JP3490982B2

JP3490982B2 - 真空計用圧力補正装置

Info

Publication number: JP3490982B2
Application number: JP2001148066A
Authority: JP
Inventors: 純子佐伯; 政雄秋野
Original assignee: 純子佐伯; 秋野鋼機株式会社
Priority date: 2001-05-17
Filing date: 2001-05-17
Publication date: 2004-01-26
Anticipated expiration: 2021-05-17
Also published as: JP2002340720A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空計用圧力補正
装置に関し、詳しくは、外部から流入する荷電粒子のゲ
ージヘッドに及ぼす影響を補正し、圧力値をより正確に
測定できるようにする真空計用圧力補正装置に関する。

【０００２】近年、加速器、特に、放射光を発生させる
電子貯蔵リングにおいては、そのリング内を周回する電
子ビームの質の向上、その軌道安定化と長寿命化等のた
めに、リング内の圧力の超高真空化が行われている。そ
のレベルは、電子ビーム無しでの基底状態で１０^-9Ｐａ
台、電子ビーム有りの運転状態で１０^-6Ｐａ台以下とい
う状況である。この傾向は、半導体等のデバイス製造の
ための薄膜加工装置においても同様である。理想的な機
能材料を素子として形成するためには、固体表面の清浄
化及び薄膜加工過程の清浄化が必須であり、そのために
は、超高真空化が必要になる。この超高真空雰囲気を形
成するに際しては、その圧力を測定する必要がある。こ
のために、真空計が用いられる。この真空計には高い信
頼性と汎用性を備えたものが求められるが、その目的に
最適な真空計として、電離真空計が知られている。

【０００３】図４は、従来より超高真空雰囲気、例え
ば、電子貯蔵リングの圧力測定に用いられている真空計
（電離真空計）の側面図である。この真空計１００は、
フランジが設けられた本体部１０１、この本体部１０１
の中心部に突出させた針状のコレクタ（collector ）１
０２、このコレクタ１０２を囲むように設けられた円筒
格子状のグリッド（grid）１０３、このグリッド１０３
に沿うように取り付けられたフィラメント（filament）
１０４を備えている。

【０００４】図４のように構成された従来の電離真空計
１００は、本体部１０１が測定対象の機器の内壁等にフ
ランジを介して取り付けられる。そして、フィラメント
１０４に通電を行うと、このフィラメント１０４から熱
電子が発生する。次に、グリッド１０３に適当な正電位
を与えると、発生熱電子はグリッド１０３の近傍を往復
運動する。この熱電子は、測定雰囲気中（空間中）に残
留しているガス分子に衝突し、このガス分子をイオン化
する。イオン化されたガス分子はアースに接続されてい
るコレクタ１０２に集まり、その総合イオン電流値から
全圧力を判定する。圧力値が高い場合には測定されたイ
オン電流値は大きくなり、逆に、圧力値が低い場合には
イオン電流値は小さくなる。したがって、コレクタ１０
２に流れ込むイオン電流値により、一元的に圧力を測定
することができる。

【０００５】電離真空計１００の測定精度は、機械的な
圧力測定装置の国際基準代表例であるスピニングロータ
ゲージを基準にしている。このスピニングロータゲージ
は、磁気浮上させた球の回転抵抗から圧力を換算する真
空計であり、このスピニングロータゲージを用いて１０
^-5Ｐａ台までの較正を行い、これ以下の圧力較正は、外
挿して圧力を決定している。また、エキストラクターゲ
ージを用い、参考としている。

【０００６】通常、電離真空計における圧力換算式は、
次のように表される。全圧力Ｐ（Ｐａ）に対応するイオ
ン電流値Ｉｉ（Ａ）は、真空計固有の感度係数Ｓ（１／
Ｐａ）、フィラメントからの電子放出電流Ｉｅ（Ａ）か
ら、Ｉｉ＝Ｓ×Ｐ×Ｉｅと表せる（ここで、ＳとＩｅは、ほぼ一定）。

【０００７】最近の傾向として、単なる超高真空ではな
く、荷電粒子が多数飛び交う雰囲気で圧力値を測定する
ことが多い。そこで問題となるのが、外部から荷電粒子
が流入し、真空計ヘッド部に影響を及ぼすことである。
例えば、電子貯蔵リングにおいては、光速に近い速度で
周回する電子の軌道を曲げることで、高輝度放射光やそ
の光子が物質と衝突することで生じる放射線等で、前記
真空計を用いた圧力測定では多量の荷電粒子が真空計ヘ
ッド部へ流入することにより、圧力値を正確に測定でき
ない状況を生じることがある。例えば、コレクタ１０２
で測定しようとしたイオン電流値Ｉｉが、コレクタ１０
２に到達する前に光電子により中和されるため、表示圧
力値Ｐを実際値よりも低い値に表示してしまうケースが
ある。

【０００８】また、半導体製造装置においては、不純物
の少ない理想的な薄膜を作成するために、超高真空雰囲
気が必要になってきている。半導体製造装置は、プラズ
マやイオンを用いた装置が多いため、イオンが真空計の
ヘッド部に流入してイオン過多となり、圧力が高いと誤
測定する。このため、半導体製造装置は、超高真空雰囲
気の圧力を正確に測定しにくい装置の１つとなってい
る。

【０００９】以上説明したように、電離真空計において
は、外部からの荷電粒子による影響は避けられない。そ
こで、電離真空計に補正電極（correcting electrode）
を設け、この補正電極によって外部からの荷電粒子を検
出し、この検出出力に基づいて補正を行い、荷電粒子に
よる影響が測定結果に表れないようにし、本来の圧力を
精度良く測定可能にした提案が、「『Ｊｏｕｒｎａｌ
ｏｆＶａｃｕｕｍＳｃｉｅｎｃｅ＆Ｔｅｃｈｎｏ
ｌｏｇｙＡ』Ｖｏｌ．１８、２４４（２０００）」と
して、既に行われている。

【００１０】図５は、補正電極を備えた自己補正機能付
電離真空計を示す側面図である。この自己補正機能付電
離真空計１１０は、図４に示した従来の電離真空計１０
０にあって、延長されたグリッド１０３のコレクタ１０
２の延長線上の先端部に、前記コレクタ１０２とは別に
補正電極１０５を取り付けた構成としている。

【００１１】図６は、従来の補正回路付真空計コントロ
ーラの構成を示すブロック図である。この従来の補正回
路付真空計コントローラ２００は、補正電極１０５を備
えた図５の構成の電離真空計１１０に用いられるもので
ある。図６に示すように、補正回路付真空計コントロー
ラ２００は、コレクタ１０２から出力されるイオン電流
Ｉｃが入力される入力端子１には、ＤＣアンプ２が接続
され、このＤＣアンプ２にはスイッチ３が接続されてい
る。スイッチ３の一方の切換端子には補正回路１０が接
続されている。スイッチ３の他方の切換端子には、アン
プ４が接続されており、このアンプ４にはスイッチ５の
一方の切換端子が接続されている。スイッチ５の他方の
切換端子には、補正回路１０の出力信号が印加される。
さらに、スイッチ５の共通端子には、Ａ／Ｄ（アナログ
／デジタル）変換器６が接続されている。また、入力端
子７には、補正電極１０５からの信号（Ｉ_CE）が入力さ
れ、この入力端子７には補正回路１０が接続されてい
る。

【００１２】補正回路１０は、スイッチ３の出力信号を
増幅するアンプ１１、このアンプ１１のアナログ出力を
デジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換器１２、Ａ／Ｄ変換
器１２により検索した値（Ｖ_Ｐ）を出力するＲＯＭ（リ
ード・オンリー・メモリ）１３、ＲＯＭ１３のデジタル
出力をアナログ信号に変換するＤ／Ａ（デジタル／アナ
ログ）変換器１４、このＤ／Ａ変換器１４の出力信号を
増幅すると共にこれを電流値として出力するアンプ１
５、入力端子７に接続された抵抗１６、図５の補正電極
１０５に流入した荷電粒子電流を抵抗１６により電圧変
換した信号（Ｖ_CE）を電流値として増幅するアンプ１
７、このアンプ１７の出力電流とアンプ１５の出力電流
との偏差を出力する差動アンプ１８、差動アンプ１８の
出力電流を前記電極形状係数に乗じた値として出力する
可変抵抗器１９、及びスイッチ３の出力電流と可変抵抗
器１９の出力電流との偏差を出力する差動アンプ２０を
備えている。

【００１３】ここで、上記Ｖ_Ｐの求め方としては、ま
ず、荷電粒子の存在しない環境下で電離真空計のみで圧
力値を測定し、ついで、測定した圧力値に対し、補正電
極１０５に流入する荷電粒子電流の電圧変換値を測定
し、これをＶ_Ｐとすることにより求められる。

【００１４】次に、図６の構成の動作について説明す
る。スイッチ３とスイッチ５は連動して動作する。外部
から荷電粒子の流入が考えられる場合、スイッチ３はア
ンプ１１側に切り換えられる。この状態で、入力端子１
には、図５に示した真空計のコレクタ１０２に流入した
イオン電流Ｉ_Cが入力され、ＤＣアンプ２によって増幅
される。イオン電流値Ｉ_Cには、外部環境から流入した
荷電粒子が含まれている。その出力電流は、スイッチ３
を介してアンプ１１及び差動アンプ２０に入力される。
アンプ１１で増幅された信号は、Ａ／Ｄ変換器１２によ
ってデジタル信号に変換される。この信号値に基づいて
予め設定されている変換テーブルが検索され、対応する
圧力値に対応する電圧値Ｖ_Ｐが導出される。電圧値Ｖ_Ｐ
はＤ／Ａ変換器１４によってアナログ信号に変換され、
さらにアンプ１５で増幅された後、差動アンプ１８の
（−）入力端子に入力される。

【００１５】一方、入力端子７には、図５の補正電極１
０５に流入した荷電粒子電流が入力され、抵抗１６で電
圧値Ｖ_CEに変換され、アンプ１７で増幅し電流値に変換
した後、差動アンプ１８の（＋）入力端子に入力され
る。差動アンプ１８では（Ｖ_CE−Ｖ_Ｐ）が求められ、こ
の値は可変抵抗器１９により換算して取り出され、差動
アンプ２０の（−）入力端子に入力される。差動アンプ
２０の（＋）入力端子にはイオン電流値Ｉ_Cの値が入力
されているので、差動アンプ２０では、〔Ｉ_C−（Ｖ_CE
−Ｖ_Ｐ）×α〕（αは補正電極１０５の固有の形状係
数）が求められ、この値はスイッチ５を介してＡ／Ｄ変
換器６に印加され、デジタル信号に変換される。Ａ／Ｄ
変換器６の出力信号が補正後の出力信号となる。この後
は、本来の真空計コントローラの圧力換算表示回路へ入
力され、補正した圧力値の表示が行われる。なお、補正
回路１０を必要としないときには、スイッチ３と５をア
ンプ４側に切り換える。この場合、圧力値は、補正を行
わない状態で表示されることになる。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記のような
補正回路付真空計コントローラでは、既存の電離真空計
コントローラ内に直接組み込んで使用されるため、各製
造メーカーによる様々なコントローラごとにそれぞれ圧
力補正回路を組み込まなければならない。つまり、補正
機能を真空計に付加する必要がある場合、各製造メーカ
ーは、自社製コントローラのケース内に補正回路を内蔵
させて電離真空計コントローラを構成することとなる。
このため、手間がかかると共に製造コストが高くなる。
また、既設（在来）の電離真空計コントローラに組み込
むことができないため、既設のコントローラは廃棄せざ
るをえない。現実には、ユーザーが最初から補正機能を
必要と考えて発注することは稀であり、殆んどが補正回
路のない電離真空計コントローラを所有している。以上
の理由により、既設の電離真空計コントローラを併用
し、かつ補正機能を組み込めるようにすることが要望さ
れる。

【００１７】本発明の目的は、既存の電離真空計コント
ローラに併用して補正機能を持たせることが可能な真空
計用圧力補正装置を提供することにある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の真空計用圧力補正装置は、グリッドと外
部からの荷電粒子を検出する補正電極が附設された電離
真空計に接続され、前記電離真空計のコレクタ電流を電
圧値に変換する電離真空計コントローラと併用される真
空計用圧力補正装置において、前記電離真空計自身によ
って発生し前記補正電極に流入する荷電粒子電流の電圧
変換値を、前記電離真空計コントローラの圧力情報から
演算する変換テーブルを備える不揮発メモリと、前記不
揮発メモリの出力を電流値に変換し、この電流変換値と
前記補正電極で検出した電流値の偏差を求め、前記電離
真空計の電極形状係数に基づいて補正されたコレクタ流
入電流値の偏差を算出して圧力換算し、前記電離真空計
コントローラからの圧力値を補正して表示する補正表示
手段とを備え、前記変換テーブルは、予め外部からの荷
電粒子の存在しない環境下で、前記電離真空計を用いて
測定した圧力に対応して補正電極に流入する荷電粒子電
流の電圧変換値を求めることによって、前記電離真空計
コントローラの圧力情報から前記補正電極に流入する荷
電粒子電流の電圧変換値を演算可能とするものである。

【００１９】前記補正表示手段は、前記電離真空計コン
トローラからのアナログによる圧力情報をデジタル信号
に変換するＡ／Ｄ変換器と、前記デジタル変換された圧
力情報から前記補正電極へ流入した荷電粒子電流の電圧
変換値を演算する不揮発メモリの出力をアナログ信号に
変換するＤ／Ａ変換器と、前記Ｄ／Ａ変換器の出力信号
を増幅する第１の増幅器と、前記補正電極からの検出値
を増幅する第２の増幅器と、前記第１及び第２の増幅器
の出力信号の偏差を求める第１の差動増幅器と、この第
１の差動増幅器の出力信号を差圧に換算する演算回路
と、前記電離真空計コントローラの圧力情報と前記差圧
との偏差を求める第２の差動増幅器と、補正した最終圧
力を表示する補正圧力表示部とを備えたものである。

【００２０】前記電離真空計コントローラは、既存の真
空計コントローラを用いることができる。

【００２１】前記のように構成された真空計用圧力補正
装置によれば、補正電極を備えた自己補正機能付真空計
に接続された電離真空計コントローラからの圧力情報、
不揮発性メモリによる情報、及び自己補正機能付真空計
の電極形状係数に基づいてコレクタに流入した荷電粒子
を算出することにより、電離真空計コントローラの圧力
表示値を補正することができる。これにより、在来の電
離真空計コントローラに簡単に圧力補正機能を付加でき
るようになり、既設の電離真空計コントローラの有効利
用が可能になる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を基に説明する。図１は、本発明の真空計用圧力
補正装置の構成を示すブロック図である。本発明の真空
計用圧力補正装置３０は、入力端子１，７、及び電離真
空計コントローラ１５０に接続される。真空計用圧力補
正装置３０は、電離真空計コントローラ１５０の圧力デ
ータに基づいて補正した圧力値Ｐ_COを算出する差動アン
プ３１、電離真空計コントローラ１５０からの圧力デー
タの仮数部(Factor)と指数部（Order ）の情報（例え
ば、仮数部＝４．８、指数部＝−８）を入力とするＡ／
Ｄ変換器３２、このＡ／Ｄ変換器３２の出力レベル（圧
力情報）に基づいてＶ _Ｐを出力するＲＯＭ３３、このＲ
ＯＭ３３の出力電圧をアナログ信号に変換するＤ／Ａ変
換器３４、このＤ／Ａ変換器３４の出力電圧を電流増幅
するＤＣアンプ３５、このＤＣアンプ３５の出力電流Ｉ
_Ｐが（−）入力端子に入力されると共に出力電流が差圧
計算演算回路３８の入力端子に入力される差動アンプ３
６、入力端子７に接続され、入力された補正電極１０５
の検出電流Ｉ_CEを増幅し、差動アンプ３６の（＋）入力
端子に入力するＤＣアンプ３７、差動アンプ３６の出力
信号に電離真空計の電極形状係数を乗じて差圧Δｐを差
動アンプ３１に出力する差圧計算演算回路３８、差動ア
ンプ３１から出力される補正値を表示する補正圧力表示
部３９を備えている。

【００２３】ＲＯＭ３３は、事前に測定した真空計の固
有値（Ｖ_Ｐ値）をテーブルとして設定しており、これを
Ａ／Ｄ変換器３２の出力（圧力値）に基づいて検索し、
応答する値を出力する。電離真空計コントローラ１５０
は、補正装置（補正回路）の接続を考慮していない従来
の真空計に接続されていたコントローラであるが、本発
明の補正装置が必要とする圧力情報は従来より出力され
ている。

【００２４】次に、図１の真空計用圧力補正装置の動作
について説明する。既存の設備である電離真空計コント
ローラ１５０からは、圧力情報として仮数部と指数部の
２つの値が出力され、それぞれがデジタル信号に変換さ
れた後、ＲＯＭ３３に入力される。ＲＯＭ３３によって
得られたＶ_Ｐは、Ｄ／Ａ変換器３４によってアナログ信
号に変換され、ＤＣアンプ３５に入力される。ＤＣアン
プ３５では、Ｖ_Ｐに対応する電流値Ｉ_Ｐを出力する。電
極形状係数αは、補正電極１０５とコレクタ１０２の表
面積の比を抵抗値で除したものであり、外部からコレク
タ１０２へ流入する荷電粒子電流を求める換算係数であ
る。

【００２５】前記Ｉ_ＰとＤＣアンプ３７からの検出電流
Ｉ_CEとに基づいて、差動アンプ３６は（Ｉ_CE−Ｉ_Ｐ）×
αを算出し、この値を差圧計算演算回路３８へ送出す
る。差圧計算演算回路３８では、差圧Δｐを、 Δｐ＝｛α（Ｉ_CE−Ｉ_Ｐ）／ＳＩ_C｝として計算し、これを差動アンプ３１の（−）入力端子
に入力する。また、電離真空計コントローラ１５０の出
力（Ｐ_C ）は差動アンプ３１の（＋）入力端子に入力さ
れる。差動アンプ３１はΔｐとＰ_C の偏差を求めること
により、圧力値を補正し、この補正圧力値Ｐ_COを補正圧
力表示部３９に表示する。

【００２６】真空雰囲気内の圧力測定においては、瞬間
的な測定によって正確な値を得ることは、イオン電流値
の測定に基づいているために難しく、少なくとも数回程
度の測定の平均値を取る必要がある。また、測定値は、
ファクターにおいては小数点以下２桁で大きく変動して
いる。そこで、サンプリング時間を１００ｍｓ程度以上
にとり、繰り返し測定を行って平均化させる必要があ
る。

【００２７】以上のように、本発明の真空計用圧力補正
装置によれば、既存の電離真空計コントローラに付加す
ることができるため、旧式の在来の真空計コントローラ
と併用することが可能になり、既存のコントローラを有
効利用することが可能になり、経済性に優れている。

【００２８】図２は、本発明の真空計用圧力補正装置の
第１の適用例を示す構成図である。図２は半導体薄膜形
成用超高真空スパッタリング（Sputterring ）装置（以
下、単にスパッタリング装置という）の概要を示し、そ
の真空チェンバに本発明にかかる真空計用圧力補正装置
が付設される。このスパッタリング装置は、真空チェン
バ５１、この真空チェンバ５１の内壁の所定位置に設け
られたスパッタ用イオン源５２，５３、アシスト用イオ
ン源５４、これらイオン源５２、５３、５４の前面に設
けられた電荷中和用フィラメント５５，５６，５７、ス
パッタ用イオン源５２，５３の中間部に配設される基板
ホルダ５８、真空チェンバ５１に接続されたクライオポ
ンプ５９、真空チェンバ５１の内壁の所定の２ヵ所に設
置された真空計６０，６１、この真空計６０，６１のそ
れぞれに接続される図１に示した構成の既存の電離真空
計コントローラ６２、６３、真空計用圧力補正装置６
４，６５、クライオポンプ５７にバルブ６６を介して接
続されたロータリーポンプ６７、スパッタ用イオン源５
８，５９の電源装置６８，６９、アシスト用イオン源５
４の電源装置７０、スパッタ用イオン源５２，５３にア
ルゴンガスを供給するアルゴンガス源７１、アシスト用
イオン源５４にガスを供給するガス導入系７２を備えて
いる。

【００２９】図２において、スパッタリングを行う場
合、まず、基板ホルダ５８に基板（半導体ウェハ）７３
を装着し、真空チェンバ５１内のスパッタ用イオン源５
２，５３に対向する位置に金属によるターゲット７４，
７５を設置する。次いで、ポンプにより真空チェンバ５
１内を超高真空状態にし、この状態を維持する。圧力
は、自己補正機能付真空計６０，６１によって測定され
る。次に、電源装置６８，６９，７０を稼働させ、同時
に、アルゴンガス源７１及びガス導入系７２からガスを
供給する。アシスト用イオン源５４により基板７３の表
面を清浄化する。その後、スパッタ用イオン源５２，５
３からターゲット７４，７５に向けてアルゴンビームを
照射し、ターゲット７４，７５から基板７３に向けてス
パッタされたターゲット物質粒子が飛翔し、これが基板
７３上に被着することにより、薄膜が形成される。その
際、ガス流量や圧力を制御する必要があるが、図１で説
明したように、正確な圧力補正が行われる。

【００３０】図３は、本発明の真空計用圧力補正装置の
第２の適用例を示す斜視図である。図３は電子貯蔵リン
グにおける真空計取り付け部が示され、電子ビームが通
過するチェンバ８１の所定位置に自己補正機能付真空計
９０が取り付けられている。チェンバ８１の所定位置に
は、受光体８２が設置されており、この近傍に排気口８
３が設けられている。自己補正機能付真空計９０は排気
口８３に付属した真空計取付口９１に取り付けられてい
る。自己補正機能付真空計９０には、図示を省略してい
るが、図１に示した構成の電離真空計コントローラと補
正装置が接続され、圧力測定値の補正を行っている。

【００３１】図３の構成において、チェンバ８１と排気
口８３は連通しており、不図示の真空ポンプが接続され
ている。真空ポンプを稼働させると、排気口８３を通じ
てチェンバ８１内が所定の真空にされ、その圧力が自己
補正機能付真空計９０によって測定される。この自己補
正機能付真空計９０は、前記従来技術において説明した
ように、外部から流入する荷電粒子の影響を受ける。し
かし、本発明に係る真空計用圧力補正装置を付加するこ
とにより、外部から流入する荷電粒子による圧力の影響
を防げ、圧力値を正確に測定することができる。

【００３２】なお、図１においては、ＩＣ、ＬＳＩ等の
個別部品により真空計用圧力補正装置を構成したが、ワ
ンチップマイクロコンピュータ等を用いて補正装置を構
成することもできる。また、汎用のパーソナルコンピュ
ータを用い、ソフト的に処理することも可能である。本
発明は、このほか、その基本的技術思想を逸脱しない範
囲で種々設計変更することができる。

【００３３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の真空計用
圧力補正装置によれば、補正電極を備えた自己補正機能
付真空計に接続された電離真空計コントローラからの圧
力情報、不揮発性メモリによる情報、及び自己補正機能
付真空計の電極形状係数に基づいてコレクタに流入した
荷電粒子を算出し、電離真空計コントローラの圧力表示
値を補正する構成にしたので、在来の電離真空計コント
ローラに簡単に補正機能を付加できるようになり、既設
の電離真空計コントローラの有効利用が可能になり、経
済性と汎用性を備えた真空計用圧力補正装置の提供が可
能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る真空計用圧力補正装
置の構成を示すブロック図である。

【図２】本発明の真空計用圧力補正装置の第１の適用例
を示す構成図である。

【図３】本発明の真空計用圧力補正装置の第２の適用例
を示す斜視図である。

【図４】電子貯蔵リングの圧力測定に用いられている電
離真空計の側面図である。

【図５】補正電極を備えた自己補正機能付電離真空計を
示す側面図である。

【図６】従来の補正回路付真空計コントローラの構成を
示すブロック図である。

【符号の説明】

１，７入力端子３０真空計用圧力補正装置３１，３６差動アンプ３２Ａ／Ｄ変換器３３ＲＯＭ３４Ｄ／Ａ変換器３５，３７ＤＣアンプ３８差圧計算演算回路３９補正圧力表示部９０，１１０自己補正機能付真空計１００従来の電離真空計１０２コレクタ１０３グリッド１０４フィラメント１０５補正電極１５０電離真空計コントローラ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平10−38739（ＪＰ，Ａ) 特開昭63−151834（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G01L 21/32

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】グリッドと外部からの荷電粒子を検出す
る補正電極が附設された電離真空計に接続され、前記電
離真空計のコレクタ電流を電圧値に変換する電離真空計
コントローラと併用される真空計用圧力補正装置におい
て、前記電離真空計自身によって発生し前記補正電極に
流入する荷電粒子電流の電圧変換値を、前記電離真空計
コントローラの圧力情報から演算する変換テーブルを備
える不揮発メモリと、前記不揮発メモリの出力を電流値
に変換し、この電流変換値と前記補正電極で検出した電
流値の偏差を求め、前記電離真空計の電極形状係数に基
づいて補正されたコレクタ流入電流値の偏差を算出して
圧力換算し、前記電離真空計コントローラからの圧力値
を補正して表示する補正表示手段とを備え、前記変換テ
ーブルは、予め外部からの荷電粒子の存在しない環境下
で、前記電離真空計を用いて測定した圧力に対応して補
正電極に流入する荷電粒子電流の電圧変換値を求めるこ
とによって、前記電離真空計コントローラの圧力情報か
ら前記補正電極に流入する荷電粒子電流の電圧変換値を
演算可能とすることを特徴とする真空計用圧力補正装
置。
【請求項２】前記補正表示手段は、前記電離真空計コ
ントローラからのアナログによる圧力情報をデジタル信
号に変換するＡ／Ｄ変換器と、前記デジタル変換された
圧力情報から前記補正電極へ流入した荷電粒子電流の電
圧変換値を演算する不揮発メモリの出力をアナログ信号
に変換するＤ／Ａ変換器と、前記Ｄ／Ａ変換器の出力信
号を増幅する第１の増幅器と、前記補正電極からの検出
値を増幅する第２の増幅器と、前記第１及び第２の増幅
器の出力信号の偏差を求める第１の差動増幅器と、この
第１の差動増幅器の出力信号を差圧に換算する演算回路
と、前記電離真空計コントローラの圧力情報と前記差圧
との偏差を求める第２の差動増幅器と、補正した最終圧
力を表示する補正圧力表示部とを備えたことを特徴とす
る請求項１記載の真空計用補正装置。