JP3466269B2 - Metal processing method - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、金属の組織空隙の内部
の付着物を溶出し、金属組織空隙を洗浄する方法に関す
る技術である。The present invention relates to an internal deposits tissue voids metal eluted is <br/> Ru technique related to how to clean the metal structure voids.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来から、メチレンクロライドは金属洗
浄溶液として使用されており、半導体や金属製品の洗浄
においては、メチレンクロライド溶液にそのまま金属を
浸漬するという使い方は行われていたのである。2. Description of the Related Art Conventionally, methylene chloride has been used as a metal cleaning solution, and in the cleaning of semiconductors and metal products, the metal is directly immersed in the methylene chloride solution.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の如く、メチレンクロライドの溶液に直接に金属を浸漬
するのではなくて、メチレンクロライドと水を一旦蒸気
化して、該メチレンクロライドと水の蒸気を金属に当て
ることにより、金属組織空隙内にまで界面活性剤の蒸気
と、メチレンクロライドと水の蒸気を浸透させて、金属
組織空隙の内部に侵入して付着した付着物を溶出させ洗
浄するものである。またこの洗浄作用と同時に、副次的
に金属に耐候性錆びが発生し、この錆びがそれ以上の錆
びの発生を阻止する不動態皮膜を構成することにより、
金属の腐食をも防止するのである。The present invention does not directly immerse a metal in a solution of methylene chloride as in the above-mentioned prior art, but once vaporizes methylene chloride and water, and then the methylene chloride and water are evaporated. By applying steam to the metal, the surfactant vapor and the methylene chloride and water vapor are permeated into the metal tissue voids, and the deposits that have penetrated into the metal tissue voids and are adhering are washed out. It is a thing. Simultaneously with this cleaning action, weather resistant rust is secondarily generated on the metal, and this rust constitutes a passivation film that prevents the generation of further rust,
It also prevents metal corrosion.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明が解決しようとす
る課題は以上の如くであり、次に該課題を解決する為の
手段を説明する。請求項1においては、メチレンクロラ
イド溶液と水を混合して加熱し、メチレンクロライド蒸
気と水蒸気を発生させ、該メチレンクロライド蒸気と水
蒸気を、金属を封入した処理タンク内に充填して金属組
織空隙に浸透させ、金属組織空隙中の付着物を溶出する
ことを特徴とする金属処理方法である。The problems to be solved by the present invention are as described above. Next, the means for solving the problems will be described. In claim 1, a methylene chloride solution and water are mixed and heated to generate methylene chloride vapor and steam, and the methylene chloride vapor and steam are filled in a treatment tank in which a metal is sealed to form a metal structure void. The metal treatment method is characterized in that the deposit is permeated and the deposits in the voids of the metal structure are eluted.
【0005】請求項2においては、メチレンクロライド
溶液と水と界面活性剤液を混合して混合液とし、該混合
液を加熱し、メチレンクロライド蒸気と水蒸気と界面活
性剤蒸気を発生させ、該混合蒸気を、金属を封入した処
理タンク内に充填して金属組織空隙に浸透させ、金属組
織空隙中の付着物を溶出することを特徴とする金属処理
方法である。In the second aspect, a methylene chloride solution, water and a surfactant liquid are mixed to form a mixed liquid, and the mixed liquid is heated to generate methylene chloride vapor, water vapor and surfactant vapor, The metal treatment method is characterized in that vapor is filled in a treatment tank in which a metal is sealed so as to permeate the metal tissue voids, and deposits in the metal tissue voids are eluted.
【0006】請求項3においては、請求項1又は2に記
載の金属処理方法において、処理タンクを負圧状態と
し、金属を脱気状態で処理することを特徴とする金属処
理方法である。[0006] In the third aspect, in the metal processing method according to claim 1 or 2, the processing tank and the negative pressure state, metal processing, which comprises treating the metal with deaerated state
It is a logical method .
【0007】請求項4においては、請求項2の金属処理
方法において、メチレンクロライド溶液と水と界面活性
剤液の重量比率を、略5・4・1とし、界面活性剤液の
比率は1以下の比率とし、該混合液の加熱温度を80〜
100°Cの範囲としたことを特徴とする金属処理方法
である。According to a fourth aspect of the present invention, in the metal treatment method according to the second aspect, the weight ratio of the methylene chloride solution, water and the surfactant liquid is approximately 5.4.1, and the ratio of the surfactant liquid is 1 or less. And the heating temperature of the mixture is 80-
The metal treatment method is characterized in that the temperature is set to 100 ° C.
【0008】[0008]
【作用】次に作用を説明する。本発明のメチレンクロラ
イド蒸気又は、メチレンクロライド蒸気と水蒸気と界面
活性剤蒸気は、金属Wの金属組織空隙の部分まで浸透
し、金属組織空隙内の付着物や残留物を溶出して、金属
や金属性遺物の洗浄を行うのである。[Operation] Next, the operation will be described. The methylene chloride vapor or the methylene chloride vapor, water vapor, and surfactant vapor of the present invention penetrates to the portion of the metallographic structure void of the metal W, elutes the deposits and residues in the metallographic structure void, and removes the metal or metal. The sex relics are washed.
【0009】[0009]
【実施例】次に実施例を説明する。メチレンクロライド
は化学式がCH2Cl2で表示される分子量84.93
の物質である。化学名は塩化メチレンであり、一般名と
してメチレンクロライドの他に、ジクロルメタンとか、
二塩化メチレンと呼称される場合もある。沸点は40.
4°Cで、融点は−96.8°Cである。また、界面活
性剤は、陰イオン性界面活性剤と、陽イオン性界面活性
剤と、非イオン性界面活性剤と、両性界面活性剤に分類
される。陰イオン性界面活性剤としては、アルキル硫酸
ナトリウム、アミド硫酸ナトリウム、第二アルキル硫酸
ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム、アミドス
ルホン酸ナトリウム、アルキルアリルスルホン酸ナトリ
ウム、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム等があ
る。EXAMPLES Next, examples will be described. The chemical formula of methylene chloride is CH 2 Cl 2 and the molecular weight is 84.93.
Is the substance of. The chemical name is methylene chloride, and in addition to methylene chloride as a general name, dichloromethane,
It may be referred to as methylene dichloride. Boiling point is 40.
At 4 ° C, the melting point is -96.8 ° C. Further, the surfactant is classified into an anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, and an amphoteric surfactant. Examples of the anionic surfactant include sodium alkylsulfate, sodium amidosulfate, sodium secondary alkylsulfate, sodium alkylsulfonate, sodium amidosulfonate, sodium alkylallylsulfonate, sodium alkylnaphthalenesulfonate and the like.
【0010】また、陽イオン性界面活性剤としては、酢
酸アミン塩、アルキルトリメチルアンモニウムクロリ
ド、ジアルキルメチルアンモニウムクロリド、アルキル
ピリジウムハロゲニド、アルキルジメチルベンジルアン
モニウムクロリド等がある。両性界面活性剤としては、
カルボン酸型、スルホン酸型、硫酸エステル型等があ
る。Examples of the cationic surfactant include amine salt of acetic acid, alkyltrimethylammonium chloride, dialkylmethylammonium chloride, alkylpyridinium halide and alkyldimethylbenzylammonium chloride. As the amphoteric surfactant,
There are carboxylic acid type, sulfonic acid type, sulfuric acid ester type and the like.
【0011】非イオン性界面活性剤としては、ポリオキ
シエチレンアルキルフェノール、ポリオキシエチレン脂
肪アルコール、ポリオキシエチレン脂肪酸、ポリオキシ
エチレン酸アミド、ポリオキシエチレン脂肪アミン、ポ
リプロピレングリゴール等がある。本発明の金属処理方
法においては、アルカリ性が強くなると、Cl2が発生
しやすくるなるので、これを回避する必要があり、酸・
アルカリに対して比較的安定した、アルコール系の非イ
オン界面活性剤であるポリオキシエチレンアルキルフェ
ノールや、ポリオキシエチレン脂肪アルコールが、この
点において有効である。しかし、金属組織空隙内の付着
物を溶出する為には、全ての界面活性剤が有効である。Examples of the nonionic surfactants include polyoxyethylene alkylphenol, polyoxyethylene fatty alcohol, polyoxyethylene fatty acid, polyoxyethylene acid amide, polyoxyethylene fatty amine, and polypropylene glycol. Metal processing method of the present invention
In the method , if the alkalinity becomes strong, Cl2 is liable to be generated, so it is necessary to avoid this.
Polyoxyethylene alkylphenol and polyoxyethylene fatty alcohol, which are alcohol-based nonionic surfactants that are relatively stable to alkali, are effective in this respect. However, all the surfactants are effective for eluting the deposits in the metal structure voids.
【0012】本発明の金属処理方法において、メチレン
クロライド溶液と水と界面活性剤液の重量比率を、略5
・4・1とし、界面活性剤液の比率は1以下の比率と
し、該混合液の加熱温度を80〜100°Cの範囲とし
ている。そして、本発明の如く、メチレンクロライド溶
液と、水と、界面活性剤液の3者の混合液を加熱する
と、メチレンクロライド蒸気や水蒸気や界面活性剤蒸気
の他に、次のようなガスや化合物が発生している。即
ち、HCHO、HF、HCl、HBr、NH3、Cl2
(僅少)、CH4、CO、CO2、有機酸、有機化合物
である。有機酸としては、りん酸、くえん酸、ピルビン
酸、りんご酸、こはく酸、乳酸、ぎ酸、酢酸、レブリン
酸、ピログルタミン酸、プロピオン酸、いそ酪酸、いそ
吉草酸等である。また、有機化合物を、ガスクロマトグ
ラフにより質量分析すると、鎖状飽和炭化水素やセキス
テルペンやセキステルペンアルコール等の金属の付着物
に含まれる精油に由来する有機化合物が分析されるので
ある。これらは、金属組織空隙の付着物がメチレンクロ
ライドと界面活性剤により溶出されたものである。In the metal treatment method of the present invention, methylene
The weight ratio of chloride solution, water, and surfactant solution should be approximately 5
・ 4 ・ 1, and the ratio of surfactant liquid is less than 1
Then, the heating temperature of the mixed solution is set in the range of 80 to 100 ° C.
ing. As in the present invention, when a mixed solution of methylene chloride solution, water and surfactant liquid is heated, in addition to methylene chloride vapor, water vapor and surfactant vapor, the following gases and compounds Is occurring. That is, HCHO, HF, HCl, HBr, NH3, Cl2
(Small), CH4, CO, CO2, organic acids, organic compounds. Examples of the organic acid include phosphoric acid, citric acid, pyruvic acid, malic acid, succinic acid, lactic acid, formic acid, acetic acid, levulinic acid, pyroglutamic acid, propionic acid, isobutyric acid and isovaleric acid. In addition, when the organic compound is subjected to mass spectrometry by gas chromatography, the organic compound derived from the essential oil contained in the chain saturated hydrocarbon and the metal deposit such as sesterpene and sesterpene alcohol is analyzed. In these, the deposits in the voids of the metal structure are eluted with methylene chloride and a surfactant.
【0013】図1は本発明の金属処理方法の基本構成図
面、図2は金属処理方法の行程と手順をバルブ機構の開
閉により示した図面、図3は処理タンクTと蓋体22と
金属載置台26の部分の側面図、図4は処理タンクTに
蓋体22を閉鎖した状態の側面図、図5は蓋体22の正
面図、図6は処理タンクTの正面断面図、図7は金属載
置台26の上に金属Wを載置した状態の正面図、図8は
処理状態における処理タンクTの内部の断面図である。FIG. 1 is a basic structural drawing of the metal processing method of the present invention, FIG. 2 is a drawing showing the process and procedure of the metal processing method by opening and closing a valve mechanism, and FIG. 3 is a processing tank T, a lid 22 and a metal mount. 4 is a side view of a portion of the table 26, FIG. 4 is a side view of the processing tank T with the lid 22 closed, FIG. 5 is a front view of the lid 22, FIG. 6 is a front sectional view of the processing tank T, and FIG. FIG. 8 is a front view of a state in which the metal W is placed on the metal placing table 26, and FIG. 8 is a sectional view of the inside of the processing tank T in the processing state.
【0014】図3・図4・図5・図6・図7において、
処理タンクTと蓋体22と金属載置台26の構成を説明
する。即ち、処理タンクTは圧力容器を構成しており、
本発明の金属処理方法においては、脱気状態において5
0Torrとなり、メチレンクロライドの蒸気回収時に
200Torrとなるので、これに耐える程度の圧力容
器に構成されている。そして、正面に蓋体22が設けら
れており、該蓋体22が金属載置台26と一体的に構成
されている。該金属載置台26は処理タンクTの内部に
設けられた移動レール25の上で移動し、また蓋体22
は蓋体支持部23の下部の移動レール24の部分で、両
者が一体的に移動可能としている。In FIG. 3, FIG. 4, FIG. 5, FIG. 6 and FIG.
The configurations of the processing tank T, the lid 22, and the metal mounting table 26 will be described. That is, the processing tank T constitutes a pressure vessel,
In the metal treatment method of the present invention, 5
Since it becomes 0 Torr and 200 Torr at the time of vapor recovery of methylene chloride, the pressure vessel is configured to withstand this. A lid 22 is provided on the front surface, and the lid 22 is formed integrally with the metal mounting table 26. The metal mounting table 26 moves on a moving rail 25 provided inside the processing tank T, and also the lid 22.
Is a portion of the moving rail 24 below the lid supporting portion 23, and both can be integrally moved.
【0015】該蓋体22と一体的に引出し、挿入される
金属載置台26の上に、処理対象である金属Wを載置す
るのである。該金属載置台26の部分を処理タンクTの
内部に挿入した状態で、蓋体22と処理タンクTとを密
閉固定し、圧力を掛けるのである。該処理タンクTの内
側底部に加温・冷却パイプ20が配置されており、加温
の場合にはボイラーBより、100数十°Cの水蒸気が
供給される。また、冷却の場合には、冷却水タンク18
の冷却水が供給される。メチレンクロライドと水の混合
液は、そのまま処理タンクTの内部に注入されても良い
し、また予備タンクの部分で混合蒸気の状態として、処
理タンクTに供給しても良いのである。図1の実施例に
おいては、混合液の状態として処理タンクTの内部に供
給すべく構成している。The metal W to be processed is placed on the metal placing table 26 which is integrally drawn out and inserted into the lid 22. With the portion of the metal mounting table 26 inserted in the processing tank T, the lid 22 and the processing tank T are hermetically fixed and pressure is applied. A heating / cooling pipe 20 is arranged at the inner bottom portion of the processing tank T, and in the case of heating, steam of several tens of degrees centigrade is supplied from the boiler B. In the case of cooling, the cooling water tank 18
Cooling water is supplied. The mixed solution of methylene chloride and water may be directly injected into the processing tank T, or may be supplied to the processing tank T in a mixed vapor state in the spare tank portion. In the embodiment shown in FIG. 1, the mixed liquid is supplied to the inside of the processing tank T.
【0016】そして、混合液の状態で、加温・冷却パイ
プ20を浸漬する程度まで、混合液を注入した状態で、
ボイラーBから100数十°Cの水蒸気を加温・冷却パ
イプ20に供給し、沸点が40度であるメチレンクロラ
イドは勿論、水も蒸気となるのである。該水蒸気とメチ
レンクロライドの蒸気とを同時に供給するのは、水蒸気
により金属Wの外周の組織を柔らかくして、金属組織空
隙の付着物の溶出を促進し、次にメチレンクロライドの
蒸気が金属組織空隙の内部に浸透するのを促進するので
ある。本発明においては、メチレンクロライドと水と界
面活性剤の混合液は、図6に示す如く、液面が最大でも
金属載置台26の下までしか成らず、金属が混合液に浸
漬されることは無いのである。あくまで、混合液の蒸気
を金属に吸収させて処理するのである。Then, in the state of the mixed liquid, in the state of injecting the mixed liquid to the extent that the heating / cooling pipe 20 is immersed,
Water vapor of 100 to several tens of degrees Celsius is supplied from the boiler B to the heating / cooling pipe 20, and not only methylene chloride having a boiling point of 40 degrees but also water is vaporized. The steam and methylene chloride vapor are supplied at the same time by softening the outer peripheral structure of the metal W by the steam to promote the elution of the deposits in the metal tissue voids, and then the methylene chloride vapor causes the metal tissue voids to flow. It promotes its penetration into the interior of the. In the present invention, the mixed solution of methylene chloride, water, and the surfactant is formed only under the metal mounting table 26 even if the liquid level is maximum as shown in FIG. 6, and the metal is not immersed in the mixed solution. There is no. To the end, the vapor of the mixed liquid is absorbed by the metal for processing.
【0017】次に図1において、本発明の金属処理方法
の基本構成を説明する。設備としては、処理タンクTと
混合液タンク14が主体であり、該混合液タンク14の
内部に、メチレンクロライドと水と界面活性剤の混合さ
れた混合液が投入される。また、ボイラーBは蒸気をパ
イプ内に供給し、前述の如く混合液を蒸気化するもので
あり、コンプレッサCは、処理終了後に処理タンクTの
内部の混合液を混合液タンク14に戻す際に圧力を掛け
るものである。Next, referring to FIG. 1, the basic structure of the metal processing method of the present invention will be described. The equipment mainly comprises a processing tank T and a mixed liquid tank 14, and a mixed liquid in which methylene chloride, water and a surfactant are mixed is put into the mixed liquid tank 14. Further, the boiler B supplies steam into the pipe to vaporize the mixed liquid as described above, and the compressor C returns the mixed liquid inside the processing tank T to the mixed liquid tank 14 after the processing is completed. It applies pressure.
【0018】また、真空ポンプPは混合液を押し出した
後に、処理タンクTの内部と金属Wの金属組織空隙の内
部に残っているメチレンクロライド蒸気を吸引するもの
である。そして該吸引したメチレンクロライド蒸気は、
大気に排出することが出来ないので、コンデンサ16に
おいて冷却して液化し、コンデンサパイプ21の部分か
ら再度混合液タンク14に戻している。チラー15は該
コンデンサ16の内部の冷却水を冷却するものである。
またフィルター19が設けられており、処理タンクTか
らコンプレッサCにより押し出される混合液内のゴミ等
の不純物を濾過する。また冷却水タンク17は、混合液
蒸気を液化する為に使用した冷却水の受け皿である。Further, the vacuum pump P is for sucking the methylene chloride vapor remaining inside the processing tank T and inside the metal structure void of the metal W after the mixed solution is pushed out. And the sucked methylene chloride vapor is
Since it cannot be discharged to the atmosphere, it is cooled and liquefied in the condenser 16 and returned to the mixed liquid tank 14 from the portion of the condenser pipe 21. The chiller 15 cools the cooling water inside the condenser 16.
Further, a filter 19 is provided to filter impurities such as dust in the mixed solution extruded from the processing tank T by the compressor C. The cooling water tank 17 is a pan for cooling water used for liquefying the mixed liquid vapor.
【0019】そして、各部に電磁バルブが配置されてい
る。該電磁バルブは、自動制御装置により、一定時間毎
に開閉すべく構成しており、処理の行程である『金属脱
気』,『混合液送り込み』,『金属洗浄』,『混合液冷
却』,『混合液タンク戻し』,『混合液蒸気回収』,
『コンデンサ内部混合液回収』の順に、図2に示す如
く、自動的に開閉操作される。同時に、コンプレッサC
とボイラーBと真空ポンプPとチラー15が自動的に駆
動停止される。この処理の1行程は、24時間で終了す
べく構成されている。An electromagnetic valve is arranged in each part. The electromagnetic valve is configured to open and close at regular time intervals by an automatic control device, and the process steps are "metal degassing", "mixed liquid feeding", "metal cleaning", "mixed liquid cooling", "Mixed liquid tank return", "Mixed liquid vapor recovery",
As shown in FIG. 2, the opening / closing operation is automatically performed in the order of “collection of mixed liquid in condenser”. At the same time, compressor C
The boiler B, the vacuum pump P, and the chiller 15 are automatically stopped. One stroke of this process is configured to be completed in 24 hours.
【0020】次に図2において、金属処理方法の各行程
の電磁バルブの状態を示す。まず『金属脱気』の行程に
おいては、真空ポンプPが駆動される。そして真空ポン
プPとコンデンサ16を連結する回路の電磁バルブ1が
開く、またコンデンサ16と処理タンクTを連通する電
磁バルブ3も開く。その他の電磁バルブはすべて閉鎖さ
れている。これにより、処理タンクTの内部は、50T
orr程度の真空となり、金属Wの金属組織空隙内の空
気が引き出される。Next, FIG. 2 shows the state of the electromagnetic valve in each step of the metal processing method . First, in the process of "metal degassing", the vacuum pump P is driven. Then, the electromagnetic valve 1 of the circuit that connects the vacuum pump P and the condenser 16 is opened, and the electromagnetic valve 3 that connects the condenser 16 and the processing tank T is also opened. All other solenoid valves are closed. As a result, the inside of the processing tank T is 50T
The vacuum becomes about orr, and the air in the metal structure void of the metal W is drawn out.
【0021】次に『混合液送り込み』の行程において
は、処理タンクTと混合液タンク14を連通する電磁バ
ルブ4が開き、他の電磁バルブは閉鎖される。これによ
り混合液タンク14と処理タンクTとは略同じレベルに
配置されているので、混合液タンク14内と処理タンク
T内が同じレベルになるように、混合液が処理タンクT
内に移動する。Next, in the "mixed liquid feeding" step, the electromagnetic valve 4 that connects the processing tank T and the mixed liquid tank 14 is opened, and the other electromagnetic valves are closed. As a result, the mixed solution tank 14 and the processing tank T are arranged at substantially the same level, so that the mixed solution is treated so that the mixed solution tank 14 and the processing tank T are at the same level.
Move in.
【0022】次に、『金属洗浄』の行程においては、ボ
イラーBと処理タンクTとの間の電磁バルブ7と、処理
タンクTからドレーンを連通する電磁バルブ9が開き、
他の電磁バルブは閉鎖される。これにより、ボイラーB
からの高熱蒸気が処理タンクT内の加温・冷却パイプ2
0に供給され、処理タンクT内の混合液は、メチレンク
ロライド蒸気と水蒸気と界面活性剤蒸気となって、金属
Wの金属組織空隙内に浸透する。この『金属洗浄』の段
階を約6時間行う。Next, in the process of "metal cleaning", the electromagnetic valve 7 between the boiler B and the processing tank T and the electromagnetic valve 9 which connects the drain from the processing tank T to each other are opened,
The other solenoid valve is closed. This allows the boiler B
High-temperature steam from the heating and cooling pipes 2 in the processing tank T
0, the mixed liquid in the processing tank T becomes methylene chloride vapor, water vapor, and surfactant vapor, and permeates into the metal structure void of the metal W. This "metal cleaning" step is performed for about 6 hours.
【0023】次に、『混合液冷却』の行程を説明する。
この場合には、冷却水タンク18と処理タンクTとを連
通する電磁バルブ8と、処理タンクTと冷却水タンク1
7を連通する電磁バルブ10が開放される。他の電磁バ
ルブは閉鎖されている。これにより、冷却水が加温・冷
却パイプ20内を通過し、処理タンクTの内部はメチレ
ンクロライドの沸点である40°C以下となるので、メ
チレンクロライドも水蒸気も薬液に戻るのである。Next, the process of "mixed liquid cooling" will be described.
In this case, the electromagnetic valve 8 that connects the cooling water tank 18 and the processing tank T, the processing tank T, and the cooling water tank 1
The electromagnetic valve 10 communicating with 7 is opened. The other solenoid valve is closed. As a result, the cooling water passes through the inside of the heating / cooling pipe 20, and the inside of the processing tank T becomes 40 ° C. or lower, which is the boiling point of methylene chloride, so that both methylene chloride and steam return to the chemical liquid.
【0024】次に、『混合液タンク戻し』の行程を説明
する。この場合には、処理タンクT内の空気を逃がす為
に電磁バルブ2が開き、処理タンクTの下部の電磁バル
ブ5と、コンプレッサCと処理タンクTを連通する電磁
バルブ6が開き、コンプレッサCが駆動される。また、
フィルター19と混合液タンク14の間の電磁バルブ1
2と、混合液タンク14と大気を連通する電磁バルブ1
3が開く。これにより処理タンクT内にある程度の圧力
が掛かるので、液化した混合液は混合液タンク14内に
押し戻される。Next, the process of "returning the mixed liquid tank" will be described. In this case, the electromagnetic valve 2 is opened to release the air in the processing tank T, the electromagnetic valve 5 under the processing tank T and the electromagnetic valve 6 that connects the compressor C and the processing tank T are opened, and the compressor C is opened. Driven. Also,
Electromagnetic valve 1 between filter 19 and mixed solution tank 14
2 and the electromagnetic valve 1 that connects the mixed liquid tank 14 to the atmosphere
3 opens. As a result, a certain amount of pressure is applied to the processing tank T, so that the liquefied mixed liquid is pushed back into the mixed liquid tank 14.
【0025】次に、『タンク内部混合液蒸気回収』の行
程について説明する。この場合には、真空ポンプPが駆
動される。そして真空ポンプPとコンデンサ16を連通
する電磁バルブ1と、コンデンサ16と処理タンクTを
連通する電磁バルブ3が開く。他の電磁バルブは閉鎖さ
れる。この状態で、真空ポンプPにより処理タンクT内
及び金属Wの金属組織空隙内に浸透したメチレンクロラ
イドの蒸気を回収する。この際の真空度は、200To
rr程度まで下げる。次に『コンデンサ内部混合液回
収』の行程においては、大気と連通する電磁バルブ2
と、コンデンサパイプ21と混合液タンク14とを連通
する電磁バルブ11を開く。これにより、コンデンサ1
6のコンデンサパイプ21の内部に溜まったメチレンク
ロライド等の混合液を、混合液タンク14に回収するこ
とが出来る。これらの1行程を24時間で終了するので
ある。Next, the process of "collection of vapor mixture in tank" will be described. In this case, the vacuum pump P is driven. Then, the electromagnetic valve 1 that connects the vacuum pump P and the capacitor 16 and the electromagnetic valve 3 that connects the capacitor 16 and the processing tank T are opened. The other solenoid valve is closed. In this state, the vacuum pump P collects the vapor of methylene chloride that has penetrated into the processing tank T and the metal structure voids of the metal W. The degree of vacuum at this time is 200 To
Lower to about rr. Next, in the process of “collecting the mixed liquid inside the condenser”, the electromagnetic valve 2 communicating with the atmosphere
Then, the electromagnetic valve 11 that connects the condenser pipe 21 and the mixed liquid tank 14 is opened. This allows the capacitor 1
The mixed liquid such as methylene chloride accumulated in the condenser pipe 21 of No. 6 can be collected in the mixed liquid tank 14. Each of these steps is completed in 24 hours.
【0026】次に、図8において、処理状態に於ける処
理タンクTの内部の断面図を説明する。処理タンクTの
内部の下方に、加温・冷却パイプ20が配置されてお
り、該加温・冷却パイプ20の上部に、金属載置台26
が移動可能に配置されている。該金属載置台26の上に
金属Wが載置されるのである。そして、水Waと界面活
性剤液Sとメチレンクロライド溶液Meの混合液は、該
加温・冷却パイプ20よりも液位が高く、しかし、金属
載置台26上の金属Wを浸漬しない程度の液位となるよ
うに注入される。Next, referring to FIG. 8, a sectional view of the inside of the processing tank T in the processing state will be described. A heating / cooling pipe 20 is arranged below the inside of the processing tank T, and a metal mounting table 26 is provided above the heating / cooling pipe 20.
Are movably arranged. The metal W is placed on the metal mounting table 26. The liquid mixture of water Wa, the surfactant liquid S, and the methylene chloride solution Me has a higher liquid level than the heating / cooling pipe 20, but does not immerse the metal W on the metal mounting table 26. It is injected so that it becomes the rank.
【0027】水Waの比重は1.00であり、界面活性
剤液Sの比重は1.04であるので、略同じ液位とな
り、界面活性剤液Sは水Waに溶けるので一体的にな
り、図8に示す如く、水Wa+界面活性剤液Sの液層を
構成する。これに対して、メチレンクロライド溶液Me
は、比重が1.33であり、水Waに溶解しないので、
水Wa+界面活性剤液Sの層の下に層を構成するのであ
る。そして、水Wa+界面活性剤液Sの層に配置した加
温・冷却パイプ20に160°Cに加熱した水蒸気を供
給すると、加温・冷却パイプ20の周囲の温度が上昇す
る。該加温・冷却パイプ20は水Wa+界面活性剤液S
の層に配置されており、該部分が先に温度上昇する。Since the specific gravity of the water Wa is 1.00 and the specific gravity of the surfactant liquid S is 1.04, the liquid levels are almost the same, and the surfactant liquid S dissolves in the water Wa and becomes integral. As shown in FIG. 8, a liquid layer of water Wa + surfactant liquid S is formed. On the other hand, a methylene chloride solution Me
Has a specific gravity of 1.33 and does not dissolve in water Wa,
A layer is formed under the layer of water Wa + surfactant liquid S. Then, when steam heated to 160 ° C. is supplied to the heating / cooling pipe 20 arranged in the layer of water Wa + surfactant liquid S, the temperature around the heating / cooling pipe 20 rises. The heating / cooling pipe 20 is made of water Wa + surfactant liquid S.
Are arranged in the layer of the above, and the temperature of the portion is raised first.
【0028】徐々に加温・冷却パイプ20の温度が上昇
し、約40°Cに達すると、メチレンクロライド溶液M
eが沸点に達し、メチレンクロライド蒸気に変わり水W
a+界面活性剤液Sの層を泡となって通過して、金属W
に至り、該金属Wの金属組織空隙内に侵入する。金属W
の場合には、約80°Cに加熱し、メチレンクロライド
の蒸気が、水Waと界面活性剤液Sの液の中を潜り抜け
て、金属Wに達するような状態で処理を続けるのであ
る。そして該メチレンクロライドMeが水Waと界面活
性剤液Sを通過する間に、メチレンクロライドから発生
するCl2(塩素ガス)を水Waに吸収させて、処理に
悪影響を与えるCl2の発生を押さえるのである。ま
た、該メチレンクロライドの蒸気に、界面活性剤液Sが
附加された状態で、金属Wの金属組織空隙に侵入するの
である。これにより溶出の切れを良くすることが出来
る。When the temperature of the heating / cooling pipe 20 gradually rises and reaches about 40 ° C., the methylene chloride solution M
e reaches the boiling point, changes to methylene chloride vapor and water W
a + the surface of the surfactant liquid S as bubbles to pass through the metal W
Then, the metal W penetrates into the metal structure voids. Metal W
In the case of 1, the heating is performed to about 80 ° C., and the methylene chloride vapor passes through the liquid of the water Wa and the surfactant liquid S and reaches the metal W, and the treatment is continued. Then, while the methylene chloride Me passes through the water Wa and the surfactant liquid S, Cl2 (chlorine gas) generated from methylene chloride is absorbed by the water Wa to suppress the generation of Cl2 which adversely affects the treatment. . In addition, the vapor of the methylene chloride, with the surfactant liquid S added thereto, penetrates into the metal structure void of the metal W. This makes it possible to improve the breakage of elution.
【0029】このように、水Waと界面活性剤液Sとメ
チレンクロライド溶液Meを、混合液として、加温・冷
却パイプ20により加温することにより、メチレンクロ
ライドMeの蒸気は、水Waと界面活性剤液Sを通過し
てから、処理タンクT内に蒸発するのでCl2が少なく
なるのである。該メチレンクロライドの蒸気は、金属W
の穿孔に侵入するのである。また、界面活性剤液Sが混
在された状態で穿孔内に入るので、付着物を溶出する場
合の切れが良く、また低温でメチレンクロライドの蒸気
を大量に発生することが出来るので、処理タンクT内を
高温にして処理する必要がないのである。As described above, the water Wa, the surfactant solution S, and the methylene chloride solution Me are mixed as a mixed solution and heated by the heating / cooling pipe 20, whereby the vapor of the methylene chloride Me forms an interface with the water Wa. After passing through the activator liquid S, it is evaporated in the processing tank T, so that Cl2 is reduced. The methylene chloride vapor is a metal W
Penetrate into the perforations of. In addition, since the surfactant liquid S enters the perforation in a mixed state, it is easy to cut when depositing substances are eluted, and a large amount of methylene chloride vapor can be generated at a low temperature. There is no need to heat the inside to treat it.
【0030】本実施例においては、金属を処理する実施
例について説明したが、金属を加工して製造し、何十
年、何百年、何千年と経過した、刀や金属製遺物の修復
・復元において、本発明の金属処理方法を使用すること
が可能である。即ち、処理タンクT内に長年を経た金属
製遺物を入れて、メチレンクロライド溶液と水と界面活
性剤液を混合して混合液の蒸気を当てることにより、金
属製遺物の内部に残った付着物を溶出することができ、
それと共に表面の汚れや煤等を全て流し出すことが出来
るのである。この操作により、古い金属製遺物の内部か
らの洗浄を行うことが出来るのである。その洗浄操作に
より、メチレンクロライドによる殺菌効果も発生し、付
着物の溶出後は表面が硬化するので、そのまま恒温展示
装置にて展示することが出来るのである。この修復・復
元は、金属製遺物等に関わらず、遺跡の調査において発
掘される金属や、金属製遺物においてもその洗浄が可能
である。該洗浄により長期保存可能な状態とすることが
出来るのである。In the present embodiment, the embodiment of treating metal has been described. However, the sword and metal relics which have been processed and produced for decades, hundreds, or thousands of years have been restored or restored. In, it is possible to use the metal treatment method of the present invention. That is, a metal relic that has been aged for many years is placed in the processing tank T, and a methylene chloride solution, water, and a surfactant solution are mixed, and steam of the mixed liquid is applied to the remnant to remove deposits remaining inside the metal relic. Can be eluted,
At the same time, all the dirt and soot on the surface can be drained. By this operation, the old metal relics can be cleaned from the inside. The washing operation also produces a bactericidal effect due to methylene chloride, and the surface is hardened after the adhered substances are eluted, so that the product can be displayed as it is on a constant temperature display device. This restoration / restoration can be performed on metals excavated during the survey of ruins and metal relics, regardless of metal relics. By the washing, it can be put into a state in which it can be stored for a long period of time.
【0031】[0031]
【発明の効果】本発明は以上の如く構成したので、次の
ような効果を奏するのである。即ち、請求項1の如く構
成したので、メチレンクロライドの蒸気と水蒸気とが、
金属の内部に浸透することにより、金属組織の空隙の付
着物を溶出することが容易にできるのである。Since the present invention is constructed as described above, it has the following effects. That is, since it is configured as in claim 1, the methylene chloride vapor and the water vapor are
By penetrating into the inside of the metal, it is possible to easily elute the deposits in the voids of the metal structure.
【0032】請求項2の如く構成したので、メチレンク
ロライドと界面活性剤と水の蒸気により、金属組織空隙
の付着物を溶出することが可能となり、特に界面活性剤
を混合することにより、付着物溶解後の金属組織空隙か
らの分離や切れを良くすることが出来るのである。故
に、同じく、メチレンクロライドの溶液に金属を浸漬し
た場合よりも、メチレンクロライド蒸気と水蒸気を、高
圧化して吸収させ、かつ界面活性剤の蒸気をも金属の機
構に吸収させて処理することの方が、金属組織空隙の付
着物の溶出効果を3倍程度に向上することができるので
ある。
また、この洗浄作用と同時に、副次的に金属に耐候性錆
びが発生し、この錆びがそれ以上の錆びの発生を阻止す
る不動態皮膜を構成することにより、金属の腐食をも防
止するのである。According to the second aspect of the present invention, it is possible to elute the deposits in the voids of the metal structure by the methylene chloride, the surfactant and the water vapor. Particularly, by mixing the surfactants, the deposits can be dissolved. It is possible to improve separation and breakage from the metal structure voids after melting. Therefore, similarly, methylene chloride vapor and water vapor should be pressurized and absorbed, and the surfactant vapor should be absorbed by the metal mechanism, as compared with the case where the metal is immersed in a solution of methylene chloride. However, the elution effect of the deposits in the metal structure voids can be improved about three times. At the same time as this cleaning action, weather resistant rust is secondarily generated on the metal, and the rust also forms a passivation film that prevents the generation of further rust, thereby preventing metal corrosion. is there.
【0033】請求項3の如く構成したことにより、メチ
レンクロライド蒸気と水蒸気と界面活性剤蒸気を浸透さ
せる前の段階において、真空状態とした処理タンク内に
おいて、金属を脱気処理するので、金属Wの内部の空気
を抜き取った状態で、メチレンクロライドの蒸気を浸透
させることが出来るので、より内部まで浸透させること
ができ、金属組織空隙の付着物の溶出がスムーズに出来
るのである。According to the third aspect of the invention, the metal W is degassed in the vacuum processing tank before the methylene chloride vapor, the water vapor and the surfactant vapor are permeated. Since the methylene chloride vapor can be permeated in the state where the air inside is removed, the permeation can be further permeated, and the deposits in the metal structure voids can be smoothly eluted.
【0034】請求項4の如く構成したので、水Waと界
面活性剤液Sとメチレンクロライド溶液Meを混合液と
した状態で、メチレンクロライドMeの蒸気を水Waの
層と、界面活性剤液Sの層を通過して、金属Wに供給す
るので、Cl2がHClとして水に吸収されるので、そ
の発生率を抑制することができ、金属Wの組織を破壊す
ることがなく、また処理終了後に処理タンクT内を負圧
にし真空にすることにより、簡単にメチレンクロライド
の蒸気を吸引し、回収することが出来るのである。また
このメチレンクロライドを回収した後の、金属Wは組織
破壊が発生していないのである。また、メチレンクロラ
イドの蒸気の回収が、直ぐに完全に行われるので、冷却
・液化に伴い、再利用が出来るのである。これにより、
メチレンクロライド溶液Meの使用量を減少し、処理に
要するコストを低くすることが出来るのである。According to the fourth aspect of the present invention, the vapor of methylene chloride Me is mixed with the layer of water Wa and the surface of the surfactant liquid S in the state of a mixture of water Wa, the surfactant liquid S and the methylene chloride solution Me. Since it is supplied to the metal W after passing through the layer of Cl.sub.2, Cl.sub.2 is absorbed by water as HCl, so that the generation rate thereof can be suppressed, the structure of the metal W is not destroyed, and after the treatment is completed. By making the pressure inside the processing tank T negative and making it vacuum, the vapor of methylene chloride can be easily sucked and recovered. Further, the tissue destruction of the metal W after recovery of this methylene chloride has not occurred. In addition, since the methylene chloride vapor is completely recovered immediately, it can be reused as it is cooled and liquefied. This allows
The amount of the methylene chloride solution Me used can be reduced and the cost required for the treatment can be reduced.
【0035】また、該界面活性剤を混合することによ
り、低温度において、メチレンクロライドや水の蒸気化
を促進することが出来るのである。通常は、水は100
°Cの温度で蒸気化するのであるが、界面活性剤を混合
することにより、低温で水蒸気にすることができ、10
0°C以上の高温にすることなく、80〜100°Cの
範囲内で充分な圧力を得ることが出来るので、130°
C以上の高温にして蒸気を得て、高圧を得る必要が無
い。By mixing the surfactant, vaporization of methylene chloride or water can be promoted at a low temperature. Usually 100 water
Although it vaporizes at a temperature of ° C, it can be converted into water vapor at a low temperature by mixing a surfactant.
Since a sufficient pressure can be obtained within the range of 80 to 100 ° C without raising the temperature to 0 ° C or higher, 130 ° C.
There is no need to obtain high pressure by obtaining steam at a temperature higher than C.
【図1】本発明の金属処理方法の基本構成図面。FIG. 1 is a basic configuration drawing of a metal processing method of the present invention.
【図2】金属処理方法の行程と手順を、バルブ機構の開
閉により示した図面。FIG. 2 is a drawing showing a process and a procedure of a metal processing method by opening and closing a valve mechanism.
【図3】処理タンクTと蓋体22と金属載置台26の部
分の側面図。FIG. 3 is a side view of a processing tank T, a lid 22, and a metal mounting table 26.
【図4】処理タンクTに蓋体22を閉鎖した状態の側面
図。FIG. 4 is a side view of the processing tank T with a lid 22 closed.
【図5】蓋体22の正面図。FIG. 5 is a front view of a lid body 22.
【図6】処理タンクTの正面断面図。FIG. 6 is a front sectional view of a processing tank T.
【図7】金属載置台26の上に金属Wを載置した状態の
正面図。FIG. 7 is a front view showing a state where a metal W is placed on the metal placing table 26.
【図8】処理状態における処理タンクTの内部の断面
図。FIG. 8 is a sectional view of the inside of the processing tank T in a processing state.
Me メチレンクロライド溶液 C コンプレッサ B ボイラー T 処理タンク P 真空ポンプ W 金属 Wa 水 S 界面活性剤液 14 混合液タンク 15 チラー 16 コンデンサ 18 冷却水タンク 21 コンデンサパイプ Me methylene chloride solution C compressor B boiler T treatment tank P vacuum pump W metal Wa water S Surfactant liquid 14 Mixture tank 15 chillers 16 capacitors 18 Cooling water tank 21 condenser pipe
Claims (4)
加熱し、メチレンクロライド蒸気と水蒸気を発生させ、
該メチレンクロライド蒸気と水蒸気を、金属を封入した
処理タンク内に充填して金属組織空隙に浸透させ、金属
組織空隙中の付着物を溶出することを特徴とする金属処
理方法。1. A methylene chloride solution and water are mixed and heated to generate methylene chloride vapor and water vapor,
The methylene chloride vapor and water vapor, is filled in the processing tank filled with metal to penetrate the metal structure voids, metal processing, characterized by eluting the deposits of the metal structure in the voids
Reasoning method .
剤液を混合して混合液とし、該混合液を加熱し、メチレ
ンクロライド蒸気と水蒸気と界面活性剤蒸気を発生さ
せ、該混合蒸気を、金属を封入した処理タンク内に充填
して金属組織空隙に浸透させ、金属組織空隙中の付着物
を溶出することを特徴とする金属処理方法。2. A methylene chloride solution, water and a surfactant liquid are mixed to form a mixed liquid, and the mixed liquid is heated to generate methylene chloride vapor, steam and a surfactant vapor, and the mixed vapor is converted into a metal. The method for treating metal is characterized by filling a treatment tank in which the metal is filled and permeating into the metal tissue void to elute the deposit in the metal tissue void.
おいて、処理タンクを負圧状態とし、金属を脱気状態で
処理することを特徴とする金属処理方法。Wherein <br/> the metal processing method according to claim 1 or 2 fraud and mitigating risk processing tank a negative pressure state, a metal treatment method, which comprises treating the metal with deaerated state.
レンクロライド溶液と水と界面活性剤液の重量比率を、
略5・4・1とし、界面活性剤液の比率は1以下の比率
とし、該混合液の加熱温度を80〜100°Cの範囲と
したことを特徴とする金属処理方法。4. The metal treatment method according to claim 2, wherein the weight ratio of the methylene chloride solution, water and the surfactant solution is
A metal treatment method , characterized in that the ratio of the surfactant liquid is approximately 5.4.1, the ratio of the surfactant liquid is 1 or less, and the heating temperature of the mixed liquid is in the range of 80 to 100 ° C.
Priority Applications (6)
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---|---|---|---|
JP08891594A JP3466269B2 (en) | 1994-04-26 | 1994-04-26 | Metal processing method |
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