JP3500339B2 - Manufacturing method of flexible wiring board - Google Patents

Manufacturing method of flexible wiring board

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JP3500339B2 JP34270399A JP34270399A JP3500339B2 JP 3500339 B2 JP3500339 B2 JP 3500339B2 JP 34270399 A JP34270399 A JP 34270399A JP 34270399 A JP34270399 A JP 34270399A JP 3500339 B2 JP3500339 B2 JP 3500339B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はフレキシブル配線板
の技術分野にかかり、特に、高速の信号伝達を行う電子
部品回路を接続することができるフレキシブル配線板の
技術分野に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the technical field of flexible wiring boards, and more particularly to the technical field of flexible wiring boards to which electronic component circuits for high-speed signal transmission can be connected.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年では、電子機器における信号の高速
化が進んでおり、これに伴い、フレキシブル配線板上に
設けられた配線膜は、信号伝達の遅延を生じさせないた
めに、所定値のインピーダンスを持つように形成されて
いる。上記のようなフレキシブル配線板は、複数枚のフ
レキシブル基板素片を貼り合わせて作製する場合があ
る。
2. Description of the Related Art In recent years, the speed of signals in electronic devices has been increasing, and along with this, a wiring film provided on a flexible wiring board has an impedance of a predetermined value in order to prevent delay of signal transmission. Is formed to have. The flexible wiring board as described above may be manufactured by laminating a plurality of flexible board pieces.

【0003】図9(a)、(b)の符号110、130は、
貼り合わせに用いる2枚のフレキシブル基板素片を示し
ている。図中符号110で示した方を第1のフレキシブ
ル基板素片とし、符号130で示した方を第2のフレキ
シブル基板素片とし、多層構造のフレキシブル配線板の
製造方法を説明する。
Reference numerals 110 and 130 in FIGS. 9 (a) and 9 (b) indicate
2 shows two flexible substrate pieces used for bonding. A method of manufacturing a flexible wiring board having a multi-layer structure will be described in which the one indicated by reference numeral 110 in the drawing is the first flexible substrate piece and the one indicated by reference numeral 130 is the second flexible substrate piece.

【0004】図9(a)に示した第1のフレキシブル基板
素片110は、ベースフィルム111と、該ベースフィ
ルム111上に配置された配線膜113と、配線膜11
3上に配置されたカバーフィルム115とを有してい
る。
The first flexible substrate piece 110 shown in FIG. 9A is a base film 111, a wiring film 113 arranged on the base film 111, and a wiring film 11.
3 and the cover film 115 arranged on the upper surface of the upper part 3.

【0005】この配線膜113は所定形状にパターニン
グされており、図示しない回路間を接続するようにベー
スフィルム111上を引き回されている。ここでは一本
の配線膜113が2本の配線膜113A、113Bに分
割されており、後述する第2のフレキシブル基板素片1
30上のインピーダンス調整用導体膜133によって、
2本の配線膜113A、113Bが互いに接続されるよ
うになっている。カバーフィルム115は、パターニン
グされており、配線膜113A、113Bの端部上に、
開口部118A、118Bがそれぞれ設けられている。
The wiring film 113 is patterned into a predetermined shape and is routed over the base film 111 so as to connect circuits (not shown). Here, one wiring film 113 is divided into two wiring films 113A and 113B, and a second flexible substrate piece 1 described later is formed.
By the impedance adjusting conductor film 133 on 30
The two wiring films 113A and 113B are connected to each other. The cover film 115 is patterned, and on the end portions of the wiring films 113A and 113B ,
Openings 118A and 118B are provided, respectively.

【0006】図9(b)に示した第2のフレキシブル基板
素片130は、インピーダンス調整用のフレキシブル基
板素片であり、ベースフィルム131と、該ベースフィ
ルム131上に配置されたインピーダンス調整用導体膜
133と、インピーダンス調整用導体膜133上に形成
されたカバーフィルム135とを有している。
The second flexible substrate element 130 shown in FIG. 9B is a flexible substrate element for impedance adjustment, and includes a base film 131 and an impedance adjustment conductor arranged on the base film 131. It has a film 133 and a cover film 135 formed on the impedance adjusting conductor film 133.

【0007】インピーダンス調整用導体膜133は所定
形状にパターニングされており、ここでは直線状にパタ
ーニングされたインピーダンス調整用導体膜133Cが
示されている。この第2のフレキシブル基板素片130
のカバーフィルム135もパターニングされており、イ
ンピーダンス調整用導体膜133Cの両端部に、開口部
138A、138Bがそれぞれ配置されている。
The impedance adjusting conductor film 133 is patterned into a predetermined shape. Here, the impedance adjusting conductor film 133C which is linearly patterned is shown. This second flexible substrate piece 130
The cover film 135 is also patterned, and openings 138A and 138B are arranged at both ends of the impedance adjusting conductor film 133C.

【0008】各開口部138A、138B内にはメッキ
法によって銅が成長されており、その結果、インピーダ
ンス調整用導体膜133Cの両端上には、先端がカバー
フィルム135表面上に突き出された金属バンプ140
A、140Bがそれぞれ形成されている。
Copper is grown in each of the openings 138A and 138B by a plating method. As a result, metal bumps whose tips are projected on the surface of the cover film 135 are formed on both ends of the impedance adjusting conductor film 133C. 140
A and 140B are formed respectively.

【0009】金属バンプ140A、140Bの位置は、
配線膜113A、113B上の開口部118A、118
Bに対応する位置に配置されており、第1、第2のフレ
キシブル基板素片110、130を重ね合わせると、各
バンプ140A、140Bの先端は、開口部118A、
118B底面に露出する配線膜113A、113Bの表
面にそれぞれ当接され、配線膜113A、113B同士
がインピーダンス調整用導体膜133Cによって接続さ
れるようになっている。
The positions of the metal bumps 140A and 140B are
Openings 118A, 118 on the wiring films 113A, 113B
When the first and second flexible substrate pieces 110, 130 are arranged at a position corresponding to B, the tips of the bumps 140A, 140B are aligned with the opening 118A,
The wiring films 113A and 113B are respectively brought into contact with the surfaces of the wiring films 113A and 113B exposed on the bottom surface of 118B, and the wiring films 113A and 113B are connected to each other by the impedance adjusting conductor film 133C.

【0010】図9(c)の符号150は、上記のように作
製した多層構造のフレキシブル配線板を示している。第
1、第2のフレキシブル基板素片110、130間は機
械的には熱可塑性樹脂フィルム151によって接着され
ている。図10は、フレキシブル配線板150の、イン
ピーダンス調整用導体膜133と配線膜113A、11
3Bの位置関係を示す平面図である。
Reference numeral 150 in FIG. 9 (c) indicates a multilayer-structured flexible wiring board manufactured as described above. The first and second flexible substrate pieces 110 and 130 are mechanically bonded by a thermoplastic resin film 151. FIG. 10 shows the impedance adjusting conductor film 133 and the wiring films 113A and 11A of the flexible wiring board 150.
It is a top view which shows the positional relationship of 3B.

【0011】フレキシブル配線板150を使用する場
合、配線膜113A、113Bの図示されていない端部
をそれぞれ所定の回路に接続し、配線膜113A、11
3B及びインピーダンス調整用導体膜133Cによって
その回路間を接続するようになっている。回路間を接続
すべきインピーダンスの値は、予め最適値が算出されて
おり、各配線膜113A、113Bのインピーダンス値
も予め求められている。
When the flexible wiring board 150 is used, the wiring films 113A and 11B are formed by connecting the ends (not shown) of the wiring films 113A and 113B to predetermined circuits.
The circuits are connected by 3B and the impedance adjusting conductor film 133C. The optimum value of the impedance for connecting the circuits is calculated in advance, and the impedance values of the wiring films 113A and 113B are also calculated in advance.

【0012】インピーダンス調整用導体膜133Cは、
インピーダンスの最適値から配線膜113A、113B
のインピーダンス値を差し引いた値になるように、幅及
び長さが設定されており、その結果、配線膜113A、
113B及びインピーダンス調整用導体膜133Cのイ
ンピーダンスを合計した値が回路間を接続すべきインピ
ーダンスの最適値に等しくなるようになっている。
The impedance adjusting conductor film 133C is
From the optimum impedance value, the wiring films 113A and 113B
The width and length are set so as to be values obtained by subtracting the impedance value of, and as a result, the wiring film 113A,
The sum of the impedances of 113B and the impedance adjusting conductor film 133C is equal to the optimum value of the impedance for connecting the circuits.

【0013】しかしながら、配線膜113A、113B
のインピーダンス値は、製造バラツキによって変動して
しまい、その結果、インピーダンス調整用導体膜133
Cが上記の最適値に設定されていても、配線膜113
A、113Bとインピーダンス調整用導体膜133Cの
全体のインピーダンス値は最適値になるとは限らず、そ
の場合、回路間のインピーダンスが整合しなくなってし
まう。
However, the wiring films 113A and 113B
Impedance value fluctuates due to manufacturing variations, and as a result, the impedance adjusting conductor film 133.
Even if C is set to the above optimum value, the wiring film 113
The impedance values of the A and 113B and the impedance adjusting conductor film 133C are not always the optimum values. In that case, the impedances between the circuits are not matched.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の不都合を解決するために創作されたものであり、そ
の目的は、配線膜のインピーダンス値がばらついても、
最適なインピーダンス値が得られる技術を提供すること
にある。
The present invention was created in order to solve the above-mentioned disadvantages of the prior art, and its purpose is to achieve even if the impedance value of the wiring film varies.
It is to provide a technique capable of obtaining an optimum impedance value.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1記載の発明は第一のフレキシブル基板素片
のベースフィルム上に配置された配線膜の間を、第二の
フレキシブル基板素片に設けられたインピーダンス調整
用導体膜で接続し、多層構造のフレキシブル配線板を製
造する方法であって、前記第一のフレキシブル基板素片
上の、接続すべき前記配線膜のインピーダンスを測定
し、必要とするインピーダンスに対して不 足するインピ
ーダンスを測定結果から求め、前記インピーダンス調整
用導体膜が前記不足するインピーダンスを与える位置を
選択し、前記インピーダンス調整用導体膜を前記接続す
べき配線膜に接続するフレキシブル配線板の製造方法で
あることを特徴とする。請求項2記載の発明は、前記配
線膜又は前記インピーダンス調整用導体膜のいずれか一
方に少なくとも3個以上のバンプを設けておき、前記バ
ンプによって前記配線膜と前記インピーダンス調整用導
体膜間を接続する請求項1記載のフレキシブル配線板の
製造方法であって、前記測定結果に応じた位置の前記バ
ンプを選択し、前記配線膜と前記インピーダンス調整用
導体膜とを接続させることを特徴とする。請求項3記載
の発明は、請求項2記載のフレキシブル配線板の製造方
法であって、前記バンプ表面には予め樹脂を配置し、該
樹脂を部分的に破壊することで、前記配線膜と前記イン
ピーダンス調整用導体膜を接続することを特徴とする。
請求項4記載の発明は、請求項2又は請求項3のいずれ
か1項記載のフレキシブル配線板の製造方法であって、
前記選択したバンプに超音波を印加し、前記配線膜と前
記インピーダンス44調整用導体膜とを接続する。請求項
5記載の発明は、請求項1及至請求項4のいずれか1項
記載のフレキシブル配線板の製造方法であって、前記第
1のフレキシブル基板素片と前記第2のフレキシブル基
板素片とを接着性を有する樹脂によって接着することを
特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 provides a second flexible substrate between wiring films arranged on a base film of a first flexible substrate piece. A method for manufacturing a flexible wiring board having a multilayer structure by connecting with an impedance adjusting conductor film provided on an element, wherein the impedance of the wiring film to be connected on the first flexible substrate element is measured. , Inpi to shortages for the impedance that require
Impedance is calculated from the measurement result and the impedance is adjusted.
The conductive film for use to provide the above-mentioned insufficient impedance
Select and connect the impedance adjusting conductor film.
The method is a method for manufacturing a flexible wiring board connected to a desired wiring film . According to a second aspect of the present invention, at least three bumps are provided on either one of the wiring film and the impedance adjusting conductor film, and the bumps connect the wiring film and the impedance adjusting conductor film. The method for manufacturing a flexible wiring board according to claim 1, wherein the bump at a position corresponding to the measurement result is selected, and the wiring film and the impedance adjusting conductor film are connected. A third aspect of the present invention is the method for manufacturing a flexible wiring board according to the second aspect, wherein a resin is previously disposed on the bump surface and the resin is partially destroyed to thereby form the wiring film and the wiring film. It is characterized in that a conductor film for impedance adjustment is connected.
The invention according to claim 4 is the method for manufacturing a flexible wiring board according to any one of claims 2 and 3.
An ultrasonic wave is applied to the selected bump to connect the wiring film and the impedance 44 adjusting conductor film. The invention according to claim 5 is the method for manufacturing a flexible wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein the first flexible board element and the second flexible board element are characterized by bonding a resin having adhesive properties to.

【0016】本発明は上記のように構成されており、第
1のフレキシブル基板素片のベースフィルム上に配置さ
れた配線膜の間を、第2のフレキシブル基板素片に設け
られたインピーダンス調整用導体膜で接続し、多層構造
のフレキシブル配線板を製造する方法である。
The present invention is configured as described above, and for adjusting the impedance provided on the second flexible board element between the wiring films arranged on the base film of the first flexible board element. It is a method of manufacturing a flexible wiring board having a multilayer structure by connecting with a conductor film.

【0017】本発明では、第1のフレキシブル基板素片
上の、接続すべき配線膜のインピーダンスを実際に測定
し、インピーダンス調整用導体膜は、測定結果に応じた
インピーダンス分だけインピーダンス調整用導体膜を接
続する。
In the present invention, the impedance of the wiring film to be connected on the first flexible substrate element is actually measured, and the impedance adjusting conductor film is the impedance adjusting conductor film for the impedance corresponding to the measurement result. Connecting.

【0018】配線膜のインピーダンスが製造バラツキに
よって変動しても、実際の配線膜のインピーダンスを測
定し、その値に応じたインピーダンス分だけインピーダ
ンス調整用導体膜を接続しているので、配線膜のインピ
ーダンスとインピーダンス調整用導体膜のインピーダン
スを合計した値は、製造バラツキには関係なく、最適な
インピーダンスにすることができる。
Even if the impedance of the wiring film fluctuates due to manufacturing variations, the impedance of the wiring film is measured because the impedance of the wiring film is measured by measuring the actual impedance of the wiring film and connecting the impedance adjusting conductor film corresponding to the impedance. The sum of the impedances of the impedance adjusting conductor film and the impedance adjusting conductor film can be set to an optimum impedance regardless of manufacturing variations.

【0019】インピーダンス調整用導体膜と配線膜とを
バンプを介して接続する場合、配線膜とインピーダンス
調整用導体膜の間にバンプを3個以上配置し、インピー
ダンス調整用配線膜に、配線膜のインピーダンスを測定
した結果に応じた長さや幅を与える位置のバンプを選択
し、そのバンプによって配線膜とインピーダンス調整用
導体膜とを接続することで全体が最適なインピーダンス
を有するようにすることができる。
When the impedance adjusting conductor film and the wiring film are connected via the bump, three or more bumps are arranged between the wiring film and the impedance adjusting conductor film, and the impedance adjusting wiring film is provided with the wiring film. By selecting a bump at a position that gives a length or width according to the result of measuring the impedance and connecting the wiring film and the impedance adjusting conductor film by the bump, the whole can have an optimum impedance. .

【0020】バンプを選択的に接続させるには、選択し
たバンプのみに超音波を印加し、バンプ配線膜、又はバ
ンプとインピーダンス調整用導体膜とを接続することが
できる。この場合、各バンプの表面に、絶縁性を有する
樹脂層を配置し、超音波を印加して選択したバンプ表面
の絶縁層を破壊することで、バンプと配線膜、又はバン
プとインピーダンス調整用導体膜とを接続することがで
きる。選択されないバンプには超音波を印加せず、樹脂
層の絶縁性は維持しておく。なお、フレキシブル基板素
片同士は熱可塑性樹脂によって接着させると、多層フレ
キシブル配線板の機械的強度が高くなる。
In order to selectively connect the bumps, ultrasonic waves can be applied only to the selected bumps to connect the bump wiring film or the bump and the impedance adjusting conductor film. In this case, by disposing an insulating resin layer on the surface of each bump and applying ultrasonic waves to destroy the insulating layer on the selected bump surface, the bump and the wiring film, or the bump and the impedance adjusting conductor. It can be connected to a membrane. Ultrasonic waves are not applied to the unselected bumps, and the insulating property of the resin layer is maintained. When the flexible substrate pieces are adhered to each other with a thermoplastic resin, the mechanical strength of the multilayer flexible wiring board is increased.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】先ず本発明方法に用いる第1のフ
レキシブル基板素片をその製造工程と共に説明する。図
1(a)の符号11は圧延銅箔からなる金属箔を示してい
る。先ずこの金属箔11表面に非熱可塑性のポリイミド
から成るベースフィルム12を形成する(同図(b))。次
いで金属箔11をフォトリソグラフ工程とエッチング工
程によってパターニングし、配線膜13を形成する(同
図(c))。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION First, a first flexible substrate piece used in the method of the present invention will be described together with its manufacturing process. Reference numeral 11 in FIG. 1A indicates a metal foil made of rolled copper foil. First, a base film 12 made of non-thermoplastic polyimide is formed on the surface of the metal foil 11 (FIG. 2B). Next, the metal foil 11 is patterned by a photolithography process and an etching process to form a wiring film 13 (FIG. 7C).

【0022】この配線膜13は、パターニングによって
配線膜13が除去された部分で分割されており、ここで
は2本の配線膜13A、13Bが示されている。この配
線膜13の平面図を図6に示す。
The wiring film 13 is divided at a portion where the wiring film 13 is removed by patterning, and here, two wiring films 13A and 13B are shown. A plan view of the wiring film 13 is shown in FIG.

【0023】一方の配線膜13Aは、幅広にパターニン
グされた1個の接続部14Aと、幅狭にパターニングさ
れ、一端がその接続部14Aに接続された第1の配線部
15Aとで構成されている。
One wiring film 13A is composed of one connection portion 14A that is widely patterned and a first wiring portion 15A that is narrowly patterned and has one end connected to the connection portion 14A. There is.

【0024】他方の配線膜13Bは、幅広に形成された
複数個の接続部14B1〜14B3(ここでは3個)と、同
様に、幅狭で短い複数個の第2の配線部17(図6で
は、第2の配線部の符号は17で代表する。図6以外で
は、第2の配線部を示す符号17は省略する)と、1個
の第1の配線部15Bとで構成されている。
The other wiring film 13B has a plurality of wide connecting portions 14B 1 to 14B 3 (here, three), and similarly a plurality of narrow and short second wiring portions 17 ( 6, the reference numeral of the second wiring portion is represented by 17. The reference numeral 17 indicating the second wiring portion is omitted except for FIG. 6) and one first wiring portion 15B. ing.

【0025】各接続部14B1〜14B3は、直線上に配
置されており、それら接続部14B1〜14B3間は、第
2の配線部17によって接続されている。第1の配線部
15Bの一端は、直線上に配置された接続部14B1
14B3のうち、端部に位置する接続部14B3に接続さ
れている。
The connecting portions 14B 1 to 14B 3 are arranged on a straight line, and the connecting portions 14B 1 to 14B 3 are connected by the second wiring portion 17. One end of the first wire unit 15B, a straight line placement connection portions 14B 1 ~
Among 14B 3, and is connected to the connection portion 14B 3 located at the end.

【0026】このような配線膜13及びベースフィルム
12上に、熱硬化性のポリイミド前駆体を塗付し、フォ
トリソグラフ工程とエッチング工程によってパターニン
グした後、熱処理し、カバーフィルム16を形成する
(図1(d))。このカバーフィルム16には、パターニン
グにより、各接続部14A、14B1〜14B3上の位置
にそれぞれ開口部18が設けられている。
A thermosetting polyimide precursor is applied on the wiring film 13 and the base film 12 and patterned by a photolithography process and an etching process, and then heat-treated to form a cover film 16.
(Fig. 1 (d)). This cover film 16, by patterning, the connecting portions 14A, 14B 1 ~14B 3 on respective positions opening 18 is provided.

【0027】次いでメッキ法により、各開口部18の底
面に露出した各接続部14A、14B1〜14B3上にそ
れぞれ金属被膜19を形成する(同図(e))。同図符号1
0は金属被膜19が形成された状態の第1のフレキシブ
ル基板素片10を示しており、ここでは金属被膜19と
しては金被膜を形成した。
[0027] By then plating the connecting portions 14A exposed on the bottom of each opening 18, to form the respective metal coating 19 on the 14B 1 ~14B 3 (FIG. (E)). Reference numeral 1 in FIG.
Reference numeral 0 indicates the first flexible substrate element 10 in the state where the metal coating 19 is formed. Here, the metal coating 19 is a gold coating.

【0028】次に第1のフレキシブル基板素片10とと
もに用いられる第2のフレキシブル基板素片の製造工程
を説明する。図2(a)の符号31はインピーダンス調整
用の金属箔を示しており、先ずこの金属箔31裏面に保
護フィルム32を貼付する(同図(b))。
Next, the manufacturing process of the second flexible board piece used together with the first flexible board piece 10 will be described. Reference numeral 31 in FIG. 2A indicates a metal foil for impedance adjustment, and a protective film 32 is first attached to the back surface of the metal foil 31 (FIG. 2B).

【0029】次に金属箔31の表面に、図1(d)と同様
の工程でパターニングしたカバーフィルム33を形成す
る(同図(c))。このカバーフィルム33にはパターニン
グによって複数の開口部35(ここでは4個示されてい
る)が形成されており、各開口部35底面には金属箔3
1が露出している。
Next, on the surface of the metal foil 31, a patterned cover film 33 is formed in the same process as in FIG. 1D (FIG. 1C). A plurality of openings 35 (four are shown here) are formed in the cover film 33 by patterning, and the metal foil 3 is formed on the bottom surface of each opening 35.
1 is exposed.

【0030】次いでメッキ法により、開口部35底面の
金属箔31上に銅を析出させると各開口部35は銅で充
填され、金属箔31表面に複数のバンプ本体37A、3
7B1〜37B3が形成される(同図(d))。抵抗用金属箔
31の裏面は保護フィルム32によって保護されてお
り、銅メッキの際にその部分には銅は析出しない。
Then, copper is deposited on the metal foil 31 on the bottom surface of the opening 35 by a plating method so that each opening 35 is filled with copper and a plurality of bump bodies 37A, 3A, 3 are formed on the surface of the metal foil 31.
7B 1 to 37B 3 are formed ((d) in the same figure). The back surface of the resistance metal foil 31 is protected by the protective film 32, and copper is not deposited on that portion during copper plating.

【0031】次に、保護フィルム32を剥離し、金属箔
31をフォトリソグラフ工程とエッチング工程によって
パターニングし、各バンプ本体37A、37B1〜37
3が互いに接続するようにインピーダンス調整用導体
膜40を形成する(同図(e))。
Next, the protective film 32 is peeled off, the metal foil 31 is patterned by a photolithography process and an etching process, and each bump main body 37A, 37B 1 to 37.
The impedance adjusting conductor film 40 is formed so that B 3 is connected to each other ((e) in the figure).

【0032】この状態のインピーダンス調整用導体膜4
0Cの平面図を図7に示す。このインピーダンス調整用
導体膜40Cは、金属箔31のうち、バンプ本体37
A、37B1〜37B3が設けられた部分から成る幅広の
接続部38A、38B1〜38B3とインピーダンス成分
を形成するための幅狭のインピーダンス部391〜393
とで構成されている。
Impedance adjusting conductor film 4 in this state
A plan view of 0C is shown in FIG. The impedance adjusting conductor film 40C is formed on the bump main body 37 of the metal foil 31.
A, 37B 1 ~37B 3 wide connection portion 38A made of parts provided with, 38B 1 ~38B 3 and the narrow impedance portion 39 for forming the impedance component 1-39 3
It consists of and.

【0033】ここでは、インピーダンス部391〜393
は接続部38B1、38B2を介して直列接続されてお
り、その両端に、残りの接続部38A、38B3が接続
されている。図面右端の接続部38Aを基準にし、その
接続部39Aから隣の接続部38B1との間のインピー
ダンス部391のインピーダンスをr1、基準とした接続
部38Aから更にその次の接続部38B2までの間の2
個のインピーダンス部391、392のインピーダンスを
合計した値をr2、同様に、基準とした接続部38Aか
ら図面左端の接続部38B3までの間の3個のインピー
ダンス部391〜393のインピーダンスを合計した値を
3とする。
Here, the impedance units 39 1 to 39 3
Are connected in series via connection parts 38B 1 and 38B 2 , and the remaining connection parts 38A and 38B 3 are connected to both ends thereof. With reference to the connection portion 38A at the right end of the drawing, the impedance of the impedance portion 39 1 between the connection portion 39A and the adjacent connection portion 38B 1 is r 1 , and the reference connection portion 38A to the next connection portion 38B 2 Between 2
Pieces of the impedance unit 39 1, 39 2 of the impedance r 2 the total value of Similarly, three impedance portion 39 1-39 3 between the reference and the connecting portion 38A to the drawings the left end of the connecting portion 38B 3 Let r 3 be the total value of the impedances.

【0034】上記のようなパターンのインピーダンス調
整用導体膜40を形成した後、そのバンプ本体37A、
37B1〜37B3が形成された面とは反対側の面にポリ
イミド前駆体溶液を塗付し、フォトリソグラフ工程とエ
ッチング工程によってパターニングした後、加熱処理
し、ベースフィルム42を形成する(図2(f))。
After forming the impedance adjusting conductor film 40 having the above-described pattern, the bump main body 37A,
37B 1 ~37B 3 opposite surface polyimide precursor solution subjected paint to the can that the formed surface, was patterned by photolithography and etching processes, heat treatment, to form a base film 42 (FIG. 2 (f)).

【0035】このベースフィルム42には、パターニン
グにより、インピーダンス調整用導体膜40Cの各接続
部38A、38B1〜38B3上の位置に、接続部38
A、38B1〜38B3よりも小径な開口部44が設けら
れている。
By patterning the base film 42, the connecting portion 38 is formed at a position above the connecting portions 38A, 38B 1 to 38B 3 of the impedance adjusting conductor film 40C.
A, an opening 44 having a smaller diameter than 38B 1 to 38B 3 is provided.

【0036】次いでメッキ法により、バンプ本体37
A、37B1〜37B3先端表面と開口部44底面の接続
部38A、38B1〜38B3表面に、金属被膜48を形
成すると、このバンプ本体37A、37B1〜37B3
金属被膜48とにより、バンプ49A、49B1〜49
3が構成される(同図(g))。符号30はバンプ49
A、49B1〜49B3が形成された状態の第2のフレキ
シブル基板素片を示している。ここでは金属被膜48と
して金被膜を用いた。
Next, the bump main body 37 is formed by plating.
A, 37B 1 ~37B 3 tip surface and the opening portion 44 bottom surface of the connection portion 38A, the 38B 1 ~38B 3 surface, to form a metal coating 48, the bump main body 37A, the a 37B 1 ~37B 3 and the metal film 48 , Bumps 49A, 49B 1 to 49
B 3 is constructed ((g) in the figure). 30 is a bump 49
The second flexible substrate piece in a state in which A, 49B 1 to 49B 3 are formed is shown. Here, a gold coating is used as the metal coating 48.

【0037】次に、第1のフレキシブル基板素片10と
第2のフレキシブル基板素片30を貼り合わせる工程を
説明する。先ず、第1のフレキシブル基板素片10の接
続部14A、14B1〜14B3に対し、第2のフレキシ
ブル基板素片10のバンプ49A、49B1〜49B3
向かい合わせて配置する。
Next, the step of bonding the first flexible substrate piece 10 and the second flexible substrate piece 30 together will be described. First, the connection portion 14A of the first flexible wiring board piece 10, with respect 14B 1 ~14B 3, is disposed facing the bumps 49A of the second flexible wiring board piece 10, the 49B 1 ~49B 3.

【0038】図3(a)は、その状態のフレキシブル基板
素片10、30を示しており、それらの間には、熱可塑
性樹脂から成る接着フィルム51が配置されている。第
2のフレキシブル基板素片30のバンプ49A、49B
1〜49B3は、第1のフレキシブル基板素片10の接続
部14A、14B1〜14B3に対応する位置に配置され
ており、フレキシブル基板素片10、30同士を位置合
わせし、接着フィルム51を間に挟んで、加熱しながら
密着させる。
FIG. 3 (a) shows the flexible substrate pieces 10 and 30 in this state, and an adhesive film 51 made of a thermoplastic resin is arranged between them. Bumps 49A, 49B of the second flexible substrate piece 30
1 ~49B 3, the connection portion 14A of the first flexible wiring board piece 10 is disposed at a position corresponding to the 14B 1 ~14B 3, aligning the flexible wiring board piece 10, 30 to each other, the adhesive film 51 And put them in between and bring them into close contact while heating.

【0039】熱可塑性樹脂は加熱されると軟化する性質
を有しており、第1、第2のフレキシブル基板素片1
0、30を互いに押圧すると、バンプ49A、49B1
〜49B3が軟化した接着フィルム51中にめり込み、
各バンプ49A、49B1〜49B3の先端が、第1のフ
レキシブル基板素片10の接続部14A、14B1〜1
4B3の近傍まで接近する。
The thermoplastic resin has a property of softening when heated, and the first and second flexible substrate pieces 1
When 0 and 30 are pressed against each other, bumps 49A and 49B 1
~ 49B 3 is embedded in the softened adhesive film 51,
The tips of the bumps 49A, 49B 1 to 49B 3 are connected to the connecting portions 14A, 14B 1 to 1 of the first flexible substrate element 10.
Approach to the vicinity of 4B 3 .

【0040】このとき、各バンプ49A、49B1〜4
9B3が接続部14A、14B1〜14B3とは接触しな
い程度まで第1、第2のフレキシブル基板素片10、3
0を押圧し、インピーダンス調整用導体膜40Cと、配
線膜13A、13Bとが電気的に接続されないようにし
ておく(図3(b))。その状態で冷却すると、第1のフレ
キシブル基板素片10と第2のフレキシブル基板素片3
0とは接着フィルム51によって接着される(図3
(b))。
At this time, the bumps 49A, 49B 1 to 4 are formed.
The first and second flexible substrate pieces 10, 3 to the extent that 9B 3 does not come into contact with the connecting portions 14A, 14B 1 to 14B 3.
0 is pressed to prevent the impedance adjusting conductor film 40C and the wiring films 13A and 13B from being electrically connected (FIG. 3B). When cooled in that state, the first flexible substrate piece 10 and the second flexible substrate piece 3
0 is bonded by an adhesive film 51 (see FIG. 3).
(B)).

【0041】次に、配線膜13A、13Bのインピーダ
ンスを図示しない測定機を用いて実際に測定する。ここ
で測定結果から、配線膜13A、13Bを用いて接続す
る回路間に必要なインピーダンスに対し、実際の配線膜
13A、13が有するインピーダンスが値r3だけ不足
していたものとすると、インピーダンス調整用導体膜4
0C上で、基準となる接続部38Aに対し、この値r3
に等しいインピーダンスを与える接続部38B3を選択
する。そして、この接続部38B3と、基準となる接続
部38Aとを接続するために、先ず、超音波発生機(完
エレクトロニクス社製、モデル7700A)に接続され
たシングルポイントボンダ―54を、図3(c)に示す
ように開口部44を介して基準となる接続部38Aの裏
面に当接させ、押圧しながら超音波を印加すると、基準
となるバンプ49Aに超音波振動が伝わり、バンプ49
A先端部分の接着フィルム51が超音波振動によって押
し広げられバンプ49A先端が、第1の配線膜13Aの
接続部14Aに当接される。そして、超音波の震動力に
より、バンプ49A先端の金属被膜49と、接続部14
A表面の金属被膜19とが接合される。
Next, the impedances of the wiring films 13A and 13B are actually measured by using a measuring machine (not shown). Here, from the measurement results, assuming that the impedance of the actual wiring films 13A and 13 is insufficient by the value r 3 with respect to the impedance required between the circuits connected using the wiring films 13A and 13B, impedance adjustment Conductor film 4
On 0C, this value r 3
Selecting a connection portion 38B 3 giving equal impedance. Then, in order to connect the connecting portion 38B 3 and the reference connecting portion 38A, first, the single point bonder 54 connected to the ultrasonic generator (Model 7700A manufactured by Kankaku Electronics Co., Ltd.) As shown in (c), when the ultrasonic wave is applied while being brought into contact with the rear surface of the reference connecting portion 38A through the opening 44 and pressing the ultrasonic wave, the ultrasonic vibration is transmitted to the reference bump 49A, and the bump 49A.
The adhesive film 51 at the A tip portion is spread by ultrasonic vibration, and the tip end of the bump 49A is brought into contact with the connection portion 14A of the first wiring film 13A. Then, by the seismic power of ultrasonic waves, the metal coating 49 at the tip of the bump 49A and the connecting portion 14
The metal coating 19 on the surface A is joined.

【0042】次に、選択した接続部38B3上にシング
ルポイントボンダ―54を移動させ、その裏面に当接さ
せ、上記と同様に超音波を印加すると、その接続部38
3上のバンプ49B3が配線膜13B上の対応する接続
部14B3に接続される(同図(d))。なお、ここではベ
ースフィルム42に開口部44を設け、シングルポイン
トボンダ―54を、開口部44裏面に露出する接続部3
8(インピーダンス調整用導体膜40の裏面)に当接し、
押圧しながら超音波を印加したが、開口部44を設け
ず、バンプ49裏面位置に存するベースフィルム42に
押圧し、超音波を印加してもよい。
Next, the single point bonder 54 is moved onto the selected connecting portion 38B 3 and brought into contact with the rear surface thereof, and ultrasonic waves are applied in the same manner as above, and then the connecting portion 38B 3 is applied.
The bump 49B 3 on B 3 is connected to the corresponding connection portion 14B 3 on the wiring film 13B (FIG. 9 (d)). Here, the opening 44 is provided in the base film 42, and the single point bonder 54 is exposed on the rear surface of the opening 44.
8 (a back surface of the impedance adjusting conductor film 40),
Although the ultrasonic waves were applied while being pressed, the ultrasonic waves may be applied by pressing the base film 42 located on the back surface of the bump 49 without providing the opening 44.

【0043】以上の工程により、分割された配線膜13
A、13B間は、インピーダンス調整用導体膜44Cの
うち、必要なインピーダンスr3を有するインピーダン
ス部39B1〜39B3によって接続される。図8は配線
膜13A、13Bと、インピーダンス調整用導体膜40
Cとの重なり状態を示す平面図である。図4の符号50
は、上記工程によって形成されたフレキシブル配線板を
示している。
The wiring film 13 divided by the above steps
A, inter 13B, out of the impedance adjusting conductor film 44C, it is connected by the impedance unit 39B 1 ~39B 3 having an impedance r 3 required. FIG. 8 shows the wiring films 13A and 13B and the impedance adjusting conductor film 40.
It is a top view which shows the overlapping state with C. Reference numeral 50 in FIG.
Shows a flexible wiring board formed by the above process.

【0044】以上は、配線膜13A、13Bをインピー
ダンスr3で接続する場合であったが、実際に配線膜1
3A、13Bのインピーダンスを測定した結果、その間
を接続すべきインピーダンスがr2であった場合は、基
準となるバンプ49Aと、そのバンプ49Aに対し、そ
のインピーダンスr2を与える接続部38B2を選択し、
インピーダンス調整用導体膜40Cのうち、その接続部
38A、38B2間の部分で配線膜13A、13Bを接
続することになる。
The above is the case where the wiring films 13A and 13B are connected by the impedance r 3 , but the wiring film 1 is actually used.
As a result of measuring the impedances of 3A and 13B, when the impedance to be connected between them is r 2 , the reference bump 49A and the connecting portion 38B 2 which gives the impedance r 2 to the bump 49A are selected. Then
The wiring films 13A and 13B are connected to each other in the portion between the connecting portions 38A and 38B 2 of the impedance adjusting conductor film 40C.

【0045】インピーダンス値がr1の場合は、インピ
ーダンス調整用導体膜40Cのうち、そのインピーダン
スr1を与える接続部38A、38B1で配線膜13A、
13Bを接続することになる。
[0045] If the impedance value is r 1, of the impedance adjusting conductor film 40C, the connection portions 38A which gives the impedance r 1, the wiring film 13A in 38B 1,
13B will be connected.

【0046】なお、上記実施例では、第1、第2のフレ
キシブル基板素片10、30同士は、熱可塑性の樹脂フ
ィルム51によって接着したが、第2のフレキシブル基
板素片30のカバーフィルム33を熱可塑性の樹脂で構
成しておくと、カバーフィルム33を、第1、第2のフ
レキシブル基板素片10、30同士の接着に用いること
ができる。
In the above embodiment, the first and second flexible substrate pieces 10 and 30 are adhered to each other by the thermoplastic resin film 51, but the cover film 33 of the second flexible substrate piece 30 is used. If the cover film 33 is made of a thermoplastic resin, the cover film 33 can be used for bonding the first and second flexible substrate pieces 10 and 30 to each other.

【0047】次に、本発明の他の実施例を説明する。図
5(a)の符号60は、上記符号30で表したのとは異な
る第2のフレキシブル基板素片を示している。
Next, another embodiment of the present invention will be described. Reference numeral 60 in FIG. 5A indicates a second flexible substrate piece different from that represented by the reference numeral 30.

【0048】このフレキシブル基板素片60は、上記フ
レキシブル基板素片30と同様に、ベースフィルム62
と、該ベースフィルム62上に配置されたインピーダン
ス調整用導体膜63とを有している。このインピーダン
ス調整用導体膜63は、図7で示したインピーダンス調
整用導体膜40と同様のパターンに形成されている。
This flexible substrate piece 60 is similar to the flexible substrate piece 30 in that it has a base film 62.
And an impedance adjusting conductor film 63 disposed on the base film 62. The impedance adjusting conductor film 63 is formed in the same pattern as the impedance adjusting conductor film 40 shown in FIG. 7.

【0049】他方、このインピーダンス調整用導体膜6
3上には、熱硬化性樹脂層68と、その上に形成された
熱可塑性樹脂層66とから成るカバーフィルム62が配
置されている。
On the other hand, the impedance adjusting conductor film 6
A cover film 62 composed of a thermosetting resin layer 68 and a thermoplastic resin layer 66 formed on the thermosetting resin layer 68 is disposed on the surface 3.

【0050】図5(b)の符号90は上記第2のフレキシ
ブル基板素片60に対し、図1(e)に示した第1のフレ
キシブル基板10を貼付して製造したフレキシブル配線
板を示している。この図5(a)、(b)では、バンプ本体
70A、70B1〜70B3表面の金属被膜と開口部78
底面に露出するインピーダンス調整用導体膜63の表面
の金属被膜は省略してある。
Reference numeral 90 in FIG. 5 (b) indicates a flexible wiring board manufactured by attaching the first flexible substrate 10 shown in FIG. 1 (e) to the second flexible substrate piece 60. There is. The FIG. 5 (a), the (b), the bump main body 70A, 70B 1 ~70B 3 surface of the metal coating and the openings 78
The metal coating on the surface of the impedance adjusting conductor film 63 exposed on the bottom surface is omitted.

【0051】このフレキシブル配線板90を製造する際
に、図3(a)〜(d)で示した工程と同様の工程で、第
1、第2のフレキシブル基板素片10、60を押圧しな
がら加熱すると、各バンプ70A、70B1〜70B3
熱可塑性樹脂層66にめりこみ、熱硬化性樹脂層68を
介して配線膜13の接続部(ここでは図示しない)に当
接される。
When manufacturing this flexible wiring board 90, the first and second flexible board pieces 10 and 60 are pressed while the same steps as those shown in FIGS. 3A to 3D. Upon heating, the bumps 70A, 70B 1 ~70B 3 is embedment in the thermoplastic resin layer 66, the connection portion of the wiring layer 13 through the thermosetting resin layer 68 (here not shown) is brought into contact.

【0052】その状態でバンプ70A、70B3を選択
して超音波を印加すると、超音波が印加されたバンプ7
0A、70B3上の熱硬化性樹脂層68は除去され、バ
ンプ70A、70B3と配線膜13の接続部とが直接接
触し、その間が接続される。
When the bumps 70A and 70B 3 are selected and ultrasonic waves are applied in that state, the bumps 7 to which the ultrasonic waves are applied are selected.
The thermosetting resin layer 68 on 0A and 70B 3 is removed, and the bumps 70A and 70B 3 and the connecting portion of the wiring film 13 are directly contacted with each other to connect them.

【0053】この場合、超音波が印加されないバンプ7
0B1、70B2と配線膜13の接続部の間には絶縁性の
熱硬化性樹脂層68が配置されているので、接続に用い
られないバンプ70B1、70B2が接続部に接触するこ
とがない。
In this case, the bump 7 to which ultrasonic waves are not applied
Since the insulative thermosetting resin layer 68 is disposed between the connecting portions of 0B 1 and 70B 2 and the wiring film 13, the bumps 70B 1 and 70B 2 which are not used for the connection should contact the connecting portions. There is no.

【0054】以上説明したフレキシブル配線板50、9
0では、分割された配線膜13A、13Bのうちの一方
の配線膜13Aには接続部13Aが1個しか設けられて
おらず、他方の配線膜13B上に接続するバンプを選択
することで、インピーダンス調整用導体膜40、63の
インピーダンス値を調整していたが、本発明はそれに限
定されるものではない。分割された配線膜13A、13
Bのそれぞれに複数個の接続部を設けて接続すべきバン
プを選択することで、インピーダンス調整用導体膜のイ
ンピーダンスを調整してもよい。
The flexible wiring boards 50 and 9 described above
In 0, one wiring film 13A of the divided wiring films 13A and 13B is provided with only one connecting portion 13A, and by selecting a bump to be connected on the other wiring film 13B, Although the impedance values of the impedance adjusting conductor films 40 and 63 are adjusted, the present invention is not limited thereto. Divided wiring films 13A, 13
The impedance of the impedance adjusting conductor film may be adjusted by providing a plurality of connecting portions on each of B and selecting a bump to be connected.

【0055】更にまた、上記は接続に用いるバンプを選
択し、分割した配線膜13A、13B間を接続するイン
ピーダンス調整用導体膜40、63の長さを調整するこ
とで、インピーダンスを調整していたが、例えば、配線
膜13A、13B間にインピーダンス調整用導体膜を複
数本配置しておき、バンプを選択することで接続するイ
ンピーダンス調整用導体膜の本数を異ならせ、配線膜1
3A、13B間を所望の値のインピーダンスで接続する
こともできる。
Furthermore, in the above, the impedance is adjusted by selecting the bump used for the connection and adjusting the length of the impedance adjusting conductor films 40 and 63 connecting the divided wiring films 13A and 13B. However, for example, a plurality of impedance adjusting conductor films are arranged between the wiring films 13A and 13B, and the number of impedance adjusting conductor films to be connected is made different by selecting bumps.
It is also possible to connect between 3A and 13B with a desired impedance.

【0056】要するに、本発明は、バンプを選択するこ
とで、接続すべきインピーダンス調整用導体膜のインピ
ーダンスを選択できるフレキシブル配線板の製造方法を
広く含むものである。
In short, the present invention broadly includes a method for manufacturing a flexible wiring board in which the impedance of the impedance adjusting conductor film to be connected can be selected by selecting the bump.

【0057】なお、上記実施例では、接着フィルム51
を構成する熱可塑性樹脂には、ポリイミド系接着剤を用
いたが、本発明は、熱可塑性樹脂に限定されるものでは
なく、熱硬化性樹脂を用いることもできる。例えばエポ
キシ系の接着剤(SCC製A100等)等のポリイミド系
接着剤以外の樹脂も接着性を有するため使用することが
できる。熱硬化性樹脂を使用する場合、完全に硬化して
いない状態でフレキシブル基板素片同士を接着した後、
硬化させるとよい。要するに、本発明は接着性を有する
樹脂を広く用いることができる。また、予め2種類のう
ち一方のフレキシブル基板素片のカバーフィルムに接着
性を有する樹脂層を形成し、貼り合わせに用いてもよ
い。
In the above embodiment, the adhesive film 51
Although the polyimide-based adhesive was used as the thermoplastic resin constituting the above, the present invention is not limited to the thermoplastic resin, and a thermosetting resin can also be used. For example, a resin other than a polyimide adhesive such as an epoxy adhesive (A100 manufactured by SCC, etc.) or the like can be used because it has adhesiveness. When using a thermosetting resin, after bonding the flexible substrate pieces to each other in a state where they are not completely cured,
Good to harden. In short, the present invention can widely use resins having adhesiveness. Alternatively, a resin layer having adhesiveness may be formed in advance on the cover film of one of the two types of flexible substrate pieces and used for bonding.

【0058】また、本発明に用いる金属被膜は、金を主
成分とする被膜に限定されるものではなく、銀を主成分
とする被膜、ニッケルを主成分とする被膜、銅とニッケ
ルの合金被膜、半田被膜を用いることができる。貼り合
わせる2枚のフレキシブル基板素片には、同種の金属被
膜を形成しておくと、良好な接続が得られる。
The metal coating used in the present invention is not limited to a coating containing gold as a main component, and a coating containing silver as a main component, a coating containing nickel as a main component, an alloy coating of copper and nickel. , A solder coating can be used. Good connection can be obtained by forming the same kind of metal coating on the two flexible substrate pieces to be bonded.

【0059】[0059]

【発明の効果】分割された配線膜をインピーダンス調整
用導体膜で接続するため、接続された配線膜のインピー
ダンスと、配線膜に接続される電子部品回路の入出力イ
ンピーダンスとが整合される。配線膜はインピーダンス
調整用導体膜の所望の抵抗を有する箇所で接続されるの
で、各フレキシブル基板素片の配線膜の抵抗が異なって
も、フレキシブル基板素片毎に配線膜のインピーダンス
を目標値に設定できる。
Since the divided wiring films are connected by the impedance adjusting conductor film, the impedance of the connected wiring film and the input / output impedance of the electronic component circuit connected to the wiring film are matched. Since the wiring film is connected at the point where the impedance adjusting conductor film has the desired resistance, even if the wiring film resistance of each flexible board element is different, the impedance of the wiring film is set to the target value for each flexible board element. Can be set.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)〜(e):本発明に用いる第1のフレキシブ
ル基板素片の製造工程図
FIG. 1 (a) to (e): Manufacturing process drawing of a first flexible substrate piece used in the present invention.

【図2】(a)〜(g):本発明に用いる第2のフレキシブ
ル基板素片の製造工程図
2 (a) to (g): Manufacturing process drawing of a second flexible substrate piece used in the present invention.

【図3】(a)〜(b):第1のフレキシブル基板素片と第
2のフレキシブル基板素片を貼り合わせる本発明の製造
工程を説明するための図
3A to 3B are views for explaining a manufacturing process of the present invention in which a first flexible substrate piece and a second flexible substrate piece are attached to each other.

【図4】本発明の製造方法により作成されたフレキシブ
ル配線板の断面図
FIG. 4 is a cross-sectional view of a flexible wiring board manufactured by the manufacturing method of the present invention.

【図5】(a):本発明の他の実施例に用いる第2のフレ
キシブル基板素片の断面図 (b):他の実施例で作成したフレキシブル配線板の断面
FIG. 5A is a sectional view of a second flexible substrate piece used in another embodiment of the present invention. FIG. 5B is a sectional view of a flexible wiring board prepared in another embodiment.

【図6】第1のフレキシブル基板素片の配線膜を説明す
るための平面図
FIG. 6 is a plan view for explaining a wiring film of a first flexible substrate piece.

【図7】第2のフレキシブル基板素片の抵抗調整用導電
性膜を説明するための平面図
FIG. 7 is a plan view for explaining a resistance adjusting conductive film of a second flexible substrate piece.

【図8】本発明の製造方法により作成されたフレキシブ
ル配線板の配線膜とインピーダンス調整用導体膜との重
なり状態を示す平面図
FIG. 8 is a plan view showing an overlapping state of a wiring film and an impedance adjusting conductor film of a flexible wiring board manufactured by the manufacturing method of the present invention.

【図9】(a)〜(c):フレキシブル配線板の従来技術の
製造方法を説明するための図
9A to 9C are views for explaining a conventional method of manufacturing a flexible wiring board.

【図10】従来技術で製造されたフレキシブル配線板の
配線膜とインピーダンス調整用導体膜との重なり状態を
示す平面図
FIG. 10 is a plan view showing an overlapping state of a wiring film and a conductor film for impedance adjustment of a flexible wiring board manufactured by a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10……第1のフレキシブル基板素片 12、42、72……ベースフィルム 13A、13B……配線膜 30、60……第2のフレキシブル基板素片 40、63……インピーダンス調整用導体膜 49A、49B1〜49B3、70A、70B1〜70B3
……バンプ 50、90……フレキシブル配線板 51……熱可塑性樹脂
10 ... First flexible substrate element 12, 42, 72 ... Base film 13A, 13B ... Wiring film 30, 60 ... Second flexible substrate element 40, 63 ... Impedance adjusting conductor film 49A, 49B 1 to 49B 3 , 70A, 70B 1 to 70B 3
... Bumps 50, 90 ... Flexible wiring board 51 ... Thermoplastic resin

フロントページの続き (72)発明者 岸本 聡一郎 栃木県鹿沼市さつき町12−3 ソニーケ ミカル株式会社 第2工場内 (72)発明者 有光 義雄 栃木県鹿沼市さつき町12−3 ソニーケ ミカル株式会社 第2工場内 (56)参考文献 特開 平7−106759(JP,A) 特開 平7−202519(JP,A) 特開 平9−199863(JP,A) 特開 平11−317572(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 1/00 - 3/46 Front Page Continuation (72) Inventor Soichiro Kishimoto 12-3 Satsukicho, Kanuma City, Tochigi Prefecture Sony Chemical Co., Ltd. 2nd factory (72) Inventor Yoshio Arimitsu 12-3 Satsukicho, Kanuma City, Tochigi Prefecture Sony Chemical Co., Ltd. Two factories (56) Reference JP-A-7-106759 (JP, A) JP-A-7-202519 (JP, A) JP-A-9-199863 (JP, A) JP-A-11-317572 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H05K 1/00-3/46

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】第一のフレキシブル基板素片のベースフィ
ルム上に配置された配線膜の間を、第二のフレキシブル
基板素片に設けられたインピーダンス調整用導体膜で接
続し、多層構造のフレキシブル配線板を製造する方法で
あって、前記第一のフレキシブル基板素片上の、接続す
べき前記配線膜のインピーダンスを測定し、必要とする
インピーダンスに対して不足するインピーダンスを測定
結果から求め、前記インピーダンス調整用導体膜が前記
不足するインピーダンスを与える位置を選択し、前記イ
ンピーダンス調整用導体膜を前記接続すべき配線膜に接
続することを特徴とするフレキシブル配線板の製造方
法。
1. A flexible structure having a multilayer structure, wherein wiring films arranged on a base film of a first flexible substrate element are connected by an impedance adjusting conductor film provided on a second flexible substrate element. a method of manufacturing a wiring board, and measuring the impedance of the first on the strip flexible substrate containing the wiring layer to be connected requires
Measures the impedance that is insufficient for the impedance
Obtained from the results, the impedance adjustment conductor film is the
Select the position that gives the insufficient impedance and
Connect the impedance adjustment conductor film to the wiring film to be connected.
A method for manufacturing a flexible wiring board, characterized by the following.
【請求項2】前記配線膜又は前記インピーダンス調整用
導体膜のいずれか一方に少なくとも3個以上のバンプを
設けておき、 前記バンプによって前記配線膜と前記インピーダンス調
整用導体膜間を接続する請求項1記載のフレキシブル配
線板の製造方法であって、 前記測定結果に応じた位置の前記バンプを選択し、前記
配線膜と前記インピーダンス調整用導体膜とを接続させ
ることを特徴とするフレキシブル配線板の製造方法。
2. The at least three bumps are provided on either one of the wiring film or the impedance adjusting conductor film, and the wiring film and the impedance adjusting conductor film are connected by the bumps. The method for manufacturing a flexible wiring board according to 1, wherein the bumps at positions corresponding to the measurement results are selected and the wiring film and the impedance adjusting conductor film are connected to each other. Production method.
【請求項3】前記バンプ表面には予め樹脂を配置し、該
樹脂を部分的に破壊することで、前記配線膜と前記イン
ピーダンス調整用導体膜を接続することを特徴とする請
求項2記載のフレキシブル配線板の製造方法。
3. The wiring film and the impedance adjusting conductor film are connected to each other by disposing a resin in advance on the surface of the bump and partially destroying the resin. Flexible wiring board manufacturing method.
【請求項4】前記選択したバンプに超音波を印加し、前
記配線膜と前記インピーダンス調整用導体膜とを接続す
る請求項2又は請求項3のいずれか1項記載のフレキシ
ブル配線板の製造方法。
4. The method for manufacturing a flexible wiring board according to claim 2, wherein ultrasonic waves are applied to the selected bumps to connect the wiring film and the impedance adjusting conductor film. .
【請求項5】前記第1のフレキシブル基板素片と前記第
2のフレキシブル基板素片とを接着性を有する樹脂によ
って接着することを特徴とする請求項1及至請求項4の
いずれか1項記載のフレキシブル配線板の製造方法。
5. The first flexible substrate piece and the second flexible substrate piece are adhered to each other with a resin having an adhesive property, according to any one of claims 1 to 4. Of flexible wiring board.
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