JP3442904B2 - Electroforming equipment - Google Patents

Electroforming equipment

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JP3442904B2
JP3442904B2 JP13214995A JP13214995A JP3442904B2 JP 3442904 B2 JP3442904 B2 JP 3442904B2 JP 13214995 A JP13214995 A JP 13214995A JP 13214995 A JP13214995 A JP 13214995A JP 3442904 B2 JP3442904 B2 JP 3442904B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、基板上面にメッキ液を
供給してその表面にメッキを施す電鋳装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electroforming apparatus for supplying a plating solution to the upper surface of a substrate to plate the surface thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知のように、CDのマスタリング工程
では、プリマスタリングにより作成されたデーターを磁
気テープやプリマスタードCD等に記録し、まず、これ
らを元に、ガラス原盤の表面に塗布された感光剤にレー
ザー光を照射して露光させてガラスマスターを作成し、
現像工程でレジスト表面にピットを形成し、次いでこの
ガラスマスターから無電解メッキでメタルマスターを作
成し、さらに、このメタルマスターから電気メッキでメ
タルマザーを作成し、最後にこのメタルマザーから電気
メッキでスタンパーを作成している。
2. Description of the Related Art As is well known, in a CD mastering process, data created by premastering is recorded on a magnetic tape, a premastered CD or the like, and is first applied to the surface of a glass master disk based on the data. Laser light is applied to the photosensitizer to expose it to create a glass master,
In the development process, pits are formed on the resist surface, then a metal master is created from this glass master by electroless plating, and then a metal mother is created by electroplating from this metal master, and finally by electroplating from this metal mother. Creating a stamper.

【0003】上記のマスタリング工程において、電解メ
ッキを行う従来技術としては、上端面に凹所を有し基板
を支承するカソード電極を備えた本体と、該カソード電
極の上記凹所内に配設され該カソード電極とともに上記
基板の周縁部をコンタクトリングを介して挟持するクラ
ンパーとを備えており、上記基板上にメッキ液を供給し
て該基板表面にメッキを施す電鋳装置が知られている。
In the above-mentioned mastering process, as a conventional technique for electrolytic plating, there is provided a main body having a cathode electrode having a recess on the upper end surface for supporting the substrate, and a main body provided in the recess of the cathode electrode. There is known an electroforming apparatus that includes a cathode electrode and a clamper that holds the peripheral edge of the substrate via a contact ring, and supplies a plating solution onto the substrate to plate the surface of the substrate.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の電鋳
装置では、クランパーと本体間にツイストロック機構を
設けてこれらを機械的に締め付けてメッキ処理を施す基
板を挟持しているので、温度変化によってクランプ力が
変化し、均一なクランプ力が得られなかった。また、基
板をクランパーで締め付ける際に、摩擦ロスが生じるた
め、強いクランプ力が得られなかった。
By the way, in the above electroforming apparatus, since the twist lock mechanism is provided between the clamper and the main body and the substrates to be plated are clamped by mechanically tightening them, the temperature change is caused. As a result, the clamping force changed and uniform clamping force could not be obtained. In addition, a strong clamping force could not be obtained because friction loss occurs when the substrate is clamped with a clamper.

【0005】そして、斯るクランプ力の変化等により、
カソード電極又はコンタクトリングと基板との隙間にメ
ッキ液が浸入し、このメッキ液の成分がカソード電極等
に析出すると共に、極端な場合には基板のみならずカソ
ード電極又はコンタクトリングまでもメッキされてい
た。斯るカソード電極又はコンタクトリングでのメッキ
液由来の析出物又はメッキの成長を放置しておくと、電
流密度の不均一を引き起こし、メッキの厚みむらの原因
となる。また、部分的な接触不良のために全抵抗が増大
し、電鋳装置に接続されている定電流電源の出力電圧が
上昇するので、安全回路が動作し、電鋳装置が停止して
作業を中断する場合もあった。更に、局所的な電流集中
により、基板やカソード電極またはコンタクトリングの
部分的な焼損を引き起こす場合もあった。
Then, due to such changes in the clamping force,
The plating solution penetrates into the gap between the cathode electrode or contact ring and the substrate, and the components of this plating solution are deposited on the cathode electrode, etc., and in extreme cases, not only the substrate but also the cathode electrode or contact ring is plated. It was If the deposit derived from the plating solution or the growth of the plating on the cathode electrode or the contact ring is left as it is, the current density becomes nonuniform and the thickness of the plating becomes uneven. In addition, the total resistance increases due to a partial contact failure, and the output voltage of the constant current power supply connected to the electroforming equipment rises, so the safety circuit operates and the electroforming equipment stops and work is stopped. Sometimes it was interrupted. Furthermore, the local current concentration may cause partial burnout of the substrate, the cathode electrode, or the contact ring.

【0006】従って、これまでは、上記した析出むら、
作業の中断、基板等の焼損を防止するために、基板の交
換毎にカソード電極又はコンタクトリングに成長したメ
ッキ液由来の析出物やメッキを拭き取る必要があり、基
板交換時のメンテナンス作業が繁雑となっていた。
Therefore, so far, the above-mentioned precipitation unevenness,
In order to prevent work interruption and burnout of the substrate, etc., it is necessary to wipe off the deposits and plating derived from the plating solution grown on the cathode electrode or contact ring every time the substrate is replaced, which makes maintenance work at the time of substrate replacement complicated. Was becoming.

【0007】本発明の目的は、基板交換時の繁雑なメン
テナンス作業を不要とし、安定して基板にメッキ処理を
施すことができる電鋳装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an electroforming apparatus which does not require complicated maintenance work at the time of exchanging a substrate and can stably perform plating processing on the substrate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
の発明は、上下動不能に固定されて基板を支承するカ
ード電極と、該カソード電極の下方において該カソード
電極に対して上下に相対移動自在に配設された本体と、
該本体に装着されて上記カソード電極とともに上記基板
の周縁部を挟持するクランパーとを備えた電鋳装置であ
って、上記カソード電極の下面にチャンバーを設けると
ともに、上記本体の内部に上記チャンバーに通じる給
管路を設けており、上記給気管路を通じて上記チャンバ
ー内に圧縮空気を供給し、上記本体及び上記クランパー
を上記カソード電極に対して下方に移動させて上記基板
を挟持するようになしてあることを特徴とする電鋳装置
を提供することにより、上記目的を達成したものであ
る。
Means for Solving the Problems The invention described in claim 1 of the present invention, and the bearing to Luke source <br/> over de electrode substrate to be vertically fixed non, below the said cathode electrode A main body disposed so as to be vertically movable relative to the cathode electrode,
An electroforming apparatus comprising: a clamper attached to the main body and holding the peripheral edge of the substrate together with the cathode electrode, wherein a chamber is provided on the lower surface of the cathode electrode and the chamber is connected to the inside of the main body. An air supply pipe for supplying compressed air into the chamber through the air supply pipe and moving the main body and the clamper downward with respect to the cathode electrode to clamp the substrate. The above object is achieved by providing an electroforming apparatus characterized in that

【0009】本発明の請求項2に記載の発明は、基板を
支承するカソード電極と、該カソード電極の下方におい
て該カソード電極に対して上下に相対移動自在に配設さ
れた本体と、該本体に装着されて上記カソード電極とと
もに上記基板の周縁部を挟持するクランパーとを備えた
電鋳装置であって、上記本体の内部に上記カソード電極
の下面を臨んで開口するシリンダーを設けるとともに、
該シリンダーに通じる第1給気管路を設け、且つ該シリ
ンダー内にピストンを配設しており、上記第1給気管路
を通じて上記シリンダー内に圧縮空気を供給し、上記ピ
ストンを上昇させて上記カソード電極の下面に当接さ
せ、その反力で上記本体及び上記クランパーを上記カソ
ード電極に対して下方に移動させて上記基板を挟持する
ようになしてあることを特徴とする電鋳装置を提供する
ことにより、上記目的を達成したものである。
According to a second aspect of the present invention, the cathode electrode supporting the substrate, the main body disposed below the cathode electrode so as to be vertically movable relative to the cathode electrode, and the main body. An electroforming apparatus equipped with a clamper that is attached to the cathode electrode and holds the peripheral edge of the substrate together with the cathode electrode, and a cylinder that opens to face the lower surface of the cathode electrode inside the main body,
A first air supply line communicating with the cylinder is provided, and a piston is arranged in the cylinder. Compressed air is supplied into the cylinder through the first air supply line to raise the piston to raise the cathode. Provided is an electroforming apparatus characterized in that it is brought into contact with the lower surface of an electrode, and the reaction force causes the main body and the clamper to move downward with respect to the cathode electrode to clamp the substrate. By doing so, the above object is achieved.

【0010】本発明の請求項3に記載の発明は、請求項
2に記載の電鋳装置において、上記本体と上記クランパ
ーとの隙間にパッキンを介装させるとともに、該本体内
に一端部が該パッキンを臨む第2給気管路を設け、該第
2給気管路を通じて上記パッキンを押圧して該本体と上
記クランパーとをシールするようになしてあることを特
徴とする電鋳装置を提供するものである。
[0010] The invention described in claim 3 of the present invention, in the electroforming apparatus according to Motomeko 2, causes interposed the packings in the gap between the body and the clamper, the one end portion within the body electroforming apparatus but wherein the second supply duct facing the packings provided, by pressing the packings through the second supply duct are no to seal the main body and the clamper Is provided.

【0011】[0011]

【作用】本発明の請求項1に記載の電鋳装置において
は、上記給気管路を通じて上記チャンバー内に圧縮空気
を供給し、上記本体及びクランパーを上記カソード電極
に対して下方に移動させて上記基板を挟持するため、温
度変化に関わらず均一な挟持力が得られる。
In the electroforming apparatus according to the first aspect of the present invention, compressed air is supplied into the chamber through the air supply pipe, and the main body and the clamper are moved downward with respect to the cathode electrode. Since the substrate is clamped, a uniform clamping force can be obtained regardless of temperature change.

【0012】本発明の請求項2に記載の電鋳装置におい
ては、上記第1給気管路を通じて上記シリンダー内に圧
縮空気を供給し、上記ピストンを上昇させて上記カソー
ド電極の下面に当接させ、その反力で上記本体及びクラ
ンパーを上記カソード電極に対して下方に移動させて上
記基板を挟持するため、温度変化に関わらず均一な挟持
力が得られる。
In the electroforming apparatus according to the second aspect of the present invention, compressed air is supplied into the cylinder through the first air supply line, and the piston is raised to abut against the lower surface of the cathode electrode. Since the reaction force causes the main body and the clamper to move downward with respect to the cathode electrode to clamp the substrate, a uniform clamping force can be obtained regardless of temperature change.

【0013】本発明の請求項3に記載の電鋳装置におい
ては、請求項2に記載の電鋳装置における作用に加え
て、上記第2給気管路を通じて圧縮空気を供給すること
によって、上記パッキンを押圧して本体とクランパーと
の隙間をシールするため、温度変化の影響を受けずに本
体とクランパーとの間の密閉性も高められる。
[0013] In the electroforming apparatus according to claim 3 of the present invention, in addition to the operation of the electroforming apparatus according to claim 2, by supplying compressed air through the second supply duct, the packing Since the gap between the main body and the clamper is pressed by pressing, the airtightness between the main body and the clamper can be improved without being affected by the temperature change.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面を参照しな
がら詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0015】図1は、本発明に係る電鋳装置の第1実施
例であるCDマスタリング装置の一部を構成する電鋳装
置を示したものである。同図において、符号1は電鋳装
置、2はメッキされる基板、Cはコンタクトリング、P
はパッキンを示している。
FIG. 1 shows an electroforming apparatus which constitutes a part of a CD mastering apparatus which is a first embodiment of the electroforming apparatus according to the present invention. In the figure, reference numeral 1 is an electroforming device, 2 is a substrate to be plated, C is a contact ring, and P is a substrate.
Indicates packing.

【0016】図1に示したように、上記電鋳装置1は、
基板2を支承するカソード電極3と、カソード電極3に
対して上下に相対移動自在且つその下方に配設された本
体4と、本体4に装着されて上記カソード電極3ととも
に上記基板2の周縁部を挟持するクランパー5とを備え
ており、基板2上にメッキ液を供給して基板2表面にメ
ッキを施すものである。
As shown in FIG. 1, the electroforming apparatus 1 is
A cathode electrode 3 that supports the substrate 2, a main body 4 that is vertically movable relative to the cathode electrode 3 and is disposed below the cathode electrode 3, and a peripheral portion of the substrate 2 that is mounted on the main body 4 together with the cathode electrode 3. And a clamper 5 for sandwiching the substrate 2 between them, and a plating liquid is supplied onto the substrate 2 to plate the surface of the substrate 2.

【0017】上記カソード電極3の下面にはチャンバー
30が設けられており、また、上記本体4の内部にはチ
ャンバー30に通じる第1給気管路40が設けられてい
る。そして、上記給気管路40を通じて上記チャンバー
30内に加圧空気を供給し、上記本体4及びクランパー
5を上記カソード電極3に対して下方に移動させて上記
基板2を挟持するようになしてある。
A chamber 30 is provided on the lower surface of the cathode electrode 3, and a first air supply conduit 40 communicating with the chamber 30 is provided inside the main body 4. Then, pressurized air is supplied into the chamber 30 through the air supply conduit 40, and the main body 4 and the clamper 5 are moved downward with respect to the cathode electrode 3 to sandwich the substrate 2. .

【0018】上記電鋳装置1をさらに詳しく説明する
と、上記カソード電極3は、平面視して円形状の形態を
有しており、その下面中央部には下方に垂下する垂下壁
部3aが形成されている。また、カソード電極3の下面
には上記垂下壁部3aを囲繞する垂下壁部3bが形成さ
れている。そして、これら垂下壁部3a、3bによって
上記チャンバー30がリング状に設けられている。
Explaining the electroforming apparatus 1 in more detail, the cathode electrode 3 has a circular shape in plan view, and a hanging wall portion 3a hanging downward is formed in the central portion of the lower surface thereof. Has been done. In addition, a lower surface of the cathode electrode 3 is formed with a hanging wall portion 3b surrounding the hanging wall portion 3a. The chamber 30 is provided in a ring shape by the hanging wall portions 3a and 3b.

【0019】上記カソード電極3の上面の周縁部には上
方に向けて起立する起立壁部3cが形成されている。こ
の起立壁部3cの上端部には段部3dが形成されてお
り、この段部3dの下段に上記基板2の周縁部が、段部
3dの上段に後述するコンタクトリングCがそれぞれ載
置されるようになしてある。なお、上記カソード電極3
は、シャフト6の上端部に上下動不能に固定されてい
る。また、カソード電極3には、後述するエアシリンダ
ー41及びガイド44が挿入される上下方向の挿通孔3
e及び3fが設けられている。
A standing wall portion 3c standing upward is formed on the peripheral portion of the upper surface of the cathode electrode 3. A step portion 3d is formed on an upper end portion of the standing wall portion 3c. A peripheral portion of the substrate 2 is placed below the step portion 3d, and a contact ring C described later is placed above the step portion 3d. It is designed to work. The cathode electrode 3
Is fixed to the upper end of the shaft 6 so as not to move vertically. Further, the cathode electrode 3 has a vertical insertion hole 3 into which an air cylinder 41 and a guide 44 described later are inserted.
e and 3f are provided.

【0020】上記カソード電極3の中央部には、後述す
るエアシリンダー41で上昇するキャリアプレート7が
配設されている。このキャリアプレート7は、本体4へ
のクランパー5の装着前において上記カソード電極3の
起立壁部3cより上方に上昇しており、上記基板2が載
置されると、その後クランパー5の装着に伴って基板2
をカソード電極3の起立壁部3c上に安定して載置させ
るようになしてある。
At the center of the cathode electrode 3, a carrier plate 7 which is raised by an air cylinder 41 described later is arranged. The carrier plate 7 is raised above the standing wall portion 3c of the cathode electrode 3 before the clamper 5 is attached to the main body 4, and when the substrate 2 is placed, the carrier plate 7 is then attached. Board 2
Is stably placed on the standing wall portion 3c of the cathode electrode 3.

【0021】上記本体4は、平面視して円形の形態を有
しており、その中央部には、挿通孔4aが設けられてい
る。また、本体4の上面における上記挿通孔4aの開口
縁部には、凹部4bが設けられており、挿通孔4a内に
上記カソード電極3の垂下壁部3aが挿通するととも
に、上記凹部4bの内面に上記垂下壁部3bの外周が摺
接するようになしてある。さらに、本体4の外周部に
は、段部4cが設けられており、この段部4cの上段側
面部には側方に突出する係合ピン4dが複数組み込まれ
ている。そして、この係合ピン4dを後述するクランパ
ー5の係合溝5cと係合させて、当該本体4にクランパ
ー5を一体的に装着できるようになしてある。
The main body 4 has a circular shape in plan view, and an insertion hole 4a is provided in the center thereof. A recess 4b is provided at the opening edge of the insertion hole 4a on the upper surface of the main body 4, and the hanging wall 3a of the cathode electrode 3 is inserted into the insertion hole 4a and the inner surface of the recess 4b is inserted. Further, the outer circumference of the hanging wall portion 3b is in sliding contact. Further, a step portion 4c is provided on the outer peripheral portion of the main body 4, and a plurality of engaging pins 4d protruding laterally are incorporated in the upper step side surface portion of the step portion 4c. Then, the engagement pin 4d is engaged with an engagement groove 5c of the clamper 5 described later so that the clamper 5 can be integrally mounted on the main body 4.

【0022】上記本体4の内部に設けられた給気管路4
0は、一端部が上記チャンバー30の下方において開口
しており、他端部(図示せず)が上記シャフト6の内部
を通じてコンプレッサー等の加圧源(図示せず)に連通
している。また、本体4内には、上記カソード電極3の
挿通孔3eに挿通するようにエアシリンダー41が配設
されている。このエアシリンダー41は、給気管路40
から分岐した分岐管路42を通じて供給される圧縮空気
によって作動するものであり、その先端部で上記キャリ
アプレート7を上昇させるようになしてある。なお、こ
のエアシリンダー41にはリフターリング43が固定さ
れており、クランパー5を本体4に装着する際に、後述
する押圧ピン5dによって当該エアシリンダー41を下
降させてキャリアプレート7を降下できるようになして
ある。また、エアシリンダー41には、リーク機構が備
えられており、メッキ処理後にクランパー5を取り外す
際にエアシリンダー41内の圧力を下げることができる
ようになっている。また、本体4内には、上記挿通孔3
f内に挿通して上記カソード電極3の回動を規制するガ
イド44が組み込まれている。本実施例の電鋳装置1に
おいては、上記エアシリンダー41及びガイド44は、
それぞれ3基ずつ配設されている。
Air supply line 4 provided inside the main body 4
0 has one end opening below the chamber 30 and the other end (not shown) communicating with a pressure source (not shown) such as a compressor through the inside of the shaft 6. In addition, an air cylinder 41 is arranged in the main body 4 so as to be inserted into the insertion hole 3e of the cathode electrode 3. This air cylinder 41 is connected to the air supply line 40.
It is operated by compressed air supplied through a branch pipe line 42 branched from the above, and the carrier plate 7 is raised at the tip thereof. A lifter ring 43 is fixed to the air cylinder 41 so that when the clamper 5 is mounted on the main body 4, the air cylinder 41 can be lowered by a pressing pin 5d described later to lower the carrier plate 7. Yes. The air cylinder 41 is provided with a leak mechanism so that the pressure inside the air cylinder 41 can be lowered when the clamper 5 is removed after the plating process. Further, in the body 4, the insertion hole 3
A guide 44, which is inserted into the inside of f and regulates the rotation of the cathode electrode 3, is incorporated. In the electroforming apparatus 1 of this embodiment, the air cylinder 41 and the guide 44 are
There are 3 units each.

【0023】上記クランパー5は、外観リング状の形態
を有しており、その内側上端部には、中心に向けて延び
る突出壁部5aが形成されている。そして、上記カソー
ド電極3の起立壁部3cとともに、コンタクトリングC
を介して基板2を挟持するようになしてある。クランパ
ー5の下面には、上記本体4の段部4cに対応した段部
5bが設けられている。上記クランパー5の段部5bの
内面には、上記係合ピン4dが係合する係合溝5cが形
成されている。この係合溝5cは、当該クランパー5を
所定角度回転させると上記係合ピン4dがロックされる
いわゆるツイストロック式の係合溝とされている。ま
た、段部5bの下面には、下方に突出する押圧ピン5d
が組み込まれており、クランパー5を装着したときに、
上記リフターリング43を下方に押し下げるようになし
てある。なお、本実施例では、上記クランパー5は、イ
ンナークランプ50及びアウタークランプ51で構成さ
れている。
The clamper 5 has a ring-like appearance, and has a projecting wall 5a extending toward the center at the inner upper end thereof. Then, together with the standing wall portion 3c of the cathode electrode 3, the contact ring C
The substrate 2 is sandwiched via the. A step portion 5b corresponding to the step portion 4c of the main body 4 is provided on the lower surface of the clamper 5. An engagement groove 5c with which the engagement pin 4d is engaged is formed on the inner surface of the step portion 5b of the clamper 5. The engagement groove 5c is a so-called twist lock type engagement groove in which the engagement pin 4d is locked when the clamper 5 is rotated by a predetermined angle. Further, on the lower surface of the step portion 5b, a pressing pin 5d protruding downward is provided.
When the clamper 5 is installed,
The lifter ring 43 is pushed down. In the present embodiment, the clamper 5 is composed of an inner clamp 50 and an outer clamp 51.

【0024】なお、本実施例の電鋳装置1において、電
極プレート3と基板2との間にはコンタクトリングCが
介在されている。このコンタクトリングCは、必ずしも
必須のものではないが、カソード電極3と基板2との接
触を良好にし、その導通を安定にするために介在させて
いるものである。従って、カソード電極3及びクランパ
ー5が精度よく得られ、カソード電極3と基板2との接
触が良好である場合には、省略することが出来る。
In the electroforming apparatus 1 of this embodiment, the contact ring C is interposed between the electrode plate 3 and the substrate 2. The contact ring C is not necessarily essential, but is interposed to make the contact between the cathode electrode 3 and the substrate 2 good and to stabilize the conduction. Therefore, when the cathode electrode 3 and the clamper 5 are obtained with high accuracy and the contact between the cathode electrode 3 and the substrate 2 is good, it can be omitted.

【0025】次に、上記実施例の電鋳装置1の作用を、
その使用方法とともに説明する。
Next, the operation of the electroforming apparatus 1 of the above embodiment will be described.
It will be described together with its usage.

【0026】まず、上記エアシリンダー41を作動させ
て上記キャリアプレート7をカソード電極3のさらに上
方に上昇させる。このときクランパー5は支障の内位置
に待避させておく。そして、基板2を、メッキ処理を施
す面を上に向けて上記キャリアプレート7上に載置す
る。次いで、コンタクトリングCを、基板2の上方に配
置する。
First, the air cylinder 41 is operated to raise the carrier plate 7 above the cathode electrode 3. At this time, the clamper 5 is retracted to the inside position of the obstacle. Then, the substrate 2 is placed on the carrier plate 7 with the surface to be plated facing upward. Next, the contact ring C is arranged above the substrate 2.

【0027】そして、待避させておいたクランパー5を
キャリアプレート7の上方に配置し、次第に降下させ
る。このとき上記エアシリンダー41への圧縮空気の供
給をストップし、クランパー5の降下にともなって、キ
ャリアプレート7も降下させる。そして、基板2をその
周縁部2aにおける下面を上記カソード電極3の起立壁
部3cにおける段部3dの下段に位置させて載置する。
そして、上記本体4の係合ピン4dと、クランパー5の
係合溝5cとを係合させるとともに、さらにクランパー
5を所定角度回転させて当該クランパー5を本体4に確
実に装着する。このとき、基板2は、上記クランパー5
の突出壁部5aの下端面と上記カソード電極3の起立壁
部3cとの間でコンタクトリングCを介して挟持され
る。また、キャリアプレート7は、リフターリング43
が押圧ピン5dによって押圧されるので、その上昇が規
制される。
Then, the retracted clamper 5 is placed above the carrier plate 7 and gradually lowered. At this time, the supply of compressed air to the air cylinder 41 is stopped, and the carrier plate 7 is also lowered as the clamper 5 is lowered. Then, the substrate 2 is placed with the lower surface of the peripheral portion 2a thereof being positioned below the step portion 3d of the standing wall portion 3c of the cathode electrode 3.
Then, the engaging pin 4d of the main body 4 and the engaging groove 5c of the clamper 5 are engaged with each other, and the clamper 5 is further rotated by a predetermined angle to securely mount the clamper 5 on the main body 4. At this time, the substrate 2 has the clamper 5
It is sandwiched between the lower end surface of the protruding wall portion 5a and the standing wall portion 3c of the cathode electrode 3 via a contact ring C. In addition, the carrier plate 7 includes a lifter ring 43.
Is pressed by the pressing pin 5d, and its rise is restricted.

【0028】次いで、上記図示しない加圧源を作動さ
せ、上記給気管路40を通じて上記チャンバー30内に
圧縮空気を供給する。そして、上記本体4及びクランパ
ー5を上記カソード電極3に対して下方に移動させて上
記基板2の周縁部2aを確実に挟持する。
Then, the pressure source (not shown) is operated to supply compressed air into the chamber 30 through the air supply line 40. Then, the main body 4 and the clamper 5 are moved downward with respect to the cathode electrode 3 to securely clamp the peripheral edge portion 2a of the substrate 2.

【0029】そして、この状態で上記基板2上にメッキ
液を供給して、さらに、アノード(図示せず)を配置
し、このメッキ液によって基板2の表面にメッキ処理を
施す。
Then, in this state, a plating solution is supplied onto the substrate 2, an anode (not shown) is further arranged, and the surface of the substrate 2 is plated with the plating solution.

【0030】所望のメッキ処理を行った後、基板2表面
を洗浄する。そして、上記加圧源による圧縮空気の供給
を停止し、上記クランパー5を本体4から取り外す。こ
の際、上記図示しないリーク機構を作動させてエアシリ
ンダー41内を減圧しておき、キャリアプレート7の不
用意に上昇しないようにしておく。
After performing the desired plating treatment, the surface of the substrate 2 is washed. Then, the supply of compressed air from the pressure source is stopped, and the clamper 5 is removed from the main body 4. At this time, the inside of the air cylinder 41 is decompressed by operating a leak mechanism (not shown) so that the carrier plate 7 does not rise carelessly.

【0031】クランパー5を取り外して定位置に待避さ
せた後、再び加圧源を作動させて上記キャリアプレート
をエアシリンダー41で上昇させ、コンタクトリングC
及びメッキ処理後の基板2を取り出し、作業を終了す
る。
After removing the clamper 5 and retracting it to a fixed position, the pressure source is activated again to raise the carrier plate by the air cylinder 41, and the contact ring C
Then, the substrate 2 after the plating process is taken out, and the work is completed.

【0032】このように、本実施例に係る電鋳装置1に
よれば、上記給気管路40を通じて上記チャンバー30
内に圧縮空気を供給し、上記本体4及びクランパー5を
上記カソード電極3に対して下方に移動させて上記基板
2を挟持するようにしたので、従来に比べて、温度変化
にかかわらず基板2を均一なクランプ力で確実に挟持す
ることができる。従って、上記カソード電極3又はクラ
ンパー5と、上記基板2の周縁部2aとの隙間へのメッ
キ液の浸入を確実抑えることができ、従来のような基板
交換時の繁雑なメンテナンス作業を不要とし、安定して
基板2にメッキ処理を施すことができる。
As described above, according to the electroforming apparatus 1 of this embodiment, the chamber 30 is supplied through the air supply conduit 40.
Since the compressed air is supplied into the inside of the substrate 2 and the main body 4 and the clamper 5 are moved downward with respect to the cathode electrode 3 so as to sandwich the substrate 2, the substrate 2 is different from the conventional one regardless of temperature change. Can be securely clamped with a uniform clamping force. Therefore, the invasion of the plating solution into the gap between the cathode electrode 3 or the clamper 5 and the peripheral edge portion 2a of the substrate 2 can be surely suppressed, and the conventional complicated maintenance work at the time of substrate replacement is unnecessary, The substrate 2 can be stably plated.

【0033】図2は、本発明に係る電鋳装置の第2実施
例を示したものである。同図において、符号10は電鋳
装置、2は基板、Cはコンタクトリング、Pはパッキン
を示している。
FIG. 2 shows a second embodiment of the electroforming apparatus according to the present invention. In the figure, reference numeral 10 is an electroforming device, 2 is a substrate, C is a contact ring, and P is a packing.

【0034】上記電鋳装置10は、基板2を支承するカ
ソード電極13と、カソード電極13の下方においてカ
ソード電極13に対して上下に相対移動自在に配設され
た本体14と、本体14に装着されて上記カソード電極
13とともに上記基板2の周縁部2aを挟持するクラン
パー15とを備えている。
The electroforming apparatus 10 has a cathode electrode 13 for supporting the substrate 2, a main body 14 arranged below the cathode electrode 13 so as to be vertically movable relative to the cathode electrode 13, and mounted on the main body 14. The cathode electrode 13 and the clamper 15 that holds the peripheral edge portion 2a of the substrate 2 are provided.

【0035】上記本体14の内部には上記カソード電極
13の下面に臨んで開口するシリンダー140が設けら
れており、また、本体4内にはシリンダー140に通じ
る給気管路141が設けられ、さらに、シリンダー14
0内にはピストン142が配設されている。そして、上
記給気管路141を通じて上記シリンダー140内に圧
縮空気を供給し、上記ピストン142を上昇させて上記
カソード電極13の下面に当接させ、その反力で上記本
体14及びクランパー15をカソード電極13に対して
下方に移動させて基板2を挟持するようになしてある。
A cylinder 140 is provided inside the main body 14 so as to face the lower surface of the cathode electrode 13, and an air supply pipe 141 communicating with the cylinder 140 is provided inside the main body 4. Cylinder 14
A piston 142 is arranged in the zero position. Then, compressed air is supplied into the cylinder 140 through the air supply line 141, and the piston 142 is raised to abut against the lower surface of the cathode electrode 13, and the reaction force causes the main body 14 and the clamper 15 to contact the cathode electrode. The substrate 2 is clamped by moving the substrate 2 downward with respect to 13.

【0036】また、上記本体14と上記クランパー15
との隙間には無端リング状のパッキンP0が介装される
とともに、本体14内に一端部がパッキンP0を臨む給
気管路(第2給気管路)143が設けられており、給気
管路143を通じて上記パッキンP0を押圧して本体1
4とクランパー15とをシールするようになしてある。
Further, the main body 14 and the clamper 15 are
An endless ring-shaped packing P0 is provided in the gap between the air supply conduit 143 and the main body 14 and an air supply conduit (second air supply conduit) 143 whose one end faces the packing P0 is provided. Through the packing P0 through the main body 1
4 and the clamper 15 are sealed.

【0037】上記電鋳装置10をさらに詳しく説明する
と、上記カソード電極13は、平面視して円形状の形態
を有しており、その下面中央部には下方に垂下する垂下
壁部13aが形成されている。そして、カソード電極1
3はこの垂下壁部13aを介してシャフト16に固定さ
れている。
Explaining the electroforming apparatus 10 in more detail, the cathode electrode 13 has a circular shape in a plan view, and a hanging wall portion 13a that hangs downward is formed in the central portion of the lower surface thereof. Has been done. And the cathode electrode 1
3 is fixed to the shaft 16 via the hanging wall portion 13a.

【0038】上記カソード電極13の上面の周縁部には
上方に向けて起立する起立壁部13bが形成されてい
る。この起立壁部13bの上端部には段部13cが形成
されており、この段部13cの下段に上記基板2の周縁
部が、段部13cの上段に後述するコンタクトリングC
がそれぞれ載置されるようになしてある。なお、カソー
ド電極13には、上下方向の挿通孔13d、13e、及
び13fが設けられており、後述するスプリング14
4、キャリアリフター145、及びガイド146が挿入
できるようになしてある。
A standing wall portion 13b is formed on the peripheral portion of the upper surface of the cathode electrode 13 so as to stand upward. A step portion 13c is formed at an upper end portion of the standing wall portion 13b, and a peripheral edge portion of the substrate 2 is provided below the step portion 13c, and a contact ring C described later is provided above the step portion 13c.
Are to be placed respectively. The cathode electrode 13 is provided with vertical insertion holes 13d, 13e, and 13f, and a spring 14 to be described later is provided.
4, the carrier lifter 145, and the guide 146 can be inserted.

【0039】上記カソード電極13の中央部には、スプ
リング144の付勢力によって上昇するキャリアプレー
ト17が配設されている。そして、本体14へのクラン
パー15の装着前において上記カソード電極13の起立
壁部13bより上方に上昇しており、上記基板2が載置
されると、その後クランパー15の装着に伴って基板2
をカソード電極13の起立壁部13b上に安定して載置
させるようになしてある。
At the center of the cathode electrode 13, a carrier plate 17 which is raised by the urging force of the spring 144 is arranged. Before the clamper 15 is attached to the main body 14, it rises above the standing wall portion 13b of the cathode electrode 13, and when the substrate 2 is placed, the substrate 2 is then attached as the clamper 15 is attached.
Is stably placed on the standing wall portion 13b of the cathode electrode 13.

【0040】上記本体14は、平面視して円形の形態を
有しており、その中央部には、挿通孔14aが設けられ
ている。また、上記シリンダー140は、上記カソード
電極13の下面に臨むように開口しており、上記給気管
路141は、このシリンダー140の下方に連通してい
る。また、シリンダー140の側部には、上記ストッパ
ーの外側に圧縮空気を供給する給気管路が設けられてお
り、本体14の外周部には、段部14bが設けられてお
り、この段部14bの上段側面部には側方に突出する係
合ピン14cが複数組み込まれている。そして、この係
合ピン14cを後述するクランパー15の係合溝15c
と係合させて、当該本体14にクランパー15を一体的
に装着できるようになしてある。
The main body 14 has a circular shape in plan view, and an insertion hole 14a is provided in the center thereof. Further, the cylinder 140 is opened so as to face the lower surface of the cathode electrode 13, and the air supply conduit 141 is communicated with the lower side of the cylinder 140. In addition, an air supply line for supplying compressed air to the outside of the stopper is provided on the side of the cylinder 140, and a step 14b is provided on the outer periphery of the main body 14, and the step 14b is provided. A plurality of engaging pins 14c protruding laterally are incorporated in the upper side surface portion. Then, the engaging pin 14c is provided with an engaging groove 15c of the clamper 15 described later.
The clamper 15 can be integrally attached to the main body 14 by engaging with.

【0041】上記本体14の内部に設けられた給気管路
141は、一端部が上記シリンダー140の下方におい
て開口しており、他端部(図示せず)が上記シャフト1
6の内部を通じてコンプレッサー等の加圧源(図示せ
ず)に連通している。また、本体14内には、上記カソ
ード電極13の挿通孔13eに挿通されてその先端部が
上記キャリアプレート17に固定されたキャリアリフタ
ー145が配設されている。このキャリアリフター14
5の下端部には、リング状のリフターリング145aが
取り付けられており、リフターリング145aの外側に
は、リング状のストッパー145bが配設されている。
そして、シリンダー140から導いた給気管路147を
通じて供給される圧縮空気をストッパー145bの外側
に供給してリフターリング145aをストッパー145
bで押圧することによって、上記キャリアプレート17
の上昇を規制するようになしてある。さらに、本体14
内には、上記挿通孔13f内に挿通して上記カソード電
極13の回動を規制するガイド146が組み込まれてい
る。本実施例の電鋳装置10では、上記シリンダー14
0、ピストン142、キャリアリフター145、スプリ
ング144、及びガイド146はそれぞれ3基ずつ配設
されている。
The air supply conduit 141 provided inside the main body 14 has one end opening below the cylinder 140 and the other end (not shown) of the shaft 1
A pressure source (not shown) such as a compressor is communicated through the inside of 6. Further, inside the main body 14, a carrier lifter 145, which is inserted into the insertion hole 13e of the cathode electrode 13 and whose tip is fixed to the carrier plate 17, is provided. This carrier lifter 14
A ring-shaped lifter ring 145a is attached to the lower end of the ring 5, and a ring-shaped stopper 145b is arranged outside the lifter ring 145a.
Then, the compressed air supplied from the cylinder 140 and supplied through the air supply line 147 is supplied to the outside of the stopper 145b to move the lifter ring 145a to the stopper 145b.
By pressing with b, the carrier plate 17
It is designed to regulate the rise of the. Furthermore, the main body 14
A guide 146 that is inserted into the insertion hole 13f and restricts the rotation of the cathode electrode 13 is incorporated therein. In the electroforming apparatus 10 of this embodiment, the cylinder 14
0, pistons 142, carrier lifters 145, springs 144, and guides 146 are provided in groups of three each.

【0042】上記本体14の内部に設けられた上記給気
管路143は、一端部が上記給気管路142に通じ、他
端部が上記段部14bの下段面から外部を臨むように設
けられている。この他端部の開口部に上記パッキンP0
が配設されており、この給気管路143を通じて圧縮空
気を供給することによって、このパッキンP0が後述す
るクランパー15の段部15bの下面に当接し、本体1
4とクランパー15との隙間が密閉されるようになして
ある。
The air supply conduit 143 provided inside the main body 14 has one end communicating with the air supply conduit 142 and the other end facing the outside from the lower surface of the step 14b. There is. The packing P0 is provided in the opening at the other end.
Is provided, and by supplying compressed air through the air supply line 143, the packing P0 abuts the lower surface of the step portion 15b of the clamper 15 described later, and the main body 1
The gap between 4 and the clamper 15 is sealed.

【0043】上記クランパー15は、外観リング状の形
態を有しており、その内側上端部には、中心に向けて延
びる突出壁部15aが形成されている。そして、上記カ
ソード電極13の起立壁部13cとともに、コンタクト
リングCを介して基板2を挟持するようになしてある。
クランパー15の下面には、上記本体14の段部14b
に対応した段部15bが設けられている。上記クランパ
ー15の段部15bの内面には、上記係合ピン14cが
係合する係合溝15cが形成されている。この係合溝1
5cは、当該クランパー15を所定角度回転させると上
記係合ピン14cがロックされるいわゆるツイストロッ
ク式の係合溝とされている。また、段部15bの下面に
は、下方に突出する押圧ピン15dが組み込まれてお
り、クランパー15の装着が容易にできるようになして
ある。本実施例では、上記クランパー15は、インナー
クランプ150及びアウタークランプ151で構成され
ている。
The clamper 15 has a ring-shaped appearance, and a protruding wall portion 15a extending toward the center is formed at the inner upper end portion thereof. Then, the substrate 2 is sandwiched via the contact ring C together with the rising wall portion 13c of the cathode electrode 13.
On the lower surface of the clamper 15, the stepped portion 14 b of the main body 14 is provided.
Is provided with a step portion 15b. An engagement groove 15c with which the engagement pin 14c is engaged is formed on the inner surface of the step portion 15b of the clamper 15. This engagement groove 1
Reference numeral 5c is a so-called twist lock type engagement groove in which the engagement pin 14c is locked when the clamper 15 is rotated by a predetermined angle. Further, a pressing pin 15d protruding downward is incorporated in the lower surface of the step portion 15b, so that the clamper 15 can be easily mounted. In this embodiment, the clamper 15 includes an inner clamp 150 and an outer clamp 151.

【0044】なお、本実施例の電鋳装置10において
も、上記第1実施例の電鋳装置1と同様に、電極プレー
ト13と基板2との間にはコンタクトリングCが介在さ
れているが、カソード電極13及びクランパー15が精
度よく得られ、カソード電極13と基板2との接触が良
好である場合には、省略することが出来る。
In the electroforming apparatus 10 of this embodiment, as in the electroforming apparatus 1 of the first embodiment, the contact ring C is interposed between the electrode plate 13 and the substrate 2. , The cathode electrode 13 and the clamper 15 can be obtained with high precision, and the cathode electrode 13 and the substrate 2 can be omitted if the contact between the cathode electrode 13 and the substrate 2 is good.

【0045】次に、上記実施例の電鋳装置10の作用
を、その使用方法とともに説明する。
Next, the operation of the electroforming apparatus 10 of the above embodiment will be described together with the method of using it.

【0046】まず、上記図示しない加圧源による圧縮空
気の供給を停止しておき、上記スプリング144の付勢
力によって上記キャリアプレート17をカソード電極1
3のさらに上方に上昇させる。このときクランパー15
は支障の無い位置に待避させておく。そして、基板2
を、メッキ処理を施す面を上に向けて上記キャリアプレ
ート17上に載置する。次いで、コンタクトリングC
を、基板2の上方に配置し他の地に、コンタクトリング
Cを基板2の上に載置するとともに、キャリアプレート
17を次第に降下させ、基板2をその周縁部2aにおけ
る下面を上記カソード電極13の起立壁部13bにおけ
る段部13cの下段に位置させて載置する。そしてこの
状態で、上記加圧源を作動させて給気管路及び管路を通
じて圧縮空気を供給し、上記ストッパーを内側に押圧し
てキャリアリフター145のリフターリング145aの
上昇を規制する。
First, the supply of compressed air from the pressure source (not shown) is stopped, and the carrier plate 17 is moved to the cathode electrode 1 by the urging force of the spring 144.
Raise above 3. Clamper 15 at this time
Keep it in a safe position. And the substrate 2
Is placed on the carrier plate 17 with the surface to be plated facing upward. Then contact ring C
Is placed above the substrate 2 and the contact ring C is placed on the substrate 2 on another place, and the carrier plate 17 is gradually lowered so that the lower surface of the substrate 2 at the peripheral edge 2a is the cathode electrode 13 described above. The standing wall portion 13b is positioned and placed on the lower stage of the step portion 13c. Then, in this state, the pressurizing source is operated to supply compressed air through the air supply line and the line, and the stopper is pressed inward to restrict the lift of the lifter ring 145a of the carrier lifter 145.

【0047】そして、待避させておいたクランパー15
をキャリアプレート17の上方に配置し、次第に降下さ
せる。そして、上記本体14の係合ピン14cと、クラ
ンパー15の係合溝5cとを係合させるとともに、さら
にクランパー15を所定角度回転させて当該クランパー
15を本体14に確実に装着する。このとき、基板2
は、上記クランパー15の突出壁部15aの下端面と上
記カソード電極13の起立壁部13bとの間でコンタク
トリングCを介して挟持される。
Then, the clamper 15 that has been saved
Is placed above the carrier plate 17 and gradually lowered. Then, the engaging pin 14c of the main body 14 and the engaging groove 5c of the clamper 15 are engaged with each other, and the clamper 15 is further rotated by a predetermined angle to securely attach the clamper 15 to the main body 14. At this time, the substrate 2
Is sandwiched between the lower end surface of the protruding wall portion 15a of the clamper 15 and the standing wall portion 13b of the cathode electrode 13 via a contact ring C.

【0048】次いで、上記図示しない加圧源による圧縮
空気の供給を高めてさらに加圧し、上記ピストン142
をシリンダーの上方に上昇させる。そして、ピストン1
42をカソード電極13の下面に当接させ、その反力
で、上記本体14及びクランパー15を上記カソード電
極13に対して下方に移動させて上記基板2の周縁部2
aを確実に挟持する。
Next, the supply of compressed air from a pressure source (not shown) is increased to further pressurize the piston 142.
Raise above the cylinder. And piston 1
42 is brought into contact with the lower surface of the cathode electrode 13, and by the reaction force thereof, the main body 14 and the clamper 15 are moved downward with respect to the cathode electrode 13 and the peripheral portion 2 of the substrate 2 is moved.
Hold a securely.

【0049】そして、この状態で上記基板2上にメッキ
液を供給して、さらに、アノード(図示せず)を配置
し、このメッキ液によって基板2の表面にメッキ処理を
施す。
Then, in this state, a plating solution is supplied onto the substrate 2, an anode (not shown) is further arranged, and the surface of the substrate 2 is plated with this plating solution.

【0050】所望のメッキ処理を行った後、基板2表面
を洗浄する。そして、上記加圧源による圧縮空気の供給
を、上記クランパー15を本体14から取り外せる程度
に緩めキャリアプレート17が不用意に上昇しないよう
にしておく。
After performing the desired plating treatment, the surface of the substrate 2 is washed. Then, the compressed air supply by the pressure source is loosened to such an extent that the clamper 15 can be removed from the main body 14 so that the carrier plate 17 does not rise carelessly.

【0051】そして、クランパー15を取り外して定位
置に待避させた後、加圧源を停止して上記ストッパー1
45bによるリフターリング145aの押圧を停止し、
上記スプリング144の付勢力によってキャリアプレー
ト17を上方に上昇させ、コンタクトリングC及びメッ
キ処理後の基板2を取り出し、作業を終了する。
Then, after removing the clamper 15 and retreating it to a fixed position, the pressure source is stopped to stop the stopper 1.
Stop pressing the lifter ring 145a by 45b,
The carrier plate 17 is moved upward by the urging force of the spring 144, the contact ring C and the substrate 2 after the plating treatment are taken out, and the operation is completed.

【0052】このように、本実施例に係る電鋳装置10
によれば、上記給気管路141を通じて上記シリンダー
140内に圧縮空気を供給し、上記ピストン142を上
昇させて上記カソード電極13の下面に当接させ、その
反力で上記本体14及びクランパー15をカソード電極
13に対して下方に移動させて基板2を挟持するように
したので、従来に比べて、温度変化にかかわらず基板2
を均一なクランプ力で確実に挟持することができる。従
って、上記カソード電極13又はクランパー15と、上
記基板2の周縁部2aとの隙間へのメッキ液の浸入を確
実抑えることができ、従来のような基板交換時の繁雑な
メンテナンス作業を不要とし、安定して基板2にメッキ
処理を施すことができる。
As described above, the electroforming apparatus 10 according to the present embodiment.
According to the above, compressed air is supplied into the cylinder 140 through the air supply line 141, the piston 142 is moved up to abut against the lower surface of the cathode electrode 13, and the reaction force causes the main body 14 and the clamper 15 to move. Since the substrate 2 is sandwiched by moving the substrate 2 downward with respect to the cathode electrode 13, the substrate 2 is not affected by temperature change as compared with the conventional case.
Can be securely clamped with a uniform clamping force. Therefore, it is possible to surely prevent the plating solution from entering the gap between the cathode electrode 13 or the clamper 15 and the peripheral edge portion 2a of the substrate 2, and the complicated maintenance work at the time of replacing the substrate, which is required in the related art, is unnecessary. The substrate 2 can be stably plated.

【0053】また、上記給気管路143を通じて圧縮空
気を供給することによって、上記パッキンP0を押圧し
て本体14とクランパー15との隙間をシールするよう
にした、温度変化の影響を受けずに本体14とクランパ
ー15との間の密閉性も高められる。従って、当該電鋳
装置10をメッキ液中に浸しても、本体14とクランパ
ー15との隙間からのメッキ液の侵入を確実に防ぐこと
ができる。
The compressed air is supplied through the air supply line 143 to press the packing P0 to seal the gap between the main body 14 and the clamper 15. The main body is not affected by temperature change. The tightness between 14 and the clamper 15 is also improved. Therefore, even if the electroforming apparatus 10 is immersed in the plating solution, it is possible to reliably prevent the plating solution from entering through the gap between the main body 14 and the clamper 15.

【0054】本発明に係る電鋳装置におけるアノード
(図示せず)及びメッキ液(図示せず)並びに基板等
は、従来から電鋳装置に適用されるものとして公知のも
のを適用することができる。
As the anode (not shown), the plating solution (not shown), the substrate and the like in the electroforming apparatus according to the present invention, known ones which have been conventionally applied to the electroforming apparatus can be applied. .

【0055】本発明に係る電鋳装置は、本発明の目的を
逸脱しない範囲において、その寸法、形状等を適宜変更
することができる。
The electroforming apparatus according to the present invention can be appropriately changed in size, shape and the like without departing from the object of the present invention.

【0056】例えば、上記各実施例では、上記エアシリ
ンダー41及びガイド44(第1実施例の電鋳装置
1)、並びに上記シリンダー140、ピストン142、
キャリアリフター145、スプリング144、及びガイ
ド146(第2実施例の電鋳装置10)はそれぞれ3基
ずつ配設されているが、これらの配設数は3基に限定さ
れるものではなく、基板、クランパー及び本体の形状等
に応じて適宜変更することができる。
For example, in each of the above embodiments, the air cylinder 41 and the guide 44 (the electroforming apparatus 1 of the first embodiment), the cylinder 140, the piston 142,
The carrier lifters 145, the springs 144, and the guides 146 (the electroforming apparatus 10 of the second embodiment) are arranged in three sets, but the number of these units is not limited to three, and the number of the substrates is not limited to three. It can be appropriately changed depending on the shapes of the clamper and the main body, and the like.

【0057】また、上記各実施例ではパッキンは所謂O
リングを用いているが、他の形状のパッキン、例えば、
断面がX形状のXパッキン、断面がU形状のUパッキン
等を用いることも出来る。
In each of the above embodiments, the packing is a so-called O
Although a ring is used, packing of other shape, for example,
It is also possible to use an X packing having an X-shaped cross section, a U packing having a U-shaped cross section, or the like.

【0058】本発明に係る電鋳装置は、上記実施例のC
Dマスタリング装置を構成する電鋳装置への適用に限定
されるものではないことはいうまでもなく、アノード、
メッキ液、基板を適宜選択することにより、例えば、光
磁気ディスク等の基板にメッキ処理を施す装置を構成す
る電鋳装置としても好適に使用することができる。
The electroforming apparatus according to the present invention is the C of the above embodiment.
Needless to say, the present invention is not limited to the application to the electroforming device that constitutes the D mastering device.
By appropriately selecting the plating liquid and the substrate, for example, it can be suitably used as an electroforming device that constitutes a device for performing a plating process on a substrate such as a magneto-optical disk.

【0059】[0059]

【発明の効果】本発明に係る電鋳装置によれば、以下の
効果を奏することができる。請求項1に記載の電鋳装置
によれば、上記給気管路を通じて上記チャンバー内に圧
縮空気を供給し、上記本体及びクランパーを上記カソー
ド電極に対して下方に移動させて上記基板を挟持するよ
うにしたので、従来に比べて、温度変化にかかわらず基
板を均一なクランプ力で確実に挟持することができると
ともに、このように基板を確実に挟持することで、上記
カソード電極又はクランパーと、上記基板との隙間への
メッキ液の浸入を確実抑えることができる。従って、従
来のようなカソード電極等に成長したメッキの拭き取り
等の基板交換時の繁雑なメンテナンス作業が不要であ
る。そして、安定して基板にメッキ処理を施すことがで
きる。
According to the electroforming apparatus of the present invention, the following effects can be obtained. According to the electroforming apparatus according to claim 1, compressed air is supplied into the chamber through the air supply line, and the main body and the clamper are moved downward with respect to the cathode electrode to sandwich the substrate. Therefore, compared to the prior art, the substrate can be reliably clamped with a uniform clamping force regardless of temperature changes, and by reliably clamping the substrate in this way, the cathode electrode or clamper and the It is possible to reliably prevent the plating solution from entering the gap with the substrate. Therefore, complicated maintenance work such as wiping off the plating grown on the cathode electrode and the like when replacing the substrate is not required. Then, the plating process can be stably applied to the substrate.

【0060】請求項2に記載の電鋳装置によれば、上記
請求項1に記載の電鋳装置と同様に、温度変化に関わら
ず均一で強いクランプ力を得ることができ、基板交換時
の繁雑なメンテナンス作業を不要とし、安定して基板に
メッキ処理を施すことができる。
According to the electroforming apparatus according to the second aspect, similar to the electroforming apparatus according to the first aspect, it is possible to obtain a uniform and strong clamping force regardless of the temperature change, and it is possible to replace the substrate. It is possible to perform stable plating on the substrate without the need for complicated maintenance work.

【0061】請求項3に記載の電鋳装置によれば、請求
項2に記載の電鋳装置における効果に加えて、上記本体
とクランパーとの隙間からのメッキ液の浸入も温度変化
に関わらず確実に抑えることができる。
According to the electroforming apparatus of claim 3,
In addition to the effect of the electroforming apparatus according to Item 2 , the intrusion of the plating solution through the gap between the main body and the clamper can be surely suppressed regardless of the temperature change.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る電鋳装置の第1実施例を示す要部
正断面図である。
FIG. 1 is a front sectional view of an essential part showing a first embodiment of an electroforming apparatus according to the present invention.

【図2】本発明に係る電鋳装置の第2実施例を示す要部
正断面図である。
FIG. 2 is a front sectional view of an essential part showing a second embodiment of the electroforming apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、10 電鋳装置 2 基板 3、13 カソード電極 4、14 本体 5、15 クランパー 40、141 給気管路(第1給気管路) 143 給気管路(第2給気管路) P0 パッキン 1, 10 Electroforming equipment 2 substrates 3, 13 Cathode electrode 4, 14 body 5,15 Clamper 40, 141 Air supply line (first air supply line) 143 Air supply line (second air supply line) P0 packing

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−272445(JP,A) 特開 平8−333695(JP,A) 特開 平8−124895(JP,A) 特開 平4−183888(JP,A) 実開 昭61−191467(JP,U) 特許2977461(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C25D 1/00 G11B 7/26 Continuation of the front page (56) Reference JP 62-272445 (JP, A) JP 8-333695 (JP, A) JP 8-124895 (JP, A) JP 4-183888 (JP , A) Actual development Sho 61-191467 (JP, U) Patent 2974761 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) C25D 1/00 G11B 7/26

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 上下動不能に固定されて基板(2)を支
承するカソード電極(3)と、該カソード電極(3)
下方において該カソード電極(3)に対して上下に相対
移動自在に配設された本体(4)と、該本体(4)に装
着されて上記カソード電極(3)とともに上記基板
(2)の周縁部(2a)を挟持するクランパー(5)
を備えた電鋳装置であって、 上記カソード電極(3)の下面にチャンバー(30)
設けるとともに、上記本体(4)の内部に上記チャンバ
(30)に通じる給気管路(40)を設けており、 上記給気管路(40)を通じて上記チャンバー(30)
内に圧縮空気を供給し、上記本体(4)及び上記クラン
パー(5)を上記カソード電極(3)に対して下方に移
動させて上記基板(2)を挟持するようになしてあるこ
とを特徴とする電鋳装置。
A cathode electrode 1. A is moved vertically fixed non supporting a substrate (2) (3), the relatively movable up and down relative to the cathode electrode (3) at the lower of the cathode electrode (3) and disposed the body (4), the substrate is mounted with the cathode electrode (3) to the body (4)
A electroforming apparatus and a clamper (5) to the peripheral edge portion (2a) for clamping the (2), provided with a chamber (30) to the lower surface of the cathode electrode (3), said body (4) inside and provided feed duct which Ru leading to the chamber (30) to (40), the chamber through the supply duct (40) (30)
Compressed air is supplied into the main body (4) and the clamper (5) is moved downward with respect to the cathode electrode (3 ) to sandwich the substrate (2). And electroforming equipment.
【請求項2】 基板(2)を支承するカソード電極(1
3)と、該カソード電極(13)の下方において該カソ
ード電極(13)に対して上下に相対移動自在に配設さ
れた本体(14)と、該本体(14)に装着されて上記
カソード電極(13)とともに上記基板(2)の周縁部
(2a)を挟持するクランパー(15)とを備えた電鋳
装置であって、 上記本体(14)の内部に上記カソード電極(13)
下面を臨んで開口するシリンダー(140)を設けると
ともに、該シリンダー(140)に通じる第1給気管路
(141)を設け、且つ該シリンダー(140)内にピ
ストン(142)を配設しており、 上記第1給気管路(141)を通じて上記シリンダー
(140)内に圧縮空気を供給し、上記ピストン(14
2)を上昇させて上記カソード電極(13)の下面に当
接させ、その反力で上記本体(14)及び上記クランパ
(15)を上記カソード電極(13)に対して下方に
移動させて上記基板(2)を挟持するようになしてある
ことを特徴とする電鋳装置。
2. A cathode electrode (1 ) supporting a substrate (2).
And 3), the cathode electrode (13) body that is disposed relatively movable up and down relative to (14), is attached to the body (14) with the cathode electrode in the lower of the cathode electrode (13) (13) Along with the peripheral portion of the substrate (2)
An electroforming apparatus comprising a clamper (15 ) for sandwiching (2a) , wherein a cylinder (140) is provided inside the main body (14) , the cylinder (140) facing the lower surface of the cathode electrode (13) and opening. First air supply line leading to the cylinder (140)
(141) is provided, and the piston (142 ) is provided in the cylinder (140) , and the cylinder is provided through the first air supply line (141).
Compressed air is supplied into the (140) , and the piston (14
2) is raised and brought into contact with the lower surface of the cathode electrode (13) , and the reaction force causes the main body (14) and the clamper (15) to move downward with respect to the cathode electrode (13) . An electroforming device, characterized in that the substrate (2) is sandwiched.
【請求項3】 上記本体(14)と上記クランパー(1
5)との隙間にパッキン(P0)を介装させるととも
に、該本体(14)内に一端部が該パッキン P0)
臨む第2給気管路(143)を設け、該第2給気管路
(143)を通じて上記パッキン(P0)を押圧して該
本体(14)と上記クランパー(15)とをシールする
ようになしてあることを特徴とする請求項2に記載の電
鋳装置。
3. The body (14) and the clamper (1 )
5) , a packing (P0) is interposed in the gap between the main body (14) and a second air supply conduit (143) whose one end faces the packing ( P0 ) is provided in the main body (14) .
The electroforming apparatus according to claim 2 , wherein the packing (P0) is pressed through the (143) to seal the main body (14) and the clamper (15) .
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