JP3469731B2 - Manufacturing method of magnetic head - Google Patents

Manufacturing method of magnetic head

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JP3469731B2
JP3469731B2 JP34720996A JP34720996A JP3469731B2 JP 3469731 B2 JP3469731 B2 JP 3469731B2 JP 34720996 A JP34720996 A JP 34720996A JP 34720996 A JP34720996 A JP 34720996A JP 3469731 B2 JP3469731 B2 JP 3469731B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスクド
ライブ等の磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッドの
製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head used in a magnetic recording / reproducing apparatus such as a hard disk drive.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュータ等の外部記憶装置としての
ハードディスクドライブに於いては、記録密度の向上が
求められており、それに使用される磁気ヘッドにも高抗
磁力の記録媒体に対応できる電磁変換特性、高周波の記
録再生信号に対応できるような低インダクタンス特性、
短波長の記録再生信号に対応できるギャップ長精度が要
求されている。このような動向に対応するために、以前
から一対のコア半体間に幅狭のギャップを形成し、各コ
ア半体のギャップとの突き合わせ面に、夫々強磁性の金
属薄膜を形成した所謂MIG(Metal In Gap)型の磁気ヘ
ッドが提案されている(特公平7−78853号参照)。
出願人はこのMIG型の磁気ヘッドを改良したものとし
て、以前図1に示すものを開示している(特願平8−2
34901号参照、この発明は未公開である)。
2. Description of the Related Art In a hard disk drive as an external storage device for a computer or the like, it is required to improve the recording density, and the magnetic head used therefor has an electromagnetic conversion characteristic that can be applied to a recording medium having a high coercive force. , Low inductance characteristics to support high frequency recording / reproducing signals,
There is a demand for a gap length accuracy that can correspond to a recording / reproducing signal of a short wavelength. In order to respond to such a trend, a so-called MIG in which a narrow gap has been formed between a pair of core halves and a ferromagnetic metal thin film is formed on each of the abutting surfaces of the core halves, respectively. A (Metal In Gap) type magnetic head has been proposed (see Japanese Patent Publication No. 7-78853).
The applicant previously disclosed the one shown in FIG. 1 as an improvement of this MIG type magnetic head (Japanese Patent Application No. 8-2.
34901, this invention has not been published).

【0003】図1は、出願人が以前提案した磁気ヘッド
(3)の斜視図であり、図2は図1をA−A線で切断した
破断図、図3A、Bは、夫々磁気ヘッド(3)をB−B線
で切断した左、右側方を見た断面図である。磁気ヘッド
(3)は、前面が開口したコイル巻線溝(15)を有する第1
突き合わせ半体(1)に、上面に非磁性材を露出させた第
2突き合わせ半体(2)を突き合わせてなり、コイル巻線
溝(15)を通って第2突き合わせ半体(2)にコイル(30)が
巻かれる。磁気ヘッド(3)の上面は記録媒体であるハー
ドディスクに対向する。以下の記載に於いて、コア半体
とは磁気ヘッド(3)の構成部材のうち、ギャップスペー
サ(4)を介して両側に配備されるものを指す。
FIG. 1 shows a magnetic head previously proposed by the applicant.
FIG. 3 is a perspective view of (3), FIG. 2 is a cutaway view of FIG. 1 taken along line AA, and FIGS. 3A and 3B are left and right sides of the magnetic head (3) taken along line BB, respectively. FIG. Magnetic head
(3) is a first having a coil winding groove (15) with an open front surface
A second butting half body (2) having a non-magnetic material exposed on the upper surface is butted to the butting half body (1), and passes through the coil winding groove (15) to form a coil in the second butting half body (2). (30) is rolled up. The upper surface of the magnetic head (3) faces a hard disk, which is a recording medium. In the following description, the core half means a constituent member of the magnetic head (3) arranged on both sides via the gap spacer (4).

【0004】第1突き合わせ半体(1)は、コイル巻線溝
(15)を有する第1コア半体(13)の前面に、非磁性のギャ
ップスペーサ(4)(40)及びFeAlSi合金等からなる
第2強磁性薄膜(12)の層をスパッタリング等で形成して
成る。ギャップスペーサは、コイル巻線溝(15)の上側に
位置する対向面側ギャップスペーサ(4)と、下側に位置
する奥部側ギャップスペーサ(40)とに分離している。第
1コア半体(13)は、Mn−Znフェライト等の強磁性体
からなるコア半体部材(14)の上部から突出した突部(10)
の前面を斜面にし、該斜面上へFeAlSi合金等から
なる第1強磁性薄膜(11)の層を形成したものである。
The first butting half (1) is a coil winding groove.
On the front surface of the first core half (13) having (15), a layer of a second ferromagnetic thin film (12) made of a non-magnetic gap spacer (4) (40) and FeAlSi alloy or the like is formed by sputtering or the like. Consists of The gap spacer is divided into an opposing surface side gap spacer (4) located above the coil winding groove (15) and a back side gap spacer (40) located below the coil winding groove (15). The first core half body (13) is a protrusion (10) protruding from the top of the core half body member (14) made of a ferromagnetic material such as Mn-Zn ferrite.
Is a front surface of which a slope is formed, and a layer of the first ferromagnetic thin film (11) made of FeAlSi alloy or the like is formed on the slope.

【0005】該突部(10)の先端面は、斜め内向きに傾
き、該先端面上に形成された第1強磁性薄膜(11)は、上
端がハードディスクとの対向面に露出した垂直面(11a)
と、該垂直面(11a)下端から斜め内向きに延びた傾斜面
(11b)を一体に具えている。該傾斜面(11b)上には、垂直
面(11a)と前面が揃う第2ガラス(16)の層が形成されて
いる。第1コア半体(13)の上面は、第2ガラス(16)より
高融点の第1ガラス(31)が覆い、これにより第1突き合
わせ半体(1)上面から、周回磁束が漏れ出ることを防
ぐ。
The tip surface of the projection (10) is inclined inward, and the first ferromagnetic thin film (11) formed on the tip surface is a vertical surface whose upper end is exposed on the surface facing the hard disk. (11a)
And an inclined surface extending obliquely inward from the lower end of the vertical surface (11a)
It has (11b) in one. On the inclined surface (11b), a layer of the second glass (16) whose front surface is aligned with the vertical surface (11a) is formed. The upper surface of the first core half body (13) is covered with the first glass (31) having a melting point higher than that of the second glass (16), so that the circulating magnetic flux leaks from the upper surface of the first butting half body (1). prevent.

【0006】第2突き合わせ半体(2)は、非磁性材から
なる基台(25)と、該基台(25)の第1突き合わせ半体(1)
との対向面内に設けられた第3強磁性薄膜(20)とからな
る。第3強磁性薄膜(20)はFeAlSi合金やFeTaN
合金等からなり、該第3強磁性薄膜(20)の上下端部は第
2強磁性薄膜(12)に接合し、上端はハードディスクとの
対向面よりも内側に位置している。ここで、第2強磁性
薄膜(12)は、図3Bに示すように、幅がトラック幅に略
等しい幅狭部(12a)と、第3強磁性薄膜(20)に接触する
幅広部(12b)を一体に具えてなる。図1に示すように、
第1強磁性薄膜(11)、対向面側及び奥部側ギャップスぺ
ーサ(4)(40)、第2強磁性薄膜(12)、第1突き合わせ半
体(1)の側面は、外部衝撃からの保護の為、第2ガラス
(16)より低融点の第3ガラス(17)により覆われる。図2
に於いて、ギャップスペーサ(4)の厚みをギャップ長、
第1突き合わせ半体(1)上面から第1強磁性薄膜(11)の
傾斜面(11b)上端までの深さをギャップデプスと夫々呼
ぶ。また、ギャップスペーサ(4)及びギャップスペーサ
(4)を挟む磁性材を合わせて、ギャップ部と呼ぶ。
The second butting half (2) comprises a base (25) made of a non-magnetic material and a first butting half (1) of the base (25).
And a third ferromagnetic thin film (20) provided in the surface opposite to. The third ferromagnetic thin film (20) is made of FeAlSi alloy or FeTaN.
The third ferromagnetic thin film (20) is made of an alloy or the like, and the upper and lower ends of the third ferromagnetic thin film (20) are bonded to the second ferromagnetic thin film (12), and the upper end is located inside the surface facing the hard disk. Here, as shown in FIG. 3B, the second ferromagnetic thin film (12) has a narrow portion (12a) having a width substantially equal to the track width and a wide portion (12b) in contact with the third ferromagnetic thin film (20). ). As shown in Figure 1,
The side surfaces of the first ferromagnetic thin film (11), the facing surface side and the back side gap spacers (4) (40), the second ferromagnetic thin film (12), and the first butting half body (1) are exposed to external impact. Second glass for protection from
(16) Covered by a third glass (17) having a lower melting point. Figure 2
In the above, the thickness of the gap spacer (4) is set to the gap length,
The depth from the upper surface of the first butting half body (1) to the upper end of the inclined surface (11b) of the first ferromagnetic thin film (11) is called the gap depth, respectively. Also, the gap spacer (4) and the gap spacer
The magnetic materials sandwiching (4) are collectively referred to as a gap portion.

【0007】かかる磁気ヘッド(3)は、以下のように製
造される。まず、図26に示すように、Mn−Znフェ
ライトからなり、第1突き合わせ半体(1)となるべき大
基板(6)の上面に第1ガラス充填溝(60)を形成した後
に、該第1ガラス充填溝(60)に、第1ガラス(31)を充填
する。次に、ブレードの切削加工により断面三角形のデ
プスエンド溝(61)を、第1ガラス充填溝(60)に一部掛か
るように形成する。次に、大基板(6)の上面全体に第1
強磁性薄膜(11)を被着し、その上に図27に示すよう
に、第1ガラス(31)より低融点の第2ガラス(16)を充填
する。第2ガラス(16)充填後に上面を研削、研磨して、
第1強磁性薄膜(11)の断面を第2ガラス(16)の断面と同
一面内に露出させる。
The magnetic head (3) is manufactured as follows. First, as shown in FIG. 26, after forming a first glass filling groove (60) on the upper surface of a large substrate (6) made of Mn-Zn ferrite and serving as the first butting half body (1), the first glass filling groove (60) is formed. The first glass filling groove (60) is filled with the first glass (31). Next, the depth end groove (61) having a triangular cross section is formed by cutting the blade so as to partially overlap the first glass filling groove (60). Next, the first substrate is formed on the entire upper surface of the large substrate (6)
A ferromagnetic thin film (11) is deposited, and a second glass (16) having a melting point lower than that of the first glass (31) is filled thereon, as shown in FIG. After filling the second glass (16), grinding and polishing the upper surface,
The cross section of the first ferromagnetic thin film (11) is exposed in the same plane as the cross section of the second glass (16).

【0008】次に、図28に示すように、大基板(6)の
上面に、ギャップスペーサ(4)(40)となる非磁性薄膜と
第2強磁性薄膜(12)を重ねてスパッタリング等により形
成した後に、レジストパターンを形成してエッチング処
理を施し、対向面側ギャップスペーサ(4)と奥部側ギャ
ップスペーサ(40)となる部分を残す。各ギャップスペー
サ(4)(40)は、その上に重なる第2強磁性薄膜(12)と同
一形状に形成される。対向面側ギャップスペーサ(4)
は、幅狭部(4a)と、該幅狭部(4a)よりも内側に位置す
る幅広部(4b)とを一体に具える。また、該エッチング
工程により、第1強磁性薄膜(11)の先端部は、幅狭部
(4a)(12a)と同幅に形成される。この後に、図29に示
すように、対向面側、奥部側ギャップスペーサ(4)(40)
間に、コイル巻線溝(15)を開設する。
Next, as shown in FIG. 28, the non-magnetic thin film to be the gap spacers (4) and (40) and the second ferromagnetic thin film (12) are superposed on the upper surface of the large substrate (6) by sputtering or the like. After the formation, a resist pattern is formed and an etching process is performed to leave portions to be the facing surface side gap spacer (4) and the back side gap spacer (40). Each of the gap spacers (4) and (40) is formed in the same shape as the second ferromagnetic thin film (12) which is overlaid thereon. Opposing side gap spacer (4)
Includes a narrow portion (4a) and a wide portion (4b) located inside the narrow portion (4a) integrally. In addition, the tip portion of the first ferromagnetic thin film (11) is narrowed by the etching process.
(4a) It is formed to have the same width as (12a). After this, as shown in FIG. 29, the facing side gap spacers (4) (40)
In between, a coil winding groove (15) is opened.

【0009】一方、第1突き合わせ半体(1)と突き合わ
さる第2突き合わせ半体(2)は、以下の如く設けられ
る。図30に示すように、アルミナ系セラミック等から
なる小基板(8)の上面に、第3強磁性薄膜(20)を成膜す
べき凹溝(80)と、該凹溝(80)より深い第2予備加工溝(8
1)を形成する。次に、図31に示すように、小基板(8)
の上面全体に第3強磁性薄膜(20)をスパッタリング等に
より形成し、その上に第3ガラス(17)を充填する。この
後、上面を研削、研磨して平坦化し、第3強磁性薄膜(2
0)の断面を第3ガラス(17)と同一面内に露出させる。
On the other hand, the second butting halves (2) which butt against the first butting halves (1) are provided as follows. As shown in FIG. 30, on the upper surface of a small substrate (8) made of alumina-based ceramic or the like, a groove (80) in which a third ferromagnetic thin film (20) is to be formed and a groove deeper than the groove (80) are formed. Second pre-machined groove (8
Form 1). Next, as shown in FIG. 31, a small substrate (8)
A third ferromagnetic thin film (20) is formed on the entire upper surface of the above by sputtering or the like, and a third glass (17) is filled on it. After that, the upper surface is ground and polished to be flattened, and the third ferromagnetic thin film (2
The cross section of (0) is exposed in the same plane as the third glass (17).

【0010】この後に、大基板(6)と小基板(8)を、図
32に示すように突き合わせ、加熱して第3ガラス(17)
のみを溶融させる。第2予備加工溝(81)に充填した第3
ガラス(17)は表面張力によりギャップ部の側方に流れ込
み、大基板(6)と小基板(8)を接合する。しかる後に、
各ブロック毎にP−P線で切断する。図33は、切断し
た各ブロックの中心断面図であり、この状態で、C−C
線、D−D線、X−X線に沿って、不要な箇所を切削・
研磨し、磁気ヘッド(3)が作成される。
Thereafter, the large substrate (6) and the small substrate (8) are butted against each other as shown in FIG. 32 and heated to heat the third glass (17).
Only melt. The third filled in the second pre-processed groove (81)
The glass (17) flows to the side of the gap due to surface tension, and joins the large substrate (6) and the small substrate (8). After that,
Each block is cut along the line PP. FIG. 33 is a central cross-sectional view of the cut blocks, and in this state, CC
Cutting unnecessary points along the line, DD line, XX line.
The magnetic head (3) is prepared by polishing.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上記磁気ヘッドの製造
方法では、図26に於いてデプスエンド溝(61)を形成す
るブレードで、第1ガラス充填溝(60)に充填した第1ガ
ラス(31)をも削り取る。即ち、同じブレードでフェライ
トからなる小基板(6)と、第1ガラス(31)の層を同じ長
さだけ削る。然るに、フェライトとガラスでは、ガラス
の方が加工抵抗が大きく、ガラスとフェライトの両方を
削るのに適したブレードの選定は困難である。出願人の
実験結果では、第1ガラス(31)を削るのに適したブレー
ドで、フェライトを加工すると、フェライトの欠け、む
しれが発生した。またフェライトを削るのに適したブレ
ードで、第1ガラス(31)の層を加工すると、第1ガラス
(31)の切断部分に目詰りを生じ、第1ガラス(31)をスム
ーズに加工できない問題がある。 本発明は、フェライ
トからなる小基板とデプスエンド溝に充填された第1ガ
ラスの層を、同一のブレードでスムーズに加工すること
を目的とする。
In the method of manufacturing a magnetic head described above, the first glass (31) filled in the first glass filling groove (60) is formed by the blade forming the depth end groove (61) in FIG. ) Is also scraped off. That is, with the same blade, the small substrate 6 made of ferrite and the layer of the first glass 31 are ground by the same length. However, with ferrite and glass, glass has a higher processing resistance, and it is difficult to select a blade suitable for cutting both glass and ferrite. According to the experimental results of the applicant, when ferrite was processed with a blade suitable for shaving the first glass (31), chipping and tearing of ferrite occurred. Also, if the layer of the first glass (31) is processed with a blade suitable for scraping ferrite,
There is a problem that the cut portion of (31) is clogged and the first glass (31) cannot be processed smoothly. An object of the present invention is to smoothly process a small substrate made of ferrite and a layer of the first glass filled in the depth end groove with the same blade.

【0012】[0012]

【課題を解決する為の手段】磁気ヘッド(3)は、第1突
き合わせ半体(1)の一部となるべき強磁性の大基板(6)
と、第2突き合わせ半体(2)の一部となるべき小基板
(8)を用意し、該大基板(6)上に記録媒体のトラック幅
方向に沿った第1ガラス充填溝(60)を形成し、該第1ガ
ラス充填溝(60)に第1ガラス(31)を充填する工程と、第
1ガラス充填溝(60)内にて、ギャップ部となるべき箇所
の側方に充填された第1ガラス(31)を一部除去する工程
と、該大基板(6)上に、トラック幅方向に沿って、第1
ガラス充填溝(60)に一部掛かるデプスエンド溝(61)を切
削加工により形成する工程と、該大基板(6)の上面全体
に第1強磁性薄膜(11)を被着し、その上に第1ガラス(3
1)より低融点の第2ガラス(16)を充填し、上面を研削、
研磨して、第1強磁性薄膜(11)の断面を上面に露出させ
る工程と、大基板(6)の上面に、ギャップスペーサ(4)
となる非磁性薄膜と第2強磁性薄膜(12)を重ねて成膜し
た後に、エッチング処理を施し、記録媒体のトラック幅
に略等しい幅狭部(4a)(12a)を形成し、かつ第1強磁性
薄膜(11)を幅狭部(4a)(12a)と同じ幅に形成する工程
と、小基板(8)に前記第2ガラス(16)より低融点の第3
ガラス(17)を充填するとともに、大基板(6)との突き合
せ面上に磁束の通過を許す磁性材を露出させる工程と、
大基板(6)と小基板(8)を突き合わせ接合し、小基板
(8)から露出した磁性材と、大基板(6)の第2強磁性薄
膜(12)を接触させ、トラック幅に直交する面に沿ってス
ライスする工程を経て作成される。
A magnetic head (3) has a large ferromagnetic substrate (6) to be a part of the first butting half (1).
And a small board that should be part of the second butt half (2)
(8) is prepared, a first glass filling groove (60) is formed on the large substrate (6) along the track width direction of the recording medium, and the first glass (60) is formed in the first glass filling groove (60). 31), a step of partially filling the first glass filling groove (60) with a portion of the first glass (31) filling the side of the portion to be the gap portion, and the large substrate. (6) First, along the track width direction
A step of forming a depth end groove (61) that partially hangs on the glass filling groove (60) by cutting, and a first ferromagnetic thin film (11) is deposited on the entire upper surface of the large substrate (6). On the first glass (3
1) Fill the second glass (16) with lower melting point and grind the upper surface,
The step of polishing to expose the cross section of the first ferromagnetic thin film (11) on the upper surface, and the gap spacer (4) on the upper surface of the large substrate (6).
After forming the non-magnetic thin film and the second ferromagnetic thin film (12) which are to be formed on each other, an etching process is performed to form narrow portions (4a) (12a) substantially equal to the track width of the recording medium, and 1. Forming the ferromagnetic thin film (11) in the same width as the narrow portions (4a), (12a), and the third substrate having a lower melting point than the second glass (16) on the small substrate (8).
Filling the glass (17) and exposing a magnetic material that allows the passage of magnetic flux on the abutting surface with the large substrate (6),
The large board (6) and the small board (8) are butt-joined to each other to form a small board.
The magnetic material exposed from (8) and the second ferromagnetic thin film (12) of the large substrate (6) are brought into contact with each other and sliced along the plane orthogonal to the track width.

【0013】[0013]

【作用及び効果】本発明による磁気ヘッドの製造方法で
は、デプスエンド溝(61)を切削加工にて形成する際に、
予め切削加工が不要な第1ガラス(31)が除去され、第1
ガラス(31)はギャップ部となる箇所のみが残されている
から、切削加工に用いるブレードが削るべき第1ガラス
(31)の層の長さは、従来の磁気ヘッドに比して少ない。
従って、ブレードに加わる加工抵抗も小さくなり、小基
板(8)及び第1ガラス(31)の層をスムーズに切削でき
る。
In the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, when the depth end groove (61) is formed by cutting,
The first glass (31) that does not require cutting is removed in advance,
The glass (31) is the first glass to be cut by the blade used for cutting, since only the gap part is left.
The layer length of (31) is shorter than that of the conventional magnetic head.
Therefore, the processing resistance applied to the blade is also reduced, and the small substrate (8) and the first glass (31) layer can be cut smoothly.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に、本発明に係わる磁気ヘッ
ドについて説明する。従来と同一の構成については、同
一符号を用い、説明を省略する。以下に示す磁気ヘッド
は、ハードディスクドライブ装置に使用されるものであ
り、ハードディスクドライブ装置は、図24に示す如
く、装置本体(7)内に複数のハードディスク(71)(71)を
上下に並列して、回転機構(図示しない)により回転して
いる。各ハードディスク(71)に対応して、先端部に磁気
ヘッドスライダ(9)を取り付けたヘッド支持機構(72)が
装置本体(7)内に配備され、磁気ヘッドスライダ(9)
は、ハードディスク(71)の高速回転に起因する空気圧に
よって、数10nm浮上し、ハードディスク(71)への信号
の記録再生が行なわれる。磁気ヘッドスライダ(9)は、
図25に示すように、上面にエアベアリング部(91)を有
するスライダ本体(90)に、嵌合溝(92)を開設し、該嵌合
溝(92)に以下に示す各磁気ヘッド(3)を嵌め込み固定し
て形成される。図17に示すように、記録時にはハード
ディスク(71)上に、ディスク中心と同心のトラック(73)
が隙間なく記録される。再生時には、周知の如く、磁気
ヘッド(3)は該トラック(73)をトレースする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A magnetic head according to the present invention will be described below. The same reference numerals are used for the same configurations as the conventional one, and the description is omitted. The magnetic head shown below is used in a hard disk drive device, and the hard disk drive device has a plurality of hard disks (71) (71) arranged vertically in parallel in the device body (7) as shown in FIG. And is rotated by a rotating mechanism (not shown). A head support mechanism (72) having a magnetic head slider (9) attached to the tip end of the magnetic head slider (9) is provided corresponding to each hard disk (71).
Is floated by several tens of nm by the air pressure caused by the high-speed rotation of the hard disk (71), and the signal is recorded / reproduced on / from the hard disk (71). The magnetic head slider (9)
As shown in FIG. 25, a fitting groove (92) is formed in a slider body (90) having an air bearing portion (91) on its upper surface, and the magnetic head (3) shown below is formed in the fitting groove (92). ) Is fitted and fixed. As shown in FIG. 17, when recording, on the hard disk (71), a track (73) concentric with the disk center
Is recorded without gaps. During reproduction, as is well known, the magnetic head (3) traces the track (73).

【0015】(第1実施例)本例に於いては、後記するよ
うに、磁気ヘッド(3)の製造方法に特徴があり、磁気ヘ
ッド(3)の構造は、図1と同じである。第3強磁性薄膜
(20)の厚みは数μm、第2突き合わせ半体(2)の厚みは
百数十μmに設定される。また、ギャップデプスは、2
μm前後に形成される。ハードディスク再生時に於い
て、反時計方向の磁束は、図2に一点鎖線で示すよう
に、第2強磁性薄膜(12)、第3強磁性薄膜(20)を通過し
て、コア半体部材(14)内を周回し、第1強磁性薄膜(11)
からハードディスクに抜ける。ギャップデプスを浅くし
て第2強磁性薄膜(12)に対向する第1強磁性薄膜(11)の
垂直面(11a)の面積を小さく設けることにより、磁
気抵抗が大きくなり、磁束は対向面側ギャップスペーサ
(4)を通過して、第2強磁性薄膜(12)から直接第1強
磁性薄膜(11)に達することを防ぐ。
(First Embodiment) In the present embodiment, as will be described later, the method of manufacturing the magnetic head (3) is characteristic, and the structure of the magnetic head (3) is the same as that of FIG. Third ferromagnetic thin film
The thickness of (20) is set to several μm, and the thickness of the second butting half (2) is set to several hundred tens μm. Also, the gap depth is 2
It is formed around μm. During reproduction from the hard disk, the counterclockwise magnetic flux passes through the second ferromagnetic thin film (12) and the third ferromagnetic thin film (20), as shown by the alternate long and short dash line in FIG. Orbiting inside 14), the first ferromagnetic thin film (11)
To the hard disk. By making the gap depth shallow and providing a small area for the vertical surface (11a) of the first ferromagnetic thin film (11) facing the second ferromagnetic thin film (12), the magnetic resistance increases and the magnetic flux is on the opposite surface side. It prevents the second ferromagnetic thin film (12) from directly reaching the first ferromagnetic thin film (11) through the gap spacer (4).

【0016】更に、奥部側ギャップスペーサ(40)と第2
強磁性薄膜(12)との対向面積が大きいから、磁気抵抗が
少なく、磁束は奥部側ギャップスペーサ(40)をスムーズ
に通過する。かかる磁束の通過による再生出力がコイル
(30)から取り出される。尚、図1に於いて、第3強磁性
薄膜(20)の残り部分(200)が磁気ヘッド(3)の上面及び
側面に露出しているのは、磁気ヘッド(3)の製造上の都
合によるものであり、本願の技術的特徴をなすものでは
ない。また、該残り部分(200)はギャップスペーサ(4)
から離れ、かつ周囲が非磁性材で囲まれているので、磁
気ヘッド(3)の磁気特性に影響を与えない。
Further, the back side gap spacer (40) and the second
Since the area facing the ferromagnetic thin film (12) is large, the magnetic resistance is small, and the magnetic flux smoothly passes through the inner gap spacer (40). The reproduction output due to the passage of such magnetic flux is the coil
Taken out from (30). In FIG. 1, the remaining portion (200) of the third ferromagnetic thin film (20) is exposed on the top and side surfaces of the magnetic head (3) for the convenience of manufacturing the magnetic head (3). It is due to the above, and does not form the technical feature of the present application. The remaining portion (200) is a gap spacer (4).
The magnetic characteristics of the magnetic head (3) are not affected because the magnetic head (3) is separated from and is surrounded by a non-magnetic material.

【0017】かかる磁気ヘッド(3)は、以下のように製
造される。まず、従来と同様に、図4に示すように、M
n−Znフェライトからなり、第1突き合わせ半体(1)
となるべき大基板(6)の上面に第1ガラス充填溝(60)を
形成した後に、該第1ガラス充填溝(60)に、第1ガラス
(31)を充填する。この後の工程が従来と異なる。次に、
図4に一点鎖線で示すように、第1ガラス(31)の上にレ
ジスト(35)(35)を形成する。該レジスト(35)(35)は磁気
ヘッド(3)形成時にギャップ部となる箇所上にのみ形成
され、各レジスト(35)の幅rは約90μmである。この
後、図5に示すように、フッ酸・フッ化アンモニウム混
合液を使用して、エッチング加工を行ない、レジスト(3
5)(35)を設けていない箇所に充填された第1ガラス(31)
を一部除去する。該エッチング加工により、第1ガラス
(31)の層上には凹部(36)(36)が形成される。各凹部(36)
の深さは、約20μmであり、幅r1は約180μmであ
る。尚、エッチング加工の代わりに、サンドブラスト加
工を施してもよい。
The magnetic head (3) is manufactured as follows. First, as in the conventional case, as shown in FIG.
Consisting of n-Zn ferrite, the first butting half (1)
After forming the first glass filling groove (60) on the upper surface of the large substrate (6) to be formed, the first glass filling groove (60) is formed in the first glass filling groove (60).
Fill (31). The subsequent process is different from the conventional one. next,
As shown by the dashed line in FIG. 4, resists (35) and (35) are formed on the first glass (31). The resists (35) and (35) are formed only on the portions that will become the gaps when the magnetic head (3) is formed, and the width r of each resist (35) is about 90 μm. After that, as shown in FIG. 5, etching treatment is performed using a mixed solution of hydrofluoric acid and ammonium fluoride, and the resist (3
5) The first glass (31) filled in the place where (35) is not provided
Are partially removed. By the etching process, the first glass
Recesses (36) and (36) are formed on the layer of (31). Each recess (36)
Has a depth of about 20 μm and a width r1 of about 180 μm. Note that sandblasting may be performed instead of etching.

【0018】次に、図6乃至図8に示すように、ブレー
ド(37)を用いて第1ガラス充填溝(60)に一部掛かるよう
に、断面三角形のデプスエンド溝(61)を形成する。図7
は図6の側面図、図8は図6をY方向から見た斜視図で
ある。この際、ブレード(37)は、フェライトからなる大
基板(6)と、第1ガラス(31)の層を削るが、予めエッチ
ング加工により、不要な第1ガラス(31)が除去され、第
1ガラス(31)はギャップ部となる箇所のみが残されてい
るから、ブレード(37)が削るべき第1ガラス(31)の層の
長さは、従来のものに比して少ない。従って、ブレード
(37)に加わる加工抵抗も小さく、後記するように、小基
板(8)及び第1ガラス(31)の層をスムーズに切削でき
る。
Next, as shown in FIGS. 6 to 8, a depth end groove (61) having a triangular cross section is formed by using a blade (37) so as to partially hang on the first glass filling groove (60). . Figure 7
6 is a side view of FIG. 6, and FIG. 8 is a perspective view of FIG. 6 viewed from the Y direction. At this time, the blade (37) scrapes the large substrate (6) made of ferrite and the layer of the first glass (31), but the unnecessary first glass (31) is removed by etching in advance, and the first glass (31) is removed. Since the glass (31) is left only at the gap portion, the length of the layer of the first glass (31) to be cut by the blade (37) is shorter than that of the conventional one. Therefore, the blade
The processing resistance applied to (37) is also small, and the layer of the small substrate (8) and the first glass (31) can be cut smoothly as will be described later.

【0019】次に、大基板(6)の上面全体に第1強磁性
薄膜(11)を被着し、その上に、図9に示すように、第1
ガラス(31)より低融点の第2ガラス(16)を充填する。第
2ガラス(16)充填後に上面を研削・研磨して、第1強磁
性薄膜(11)の断面を第2ガラス(16)と同一面内に露出さ
せる。第1ガラス(31)の層上に凹部が形成されているた
め、その付近では第1強磁性薄膜(11)の成膜下地面が小
面積の部分領域に分割され、第1強磁性薄膜(11)内に残
留する応力が分散されて、該第1強磁性薄膜(11)の剥離
が防止される。ここで第2ガラス(16)が第1ガラス(31)
よりも低融点なのは、仮に第2ガラス(16)が第1ガラス
(31)よりも高融点又は同一融点であれば、第2ガラス(1
6)充填時に、第1ガラス(31)が溶け出し、デプスエンド
溝(61)上の第1強磁性薄膜(11)が崩れるおそれがあるか
らである。
Next, the first ferromagnetic thin film (11) is deposited on the entire upper surface of the large substrate (6), and the first ferromagnetic thin film (11) is formed on the first ferromagnetic thin film (11) as shown in FIG.
A second glass (16) having a melting point lower than that of the glass (31) is filled. After filling the second glass (16), the upper surface is ground and polished to expose the cross section of the first ferromagnetic thin film (11) in the same plane as the second glass (16). Since the concave portion is formed on the layer of the first glass (31), the film-forming underlayer surface of the first ferromagnetic thin film (11) is divided into small partial areas in the vicinity thereof, and the first ferromagnetic thin film ( The residual stress in 11) is dispersed, and peeling of the first ferromagnetic thin film 11 is prevented. Here, the second glass (16) is the first glass (31)
The second glass (16) has a lower melting point than the first glass.
If the melting point is higher than or the same as that of (31), the second glass (1
6) At the time of filling, the first glass (31) may melt and the first ferromagnetic thin film (11) on the depth end groove (61) may collapse.

【0020】次に、図10に示すように、大基板(6)の
上面に、ギャップスペーサ(4)(40)となる非磁性薄膜と
第2強磁性薄膜(12)をスパッタリング等により重ねて形
成した後に、上面にレジストパターンを形成してエッチ
ング処理を施し、対向面側ギャップスペーサ(4)と奥部
側ギャップスペーサ(40)となる部分を残す。この際に
は、第1ガラス(31)、第2ガラス(16)の層の表面を一部
除去することがある(図12参照)。従来と同様に、各ギ
ャップスペーサ(4)(40)は、その上に重なる第2強磁性
薄膜(12)と同一形状に形成される。対向面側ギャップス
ペーサ(4)は、幅狭部(4a)と、該幅狭部(4a)よりも内
側に位置する幅広部(4b)とを一体に具える。また、該
エッチング工程により、第1強磁性薄膜(11)の先端部
は、幅狭部(4a)(12a)と同幅に形成される。
Next, as shown in FIG. 10, a non-magnetic thin film to be the gap spacers (4) and (40) and a second ferromagnetic thin film (12) are superposed on the upper surface of the large substrate (6) by sputtering or the like. After the formation, a resist pattern is formed on the upper surface and an etching process is performed to leave a portion to be the facing surface side gap spacer (4) and the back side gap spacer (40). At this time, the surfaces of the layers of the first glass (31) and the second glass (16) may be partially removed (see FIG. 12). As in the conventional case, each gap spacer (4) (40) is formed in the same shape as the second ferromagnetic thin film (12) overlying it. The facing surface side gap spacer (4) integrally includes a narrow portion (4a) and a wide portion (4b) located inside the narrow portion (4a). By the etching process, the tip portion of the first ferromagnetic thin film (11) is formed to have the same width as the narrow portions (4a) and (12a).

【0021】ギャップスペーサ(4)及び第2強磁性薄膜
(12)の幅狭部(4a)(12a)を第1強磁性薄膜(11)と同時に
エッチング処理にて形成することにより、幅狭部(4a)
(12a)及び第1強磁性薄膜(11)の幅は、トラック幅に合
致して正確に定まる。また、図13に一点鎖線で示すよ
うに、エッチング工程に於いて、幅狭部(12a)の先端に
幅狭部(12a)より広い冗長部(12c)を設け、後工程で、冗
長部(12c)を除去すれば、幅狭部(12a)の幅寸法を精度よ
く形成できることが確認されている。この後に、図11
及び図12に示すように、対向面側、奥部側ギャップス
ペーサ(4)(40)間に、コイル巻線溝(15)を開設する。
Gap spacer (4) and second ferromagnetic thin film
By forming the narrow portions (4a) and (12a) of (12) simultaneously with the first ferromagnetic thin film (11) by etching, the narrow portions (4a)
The widths of (12a) and the first ferromagnetic thin film (11) are accurately determined according to the track width. In addition, as shown by the alternate long and short dash line in FIG. 13, in the etching process, a redundant portion (12c) wider than the narrow portion (12a) is provided at the tip of the narrow portion (12a), and the redundant portion ( It has been confirmed that the width dimension of the narrow portion (12a) can be accurately formed by removing 12c). After this, FIG.
Further, as shown in FIG. 12, a coil winding groove (15) is provided between the facing surface side and the back side gap spacers (4) and (40).

【0022】第1突き合わせ半体(1)と突き合わさるべ
き第2突き合わせ半体(2)は、従来と同様に、図30乃
至図31に示す工程を経て形成されるので、詳細な記載
を省く。次に、大基板(6)と小基板(8)を、図14に示
すように突き合わせ、加熱して第3ガラス(17)のみを溶
融させる。第2予備加工溝(81)を充填した第3ガラス(1
7)はギャップ部の側方に表面張力により流れ込み、大基
板(6)と小基板(8)を接合する。しかる後に、各ブロッ
ク毎にP−P線で切断して、側面を研磨し、図1に示す
磁気ヘッド(3)を得る。図15は、切断した各ブロック
の中心断面図であり、この状態で、C−C線、D−D
線、X−X線に沿って、不要な箇所を切削し、磁気ヘッ
ド(3)が作成される。図16は、第1突き合わせ半体
(1)のギャップ部の拡大斜視図であるが、第1強磁性薄
膜(11)の上端破断面と第2強磁性薄膜(12)の幅狭部(12
a)の上面が、記録媒体との対向面に露出する。
Since the first butting half body (1) and the second butting half body (2) to be butted are formed through the steps shown in FIGS. 30 to 31 as in the conventional case, detailed description thereof will be omitted. . Next, the large substrate (6) and the small substrate (8) are butted against each other as shown in FIG. 14 and heated to melt only the third glass (17). The third glass (1) filled with the second pre-processed groove (81)
7) flows into the side of the gap due to surface tension, and joins the large substrate (6) and the small substrate (8). Then, each block is cut along the line P-P and the side surface is polished to obtain the magnetic head (3) shown in FIG. FIG. 15 is a central cross-sectional view of each of the cut blocks, and in this state, the line CC and the line DD
A magnetic head (3) is created by cutting unnecessary portions along the line and the XX line. FIG. 16 shows the first butting half
FIG. 3 is an enlarged perspective view of the gap portion of (1), showing a top end fracture surface of the first ferromagnetic thin film (11) and a narrow portion (12) of the second ferromagnetic thin film (12).
The upper surface of a) is exposed on the surface facing the recording medium.

【0023】本例に係わる磁気ヘッド(3)の製造方法に
あっては、前記の如く、ブレード(37)に加わる加工抵抗
を小さくし、小基板(8)及び第1ガラス(31)の層をスム
ーズに切削することを目的とする。出願人は、従来の第
1突き合わせ半体(1)(図26参照)及びかかる製造方法
により作成した第1突き合わせ半体(1)を観察し、本例
の効果を確認した。図34は、観察手段を示す図であ
り、説明の便宜上、小基板(6)を実際よりも大きく描
く。デプスエンド溝(61)を切削加工した後の小基板(6)
を約45゜に傾けて、該切削加工後の第1ガラス(31)の
破断面上に、ビデオカメラ(96)付き顕微鏡(97)を設置す
る。ビデオカメラ(96)の画像は、モニタ(98)に写し出さ
れ、該画像は更にビデオプリンタ(99)により印刷され
る。また、顕微鏡(97)は接眼レンズにニコンM Plan 40
/0.40 SLWDを、対物レンズにニコンCF PL2.5Xを夫々
用い、ビデオカメラ(96)にはビクターTK-1280を、ビデ
オプリンタ(99)に三菱SCT-CP700を夫々用いた。
In the method of manufacturing the magnetic head (3) according to this example, as described above, the processing resistance applied to the blade (37) is reduced, and the small substrate (8) and the first glass (31) layer are formed. The purpose is to cut smoothly. The applicant confirmed the effect of this example by observing the conventional first butting half (1) (see FIG. 26) and the first butting half (1) produced by such a manufacturing method. FIG. 34 is a view showing the observing means, and for convenience of explanation, the small substrate (6) is drawn larger than it actually is. Small substrate (6) after cutting the depth end groove (61)
Is tilted at about 45 ° and a microscope (97) with a video camera (96) is installed on the fracture surface of the first glass (31) after the cutting. The image of the video camera (96) is displayed on the monitor (98), and the image is further printed by the video printer (99). Also, the microscope (97) has a Nikon M Plan 40 attached to the eyepiece.
/0.40 SLWD was used for the objective lens, Nikon CF PL2.5X was used for the objective lens, Victor TK-1280 was used for the video camera (96), and Mitsubishi SCT-CP700 was used for the video printer (99).

【0024】出願人はまず、第1ガラス(31)を切削する
のに適したブレード(37)で、従来の第1突き合わせ半体
(1)のデプスエンド溝(61)を加工した。ブレード(37)は
メタル#1500の番手のものを使用した。すると、フ
ェライトからなる小基板(6)上にむしれ及び欠けが発生
した。次に、フェライトを切削するのに適したブレード
(37)で、従来の突き合わせ半体(1)のデプスエンド溝(6
1)を加工した。ブレード(37)はメタル#3000の番手
のものを使用した。フェライトからなる小基板(6)はス
ムーズに切削されたが、第1ガラス(31)の層上に切り粉
による目詰まりが発生した。
The Applicant firstly found that with a blade (37) suitable for cutting the first glass (31), a conventional first butt half was used.
The depth end groove (61) of (1) was processed. The blade (37) used had a metal # 1500 count. Then, peeling and chipping occurred on the small substrate (6) made of ferrite. Then a blade suitable for cutting ferrite
At (37), the depth end groove (6
1) was processed. The blade (37) was a metal # 3000. The small substrate (6) made of ferrite was cut smoothly, but the first glass (31) layer was clogged with cutting chips.

【0025】出願人は、フェライトを切削するのに適し
たブレード(37)で、本例に係わる第1突き合わせ半体
(1)のデプスエンド溝(61)を加工した。ブレード(37)は
メタル#3000の番手のものを使用した。フェライト
からなる小基板(6)は、スムーズに切削され、第1ガラ
ス(31)の層上に目詰まり等は発生しなかった。従って、
本発明に係わる製造方法により磁気ヘッド(3)を作成す
れば、フェライトからなる小基板(6)とデプスエンド溝
(61)に充填された第1ガラス(31)の層を、同一のブレー
ド(37)でスムーズに加工できることが実証された。
The Applicant has found that with a blade (37) suitable for cutting ferrites, the first butting half according to this example
The depth end groove (61) of (1) was processed. The blade (37) was a metal # 3000. The small substrate (6) made of ferrite was cut smoothly, and no clogging or the like occurred on the layer of the first glass (31). Therefore,
If the magnetic head 3 is manufactured by the manufacturing method according to the present invention, the small substrate 6 made of ferrite and the depth end groove are formed.
It was demonstrated that the layer of the first glass (31) filled in (61) could be processed smoothly with the same blade (37).

【0026】尚、第3強磁性薄膜(20)と、第2強磁性薄
膜(12)の幅広部(12b)の接合を強固にするためには、図
14に示す接合工程の前工程に於いて、少なくとも一方
の薄膜(20)(12)の突き合わせ面上に、厚さが20nm程度
のSiO2からなる膜と、厚さが45nm程度のガラスから
なる膜を重ねて形成しておくとよい。この場合、膜を形
成することで、磁気抵抗の増大が考えられる。しかし、
第3強磁性薄膜(20)に接合する第2強磁性薄膜(12)の幅
広部(12b)が、幅狭部(12a)に対して十分広いので、磁気
抵抗はそれほど増大せず、実用上支障ないことが出願人
により確認されている。更に溶融した第3ガラス(17)に
よって、第1、第2強磁性薄膜(11)(12)の側面が浸食さ
れないために、上記SiO2とガラスからなる膜と第2強
磁性薄膜(12)との間に、厚さ10nm程度のCr膜を介在
させてもよい。
In order to strengthen the bond between the third ferromagnetic thin film (20) and the wide portion (12b) of the second ferromagnetic thin film (12), the process before the bonding process shown in FIG. 14 is performed. Then, it is advisable to form a film made of SiO2 having a thickness of about 20 nm and a film made of glass having a thickness of about 45 nm in an overlapping manner on the abutting surfaces of at least one of the thin films (20) and (12). In this case, it is considered that the magnetic resistance is increased by forming the film. But,
Since the wide portion (12b) of the second ferromagnetic thin film (12) joined to the third ferromagnetic thin film (20) is sufficiently wider than the narrow portion (12a), the magnetic resistance does not increase so much and it is practically used. The applicant has confirmed that there is no problem. Further, since the side surfaces of the first and second ferromagnetic thin films (11) and (12) are not eroded by the melted third glass (17), the film composed of SiO 2 and glass and the second ferromagnetic thin film (12) A Cr film having a thickness of about 10 nm may be interposed between the and.

【0027】尚、図18に示すように、第2強磁性薄膜
(12)とギャップスペーサ(4)の幅広部(12b)(4b)を磁気
ヘッド(3)の側面に露出させてもよい。これにより磁気
ヘッド(3)の製造中に、ギャップデプスを容易に確認で
きる。該磁気ヘッド(3)の製造工程は、上記磁気ヘッド
(3)の製造工程とほぼ同様であるが、大基板(6)のエッ
チング工程に於いて、図19に示すように、大基板(6)
上に並列して形成される対向面側ギャップスペーサ(4)
及び第2強磁性薄膜(12)の幅広部(4b)(12b)をトラック
幅方向に延長し、連結杆(41)で繋ぐ。この状態で、コイ
ル巻線溝(15)を形成した後に、大基板(6)と小基板(8)
を突き合わせ、ガラス溶着した後に、スライスする。こ
の後上記と同様に不要な部分を切断すると、図18に示
す磁気ヘッド(3)が得られる。
As shown in FIG. 18, the second ferromagnetic thin film
(12) and the wide portions (12b) (4b) of the gap spacer (4) may be exposed on the side surface of the magnetic head (3). This allows the gap depth to be easily confirmed during the manufacture of the magnetic head (3). The manufacturing process of the magnetic head (3) is the same as the above magnetic head.
Although it is almost the same as the manufacturing process of (3), in the etching process of the large substrate (6), as shown in FIG.
Opposing gap spacers (4) formed in parallel on top
Also, the wide portions (4b) (12b) of the second ferromagnetic thin film (12) are extended in the track width direction and connected by the connecting rod (41). In this state, after forming the coil winding groove (15), the large substrate (6) and the small substrate (8)
Butt, weld glass, and slice. After this, if unnecessary portions are cut in the same manner as above, the magnetic head (3) shown in FIG. 18 is obtained.

【0028】(第2実施例)第1突き合わせ半体(1)に図
11と同じものを用い、第2突き合わせ半体(2)を替え
れば、図20に示す磁気ヘッド(3)を得ることができ
る。図21は、図20の磁気ヘッド(3)をG−G線で切
断した断面図である。磁気ヘッド(3)は、第1実施例と
同じように、第1突き合わせ半体(1)の前面に、第2突
き合わせ半体(2)を突き合わせて成るが、第2突き合わ
せ半体(2)は磁性材からなる基体(5)のハードディスク
との対向面を、非磁性材で第2ガラス(16)よりも低融点
の第3ガラス(17)で被覆してなる。
(Second Embodiment) A magnetic head (3) shown in FIG. 20 is obtained by using the same first butt half (1) as in FIG. 11 and replacing the second butt half (2). You can 21 is a cross-sectional view of the magnetic head (3) of FIG. 20 taken along the line GG. The magnetic head (3) comprises a second butting half (2) butted against the front surface of the first butting half (1) as in the first embodiment. Is formed by coating the surface of the base body (5) made of a magnetic material facing the hard disk with a third glass (17) which is a non-magnetic material and has a melting point lower than that of the second glass (16).

【0029】ハードディスクの再生時に於いて、反時計
方向の磁束は、図21に一点鎖線で示すように、第2強
磁性薄膜(12)、第2突き合わせ半体(2)、コア半体部材
(14)、第1強磁性薄膜(11)内を通過する。第1突き合わ
せ半体(1)との対向面の中央部には、第3ガラス(17)が
充填される充填溝(50)が開設され、該充填溝(50)内の第
3ガラス(17)は、溶融してギャップ部の側方に流れ込
み、両突き合わせ半体(1)(2)を接合する。第1突き合
わせ半体(1)は第1実施例と同じものであり、第2突き
合わせ半体(2)のみが第1実施例と異なる。本例に係わ
る磁気ヘッド(3)の第2突き合わせ半体(2)の製造方法
は、出願人が以前特願平8−234901号(未公開)に
て示しており、詳細な記載を省略する。
When reproducing the hard disk, the counterclockwise magnetic flux has a second ferromagnetic thin film (12), a second butting half body (2), and a core half body member, as shown by a chain line in FIG.
(14) Passes through the first ferromagnetic thin film (11). A filling groove (50) for filling the third glass (17) is formed in the center of the surface facing the first butting half (1), and the third glass (17) in the filling groove (50) is opened. ) Melts and flows into the side of the gap portion, and joins the two butt halves (1) and (2). The first butting half (1) is the same as that of the first embodiment, and only the second butting half (2) is different from that of the first embodiment. The method of manufacturing the second butting half body (2) of the magnetic head (3) according to this example has been shown by the applicant in Japanese Patent Application No. 8-234901 (not yet published), and detailed description thereof will be omitted. .

【0030】(第3実施例)図22は、他の磁気ヘッド
(3)の斜視図であり、図23A、Bは、磁気ヘッド(3)
をI−I線で切断し、夫々左、右側から見た側面図であ
る。この磁気ヘッド(3)の断面は、図21に示したもの
とほぼ同じであるが、充填溝(50)内の第3ガラス(17)の
量が図21よりも少ない。これは、磁気ヘッド製造上の
都合であり、技術的特徴ではない。磁気ヘッド(3)は、
側面に対向面側ギャップスペーサ(4)と第2強磁性薄膜
(12)を露出させた第1突き合わせ半体(1)に、ハードデ
ィスクとの対向面を非磁性の第3ガラス(17)で覆った第
2突き合わせ半体(2)を突き合わせ接合したものであ
る。
(Third Embodiment) FIG. 22 shows another magnetic head.
FIG. 23A and FIG. 23B are perspective views of the magnetic head (3).
FIG. 3 is a side view as seen from the left and right sides, respectively, taken along line I-I. The cross section of the magnetic head (3) is almost the same as that shown in FIG. 21, but the amount of the third glass (17) in the filling groove (50) is smaller than that in FIG. This is a magnetic head manufacturing convenience and is not a technical feature. The magnetic head (3)
Opposing gap spacer (4) and second ferromagnetic thin film on the side surface
The first butt half body (1) exposing the (12) is butt-joined with the second butt half body (2) whose non-magnetic third glass (17) covers the surface facing the hard disk. .

【0031】第2突き合わせ半体(2)は、磁性材からな
る基体(5)の上下面及び両側面を第3ガラス(17)で被覆
し、これにより第2突き合わせ半体(2)の機械的強度を
向上させている。本例にあっては、第1突き合わせ半体
(1)は図18に示したものと同じものであり、第2突き
合わせ半体(2)が異なる。出願人は該第2突き合わせ半
体(2)の製造方法も、以前特願平8−234901号
(未公開)にて示しており、詳細な記載を省略する。
The second butting half (2) is coated with the third glass (17) on the upper and lower surfaces and both side surfaces of the base body (5) made of a magnetic material, whereby the second butting half (2) is machined. It improves the physical strength. In this example, the first butting half
(1) is the same as that shown in FIG. 18, but the second butting half (2) is different. The Applicant has also described the method for producing the second butting half (2) in Japanese Patent Application No. 8-234901.
(Unpublished) and detailed description is omitted.

【0032】上記実施例の説明は、本発明を説明するた
めのものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定
し、或は範囲を減縮する様に解すべきではない。又、本
発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求の範囲
に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能であることは
勿論である。
The above description of the embodiments is for explaining the present invention and should not be construed as limiting the invention described in the claims or reducing the scope. The configuration of each part of the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and it goes without saying that various modifications can be made within the technical scope described in the claims.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】磁気ヘッドの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a magnetic head.

【図2】図1をA−A線で切断した破断図である。FIG. 2 is a cutaway view of FIG. 1 taken along the line AA.

【図3】図1の磁気ヘッドをB−B線で切断した断面図
であり、Aは左側面図、Bは右側面図である。
3 is a cross-sectional view of the magnetic head of FIG. 1 taken along line BB, where A is a left side view and B is a right side view.

【図4】第1ガラス充填溝に第1ガラスを充填した後
に、レジストを形成した大基板の斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a large substrate on which a resist is formed after filling a first glass in a first glass filling groove.

【図5】図4の大基板にエッチング加工を施した状態の
斜視図である。
5 is a perspective view showing a state where the large substrate of FIG. 4 is subjected to etching processing.

【図6】ブレードでデプスエンド溝を形成した大基板の
斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view of a large substrate having a depth end groove formed by a blade.

【図7】図6の大基板の側面図である。FIG. 7 is a side view of the large substrate of FIG.

【図8】図6の大基板をY方向から見た図である。FIG. 8 is a diagram of the large substrate of FIG. 6 viewed from the Y direction.

【図9】第1強磁性薄膜を形成した後に、第2ガラスを
充填した大基板の斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view of a large substrate filled with a second glass after forming a first ferromagnetic thin film.

【図10】エッチング処理を施し、ギャップスペーサと
第2強磁性薄膜を形成した大基板の斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view of a large substrate on which a gap spacer and a second ferromagnetic thin film have been formed by performing an etching process.

【図11】図10の大基板にコイル巻線溝を形成した状
態の斜視図である。
11 is a perspective view showing a state in which a coil winding groove is formed on the large substrate of FIG.

【図12】図11の大基板をM−M線で切断した断面図
である。
12 is a sectional view of the large substrate of FIG. 11 taken along line MM.

【図13】冗長部を形成した大基板の要部斜視図であ
る。
FIG. 13 is a perspective view of a main portion of a large substrate on which a redundant portion is formed.

【図14】小基板と大基板の突き合わせ状態を示す斜視
図である。
FIG. 14 is a perspective view showing a butted state of a small board and a large board.

【図15】図14に示す大基板と小基板をP−P線で切
断したブロックの中心断面図である。
15 is a central cross-sectional view of a block obtained by cutting the large substrate and the small substrate shown in FIG. 14 along the line P-P.

【図16】第1突き合わせ半体のギャップ部の斜視図で
ある。
FIG. 16 is a perspective view of a gap portion of a first butting half body.

【図17】ハードディスク上のトラックと磁気ヘッドの
関係を示す平面図である。
FIG. 17 is a plan view showing the relationship between tracks on a hard disk and a magnetic head.

【図18】ギャップスペーサと第2強磁性薄膜を側方に
露出させた磁気ヘッドの斜視図である。
FIG. 18 is a perspective view of a magnetic head in which a gap spacer and a second ferromagnetic thin film are laterally exposed.

【図19】図18の磁気ヘッドに用いる大基板のエッチ
ング加工後の斜視図である。
FIG. 19 is a perspective view of a large substrate used in the magnetic head of FIG. 18 after etching processing.

【図20】第2実施例の磁気ヘッドの斜視図である。FIG. 20 is a perspective view of a magnetic head of a second embodiment.

【図21】図20の磁気ヘッドをG−G線で切断した断
面図である。
21 is a cross-sectional view of the magnetic head of FIG. 20 taken along line GG.

【図22】第3実施例の磁気ヘッドの斜視図である。FIG. 22 is a perspective view of a magnetic head of a third embodiment.

【図23】図22の磁気ヘッドをI−I線で切断した断
面図であり、Aは左側面図、Bは右側面図である。
23 is a sectional view of the magnetic head of FIG. 22 taken along the line I-I, in which A is a left side view and B is a right side view.

【図24】ハードディスクが設けられた装置本体内部の
斜視図である。
FIG. 24 is a perspective view of the inside of the apparatus main body provided with a hard disk.

【図25】スライダ本体の斜視図である。FIG. 25 is a perspective view of a slider body.

【図26】従来の磁気ヘッドの製造方法に於いて、デプ
スエンド溝を形成した大基板の斜視図である。
FIG. 26 is a perspective view of a large substrate in which a depth end groove is formed in a conventional method of manufacturing a magnetic head.

【図27】デプスエンド溝に第2ガラスを充填した大基
板の斜視図である。
FIG. 27 is a perspective view of a large substrate having a depth end groove filled with a second glass.

【図28】エッチング工程後の大基板の斜視図である。FIG. 28 is a perspective view of a large substrate after an etching process.

【図29】コイル巻線溝を形成した後の大基板の斜視図
である。
FIG. 29 is a perspective view of the large substrate after forming the coil winding groove.

【図30】第2予備加工溝と凹溝を形成した小基板の斜
視図である。
FIG. 30 is a perspective view of a small substrate on which a second preliminary processing groove and a concave groove are formed.

【図31】図31の小基板に第2ガラスを充填した状態
の斜視図である。
31 is a perspective view showing a state where the small substrate of FIG. 31 is filled with the second glass. FIG.

【図32】小基板と大基板の突き合わせ状態を示す斜視
図である。
FIG. 32 is a perspective view showing a butted state of a small substrate and a large substrate.

【図33】図32の大基板と小基板をP−P線で切断し
たブロックの中心断面図である。
33 is a central cross-sectional view of a block obtained by cutting the large substrate and the small substrate of FIG. 32 along the line P-P.

【図34】第1突き合わせ半体の観察装置を示す図であ
る。
FIG. 34 is a diagram showing an observation device of a first butting half body.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

(1) 第1突き合わせ半体 (2) 第2突き合わせ半体 (4) ギャップスペーサ (6) 大基板 (8) 小基板 (11) 第1強磁性薄膜 (12) 第2強磁性薄膜 (15) コイル巻線溝 (16) 第2ガラス (17) 第3ガラス (20) 第3強磁性薄膜 (31) 第1ガラス (80) 凹溝 (81) 第2予備加工溝 (1) First butt half (2) Second butt half (4) Gap spacer (6) Large substrate (8) Small board (11) First ferromagnetic thin film (12) Second ferromagnetic thin film (15) Coil winding groove (16) Second glass (17) Third glass (20) Third ferromagnetic thin film (31) First glass (80) Groove (81) Second pre-machined groove

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/127 - 5/255 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G11B 5/127-5/255

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 前面にギャップ部となるべきギャップス
ペーサ(4)を設けた第1突き合わせ半体(1)に、磁性材
を含む第2突き合わせ半体(2)を突き合わせて、記録媒
体との間で磁束の周回通過を許す磁気ヘッドの製造方法
であって、 第1突き合わせ半体(1)の一部となるべき強磁性の大基
板(6)と、第2突き合わせ半体(2)の一部となるべき小
基板(8)を用意し、 該大基板(6)上に記録媒体のトラック幅方向に沿う第1
ガラス充填溝(60)を形成し、該第1ガラス充填溝(60)に
第1ガラス(31)を充填する工程と、 第1ガラス充填溝(60)内にて、ギャップ部となるべき箇
所を除く箇所に充填された第1ガラス(31)を一部除去す
ることにより、第1ガラス(31)の層上に凹部(36)(36)を
形成する工程と、 該大基板(6)上に、トラック幅方向に沿って、第1ガラ
ス充填溝(60)に一部掛かるデプスエンド溝(61)を切削加
工により形成する工程と、 該大基板(6)の上面全体に第1強磁性薄膜(11)を被着
し、その上に第1ガラス(31)より低融点の第2ガラス(1
6)を充填して、第1ガラス充填溝(60)及びデプスエンド
溝(61)を埋めて、上面を研削、研磨し、第1強磁性薄膜
(11)の断面を上面に露出させる工程と、 大基板(6)の上面に、ギャップスペーサ(4)となる非磁
性薄膜と第2強磁性薄膜(12)を重ねて成膜した後に、エ
ッチング処理を施し、記録媒体のトラック幅に略等しい
幅狭部(4a)(12a)を形成し、かつ第1強磁性薄膜(11)を
幅狭部(4a)(12a)と同じ幅に形成する工程と、 小基板(8)に前記第2ガラス(16)より低融点の第3ガラ
ス(17)を充填するとともに、大基板(6)との突き合せ面
上に磁束の通過を許す磁性材を露出させる工程と、 大基板(6)と小基板(8)を突き合わせ接合し、小基板
(8)から露出した磁性材と、大基板(6)の第2強磁性薄
膜(12)を接触させ、トラック幅に直交する面に沿ってス
ライスする磁気ヘッドの製造方法。
1. A second butting half body (2) containing a magnetic material is butted to a first butting half body (1) having a gap spacer (4) which is to be a gap portion on the front surface thereof, and a second butting half body (2) containing a magnetic material is formed. A method of manufacturing a magnetic head that allows circular passage of magnetic flux between two magnetic fields, comprising a large ferromagnetic substrate (6) to be a part of the first butting half (1) and a second butting half (2). A small substrate (8) to be a part is prepared, and a first substrate along the track width direction of the recording medium is provided on the large substrate (6).
A step of forming a glass filling groove (60) and filling the first glass filling groove (60) with the first glass (31); and a portion to be a gap in the first glass filling groove (60) A step of forming recesses (36) (36) on the layer of the first glass (31) by partially removing the first glass (31) filled in the area except for the large substrate (6) A step of forming a depth end groove (61) which partially hangs on the first glass filling groove (60) along the track width direction by cutting, and a first strength on the entire upper surface of the large substrate (6). A magnetic thin film (11) is adhered, and a second glass (1) having a melting point lower than that of the first glass (31) is deposited thereon.
6) to fill the first glass filling groove (60) and the depth end groove (61), and grind and polish the upper surface to form the first ferromagnetic thin film.
The step of exposing the cross section of (11) to the upper surface, and etching after the non-magnetic thin film to be the gap spacer (4) and the second ferromagnetic thin film (12) are superposed and formed on the upper surface of the large substrate (6). A narrow portion (4a) (12a) having a width substantially equal to the track width of the recording medium is formed, and the first ferromagnetic thin film (11) is formed to have the same width as the narrow portion (4a) (12a). A step of filling the small substrate (8) with the third glass (17) having a melting point lower than that of the second glass (16) and allowing the passage of magnetic flux on the abutting surface with the large substrate (6). The process of exposing
A method of manufacturing a magnetic head, wherein the magnetic material exposed from (8) is brought into contact with the second ferromagnetic thin film (12) of the large substrate (6) and sliced along a plane orthogonal to the track width.
【請求項2】 小基板(8)は非磁性材から形成され、ト
ラック幅方向に平行な凹溝(80)及び凹溝(80)に直交する
第2予備加工溝(81)が開設され、 小基板(8)の上面に、第2強磁性薄膜(12)に接するべき
第3強磁性薄膜(20)を形成した後に、凹溝(80)及び第2
予備加工溝(81)へ第3ガラス(17)を充填して、上面を研
磨して、第3強磁性薄膜(20)を露出させる請求項1に記
載の磁気ヘッドの製造方法。
2. The small substrate (8) is made of a non-magnetic material, and has a groove (80) parallel to the track width direction and a second pre-processing groove (81) orthogonal to the groove (80), After forming the third ferromagnetic thin film (20) to be in contact with the second ferromagnetic thin film (12) on the upper surface of the small substrate (8), the concave groove (80) and the second
The method of manufacturing a magnetic head according to claim 1, wherein the third glass (17) is filled in the pre-processed groove (81) and the upper surface is polished to expose the third ferromagnetic thin film (20).
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