JP3374008B2 - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JP3374008B2
JP3374008B2 JP15080796A JP15080796A JP3374008B2 JP 3374008 B2 JP3374008 B2 JP 3374008B2 JP 15080796 A JP15080796 A JP 15080796A JP 15080796 A JP15080796 A JP 15080796A JP 3374008 B2 JP3374008 B2 JP 3374008B2
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弘之 大野
孝雄 山野
清隆 伊藤
宏三 石原
和彦 古閑
詳史 福本
古澤  厚志
敏行 浦野
隆弘 小川
裕之 奥田
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスクド
ライブ等の磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッド及
びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head used in a magnetic recording / reproducing apparatus such as a hard disk drive and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュータ等の外部記憶装置としての
ハードディスクドライブに於いては、記録密度の向上が
求められており、それに使用される磁気ヘッドにも高抗
磁力の記録媒体に対応できる電磁変換特性、高周波の記
録再生信号に対応できるような低インダクタンス特性、
短波長の記録再生信号に対応できるギャップ長精度が要
求されている。このような動向に対応するために、以前
から一対のコア半体間に幅狭のギャップを形成し、各コ
ア半体のギャップとの突き合わせ面に、夫々強磁性の金
属薄膜を形成した所謂MIG(Metal In Gap)型の磁気
ヘッドが提案されている(特公平7−78853号参
照)。出願人はこのMIG型の磁気ヘッドを改良したも
のとして、以前第49図に示すものを開示している(特
開平6−259718号参照)。
2. Description of the Related Art In a hard disk drive as an external storage device for a computer or the like, it is required to improve the recording density, and the magnetic head used therefor has an electromagnetic conversion characteristic that can be applied to a recording medium having a high coercive force. , Low inductance characteristics to support high frequency recording / reproducing signals,
There is a demand for a gap length accuracy that can correspond to a recording / reproducing signal of a short wavelength. In order to respond to such a trend, a so-called MIG in which a narrow gap has been formed between a pair of core halves and a ferromagnetic metal thin film is formed on each of the abutting surfaces of the core halves, respectively. A (Metal In Gap) type magnetic head has been proposed (see Japanese Patent Publication No. 7-78853). The applicant has previously disclosed an improved MIG type magnetic head shown in FIG. 49 (see Japanese Patent Laid-Open No. 6-259718).

【0003】これは、何れもMn−Znフェライト等の磁
性材から形成された一対の第1、第2コア半体(13)(52)
を、SiO2等からなる非磁性のギャップスペーサ(4)を
介して突き合わせてなり、上面が記録媒体たるハードデ
ィスクに対向する。第2コア半体(52)の両側面には、補
強ガラス(54)(54)の層が配備され、ハードディスクとの
対向面上である上面に形成された凹部(55)(55)によりギ
ャップ幅Wが定められている。ギャップ幅Wはハードデ
ィスク上のトラック幅に略等しく設けられている。
This is a pair of first and second core halves (13) (52) each made of a magnetic material such as Mn-Zn ferrite.
Are abutted against each other through a non-magnetic gap spacer (4) made of SiO2 or the like, and the upper surface faces a hard disk as a recording medium. Layers of reinforcing glass (54) (54) are provided on both sides of the second core half (52), and gaps are formed by the recesses (55) (55) formed on the upper surface facing the hard disk. The width W is defined. The gap width W is set to be substantially equal to the track width on the hard disk.

【0004】第50図は第49図をQ−Q線で切断した
破断図である。第1コア半体(13)には前面が開口したコ
イル巻線溝(15)が開設され、第1コア半体(13)の前面で
コイル巻線溝(15)の上側には、斜め内向きに傾いた下地
面(19)が形成されている。該下地面(19)上には、第1コ
ア半体(13)の上面に臨出した垂直面(11a)と、該垂直面
(11a)の下端から連続し、下地面(19)に平行な傾斜面(11
b)とを一体に具えた第1強磁性薄膜(11)が形成されてい
る。第2コア半体(52)の第1強磁性薄膜(11)との対向面
上には、第2強磁性薄膜(12)が形成され、前記ギャップ
スペーサ(4)を介して、第1ガラス(16)により両コア半
体(13)(52)が接合されている。第1、第2強磁性薄膜(1
1)(12)は、何れもFeAlSi系の合金からなり、ハード
ディスク記録再生時に磁束は、第2強磁性薄膜(12)、コ
ア半体(13)(52)、第1強磁性薄膜(11)を周回通過する。
FIG. 50 is a cutaway view of FIG. 49 taken along the line Q-Q. A coil winding groove (15) having an open front surface is provided in the first core half body (13), and an obliquely inner portion is formed on the front side of the first core half body (13) above the coil winding groove (15). A base surface (19) inclined in the direction is formed. On the base surface (19), a vertical surface (11a) protruding to the upper surface of the first core half body (13) and the vertical surface (11a)
An inclined surface (11a) continuous from the lower end of (11a) and parallel to the base surface (19)
A first ferromagnetic thin film (11) integrally formed with b) is formed. A second ferromagnetic thin film (12) is formed on a surface of the second core half body (52) facing the first ferromagnetic thin film (11), and the first glass is formed through the gap spacer (4). Both core halves (13) and (52) are joined by (16). First and second ferromagnetic thin film (1
1) and 12) are both made of FeAlSi-based alloy, and the magnetic flux during recording / reproducing of the hard disk is the second ferromagnetic thin film (12), the core halves (13) (52), and the first ferromagnetic thin film (11). Go around.

【0005】第50図に於いて、ギャップスペーサ(4)
の厚みtをギャップ長、第1コア半体(13)上面から第1
強磁性薄膜(11)の傾斜面(11b)上端までの深さdをギャッ
プデプスと夫々呼ぶ。またギャップスペーサ(4)及びギ
ャップスペーサ(4)を挟む磁性材を、合わせてギャップ
部と呼ぶ。磁気ヘッド(3)にギャップスペーサ(4)を形
成するには、所謂突き合わせギャップ法と呼ばれる方法
が用いられる。突き合わせギャップ法とは、第51図に
示すように、コア半体(13)(52)となるべき一対の基板
(6)(8)を用意し、両基板(6)(8)の突き合わせ面上に予
めギャップスペーサ(4)となる非磁性層を形成してお
き、両基板(6)(8)を加圧して突き合わせ、ギャップス
ペーサ(4)を形成する方法である。接合された両基板
(6)(8)をスライスして磁気ヘッド(3)を得る。
In FIG. 50, the gap spacer (4)
Thickness t is the gap length, from the top of the first core half (13) to the first
The depth d to the upper end of the inclined surface (11b) of the ferromagnetic thin film (11) is called the gap depth, respectively. The gap spacer (4) and the magnetic material sandwiching the gap spacer (4) are collectively referred to as a gap portion. To form the gap spacer (4) on the magnetic head (3), a so-called butt gap method is used. The butt gap method, as shown in FIG. 51, is a pair of substrates to be core halves (13) (52).
(6) and (8) are prepared, and a non-magnetic layer to be the gap spacer (4) is formed on the abutting surfaces of both substrates (6) and (8) in advance, and both substrates (6) and (8) are added. In this method, the gap spacers (4) are formed by pressing them together. Both bonded substrates
(6) The magnetic head (3) is obtained by slicing (8).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記磁気ヘッドについ
て、出願人は以下の改良すべき点を発見した。 1. 従来の磁気ヘッド(3)では、第2コア半体(52)上の
ギャップ部から離れた箇所でも、ハードディスクとの対
向面に磁性材が露出している。しかし、かかる箇所の磁
性材は記録再生には不要であり、却って、磁気ヘッド
(3)のインダクタンスが大きくなる要因となっている。
また、磁束が第2コア半体(52)内をスムーズに通過する
為には、第2コア半体(52)内部の磁気抵抗は小さくする
必要がある。 2. ギャップスペーサ(4)を形成する上記何れの方法に
しても、両基板(6)(8)を押圧する際に、基板(6)(8)
の長手方向の全ての箇所を均一に密着させて、押圧する
のは困難である。従って、接合された基板(6)(8)をス
ライスして、磁気ヘッド(3)を形成した際に、ギャップ
スペーサ(4)の厚み、即ちギャップ長tがバラ付く。ギ
ャップ長のバラ付きは、磁気特性に与える影響が大きい
ことは言うまでもない。 3. ギャップデプスdの深さは、磁気特性に大きな影響
を与える。従って、磁気ヘッド(3)製造中に、ギャップ
デプスdを容易に確認できるのが望ましい。本発明の目
的は、インダクタンス値を大きくすることなく、磁束が
磁気ヘッド内をスムーズに通過できる磁気ヘッドを提供
することにある。本発明の更なる目的は、ギャップ長の
バラ付きを小さくし、量産時に磁気特性がバラ付かない
磁気ヘッドを提供することにある。本発明の更なる目的
は、製造工程に於いてギャップデプスを容易に確認でき
る磁気ヘッドを提供することにある。
With respect to the above magnetic head, the applicant has found the following points to be improved. 1. In the conventional magnetic head (3), the magnetic material is exposed on the surface facing the hard disk even at a position apart from the gap on the second core half (52). However, the magnetic material in such a place is not necessary for recording / reproducing, and conversely, the magnetic head
This is a factor that the inductance of (3) becomes large.
Further, in order for the magnetic flux to smoothly pass through the second core half body (52), it is necessary to reduce the magnetic resistance inside the second core half body (52). 2. In any of the above methods of forming the gap spacer (4), when pressing the substrates (6) and (8), the substrates (6) and (8) are pressed.
It is difficult to uniformly adhere and press all the points in the longitudinal direction of the. Therefore, when the bonded substrates (6) and (8) are sliced to form the magnetic head (3), the thickness of the gap spacer (4), that is, the gap length t varies. It goes without saying that the variation in the gap length has a great influence on the magnetic characteristics. 3. The depth of the gap depth d has a great influence on the magnetic characteristics. Therefore, it is desirable that the gap depth d can be easily confirmed during the manufacture of the magnetic head (3). An object of the present invention is to provide a magnetic head that allows a magnetic flux to smoothly pass through the magnetic head without increasing the inductance value. A further object of the present invention is to provide a magnetic head in which variations in gap length are reduced and magnetic characteristics do not vary during mass production. A further object of the present invention is to provide a magnetic head that can easily confirm the gap depth in the manufacturing process.

【0007】[0007]

【課題を解決する為の手段】磁気ヘッドは、一面が開口
したコイル巻線溝(15)を有する第1突き合わせ半体(1)
と、該コイル巻線溝(15)の開口に対向し、第1突き合わ
せ半体(1)に接合させるべき第2突き合わせ半体(2)と
を具え、前記第1突き合わせ半体(1)は、第1コア半体
(13)の一部を構成し、強磁性材からなる第1コア半体部
材(14)と第1コア半体(13)の残部を構成する第1強磁性
薄膜(11)と、第2コア半体(52)の一部を構成する第2強
磁性薄膜(12)と、第1強磁性薄膜(11)と第2強磁性薄膜
(12)との間に介在するギャップスペーサ(4)とを具え、
前記ギャップスペーサ(4)は第1強磁性薄膜(11)及び該
第1強磁性薄膜(11)の内側に形成された第1ガラス(16)
の層上に形成され、第2突き合わせ半体(2)は、第2強
磁性薄膜(12)に接合して磁束の周回通過を許し、第2コ
ア半体(52)の残部を構成する磁性材部分を具え、第2突
き合わせ半体(2)の記録媒体との対向面は、非磁性材に
て形成されている。また、第2強磁性薄膜(12)は、第2
突き合わせ半体(2)に接合する幅広部(12b)を具え、該
幅広部(12b)は第1突き合わせ半体(1)の側面に露出し
ている。更に、磁気ヘッド(3)は、第1突き合わせ半体
(1)の一部となるべき強磁性の大基板(6)を用意し、該
大基板(6)上にトラック幅方向に直交する第1予備加工
溝(60)(60)及び該第1予備加工溝(60)に直交するデプス
エンド溝(61)を形成する工程と、該大基板(6)の上面全
体に第1強磁性薄膜(11)を被着し、その上に第1ガラス
(16)を充填し、上面を研削、研磨して、第1強磁性薄膜
(11)の断面を上面に露出させる工程と、大基板(6)の上
面に、ギャップスペーサ(4)となる非磁性薄膜と第2強
磁性薄膜(12)を重ねて成膜した後に、エッチング処理を
施し、記録媒体のトラック幅に略等しい幅狭部(4a)(12
a)と、幅狭部(4a)(12a)の内端に連続した幅広部(4b)
(12b)を一体に形成し、かつ第1強磁性薄膜(11)を幅狭
部(4a)(12a)と同じ幅に形成する工程を経て、形成され
る。
A magnetic head includes a first butting half body (1) having a coil winding groove (15) having an opening on one surface.
And a second butting half (2) that faces the opening of the coil winding groove (15) and is to be joined to the first butting half (1), wherein the first butting half (1) is , The first core half
A first core half body member (14), which constitutes a part of (13) and is made of a ferromagnetic material, and a first ferromagnetic thin film (11) which constitutes the rest of the first core half body (13); A second ferromagnetic thin film (12) forming a part of the core half body (52), a first ferromagnetic thin film (11) and a second ferromagnetic thin film
With a gap spacer (4) interposed between (12),
The gap spacer (4) comprises a first ferromagnetic thin film (11) and a first glass (16) formed inside the first ferromagnetic thin film (11).
The second butt half (2) is formed on the layer of the magnetic field and is joined to the second ferromagnetic thin film (12) to allow the magnetic flux to pass around, thereby forming the remaining part of the second core half (52). A surface of the second butting half (2) facing the recording medium is formed of a non-magnetic material. Also, the second ferromagnetic thin film (12) has a second
It has a wide portion (12b) joined to the butt half (2), and the wide portion (12b) is exposed on the side surface of the first butt half (1). Further, the magnetic head (3) has a first butting half.
A large ferromagnetic substrate (6) to be a part of (1) is prepared, and first pre-processed grooves (60) (60) perpendicular to the track width direction and the first large substrate (6) are provided on the large substrate (6). A step of forming a depth end groove (61) orthogonal to the pre-processed groove (60), a first ferromagnetic thin film (11) is deposited on the entire upper surface of the large substrate (6), and a first glass is formed thereon.
Filling (16), grinding and polishing the upper surface, the first ferromagnetic thin film
The step of exposing the cross section of (11) to the upper surface, the non-magnetic thin film to be the gap spacer (4) and the second ferromagnetic thin film (12) are overlaid on the upper surface of the large substrate (6), and then the etching is performed. After processing, the narrow portion (4a) (12
a) and a wide part (4b) continuous with the inner ends of the narrow parts (4a) (12a)
(12b) is integrally formed, and the first ferromagnetic thin film (11) is formed to have the same width as the narrow portions (4a) and (12a).

【0008】[0008]

【作用及び効果】本発明は以下の効果を有する。 1、ハードディスクとの対向面側に第1強磁性薄膜(1
1)、ギャップスペーサ(4)及び第2強磁性薄膜(12)から
なるギャップ部が露出した第1突き合わせ半体(1)に、
記録媒体との対向面を非磁性材で形成した第2突き合わ
せ半体(2)が突き合わせ接合される。第2突き合わせ半
体(2)の記録媒体との対向面上には、記録再生に不要な
磁性材が露出していないから、磁気ヘッド(3)のインダ
クタンス値は小さくなり、磁気特性が改善される。 2、第2強磁性薄膜(12)とギャップスペーサ(4)は何れ
もスパッタリング等による成膜の後に、第1強磁性薄膜
(11)を含めてエッチング等により形成される。従って、
ギャップスペーサ(4)の厚みであるギャップ長t及びギ
ャップ幅はバラ付きが少なく、磁気ヘッド(3)の磁気特
性のバラ付きは小さくなる。 3、第2強磁性薄膜(12)を磁気ヘッド(3)の側面に露出
させると、磁気ヘッド(3)を製造中にギャップデプスを
容易に確認することができる。
FUNCTION AND EFFECT The present invention has the following effects. 1. The first ferromagnetic thin film (1
1), the first butting half body (1) in which the gap portion composed of the gap spacer (4) and the second ferromagnetic thin film (12) is exposed,
A second butting half (2) whose surface facing the recording medium is made of a non-magnetic material is butted and joined. Since the magnetic material unnecessary for recording and reproduction is not exposed on the surface of the second butting half (2) facing the recording medium, the inductance value of the magnetic head (3) is reduced and the magnetic characteristics are improved. It 2. The second ferromagnetic thin film (12) and the gap spacer (4) are formed on the first ferromagnetic thin film after being formed by sputtering or the like.
It is formed by etching and the like including (11). Therefore,
The gap length t and the gap width, which are the thickness of the gap spacer (4), have little variation, and the variation in the magnetic characteristics of the magnetic head (3) is small. 3. If the second ferromagnetic thin film 12 is exposed on the side surface of the magnetic head 3, the gap depth can be easily confirmed during the manufacturing of the magnetic head 3.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下に、本発明に係わる磁気ヘッ
ドについて説明する。従来と同一の構成については、同
一符号を用い、説明を省略する。以下に示す磁気ヘッド
は、何れもハードディスクドライブ装置に使用されるも
のであり、ハードディスクドライブ装置は、第47図に
示す如く、装置本体(7)内に複数のハードディスク(71)
(71)を上下に並列して、図示しない回転機構により回転
している。各ハードディスク(71)に対応して、先端部に
磁気ヘッドスライダ(9)を取り付けたヘッド支持機構(7
2)が装置本体(7)内に配備されており、磁気ヘッドスラ
イダ(9)は、ハードディスク(71)の高速回転に起因する
空気圧によって、数10nm浮上し、ハードディスク(71)
への信号の記録再生が行なわれる。磁気ヘッドスライダ
(9)は、第48図に示すように、上面にエアベアリング
部(91)を有するスライダ本体(90)に、嵌合溝(92)を開設
し、該嵌合溝(92)に以下に示す各磁気ヘッド(3)を嵌め
込み固定して形成される。以下の各実施例に於ける磁気
ヘッド(3)は何れもMIG型の磁気ヘッド(3)であり、
ギャップの近傍の構造に特徴がある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A magnetic head according to the present invention will be described below. The same reference numerals are used for the same configurations as the conventional one, and the description is omitted. The magnetic heads shown below are all used in a hard disk drive, and the hard disk drive has a plurality of hard disks (71) in the main body (7) as shown in FIG.
(71) are vertically arranged in parallel and rotated by a rotation mechanism (not shown). Corresponding to each hard disk (71), a head support mechanism (7
2) is installed in the device body (7), and the magnetic head slider (9) is levitated by several tens of nm due to the air pressure caused by the high speed rotation of the hard disk (71), and the hard disk (71)
Recording / reproduction of a signal to / from is performed. Magnetic head slider
As shown in FIG. 48, (9) is provided with a fitting groove (92) in the slider body (90) having an air bearing portion (91) on the upper surface, and the fitting groove (92) is formed as follows. It is formed by fitting and fixing each magnetic head (3) shown. The magnetic heads (3) in the following embodiments are all MIG type magnetic heads (3),
It is characterized by the structure near the gap.

【0010】(第1実施例)第1図は、磁気ヘッド(3)の
斜視図であり、第2図は第1図をA−A線で切断した破
断図、第3A、B図は、夫々磁気ヘッド(3)をB−B線
で切断した左、右側面図である。磁気ヘッド(3)は、前
面が開口したコイル巻線溝(15)を有する第1突き合わせ
半体(1)に、上面に非磁性材を露出させた第2突き合わ
せ半体(2)を突き合わせてなり、コイル巻線溝(15)を通
って第2突き合わせ半体(2)にコイル(31)が巻かれる。
従来と同様に、磁気ヘッド(3)の上面は記録媒体である
ハードディスクに対向する。第1突き合わせ半体(1)
は、コイル巻線溝(15)を有する第1コア半体(13)の前面
に、非磁性のギャップスペーサ(4)(40)及びFeAlS
i合金やFeTaN合金等からなる第2強磁性薄膜(12)の
層をスパッタリング等で形成して成る。ギャップスペー
サは、コイル巻線溝(15)を挟んで、上部に位置する対向
面側ギャップスペーサ(4)と、下部に位置する奥部側ギ
ャップスペーサ(40)とに分離している。
(First Embodiment) FIG. 1 is a perspective view of a magnetic head (3), FIG. 2 is a cutaway view taken along line AA of FIG. 1, and FIGS. 3A and 3B are FIG. 3 is a left and right side view of the magnetic head (3) taken along the line BB, respectively. The magnetic head (3) has a first butting half (1) having a coil winding groove (15) having an open front surface, and a second butting half (2) having a non-magnetic material exposed on the upper surface thereof. Then, the coil (31) is wound around the second butting half body (2) through the coil winding groove (15).
As in the conventional case, the upper surface of the magnetic head (3) faces the hard disk as the recording medium. First butt half (1)
Is a non-magnetic gap spacer (4) (40) and FeAlS on the front surface of the first core half (13) having a coil winding groove (15).
A second ferromagnetic thin film (12) layer made of an i alloy, FeTaN alloy, or the like is formed by sputtering or the like. The gap spacer is separated into a facing gap spacer (4) located at the upper part and a deep gap spacer (40) located at the lower part with the coil winding groove (15) sandwiched therebetween.

【0011】第1コア半体(13)は、Mn−Znフェライ
ト等の強磁性体からなるコア半体部材(14)の上部から突
出した突部(10)の前面に、FeAlSi合金やFeTaN
合金等からなる第1強磁性薄膜(11)の層を形成したもの
である。突部(10)の両側には、第1ガラス(16)が充填さ
れる切欠き(18)(18)が形成されている。該突部(10)の先
端面は、斜め内向きに傾き、該先端面上に形成された第
1強磁性薄膜(11)は、上端がハードディスクとの対向面
に露出した垂直面(11a)と、該垂直面(11a)下端から斜め
内向きに延びた傾斜面(11b)を一体に具えている。該傾
斜面(11b)上には、垂直面(11a)と前面が一致する第1ガ
ラス(16)の層が形成されている。
The first core half body (13) is made of a ferromagnetic material such as Mn-Zn ferrite.
This is formed by forming a layer of a first ferromagnetic thin film (11) made of an alloy or the like. Notches (18) (18) filled with the first glass (16) are formed on both sides of the protrusion (10). The tip surface of the projection (10) is inclined inward, and the first ferromagnetic thin film (11) formed on the tip surface has a vertical surface (11a) whose upper end is exposed to the surface facing the hard disk. And an inclined surface (11b) extending obliquely inward from the lower end of the vertical surface (11a). On the inclined surface (11b), a layer of the first glass (16) whose front surface coincides with the vertical surface (11a) is formed.

【0012】第2突き合わせ半体(2)は、非磁性材から
なる基台(25)と、該基台(25)の第1突き合わせ半体(1)
との対向面内に設けられた第3強磁性薄膜(20)とからな
る。第3強磁性薄膜(20)はFeAlSi合金やFeTaN
合金等からなり、該第3強磁性薄膜(20)の上下端部は第
2強磁性薄膜(12)に接合し、上端はハードディスクとの
対向面よりも内側に位置する。ここで、第2強磁性薄膜
(12)は、第3図に示すように、幅がトラック幅に略等し
い幅狭部(12a)と、第3強磁性薄膜(20)に接触する幅広
部(12b)を一体に具えてなる。従って、第3強磁性薄膜
(20)の上端部は、ギャップ部の近傍に於いて、ハードデ
ィスクとの対向面に露出せず、非磁性材である基台(25)
の上面が露出する。
The second butting half (2) comprises a base (25) made of a non-magnetic material, and the first butting half (1) of the base (25).
And a third ferromagnetic thin film (20) provided in the surface opposite to. The third ferromagnetic thin film (20) is made of FeAlSi alloy or FeTaN.
The third ferromagnetic thin film (20) is made of an alloy or the like, and the upper and lower ends of the third ferromagnetic thin film (20) are joined to the second ferromagnetic thin film (12), and the upper ends are located inside the surface facing the hard disk. Where the second ferromagnetic thin film
As shown in FIG. 3, (12) is integrally provided with a narrow portion (12a) having a width substantially equal to the track width and a wide portion (12b) in contact with the third ferromagnetic thin film (20). . Therefore, the third ferromagnetic thin film
The upper end of (20) is not exposed on the surface facing the hard disk near the gap, and is a non-magnetic base (25).
The upper surface of is exposed.

【0013】第1図に示すように、第1強磁性薄膜(1
1)、対向面側及び奥部側ギャップスぺーサ(4)(40)、第
2強磁性薄膜(12)、第1突き合わせ半体(1)の側面は、
第1ガラス(16)より低融点の第2ガラス(17)により覆わ
れる。尚、第3強磁性薄膜(20)の厚みは数μm、第2突
き合わせ半体(2)の厚みは百数十μmに設定される。以
下の記載に於いて、コア半体とは磁気ヘッド(3)の構成
部材のうち、ギャップスペーサ(4)を介して両側に配備
されるものを指し、本例に於ける第2突き合わせ半体
(2)の磁性材部分と第2強磁性薄膜(12)が、従来の第2
コア半体(52)に相当する。
As shown in FIG. 1, the first ferromagnetic thin film (1
1), the facing surface side and the back side gap spacers (4) (40), the second ferromagnetic thin film (12), and the side surfaces of the first butting half body (1),
It is covered with a second glass (17) having a lower melting point than the first glass (16). The thickness of the third ferromagnetic thin film (20) is set to several μm, and the thickness of the second butting half body (2) is set to hundred and several tens μm. In the following description, the core half refers to one of the constituent members of the magnetic head (3) which is arranged on both sides via the gap spacer (4), and the second butting half in this example.
The magnetic material portion of (2) and the second ferromagnetic thin film (12) are
Corresponds to the core half (52).

【0014】ハードディスク再生時に於いて、反時計方
向の磁束は、第2図に一点鎖線で示すように、第2強磁
性薄膜(12)、第3強磁性薄膜(20)を通過して、コア半体
部材(14)内を周回し、第1強磁性薄膜(11)からハードデ
ィスクに抜ける。対向面側ギャップスペーサ(4)を介し
て第2強磁性薄膜(12)に対向する第1強磁性薄膜(11)の
垂直面(11a)の面積が小さいので、磁気抵抗が大きく、
磁束は対向面側ギャップスペーサ(4)を通過しない。ま
た磁束は、第2強磁性薄膜(12)と第3強磁性薄膜(20)の
接触部である幅広部(12b)を通過するので、磁気抵抗が
少なく、磁束は第3強磁性薄膜(20)内をスムーズに通過
する。
When reproducing the hard disk, the counterclockwise magnetic flux passes through the second ferromagnetic thin film (12) and the third ferromagnetic thin film (20), as shown by the alternate long and short dash line in FIG. It circulates in the half member (14) and escapes from the first ferromagnetic thin film (11) to the hard disk. Since the area of the perpendicular surface (11a) of the first ferromagnetic thin film (11) facing the second ferromagnetic thin film (12) via the facing surface side gap spacer (4) is small, the magnetic resistance is large,
The magnetic flux does not pass through the facing side gap spacer (4). Further, since the magnetic flux passes through the wide portion (12b) which is the contact portion between the second ferromagnetic thin film (12) and the third ferromagnetic thin film (20), the magnetic resistance is small and the magnetic flux is the third ferromagnetic thin film (20). ) Pass through smoothly.

【0015】更に、奥部側ギャップスペーサ(40)と第2
強磁性薄膜(12)との対向面積が大きいから、磁気抵抗が
少なく、磁束は奥部側ギャップスペーサ(40)をスムーズ
に通過する。かかる磁束の通過による再生出力がコイル
(31)から取り出される。尚、第1図に於いて、第3強磁
性薄膜(20)、第1強磁性薄膜(11)の残り部分(200)(110)
が磁気ヘッド(3)の上面及び側面に露出しているのは、
磁気ヘッド(3)の製造上の都合によるものであり、本願
の技術的特徴をなすものではない。また、第1図に示す
磁気ヘッド(3)の上面、即ちハードディスクとの対向面
に、第3強磁性薄膜(20)の残り部分(200)が露出してい
るが、対向面側ギャップスペーサ(4)から離れているの
で、磁気ヘッド(3)の磁気特性に影響を与えない。
Further, the back side gap spacer (40) and the second
Since the area facing the ferromagnetic thin film (12) is large, the magnetic resistance is small, and the magnetic flux smoothly passes through the inner gap spacer (40). The reproduction output due to the passage of such magnetic flux is the coil
Taken out from (31). In FIG. 1, the remaining portions (200) (110) of the third ferromagnetic thin film (20) and the first ferromagnetic thin film (11) are shown.
Is exposed on the top and side surfaces of the magnetic head (3).
This is because of the manufacturing convenience of the magnetic head (3) and does not form the technical feature of the present application. Also, the remaining portion (200) of the third ferromagnetic thin film (20) is exposed on the upper surface of the magnetic head (3) shown in FIG. 1, that is, on the surface facing the hard disk. Since it is separated from 4), it does not affect the magnetic characteristics of the magnetic head 3.

【0016】かかる磁気ヘッド(3)は、以下のように製
造される。まず、第4図に示すように、Mn−Znフェ
ライトからなり、第1突き合わせ半体(1)となるべき大
基板(6)の上面に一定ピッチで第1予備加工溝(60)(60)
を形成した後、該第1予備加工溝(60)に直交するよう
に、断面三角形のデプスエンド溝(61)を形成する。次
に、大基板(6)の上面全体に第1強磁性薄膜(11)を被着
し、その上に第1ガラス(16)を充填する。ガラス充填後
に上面を研削、研磨して、第5図に示すように、第1強
磁性薄膜(11)の断面を第1ガラス(16)と同一面内に露出
させる。
The magnetic head (3) is manufactured as follows. First, as shown in FIG. 4, first pre-processed grooves (60) (60) are formed at a constant pitch on the upper surface of a large substrate (6) which is made of Mn-Zn ferrite and should be the first butting half (1).
After forming, the depth end groove (61) having a triangular cross section is formed so as to be orthogonal to the first pre-processed groove (60). Next, the first ferromagnetic thin film (11) is deposited on the entire upper surface of the large substrate (6), and the first glass (16) is filled thereon. After the glass is filled, the upper surface is ground and polished to expose the cross section of the first ferromagnetic thin film (11) in the same plane as the first glass (16) as shown in FIG.

【0017】次に、大基板(6)の上面に、ギャップスペ
ーサ(4)(40)となる非磁性薄膜と第2強磁性薄膜(12)を
重ねてスパッタリング等により形成した後に、レジスト
パターンを形成してエッチング処理を施し、第6図に示
すように、対向面側ギャップスペーサ(4)と奥部側ギャ
ップスペーサ(40)となる部分を残す。エッチング処理に
は、イオンビームエッチング法を用いるのが一般的であ
る。奥部側ギャップスペーサ(40)は対向面側ギャップス
ペーサ(4)より面積が大きく、各ギャップスペーサ(4)
(40)は、その上に重なる第2強磁性薄膜(12)と同一形状
に形成される。即ち、対向面側ギャップスペーサ(4)
は、幅狭部(4a)と、該幅狭部(4a)よりも内側に位置す
る幅広部(4b)とを一体に具える。また、該エッチング
工程により、第1強磁性薄膜(11)の先端部が、幅狭部
(4a)(12a)と同じ幅に形成される(第7図参照)。
Next, a non-magnetic thin film to be the gap spacers (4) and (40) and a second ferromagnetic thin film (12) are superposed on the upper surface of the large substrate (6) and formed by sputtering or the like, and then a resist pattern is formed. It is formed and subjected to an etching process, and as shown in FIG. 6, the portions to be the facing surface side gap spacer (4) and the back side gap spacer (40) are left. An ion beam etching method is generally used for the etching process. The back side gap spacer (40) has a larger area than the facing surface side gap spacer (4), and each gap spacer (4)
(40) is formed in the same shape as the second ferromagnetic thin film (12) overlying it. That is, the facing side gap spacer (4)
Includes a narrow portion (4a) and a wide portion (4b) located inside the narrow portion (4a) integrally. In addition, the etching step causes the tip of the first ferromagnetic thin film (11) to become a narrow portion.
It is formed to have the same width as (4a) and (12a) (see FIG. 7).

【0018】ギャップスペーサ(4)及び第2強磁性薄膜
(12)の幅狭部(4a)(12a)を第1強磁性薄膜(11)と合わせ
てエッチング処理にて形成することにより、幅狭部(4
a)(12a)及び第1強磁性薄膜(11)の幅がトラック幅に合
わせて正確に定まる。また、第7図に一点鎖線で示すよ
うに、エッチング工程に於いて、幅狭部(12a)の先端に
幅狭部(12a)より広い冗長部(12c)を設け、後工程で、冗
長部(12c)を除去すれば、幅狭部(12a)の幅寸法を精度よ
く形成できることが確認されている。この後に、第8図
に示すように、対向面側、奥部側ギャップスペーサ(4)
(40)間に、コイル巻線溝(15)を開設する。
Gap spacer (4) and second ferromagnetic thin film
By forming the narrow portions (4a) and (12a) of (12) together with the first ferromagnetic thin film (11) by etching, the narrow portion (4a)
The widths of a) (12a) and the first ferromagnetic thin film (11) are accurately determined according to the track width. Further, as shown by the alternate long and short dash line in FIG. 7, in the etching process, a redundant portion (12c) wider than the narrow portion (12a) is provided at the tip of the narrow portion (12a), and the redundant portion is formed in a later step. It has been confirmed that the width dimension of the narrow portion (12a) can be accurately formed by removing (12c). After this, as shown in FIG. 8, the facing side gap spacer (4)
A coil winding groove (15) is opened between (40).

【0019】一方、第1突き合わせ半体(1)と突き合わ
さるべき第2突き合わせ半体(2)は、以下の如く設けら
れる。第9図に示すように、アルミナ系セラミック等か
らなる小基板(8)の上面に、第3強磁性薄膜(20)が成膜
される凹溝(80)と、該凹溝(80)より深い第2予備加工溝
(81)を形成する。次に、第10図に示すように、小基板
(8)の上面全体に第3強磁性薄膜(20)をスパッタリング
等により形成し、その上に第2ガラス(17)を充填する。
この後、上面を研削、研磨して平坦化し、第3強磁性薄
膜(20)の断面を第2ガラス(17)と同一面内に露出させ
る。この後に、大基板(6)と小基板(8)を、第11図に
示すように突き合わせ、加熱して第2ガラス(17)のみを
溶融させる。第2予備加工溝(81)を充填した第2ガラス
(17)はギャップ部の側方に流れ込み、大基板(6)と小基
板(8)を接合する。しかる後に、各ブロック毎にP−P
線で切断する。第12図は、切断した各ブロックの中心
断面図であり、この状態で、C−C線、D−D線に沿っ
て、不要な箇所を切削し、磁気ヘッド(3)が作成され
る。
On the other hand, the second butting half (2) to be butted with the first butting half (1) is provided as follows. As shown in FIG. 9, a groove (80) on which a third ferromagnetic thin film (20) is formed, and a groove (80) formed on the upper surface of a small substrate (8) made of alumina-based ceramic or the like. Deep second pre-machined groove
(81) is formed. Next, as shown in FIG.
A third ferromagnetic thin film (20) is formed on the entire upper surface of (8) by sputtering or the like, and a second glass (17) is filled thereover.
After that, the upper surface is ground and polished to be flattened, and the cross section of the third ferromagnetic thin film (20) is exposed in the same plane as the second glass (17). Thereafter, the large substrate (6) and the small substrate (8) are butted against each other as shown in FIG. 11 and heated to melt only the second glass (17). Second glass filled with second pre-processed groove (81)
(17) flows into the side of the gap and joins the large substrate (6) and the small substrate (8). After that, PP for each block
Cut with a line. FIG. 12 is a central cross-sectional view of the cut blocks, and in this state, unnecessary portions are cut along the lines CC and DD to form the magnetic head (3).

【0020】上記工程を経て形成される磁気ヘッド(3)
は、第2突き合わせ半体(2)の非磁性面が、ハードディ
スクとの対向面に露出し、かつ第3強磁性薄膜(20)が、
ギャップ部近傍にて、ハードディスクとの対向面に露出
していないから、従来の磁気ヘッド(3)に比して、ハー
ドディスクとの対向面に露出した磁性体の面積は小さ
い。従って、第2突き合わせ半体(2)上では、記録再生
に不要な磁性材が記録媒体との対向面に露出せず、磁気
ヘッド(3)のインダクタンス値は小さくなる。即ち、磁
気特性が改善される。更に、第2突き合わせ半体(2)の
記録媒体との対向面は、非磁性材で形成されているの
で、第2突き合わせ半体(2)上のギャップ部近傍で、浮
遊磁束を生じることもない。ここで浮遊磁束とは磁気ヘ
ッド(3)内を回転通過する主磁束以外に発生する磁束で
ある(第39図参照)。
A magnetic head (3) formed through the above steps
Means that the non-magnetic surface of the second butting half body (2) is exposed on the surface facing the hard disk, and the third ferromagnetic thin film (20) is
Since it is not exposed on the surface facing the hard disk in the vicinity of the gap, the area of the magnetic material exposed on the surface facing the hard disk is smaller than that of the conventional magnetic head (3). Therefore, on the second butting half body (2), the magnetic material unnecessary for recording and reproduction is not exposed on the surface facing the recording medium, and the inductance value of the magnetic head (3) becomes small. That is, the magnetic characteristics are improved. Furthermore, since the surface of the second butting half (2) facing the recording medium is made of a non-magnetic material, stray magnetic flux may be generated near the gap on the second butting half (2). Absent. Here, the stray magnetic flux is a magnetic flux other than the main magnetic flux that rotationally passes through the magnetic head (3) (see FIG. 39).

【0021】また、第2強磁性薄膜(12)とギャップスペ
ーサ(4)は何れもスパッタリング等による成膜の後に、
第1強磁性薄膜(11)を含めてエッチング等により形成さ
れる。従って、ギャップ長はバラ付きが少なく、磁気ヘ
ッド(3)の磁気特性のバラ付きは小さくなる。また、第
2強磁性薄膜(12)と第3強磁性薄膜(20)とはハードディ
スクとの対向面よりも内側で接合されているから、該接
合部の面積、即ち第2強磁性薄膜(12)の幅広部(12b)は
大きく設けることができる。従って、第2突き合わせ半
体(2)の磁気抵抗は増大せず、磁束は第2強磁性薄膜(1
2)から第3強磁性薄膜(20)にスムーズに流れる。更に、
第2突き合わせ半体(2)の厚みは、従来の第2コア半体
(52)に等しく、また第2突き合わせ半体(2)の基台(25)
がセラミック等からなるから、機械的強度が従来の磁気
ヘッド(3)から劣ることはない。
The second ferromagnetic thin film (12) and the gap spacer (4) are both formed by sputtering or the like,
The first ferromagnetic thin film (11) is formed by etching or the like. Therefore, the gap length varies little, and the magnetic characteristics of the magnetic head (3) vary little. Further, since the second ferromagnetic thin film (12) and the third ferromagnetic thin film (20) are joined inside the surface facing the hard disk, the area of the joined portion, that is, the second ferromagnetic thin film (12) The wide part (12b) of () can be provided large. Therefore, the magnetic resistance of the second butting half (2) does not increase, and the magnetic flux is
It flows smoothly from 2) to the third ferromagnetic thin film (20). Furthermore,
The thickness of the second butting half (2) is the same as the conventional second core half.
Equal to (52) and also the base (25) of the second butt half (2)
Since it is made of ceramic or the like, its mechanical strength is not inferior to that of the conventional magnetic head (3).

【0022】尚、第3強磁性薄膜(20)と、第2強磁性薄
膜(12)の幅広部(12b)の接合を強固にするためには、第
11図に示す接合工程の前工程に於いて、少なくとも一
方の薄膜(20)(12)の突き合わせ面上に、厚さが20nm程
度のSiO2からなる膜と、厚さが45nm程度のガラスか
らなる膜を重ねて形成しておくとよい。この場合、膜を
形成することで、磁気抵抗の増大が考えられる。しか
し、第3強磁性薄膜(20)に接合する第2強磁性薄膜(12)
の幅広部(12b)が、幅狭部(12a)に対して十分広いので、
磁気抵抗はそれほど増大せず、実用上支障ないことが出
願人により確認されている。更に溶融した第2ガラス(1
7)によって、第1、第2強磁性薄膜(11)(12)の側面が浸
食されないために、上記SiO2とガラスからなる膜と第
2強磁性薄膜(12)との間に、厚さ10nm程度のCr膜を
介在させてもよい。
In order to strengthen the bond between the third ferromagnetic thin film (20) and the wide portion (12b) of the second ferromagnetic thin film (12), the process before the bonding process shown in FIG. 11 is performed. In this case, it is advisable to form a film of SiO2 having a thickness of about 20 nm and a film of glass having a thickness of about 45 nm on the abutting surfaces of at least one of the thin films (20) and (12) in an overlapping manner. . In this case, it is considered that the magnetic resistance is increased by forming the film. However, the second ferromagnetic thin film (12) joined to the third ferromagnetic thin film (20)
Since the wide part (12b) of is sufficiently wider than the narrow part (12a),
It has been confirmed by the applicant that the magnetic resistance does not increase so much and that there is no problem in practical use. Further molten second glass (1
Since the side surfaces of the first and second ferromagnetic thin films (11) and (12) are not eroded by 7), the thickness between the film made of SiO 2 and glass and the second ferromagnetic thin film (12) is increased. A Cr film with a thickness of about 10 nm may be interposed.

【0023】尚、出願人は本実施例に示す磁気ヘッド
(3)の応用例として、第43図に示すものを提案してい
る。これは、第2突き合わせ半体(2)の上面を第2ガラ
ス(17)の層で覆ったものであり、かかる磁気ヘッド(3)
を製造するには、第44図に示すように、非磁性材から
なる小基板(8)に第2予備加工溝(81)(81)を前後端部に
形成し、第45図に示すように、第2予備加工溝(81)に
第2ガラス(17)を充填した後に、上面を研削・研磨し、
第3強磁性薄膜(20)をスパッタリングにより形成する。
この後に、エッチング処理を施して、第3強磁性薄膜(2
0)を露出させる。この小基板(8)をギャップスペーサ
(4)と第2強磁性薄膜(12)を形成した前記大基板(6)に
突き合わせ接合してスライスし、第46図に示すよう
に、C−C線、D−D線に沿って不要な箇所を切削し
て、第43図に示す磁気ヘッド(3)を得る。
The applicant has applied the magnetic head shown in this embodiment.
As an application example of (3), the one shown in FIG. 43 is proposed. This is one in which the upper surface of the second butting half (2) is covered with a layer of the second glass (17).
As shown in FIG. 45, the second pre-processed grooves (81) and (81) are formed at the front and rear ends of the small substrate (8) made of a non-magnetic material as shown in FIG. After filling the second pre-processing groove (81) with the second glass (17), the upper surface is ground and polished,
The third ferromagnetic thin film (20) is formed by sputtering.
After this, etching treatment is applied to the third ferromagnetic thin film (2
Expose 0). This small substrate (8) is a gap spacer
(4) and the large ferromagnetic film (12) on which the second ferromagnetic thin film (12) is formed are butt-joined and sliced, and as shown in FIG. 46, unnecessary along the lines CC and DD. The magnetic head (3) shown in FIG. 43 is obtained by cutting various portions.

【0024】(第2実施例)第13図は、第1図に示す磁
気ヘッド(3)を一部変えたものであり、第15図は第1
3図の磁気ヘッド(3)をF−F線で切断した右側面図で
ある。磁気ヘッド(3)をF−F線で切断した左側面図
は、第3A図と同じである。第1図に示す磁気ヘッド
(3)と異なる点は第2強磁性薄膜(12)とギャップスペー
サ(4)の幅広部(12b)(4b)が磁気ヘッド(3)の側面に露
出している点であり、これにより磁気ヘッド(3)を製造
中にギャップデプスdを容易に確認できる。また、第1
強磁性薄膜(11)の垂直面(11a)と傾斜面(11b)の交線をデ
プスエンドラインと呼ぶが、該デプスエンドラインは、
磁気ヘッド(3)完成後にコイル巻線溝(15)の側面から直
接観測することはできない。しかし、第2強磁性薄膜(1
2)を形成する際に、コイル巻線溝(15)の側部に露出する
幅広部(12b)とデプスエンドラインとの相対位置を正確
に設定しておけば、完成後の磁気ヘッド(3)のコイル巻
線溝(15)側部から、幅広部(12b)を観測することで、該
磁気ヘッド(3)のデプスエンドラインを間接的に検知で
きる。
(Second Embodiment) FIG. 13 is a partial modification of the magnetic head (3) shown in FIG. 1, and FIG.
FIG. 4 is a right side view of the magnetic head (3) of FIG. 3 taken along the line FF. A left side view of the magnetic head (3) taken along line FF is the same as FIG. 3A. Magnetic head shown in FIG.
The difference from (3) is that the second ferromagnetic thin film (12) and the wide portions (12b) and (4b) of the gap spacer (4) are exposed on the side surface of the magnetic head (3). The gap depth d can be easily confirmed during the manufacture of the head (3). Also, the first
The line of intersection of the vertical surface (11a) and the inclined surface (11b) of the ferromagnetic thin film (11) is called the depth end line, and the depth end line is
It cannot be observed directly from the side surface of the coil winding groove (15) after the magnetic head (3) is completed. However, the second ferromagnetic thin film (1
When forming 2), if the relative position between the wide end (12b) exposed on the side of the coil winding groove (15) and the depth end line is set accurately, the magnetic head (3 By observing the wide portion (12b) from the side of the coil winding groove (15) of (1), the depth end line of the magnetic head (3) can be indirectly detected.

【0025】該磁気ヘッド(3)の製造工程は、上記磁気
ヘッド(3)の製造工程とほぼ同様であるが、大基板(6)
のエッチング工程に於いて、第14図に示すように、大
基板(6)上ひ並列して形成される対向面側ギャップスペ
ーサ(4)及び第2強磁性薄膜(12)の幅広部(4b)(12b)を
トラック幅方向に延長し、連結杆(41)で繋げる。この状
態で、コイル巻線溝(15)を形成した後に、第16図に示
すように、大基板(6)と小基板(8)を突き合わせ、ガラ
ス溶着した後に、スライスする。この後上記と同様に不
要な部分を切断すると、第13図に示す磁気ヘッド(3)
が得られる。
The manufacturing process of the magnetic head (3) is almost the same as the manufacturing process of the magnetic head (3), except that the large substrate (6) is used.
In the etching step of FIG. 14, as shown in FIG. 14, the facing surface side gap spacer (4) and the wide portion (4b) of the second ferromagnetic thin film (12) formed in parallel on the large substrate (6). ) (12b) is extended in the track width direction and is connected by the connecting rod (41). In this state, after forming the coil winding groove (15), as shown in FIG. 16, the large substrate (6) and the small substrate (8) are butted against each other, glass-welded, and then sliced. After that, when unnecessary portions are cut in the same manner as above, the magnetic head (3) shown in FIG.
Is obtained.

【0026】(第3実施例)第17図は、他の磁気ヘッド
(3)を示す斜視図、第18図は、第17図の磁気ヘッド
(3)をG−G線で切断した断面図である。磁気ヘッド
(3)は、第1実施例と同じように、第1突き合わせ半体
(1)の前面に、第2突き合わせ半体(2)を突き合わせて
成るが、第2突き合わせ半体(2)は磁性材からなる基体
(5)のハードディスクとの対向面を、非磁性材で第1ガ
ラス(16)よりも低融点の第2ガラス(17)で被覆してな
る。ハードディスクの再生時に於いて、反時計方向の磁
束は、第18図に一点鎖線で示すように、第2強磁性薄
膜(12)、第2突き合わせ半体(2)、コア半体部材(14)、
第1強磁性薄膜(11)内を通過する。本例に於いては、第
2突き合わせ半体(2)の磁性材部分である基体(5)と第
2強磁性薄膜(12)が従来の第2コア半体(52)に相当す
る。第1実施例と異なるのは、第2突き合わせ半体(2)
の構造のみであり、第1突き合わせ半体(1)は第1実施
例の第1突き合わせ半体(1)と同じものであるから、第
17図の磁気ヘッド(3)をH−H線で切断した右断面図
は、第3B図と同じである。第1突き合わせ半体(1)と
の対向面の中央部には、第2ガラス(17)が充填される充
填溝(50)が開設され、充填溝(50)内の第2ガラス(17)
は、溶融してギャップ部の側方に流れ込み、両突き合わ
せ半体(1)(2)を接合する。
(Third Embodiment) FIG. 17 shows another magnetic head.
FIG. 18 is a perspective view showing (3), and FIG. 18 is a magnetic head of FIG.
It is sectional drawing which cut | disconnected (3) by the GG line. Magnetic head
(3) is the first butting half body as in the first embodiment.
A second butting half (2) is butted against the front surface of (1), and the second butting half (2) is a base made of a magnetic material.
The surface of (5) facing the hard disk is covered with a second glass (17) which is a non-magnetic material and has a melting point lower than that of the first glass (16). When reproducing the hard disk, the magnetic flux in the counterclockwise direction is the second ferromagnetic thin film (12), the second butting half body (2), the core half body member (14), as shown by the alternate long and short dash line in FIG. ,
It passes through the first ferromagnetic thin film (11). In this example, the base body (5) which is the magnetic material portion of the second butting half body (2) and the second ferromagnetic thin film (12) correspond to the conventional second core half body (52). The difference from the first embodiment is that the second butting half body (2)
Since the first butting half body (1) is the same as the first butting half body (1) of the first embodiment, the magnetic head (3) of FIG. The cut right sectional view is the same as FIG. 3B. A filling groove (50) for filling the second glass (17) is opened in the center of the surface facing the first butting half (1), and the second glass (17) in the filling groove (50).
Melts and flows into the side of the gap portion to join the butt halves (1) and (2).

【0027】上記磁気ヘッド(3)の製造方法は、第19
図乃至第22図に示される。第1突き合わせ半体(1)は
第1実施例と同じものであり、製造方法も同じであるか
ら記載を省略する。第2突き合わせ半体(2)を作成する
には、まず第19図に示すように、Mn−Znフェライ
ト等からなる強磁性小基板(8)を用意し、該強磁性小基
板(8)の上面中央部に充填溝(50)を、該充填溝(50)の両
側に、充填溝(50)より深い突き合わせ溝(83)(83)を夫々
開設する。突き合わせ溝(83)(83)は、夫々第1突き合わ
せ半体(1)の対向面側ギャップスペーサ(4)の上端部、
奥部側ギャップスペーサ(40)の下端部に対向する。次
に、第20図に示すように、充填溝(50)、突き合わせ溝
(83)(83)に第2ガラス(17)を充填した後に、上面を研
削、研磨して第2ガラス(17)の上面と、強磁性小基板
(8)の上面を一致させる。
The manufacturing method of the magnetic head (3) is the nineteenth method.
Shown in FIGS. The first butting half body (1) is the same as that of the first embodiment, and the manufacturing method is also the same, so the description thereof is omitted. In order to prepare the second butting half body (2), first, as shown in FIG. 19, a ferromagnetic small substrate (8) made of Mn-Zn ferrite or the like is prepared, and the ferromagnetic small substrate (8) is prepared. A filling groove (50) is formed at the center of the upper surface, and abutting grooves (83) (83) deeper than the filling groove (50) are formed on both sides of the filling groove (50). The abutting grooves (83) (83) are respectively the upper end portions of the facing surface side gap spacers (4) of the first abutting half body (1),
It faces the lower end of the inner gap spacer (40). Next, as shown in FIG. 20, a filling groove (50) and a butt groove
(83) (83) is filled with the second glass (17), and then the upper surface is ground and polished so that the upper surface of the second glass (17) and the ferromagnetic small substrate
Match the upper surfaces of (8).

【0028】次に、第21図に示すように、強磁性小基
板(8)と第1突き合わせ半体(1)となる大基板(6)を突
き合わせて、加熱炉(図示せず)内で加熱し、第2ガラス
(17)のみを溶融させる。充填溝(50)から流れ出た第2ガ
ラス(17)は強磁性小基板(8)と大基板(6)を接合する。
尚、実際には強磁性小基板(8)を下側にして、加熱炉内
を所定の圧力に設定すれば、溶融した第2ガラス(17)は
表面張力により、ギャップ部の側方に流れ込む。この
後、第22図に示すように、C−C、D−D線に沿って
切断して、第17図に示す磁気ヘッド(3)を得る。尚、
第1実施例で示したSiO2膜とガラス膜からなる膜を、
第2強磁性薄膜(12)又は第2突き合わせ半体(2)の突き
合わせ面の少なくとも一方に予め形成して、接合強度を
上げてもよい。
Next, as shown in FIG. 21, the ferromagnetic small substrate (8) and the large substrate (6) to be the first butting half body (1) are butted against each other and placed in a heating furnace (not shown). Heated and second glass
Only (17) is melted. The second glass (17) flowing out from the filling groove (50) joins the ferromagnetic small substrate (8) and the large substrate (6).
Actually, if the ferromagnetic small substrate (8) is placed on the lower side and the inside of the heating furnace is set to a predetermined pressure, the molten second glass (17) will flow to the side of the gap due to surface tension. . After that, as shown in FIG. 22, the magnetic head (3) shown in FIG. 17 is obtained by cutting along the lines CC and DD. still,
The film composed of the SiO 2 film and the glass film shown in the first embodiment is
It may be formed in advance on at least one of the abutting surfaces of the second ferromagnetic thin film (12) or the second abutting half (2) to increase the bonding strength.

【0029】第2突き合わせ半体(2)のハードディスク
との対向面は、非磁性材で覆われているから、第1実施
例と同様に、従来の磁気ヘッド(3)に比して、ハードデ
ィスクとの対向面に露出した磁性体の面積は小さい。従
って、磁気ヘッド(3)のインダクタンス値が小さくな
り、磁気特性が改善される。また、第2強磁性薄膜(12)
とギャップスペーサ(4)は何れもスパッタリング等によ
る成膜の後に、第1強磁性薄膜(11)を含めてエッチング
等により形成される。従って、ギャップ長はバラ付きが
少なく、磁気ヘッド(3)の磁気特性のバラ付きは小さく
なる。更に、第2強磁性薄膜(12)と第2突き合わせ半体
(2)の接合部は、ハードディスクの対向面から引っ込ん
でいるから、該接合部の面積は大きく設けることができ
る。従って、第2突き合わせ半体(2)内部の磁気抵抗は
増大せず、磁束は第2強磁性薄膜(12)から第2突き合わ
せ半体(2)へスムーズに通過できる。
Since the surface of the second butting half body (2) facing the hard disk is covered with a non-magnetic material, the hard disk is different from the conventional magnetic head (3) as in the first embodiment. The area of the magnetic material exposed on the surface opposite to is small. Therefore, the inductance value of the magnetic head (3) is reduced and the magnetic characteristics are improved. The second ferromagnetic thin film (12)
The gap spacer (4) and the gap spacer (4) are both formed by sputtering or the like, and then by etching or the like including the first ferromagnetic thin film (11). Therefore, the gap length varies little, and the magnetic characteristics of the magnetic head (3) vary little. Furthermore, the second ferromagnetic thin film (12) and the second butt half
Since the joint portion (2) is recessed from the facing surface of the hard disk, the area of the joint portion can be increased. Therefore, the magnetic resistance inside the second butting half (2) does not increase, and the magnetic flux can smoothly pass from the second ferromagnetic thin film (12) to the second butting half (2).

【0030】尚、大基板(6)に形成する第1予備加工溝
(60)の底面部を、第23図に示すように、V字形に加工
すれば、大基板(6)に形成された第1強磁性薄膜(11)は
小基板(8)に対向した位置で、第21図に点線で示すよ
うに露出するから、第24図に示すように、磁気ヘッド
(3)の上面側部に露出する第1強磁性薄膜(11c)は、ギ
ャップ幅に対して傾いて形成される。これにより、磁気
ヘッド(3)をスライダ本体(90)に装填して、ハードディ
スクから信号を再生する際に、隣接トラックからのクロ
ストークを防止することができる。即ち、第25図に示
すように、ハードディスク(71)上には、ディスク中心と
同心のトラック(73)が隙間なく形成されるが、磁気ヘッ
ド(3)全体の幅は、トラック幅より大きいから、隣接ト
ラック(73)からの信号のクロストーク成分を再生する虞
れがある。然るに、磁気ヘッド(3)の側部上面に露出す
る第1強磁性薄膜(11c)がトラック幅方向に対し傾いて
いれば、該第1強磁性薄膜(11c)が隣接するトラック(7
3)からクロストーク成分を再生することを防ぐことがで
きる。
The first pre-processed groove formed on the large substrate (6)
If the bottom surface of (60) is processed into a V shape as shown in FIG. 23, the first ferromagnetic thin film (11) formed on the large substrate (6) is located at a position facing the small substrate (8). Then, since it is exposed as shown by the dotted line in FIG. 21, as shown in FIG.
The first ferromagnetic thin film (11c) exposed on the upper surface side of (3) is formed to be inclined with respect to the gap width. As a result, when the magnetic head (3) is loaded on the slider body (90) and a signal is reproduced from the hard disk, crosstalk from adjacent tracks can be prevented. That is, as shown in FIG. 25, a track (73) concentric with the center of the disk is formed on the hard disk (71) without a gap, but the overall width of the magnetic head (3) is larger than the track width. , There is a risk of reproducing the crosstalk component of the signal from the adjacent track (73). However, if the first ferromagnetic thin film (11c) exposed on the side surface of the magnetic head (3) is inclined with respect to the track width direction, the first ferromagnetic thin film (11c) is adjacent to the track (7).
It is possible to prevent the crosstalk component from being reproduced from 3).

【0031】また、第6図に示すエッチング処理工程に
て、対向面側ギャップスペーサ(4)及び第2強磁性薄膜
(12)を、幅狭部と幅広部が一体となった形状に形成し、
かつ第1強磁性薄膜(11)を幅狭部と同じ幅に形成する際
には、所謂陰影効果により、第26図に示すように、大
基板(6)の上面から対向面側ギャップスペーサ(4)に掛
けて、微小傾斜面(62)を形成することがある。この微小
傾斜面(62)は、磁気ヘッド(3)完成後に於いて、第24
図に示す傾斜線(51)に現れるが、該傾斜線(51)が形成さ
れることによっても、隣接トラック(73)のクロストーク
を防止する効果がある。
Further, in the etching process shown in FIG. 6, the opposing surface side gap spacer (4) and the second ferromagnetic thin film are formed.
(12) is formed into a shape in which the narrow portion and the wide portion are integrated,
Moreover, when the first ferromagnetic thin film (11) is formed to have the same width as the narrow portion, as shown in FIG. 26, due to a so-called shading effect, the gap spacer ( There is a case in which a slightly inclined surface (62) is formed by being hung on 4). This minute inclined surface (62) is the 24th surface after the magnetic head (3) is completed.
Although it appears on the inclined line (51) shown in the figure, the formation of the inclined line (51) also has an effect of preventing crosstalk between adjacent tracks (73).

【0032】(第4実施例)第27図は、第17図に示す
磁気ヘッド(3)を一部変えたものである。第17図に示
す磁気ヘッド(3)と異なる点は、第2実施例と同様に、
第2強磁性薄膜(12)とギャップスペーサ(4)の幅広部(1
2b)(4b)が磁気ヘッド(3)の側面に露出している点であ
る。これにより、第2実施例と同様に、磁気ヘッド(3)
を製造中にギャップデプスを容易に確認できる。該磁気
ヘッド(3)の製造工程は、上記第3実施例に於ける磁気
ヘッド(3)の製造工程とほぼ同様である。但し、エッチ
ング工程に於いて、第14図に示すように、大基板(6)
上の対向面側ギャップスペーサ(4)及び第2強磁性薄膜
(12)の幅広部(4b)(12b)を連結杆(41)で繋げる点が異な
る。この状態で、コイル巻線溝(15)を形成した後に、大
基板(6)と小基板(8)を突き合わせ、ガラス溶着した後
にスライスすると、第27図に示す磁気ヘッド(3)が得
られる。尚、第24図に示すように、磁気ヘッド(3)の
上面側部に露出した第1強磁性薄膜(11c)がトラック幅
方向に対し傾いた磁気ヘッド(3)に於いて、第2強磁性
薄膜(12)と対向面側ギャップスペーサ(4)の幅広部(12
b)(4b)を、磁気ヘッド(3)の側面に露出させてもよ
い。
(Fourth Embodiment) FIG. 27 shows a part of the magnetic head (3) shown in FIG. The difference from the magnetic head (3) shown in FIG. 17 is the same as in the second embodiment.
The wide portion (1) of the second ferromagnetic thin film (12) and the gap spacer (4)
The points 2b and 4b are exposed on the side surface of the magnetic head 3. As a result, the magnetic head (3) is similar to the second embodiment.
The gap depth can be easily confirmed during manufacturing. The manufacturing process of the magnetic head (3) is almost the same as the manufacturing process of the magnetic head (3) in the third embodiment. However, in the etching process, as shown in FIG. 14, the large substrate (6)
Upper facing surface side gap spacer (4) and second ferromagnetic thin film
The difference is that the wide portions (4b) and (12b) of (12) are connected by a connecting rod (41). In this state, after forming the coil winding groove (15), the large substrate (6) and the small substrate (8) are butted against each other, glass-welded, and sliced to obtain the magnetic head (3) shown in FIG. . As shown in FIG. 24, in the magnetic head (3) in which the first ferromagnetic thin film (11c) exposed on the upper surface side of the magnetic head (3) is inclined with respect to the track width direction, The wide portion (12) of the magnetic thin film (12) and the facing side gap spacer (4)
b) and (4b) may be exposed on the side surface of the magnetic head (3).

【0033】(第5実施例)第28図は、他の磁気ヘッド
(3)の斜視図であり、第29図は第28図をJ−J線で
切断した破断図、第30A、B図は、磁気ヘッド(3)を
I−I線で切断し、夫々左、右側から見た図である。磁
気ヘッド(3)は、第4実施例で示したのと同様に、側面
に対向面側ギャップスペーサ(4)と第2強磁性薄膜(12)
を露出させた第1突き合わせ半体(1)に、ハードディス
クとの対向面を非磁性の第2ガラス(17)で覆った第2突
き合わせ半体(2)を突き合わせ接合したものである。第
2突き合わせ半体(2)は、磁性材からなる基体(5)の上
下面及び両側面を第2ガラス(17)で被覆し、これにより
第2突き合わせ半体(2)の機械的強度を向上させてい
る。
(Fifth Embodiment) FIG. 28 shows another magnetic head.
29 is a perspective view of (3), FIG. 29 is a cutaway view of FIG. 28 taken along the line JJ, and FIGS. 30A and 30B are magnetic heads (3) cut along the line I-I of FIG. FIG. 3 is a view seen from the right side. The magnetic head (3) has a facing side gap spacer (4) and a second ferromagnetic thin film (12) on the side surface, as in the fourth embodiment.
The first butting half (1) having the exposed surface is butt-joined to the second butting half (2) whose surface facing the hard disk is covered with the non-magnetic second glass (17). The second butting half (2) covers the upper and lower surfaces and both side surfaces of the base body (5) made of a magnetic material with the second glass (17), whereby the mechanical strength of the second butting half (2) is improved. Is improving.

【0034】第29図に示すように、第2突き合わせ半
体(2)は、コイル巻線溝(15)に対向して充填溝(50)を開
設し、該充填溝(50)に、両突き合わせ半体(1)(2)を接
合する第2ガラス(17)が充填される。両突き合わせ半体
(1)(2)を接続する第2ガラス(17)の量が、第3実施例
の磁気ヘッド(第18図参照)より少ないのは、磁気ヘッ
ド製造上の都合であり、技術的特徴ではない。第28図
に示すように、ハードディスクとの対向面に露出した第
2強磁性薄膜(12)の上面は、第2突き合わせ半体(2)に
向かって、円弧状に湾曲しており、この点が後記するよ
うに、本実施例の特徴の1つである。
As shown in FIG. 29, the second butting half body (2) is provided with a filling groove (50) facing the coil winding groove (15), and the filling groove (50) is provided with a filling groove (50). It is filled with a second glass (17) which joins the butt halves (1) (2). Both butt halves
The fact that the amount of the second glass (17) connecting (1) and (2) is smaller than that of the magnetic head of the third embodiment (see FIG. 18) is convenient for the magnetic head manufacture and is a technical feature. Absent. As shown in FIG. 28, the upper surface of the second ferromagnetic thin film (12) exposed on the surface facing the hard disk is curved in an arc shape toward the second butting half body (2). Is one of the features of this embodiment, as will be described later.

【0035】上記磁気ヘッド(3)は、以下の工程を経て
作成される。まず、第5図に示すように、第1強磁性薄
膜(11)の断面を第1ガラス(16)と同一面内に露出させた
大基板(6)を用意する。ここまでの工程は、第1実施例
と同じである。次に、大基板(6)の上面に、ギャップス
ペーサ(4)(40)となる非磁性薄膜と第2強磁性薄膜(12)
を重ねてスパッタリング等により形成した後に、レジス
トパターンを形成してエッチング処理を施し、第31図
に示すように、対向面側ギャップスペーサ(4)を含むギ
ャップ部と奥部側ギャップスペーサ(40)となる部分を残
す。第2強磁性薄膜(12)は、各ギャップスペーサ(4)(4
0)と同一形状に形成される。第2強磁性薄膜(12)及び対
向面側ギャップスペーサ(4)の幅広部(12b)(4b)及び奥
部側ギャップスペーサ(40)は横方向に延び、磁気ヘッド
(3)形成時に幅広部(4b)(12b)及び奥部側ギャップスペ
ーサ(40)が磁気ヘッド(3)側面から露出する。
The magnetic head (3) is manufactured through the following steps. First, as shown in FIG. 5, a large substrate (6) having a cross section of the first ferromagnetic thin film (11) exposed in the same plane as the first glass (16) is prepared. The steps up to this point are the same as in the first embodiment. Next, on the upper surface of the large substrate (6), the non-magnetic thin film to be the gap spacers (4) and (40) and the second ferromagnetic thin film (12).
Then, a resist pattern is formed and etched to form a gap portion including the facing surface side gap spacer (4) and the back side gap spacer (40) as shown in FIG. Leave the part that becomes. The second ferromagnetic thin film (12) is formed by each gap spacer (4) (4
It is formed in the same shape as 0). The wide portions (12b) (4b) of the second ferromagnetic thin film (12) and the facing-side gap spacer (4) and the back-side gap spacer (40) extend laterally to form a magnetic head.
(3) When forming, the wide portions (4b) (12b) and the back side gap spacer (40) are exposed from the side surface of the magnetic head (3).

【0036】次に、大基板(6)の上面全域に感光性材料
からなるフォトレジスト(65)を塗付した後に、イオンビ
ームを照射する。第32図は、第31図の大基板(6)に
イオンビーム照射後、Z方向から見た断面図であるが、
第2強磁性薄膜(12)の幅狭部(12a)は、大基板(6)の上
面から突出しているので、該幅狭部(12a)を覆うフォト
レジスト(65)は、他の箇所を覆うフォトレジスト(65)に
比して薄い。従って、イオンビームを照射し続けると、
他の箇所を覆うフォトレジスト(65)は残存しているにも
拘らず、幅狭部(12a)の先端部を覆うフォトレジスト(6
5)がなくなり、第2強磁性薄膜(12)が削られ始める。し
かる後にイオンビームの照射を停止し、フォトレジスト
(65)を除去すると、第33図に示すように、第2強磁性
薄膜(12)の幅狭部(12a)の上面は膨らみを上側に向けた
円弧形に形成される。次に、上記各実施例と同様に、大
基板(6)上で、両ギャップスペーサ(4)(40)の間に、コ
イル巻線溝(15)を形成する(第37図参照)。
Next, a photoresist (65) made of a photosensitive material is applied to the entire upper surface of the large substrate (6), and then an ion beam is irradiated. FIG. 32 is a cross-sectional view seen from the Z direction after ion beam irradiation on the large substrate (6) of FIG.
Since the narrow portion (12a) of the second ferromagnetic thin film (12) projects from the upper surface of the large substrate (6), the photoresist (65) covering the narrow portion (12a) covers the other portions. Thin compared to the overlying photoresist (65). Therefore, if you continue to irradiate the ion beam,
Although the photoresist (65) covering the other portions remains, the photoresist (6) covering the tip of the narrow portion (12a) is
5) disappears and the second ferromagnetic thin film (12) begins to be scraped. After that, the ion beam irradiation was stopped and the photoresist
When (65) is removed, as shown in FIG. 33, the upper surface of the narrow portion (12a) of the second ferromagnetic thin film (12) is formed in an arc shape with its bulge facing upward. Next, similarly to each of the above-mentioned embodiments, the coil winding groove (15) is formed between the gap spacers (4) and (40) on the large substrate (6) (see FIG. 37).

【0037】一方、第34図に示すように、Mn−Zn
フェライト等からなる強磁性小基板(8)に突き合わせ溝
(83)(83)を形成するとともに、該突き合わせ溝(83)(83)
に直交して、凹み溝(84)を形成する。突き合わせ溝(83)
(83)は、夫々第1突き合わせ半体(1)の対向面側ギャッ
プスペーサ(4)、奥部側ギャップスペーサ(40)に対向す
る。この後、第35図に示すように、突き合わせ溝(83)
(83)、凹み溝(84)を第2ガラス(17)で充填した後に、上
面を研削、研磨して平坦にする。次に、第36図に示す
ように、大基板(6)のコイル巻線溝(15)に対向する調整
溝(85)を形成する。該調整溝(85)を形成するのは、両突
き合わせ半体(1)(2)を接合する第2ガラス(17)の量を
調整するためであり、磁気ヘッド(3)のインダクタンス
を小さくする為でもある。
On the other hand, as shown in FIG. 34, Mn--Zn
Butt groove on small ferromagnetic board (8) made of ferrite
(83) (83) is formed and the butt groove (83) (83)
A concave groove (84) is formed at right angles to. Butt Groove (83)
The reference numerals (83) face the facing surface side gap spacer (4) and the back side gap spacer (40) of the first butting half body (1), respectively. After this, as shown in FIG. 35, the butt groove (83)
(83) After filling the concave groove (84) with the second glass (17), the upper surface is ground and polished to be flat. Next, as shown in FIG. 36, an adjustment groove (85) facing the coil winding groove (15) of the large substrate (6) is formed. The adjustment groove (85) is formed in order to adjust the amount of the second glass (17) that joins the two butting halves (1) and (2), and reduces the inductance of the magnetic head (3). It is also for the purpose.

【0038】次に、第37図に示すように、両基板(6)
(8)を突き合わせて加熱し、第2ガラス(17)を溶融させ
る。第2ガラス(17)は突き合わせ溝(83)及び凹み溝(84)
から流れ出して、両基板(6)(8)を接合する。このと
き、第3実施例と同様に、小基板(8)を下側にして、第
2ガラス(17)をギャップ部の側方に流し込む。最後に接
合された両基板(6)(8)をP−P線に沿ってブロック毎
に切断した後に、各ブロックを第38図に示すC−C線
及びD−D線で切断して、第28図に示す磁気ヘッド
(3)を得る。尚、第1実施例で示したSiO2膜とガラス
膜からなる膜を、第2強磁性薄膜(12)又は第2突き合わ
せ半体(2)の突き合わせ面の少なくとも一方に予め形成
して、接合強度を上げてもよい。上記工程を経て製造さ
れた磁気ヘッド(3)に於いては、上記各実施例に於ける
磁気ヘッド(3)と同様に、インダクタンス値を小さくす
る等の効果の他に、第2強磁性薄膜(12)の前面形状が、
円弧状に湾曲することによって、所謂コンター効果(con
tour effect)による再生出力波形の歪みを小さくする効
果がある。
Next, as shown in FIG. 37, both substrates (6)
The (8) is butted against and heated to melt the second glass (17). The second glass (17) has a butt groove (83) and a recess groove (84).
And flow out of the substrate to bond the two substrates (6) and (8) together. At this time, as in the third embodiment, the second glass (17) is poured to the side of the gap portion with the small substrate (8) facing down. After cutting both substrates (6) and (8) joined at last into each block along the line P-P, each block is cut along line C-C and line D-D shown in FIG. Magnetic head shown in FIG. 28
Get (3). Incidentally, the film composed of the SiO 2 film and the glass film shown in the first embodiment is previously formed on at least one of the abutting surfaces of the second ferromagnetic thin film (12) or the second abutting half body (2), and bonded. Strength may be increased. In the magnetic head (3) manufactured through the above steps, as in the magnetic head (3) in each of the above-described embodiments, in addition to the effect of reducing the inductance value, the second ferromagnetic thin film is obtained. The front shape of (12) is
By bending in an arc shape, the so-called contour effect (con
This has the effect of reducing the distortion of the playback output waveform due to the tour effect.

【0039】ここでコンター効果を説明する。第39図
はハードディスク上の磁極と磁気ヘッド(3)の関係を示
す図である。一般に、ハードディスク回転時に於いて、
磁極と対向面側ギャップスペーサ(4)が対向したときに
は、磁気ヘッド(3)内を回転する主磁束φ1の他に、第
2強磁性薄膜(12)と第2ガラス(17)の境目部分に於いて
浮遊磁束φ2をも生じる。かかる磁束の重畳により再生
出力波形に歪みを生じることをコンタ−効果と言う。こ
こにおいて、浮遊磁束φ2の影響の大きさは、上記境目
部分と、ハードディスクの磁極とが対向する長さに比例
する。換言すれば、境目部分がトラック幅方向に沿って
直線状に延びていれば、浮遊磁束φ2の影響は大きい。
従って、第2強磁性薄膜(12)と第2ガラス(17)との境目
がトラック幅に対して、湾曲していれば、該境目上に
は、ハードディスクの同一磁極に対向する箇所と対向し
ない箇所があるので、第2強磁性薄膜(12)と第2ガラス
(17)の境目がトラック幅に沿って延びている場合より
も、浮遊磁束φ2の影響は小さくなる。従って、本実施
例による磁気ヘッド(3)では、コンター効果による再生
出力波形の歪みは小さくなる。
Here, the contour effect will be described. FIG. 39 is a diagram showing the relationship between the magnetic poles on the hard disk and the magnetic head (3). Generally, when rotating a hard disk,
When the magnetic pole and the facing surface side gap spacer (4) face each other, in addition to the main magnetic flux φ1 rotating in the magnetic head (3), there is a boundary between the second ferromagnetic thin film (12) and the second glass (17). There is also a stray magnetic flux φ2. The distortion of the reproduced output waveform due to the superposition of the magnetic flux is called the contour effect. Here, the magnitude of the influence of the stray magnetic flux φ2 is proportional to the length of the boundary portion and the magnetic pole of the hard disk facing each other. In other words, if the boundary portion extends linearly along the track width direction, the effect of the stray magnetic flux φ2 is great.
Therefore, if the boundary between the second ferromagnetic thin film (12) and the second glass (17) is curved with respect to the track width, the boundary does not face the part facing the same magnetic pole of the hard disk. Since there is a part, the second ferromagnetic thin film (12) and the second glass
The influence of the stray magnetic flux φ2 is smaller than that when the boundary of (17) extends along the track width. Therefore, in the magnetic head 3 according to the present embodiment, the distortion of the reproduced output waveform due to the contour effect is small.

【0040】第40図は、このコンター効果により再生
出力波形歪みを少なくする別の磁気ヘッド(3)を示す斜
視図である。第2ガラス(17)に対向した第2強磁性薄膜
(12)の前面は、波状に湾曲している。この磁気ヘッド
(3)を作成するには、前記エッチング処理後のフォトレ
ジスト除去工程に於いて、第41図に示すように、トラ
ック幅方向に直交して延びる複数のスリット(67)を有す
るフォトマスク(66)をフォトレジスト(65)の上方に配置
し、露光を行なう。第2強磁性薄膜(12)の幅狭部(12a)
を覆うフォトレジスト(65)は第42図に示すように、波
状に湾曲する、この状態で、イオンビームを照射する
と、幅狭部(12a)の上面が波状に湾曲した形状に形成さ
れ、最終的に第40図に示す磁気ヘッド(3)が得られ
る。尚、幅狭部(12a)の上面を波状に湾曲させるには、
エッチング処理工程の後に、第2強磁性薄膜(12)以外の
領域をフォトレジストで覆い、サンドブラスト加工を行
なって形成してもよい。
FIG. 40 is a perspective view showing another magnetic head (3) for reducing the reproduced output waveform distortion by the contour effect. Second ferromagnetic thin film facing the second glass (17)
The front surface of (12) is wavy. This magnetic head
To form (3), in the photoresist removing step after the etching treatment, as shown in FIG. 41, a photomask (66 having a plurality of slits (67) extending orthogonally to the track width direction is used. Is placed above the photoresist (65) and exposed. The narrow part (12a) of the second ferromagnetic thin film (12)
As shown in FIG. 42, the photoresist (65) that covers is curved in a wavy shape. When the ion beam is irradiated in this state, the upper surface of the narrow portion (12a) is formed in a wavy shape and finally As a result, the magnetic head (3) shown in FIG. 40 is obtained. In addition, in order to bend the upper surface of the narrow portion (12a) into a wavy shape,
After the etching process, the region other than the second ferromagnetic thin film (12) may be covered with photoresist and sandblasted to form it.

【0041】また、第28図に示す磁気ヘッド(3)につ
いても、第24図に示すように、磁気ヘッド(3)の上面
側部に露出する第1強磁性薄膜(11)を、トラック幅方向
に対し斜めになるように形成してもよい。更に、第1図
に示した磁気ヘッド(3)について、第2強磁性薄膜(12)
の前端部を円弧形に形成しても、コンタ−効果による再
生出力波形の歪みを少なくすることができる。
As for the magnetic head (3) shown in FIG. 28, as shown in FIG. 24, the first ferromagnetic thin film (11) exposed on the upper surface side of the magnetic head (3) has a track width of You may form so that it may become diagonal with respect to a direction. Furthermore, regarding the magnetic head (3) shown in FIG. 1, the second ferromagnetic thin film (12)
Even if the front end portion of is formed in an arc shape, the distortion of the reproduced output waveform due to the contour effect can be reduced.

【0042】以上、各例の磁気ヘッド(3)に共通する効
果は、記録媒体であるハードディスクに対向する磁性体
の面積が従来のものより小さいので、インダクタンス値
が小さくなり、磁気特性が改善される点、及び対向面側
ギャップスペーサ(4)及び第2強磁性薄膜(12)がともに
第1コア半体(13)上に被膜された後に、第1強磁性薄膜
(11)とともにエッチング加工により形成されることによ
り、ギャップ長t精度が向上する点である。本発明は上
記例の構成に限定されることはなく、クレームに記載の
範囲で、種々の変形が可能である。
As described above, the common effect of the magnetic heads (3) of the respective examples is that the area of the magnetic body facing the hard disk as the recording medium is smaller than that of the conventional one, so that the inductance value is reduced and the magnetic characteristics are improved. The first ferromagnetic thin film is formed on the first core half body (13) after the opposite side gap spacer (4) and the second ferromagnetic thin film (12) are coated together.
It is the point that the gap length t accuracy is improved by being formed by etching together with (11). The present invention is not limited to the configuration of the above example, and various modifications can be made within the scope of the claims.

【0043】上記実施例の説明は、本発明を説明するた
めのものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定
し、或は範囲を減縮する様に解すべきではない。又、本
発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求の範囲
に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能であることは
勿論である。
The above description of the embodiments is for explaining the present invention, and should not be construed as limiting the invention described in the claims or limiting the scope. The configuration of each part of the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and it goes without saying that various modifications can be made within the technical scope described in the claims.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施例の磁気ヘッドの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a magnetic head according to a first embodiment.

【図2】第1図をA−A線で切断した破断図である。FIG. 2 is a cutaway view of FIG. 1 taken along the line AA.

【図3】A図は、第1図をB−B線で切断した左側面
図、B図は同上の右側面図である。
FIG. 3 is a left side view of FIG. 1 taken along line BB, and FIG. 3B is a right side view of the same.

【図4】第1予備加工溝とデプスエンド溝を形成した大
基板の斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a large substrate on which a first preliminary processing groove and a depth end groove are formed.

【図5】第4図の大基板に第1ガラスを充填した状態の
斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view of the large substrate of FIG. 4 filled with a first glass.

【図6】エッチング工程後の大基板の斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of a large substrate after an etching process.

【図7】冗長部を形成した大基板の要部斜視図である。FIG. 7 is a perspective view of a main portion of a large substrate on which a redundant portion is formed.

【図8】第6図の大基板にコイル巻線溝を形成した状態
の斜視図である。
8 is a perspective view showing a state in which a coil winding groove is formed on the large substrate of FIG.

【図9】第2予備加工溝と凹溝を形成した小基板の斜視
図である。
FIG. 9 is a perspective view of a small substrate on which a second preliminary processing groove and a concave groove are formed.

【図10】第9図の小基板に第2ガラスを充填した状態
の斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view of the small substrate of FIG. 9 filled with a second glass.

【図11】小基板と大基板の突き合わせ状態を示す斜視
図である。
FIG. 11 is a perspective view showing a butted state of a small substrate and a large substrate.

【図12】第11図に示す大基板と小基板をP−P線で
切断したブロックの中心断面図である。
12 is a central cross-sectional view of a block obtained by cutting the large substrate and the small substrate shown in FIG. 11 along the line P-P.

【図13】第2実施例の磁気ヘッドの斜視図である。FIG. 13 is a perspective view of a magnetic head of a second embodiment.

【図14】第13図の磁気ヘッドに用いる大基板のエッ
チング加工後の斜視図である。
14 is a perspective view of a large substrate used in the magnetic head of FIG. 13 after etching.

【図15】第13図の磁気ヘッドをF−F線で切断した
右側面図である。
FIG. 15 is a right side view of the magnetic head of FIG. 13 taken along line FF.

【図16】小基板と大基板の突き合わせ状態を示す斜視
図である。
FIG. 16 is a perspective view showing a butted state of a small board and a large board.

【図17】第3実施例の磁気ヘッドの斜視図である。FIG. 17 is a perspective view of a magnetic head of a third embodiment.

【図18】第17図の磁気ヘッドをG−G線で切断した
断面図である。
18 is a sectional view of the magnetic head of FIG. 17 taken along the line GG.

【図19】突き合わせ溝と充填溝を形成した小基板の斜
視図である。
FIG. 19 is a perspective view of a small substrate having a butt groove and a filling groove formed therein.

【図20】第19図の小基板に第2ガラスを充填した状
態の斜視図である。
20 is a perspective view of the small substrate of FIG. 19 filled with a second glass.

【図21】小基板と大基板の突き合わせ状態を示す斜視
図である。
FIG. 21 is a perspective view showing a butted state of a small board and a large board.

【図22】第21図に示す大基板と小基板をP−P線で
切断したブロックの中心断面図である。
22 is a central cross-sectional view of a block obtained by cutting the large substrate and the small substrate shown in FIG. 21 along the line P-P.

【図23】底面をV字形に形成した第1予備加工溝に第
1ガラスを充填した大基板の斜視図である。
FIG. 23 is a perspective view of a large substrate in which a first glass is filled in a first pre-processing groove having a V-shaped bottom surface.

【図24】第23図の大基板を用いて形成される磁気ヘ
ッドの斜視図である。
FIG. 24 is a perspective view of a magnetic head formed using the large substrate shown in FIG. 23.

【図25】ハードディスクのトラックを示す平面図であ
る。
FIG. 25 is a plan view showing tracks on a hard disk.

【図26】微小傾斜面を設けた大基板を一部拡大した図
である。
FIG. 26 is a partially enlarged view of a large substrate provided with a minute inclined surface.

【図27】第4実施例の磁気ヘッドの斜視図である。FIG. 27 is a perspective view of a magnetic head according to a fourth embodiment.

【図28】第5実施例の磁気ヘッドの斜視図である。FIG. 28 is a perspective view of a magnetic head of a fifth embodiment.

【図29】第28図の磁気ヘッドをJ−J線で切断した
断面図である。
29 is a cross-sectional view of the magnetic head of FIG. 28 taken along the line JJ.

【図30】A図は、第28図の磁気ヘッドをI−I線で
切断した左側面図、B図は同上の右側面図である。
30 is a left side view of the magnetic head of FIG. 28 taken along line I-I, and FIG. 30 is a right side view of the same.

【図31】第5実施例の磁気ヘッドに用いられる大基板
のエッチング工程後の斜視図である。
FIG. 31 is a perspective view of a large substrate used in the magnetic head of the fifth embodiment after the etching process.

【図32】第31図の大基板にフォトレジストを塗付し
た状態をZ方向から見た図である。
32 is a diagram showing a state in which a photoresist is applied to the large substrate of FIG. 31 as seen from the Z direction.

【図33】イオンビーム照射後の大基板を示す図であ
る。
FIG. 33 is a diagram showing a large substrate after ion beam irradiation.

【図34】第5実施例に用いられる小基板の斜視図であ
る。
FIG. 34 is a perspective view of a small board used in the fifth embodiment.

【図35】第34図の小基板に第2ガラスを充填した状
態を示す斜視図である。
FIG. 35 is a perspective view showing a state where the small substrate of FIG. 34 is filled with the second glass.

【図36】第35図の小基板に調整溝を形成した状態の
斜視図である。
FIG. 36 is a perspective view showing a state where an adjustment groove is formed on the small board of FIG. 35.

【図37】小基板と大基板の突き合わせ状態を示す斜視
図である。
FIG. 37 is a perspective view showing a butted state of a small substrate and a large substrate.

【図38】第37図に示す大基板と小基板をP−P線で
切断したブロックの中心断面図である。
38 is a center cross-sectional view of a block obtained by cutting the large substrate and the small substrate shown in FIG. 37 along the line P-P.

【図39】ハードディスク再生時に於ける主磁束φ1と
浮遊磁束φ2を示す図である。
FIG. 39 is a diagram showing a main magnetic flux φ1 and a stray magnetic flux φ2 when reproducing a hard disk.

【図40】第5実施例の応用例である磁気ヘッドを示す
斜視図である。
FIG. 40 is a perspective view showing a magnetic head that is an application example of the fifth embodiment.

【図41】フォトマスクをフォトレジストの上方に配置
した露光工程を示す図である。
FIG. 41 is a diagram showing an exposure process in which a photomask is arranged above a photoresist.

【図42】上面が波形に湾曲したフォトレジストを示す
図である。
FIG. 42 is a view showing a photoresist having a corrugated upper surface.

【図43】第1実施例の応用例である磁気ヘッドを示す
斜視図である。
FIG. 43 is a perspective view showing a magnetic head that is an application example of the first embodiment.

【図44】第43図の磁気ヘッドに用いられる小基板の
斜視図である。
44 is a perspective view of a small substrate used in the magnetic head of FIG. 43. FIG.

【図45】第44図の小基板に第2ガラスと第3強磁性
薄膜を充填した状態を示す斜視図である。
45 is a perspective view showing a state where the small substrate of FIG. 44 is filled with the second glass and the third ferromagnetic thin film.

【図46】第45図の小基板を用いて磁気ヘッドを形成
する状態を示す断面図である。
46 is a sectional view showing a state in which a magnetic head is formed using the small substrate of FIG. 45.

【図47】ハードディスクが設けられた装置本体内部を
示す斜視図である。
FIG. 47 is a perspective view showing the inside of the apparatus main body provided with a hard disk.

【図48】スライダ本体の斜視図である。FIG. 48 is a perspective view of a slider body.

【図49】従来の磁気ヘッドの斜視図である。FIG. 49 is a perspective view of a conventional magnetic head.

【図50】同上の磁気ヘッドをQ−Q線で破断した断面
図である。
FIG. 50 is a cross-sectional view of the above magnetic head taken along line QQ.

【図51】従来の磁気ヘッドに於けるギャップスペーサ
形成方法を示す図である。
FIG. 51 is a diagram showing a gap spacer forming method in a conventional magnetic head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

(1) 第1突き合わせ半体 (2) 第2突き合わせ半体 (4) ギャップスペーサ (6) 大基板 (8) 小基板 (11) 第1強磁性薄膜 (12) 第2強磁性薄膜 (15) コイル巻線溝 (16) 第1ガラス (17) 第2ガラス (20) 第3強磁性薄膜 (1) First butt half (2) Second butt half (4) Gap spacer (6) Large substrate (8) Small board (11) First ferromagnetic thin film (12) Second ferromagnetic thin film (15) Coil winding groove (16) First glass (17) Second glass (20) Third ferromagnetic thin film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平8−77377 (32)優先日 平成8年3月29日(1996.3.29) (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 伊藤 清隆 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三洋電機株式会社内 (72)発明者 石原 宏三 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三洋電機株式会社内 (72)発明者 古閑 和彦 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三洋電機株式会社内 (72)発明者 福本 詳史 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三洋電機株式会社内 (72)発明者 古澤 厚志 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三洋電機株式会社内 (72)発明者 浦野 敏行 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三洋電機株式会社内 (72)発明者 小川 隆弘 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三洋電機株式会社内 (72)発明者 奥田 裕之 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三洋電機株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−267911(JP,A) 特開 昭63−31007(JP,A) 特開 昭63−31010(JP,A) 特開 昭60−179906(JP,A) 特開 平1−91308(JP,A) 特開 平1−91310(JP,A) 特開 平5−266413(JP,A) 実開 平7−26904(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/127 - 5/255 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 8-77377 (32) Priority date March 29, 1996 (March 29, 1996) (33) Country of priority claim Japan (JP) (72) Kiyotaka Ito, 2-5-5 Keihan Hondori, Moriguchi City, Osaka Prefecture Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Kozo Ishihara, 2-5-5 Keihan Hondori, Moriguchi City, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Kazuhiko Koga 2-5-5 Keihan Hondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Fukumoto 2-5-5 Keihan-hondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Atsushi Furusawa 2-5-5 Keihan Hondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Toshiyuki Urano 2-5-5 Keihan-hondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Takahiro Ogawa 2-5-5 Keihan Hondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Hiroyuki Okuda 2-5-5 Keihan Hondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (56) Reference JP-A-62-267911 (JP, A) JP-A-63-31007 (JP, A) JP-A-63-31010 (JP, A) JP-A-60-179906 (JP, A) JP-A-1-91308 (JP , A) JP-A-1-91310 (JP, A) JP-A-5-266413 (JP, A) Actual Kaihei 7-26904 (JP, U) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB) Name) G11B 5/127-5/255

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 記録媒体に対向して記録再生を行なう磁
気ヘッドであって、 一面が開口したコイル巻線溝(15)を有する第1突き合わ
せ半体(1)と、コイル巻線溝(15)の開口に対向して第1
突き合わせ半体(1)に接合された第2突き合わせ半体
(2)とを具え、 第1突き合わせ半体(1)は、第1コア半体(13)の一部を
構成し、強磁性材からなる第1コア半体部材(14)と、第
1コア半体(13)の残部を構成する第1強磁性薄膜(11)
と、第2コア半体(52)の一部を構成する第2強磁性薄膜
(12)と、第1コア半体(13)と第2コア半体(52)との間に
介在するギャップスペーサ(4)とを具え、 第1強磁性薄膜(11)は、上端が記録媒体との対向面に露
出した垂直面(11a)と、該垂直面(11a)の下端から斜め下
方に延びてコイル巻線溝(15)につながる傾斜面(11b)と
を具え、 第2強磁性薄膜(12)は、コイル巻線溝(15)により記録媒
体対向面側と奥部側とに分離され、 第2強磁性薄膜(12)の記録媒体対向面側は、上端が記録
媒体との対向面に露出する幅狭部(12a)と、該幅狭部(12
a)の下端につながる幅広部(12b)とを具え、 第1強磁性薄膜(11)の垂直面(11b)と第2強磁性薄膜(1
2)の幅狭部(12a)との間には、ギャップスペーサ(4)が
介在し、 第1強磁性薄膜(11)の傾斜面(11b)と第2強磁性薄膜(1
2)の幅広部(12b)との間には、第1ガラス(16)が配さ
れ、 第2突き合わせ半体(2)は、第2強磁性薄膜(12)の記録
媒体対向面側と奥部側の双方に接触して第2コア半体(5
2)の残部を構成する磁性材部分を具え、 第2突き合わせ半体(2)の記録媒体との対向面において
第2強磁性薄膜(12)の幅狭部(12a)に接触する部分は、
非磁性材からなることを特徴とする磁気ヘッド。
1. A magnetic head for recording / reproducing facing a recording medium, comprising: a first butting half (1) having a coil winding groove (15) whose one surface is open; and a coil winding groove (15). ) First facing the opening
Second butt halves joined to butt halves (1)
The first butting half body (1) constitutes a part of the first core half body (13), and comprises a first core half body member (14) made of a ferromagnetic material, and First ferromagnetic thin film (11) that composes the rest of the core half (13)
And a second ferromagnetic thin film forming part of the second core half (52)
(12) and a gap spacer (4) interposed between the first core half (13) and the second core half (52), the first ferromagnetic thin film (11) is recorded at the upper end. A vertical surface (11a) exposed on the surface facing the medium and an inclined surface (11b) extending obliquely downward from the lower end of the vertical surface (11a) and connected to the coil winding groove (15), The magnetic thin film (12) is separated into the recording medium facing surface side and the inner side by the coil winding groove (15), and the upper end of the second ferromagnetic thin film (12) facing the recording medium is the recording medium. And a narrow portion (12a) exposed on the facing surface of the
a) and a wide portion (12b) connected to the lower end of the first ferromagnetic thin film (11) perpendicular surface (11b) and the second ferromagnetic thin film (1b).
A gap spacer (4) is interposed between the narrow portion (12a) of (2) and the inclined surface (11b) of the first ferromagnetic thin film (11) and the second ferromagnetic thin film (1).
The first glass (16) is disposed between the wide part (12b) of 2), and the second butting half (2) is located on the side of the second ferromagnetic thin film (12) facing the recording medium and at the back. Part of the second core half (5
The portion of the second butt half (2) facing the recording medium, which comprises the magnetic material portion constituting the remainder of 2), is in contact with the narrow portion (12a) of the second ferromagnetic thin film (12),
A magnetic head comprising a non-magnetic material.
【請求項2】 ギャップスペーサ(4)は、第2強磁性薄
膜(12)の幅広部(11b)と第1ガラス(16)との間、及び第
2強磁性薄膜(12)の奥部側と第1コア半体部材(14)との
間にも介在している請求項1に記載の磁気ヘッド。
2. The gap spacer (4) is provided between the wide portion (11b) of the second ferromagnetic thin film (12) and the first glass (16) and on the inner side of the second ferromagnetic thin film (12). 2. The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head is also interposed between the first core half member (14).
【請求項3】 第1強磁性薄膜(11)のギャップスペーサ
(4)に接する部分は、第2強磁性薄膜(12)の幅狭部(12
a)と同じ幅を有する請求項1に記載の磁気ヘッド。
3. The gap spacer of the first ferromagnetic thin film (11)
The portion in contact with (4) is the narrow portion (12) of the second ferromagnetic thin film (12).
The magnetic head according to claim 1, having the same width as a).
【請求項4】 第2強磁性薄膜(12)の幅広部(12b)は、
第1突き合わせ半体(1)の側面に露出している請求項1
に記載の磁気ヘッド。
4. The wide portion (12b) of the second ferromagnetic thin film (12) comprises:
Exposed to the side surface of the first butting half (1).
The magnetic head described in 1.
【請求項5】 記録媒体との対向面に露出した第1強磁
性薄膜(11)、ギャップスペーサ(4)、及び第2強磁性薄
膜(12)の側方には、第1ガラス(16)より低融点の第2ガ
ラス(17)が配されている請求項3に記載の磁気ヘッド。
5. The first glass (16) on the side of the first ferromagnetic thin film (11), the gap spacer (4) and the second ferromagnetic thin film (12) exposed on the surface facing the recording medium. The magnetic head according to claim 3, wherein a second glass (17) having a lower melting point is arranged.
【請求項6】 第2突き合わせ半体(2)の磁性材部分
は、第3強磁性薄膜(20)からなる請求項1に記載の磁気
ヘッド。
6. The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic material portion of the second butting half body (2) comprises a third ferromagnetic thin film (20).
【請求項7】 第3強磁性薄膜(20)は、非磁性の基台(2
5)に埋め込まれている請求項6に記載の磁気ヘッド。
7. The third ferromagnetic thin film (20) comprises a non-magnetic base (2
The magnetic head according to claim 6, which is embedded in (5).
【請求項8】 第3強磁性薄膜(20)は、非磁性の基台(2
5)上に形成され、 第3強磁性薄膜(20)の記録媒体対向面側には、第2ガラ
ス(17)が配されている請求項6に記載の磁気ヘッド。
8. The third ferromagnetic thin film (20) comprises a non-magnetic base (2
The magnetic head according to claim 6, wherein the second glass (17) is formed on the third ferromagnetic thin film (20) and is disposed on the recording medium facing surface side of the third ferromagnetic thin film (20).
【請求項9】 第2突き合わせ半体(2)の磁性材部分
は、強磁性体からなる基体(5)であり、 第2突き合わせ半体(2)は、基体(5)の記録媒体との対
向面を、第2ガラス(17)にて被覆してなる請求項1に記
載の磁気ヘッド。
9. The magnetic material portion of the second butting half body (2) is a base body (5) made of a ferromagnetic material, and the second butting half body (2) and a recording medium of the base body (5). The magnetic head according to claim 1, wherein the opposite surface is covered with the second glass (17).
【請求項10】 第2強磁性薄膜(12)の幅狭部(12a)の
第2突き合わせ半体(2)との対向面は、曲面形状を有す
る請求項2に記載の磁気ヘッド。
10. The magnetic head according to claim 2, wherein a surface of the narrow portion (12a) of the second ferromagnetic thin film (12) facing the second butting half (2) has a curved shape.
【請求項11】 記録媒体との対向面に露出した第1コ
ア半体(13)と第2ガラス(17)との境界線は、トラック幅
方向に対して傾斜した部分を有する請求項1に記載の磁
気ヘッド。
11. The boundary line between the first core half body (13) and the second glass (17) exposed on the surface facing the recording medium has a portion inclined with respect to the track width direction. The magnetic head described.
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