JP3484146B2 - 干渉測長機 - Google Patents
干渉測長機Info
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- JP3484146B2 JP3484146B2 JP2000216463A JP2000216463A JP3484146B2 JP 3484146 B2 JP3484146 B2 JP 3484146B2 JP 2000216463 A JP2000216463 A JP 2000216463A JP 2000216463 A JP2000216463 A JP 2000216463A JP 3484146 B2 JP3484146 B2 JP 3484146B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は干渉測長機、特にレ
ーザ光路が真空状態に維持された干渉測長機に関する。
ーザ光路が真空状態に維持された干渉測長機に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、波長精度安定化のためレーザ
光路を真空状態に維持した干渉測長機が知られている。
光路を真空状態に維持した干渉測長機が知られている。
【０００３】図６（ａ）には、従来の干渉測長機の構成
が示されている。ベース１０上に基準真空槽１２及び移
動真空槽１６が設けられ、基準真空槽１２と移動真空槽
１６はその内部が真空状態に維持されたベローズ２１で
結合されている。基準真空槽１２はベース１０上の所定
位置に固定され、干渉光を射出する光源１４を有してい
る。移動真空槽１６は光源１４からのレーザ光の光路に
沿ってベース１０上を移動可能なようにガイド２０を有
している。移動真空槽１６の内部には光源１４からのレ
ーザ光を反射する反射鏡１８が設けられている。基準真
空槽１２及び移動真空槽１６の内部はともに真空状態に
維持される。光源１４からの光は基準真空槽１２、ベロ
ーズ２１、移動真空槽１６の順に進行し、反射鏡１８で
反射され、再び基準真空槽１２に戻る。光源１４からの
レーザ光の光路は全て真空状態に維持され、大気の屈折
率の変動などによる影響を除去して高精度の測長が可能
となる。
が示されている。ベース１０上に基準真空槽１２及び移
動真空槽１６が設けられ、基準真空槽１２と移動真空槽
１６はその内部が真空状態に維持されたベローズ２１で
結合されている。基準真空槽１２はベース１０上の所定
位置に固定され、干渉光を射出する光源１４を有してい
る。移動真空槽１６は光源１４からのレーザ光の光路に
沿ってベース１０上を移動可能なようにガイド２０を有
している。移動真空槽１６の内部には光源１４からのレ
ーザ光を反射する反射鏡１８が設けられている。基準真
空槽１２及び移動真空槽１６の内部はともに真空状態に
維持される。光源１４からの光は基準真空槽１２、ベロ
ーズ２１、移動真空槽１６の順に進行し、反射鏡１８で
反射され、再び基準真空槽１２に戻る。光源１４からの
レーザ光の光路は全て真空状態に維持され、大気の屈折
率の変動などによる影響を除去して高精度の測長が可能
となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図６
（ｂ）に示されるように、移動真空槽１６が釣り合い位
置から距離ｘ１だけ光路に沿って移動すると、ベローズ
２１の有する弾性係数（バネ定数）ｋ１により基準真空
槽１２にはＦ１＝ｋ１・ｘ１なる弾性力が作用する。こ
の弾性力Ｆ１により基準真空槽１２には変位δ１及び傾
きθ１が発生する。この変位Δ１及び傾きθ１は、移動
真空槽１６の位置に伴って変動する。
（ｂ）に示されるように、移動真空槽１６が釣り合い位
置から距離ｘ１だけ光路に沿って移動すると、ベローズ
２１の有する弾性係数（バネ定数）ｋ１により基準真空
槽１２にはＦ１＝ｋ１・ｘ１なる弾性力が作用する。こ
の弾性力Ｆ１により基準真空槽１２には変位δ１及び傾
きθ１が発生する。この変位Δ１及び傾きθ１は、移動
真空槽１６の位置に伴って変動する。
【０００５】このように、移動真空槽１６の移動に伴っ
て基準真空槽１２には変位及び傾きが発生するため、基
準真空槽１２に固定された光源１４の位置も変動し、光
路が変動して干渉不能もしくは測長精度が低下してしま
う問題があった。
て基準真空槽１２には変位及び傾きが発生するため、基
準真空槽１２に固定された光源１４の位置も変動し、光
路が変動して干渉不能もしくは測長精度が低下してしま
う問題があった。
【０００６】本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑
みなされたものであり、その目的は、移動真空槽が光路
に沿って移動しても光源の位置変動を防ぎ、高精度の測
長を可能とする装置を提供することにある。
みなされたものであり、その目的は、移動真空槽が光路
に沿って移動しても光源の位置変動を防ぎ、高精度の測
長を可能とする装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ベースと、干渉光源を有し前記ベースに
固定される基準真空槽と、前記干渉光源からの光を反射
する反射鏡を有し、前記ベース上を前記光の光路に沿っ
て移動する移動真空槽と、前記ベースの前記基準真空槽
と前記移動真空槽との間に固定され、前記光路の一部を
なす緩衝真空槽とを有し、前記緩衝真空槽と前記移動真
空槽との間の光路は、その内部が真空に維持され第１弾
性係数を有する第１弾性部材で構成され、前記緩衝真空
槽と前記基準真空槽との間の光路は、その内部が真空に
維持され前記第１弾性係数以下の第２弾性係数を有する
第２弾性部材で構成されることを特徴とする。前記第１
弾性部材及び第２弾性部材はベローズであることが好適
である。
に、本発明は、ベースと、干渉光源を有し前記ベースに
固定される基準真空槽と、前記干渉光源からの光を反射
する反射鏡を有し、前記ベース上を前記光の光路に沿っ
て移動する移動真空槽と、前記ベースの前記基準真空槽
と前記移動真空槽との間に固定され、前記光路の一部を
なす緩衝真空槽とを有し、前記緩衝真空槽と前記移動真
空槽との間の光路は、その内部が真空に維持され第１弾
性係数を有する第１弾性部材で構成され、前記緩衝真空
槽と前記基準真空槽との間の光路は、その内部が真空に
維持され前記第１弾性係数以下の第２弾性係数を有する
第２弾性部材で構成されることを特徴とする。前記第１
弾性部材及び第２弾性部材はベローズであることが好適
である。
【０００８】基準真空槽と移動真空槽をベローズなどの
弾性体で直接結合するのではなく、その間に緩衝真空槽
を設け、移動真空槽の移動により生じる弾性力を吸収す
ることで、基準真空槽の変位や傾きを抑制し、光源の位
置変動を抑えることができる。
弾性体で直接結合するのではなく、その間に緩衝真空槽
を設け、移動真空槽の移動により生じる弾性力を吸収す
ることで、基準真空槽の変位や傾きを抑制し、光源の位
置変動を抑えることができる。
【０００９】また、本発明は、ベースと、干渉光源を有
し、前記ベースに固定される基準真空槽と、前記干渉光
源からの光を反射する反射鏡を有し、前記ベース上を前
記光の光路に沿って移動する移動真空槽と、前記ベース
の前記基準真空槽と前記移動真空槽との間に固定され、
前記基準真空槽の一部と遊嵌結合し光路の一部を形成す
る緩衝支持部材と、を有し、前記緩衝支持部材と前記移
動真空槽との間の光路は、その内部が真空に維持される
弾性部材で構成され、前記緩衝支持部材と前記基準真空
槽との遊嵌結合部には、遊嵌状態を維持しつつ光路の真
空を維持する少なくとも一周以上の粘性流体層が配置さ
れることを特徴とする。前記弾性部材はベローズである
ことが好適であり、前記粘性流体層は磁性流体で形成さ
れることが好適である。
し、前記ベースに固定される基準真空槽と、前記干渉光
源からの光を反射する反射鏡を有し、前記ベース上を前
記光の光路に沿って移動する移動真空槽と、前記ベース
の前記基準真空槽と前記移動真空槽との間に固定され、
前記基準真空槽の一部と遊嵌結合し光路の一部を形成す
る緩衝支持部材と、を有し、前記緩衝支持部材と前記移
動真空槽との間の光路は、その内部が真空に維持される
弾性部材で構成され、前記緩衝支持部材と前記基準真空
槽との遊嵌結合部には、遊嵌状態を維持しつつ光路の真
空を維持する少なくとも一周以上の粘性流体層が配置さ
れることを特徴とする。前記弾性部材はベローズである
ことが好適であり、前記粘性流体層は磁性流体で形成さ
れることが好適である。
【００１０】基準真空槽と移動真空槽をベローズなどの
弾性体で直接結合するのではなく、その間に緩衝支持部
材を設け、その緩衝支持部材と基準真空槽とを遊嵌結合
状態で組み合わせ、その遊嵌結合部に粘性流体層を配置
することにより光路の真空を維持しつつ移動真空槽の移
動により生じる弾性力を粘性流体層で吸収する。その結
果、移動真空槽側の変位や傾きが基準真空槽側に伝わる
ことを著しく抑制し、光源の位置変動を抑えることが可
能で、高精度の測長が可能となる。粘性流体層を磁性流
体で形成する場合、遊嵌結合部を着磁しておけば、弾性
力に応じて任意に移動変形し、光路の真空を維持しつつ
弾性力を吸収するという流体の特性を活かしつつ、遊嵌
結合部に当該磁性流体の保持を安定的に行うことができ
る。
弾性体で直接結合するのではなく、その間に緩衝支持部
材を設け、その緩衝支持部材と基準真空槽とを遊嵌結合
状態で組み合わせ、その遊嵌結合部に粘性流体層を配置
することにより光路の真空を維持しつつ移動真空槽の移
動により生じる弾性力を粘性流体層で吸収する。その結
果、移動真空槽側の変位や傾きが基準真空槽側に伝わる
ことを著しく抑制し、光源の位置変動を抑えることが可
能で、高精度の測長が可能となる。粘性流体層を磁性流
体で形成する場合、遊嵌結合部を着磁しておけば、弾性
力に応じて任意に移動変形し、光路の真空を維持しつつ
弾性力を吸収するという流体の特性を活かしつつ、遊嵌
結合部に当該磁性流体の保持を安定的に行うことができ
る。
【００１１】また、本発明は、ベースと、前記ベースに
固定される干渉光源と、前記ベースに固定され前記干渉
光源を収納しその内部を真空に維持する基準真空槽と、
前記干渉光源からの光を反射する反射鏡を有し、前記ベ
ース上を前記光の光路に沿って移動する移動真空槽とを
有し、前記基準真空槽と前記移動真空槽との間の光路
は、その内部が真空に維持される弾性部材で構成される
ことを特徴とする。前記弾性部材はベローズであること
が好適である。
固定される干渉光源と、前記ベースに固定され前記干渉
光源を収納しその内部を真空に維持する基準真空槽と、
前記干渉光源からの光を反射する反射鏡を有し、前記ベ
ース上を前記光の光路に沿って移動する移動真空槽とを
有し、前記基準真空槽と前記移動真空槽との間の光路
は、その内部が真空に維持される弾性部材で構成される
ことを特徴とする。前記弾性部材はベローズであること
が好適である。
【００１２】光源を基準真空槽に固定するのではなく、
ベースに固定することで、移動真空槽の移動に伴って基
準真空槽に変位や傾きが生じても、ベースに固定されて
いる光源には影響を与えず（ベースを介して生じる変位
等は極めて微小）、高精度の測長が可能となる。
ベースに固定することで、移動真空槽の移動に伴って基
準真空槽に変位や傾きが生じても、ベースに固定されて
いる光源には影響を与えず（ベースを介して生じる変位
等は極めて微小）、高精度の測長が可能となる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明の実施
形態について説明する。
形態について説明する。
【００１４】図１（ａ）には、本実施形態の構成図が示
されている。ベース１０上に基準真空槽１２が固定さ
れ、移動真空槽１６はガイド２０によりベース１０上を
光路に沿って移動する。基準真空槽１２は光源１４を有
し、反射鏡１８は光源１４からのレーザ光を反射する反
射鏡を有している。基準真空槽１２及び移動真空槽１６
の構成は図６に示された従来技術と同一である。
されている。ベース１０上に基準真空槽１２が固定さ
れ、移動真空槽１６はガイド２０によりベース１０上を
光路に沿って移動する。基準真空槽１２は光源１４を有
し、反射鏡１８は光源１４からのレーザ光を反射する反
射鏡を有している。基準真空槽１２及び移動真空槽１６
の構成は図６に示された従来技術と同一である。
【００１５】一方、基準真空槽１２と移動真空槽１６の
間のベース１０上には緩衝真空槽を形成する緩衝支持部
２２が固定され、緩衝支持部２２と移動真空槽１６との
間の光路は弾性係数ｋ１の第１弾性体２４で構成され、
緩衝支持部２２と基準真空槽１２との間の光路は弾性係
数ｋ２（但し、ｋ１≧ｋ２）の第２弾性体２６で構成さ
れる。基準真空槽１２、移動真空槽１６、緩衝支持部２
２の内部は真空状態に維持され、第１弾性体２４及び第
２弾性体２６の内部も真空状態に維持される。したがっ
て、光源１４から射出したレーザ光は真空中を進行して
反射鏡１８に到達し、反射鏡１８で反射して再び真空中
を進行して基準真空槽１２に入射する。なお、緩衝真空
槽とは、基準真空槽１２と移動真空槽１６との間に存在
し緩衝機能を果たす空間を指し、その空間容積は任意で
ある。
間のベース１０上には緩衝真空槽を形成する緩衝支持部
２２が固定され、緩衝支持部２２と移動真空槽１６との
間の光路は弾性係数ｋ１の第１弾性体２４で構成され、
緩衝支持部２２と基準真空槽１２との間の光路は弾性係
数ｋ２（但し、ｋ１≧ｋ２）の第２弾性体２６で構成さ
れる。基準真空槽１２、移動真空槽１６、緩衝支持部２
２の内部は真空状態に維持され、第１弾性体２４及び第
２弾性体２６の内部も真空状態に維持される。したがっ
て、光源１４から射出したレーザ光は真空中を進行して
反射鏡１８に到達し、反射鏡１８で反射して再び真空中
を進行して基準真空槽１２に入射する。なお、緩衝真空
槽とは、基準真空槽１２と移動真空槽１６との間に存在
し緩衝機能を果たす空間を指し、その空間容積は任意で
ある。
【００１６】このような構成において、図１（ｂ）に示
されるように、移動真空槽１６が釣り合い位置よりｘ１
だけ移動すると、緩衝支持部２２には第１弾性体２４の
弾性係数ｋ１に応じた力が作用し、具体的にはＦ１＝ｋ
１・ｘ１なる弾性力が作用する。緩衝支持部２２の剛性
が基準真空槽１２の剛性と同等である場合、緩衝支持部
２２に発生する変位と傾きは図５（ｂ）に示されたよう
に変位δ１、傾きθ１となる。
されるように、移動真空槽１６が釣り合い位置よりｘ１
だけ移動すると、緩衝支持部２２には第１弾性体２４の
弾性係数ｋ１に応じた力が作用し、具体的にはＦ１＝ｋ
１・ｘ１なる弾性力が作用する。緩衝支持部２２の剛性
が基準真空槽１２の剛性と同等である場合、緩衝支持部
２２に発生する変位と傾きは図５（ｂ）に示されたよう
に変位δ１、傾きθ１となる。
【００１７】一方、緩衝支持部２２に生じた変位δ１に
より基準真空槽１２にも第２弾性体２６の弾性係数に応
じた力が作用し、基準真空槽１２に作用する力はＦ２＝
ｋ２・δ１となる。この力Ｆ２に起因して基準真空槽１
２には変位δ２及び傾きθ２が生じ、この変位δ２と傾
きθ２により測長基準となる光源１４に位置変動が生じ
る。
より基準真空槽１２にも第２弾性体２６の弾性係数に応
じた力が作用し、基準真空槽１２に作用する力はＦ２＝
ｋ２・δ１となる。この力Ｆ２に起因して基準真空槽１
２には変位δ２及び傾きθ２が生じ、この変位δ２と傾
きθ２により測長基準となる光源１４に位置変動が生じ
る。
【００１８】ここで、緩衝支持部２２に作用する力Ｆ１
と基準真空槽１２に作用する力Ｆ２を比較すると、ｋ１
≧ｋ２、かつｘ１＞δ１であるから、Ｆ１＞Ｆ２とな
り、基準真空槽１２に生ずる変位δ２と傾きθ２は、そ
れぞれδ１＞δ２、θ１＞θ２と従来より小さく抑える
ことが可能となり、光源１４の位置変動を低く抑えるこ
とが可能となる。
と基準真空槽１２に作用する力Ｆ２を比較すると、ｋ１
≧ｋ２、かつｘ１＞δ１であるから、Ｆ１＞Ｆ２とな
り、基準真空槽１２に生ずる変位δ２と傾きθ２は、そ
れぞれδ１＞δ２、θ１＞θ２と従来より小さく抑える
ことが可能となり、光源１４の位置変動を低く抑えるこ
とが可能となる。
【００１９】図２には、本実施形態の他の構成が示され
ている。図１の構成において第１弾性体２４をベローズ
２５で構成し、第２弾性体２６もベローズ２７で構成し
た場合である。第１弾性体を構成するベローズ２５の弾
性係数ｋ１と第２弾性体を構成するベローズ２７の弾性
係数ｋ２との間には、ｋ１≧ｋ２の関係がある。緩衝支
持部２２と移動真空槽１６との間の光路をベローズで構
成するとともに、緩衝支持部２２と基準真空槽１２との
間の光路もベローズで構成することで、弾性係数やスト
ロークを比較的自由に設定することができ、装置を容易
に構成することができる。なお、ベローズの材質として
は、例えばステンレス（ＳＵＳ３１６／３０４など）を
用いることができる。
ている。図１の構成において第１弾性体２４をベローズ
２５で構成し、第２弾性体２６もベローズ２７で構成し
た場合である。第１弾性体を構成するベローズ２５の弾
性係数ｋ１と第２弾性体を構成するベローズ２７の弾性
係数ｋ２との間には、ｋ１≧ｋ２の関係がある。緩衝支
持部２２と移動真空槽１６との間の光路をベローズで構
成するとともに、緩衝支持部２２と基準真空槽１２との
間の光路もベローズで構成することで、弾性係数やスト
ロークを比較的自由に設定することができ、装置を容易
に構成することができる。なお、ベローズの材質として
は、例えばステンレス（ＳＵＳ３１６／３０４など）を
用いることができる。
【００２０】図３には、本実施形態の他の構成が示され
ている。図２の構成例と異なる点は、緩衝支持部２２と
基準真空槽１２との間の光路をベローズではなくＯリン
グ２８で構成した点である。Ｏリング２８は基準真空槽
１２の緩衝支持部２２に対向する位置（緩衝支持部２２
から筒状の突出部内周と基準真空槽１２から突出した筒
状の突出部外周との間）に設けられ、緩衝支持部２２の
凹部に嵌合する。ここで、緩衝支持部２２とＯリング２
８の組み合わせにより図１及び図２に示す緩衝支持部２
２と第二弾性体２６またはベローズ２７を組み合わせた
時と同等の機能を果たす。なお、Ｏリングはゴムで構成
され、ベローズに比べて弾性係数やストロークに関する
自由度は少ないものの、ベローズに比べてより安価で装
置を小型化することが可能となる。
ている。図２の構成例と異なる点は、緩衝支持部２２と
基準真空槽１２との間の光路をベローズではなくＯリン
グ２８で構成した点である。Ｏリング２８は基準真空槽
１２の緩衝支持部２２に対向する位置（緩衝支持部２２
から筒状の突出部内周と基準真空槽１２から突出した筒
状の突出部外周との間）に設けられ、緩衝支持部２２の
凹部に嵌合する。ここで、緩衝支持部２２とＯリング２
８の組み合わせにより図１及び図２に示す緩衝支持部２
２と第二弾性体２６またはベローズ２７を組み合わせた
時と同等の機能を果たす。なお、Ｏリングはゴムで構成
され、ベローズに比べて弾性係数やストロークに関する
自由度は少ないものの、ベローズに比べてより安価で装
置を小型化することが可能となる。
【００２１】図４（ａ）には、図３の実施形態のさらな
る変形例が示されている。図３の構成例と異なる点は、
Ｏリング２８に代えて、粘性流体で形成される粘性流体
層、好ましくは、磁性流体で形成される磁性流体シール
部２９を配置しているところである。また、基準真空層
１２から光路に沿って延びる筒状の突出部１２ａと緩衝
支持部２２から光路に沿って延びる筒状の突出部２２ａ
とは、遊嵌結合（遊びを持った状態で結合）され、その
遊嵌結合部に磁性流体シール部２９が少なくとも一周以
上、本実施形態では２周、配置されて、真空シールを形
成している。なお、図４（ａ）の場合、突出部１２ａの
内周面に磁性流体シール部２９を支持するために着磁さ
れたステイ１２ｂが形成されている。この場合も緩衝支
持部２２と磁性流体シール部２９の組み合わせによっ
て、図１及び図２に示す緩衝支持部２２と第二弾性体２
６またはベローズ２７を組み合わせた時と同等の機能を
果たしている。
る変形例が示されている。図３の構成例と異なる点は、
Ｏリング２８に代えて、粘性流体で形成される粘性流体
層、好ましくは、磁性流体で形成される磁性流体シール
部２９を配置しているところである。また、基準真空層
１２から光路に沿って延びる筒状の突出部１２ａと緩衝
支持部２２から光路に沿って延びる筒状の突出部２２ａ
とは、遊嵌結合（遊びを持った状態で結合）され、その
遊嵌結合部に磁性流体シール部２９が少なくとも一周以
上、本実施形態では２周、配置されて、真空シールを形
成している。なお、図４（ａ）の場合、突出部１２ａの
内周面に磁性流体シール部２９を支持するために着磁さ
れたステイ１２ｂが形成されている。この場合も緩衝支
持部２２と磁性流体シール部２９の組み合わせによっ
て、図１及び図２に示す緩衝支持部２２と第二弾性体２
６またはベローズ２７を組み合わせた時と同等の機能を
果たしている。
【００２２】磁性流体による真空シールは、そのシール
性が破綻しない範囲でシールを形成する部材間の相対運
動が可能であり、現段階の磁性流体技術によれば、磁性
流体による真空シールは、緩衝支持部２２と基準真空槽
１２の間で、図４（ａ）の光軸方向に約１００μｍ程度
のストロークを与えても機能を維持することが可能であ
る。
性が破綻しない範囲でシールを形成する部材間の相対運
動が可能であり、現段階の磁性流体技術によれば、磁性
流体による真空シールは、緩衝支持部２２と基準真空槽
１２の間で、図４（ａ）の光軸方向に約１００μｍ程度
のストロークを与えても機能を維持することが可能であ
る。
【００２３】従って、ベローズ２５の伸縮に起因する力
によって緩衝支持部２２が弾性変形することで発生する
変位δ１を、前記ストローク以下に抑えるように緩衝支
持部２２を構築することにより、緩衝支持部２２と基準
真空槽１２とを真空状態を維持したまま、両者を実質的
な非接触状態（両者が自由に動ける状態）で結合でき
る。その結果、図４（ｂ）に示すように、緩衝支持部２
２の弾性変形による変位δ１や傾きθ１は、磁性流体シ
ール部２９により、そのほとんどが吸収され、基準真空
槽１２の変位δ３は、図１や図２に示す第２弾性体２６
やベローズ２７を使用した場合のδ２に比べ、著しく少
なくすることができる。緩衝支持部２２の構築や磁性流
体の選定等により変位δ３を限りなく少なくして無視し
うる程度に抑えることもできる。その結果、光源１４の
変位抑制をさらに強力に行うことが可能で、更に干渉測
長機の測長精度の向上を行うことができる。なお、ステ
イ１２ｂを着磁することにより磁性流体シール部２９を
構成する磁性流体の上述した特性を活かしつつ所定位置
に安定的に保持することができるので、安定的な真空維
持と弾性力の吸収を行うことができる。
によって緩衝支持部２２が弾性変形することで発生する
変位δ１を、前記ストローク以下に抑えるように緩衝支
持部２２を構築することにより、緩衝支持部２２と基準
真空槽１２とを真空状態を維持したまま、両者を実質的
な非接触状態（両者が自由に動ける状態）で結合でき
る。その結果、図４（ｂ）に示すように、緩衝支持部２
２の弾性変形による変位δ１や傾きθ１は、磁性流体シ
ール部２９により、そのほとんどが吸収され、基準真空
槽１２の変位δ３は、図１や図２に示す第２弾性体２６
やベローズ２７を使用した場合のδ２に比べ、著しく少
なくすることができる。緩衝支持部２２の構築や磁性流
体の選定等により変位δ３を限りなく少なくして無視し
うる程度に抑えることもできる。その結果、光源１４の
変位抑制をさらに強力に行うことが可能で、更に干渉測
長機の測長精度の向上を行うことができる。なお、ステ
イ１２ｂを着磁することにより磁性流体シール部２９を
構成する磁性流体の上述した特性を活かしつつ所定位置
に安定的に保持することができるので、安定的な真空維
持と弾性力の吸収を行うことができる。
【００２４】図５には、本実施形態のさらに他の構成が
示されている。図６と比較して、ベース１０上に基準真
空槽１２が固定され、基準真空槽１２と移動真空槽１６
はベローズ２１で構成され、移動真空槽１６が光路に沿
ってガイド２０によりベース１０上を移動する点は共通
する。
示されている。図６と比較して、ベース１０上に基準真
空槽１２が固定され、基準真空槽１２と移動真空槽１６
はベローズ２１で構成され、移動真空槽１６が光路に沿
ってガイド２０によりベース１０上を移動する点は共通
する。
【００２５】一方、この構成においては、光源１４が基
準真空槽１２に固定されるのではなく、基準真空槽１２
の内部でベース１０上に固定される点が異なる。すなわ
ち、光源１４は基準真空槽１２内でベース１０上に固定
された光源取付壁材３０に固定され、光源取付壁材３０
を介してベース１０上に固定されている。基準真空槽１
２は光源１４を収納し、基準真空槽１２と光源取付壁材
３０は直接的に結合されていない。
準真空槽１２に固定されるのではなく、基準真空槽１２
の内部でベース１０上に固定される点が異なる。すなわ
ち、光源１４は基準真空槽１２内でベース１０上に固定
された光源取付壁材３０に固定され、光源取付壁材３０
を介してベース１０上に固定されている。基準真空槽１
２は光源１４を収納し、基準真空槽１２と光源取付壁材
３０は直接的に結合されていない。
【００２６】このように、光源１４が基準真空槽１２で
はなくベース１０上に固定されているため、移動真空槽
１６が釣り合い位置から移動し、基準真空槽１２にベロ
ーズ２１の弾性力による変位δ１と傾きθ１が生じて
も、ベース１０に固定されている光源１４には影響を与
えず、したがって光路の変動がなく高精度の測長を維持
することができる。
はなくベース１０上に固定されているため、移動真空槽
１６が釣り合い位置から移動し、基準真空槽１２にベロ
ーズ２１の弾性力による変位δ１と傾きθ１が生じて
も、ベース１０に固定されている光源１４には影響を与
えず、したがって光路の変動がなく高精度の測長を維持
することができる。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば移
動真空槽が光路に沿ってベース上を移動しても、光源の
位置変動を抑え、高精度の干渉測長を行うことができ
る。
動真空槽が光路に沿ってベース上を移動しても、光源の
位置変動を抑え、高精度の干渉測長を行うことができ
る。
【図１】 本発明の実施形態の構成図である。
【図２】 実施形態の他の構成図である。
【図３】 実施形態のさらに他の構成図である。
【図４】 実施形態のさらに他の構成図である。
【図５】 実施形態のさらに他の構成図である。
【図６】 従来の干渉測長機の構成図である。
１０ ベース、１２ 基準真空槽、１４ 光源、１６
移動真空槽、１８ 反射鏡、２０ ガイド、２２ 緩衝
支持部、２４ 第１弾性体、２６ 第２弾性体。
移動真空槽、１８ 反射鏡、２０ ガイド、２２ 緩衝
支持部、２４ 第１弾性体、２６ 第２弾性体。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開2000−136907（ＪＰ，Ａ)
特開2000−55611（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−337309（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−166215（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−29122（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−167607（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−313002（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G01B 9/02
Claims (7)
- 【請求項１】 ベースと、 干渉光源を有し、前記ベースに固定される基準真空槽
と、 前記干渉光源からの光を反射する反射鏡を有し、前記ベ
ース上を前記光の光路に沿って移動する移動真空槽と、 前記ベースの前記基準真空槽と前記移動真空槽との間に
固定され、前記光路の一部をなす緩衝真空槽と、 を有し、 前記緩衝真空槽と前記移動真空槽との間の光路は、その
内部が真空に維持され第１弾性係数を有する第１弾性部
材で構成され、 前記緩衝真空槽と前記基準真空槽との間の光路は、その
内部が真空に維持され前記第１弾性係数以下の第２弾性
係数を有する第２弾性部材で構成されることを特徴とす
る干渉測長機。 - 【請求項２】 請求項１記載の干渉測長機において、 前記第１弾性部材及び第２弾性部材はベローズであるこ
とを特徴とする干渉測長機。 - 【請求項３】 ベースと、 干渉光源を有し、前記ベースに固定される基準真空槽
と、 前記干渉光源からの光を反射する反射鏡を有し、前記ベ
ース上を前記光の光路に沿って移動する移動真空槽と、 前記ベースの前記基準真空槽と前記移動真空槽との間に
固定され、前記基準真空槽の一部と遊嵌結合し光路の一
部を形成する緩衝支持部材と、 を有し、 前記緩衝支持部材と前記移動真空槽との間の光路は、そ
の内部が真空に維持される弾性部材で構成され、 前記緩衝支持部材と前記基準真空槽との遊嵌結合部に
は、遊嵌状態を維持しつつ光路の真空を維持する少なく
とも一周以上の粘性流体層が配置されることを特徴とす
る干渉測長機。 - 【請求項４】 請求項３記載の干渉測長機において、 前記弾性部材はベローズであることを特徴とする干渉測
長機。 - 【請求項５】 請求項３または請求項４記載の干渉測長
機において、 前記粘性流体層は、磁性流体で構成されることを特徴と
する干渉測長機。 - 【請求項６】 ベースと、 前記ベースに固定される干渉光源と、 前記ベースに固定され、前記干渉光源を収納しその内部
を真空に維持する基準真空槽と、 前記干渉光源からの光を反射する反射鏡を有し、前記ベ
ース上を前記光の光路に沿って移動する移動真空槽と、 を有し、前記基準真空槽と前記移動真空槽との間の光路
は、その内部が真空に維持される弾性部材で構成される
ことを特徴とする干渉測長機。 - 【請求項７】 請求項６記載の干渉測長機において、 前記弾性部材はベローズであることを特徴とする干渉測
長機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000216463A JP3484146B2 (ja) | 1999-12-22 | 2000-07-17 | 干渉測長機 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36377799 | 1999-12-22 | ||
| JP11-363777 | 1999-12-22 | ||
| JP2000216463A JP3484146B2 (ja) | 1999-12-22 | 2000-07-17 | 干渉測長機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001241915A JP2001241915A (ja) | 2001-09-07 |
| JP3484146B2 true JP3484146B2 (ja) | 2004-01-06 |
Family
ID=26581510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000216463A Expired - Fee Related JP3484146B2 (ja) | 1999-12-22 | 2000-07-17 | 干渉測長機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3484146B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102337509B (zh) * | 2010-07-23 | 2014-04-30 | 上海凯世通半导体有限公司 | 真空移动装置及方法 |
-
2000
- 2000-07-17 JP JP2000216463A patent/JP3484146B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001241915A (ja) | 2001-09-07 |
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