルトは、上記複数の金属
版を段差なく張り合わせなければならない。On the other hand, in order to manufacture the hologram forming sheet by a continuous operation, it is preferable that the thin film resin sheet on which the embossed surface of the raw material is formed is a long roll continuous body. In such a case, the metal belt has to bond the plurality of metal plates to each other without steps.
【０００９】しかしながら、この作業は非常に難しく、
更に上記金属版はコストが高いため、この複数の金属版
を上述したように段差なく張り合わせるとより更にコス
ト高になるおそれがある。また、金属ベルトは金属疲労
を起こしやすいため、耐用年数が短い。However, this work is very difficult,
Further, since the metal plate has a high cost, there is a possibility that the cost will be further increased if the plurality of metal plates are laminated without any step as described above. In addition, since metal belts are prone to metal fatigue, their service life is short.
【００１０】本発明は、上記従来の課題に鑑みなされた
ものであり、その目的は、低コストのエンボス原版を用
いて、ホログラム顔料用の膜厚の薄いホログラム形成シ
ートを製造する方法およびホログラム顔料の製造方法を
提供する。The present invention has been made in view of the above conventional problems, and an object thereof is a method for producing a hologram forming sheet having a thin film thickness for hologram pigments using a low-cost embossing master plate, and a hologram pigment. A method for manufacturing the same is provided.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のホログラム顔料用薄膜ホログラム形成シー
トの製造方法は、以下の特徴を有する。In order to achieve the above object, the method for producing a thin film hologram forming sheet for hologram pigment of the present invention has the following features.
【００１２】（１）熱可塑性樹脂層を有するベースフィ
ルムにエンボス原版を押しつけエンボス２次原版を作成
する工程と、前記エンボス２次原版に樹脂を塗布し前記
エンボス２次原版上に樹脂層を形成する工程と、前記樹
脂層を硬化させる工程と、前記エンボス２次原版から前
記樹脂層を剥がす工程と、前記樹脂層に形成されたエン
ボス面に金属反射層を形成する工程と、を有するホログ
ラム顔料用薄膜ホログラム形成シートの製造方法であ
る。(1) A step of pressing an embossing original plate on a base film having a thermoplastic resin layer to prepare an embossing secondary original plate, and applying a resin to the embossing secondary original plate to form a resin layer on the embossing secondary original plate. And a step of curing the resin layer, a step of peeling the resin layer from the embossed secondary original plate, and a step of forming a metal reflection layer on an embossed surface formed on the resin layer. Is a method for manufacturing a thin film hologram forming sheet for use in a computer.
【００１３】エンボス原版に樹脂層を塗布してエンボス
加工された樹脂層を形成するので、ホログラム形成シー
トの膜厚を薄くすることができる。Since the resin layer is applied to the embossing original plate to form the embossed resin layer, the film thickness of the hologram forming sheet can be reduced.
【００１４】また、通常エンボス原版は金属製のものが
用いられる。そこで、ホログラム形成シートをロール状
になるように形成する場合、樹脂硬化時間を考慮する
と、エンボス原版をベルト状に配列した長い金属製エン
ボス加工ベルトが必要となる。この金属製エンボス加工
ベルトは、矩形型の金属エンボス原版を段差のないよう
に張り合わせて製造されるため、製造コストが嵩む。一
方、本発明のように、例えば従来の金属製矩形状エンボ
ス原版から連続的にエンボス模様を転写して形成され
た、熱可塑性樹脂からなる樹脂ロール状エンボス２次原
版を用いることにより、ロール状エンボス原版を低コス
トで作成することができる。また、金属製エンボス加工
ベルトの場合、金属の特性により、樹脂に比べコンパク
トなロール状原版にならないが、本発明の樹脂製ロール
状２次原版は可撓性であるため、原版をコンパクト化す
ることができる。その結果、ホログラム形成シートの製
造設備が小型化することができる。The embossing original plate is usually made of metal. Therefore, when the hologram forming sheet is formed in a roll shape, a long metal embossing belt in which the embossing original plates are arranged in a belt shape is required in consideration of the resin curing time. This metal embossing belt is manufactured by laminating rectangular metal embossing original plates without any step, and therefore the manufacturing cost increases. On the other hand, as in the present invention, for example, by using a resin roll-shaped embossed secondary master plate made of a thermoplastic resin, which is formed by continuously transferring an embossed pattern from a conventional metal rectangular embossed master plate, The original embossing plate can be created at low cost. Further, in the case of a metal embossed belt, it is not a roll-shaped original plate that is more compact than resin due to the characteristics of the metal, but the resin-made secondary roll original plate of the present invention is flexible, so the original plate is made compact. be able to. As a result, the hologram forming sheet manufacturing equipment can be downsized.
【００１５】更に、熱可塑性樹脂は、金属製エンボス原
版に用いられるニッケル等に比べ、原料コストが安価で
あるため、ロール状原版を更に低コストで作成すること
ができる。その結果、ホログラム形成シートを安価に製
造することが可能となる。Further, the raw material cost of the thermoplastic resin is lower than that of nickel or the like used for the metal embossing master plate, so that the roll-shaped master plate can be prepared at a lower cost. As a result, the hologram forming sheet can be manufactured at low cost.
【００１６】（２）熱可塑性樹脂層を有するベースフィ
ルムにエンボス原版を押しつけエンボス２次原版を作成
する工程と、前記エンボス２次原版に樹脂を塗布し前記
エンボス２次原版上に樹脂層を形成する工程と、前記樹
脂層を硬化させる工程と、前記樹脂層の樹脂との親和力
の高い樹脂を前記樹脂層上に塗布し接着層を形成する工
程と、前記接着層に接着した前記樹脂層を前記エンボス
２次原版から剥がす工程と、前記樹脂層に形成されたエ
ンボス面に金属反射層を形成する工程と、を有するホロ
グラム顔料用薄膜ホログラム形成シートの製造方法であ
る。(2) A step of pressing an embossing original plate on a base film having a thermoplastic resin layer to prepare an embossing secondary original plate, and applying a resin to the embossing secondary original plate to form a resin layer on the embossing secondary original plate. And a step of curing the resin layer, a step of applying a resin having a high affinity for the resin of the resin layer on the resin layer to form an adhesive layer, and the resin layer adhered to the adhesive layer. A method for producing a thin film hologram forming sheet for hologram pigment, comprising: a step of peeling from the embossed secondary original plate; and a step of forming a metal reflection layer on an embossed surface formed on the resin layer.
【００１７】上記（１）に記載した作用に加え、更に本
発明は、樹脂層の樹脂と親和力の高い樹脂からなる接着
層を、樹脂層上に形成することにより、樹脂層をエンボ
ス２次原版から剥離させることが容易になる。In addition to the function described in (1) above, the present invention further comprises forming an adhesive layer made of a resin having a high affinity with the resin of the resin layer on the resin layer, thereby embossing the resin layer. It becomes easy to peel from.
【００１８】（３）熱可塑性樹脂層を有するベースフィ
ルムにエンボス原版を押しつけエンボス２次原版を作成
する工程と、前記エンボス２次原版に樹脂を塗布し前記
エンボス２次原版上に第１樹脂層を形成する工程と、前
記第１樹脂層を硬化させる工程と、前記第１樹脂層の樹
脂との親和力の高い樹脂を前記第１樹脂層上に塗布し接
着層を形成する工程と、前記接着層に接着した前記第１
樹脂層を前記エンボス２次原版から剥がす工程と、前記
樹脂層に形成されたエンボス面に金属反射層を形成する
工程と、前記金属反射層上に更に第２樹脂層を形成する
工程と、を有するホログラム顔料用薄膜ホログラム形成
シートの製造方法である。(3) A step of pressing an embossing original plate on a base film having a thermoplastic resin layer to form an embossing secondary original plate, and applying a resin to the embossing secondary original plate to form a first resin layer on the embossing secondary original plate. Forming the first resin layer, a step of curing the first resin layer, a step of applying a resin having a high affinity with the resin of the first resin layer on the first resin layer to form an adhesive layer, The first adhered to a layer
A step of peeling a resin layer from the embossed secondary original plate, a step of forming a metal reflective layer on the embossed surface formed on the resin layer, and a step of further forming a second resin layer on the metal reflective layer. It is a method for producing a thin film hologram-forming sheet for hologram pigments.
【００１９】上記（１）および（２）の作用に加え、金
属反射層上に第２樹脂層を形成することにより、金属薄
膜である金属反射層を保護すると共に、第２樹脂層から
もホログラムを形成することができ、第１樹脂層と第２
樹脂層からの光の干渉等により光輝性が更に向上する。In addition to the effects of (1) and (2) above, by forming a second resin layer on the metal reflection layer, the metal reflection layer, which is a metal thin film, is protected and the hologram is also formed from the second resin layer. To form a first resin layer and a second resin layer.
Brightness is further improved by interference of light from the resin layer.
【００２０】（４）上記（１）から（３）のいずれかに
記載の製造方法において、前記樹脂層または第１樹脂層
および第２樹脂層は、熱硬化性樹脂からなるホログラム
顔料用薄膜ホログラム形成シートの製造方法である。(4) In the manufacturing method according to any one of (1) to (3), the resin layer or the first resin layer and the second resin layer are thermosetting resins, and are thin film holograms for hologram pigments. It is a manufacturing method of a formation sheet.
【００２１】熱硬化性樹脂をエンボス２次原版に塗布
し、乾燥硬化させた後、エンボス２次原版より樹脂層等
を剥がすので、エンボス模様の転写を確実に行うことが
できる。Since the thermosetting resin is applied to the embossed secondary original plate and dried and cured, the resin layer and the like are peeled off from the embossed secondary original plate, so that the embossed pattern can be reliably transferred.
【００２２】（５）上記（１）から（３）のいずれかに
記載の製造方法において、前記熱可塑性樹脂の代わりに
熱硬化性樹脂を用いるホログラム顔料用薄膜ホログラム
形成シートの製造方法である。(5) The method for producing a thin film hologram forming sheet for hologram pigment according to any one of the above (1) to (3), wherein a thermosetting resin is used instead of the thermoplastic resin.
【００２３】従って、エンボス原版のエンボス模様を更
に正確に転写したエンボス２次原版を製造することがで
きる。Therefore, it is possible to manufacture an embossed secondary original plate in which the embossed pattern of the embossed original plate is more accurately transferred.
【００２４】更に、本発明のホログラム顔料の製造方法
は、上記（１）から（３）のいずれかに記載のホログラ
ム顔料用薄膜ホログラム形成シートの製造方法で製造さ
れた前記ホログラム形成シートを粉砕する工程と、を有
する。Further, in the method for producing a hologram pigment of the present invention, the hologram forming sheet produced by the method for producing a thin film hologram forming sheet for hologram pigment according to any one of (1) to (3) above is crushed. And a process.
【００２５】上述のホログラム形成シートは、エンボス
模様が転写されかつ膜厚が薄いので、塗料の光輝材に好
適である。The above-mentioned hologram forming sheet is suitable as a glitter material for paint because the embossed pattern is transferred and the film thickness is thin.
【００２６】[0026]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
を用いて説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００２７】実施の形態１．図１には、本発明に係るホ
ログラム顔料用薄膜ホログラム形成シートの製造方法の
工程の一例が示されている。図１〜図３に示すように、
まず、紙等のベースシート４２に、熱可塑性樹脂の１種
であるポリプロピレン樹脂４０（図１では「ＰＰ」と略
す）が予め塗布されている、ベースフィルム８のロール
を形成しておく。なお、熱可塑性樹脂は、ポリプロピレ
ン樹脂に限るものではなく、オレフィン系樹脂であれば
よい。次に、例えばニッケルからなる金属製のホログラ
ム用エンボス模様３８が形成された転写ローラ３４を例
えば１３０℃に加熱し、一方下部ローラ３６を例えば７
０℃に加熱して熱ロール圧着を行い、このとき例えば圧
力７ｋｇ／ｃｍ2、加工スピード５ｍ／分の条件で、ポ
リプロピレン樹脂４０上にホログラム用微小凹凸（エン
ボス模様）を転写し、ロール状のエンボス２次原版１０
を得る。Embodiment 1. FIG. 1 shows an example of steps of a method for producing a thin film hologram forming sheet for hologram pigment according to the present invention. As shown in FIGS.
First, a roll of the base film 8 in which a polypropylene resin 40 (abbreviated as “PP” in FIG. 1), which is one kind of thermoplastic resin, is previously applied to a base sheet 42 such as paper is formed. The thermoplastic resin is not limited to polypropylene resin, and may be any olefin resin. Next, the transfer roller 34 on which the metal hologram embossing pattern 38 made of nickel is formed is heated to, for example, 130 ° C., while the lower roller 36 is heated to, for example, 7 ° C.
Heat roll press bonding is carried out by heating to 0 ° C. At this time, for example, under the conditions of a pressure of 7 kg / cm 2 and a processing speed of 5 m / minute, minute irregularities (embossed pattern) for hologram are transferred onto the polypropylene resin 40 to form a roll shape. Embossed second original edition 10
To get
【００２８】これにより、金属製のエンボス加工ベルト
に比べ、コンパクトな原版ロールを得ることができ、製
造設備をコンパクト化できる。なお、金属製の転写ロー
ラ３４の加熱温度や、熱ロール圧着の条件を変えること
により、ベースフィルム８のいかなる材料にもエンボス
模様を転写することができる。As a result, it is possible to obtain a compact original roll and to make the manufacturing equipment compact as compared with the metal embossing belt. The embossed pattern can be transferred to any material of the base film 8 by changing the heating temperature of the metal transfer roller 34 and the conditions of the heat roll pressure bonding.
【００２９】また、図３に示すように、紙等のベースシ
ート４２に熱可塑性樹脂であるポリプロピレン樹脂４０
を塗布したラミネート構造にすることにより、１００℃
以上の高温でエンボス模様を転写してもベースフィルム
８の反りや曲がりがなく、樹脂表面にエンボス模様を転
写することができる。Further, as shown in FIG. 3, a polypropylene resin 40, which is a thermoplastic resin, is attached to a base sheet 42 such as paper.
By applying a laminated structure coated with
Even if the embossed pattern is transferred at the above high temperature, the base film 8 does not warp or bend, and the embossed pattern can be transferred to the resin surface.
【００３０】次に、得られたエンボス２次原版１０に第
１樹脂層となる透明樹脂１２が塗布される。この時透明
樹脂１２は、透明樹脂槽１３からローラ１５に供給さ
れ、ローラ１５によりエンボス２次原版１０に塗布され
る。ここで使用される透明樹脂１２は、熱硬化性樹脂で
ある。また、透明樹脂１２の塗布される厚さは、乾燥硬
化後の膜厚が０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜０．
６μｍとなるように調整される。Next, the transparent resin 12 to be the first resin layer is applied to the obtained embossed secondary original plate 10. At this time, the transparent resin 12 is supplied from the transparent resin tank 13 to the roller 15, and is applied to the embossed secondary original plate 10 by the roller 15. The transparent resin 12 used here is a thermosetting resin. The thickness of the transparent resin 12 applied is 0.1 to 5 μm, preferably 0.2 to 0.
It is adjusted to be 6 μm.
【００３１】エンボス２次原版１０に塗布された透明樹
脂１２は、乾燥機１４により溶媒が蒸発され、半硬化〜
全硬化状態まで加熱、焼き付けが行われる。この時の温
度は４０〜１４０℃であり、加熱時間は１０秒〜３０分
程度である。これによりエンボス２次原版１０の表面の
エンボス模様が透明樹脂１２に転写される。The transparent resin 12 applied to the embossed secondary original plate 10 is semi-cured after the solvent is evaporated by the dryer 14.
Heating and baking are performed to the fully cured state. The temperature at this time is 40 to 140 ° C., and the heating time is about 10 seconds to 30 minutes. As a result, the embossed pattern on the surface of the embossed secondary original plate 10 is transferred to the transparent resin 12.
【００３２】上述したエンボス２次原版１０の表面は、
オレフィン系樹脂の熱可塑性樹脂によって形成されてい
るため、その表面は、メチル基、フェニル基、ヘキシル
基、デシル基等の炭化水素基で覆われている。従って、
エンボス２次原版の表面の炭化水素基により、次工程に
おいてエンボス２次原版１０と透明樹脂１２とを剥がす
ことが容易になる。因みに、エンボス原版が金属の場合
には、上記同様の効果を得るために、その表面に炭化水
素基を有するコーティング剤を塗布しなければならず、
工程数が増え、作業時間も長くなってしまう。The surface of the embossed secondary original plate 10 described above is
Since it is formed of a thermoplastic resin of an olefin resin, its surface is covered with a hydrocarbon group such as a methyl group, a phenyl group, a hexyl group and a decyl group. Therefore,
The hydrocarbon groups on the surface of the embossed secondary original plate facilitate the peeling of the embossed secondary original plate 10 and the transparent resin 12 in the next step. Incidentally, when the embossing original plate is a metal, in order to obtain the same effect as described above, a coating agent having a hydrocarbon group must be applied to the surface thereof,
The number of processes increases and the working time also increases.
【００３３】次に、前述したエンボス２次原版１０の上
で加熱され硬化された透明樹脂１２の表面にＰＶＡ層２
０を形成する。これは、ポリビニルアルコール（ＰＶ
Ａ）の水溶液（ＰＶＡ濃度５〜２０％）を塗布し、焼き
付け乾燥を行って形成する。この焼き付け乾燥は焼付装
置１６中で実施される。またＰＶＡは、ＰＶＡ槽１７か
らローラ１８に供給され、上記透明樹脂１２の上にロー
ラ１８により塗布される。乾燥後のＰＶＡ層２０の膜厚
は１０〜７０μｍであり、好ましくは２０〜３０μｍで
ある。この時の乾燥温度は６０〜１６０℃であり、乾燥
時間は５〜３０分程度である。なお、このＰＶＡ層２０
が、本発明に係る熱硬化性樹脂と親和力の高い樹脂に相
当する。Next, the PVA layer 2 is formed on the surface of the transparent resin 12 which is heated and cured on the embossed secondary original plate 10 described above.
Form 0. This is polyvinyl alcohol (PV
It is formed by applying an aqueous solution of A) (PVA concentration 5 to 20%) and baking and drying. This baking and drying is carried out in the baking device 16. Further, PVA is supplied from the PVA tank 17 to the roller 18 and applied onto the transparent resin 12 by the roller 18. The film thickness of the PVA layer 20 after drying is 10 to 70 μm, preferably 20 to 30 μm. The drying temperature at this time is 60 to 160 ° C., and the drying time is about 5 to 30 minutes. In addition, this PVA layer 20
Corresponds to a resin having a high affinity with the thermosetting resin according to the present invention.
【００３４】以上のようにしてＰＶＡ層２０が接着され
た透明樹脂１２は、エンボス２次原版１０から剥離され
る。剥離された透明樹脂１２はここで一旦巻き取られ
る。The transparent resin 12 to which the PVA layer 20 is bonded as described above is peeled from the embossed secondary original plate 10. The peeled transparent resin 12 is once wound up here.
【００３５】このように、表面にエンボス模様が転写さ
れ、反対側の面にＰＶＡ層２０が接着された透明樹脂１
２は、一旦巻き取られた後蒸着装置２２の中に入れられ
る。この蒸着装置２２の中で、透明樹脂１２のエンボス
模様が転写されたエンボス面にアルミ層２４が蒸着され
る。蒸着されるアルミ層の膜厚は２００〜１５００オン
グストロームであり、好ましくは３００〜１０００オン
グストロームである。このアルミ層２４が、薄膜の金属
反射層となる。Thus, the transparent resin 1 having the embossed pattern transferred to the surface and the PVA layer 20 bonded to the opposite surface
2 is once wound and then put in the vapor deposition device 22. In the vapor deposition device 22, the aluminum layer 24 is vapor-deposited on the embossed surface on which the embossed pattern of the transparent resin 12 is transferred. The film thickness of the vapor-deposited aluminum layer is 200 to 1500 angstroms, preferably 300 to 1000 angstroms. The aluminum layer 24 serves as a thin metal reflective layer.
【００３６】次に、アルミ層２４が蒸着された面に、更
に２層目の透明樹脂１２をコーティングする。これは、
上述したように、透明樹脂槽１３からローラ１５を用い
てアルミ層２４が蒸着された面に第２樹脂層となる透明
樹脂１２を塗布することによって行う。塗布された透明
樹脂は、乾燥機１４によって乾燥、硬化される。このよ
うな４層構造となったフィルムを、溶解装置２６中で多
量の水の中に投入することにより、ＰＶＡ層２０を溶か
し、アルミ層２４の両面に透明樹脂１２がコーティング
されたフィルムを得る。ＰＶＡ層２０の溶解は、３０秒
〜数分で行うことができる。このようにして得た３層構
造のフィルムは、極めて薄く、機械的強度が非常に弱
い。このため、ＰＶＡ層２０が水に溶解してなくなる
と、補強材を失い、自然に粗粉砕される。次に、この粗
粉砕されたフィルムを乾燥した後、塗料用顔料として必
要な大きさまで粉砕し、本発明に係るホログラム顔料を
得る。粉砕後の粒径は５〜５０μｍ、好ましくは１０〜
３０μｍ、厚さ０．３〜５μｍ、好ましくは０．５〜
１．５μｍである。なお、この際の粉砕方法としては、
通常用いられている方法を使用することができる。例え
ば、ボールミル、ロータスピードミル、ホモジナイザ等
が使用可能である。Next, the second layer of transparent resin 12 is further coated on the surface on which the aluminum layer 24 is deposited. this is,
As described above, the transparent resin 12 serving as the second resin layer is applied from the transparent resin tank 13 to the surface on which the aluminum layer 24 is deposited by using the roller 15. The applied transparent resin is dried and cured by the dryer 14. A film having such a four-layer structure is poured into a large amount of water in the dissolving device 26 to dissolve the PVA layer 20 and obtain a film in which the transparent resin 12 is coated on both surfaces of the aluminum layer 24. . The PVA layer 20 can be dissolved in 30 seconds to several minutes. The three-layered film thus obtained is extremely thin and has very low mechanical strength. Therefore, when the PVA layer 20 is dissolved in water and disappears, the reinforcing material is lost and the PVA layer 20 is naturally crushed. Next, after the roughly crushed film is dried, it is crushed to a size required as a paint pigment to obtain a hologram pigment according to the present invention. The particle size after pulverization is 5 to 50 μm, preferably 10 to
30 μm, thickness 0.3 to 5 μm, preferably 0.5 to
It is 1.5 μm. In addition, as a crushing method at this time,
A commonly used method can be used. For example, a ball mill, a rotor speed mill, a homogenizer, etc. can be used.
【００３７】熱硬化性樹脂である透明樹脂１２は、硬化
後の硬度が鉛筆硬度Ｈ以上であるのが好適である。これ
より軟らかいとホログラム顔料として好適である５０μ
ｍ以下の粒径まで粉砕できない。これを無理に粉砕する
と、アルミ層２４にコーティングされた透明樹脂１２に
不必要な傷をつけ、また透明樹脂１２とアルミ層２４と
が剥離してしまうという問題も生ずる。The transparent resin 12, which is a thermosetting resin, preferably has a pencil hardness of H or higher after curing. If it is softer than 50 μm, it is suitable as a hologram pigment.
It cannot be crushed to a particle size of m or less. If this is crushed forcibly, there arises a problem that the transparent resin 12 coated on the aluminum layer 24 is unnecessarily damaged and the transparent resin 12 and the aluminum layer 24 are separated from each other.
【００３８】以上のように、透明樹脂１２として熱硬化
性樹脂を使用した場合には、他の溶剤等と混合して塗料
化した場合にも膨潤しにくいという特徴がある。また、
乾燥、焼き付け等の工程でホログラム顔料が塗料中で軟
化することがなく、エンボス模様が崩れないので、干渉
光が弱まることがない。As described above, when the thermosetting resin is used as the transparent resin 12, it is difficult to swell even when it is mixed with another solvent or the like to form a coating. Also,
The hologram pigment does not soften in the paint during the steps such as drying and baking, and the embossed pattern does not collapse, so that the interference light does not weaken.
【００３９】このような熱硬化性樹脂としては、シリコ
ーン系樹脂、アクリル架橋樹脂等が挙げられる。特に、
メチルトリメトキシシラン等のシリコーン系樹脂は、透
明性、粉砕性、耐久性の面で好適である。また、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン等のエポキシ系
シリコーン樹脂は、アルミとの付着性が良好である。こ
のような熱硬化性樹脂の溶媒として、ヘキサン、ヘプタ
ン等の炭化水素を使用すると、エンボス模様を有するニ
ッケル原版の表面とのなじみがよく、これに塗布した場
合にもはじきがなく、かつ乾燥時に剥がれやすいという
特性がある。Examples of such thermosetting resins include silicone resins and acrylic cross-linked resins. In particular,
A silicone-based resin such as methyltrimethoxysilane is suitable in terms of transparency, crushability and durability. Further, an epoxy-based silicone resin such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane has good adhesion to aluminum. When a hydrocarbon such as hexane or heptane is used as a solvent for such a thermosetting resin, it is well compatible with the surface of the nickel original plate having an embossed pattern, and does not repel when applied to this, and when dried. It has the property of being easily peeled off.
【００４０】実施の形態２．図４には、本発明に係るホ
ログラム顔料用薄膜ホログラム形成シートの製造方法に
おいて、エンボス２次原版を製造する工程の他の例が示
されている。Embodiment 2. FIG. 4 shows another example of the step of producing an embossed secondary original plate in the method for producing a thin film hologram forming sheet for hologram pigment according to the present invention.
【００４１】上記実施の形態１では、エンボス２次原版
のエンボス形成面を熱可塑性樹脂によって形成したが、
本実施の形態では、エンボス形成面を実施の形態１の透
明樹脂と同様の原料、すなわち上述の熱硬化性樹脂で形
成した。In the first embodiment, the embossed surface of the embossed secondary original plate is made of the thermoplastic resin.
In this embodiment, the embossed surface is made of the same material as the transparent resin of the first embodiment, that is, the thermosetting resin described above.
【００４２】図４に示すように、紙等のベースシート４
２の上に、透明樹脂槽５３からローラ５５を介して透明
樹脂４４が塗布される。透明樹脂４４が塗布されたベー
スシート４２は、乾燥機１４に通され、半硬化状態まで
加熱される。この時の温度は４０〜１２０℃であり加熱
時間は１０秒〜１０分である。As shown in FIG. 4, a base sheet 4 such as paper is used.
The transparent resin 44 is applied onto the second layer 2 from the transparent resin tank 53 via the roller 55. The base sheet 42 coated with the transparent resin 44 is passed through the dryer 14 and heated to a semi-cured state. The temperature at this time is 40 to 120 ° C., and the heating time is 10 seconds to 10 minutes.
【００４３】次に、半硬化状態の透明樹脂４４に、表面
にエンボス模様が形成された型を押し付け、エンボス模
様を透明樹脂４４に転写する。この時の型の温度として
は１００〜２５０℃、好ましくは１５０〜２３０℃とす
る。これにより、透明樹脂４４の表面にエンボス模様を
転写しつつ熱硬化性樹脂である透明樹脂４４の硬化も併
せて行うことができる。この場合、型が透明樹脂４４に
接触している間に透明樹脂の表面を硬化させるので、エ
ンボス模様をより正確に転写できる。また、型を透明樹
脂から剥がした後に生ずる樹脂の収縮によるパターンの
変化も防止することができる。Next, a mold having an embossed pattern formed on its surface is pressed against the semi-cured transparent resin 44 to transfer the embossed pattern to the transparent resin 44. The mold temperature at this time is 100 to 250 ° C, preferably 150 to 230 ° C. As a result, the transparent resin 44, which is a thermosetting resin, can be cured while the embossed pattern is transferred to the surface of the transparent resin 44. In this case, since the surface of the transparent resin is cured while the mold is in contact with the transparent resin 44, the embossed pattern can be transferred more accurately. Further, it is possible to prevent the pattern from changing due to the shrinkage of the resin that occurs after the mold is peeled from the transparent resin.
【００４４】このような型としては、通常用いられるニ
ッケル原版の板でもよいが、図４に示されるように、表
面にエンボス模様が形成された転写ローラ３４を使用す
ることも好適である。このようなニッケル原版あるいは
転写ローラ３４の表面には、炭化水素等をコーティング
することにより、透明樹脂４４が付着することを完全に
防止できる。あるいは、炭化水素の代わりにフッ素樹脂
等をコーティングしてもよい。このフッ素樹脂としては
フルオロアルキルシランが好適である。As such a mold, a plate of a nickel original plate which is usually used may be used, but it is also preferable to use a transfer roller 34 having an embossed pattern formed on its surface as shown in FIG. By coating the surface of the nickel original plate or the transfer roller 34 with hydrocarbon or the like, it is possible to completely prevent the transparent resin 44 from adhering. Alternatively, a fluororesin or the like may be coated instead of the hydrocarbon. Fluoroalkylsilane is suitable as the fluororesin.
【００４５】なお、ニッケル原版あるいは転写ローラ３
４によりエンボス模様を透明樹脂４４に転写する際の加
熱条件によっては、前述した乾燥機１４による乾燥工程
を省略することも可能となる。The nickel original plate or the transfer roller 3
Depending on the heating conditions when the embossed pattern is transferred to the transparent resin 44 by No. 4, it is possible to omit the above-mentioned drying step by the dryer 14.
【００４６】次に、上記型によって透明樹脂４４にエン
ボス模様を転写した後、焼付装置１６により必要に応じ
て更に透明樹脂４４を焼き付け硬化させる。この場合の
焼き付け条件は、温度が１００〜１６０℃であり加熱時
間が１〜２０分である。なお、型によるエンボス模様の
転写時に十分透明樹脂４４が硬化した場合には、この焼
き付けは省略することができる。次に、このようにして
エンボス模様が転写された透明樹脂４４を有するエンボ
ス２次原版４６を巻き取る。これ以後の工程は図１と同
様である。Next, after the embossed pattern is transferred to the transparent resin 44 by the above mold, the transparent resin 44 is further baked and cured by the baking device 16 if necessary. The baking conditions in this case are a temperature of 100 to 160 ° C. and a heating time of 1 to 20 minutes. If the transparent resin 44 is sufficiently hardened when the embossed pattern is transferred by the mold, this baking can be omitted. Next, the embossed secondary original plate 46 having the transparent resin 44 to which the embossed pattern is transferred in this manner is wound up. The subsequent steps are the same as in FIG.
【００４７】上記実施の形態２でのエンボス２次原版の
製造は、実施の形態１に比べ煩雑になるが、エンボス模
様の転写の正確性は、実施の形態１に比べ高い。The manufacturing of the embossed secondary original plate in the second embodiment is more complicated than that in the first embodiment, but the accuracy of transferring the embossed pattern is higher than that in the first embodiment.
【図１】 本発明に係るホログラム顔料用薄膜ホログラ
ム形成シートの製造方法の工程の一例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of steps of a method for producing a thin film hologram forming sheet for hologram pigment according to the present invention.
【図２】 図１に示すエンボス２次原版の製造工程の一
例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of a manufacturing process of the embossed secondary original plate shown in FIG.
【図３】 図１に示すエンボス２次原版の原料のベース
フィルムのラミネート構造を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a laminated structure of a base film which is a raw material of the embossed secondary original plate shown in FIG.
【図４】 本発明に係るホログラム顔料用薄膜ホログラ
ム形成シートの製造方法においてエンボス２次原版を製
造する工程の他の例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing another example of the step of producing an embossed secondary original plate in the method for producing a thin film hologram forming sheet for hologram pigments according to the present invention.
【図５】 エンボス模様を表面に有するホログラム顔料
の干渉の様子の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of how interference occurs between hologram pigments having an embossed pattern on the surface.
【図６】 従来におけるマイカの干渉の説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of conventional mica interference.
８ ベースフィルム、１０ エンボス２次原版、１２
透明樹脂、１３ 透明樹脂槽、１４ 乾燥機、１５ ロ
ーラ、１６ 焼付装置、１７ ＰＶＡ槽、１８ローラ、
２０ ＰＶＡ層、２２ 蒸着装置、２４ アルミ層、２
６ 溶解装置、３４ 転写ローラ、３６ 圧着ローラ。8 base film, 10 embossed second original, 12
Transparent resin, 13 transparent resin tank, 14 dryer, 15 rollers, 16 baking device, 17 PVA tank, 18 rollers,
20 PVA layer, 22 vapor deposition device, 24 aluminum layer, 2
6 melting device, 34 transfer roller, 36 pressure roller.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 加藤 和広 愛知県豊田市トヨタ町１番地 トヨタ自 動車株式会社内 (72)発明者 小笠原 幸 愛知県知立市山町並木北22番４号 株式 会社槌屋内 (72)発明者 山本 邦雄 愛知県知立市山町並木北22番４号 株式 会社槌屋内 (56)参考文献 特開 平11−80585（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−7231（ＪＰ，Ａ) 特表 平８−502301（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03H 1/02 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kazuhiro Kato 1 Toyota-cho, Toyota-shi, Aichi Prefecture Toyota Motor Co., Ltd. (72) Inventor Yukiko Ogasawara No. 22-4 Namiki, Yamamachi, Chiryu-shi, Aichi Co., Ltd. (72) Inventor Kunio Yamamoto No. 22-4 Namikikita, Yamamachi, Chiryu-shi, Aichi, Japan Hammer indoors (56) References JP-A-11-80585 (JP, A) JP-A-11-7231 (JP, A ) Tokumeihei 8-502301 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G03H 1/02
Claims (6)
にエンボス原版を押しつけエンボス２次原版を作成する
工程と、 前記エンボス２次原版に樹脂を塗布し前記エンボス２次
原版上に樹脂層を形成する工程と、 前記樹脂層を硬化させる工程と、 前記エンボス２次原版から前記樹脂層を剥がす工程と、 前記樹脂層に形成されたエンボス面に金属反射層を形成
する工程と、 を有することを特徴とするホログラム顔料用薄膜ホログ
ラム形成シートの製造方法。1. A step of forming an embossed secondary master by pressing an embossed master onto a base film having a thermoplastic resin layer, and applying a resin to the embossed secondary master to form a resin layer on the embossed secondary master. A step of curing the resin layer, a step of peeling the resin layer from the embossed secondary original plate, and a step of forming a metal reflection layer on an embossed surface formed on the resin layer. And a method for producing a thin film hologram forming sheet for a hologram pigment.
にエンボス原版を押しつけエンボス２次原版を作成する
工程と、 前記エンボス２次原版に樹脂を塗布し前記エンボス２次
原版上に樹脂層を形成する工程と、 前記樹脂層を硬化させる工程と、 前記樹脂層の樹脂との親和力の高い樹脂を前記樹脂層上
に塗布し接着層を形成する工程と、 前記接着層に接着した前記樹脂層を前記エンボス２次原
版から剥がす工程と、 前記樹脂層に形成されたエンボス面に金属反射層を形成
する工程と、 を有することを特徴とするホログラム顔料用薄膜ホログ
ラム形成シートの製造方法。2. A step of pressing an embossing original plate onto a base film having a thermoplastic resin layer to form an embossing secondary original plate, and applying a resin to the embossing secondary original plate to form a resin layer on the embossing secondary original plate. A step, a step of curing the resin layer, a step of applying a resin having a high affinity with the resin of the resin layer on the resin layer to form an adhesive layer, the resin layer adhered to the adhesive layer A method for producing a thin film hologram forming sheet for a hologram pigment, comprising: a step of peeling from an embossed secondary original plate; and a step of forming a metal reflection layer on an embossed surface formed on the resin layer.
にエンボス原版を押しつけエンボス２次原版を作成する
工程と、 前記エンボス２次原版に樹脂を塗布し前記エンボス２次
原版上に第１樹脂層を形成する工程と、 前記第１樹脂層を硬化させる工程と、 前記第１樹脂層の樹脂との親和力の高い樹脂を前記第１
樹脂層上に塗布し接着層を形成する工程と、 前記接着層に接着した前記第１樹脂層を前記エンボス２
次原版から剥がす工程と、 前記樹脂層に形成されたエンボス面に金属反射層を形成
する工程と、 前記金属反射層上に更に第２樹脂層を形成する工程と、 を有することを特徴とするホログラム顔料用薄膜ホログ
ラム形成シートの製造方法。3. A step of pressing an embossing original plate onto a base film having a thermoplastic resin layer to form an embossing secondary original plate, and applying a resin to the embossing secondary original plate to form a first resin layer on the embossing secondary original plate. A step of forming, a step of curing the first resin layer, a resin having a high affinity with the resin of the first resin layer,
A step of applying on the resin layer to form an adhesive layer; and a step of forming the first resin layer adhered to the adhesive layer on the emboss 2
And a step of forming a metal reflective layer on the embossed surface formed on the resin layer, and a step of further forming a second resin layer on the metal reflective layer. A method for manufacturing a thin film hologram forming sheet for a hologram pigment.
のホログラム顔料用薄膜ホログラム形成シートの製造方
法において、 前記樹脂層または第１樹脂層および第２樹脂層は、熱硬
化性樹脂からなることを特徴とするホログラム顔料用薄
膜ホログラム形成シートの製造方法。4. The method for manufacturing a thin film hologram forming sheet for hologram pigment according to claim 1, wherein the resin layer or the first resin layer and the second resin layer are made of a thermosetting resin. A method for producing a thin film hologram-forming sheet for a hologram pigment, comprising:
のホログラム顔料用薄膜ホログラム形成シートの製造方
法で製造された前記ホログラム形成シートを粉砕する工
程と、を有することを特徴とするホログラム顔料の製造
方法。5. A hologram comprising: a step of crushing the hologram-forming sheet produced by the method for producing a thin-film hologram-forming sheet for hologram pigment according to any one of claims 1 to 3. Method for producing pigment.
のホログラム顔料用薄膜ホログラム形成シートの製造方
法において、前記熱可塑性樹脂の代わりに熱硬化性樹脂
を用いることを特徴とするホログラム顔料用薄膜ホログ
ラム形成シートの製造方法。6. The hologram pigment according to any one of claims 1 to 3, wherein a thermosetting resin is used in place of the thermoplastic resin. For manufacturing a thin film hologram forming sheet for use in automobiles.
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