JP3442906B2 - Electroforming equipment - Google Patents

Electroforming equipment

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JP3442906B2
JP3442906B2 JP13948495A JP13948495A JP3442906B2 JP 3442906 B2 JP3442906 B2 JP 3442906B2 JP 13948495 A JP13948495 A JP 13948495A JP 13948495 A JP13948495 A JP 13948495A JP 3442906 B2 JP3442906 B2 JP 3442906B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、基板上面にメッキ液を
供給してその表面にメッキを施す電鋳装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electroforming apparatus for supplying a plating solution to the upper surface of a substrate to plate the surface thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知のように、CDのマスタリング工程
では、プリマスタリングにより作成されたデーターを磁
気テープやプリマスタードCD等に記録し、まず、これ
らを元に、ガラス原盤の表面に塗布された感光剤にレー
ザー光を照射して露光させてガラスマスターを作成し、
現像工程でレジスト表面にピットを形成し、次いでこの
ガラスマスターから無電解メッキでメタルマスターを作
成し、さらに、このメタルマスターから電気メッキでメ
タルマザーを作成し、最後にこのメタルマザーから電気
メッキでスタンパーを作成している。
2. Description of the Related Art As is well known, in a CD mastering process, data created by premastering is recorded on a magnetic tape, a premastered CD or the like, and is first applied to the surface of a glass master disk based on the data. Laser light is applied to the photosensitizer to expose it to create a glass master,
In the development process, pits are formed on the resist surface, then a metal master is created from this glass master by electroless plating, and then a metal mother is created by electroplating from this metal master, and finally by electroplating from this metal mother. Creating a stamper.

【0003】上記のマスタリング工程において電解メッ
キを行う従来技術としては、上端面に凹所を有し基板を
支承するカソード電極を備えた本体と、該カソード電極
の上記凹所内に配設され該カソード電極とともに上記基
板の周縁部をコンタクトリングを介して挟持するクラン
パーとを備えており、上記基板上にメッキ液を供給して
該基板表面にメッキを施す電鋳装置が知られている。
As a conventional technique for electroplating in the mastering step, there is a main body having a cathode electrode for supporting a substrate having a recess on the upper end surface thereof, and the cathode provided in the recess of the cathode electrode. There is known an electroforming apparatus which includes an electrode and a clamper that holds the peripheral edge of the substrate via a contact ring, and supplies a plating solution onto the substrate to plate the surface of the substrate.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記電鋳装
置では、クランパーと本体との間にツイストロック機構
を設けてこれらを機械的に締め付けてメッキ処理を施す
基板を挟持しているので、温度変化によってクランプ力
が変化し、均一なクランプ力が得られなかった。また、
基板をクランパーで締め付ける際に、摩擦ロスが生じる
ため、強いクランプ力が得られなかった。
By the way, in the above electroforming apparatus, since the twist lock mechanism is provided between the clamper and the main body and the substrates to be plated are clamped by mechanically tightening them, the temperature Clamping force changed due to the change, and uniform clamping force could not be obtained. Also,
A strong clamping force could not be obtained because friction loss occurs when the substrate is clamped with the clamper.

【0005】そして、斯るクランプ力の変化等により、
カソード電極又はコンタクトリングと基板との隙間にメ
ッキ液が浸入し、このメッキ液の成分がカソード電極等
に析出すると共に、極端な場合には基板のみならずカソ
ード電極又はコンタクトリングまでもメッキされてい
た。斯るカソード電極又はコンタクトリングでのメッキ
液由来の析出物又はメッキの成長を放置しておくと、電
流密度の不均一を引き起こし、メッキの厚みむらの原因
となる。また、部分的な接触不良のために全抵抗が増大
し、電鋳装置に接続されている定電流電源の出力電圧が
上昇するので、安全回路が動作し、電鋳装置が停止して
作業を中断する場合もあった。更に、局所的な電流集中
により、基板やカソード電極またはコンタクトリングの
部分的な焼損を引き起こす場合もあった。
Then, due to such changes in the clamping force,
The plating solution penetrates into the gap between the cathode electrode or contact ring and the substrate, and the components of this plating solution are deposited on the cathode electrode, etc., and in extreme cases, not only the substrate but also the cathode electrode or contact ring is plated. It was If the deposit derived from the plating solution or the growth of the plating on the cathode electrode or the contact ring is left as it is, the current density becomes nonuniform and the thickness of the plating becomes uneven. In addition, the total resistance increases due to a partial contact failure, and the output voltage of the constant current power supply connected to the electroforming equipment rises, so the safety circuit operates and the electroforming equipment stops and work is stopped. Sometimes it was interrupted. Furthermore, the local current concentration may cause partial burnout of the substrate, the cathode electrode, or the contact ring.

【0006】従って、これまでは、上記した析出むら、
作業の中断、基板等の焼損を防止するために、基板の交
換毎にカソード電極又はコンタクトリングに成長したメ
ッキ液由来の析出物やメッキを拭き取る必要があり、基
板交換時のメンテナンス作業が繁雑となっていた。
Therefore, so far, the above-mentioned precipitation unevenness,
In order to prevent work interruption and burnout of the substrate, etc., it is necessary to wipe off the deposits and plating derived from the plating solution grown on the cathode electrode or contact ring every time the substrate is replaced, which makes maintenance work at the time of substrate replacement complicated. Was becoming.

【0007】本発明の目的は、基板交換時の繁雑なメン
テナンス作業を不要とし、安定して基板にメッキ処理を
施すことができる電鋳装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an electroforming apparatus which does not require complicated maintenance work at the time of exchanging a substrate and can stably perform plating processing on the substrate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
の発明は、基板を支承するカソード電極と、該カソード
電極の下方に配設された本体と、該本体に対して上下動
自在に配設された係合治具と、該係合治具を介して該本
体に装着されて上記カソード電極とともに上記基板の周
縁部を挟持するクランパーとを備えており、且つ上記本
体内に、一端部が上記係合治具に臨んで開口する給気管
路を設けてあり、上記給気管路を通じて圧縮空気を供給
し、上記係合治具を下方に押圧して上記クランパーを上
記カソード電極に対して下方に移動させ、上記基板を挟
持するようになしてあることを特徴とする電鋳装置を提
供することにより、上記目的を達成したものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a cathode electrode for supporting a substrate, a main body disposed below the cathode electrode, and movable up and down with respect to the main body. And a clamper that is mounted on the main body via the engaging jig to clamp the peripheral edge of the substrate together with the cathode electrode, and in the main body, An air supply conduit is provided, one end of which opens toward the engaging jig, compressed air is supplied through the air supplying conduit, and the engaging jig is pressed downward to attach the clamper to the cathode electrode. The above object is achieved by providing an electroforming apparatus characterized in that the substrate is sandwiched by moving it downward.

【0009】本発明の請求項2に記載の発明は、請求項
1に記載の電鋳装置において、上記給気管路の上記一端
部にシリンダー室を設けるとともに、シリンダー室内に
ピストンを配設してあり、上記給気管路を通じて上記シ
リンダー室内に圧縮空気を供給し、上記ピストンを介し
て上記係合治具を下方に押圧するようになしてあること
を特徴とする電鋳装置を提供するものである。
According to a second aspect of the present invention, in the electroforming apparatus according to the first aspect, a cylinder chamber is provided at the one end of the air supply line, and a piston is provided in the cylinder chamber. And, there is provided an electroforming apparatus characterized in that compressed air is supplied into the cylinder chamber through the air supply line, and the engaging jig is pressed downward through the piston. is there.

【0010】[0010]

【作用】本発明の請求項1に記載の電鋳装置において
は、上記給気管路を通じて圧縮空気を供給し、上記係合
治具を下方に押圧して上記クランパーを上記カソード電
極に対して下方に移動させ、上記基板を挟持するため、
温度変化に関わらず均一な挟持力が得られる。
In the electroforming apparatus according to the first aspect of the present invention, compressed air is supplied through the air supply line and the engaging jig is pressed downward to move the clamper downward with respect to the cathode electrode. , To clamp the substrate,
Uniform clamping force can be obtained regardless of temperature change.

【0011】本発明の請求項2に記載の電鋳装置におい
ては、上記給気管路の上記一端部にシリンダー室を設け
るとともに、シリンダー室内にピストンを配設し、上記
給気管路を通じて上記シリンダー室内に圧縮空気を供給
し、上記ピストン介して上記係合治具を下方に押圧する
ようになしてあるため、請求項1に記載の電鋳装置にお
ける作用に加えて、上記係合治具を確実に下方に押圧す
ることができるとともに、係合治具の形状も複雑となら
ずにすむ。
In the electroforming apparatus according to the second aspect of the present invention, a cylinder chamber is provided at the one end of the air supply line, and a piston is provided in the cylinder chamber, and the cylinder chamber is provided through the air supply line. Compressed air is supplied to press the engaging jig downward through the piston. Therefore, in addition to the function of the electroforming apparatus according to claim 1, the engaging jig is securely operated. It can be pressed downward and the shape of the engaging jig is not complicated.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面を参照しな
がら詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0013】図1は、本発明に係る電鋳装置の一実施例
であるCDマスタリング装置の一部を構成する電鋳装置
を示したものである。同図において、符号1は電鋳装
置、2はメッキされる基板、Cはコンタクトリング、P
はパッキンを示している。
FIG. 1 shows an electroforming apparatus which constitutes a part of a CD mastering apparatus which is an embodiment of the electroforming apparatus according to the present invention. In the figure, reference numeral 1 is an electroforming device, 2 is a substrate to be plated, C is a contact ring, and P is a substrate.
Indicates packing.

【0014】図1に示したように、上記電鋳装置1は、
基板2を支承するカソード電極3と、カソード電極3の
下方に配設された本体4と、本体4に対して上下動自在
に配設された係合治具5と、係合治具5を介して本体4
に装着され、上記カソード電極3とともに上記基板2の
周縁部2aを挟持するクランパー6とを備えており、基
板2上にメッキ液を供給して基板2表面にメッキを施す
ものである。
As shown in FIG. 1, the electroforming apparatus 1 is
The cathode electrode 3 supporting the substrate 2, the main body 4 arranged below the cathode electrode 3, the engaging jig 5 arranged vertically movable with respect to the main body 4, and the engaging jig 5 are provided. Through the body 4
And a clamper 6 that clamps the peripheral portion 2a of the substrate 2 together with the cathode electrode 3, and supplies a plating solution onto the substrate 2 to plate the surface of the substrate 2.

【0015】上記本体4の内部には一端部が上記係合治
具5を臨むように開口する給気管路が40が設けられて
おり、且つこの給気管路40の一端部にはシリンダー室
41が設けられている。また、上記シリンダー室41内
には、ピストン42が配設されている。そして、上記給
気管路40を通じて上記シリンダー室41内に圧縮空気
を供給し、上記ピストン42で上記係合治具5を下降さ
せて上記クランパー6を上記カソード電極3に対して下
方に移動させ、上記基板2を挟持するようになしてあ
る。
Inside the main body 4, there is provided an air supply conduit 40, one end of which opens so as to face the engaging jig 5, and the cylinder chamber 41 is provided at one end of the air supply conduit 40. Is provided. Further, a piston 42 is arranged in the cylinder chamber 41. Then, compressed air is supplied into the cylinder chamber 41 through the air supply conduit 40, the engaging jig 5 is lowered by the piston 42, and the clamper 6 is moved downward with respect to the cathode electrode 3. The substrate 2 is sandwiched.

【0016】上記電鋳装置1をさらに詳しく説明する
と、上記カソード電極3は、平面視して円形状の形態を
有しており、その下面中央部には下方に垂下する垂下壁
部3aが形成されている。そして、カソード電極3はこ
の垂下壁部3aを介してシャフト7に固定されている。
Explaining the electroforming apparatus 1 in more detail, the cathode electrode 3 has a circular shape in a plan view, and a hanging wall portion 3a hanging downward is formed in the central portion of the lower surface thereof. Has been done. The cathode electrode 3 is fixed to the shaft 7 via the hanging wall portion 3a.

【0017】上記カソード電極3の上面の周縁部には上
方に向けて起立する起立壁部3bが形成されている。こ
の起立壁部3bの上端部には段部3cが形成されてお
り、この段部3cの下段に上記基板2の周縁部が、段部
3cの上段に後述するコンタクトリングCがそれぞれ載
置されるようになしてある。なお、カソード電極3に
は、上下方向の挿通孔3dが設けられており、後述する
キャリアリフター44が挿入できるようになしてある。
At the peripheral portion of the upper surface of the cathode electrode 3, there is formed a standing wall portion 3b which stands upward. A step portion 3c is formed on an upper end portion of the standing wall portion 3b, and a peripheral portion of the substrate 2 is placed below the step portion 3c, and a contact ring C described later is placed above the step portion 3c. It is designed to work. The cathode electrode 3 is provided with a vertical insertion hole 3d so that a carrier lifter 44 described later can be inserted therein.

【0018】上記カソード電極3の中央部には、後述す
るスプリング45の付勢力によって上昇するリフタープ
レート9と連動して基板2を受け渡しを行うキャリアプ
レート8が配設されている。このキャリアプレート8
は、本体4へのクランパー6の装着前において上記カソ
ード電極3の起立壁部3bより上方に上昇しており、上
記基板2が載置されると、その後クランパー6の装着に
伴って基板2をカソード電極3の起立壁部3b上に安定
して載置させるようになしてある。
At the center of the cathode electrode 3, there is arranged a carrier plate 8 for transferring the substrate 2 in tandem with a lifter plate 9 which is raised by the urging force of a spring 45 described later. This carrier plate 8
Has risen above the standing wall portion 3b of the cathode electrode 3 before the clamper 6 is attached to the main body 4, and when the substrate 2 is placed, the substrate 2 is then removed as the clamper 6 is attached. The cathode electrode 3 is stably placed on the standing wall portion 3b.

【0019】上記本体4は、平面視して円形状の形態を
有しており、その中央部には、挿通孔が設けられてい
る。本体4は、主基台4aと、その上に固定された副基
台4bとから構成されている。主基台4aと副基台4b
との間には、後述する係合治具5が上下移動するための
リング状の移動スペースSが設けられている。上記シリ
ンダー室41は、上記給気管路40の一端部で且つ副基
台4bの下方においてリング状に形成されており、その
開口部が係合治具5に臨むように設けられている。ま
た、シリンダー室41の上方部には、後述するストッパ
ー44bの外側に圧縮空気を供給する給気管路43が設
けられている。上記ピストン42は、シリンダー室41
に対応したリング状の形態を有しており、上記給気管路
40を通じた圧縮空気の供給により、後述する係合治具
5を下方に押圧するようになしてある。なお、本体4の
周縁部には、主基台4aの周縁部に対して副基台4bの
周縁部を高くして段部4cを設けている。
The main body 4 has a circular shape in plan view, and an insertion hole is provided in the center thereof. The main body 4 is composed of a main base 4a and a sub-base 4b fixed thereon. Main base 4a and sub-base 4b
A ring-shaped movement space S for vertically moving an engaging jig 5 to be described later is provided between and. The cylinder chamber 41 is formed in a ring shape at one end of the air supply pipe 40 and below the sub-base 4b, and its opening is provided so as to face the engaging jig 5. An air supply conduit 43 for supplying compressed air to the outside of a stopper 44b, which will be described later, is provided above the cylinder chamber 41. The piston 42 is a cylinder chamber 41.
It has a ring shape corresponding to the above, and is adapted to press the engaging jig 5 described later downward by the supply of compressed air through the air supply conduit 40. In addition, a step portion 4c is provided on the peripheral portion of the main body 4 by making the peripheral portion of the sub-base 4b higher than that of the main base 4a.

【0020】上記本体4の内部に設けられた給気管路4
0は、一端部が上記シリンダー室41とされ、他端部
(図示せず)が上記シャフト7の内部を通じてコンプレ
ッサー等の加圧源(図示せず)に連通している。また、
本体4内には、上記カソード電極3の挿通孔3dに挿通
されてその先端部が上記キャリアプレート8に固定され
たキャリアリフター44が配設されている。このキャリ
アリフター44の下端部は、リング状のリフターリング
44aとともにリフタープレート9の下面に固定されて
いる。このリフターリング44aの外側には、ピン状の
ストッパー44bが配設されており、シリンダー室41
から導いた給気管路43を通じて供給される圧縮空気を
ストッパー44bの外側に供給し、リフターリング44
aをストッパー44bで押圧することによって、上記キ
ャリアプレート8の上昇を規制するようになしてある。
本実施例の電鋳装置1では、キャリアリフター44、ス
トッパー44b、及びスプリング45はそれぞれ3基ず
つ配設されている。
Air supply line 4 provided inside the main body 4
In 0, one end is the cylinder chamber 41, and the other end (not shown) communicates with a pressure source (not shown) such as a compressor through the inside of the shaft 7. Also,
A carrier lifter 44, which is inserted into the insertion hole 3d of the cathode electrode 3 and whose front end is fixed to the carrier plate 8, is arranged in the main body 4. The lower end of the carrier lifter 44 is fixed to the lower surface of the lifter plate 9 together with the ring-shaped lifter ring 44a. A pin-shaped stopper 44b is provided outside the lifter ring 44a, and the cylinder chamber 41
The compressed air supplied through the air supply line 43 from the outside is supplied to the outside of the stopper 44b, and the lifter ring 44
By pressing a with the stopper 44b, the rise of the carrier plate 8 is regulated.
In the electroforming apparatus 1 of this embodiment, three carrier lifters 44, three stoppers 44b, and three springs 45 are provided.

【0021】上記係合治具5は、上記シリンダー室41
の下方に位置するクランプリング5aと、このクランプ
リング5に固定された複数の係合ピン5bとから構成さ
れている。係合ピン5bの係合部5cは、上記副基台4
bの周縁部側面より外側に突出するように設けられてい
る。そして、この係合ピン5bの係合部5cを後述する
クランパー6の係合溝6cと係合させて、当該本体4に
クランパー6を一体的に装着できるようになしてある。
The engaging jig 5 is provided in the cylinder chamber 41.
And a plurality of engagement pins 5b fixed to the clamp ring 5. The engaging portion 5c of the engaging pin 5b is the sub-base 4 described above.
It is provided so as to project outward from the side surface of the peripheral edge portion of b. The engaging portion 5c of the engaging pin 5b is engaged with the engaging groove 6c of the clamper 6 described later so that the clamper 6 can be integrally mounted on the main body 4.

【0022】上記クランパー6は、外観リング状の形態
を有しており、その内側上端部には、中心に向けて延び
る突出壁部6aが形成されている。そして、上記カソー
ド電極3の起立壁部3cとともに、コンタクトリングC
を介して基板2を挟持するようになしてある。クランパ
ー6の下面には、上記本体4の段部4cに対応した段部
6bが設けられている。また、上記クランパー6の段部
6bの内面には、上記係合ピン5bの係合部5cが係合
する係合溝6cが形成されている。この係合溝6cは、
当該クランパー6を所定角度回転させると上記係合ピン
4cがロックされるいわゆるツイストロック式の係合溝
とされている。また、段部6bの下面には、下方に突出
する押圧ピン6dが組み込まれており、クランパー6の
装着が容易にできるようになしてある。本実施例では、
クランパー6は、インナークランパー60とアウターク
ランパーとから構成されている。
The clamper 6 has a ring-shaped appearance, and a protruding wall portion 6a extending toward the center is formed at the inner upper end portion thereof. Then, together with the standing wall portion 3c of the cathode electrode 3, the contact ring C
The substrate 2 is sandwiched via the. A step portion 6b corresponding to the step portion 4c of the main body 4 is provided on the lower surface of the clamper 6. Further, an engagement groove 6c with which the engagement portion 5c of the engagement pin 5b is engaged is formed on the inner surface of the stepped portion 6b of the clamper 6. This engaging groove 6c is
It is a so-called twist lock type engagement groove in which the engagement pin 4c is locked when the clamper 6 is rotated by a predetermined angle. Further, a pressing pin 6d protruding downward is incorporated on the lower surface of the stepped portion 6b so that the clamper 6 can be easily mounted. In this embodiment,
The clamper 6 is composed of an inner clamper 60 and an outer clamper.

【0023】なお、本実施例の電鋳装置1においては、
上記第1実施例の電鋳装置1と同様に、カソード電極3
と基板2との間にはコンタクトリングCが介在されてい
るが、カソード電極3及びクランパー6が精度よく得ら
れ、カソード電極3と基板2との接触が良好である場合
には、省略することが出来る。
In the electroforming apparatus 1 of this embodiment,
Similar to the electroforming apparatus 1 of the first embodiment, the cathode electrode 3
Although the contact ring C is interposed between the substrate 2 and the substrate 2, it is omitted when the cathode electrode 3 and the clamper 6 are accurately obtained and the contact between the cathode electrode 3 and the substrate 2 is good. Can be done.

【0024】次に、上記実施例の電鋳装置1の作用を、
その使用方法とともに説明する。
Next, the operation of the electroforming apparatus 1 of the above embodiment will be described.
It will be described together with its usage.

【0025】まず、上記図示しない加圧源による圧縮空
気の供給を停止しておき、上記スプリング45の付勢力
によって上記キャリアプレート8をカソード電極3のさ
らに上方に上昇させる。このときクランパー6は支障の
ない位置に待避させておく。そして、基板2を、メッキ
処理を施す面を上に向けて上記キャリアプレート8上に
載置する。次いで、コンタクトリングCを、基板2の上
方に配置した後に、コンタクトリングCを基板2の上に
載置する。
First, the supply of compressed air from a pressure source (not shown) is stopped, and the carrier plate 8 is further raised above the cathode electrode 3 by the urging force of the spring 45. At this time, the clamper 6 is retracted to a position where it does not interfere. Then, the substrate 2 is placed on the carrier plate 8 with the surface to be plated facing up. Next, after the contact ring C is arranged above the substrate 2, the contact ring C is placed on the substrate 2.

【0026】そして、待避させておいたクランパー6を
キャリアプレート8の上方に配置して、次第に降下さ
せ、当該クランパー6の段部6bで上記リフタープレー
ト9の周縁部を下方に押し下げてキャリアプレート8を
次第に降下させる。そして、基板2をその周縁部2aに
おける下面を上記カソード電極3の起立壁部3bにおけ
る段部3cの下段に位置させて載置する。この状態で、
上記加圧源を作動させて給気管路40及び43を通じて
圧縮空気を供給し、上記ストッパー44bを内側に押圧
してキャリアリフター44のリフターリング44aの上
昇を規制する。
The retracted clamper 6 is placed above the carrier plate 8 and gradually lowered, and the step portion 6b of the clamper 6 pushes down the peripheral edge portion of the lifter plate 9 to lower the carrier plate 8. Gradually descend. Then, the substrate 2 is placed with the lower surface of the peripheral edge portion 2a thereof being positioned below the step portion 3c of the standing wall portion 3b of the cathode electrode 3. In this state,
The pressure source is operated to supply compressed air through the air supply lines 40 and 43, and the stopper 44b is pressed inward to restrict the lift of the lifter ring 44a of the carrier lifter 44.

【0027】そして、上記本体4の係合ピン5bの係合
部5cと、クランパー6の係合溝6cとを係合させると
ともに、さらにクランパー6を所定角度回転させて当該
クランパー6を本体4に確実に装着する。このとき、基
板2は、上記クランパー6の突出壁部6aの下端面と上
記カソード電極3の起立壁部3bとの間でコンタクトリ
ングCを介して挟持される。
Then, the engaging portion 5c of the engaging pin 5b of the main body 4 and the engaging groove 6c of the clamper 6 are engaged with each other, and the clamper 6 is further rotated by a predetermined angle so that the clamper 6 is attached to the main body 4. Be sure to attach it securely. At this time, the substrate 2 is sandwiched between the lower end surface of the protruding wall portion 6a of the clamper 6 and the standing wall portion 3b of the cathode electrode 3 via the contact ring C.

【0028】次いで、上記図示しない加圧源による圧縮
空気の供給を高めてさらに加圧し、上記ピストン42を
シリンダー室41の下方に降下させる。そして、ピスト
ン42をクランプリング5aの上面に当接させて係合治
具5を下方に押圧し、上記クランパー6を上記カソード
電極3に対して下方に移動させて上記基板2の周縁部2
aを確実に挟持する。
Next, the supply of compressed air from a pressure source (not shown) is increased to further pressurize, and the piston 42 is lowered below the cylinder chamber 41. Then, the piston 42 is brought into contact with the upper surface of the clamp ring 5 a to press the engaging jig 5 downward, the clamper 6 is moved downward with respect to the cathode electrode 3, and the peripheral portion 2 of the substrate 2 is moved.
Hold a securely.

【0029】そして、この状態で上記基板2上にメッキ
液を供給して、さらに、アノード(図示せず)を配置
し、このメッキ液によって基板2の表面にメッキ処理を
施す。
Then, in this state, a plating solution is supplied onto the substrate 2, an anode (not shown) is further arranged, and the surface of the substrate 2 is plated with the plating solution.

【0030】所望のメッキ処理を行った後、基板2表面
を洗浄する。そして、上記加圧源による圧縮空気の供給
を、上記クランパー6を本体4から取り外せる程度に緩
め、キャリアプレート8が不用意に上昇しないようにし
ておく。
After performing the desired plating treatment, the surface of the substrate 2 is washed. Then, the supply of compressed air by the pressure source is loosened to the extent that the clamper 6 can be removed from the main body 4 so that the carrier plate 8 does not rise carelessly.

【0031】そして、クランパー6を取り外して定位置
に待避させた後、加圧源を停止して上記ストッパー44
bによるリフターリング44aの押圧を停止し、上記ス
プリング45の付勢力によってリフタープレート9を上
昇させるとともにキャリアプレート8を上方に上昇さ
せ、コンタクトリングC及びメッキ処理後の基板2を取
り出し、作業を終了する。
Then, after removing the clamper 6 and retreating it to a fixed position, the pressure source is stopped to stop the stopper 44.
The pressing of the lifter ring 44a by b is stopped, the lifter plate 9 is lifted by the urging force of the spring 45, and the carrier plate 8 is lifted up. The contact ring C and the substrate 2 after the plating treatment are taken out, and the work is completed. To do.

【0032】このように、本実施例に係る電鋳装置1に
よれば、上記給気管路40を通じて上記シリンダー室4
1内に圧縮空気を供給し、上記ピストン42を降下させ
て上記係合治具5を下方に押圧し、上記本体4及びクラ
ンパー6をカソード電極3に対して下方に移動させて基
板2を挟持するようにしたので、従来に比べて、温度変
化にかかわらず基板2を均一なクランプ力で確実に挟持
することができる。従って、上記カソード電極3又はク
ランパー6と、上記基板2の周縁部2aとの隙間へのメ
ッキ液の浸入を確実抑えることができ、従来のような基
板交換時の繁雑なメンテナンス作業を不要とし、安定し
て基板2にメッキ処理を施すことができる。
As described above, according to the electroforming apparatus 1 of the present embodiment, the cylinder chamber 4 is supplied through the air supply conduit 40.
1, compressed air is supplied, the piston 42 is lowered, the engaging jig 5 is pressed downward, the main body 4 and the clamper 6 are moved downward with respect to the cathode electrode 3, and the substrate 2 is clamped. Therefore, compared to the conventional case, the substrate 2 can be reliably clamped by the uniform clamping force regardless of the temperature change. Therefore, the infiltration of the plating solution into the gap between the cathode electrode 3 or the clamper 6 and the peripheral edge portion 2a of the substrate 2 can be surely suppressed, and the conventional complicated maintenance work at the time of substrate exchange can be dispensed with. The substrate 2 can be stably plated.

【0033】また、上記電鋳装置1では、ピストン42
を介して係合治具5を下方に押圧するようにしたので、
押圧力を均一に係合治具5に作用させ、該係合治具5を
確実に下方に押圧することができ、且つ係合治具5も複
雑な形状とならずにすむ。
In the electroforming apparatus 1, the piston 42
Since the engaging jig 5 is pressed downward via the
The pressing force can be uniformly applied to the engaging jig 5 to reliably push the engaging jig 5 downward, and the engaging jig 5 does not have a complicated shape.

【0034】本発明に係る電鋳装置におけるアノード
(図示せず)及びメッキ液(図示せず)並びに基板等
は、従来から電鋳装置に適用されるものとして公知のも
のを適用することができる。
As the anode (not shown), the plating solution (not shown), the substrate and the like in the electroforming apparatus according to the present invention, those known as those conventionally applied to the electroforming apparatus can be applied. .

【0035】本発明に係る電鋳装置は、本発明の目的を
逸脱しない範囲において、その寸法、形状等を適宜変更
することができる。
The electroforming apparatus according to the present invention can be appropriately changed in size, shape and the like without departing from the object of the present invention.

【0036】例えば、上記実施例では、キャリアリフタ
ー44、及びスプリング45はそれぞれ3基ずつ配設さ
れているが、これらの配設数は3基に限定されるもので
はなく、基板、クランパー及び本体の形状等に応じて適
宜変更することができる。
For example, in the above-mentioned embodiment, the carrier lifters 44 and the springs 45 are provided in the number of three, but the number of these is not limited to three, and the substrate, the clamper and the main body are not limited thereto. It can be appropriately changed according to the shape and the like.

【0037】また、上記実施例では、本体4のシリンダ
ー室41内に配設したピストン42で係合治具5を下方
に押圧するようにしたが、ピストン42を係合治具5の
クランプリング5aに固定するか、もしくは係合治具5
とピストン42とを一体に設ける等して、給気管路40
から圧縮空気を供給して係合治具5を下方に押圧するよ
うにすることもでき、この場合にも、上記実施例と同様
の効果を得ることができる。
Further, in the above embodiment, the engaging jig 5 is pressed downward by the piston 42 arranged in the cylinder chamber 41 of the main body 4, but the piston 42 is clamped by the clamp ring of the engaging jig 5. 5a or engaging jig 5
And the piston 42 are integrally provided so that the air supply line 40
It is also possible to supply compressed air from the above to press the engaging jig 5 downward, and in this case also, the same effect as in the above embodiment can be obtained.

【0038】更に、上記実施例では、パッキンは所謂O
リングを用いているが、他の形状のパッキン、例えば、
断面がX形状のXパッキン、断面がU形状のUパッキン
等を用いることも出来る。
Further, in the above embodiment, the packing is so-called O.
Although a ring is used, packing of other shape, for example,
It is also possible to use an X packing having an X-shaped cross section, a U packing having a U-shaped cross section, or the like.

【0039】本発明に係る電鋳装置は、上記実施例のC
Dマスタリング装置を構成する電鋳装置への適用に限定
されるものではないことはいうまでもなく、アノード、
メッキ液、基板を適宜選択することにより、例えば、光
磁気ディスク等の基板にメッキ処理を施す装置を構成す
る電鋳装置としても好適に使用することができる。
The electroforming apparatus according to the present invention is the C of the above embodiment.
Needless to say, the present invention is not limited to the application to the electroforming device that constitutes the D mastering device.
By appropriately selecting the plating liquid and the substrate, for example, it can be suitably used as an electroforming device that constitutes a device for performing a plating process on a substrate such as a magneto-optical disk.

【0040】[0040]

【発明の効果】本発明に係る電鋳装置によれば、以下の
効果を奏することができる。請求項1に記載の電鋳装置
によれば、上記給気管路を通じて圧縮空気を供給し、上
記係合治具を下方に押圧して上記クランパーを上記カソ
ード電極に対して下方に移動させ、上記基板を挟持する
ようにしたので、従来に比べて、温度変化にかかわらず
基板を確実に挟持することができるとともに、このよう
に基板周縁部を確実に挟持することで、上記カソード基
台又はクランパーと、上記基板の周縁部との隙間へのメ
ッキ液の浸入を確実抑えることができる。従って、従来
のようなカソード基台等に成長したメッキの拭き取り等
の基板交換時の繁雑なメンテナンス作業が不要である。
そして、安定して基板にメッキ処理を施すことができ
る。
According to the electroforming apparatus of the present invention, the following effects can be obtained. According to the electroforming apparatus of claim 1, compressed air is supplied through the air supply line, and the engaging jig is pressed downward to move the clamper downward with respect to the cathode electrode. Since the substrate is clamped, the substrate can be reliably clamped regardless of the temperature change as compared with the conventional case, and the cathode peripheral portion or the clamper can be reliably clamped by the peripheral edge of the substrate as described above. With this, it is possible to surely prevent the plating liquid from entering the gap between the substrate and the peripheral portion. Therefore, complicated maintenance work such as wiping off the plating grown on the cathode base or the like when replacing the substrate is not required.
Then, the plating process can be stably applied to the substrate.

【0041】請求項2に記載の電鋳装置によれば、上記
給気管路を通じて上記シリンダー室に圧縮空気を供給
し、上記ピストンを介して上記係合治具を下方に押圧す
るようにしたので、請求項1に記載の電鋳装置における
効果に加えて、係合治具をより確実に下方に押圧するこ
とができる。
According to the electroforming apparatus of the second aspect, the compressed air is supplied to the cylinder chamber through the air supply line, and the engaging jig is pressed downward through the piston. In addition to the effect of the electroforming apparatus according to the first aspect, the engaging jig can be pressed more reliably downward.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る電鋳装置の一実施例を示す要部正
断面図である。
FIG. 1 is a front sectional view of an essential part showing an embodiment of an electroforming apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電鋳装置 2 基板 3 カソード電極 4 本体 40 給気管路 41 シリンダー室 42 ピストン 5 係合治具 6 クランパー 1 Electroforming equipment 2 substrates 3 cathode electrode 4 body 40 air supply line 41 cylinder chamber 42 piston 5 Engaging jig 6 clamper

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−272445(JP,A) 特開 平8−325777(JP,A) 特開 平8−124895(JP,A) 特開 平4−183888(JP,A) 実開 昭61−191467(JP,U) 特許2977461(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C25D 1/00 G11B 7/26 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP 62-272445 (JP, A) JP 8-325777 (JP, A) JP 8-124895 (JP, A) JP 4- 183888 (JP, A) Actual development Sho 61-191467 (JP, U) Patent 2974761 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) C25D 1/00 G11B 7/26

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板(2)を支承するカソード電極
(3)と、該カソード電極(3)の下方に配設された本
(4)と、該本体(4)に対して上下動自在に配設さ
れた係合治具(5)と、該係合治具(5)を介して該本
(4)に装着されて上記カソード電極(3)とともに
上記基板(2)の周縁部(2a)を挟持するクランパー
(6)とを備えており、且つ上記本体(4)内に、一端
部が上記係合治具に臨んで開口する給気管路(40)
設けてあり、上記給気管路(40)を通じて圧縮空気を
供給し、上記係合治具(5)を下方に押圧して上記クラ
ンパー(6)を上記カソード電極(3)に対して下方に
移動させ、上記基板(2)を挟持するようになしてある
ことを特徴とする電鋳装置。
1. Cathode electrode supporting a substrate (2)
And (3), a body (4) disposed below the cathode electrode (3), and engaging the jig which is vertically movable disposed relative to the body (4) (5), the A clamper that is mounted on the main body (4) via an engaging jig (5) and holds the peripheral edge portion (2a) of the substrate (2) together with the cathode electrode (3).
(6) , and an air supply conduit (40) having one end opening toward the engaging jig is provided in the main body (4) , and the air supply conduit (40) is provided through the air supply conduit (40) . Compressed air is supplied and the engaging jig (5) is pressed downward to move the clamper (6) downward with respect to the cathode electrode (3) so that the substrate (2) is clamped. An electroforming device characterized by being made.
【請求項2】 上記給気管路(40)の上記一端部にシ
リンダー室(41)を設けるとともに、シリンダー室
(41)内にピストン(42)を配設してあり、 上記給気管路(40)を通じて上記シリンダー室(4
1)内に圧縮空気を供給し、上記ピストン(42)を介
して上記係合治具(5)を下方に押圧するようになして
あることを特徴とする請求項1に記載の電鋳装置。
2. The cylinder chamber (41) is provided at the one end of the air supply line (40) , and the cylinder chamber (41) is provided.
A piston (42) is arranged in (41) , and the cylinder chamber (4 ) is provided through the air supply line (40).
2. The electroforming apparatus according to claim 1, wherein compressed air is supplied into the inside of 1) and the engaging jig (5) is pressed downward through the piston (42). .
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