JP3470646B2 - Mos型イメージセンサ - Google Patents

Mos型イメージセンサ

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JP3470646B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はMOS型イメージセ
ンサに関し、特に、走査回路を駆動する駆動信号からの
雑音を低減したMOS型イメージセンサに関する。
【0002】
【従来の技術】MOS型イメージセンサはCCD(Char
ge Coupled Device)と比較し、簡単なプロセスで製造す
ることができ、このため低価格化が実現できることから
古くから開発が行われてきた。
【0003】特にMOSトランジスタとしてポリシリコ
ンTFT(多結晶シリコン薄膜トランジスタ)を用い、
フォトダイオードとしてアモルファス薄膜フォトダイオ
ードを用いることで、大型のガラス基板上にMOS型イ
メージセンサを製造することが可能となった。読みとり
原稿サイズとイメージセンサの読みとり幅を等しくで
き、光学系を大幅に簡略化できることから低価格・小型
スキャナが実現可能である。
【0004】図8に、ポリシリコンTFTを用いた走査
回路とアモルファス薄膜フォトダイオードをガラス基板
上に一体化させた従来のMOS型イメージセンサ800
のブロック図を示す。
【0005】このMOS型イメージセンサ800は、フ
ォトダイオード111、画素スイッチTFT112から
なる画素アレイ110と、インバータバッファ121,
122を縦続接続したN個のバッファからなるバッファ
アレイ120と、1ビットシフトレジスタ831を直列
接続したNビットの走査回路830と、シフトレジスタ
830にクロック信号C1,C2を供給するクロック信
号端子801,802と、シフトレジスタ830をスタ
ートさせるためのスタートパルスSTを供給するための
スタートパルス端子803とを備えている。
【0006】図9に、このMOS型イメージセンサ80
0を駆動する駆動回路910と、MOS型イメージセン
サ800からの出力信号を検出する検出回路900とを
含む回路構成の一例を示す。
【0007】図9において、MOS型イメージセンサ8
00を駆動する駆動回路910は、パルス信号を出力す
るパルス信号源911〜913と、走査回路830とバ
ッファアレイ120に電源を供給する電圧源914とか
ら構成される。
【0008】また、MOS型イメージセンサ800から
の出力信号を検出する検出回路900は、フォトダイオ
ード111にバイアス電圧を供給する電圧源950と、
フォトダイオード111から出力される電流を電圧に変
換する抵抗901と、抵抗901の一端の電圧Va’を
増幅する増幅器902と、この増幅器902の出力信号
を積分し、検出回路900の出力電圧Voutを出力す
る積分回路903とから構成される。
【0009】次に、図9に示した従来のMOS型イメー
ジセンサ800と従来の検出回路900の回路動作につ
いて、図10に示すタイミングチャートを参照して説明
する。
【0010】図10に示すように、時刻t1でスタート
信号ST、クロック信号C1,C2を走査回路831に
供給すると、1ビットシフトレジスタ831から構成さ
れる走査回路830は、出力端子O1,O2〜Onに、
クロック信号C1,C2に同期したパルスを順次出力す
る。このパルスはバッファアレイ120を構成するイン
バータバッファ121,122を介して画素スイッチT
FT112のゲートに印加される。
【0011】画素スイッチTFT112のゲートがハイ
レベルになると、画素スイッチTFT112が導通状態
となり、電圧源950からフォトダイオード111に向
かって充電電流が流れる。この充電電流を積分した電荷
量は、フォトダイオード111に照射された光量にほぼ
比例しているので、充電電流を積分することによりフォ
トダイオード111に照射された光量を検出ことができ
る。
【0012】検出回路900を構成する抵抗901は、
フォトダイオード111から出力される充電電流を電圧
変換し、電圧Va’を生成する。増幅器902は、入力
電圧Va’を電圧増幅し積分回路903に出電圧Vb’
として出力する。最後に、積分回路903は、出力電圧
Vb’を積分して得られるフォトダイオード111に照
射された光量に比例した出力電圧Voutを出力する。
【0013】上記の動作を全ての画素に対して行い、さ
らにスタートパルスSTを一定の周期で印加し、画素の
ピッチと同じ距離だけ原稿を画素アレイ111の配列方
向と垂直な方向に移動させることで、2次元画像を読み
とることが可能となる。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のMOS
型イメージセンサ800に対して、駆動回路910によ
りクロック信号C1,C2及びスタートパルスSTを供
給し、検出回路900でフォトダイオード111に照射
された光量を検出しようとすると、以下のような問題が
生じる。
【0015】ポリシリコンTFTまたはアモルファスシ
リコンTFTは、単結晶上に形成したMOSFETに対
して、FETの移動度が低く(約1/6以下)、かつし
きい値電圧も通常のMOSFETの0.6〜0.8Vに
対して、2〜3Vと高い。このため、ポリシリコンTF
TまたはアモルファスシリコンTFTを用いて走査回路
830,バッファアレイ120を構成したMOS型イメ
ージセンサ800は、これらの回路の回路速度を上げる
ために、駆動電圧を高くする必要がある。
【0016】そのため、MOS型イメージセンサ800
に供給するクロック信号C1,C2の電圧も高くなり、
フォトダイオード111からの出力電流を流す読み出し
配線151にパルス性のノイズが混入しやすい。
【0017】さらに、MOS型イメージセンサ800の
サイズが読みとり原稿幅と同じである場合、クロック信
号C1,C2の配線長は10cm〜30cm程度と非常
に長くなり、またクロック信号配線と読み出し配線15
1は、1mm〜2mmの距離をおいて平行して配置され
るので、クロック信号配線と読み出し配線間の寄生容量
は、数十pF〜数百pF程度と非常に大きくなる。
【0018】従って、クロック信号C1,C2から、こ
の寄生容量を介して読み出し配線151に混入するノイ
ズは、クロック信号の電圧変化分の微分量に比例した高
い周波数となる。
【0019】また、フォトダイオード111からの出力
信号は、クロック信号C1,C2の変化点とほぼ同じタ
イミングで出力され、クロック信号配線と読み出し配線
間151間の寄生容量を介して混入するノイズと同じく
高周波成分を含むため、ノイズとフォトダイオード11
1からの出力信号を分離するのが困難であり、MOS型
イメージセンサのS/N比が小さくなるという問題点が
あった。
【0020】このことを図10を参照してより具体的に
説明すると、時刻t1で、バッファアレイ120を構成
する左端のバッファが活性化され、左端の画素スイッチ
TFT112が導通する。左端のフォトダイオード11
1から出力される充電電流と、クロック信号C1の立ち
上がりエッジ、クロック信号C2の立ち下がりエッジに
含まれる高調波成分がクロック信号配線と読み出し配線
間151間の寄生容量を介して混入するノイズとが加算
され、抵抗901に流れる。
【0021】従って、Aで示す部分の電圧は、フォトダ
イオード111からの出力信号と寄生容量を介して混入
するノイズとが加算された電圧値であり、両方を分離す
ることはできない。
【0022】一方、時刻t2において、全ての画素スイ
ッチTFTはオフしているのでフォトダイオード111
からの出力信号は流れず、Bに示す電圧波形はクロック
信号C1の立ち下がりエッジ、クロック信号C2の立ち
上がりエッジに含まれる高調波成分がクロック信号配線
と読み出し配線間151間の寄生容量を介して混入する
ノイズ成分のみとなる。
【0023】このため、本発明によるMOS型イメージ
センサの目的は、駆動回路から出力される駆動信号によ
って発生する雑音を低減したMOS型イメージセンサ提
供することにある。すなわち、信号対雑音比(S/N
比)を向上したMOS型イメージセンサを提供すること
にある。
【0024】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明による
MOS型イメージセンサは、入射光の光量を信号電荷に
変換するフォトダイオードと、このフォトダイオードの
アノード又はカソードに一端を接続し他端に接続する光
電変換部出力端子から前記信号電荷を出力するスイッチ
とを含む第1乃至第N(Nは2以上の整数)の光電変換
部と、N個の前記光電変換部出力端子に接続する読み出
し配線と、交流信号であるクロック信号を伝達するクロ
ック信号配線と、前記クロック信号配線を介して印加さ
れた前記クロック信号を波形整形して生成した矩形波を
出力する波形整形回路と、スタートパルス信号を入力
し、前記矩形波に応答して、前記スタートパルス信号を
順次シフトした第1乃至第Nのシフトパルスを、それぞ
れ前記第1乃至第Nの光電変換部を構成するスイッチの
制御端子に印加し、前記スイッチを順次導通させ、前記
前記第1乃至第Nの光電変換部から出力される前記信号
電荷を順次前記読み出し配線に出力する走査回路と、を
備えている。
【0025】
【発明の実施の形態】次に、本発明の第1の実施の形態
について図面を参照して説明する。
【0026】図1は、本発明のMOS型イメージセンサ
100を示すブロック図である。図1において、MOS
型イメージセンサ100は、N個のフォトダイオード1
11と、フォトダイオードに直列接続したN個の画素ス
イッチTFT112からなる画素アレイ110と、イン
バータバッファ121,122を直列接続して構成した
バッファをN個並列に設けたバッファアレイ120と、
1ビットシフトレジスタ131をN個直列接続し、スタ
ートパルスSTと波形整形された2相クロック信号でバ
ッファアレイ120を構成する各バッファを順次駆動す
る走査回路130と、単位波形整形回路141をN個並
列接続し、2相クロック信号を個々に波形整形して走査
回路130に波形整形されたクロック信号を供給する波
形整形回路140とを備えて構成される。
【0027】単位波形整形回路141は、クロック信号
端子171,172に印加されたクロック信号を矩形波
に波形整形し、走査回路130を構成する1ビットシフ
トレジスタ131に出力する。1ビットシフトレジスタ
131の出力はインバータバッファ121,122によ
って増幅された後、画素スイッチTFT112のゲート
に印加される。
【0028】次に、単位波形整形回路141の好適な例
を図2(a),(b)を参照して説明する。
【0029】図2(a)に示した単位波形整形回路14
1はインバータ242をm個直列接続した回路を2個設
けており、クロック信号端子171,172に印加され
たクロック信号C1,C2がクロック信号端子171,
172に接続された初段のインバータ242で波形整形
された後、後段のインバータ242で増幅され、m番目
のインバータ242から波形整形されたクロック信号φ
1,φ2として出力される。
【0030】図2(b)は、クロック信号端子171,
172に接続する初段のインバータとして、シュミット
トリガ回路244を用いた回路であり、シュミットトリ
ガ回路244の出力がハイレベルからローレベルに遷移
した後に、ハイレベルに遷移するしきい値電圧と、ロー
レベルからハイレベルに遷移した後にローレベルに遷移
するしきい値電圧が異なり、入力電圧に対し大きなノイ
ズマージンを有するという特徴がある。
【0031】シュミットトリガ回路244の一構成例を
図3に示す。図3(a)は、シュミットトリガ回路24
4のシンボル図であり、入力端子315に入力信号Vi
nが印加され、出力端子316に出力信号Voutが印
加される。
【0032】図3(b)に示すシュミットトリガ回路2
44は、PMOSFET311とNMOSFET31
2,313を電源VDD,VSS間にカスケード接続す
ると共に、各ゲートを入力端子315に共通接続し、N
MOSFET314のソース及びゲートをそれぞれNM
OSFET313のドレイン及び出力端子316に接続
して構成する。
【0033】次に、走査回路130の実施例について図
4を参照して説明する。
【0034】図4は、1ビットシフトレジスタ431を
N個直列接続してNビットシフトレジスタを構成した回
路であり、スタートパルス端子181に印加されたスタ
ートパルスSTを、各1ビットシフトレジスタ431で
順次シフトし、各1ビットシフトレジスタ431の出力
端子O1,O2〜Onからバッファアレイ120を構成
する各バッファへシフトされたシフトパルス信号を順次
出力する。
【0035】1ビットシフトレジスタ431は、図4に
示すように、PMOSFET432,433と、NMO
SFET434,435からなるクロックドインバータ
と、PMOSFET436,437と、NMOSFET
438,439からなるクロックドインバータとを直列
接続し、かつ互いにクロック信号が逆相になるように入
力して構成される。
【0036】次に図5を参照して、本発明のMOS型イ
メージセンサ100を駆動回路510を用いて駆動し、
検出回路500によりMOS型イメージセンサ100か
らの出力信号を検出する場合の回路構成について説明す
る。
【0037】MOS型イメージセンサ100について
は、前に説明したので説明を省略し、駆動回路510と
検出回路500について説明する。
【0038】駆動回路510は、正弦波でかつ逆相信号
であるクロック信号C1,C2をクロック信号端子17
1,172に出力する交流信号源510,520と、ス
タートパルスSTをスタートパルス端子181に出力す
るパルス信号源530と、波形整形回路140と走査回
路130とバッファアレイ120に電源端子191を介
して電源を供給する電圧源540とを備えて構成され
る。
【0039】また、検出回路500は、フォトダイオー
ド111にバイアス電圧を供給する電圧源550と、フ
ォトダイオード111から出力される充電電流(信号電
荷)を電圧に変換する抵抗501と、抵抗501の一端
の電圧Vaを増幅する増幅器502と、カットオフ周波
数fcがMOS型イメージセンサ100に供給されるク
ロック信号C1,C2の周波数以上に設定され、増幅器
502の出力電圧Vbに含まれるカットオフ周波数fc
以上の信号を通過させるハイパスフィルタ503と、ハ
イパスフィルタ503の出力信号Vcを積分し、検出回
路500の出力電圧Voutを出力する積分回路504
とを備えて構成される。
【0040】次に、図1と図5及び図6に示すタイミン
グチャートを参照して、本発明によるMOS型イメージ
センサ100と検出回路500の回路動作について説明
する。
【0041】図6に示すように、正弦波であるクロック
信号C1,C2が波形整形回路140に入力すると、波
形整形回路140を構成する単位波形整形回路141か
ら矩形波である波形整形されたクロック信号φ1,φ2
が、走査回路130を構成する各1ビットシフトレジス
タ131に印加される。
【0042】このとき、図5に示すクロック信号C1,
C2が伝搬するクロック信号配線L1,L2には、一例
として1MHzの周波数を有する正弦波のクロック信号
C1,C2のみが伝搬し、クロック信号配線L1,L2
と読み出し配線151間の配線容量を介して、読み出し
配線151にノイズとして混入するのは、図6に示すよ
うに1MHzの周波数を有するVclockである。
【0043】なお、波形整形されたクロック信号φ1,
φ2が伝搬する配線と、読み出し配線151とが平行し
て配置される配線長は短いので寄生配線容量は小さく、
波形整形されたクロック信号φ1,φ2から読み出し配
線151に混入する高調波を含んだノイズは無視でき
る。
【0044】次に図6の時刻t1でスタート信号ST、
クロック信号C1,C2を波形整形回路140に供給す
ると、Nビットのシフトレジスタで構成される走査回路
130は、出力端子O1,O2〜Onに、波形整形され
たクロック信号φ1,φ2に同期したパルスを順次出力
する。このパルスはバッファアレイ120を構成するイ
ンバータバッファ121,122を介して各画素スイッ
チTFT112のゲートにサンプリングパルスS1〜S
nとして印加される。
【0045】画素スイッチTFT112のゲートがハイ
レベルになると、画素スイッチTFT112が導通状態
となり、電圧源550からフォトダイオード111に向
かって充電電流が流れる。
【0046】フォトダイオード111から出力される充
電電流は抵抗501によって電圧変換され、抵抗の一端
に電圧Vaを生成する。図6に示すように、電圧Vaは
フォトダイオード111からの信号電圧A1,A2,A
3・・・と、クロック信号配線L1,L2と読み出し配
線151間の配線容量を介して、読み出し配線151に
混入するノイズVclockとが重畳された波形であ
る。なお、信号電圧A1,A2,A3が高い→低い→高
いの順になっているのは、フォトダイオード111に照
射された光量が読み出しサイクルT1,T2,T3の順
に、大→小→大となっているためである。
【0047】ハイパスフィルタ503は、増幅器502
からの出力電圧Vbに対して、1MHzの周波数成分を
有するノイズVclockを阻止し、信号電圧A1,A
2,A3を通過するようにカットオフ周波数fcが設定
されている。
【0048】すなわち、フォトダイオード111からの
信号は、コンデンサと見なせるフォトダイオード111
に直流電圧を印加して充電するときの電流として得られ
るため、波形整形されたクロック信号φ1,φ2よりも
高い周波数成分、例えば数十MHz〜数百MHzを有す
る。このため、カットオフ周波数fcを数MHzに設定
すれば、ハイパスフィルタ503は、1MHzの周波数
成分を有するノイズVclockは阻止し、信号電圧A
1,A2,A3を通過するように動作する。
【0049】最後に、積分回路504は、図6に示す読
み出し周期Tを有する読み出しサイクルT1,T2,T
3・・・の最初のリセット期間Tresetで積分回路
504をリセットし、その後ハイパスフィルタ503か
らの出力電圧Vcを積分することにより、フォトダイオ
ード111に照射された光量に比例した図6に示すよう
な出力電圧Voutを出力する。
【0050】ここで、読み出しサイクルT1,T2,T
3の順に、出力電圧Voutが大→小→大となっている
のは、信号電圧A1,A2,A3が高い→低い→高いの
順になっているためである。
【0051】上記の動作を全ての画素に対して行い、さ
らにスタートパルスSTを一定の周期で印加し、画素の
ピッチと同じ距離だけ原稿を画素アレイ111の配列方
向と垂直な方向に移動させることで、2次元画像を読み
とることが可能となる。
【0052】上記に説明したように、本発明によるMO
S型イメージセンサ100は、駆動回路510から出力
されるクロック信号C1,C2によって発生する雑音を
低減し、さらに本発明による検出回路500は、MOS
型イメージセンサ100から出力されるクロック信号C
1,C2によって発生するわずかの雑音を大幅に低減す
ることができる。
【0053】このため、S/N比を大幅に向上させたM
OS型イメージセンサ及びその検出回路を実現できる。
【0054】次に、本発明の第2の実施の形態によるM
OS型イメージセンサ700を図7を参照して説明す
る。
【0055】MOS型イメージセンサ700が、第1の
実施の形態によるMOS型イメージセンサ100と異な
る点は、1つの単位波形整形回路141からの出力が、
2個の1ビットシフトレジスタ131−1,131−2
に供給されており、この2個の1ビットシフトレジスタ
131−1,131−2を単位として走査回路710が
構成されている点である。
【0056】このMOS型イメージセンサ700は、M
OS型イメージセンサ100と基本的に同様な回路動作
を行うが、MOS型イメージセンサ100におけるクロ
ック信号C1,C2によるノイズの低減効果に加えて、
次のような新たなノイズ低減効果が得られる。
【0057】すなわち、MOS型イメージセンサ700
の読み出し配線151に混入するノイズはクロック信号
配線L1,L2からのノイズの他に走査回路710、バ
ッファアレイ120、波形整形回路140が動作する際
に生じる電源配線の電圧変動によるノイズがある。
【0058】特に波形整形回路140は、クロック信号
C1,C2の周波数と同じ周波数で状態遷移を行うの
で、波形整形回路140を構成するトランジスタに流れ
る電流が大きくなる。これに伴い、波形整形回路140
に接続する電源配線に電圧変動が生じ、ノイズが発生す
る恐れがある。
【0059】第2の実施の形態のMOS型イメージセン
サ700では、単位波形整形回路141回路の数を2分
の1に減らすことが可能となり、波形整形回路140全
体に流れる回路電流が減少するので、電源電圧変動によ
るノイズを小さくすることが可能となる。
【0060】また、単位波形整形回路141の数が少な
くなることから、第1の実施の形態のMOS型イメージ
センサ100と比べ、消費電力が小さいという特徴があ
る。
【0061】なお、交流信号源510,520から出力
されるクロック信号C1,C2は、正弦波として説明し
たが、正弦波に限らず、フォトダイオード111からの
信号の周波数成分よりも低い周波数で構成される周期信
号であれば、クロック信号として使用可能である。
【0062】また、MOS型イメージセンサ100と検
出回路500を同一基板上に形成しても良いし、MOS
型イメージセンサ100をガラス基板上に形成し、検出
回路500をシリコン半導体基板上に形成しても良い。
前者の場合は、集積度の点で有利であり、後者の場合、
検出回路500をシリコン半導体基板上に形成するの
で、MOSFETのしきい値、相互コンダクタンスgm
などのトランジスタ特性のばらつきが少なく、良好な回
路特性を得ることができる。
【0063】また、波形整形回路140、走査回路13
0は、ポリシリコン薄膜トランジスタ、またはアモルフ
ァスシリコン薄膜トランジスタで形成しても良い。
【0064】さらに、クロック信号は、2相の場合につ
いて説明したが、3相以上の多層クロック信号の場合に
ついて容易に拡張可能である。
【0065】また、第2の実施の形態によるMOS型イ
メージセンサ700において、1つの単位波形整形回路
141からの出力が、2個の1ビットシフトレジスタ1
31−1,131−2に供給されており、この2個の1
ビットシフトレジスタ131−1,131−2を単位と
して走査回路710が構成されているとして説明した
が、1つの単位波形整形回路141からの出力が、k
(kは3以上の整数)個の1ビットシフトレジスタ13
1−1〜131−kに供給されており、このk個の1ビ
ットシフトレジスタ131−1〜131−kを単位とし
て走査回路710が構成され様にしても良い。
【0066】この場合、さらに、波形整形回路140全
体に流れる回路電流が減少するので、電源電圧変動によ
るノイズが減少し、単位波形整形回路141の数が少な
くなることから、消費電力がより小さくなる。
【0067】また、上記において画素アレイ110を構
成するフォトダイオード111と画素スイッチTFT1
12を1次元的に直線上に配列した場合について述べた
が、2次元に配列してエリアセンサーとして用いること
も可能である。この場合、新たに、垂直方向の走査回路
を追加する。
【0068】また図1において、アノードにスイッチの
一端を接続し、カソードにバイアス配線を接続した例を
示したが、カソードにスイッチの一端を接続し、アノー
ドにバイアス配線を接続しても良い。前者の場合、画素
スイッチTFT112は、NMOSFETが好適である
が、後者の場合PMOSFETで構成するのが好適であ
る。
【0069】また、図1に示すブロック図をレイアウト
した場合、基本的に図1に記載された各回路ブロック
は、ブロックの配置関係に従って配置され、接続され
る。例えば、単位波形整形回路141とクロック信号配
線L1,L2との接続は、各単位波形整形回路141の
入力端子から、波形整形回路140に沿って配置されて
いるクロック信号配線L1,L2に垂直に配線される。
【0070】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるMO
S型イメージセンサは、駆動回路から出力されるクロッ
ク信号によって発生する雑音を低減し、さらに本発明に
よる検出回路は、本発明によるMOS型イメージセンサ
から出力されるクロック信号によって発生するわずかの
雑音を大幅に低減することができる。
【0071】このため、S/N比を大幅に向上させたM
OS型イメージセンサを実現できる。
【0072】また、第2の実施の形態のMOS型イメー
ジセンサでは、単位波形整形回路回路の数をk分の1に
減らすことが可能となり、波形整形回路全体に流れる回
路電流が減少するので、電源電圧変動によるノイズを小
さくすることが可能となる。
【0073】また、単位波形整形回路の数が少なくなる
ことから、第1の実施の形態のMOS型イメージセンサ
と比べ、消費電力が小さいという特徴がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のMOS型イメージセンサの第1の実施
の形態を示すブロック図である。
【図2】本発明の単位波形整形回路の例を示す回路図で
ある。
【図3】本発明のシュミットトリガ回路の一例を示す回
路図である。
【図4】本発明の走査回路の一例を示す回路図である。
【図5】本発明のMOS型イメージセンサの第1の実施
の形態と本発明の検出回路の実施の形態及び駆動回路を
示すブロック図である。
【図6】図5に示す本発明のMOS型イメージセンサの
第1の実施の形態と本発明の検出回路の実施の形態及び
駆動回路の動作を説明するためのタイミングチャートで
ある。
【図7】本発明のMOS型イメージセンサの第2の実施
の形態を示すブロック図である。
【図8】従来のMOS型イメージセンサを示すブロック
図である。
【図9】従来のMOS型イメージセンサと従来の検出回
路及び駆動回路を示すブロック図である。
【図10】図9に示す従来のMOS型イメージセンサと
従来の検出回路及び駆動回路の動作を説明するためのタ
イミングチャートである。
【符号の説明】
100,700,800 MOS型イメージセンサ 110 画素アレイ 111 フォトダイオード 112 画素スイッチTFT 120 バッファアレイ 121,122 インバータバッファ 130,830 走査回路 131,131−1,131−2〜131−k,43
1,831 1ビットシフトレジスタ 140 波形整形回路 141,243 単位波形整形回路 151 読み出し配線 161 バイアス配線 171,172,801,802 クロック信号端子 181 スタートパルス端子 191 電源端子 242 インバータ 244 シュミットトリガ回路 315 入力端子 316 出力端子 311,432,433,436,437 PMOS
FET 312,313,314,435,438,439
NMOSFET 500,900 検出回路 501,901 抵抗 502,902 増幅器 503 ハイパスフィルタ 504,903 積分回路 510,910 駆動回路 510,520 交流信号源 530,911〜913 パルス信号源 240,550,914,950 電圧源 L1,L2 クロック信号配線
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H04N 5/30 - 5/335 H04N 1/024 - 1/036

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】入射光の光量を信号電荷に変換するフォト
    ダイオードと、このフォトダイオードのアノード又はカ
    ソードに一端を接続し他端に接続する光電変換部出力端
    子から前記信号電荷を出力するスイッチとを含む第1乃
    至第N(Nは2以上の整数)の光電変換部と、 N個の前記光電変換部出力端子に接続する読み出し配線
    と、 交流信号であるクロック信号を伝達するクロック信号配
    線と、 前記クロック信号配線を介して印加された前記クロック
    信号を波形整形して生成した矩形波を出力する波形整形
    回路と、 スタートパルス信号を入力し、前記矩形波に応答して、
    前記スタートパルス信号を順次シフトした第1乃至第N
    のシフトパルスを、それぞれ前記第1乃至第Nの光電変
    換部を構成するスイッチの制御端子に印加し、前記スイ
    ッチを順次導通させ、前記第1乃至第Nの光電変換部か
    ら出力される前記信号電荷を順次前記読み出し配線に出
    力する走査回路と、を備えたMOS型イメージセンサ
    おいて、 前記クロック信号は、正弦波あるいは前記正弦波に近い
    周期波であり、 前記信号電荷を電圧に変換する電圧変換部と、この電圧
    変換部の出力信号を入力し、カットオフ周波数以上の周
    波数成分を通過させるハイパスフィルタと、このハイパ
    スフィルタの出力信号を入力して積分し、出力から前記
    光量を電圧に変換した出力電圧を取り出す積分回路とを
    備えた検出回路とを含み、 前記カットオフ周波数を、前記クロック信号の周波数が
    遮断される最低周波数に設定したことを特徴とするMO
    S型イメージセンサ
  2. 【請求項2】前記走査回路は、第1乃至第Nの1ビット
    シフトレジスタを縦続接続して構成したNビットシフト
    レジスタを備え、 前記各1ビットシフトレジスタのクロック端子に前記矩
    形波を入力し、前記第1の1ビットシフトレジスタに前
    記スタートパルスを入力すると共に、前記第1乃至第N
    の1ビットシフトレジスタの各出力端子からそれぞれ前
    記第1乃至第Nのシフトパルスを取り出す請求項1記載
    のMOS型イメージセンサ。
  3. 【請求項3】前記波形整形回路は、前記矩形波を前記第
    1乃至第Nの1ビットシフトレジスタの前記クロック端
    子にそれぞれ出力する第1乃至第Nの単位波形整形回路
    を備えた請求項2記載のMOS型イメージセンサ。
  4. 【請求項4】前記波形整形回路は、前記クロック信号を
    波形整形して生成した矩形波を複数の前記1ビットシフ
    トレジスタの各クロック端子にそれぞれ出力する第1乃
    至第M(Mは2以上で整数Nより小さい整数)の単位波
    形整形回路を備えた請求項2記載のMOS型イメージセ
    ンサ。
  5. 【請求項5】前記シフトパルス信号をバッファにより増
    幅したサンプリングパルスを、前記スイッチを動作させ
    るための制御信号として用いる請求項1記載のMOS型
    イメージセンサ。
  6. 【請求項6】前記走査回路と前記波形整形回路を構成す
    るトランジスタは、ポリシリコン薄膜トランジスタで形
    成したことを特徴とする請求項1記載のMOS型イメー
    ジセンサ。
  7. 【請求項7】前記走査回路と前記波形整形回路を構成す
    るトランジスタは、アモルファスシリコン薄膜トランジ
    スタで形成したことを特徴とする請求項1記載のMOS
    型イメージセンサ。
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