JP3429869B2 - Pellicle manufacturing method - Google Patents

Pellicle manufacturing method

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JP3429869B2
JP3429869B2 JP22625094A JP22625094A JP3429869B2 JP 3429869 B2 JP3429869 B2 JP 3429869B2 JP 22625094 A JP22625094 A JP 22625094A JP 22625094 A JP22625094 A JP 22625094A JP 3429869 B2 JP3429869 B2 JP 3429869B2
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はペリクルの製造方法、特
にはLSI、超LSIなどの半導体装置あるいは液晶表
示板を製造する際のリソグラフィー用マスクのゴミよけ
として使用されるリソグラフィー用ペリクルの製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a pellicle, and more particularly, a method for manufacturing a pellicle for lithography used as a dust shield for a mask for lithography when manufacturing a semiconductor device such as an LSI or VLSI or a liquid crystal display panel. It is about the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】LSI、超LSIなどの半導体装置ある
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェハー
あるいは液晶表示板に光を照射してパターニングを作成
するのであるが、この場合に用いる露光原版(リソグラ
フィー用マスク)にゴミが付着していると、このゴミが
光を吸収したり、光を曲げてしまうため、転写したパタ
ーニングが変形したり、エッジががさついたものとなる
ほか、下地が黒く汚れたりして、寸法、品質、外観など
が損なわれるという問題があった。このため、これらの
作業は通常クリーンルームで行われているが、このクリ
ーンルーム内でも露光原版を常に清浄に保つことが難し
いので、露光原版の表面にゴミよけのための露光用の光
をよく通過させるペリクルを貼着する方法が行なわれて
いる。
2. Description of the Related Art In the manufacture of semiconductor devices such as LSI and VLSI, or liquid crystal display plates, etc., a semiconductor wafer or liquid crystal display plate is irradiated with light to form a pattern. If dust adheres to the lithography mask), the dust absorbs light or bends the light, resulting in deformed transferred pattern, sharp edges, and black background. However, there is a problem in that the dimensions, quality, appearance, etc. are impaired. For this reason, these operations are usually performed in a clean room, but it is difficult to always keep the exposure master clean in this clean room.Therefore, the exposure master light often passes through the surface of the exposure master for exposure to prevent dust. A method of attaching a pellicle to be used is performed.

【0003】この場合、ゴミは露光原版の表面上には直
接付着せず、ペリクル膜上に付着するため、リソグラフ
ィー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけ
ば、ペリクル膜上のゴミは転写に無関係となる。ペリク
ルの基本的な構成は露光に用いる光を良く通過させるニ
トロセルロース、酢酸セルロースなどからなる透明な膜
をアルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどからな
るペリクル枠の上部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風
乾して接着する(特開昭 58-219023号公報参照)か、ア
クリル樹脂やエポキシ樹脂などの接着剤で接着し(米国
特許第 4,861,402号明細書、特公昭63-27707号公報参
照)、さらにペリクル枠の下部には露光原版を固定する
ためのポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル
樹脂などからなる貼着層、および粘着層の保護を目的と
した離型層(セパレーター)で構成されている。
In this case, since the dust does not directly adhere to the surface of the exposure original plate but adheres to the pellicle film, if the focus is set on the pattern of the exposure original plate during lithography, the dust on the pellicle film will be transferred. Becomes irrelevant to. The basic structure of the pellicle is to apply a good solvent for the pellicle film onto a pellicle frame made of aluminum, stainless steel, polyethylene, etc., which is a transparent film made of nitrocellulose, cellulose acetate, etc., that allows the light used for exposure to pass well, and then air-dry. (See JP-A-58-219023) or an adhesive such as an acrylic resin or an epoxy resin (see U.S. Pat. No. 4,861,402, JP-B-63-27707), and a pellicle. An adhesive layer made of polybutene resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin or the like for fixing the exposure master plate, and a release layer (separator) for the purpose of protecting the adhesive layer are formed below the frame.

【0004】このペリクルの製造においては、通常ペリ
クル膜を保持するフレームにそれと同じ寸法のペリクル
膜を張り付けるのではなく、ペリクルフレームよりも幾
らか大きめの膜を作製し、ペリクルフレーム上に貼り合
わせた後ペリクルフレームの外側にはみ出した不要膜を
切断除去する。この不要膜切断除去の方法としては、カ
ッターなどにより切断除去する機械的方式、ヒーターや
レーザーによって切断除去する熱的方式、ペリクル膜に
これを溶解可溶な溶媒を滴下して切断除去する溶解方式
が考えられる。
In the manufacture of this pellicle, a pellicle film having the same size as that of the pellicle film is not usually attached to the frame holding the pellicle film, but a film slightly larger than the pellicle frame is produced and bonded to the pellicle frame. After that, the unnecessary film protruding to the outside of the pellicle frame is cut and removed. This unnecessary film cutting / removing method includes a mechanical method of cutting and removing with a cutter, a thermal method of cutting and removing with a heater or a laser, and a dissolving method of cutting and removing the soluble solvent by dissolving it in the pellicle film. Can be considered.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかして、この不要膜
除去方法の一つとしての溶媒によって膜を溶解除去する
方法は発塵が実質的に全く無く、切断面の形状も良好で
あることから優れた方法であるけれども、これには
ペリクルフレーム上のペリクル接着面外周部に沿っ
て滴下し、滴下した液がフレーム端部の面取り部分に沿
って自然に進み、膜を溶解する切断方法であるために、
切断時に使用する溶媒の制御、例えば滴下量の制御、滴
下位置、滴下後の液の進路決定などが難しいという難点
があり、そのために不要膜切断除去の工程においてペリ
クル膜上やフレーム上で予想外に切断した溶媒が進行し
てペリクル膜を溶解したり、シミ、汚れを発生させ、さ
らには異物を残したり、ペリクルフレーム上にシミ、汚
れを発生させて製品歩留りを著しく低下させる原因とな
っている。
However, the method of dissolving and removing the film with the solvent as one of the methods for removing the unnecessary film is substantially free from dust generation and has a good cut surface shape. Although an excellent method, which includes cutting the solvent was added dropwise along the pellicle adhesive surface peripheral portion of the pellicle frame, the dropped liquid proceeds spontaneously along the chamfered portion of the frame end portion, to dissolve the film To be a method
It is difficult to control the solvent used at the time of cutting, such as controlling the dropping amount, dropping position, and route of the liquid after dropping, which is unexpected on the pellicle film or frame in the process of removing unnecessary film cutting. The solvent that has been cut off progresses to dissolve the pellicle film, generate stains and stains, and also leave foreign matter, and cause stains and stains on the pellicle frame, causing a significant decrease in product yield. There is.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、問題点を解決したペリクルの製造方法に関するもの
であり、これはペリクル製造における不要膜除去の工程
において、ペリクル膜を溶解可能な溶媒をカッターに滴
下し、不要膜の除去をカッターと該溶媒とを同時に用い
て行なうことを特徴とするものである。なお、溶媒の沸
点は、80℃以上180℃以下とするのが望ましい。
The present invention relates to a method for producing a pellicle that solves the above disadvantages and problems, and it is a solvent capable of dissolving a pellicle film in the step of removing an unnecessary film in pellicle production. The drops on the cutter
It is characterized in that the unnecessary film is removed by using a cutter and the solvent at the same time. The boiling point of the solvent
The point is preferably 80 ° C. or higher and 180 ° C. or lower.

【0007】すなわち、本発明者らはペリクル製造時に
おける不要膜の除去を効率よく、容易に行なうことがで
きる方法を開発すべく種々検討した結果、これについて
は製造されたペリクルからの不要膜除去をペリクルフレ
ーム上のペリクル接着部の外周部に沿ってカッターを移
動させ、このカッターにペリクル膜を溶解可能な溶媒を
滴下し、ペリクル膜の不要部をカッターと溶媒によって
切断除去すれば、溶媒を制御性良く供給してペリクル膜
およびペリクルフレーム上にシミ汚れを発生させること
なく、再現性よく不要膜を切断除去することができるこ
とを見出して本発明を完成させた。以下にこれをさらに
詳述する。
That is, as a result of various investigations by the present inventors to develop a method capable of efficiently and easily removing an unnecessary film at the time of manufacturing a pellicle, as a result, an unnecessary film is removed from the manufactured pellicle. Move the cutter along the outer periphery of the pellicle adhesion part on the pellicle frame, drop a solvent that can dissolve the pellicle film on this cutter, and cut the unnecessary part of the pellicle film with the cutter and solvent to remove the solvent. The present invention has been completed by finding that unnecessary films can be cut and removed with good reproducibility without supplying stains on the pellicle film and the pellicle frame with good controllability. This will be described in more detail below.

【0008】[0008]

【作用】本発明はペリクルの製造方法、特にはペリクル
製造工程におけるペリクル膜不要部分の切断除去方法に
関するものであり、これは前記したようにペリクル製造
における不要膜除去工程において、不要膜の除去をカッ
ターとペリクル膜を溶解可能な溶媒とを同時に用いて行
なうことを特徴とするものであり、例えばペリクルフレ
ーム上のペリクル膜接着部の外周部に沿ってペリクル膜
に挿入したカッターを移動させ、このカッターにペリク
ル膜を溶解可能な溶媒を滴下すると、このカッターおよ
び溶媒によって不要膜が効率よく、シミ汚れなどの発生
なく切断除去されるという有利性が与えられる。
The present invention relates to a method for manufacturing a pellicle, and more particularly to a method for cutting and removing an unnecessary portion of a pellicle film in a pellicle manufacturing process. It is characterized by performing simultaneously using a cutter and a solvent capable of dissolving the pellicle film, for example, by moving the cutter inserted in the pellicle film along the outer periphery of the pellicle film adhesion part on the pellicle frame, When a solvent capable of dissolving the pellicle film is dropped onto the cutter, the cutter and the solvent provide an advantage that the unnecessary film is efficiently cut and removed without causing stains or the like.

【0009】本発明において切断除去するペリクル膜の
種類には特に制限はなく、これには従来使用されている
ニトロセルロース、酢酸セルロース、プロピオン酸セル
ロース、非晶質フッ素ポリマーなどが例示される。ま
た、ここに使用されるカッターについてはその形状、寸
法(厚さ)、材質などに特に制限はなく、これはペリク
ル膜に挿入し易い形状とすることから、例えば先端部が
鋭角であり、溶媒によって溶解されたり、変質しない材
質からなるものとすることが望ましい。なお、このもの
の刃部の膜中への挿入条件は、フレーム内側から見て90
度より大きく、 180度より小さければ特に制限はない
が、フレーム端部に通常設けられる糸面の角度(45度)
と同じにすることが好ましく、この刃部の設置例は例え
ば図1に示したようにすればよい。
In the present invention, the type of the pellicle film to be cut and removed is not particularly limited, and examples thereof include conventionally used nitrocellulose, cellulose acetate, cellulose propionate, amorphous fluoropolymer and the like. Further, the shape, size (thickness), material, etc. of the cutter used here are not particularly limited, and since the shape is such that it can be easily inserted into the pellicle film, for example, the tip has an acute angle and the solvent It is desirable to use a material that does not dissolve or deteriorate due to. The conditions for inserting this blade into the membrane are 90 ° when viewed from the inside of the frame.
There is no particular limitation as long as it is greater than 180 degrees and less than 180 degrees, but the angle of the thread surface (45 degrees) that is usually provided at the end of the frame
It is preferable to make the same as the above, and an example of installation of this blade portion may be as shown in FIG. 1, for example.

【0010】つぎにここに使用する溶媒についてはこれ
が切断除去するペリクル膜を溶解するものであれば特に
制限はなく、これは例えばニトロセルロース、エチルセ
ルロース、プロピオン酸セルロース、アセチルセルロー
スなどをペリクル膜として使用する場合には、酢酸ブチ
ル、乳酸エチル、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル
セロソルブなどの溶媒が使用できる。また、ペリクル膜
が非晶質フッ素系ポリマー、例えばテフロンAF(米国
デュポン社製商品名)、サイトップ[旭硝子(株)製商
品名]を使用したものであるときには、フロリナート
(スリーエム社製商品名)、CTソルブ[旭硝子(株)
製商品名]などのフッ素系溶媒を使用することができ
る。
Next, the solvent used here is not particularly limited as long as it dissolves the pellicle membrane to be cut and removed. For example, nitrocellulose, ethyl cellulose, cellulose propionate, acetyl cellulose or the like is used as the pellicle membrane. In this case, a solvent such as butyl acetate, ethyl lactate, methyl isobutyl ketone or ethyl cellosolve acetate can be used. When the pellicle film is made of an amorphous fluoropolymer such as Teflon AF (trade name manufactured by DuPont, USA) and Cytop [trade name manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.], Fluorinert (trade name manufactured by 3M Co., Ltd.) ), CT Solve [Asahi Glass Co., Ltd.
Fluorine-based solvent such as product name] can be used.

【0011】なお、この溶媒の沸点については特に制限
はないが、これが80℃より低いと室温での蒸発速度が速
く滴下量の制御が困難になるし、 180℃より沸点が高い
と、溶媒の蒸発速度が著しく遅くなり、フレームやペリ
クル膜にシミ汚れを発生させる原因となるばかりでな
く、接着部のペリクル膜を徐々に溶解して接着不良を起
こしたり、溶媒が蒸発せずに残留するので、これは好ま
しくは80℃以上、 180℃以下のものとすることがよい。
The boiling point of this solvent is not particularly limited, but if it is lower than 80 ° C., the evaporation rate at room temperature is fast and it becomes difficult to control the dropping amount, and if it is higher than 180 ° C. The evaporation rate slows down significantly, which not only causes stains on the frame and pellicle film, but also gradually dissolves the pellicle film at the adhesion part to cause adhesion failure and the solvent remains without evaporating. It is preferably 80 ° C or higher and 180 ° C or lower.

【0012】また、ペリクルフレーム上のペリクル膜接
着部の外周部に沿ってペリクル膜に挿入したカッターを
移動させる方法としては、手動でカッターを移動させる
方法、機械的に移動させる方法があるが、不要膜除去時
にペリクル膜上に異物が付着する事を防止するために
は、機械的に移動させる事が好ましい。機械的にカッタ
ーを移動させる方法としては、切断対象をXYZθステ
ージ上に乗せて固定したカッターによって切断する方
法、スカラーロボットの先端にカッターを取り付けて切
断する方法、SAM(6軸マニピュレータ)の先端にカ
ッターを取り付けて切断する方法などがある。なお、カ
ッターに溶媒を滴下する方法としては、特に制限はな
く、エアー式のマイクロディスペンサーやチューブ式の
マイクロディスペンサー、自然滴下、マイクロシリンジ
を用いた手動滴下等どのような方法でも行う事が出来る
が、好ましくは、機械的に滴下する方法が滴下液量の制
御性の点で望ましい。
As a method of moving the cutter inserted in the pellicle film along the outer periphery of the pellicle film bonding portion on the pellicle frame, there are a method of manually moving the cutter and a method of mechanically moving the cutter. In order to prevent foreign matter from adhering to the pellicle film when removing the unnecessary film, it is preferable to move it mechanically. As a method of mechanically moving the cutter, a cutting target is placed on an XYZθ stage and fixed by a cutter, a cutter is attached to the tip of a scalar robot to cut, and a tip of a SAM (6-axis manipulator) is attached. There is a method of attaching a cutter and cutting. The method of dropping the solvent on the cutter is not particularly limited, and any method such as air type microdispenser or tube type microdispenser, natural dropping, manual dropping using a microsyringe can be performed. A mechanical dropping method is preferable from the viewpoint of controllability of the dropping liquid amount.

【0013】[0013]

【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例をあげる。 実施例1 テフロンAF1600(米国デュポン社製商品名)をフッ素
系溶剤・フロリナートFC−75(米国スリーエム社商品
名)に溶解させて濃度8%の溶液を調製し、この溶液を
直径 200mm、厚さ 600μmの鏡面研磨したシリコン基板
面にスピンコーターを用いて塗布してここに膜の厚みが
0.8μmの透明膜を形成させたのち、この膜上に外寸 2
00mm× 200mm×5mm幅、厚さ5mmの枠を、エポキシ系接
着剤アラルダイトラピッド[昭和高分子(株)製商品
名]を用いて接着してから、これを水中で剥離してペリ
クル膜を作製した。
EXAMPLES Next, examples and comparative examples of the present invention will be described. Example 1 Teflon AF1600 (trade name, manufactured by DuPont, USA) was dissolved in a fluorine solvent, Fluorinert FC-75 (trade name, manufactured by 3M, USA) to prepare a solution having a concentration of 8%. This solution had a diameter of 200 mm and a thickness of 200 mm. The surface of a 600 μm mirror-polished silicon substrate is coated using a spin coater and the film thickness is
After forming a 0.8 μm transparent film, the outer dimension 2
A frame with a width of 00 mm × 200 mm × 5 mm and a thickness of 5 mm is bonded using an epoxy adhesive Araldite Rapid [trade name of Showa High Polymer Co., Ltd.] and then peeled in water to form a pellicle film. did.

【0014】ついで、この成膜したテフロンAF1600の
膜面に、フレーム外寸 100mm× 100mm×5mm、フレーム
厚さ4mmのアルミニウム合金製フレームを、エポキシ系
接着剤アラルダイトラピッド(前出)を用いて接着し、
この二つのフレームはペリクルフレームの接着面を上向
きにして固定用の治具に取り付けて相対的に位置がずれ
ないように固定し、これにはまた膜切断用の厚さ0.25mm
のステンレス製カッターをスカラーロボットに取り付け
た。
Next, an aluminum alloy frame having an outer frame size of 100 mm × 100 mm × 5 mm and a frame thickness of 4 mm is bonded to the film surface of the formed Teflon AF1600 using an epoxy adhesive Aralday Rapid (described above). Then
These two frames are attached to a fixing jig with the adhesive surface of the pellicle frame facing upwards and fixed so that their relative positions do not shift, and this also has a thickness of 0.25 mm for film cutting.
The stainless steel cutter of was attached to the scalar robot.

【0015】つぎに、このカッターにチューブ式ディス
ペンサーを用いて、前記したフッ素系溶剤・フロリナー
トFC−75を毎分10マイクロリットル滴下しながら、前
記ペリクルフレームの接着剤部分の周辺部に沿ってカッ
ターを移動しながら、ペリクルフレーム外側の不要膜部
分を切断除去し、この不要膜部分を除去して得られたペ
リクルの膜上の異物を、集光ランプ(40万ルクス)を用
いて、暗室内において測定したところ、 0.3μm以上の
異物は認められず、またペリクルフレームの側面上を10
倍の実体顕微鏡によって観察したが、液の垂れや異物の
付着は認められなかったし、膜切断面を 100倍の実体顕
微鏡によって観察したが、傷やささくれ立ちは認められ
なかった。
Next, using a tube type dispenser for this cutter, while dropping 10 microliters of the above-mentioned fluorine-based solvent, Fluorinert FC-75, per minute along the peripheral portion of the adhesive portion of the pellicle frame, While moving, remove the unnecessary film part outside the pellicle frame, and remove the foreign matter on the pellicle film obtained by removing this unnecessary film part using a condensing lamp (400,000 lux) in the dark room. At the time of measurement, no foreign matter of 0.3 μm or more was observed, and 10
Observed with a stereoscopic microscope, no dripping of liquid or adhesion of foreign matter was observed, and the cut surface of the membrane was observed with a 100 × stereoscopic microscope, but no scratches or fraying was observed.

【0016】比較例1 テフロンAF1600(前出)をフッ素系溶剤・フロリナー
トFC−75(前出)に溶解させて濃度8%の溶液を調製
し、この溶液を直径 200mm、厚さ 600μmの鏡面研磨し
たシリコン基板上に、スピンコーターを用いて塗布して
ここに膜の厚みが 0.8μmの透明膜を形成させたのち、
この膜上に外寸 200mm× 200mm×5mm幅、厚さ5mmの枠
を、エポキシ系接着剤アラルダイトラピッド(前出)を
用いて接着してからこれを水中で剥離してペリクル膜を
作製した。
Comparative Example 1 Teflon AF1600 (described above) was dissolved in a fluorine-based solvent, Fluorinert FC-75 (described above) to prepare a solution having a concentration of 8%, and this solution was mirror-polished with a diameter of 200 mm and a thickness of 600 μm. After coating with a spin coater on the aforesaid silicon substrate to form a transparent film with a film thickness of 0.8 μm,
A frame having an outer size of 200 mm × 200 mm × 5 mm width and a thickness of 5 mm was adhered on this film using an epoxy adhesive Araldite Rapid (described above), and this was peeled in water to prepare a pellicle film.

【0017】ついで、この成膜したテフロンAF1600の
膜表面にフレーム外寸 100mm× 100mm×5mm、フレーム
厚さ4mmのアルミニウム合金製フレームを、エポキシ系
接着剤アラルダイトラピッド(前出)を用いて接着し、
この二つのフレームはペリクルフレームの接着面を上向
きにして固定用の治具に取り付けて相対的に位置がずれ
ないように固定し、これにはまた膜切断用器具としてX
YZ自動ステージを用意し、前記フレームをこの固定治
具ごと自動ステージ上に固定した。
Then, an aluminum alloy frame having a frame outer dimension of 100 mm × 100 mm × 5 mm and a frame thickness of 4 mm is adhered to the film surface of the formed Teflon AF1600 using an epoxy adhesive Aralday Rapid (described above). ,
These two frames are attached to a fixing jig with the adhesive surface of the pellicle frame facing upward, and fixed so that their relative positions do not shift.
A YZ automatic stage was prepared and the frame was fixed on the automatic stage together with the fixing jig.

【0018】つぎに、ステージ上部ペリクル膜から 0.3
mmの位置にチューブ式ディスペンサーのチューブ先端を
設置し、ステージをチューブ式ディスペンサーのチュー
ブ先端がフレームに沿って相対的に移動する様に動か
し、前記したフッ素系溶剤・フロリナートFC−75(前
出)を毎分10マイクロリットル滴下しながら、前記ペリ
クルフレームの接着剤部分の周辺部に沿って移動させて
ペリクルフレーム外側の不要膜部分を切断除去し、不要
膜部分を除去して得られたペリクルの膜上の異物を、集
光ランプ(40万ルクス)を用いて、暗室内において測定
したところ、 0.3μm以上の異物数は認められず、また
切断面を 100倍の実微鏡によって観察したところ、傷や
ささくれ立ちは認められなかったが、しかし、ペリクル
フレームの側面上を10倍の実体顕微鏡によって観察した
ところ、これには液の垂れと溶解した膜の残査と思われ
る異物の付着が認められた。
Next, from the stage upper pellicle film, 0.3
Install the tube tip of the tube type dispenser at the position of mm, move the stage so that the tube tip of the tube type dispenser moves relatively along the frame, and use the above-mentioned fluorine-based solvent Fluorinert FC-75 (previously mentioned). While dropping 10 microliters per minute, by moving along the peripheral portion of the adhesive portion of the pellicle frame, the unnecessary film portion outside the pellicle frame is cut and removed, and the unnecessary film portion is removed. When foreign matter on the film was measured in a dark room using a concentrating lamp (400,000 lux), the number of foreign matter of 0.3 μm or more was not observed, and the cut surface was observed with a 100 × microscope. No scratches or blistering were observed, but when observing the side of the pellicle frame with a 10X stereomicroscope, it was found that the liquid drips. Adhesion of foreign matter seems residue of the dissolved film was observed.

【0019】実施例2 サイトップ CTX809SP2[旭硝子(株)製商品名]をフッ
素系溶剤CT-SOLV. 180[旭硝子(株)製商品名]に溶解
させて濃度3%の溶液を調製し、この溶液を直径 200m
m、厚さ 600μmの鏡面研磨したシリコン基板面上に、
スピンコーターを用いて塗布して膜の厚みが 0.8μmの
透明膜を形成させたのち、この膜上に外寸200mm× 200m
m×5mm幅、厚さ5mmの枠を、エポキシ系接着剤アラル
ダイトラピッド(前出)を用いて接着してから水中で剥
離してペリクル膜を作製した。
Example 2 CYTOP CTX809SP2 [trade name of Asahi Glass Co., Ltd.] was dissolved in a fluorine solvent CT-SOLV. 180 [trade name of Asahi Glass Co., Ltd.] to prepare a solution having a concentration of 3%. 200m diameter of solution
m, 600 μm thick on a mirror-polished silicon substrate surface,
After coating with a spin coater to form a transparent film with a film thickness of 0.8 μm, the outer dimensions of this film are 200 mm x 200 m.
A pellicle film was prepared by adhering a frame having a width of 5 mm and a thickness of 5 mm using an epoxy adhesive Araldite Rapid (described above) and peeling the frame in water.

【0020】ついで、この成膜したサイトップ CTX809S
P2の膜表面に、フレーム外寸 100mm× 100mm×5mm、フ
レーム厚さ4mmのアルミニウム合金製フレームを、エポ
キシ系接着剤アラルダイトラピッド(前出)を用いて接
着し、この二つのフレームはペリクルフレームの接着面
を上向きにして固定用の治具に取り付けて相対的に位置
がずれないように固定し、これにはまた別に膜切断用治
具スカラーロボットに厚さ0.25mmのステンレス製カッタ
ーを取りつけた。
Then, this film-formed CYTOP CTX809S
An aluminum alloy frame with outer dimensions of 100 mm × 100 mm × 5 mm and a frame thickness of 4 mm is bonded to the P2 film surface using the epoxy adhesive Aralday Rapid (described above), and these two frames are the same as the pellicle frame. It was attached to a fixture for fixing with the adhesive surface facing upward and fixed so that the relative position did not shift, and a 0.25 mm thick stainless steel cutter was attached to the film cutting jig scalar robot. .

【0021】つぎに、このカッターにチューブ式ディス
ペンサーを用いて、フッ素系溶剤・CT-SOLV100[旭硝子
(株)製商品名]を毎分10マイクロリットル滴下しなが
ら、前記ペリクルフレームの接着剤部分の周辺部に沿っ
てカッターを移動しながら、ペリクルフレーム外側の不
要膜部分を切断除去し、この不要膜部分を除去して得ら
れたペリクルの膜上の異物を、集光ランプ(40万ルク
ス)を用いて、暗室内において測定したところ、 0.3μ
m以上の異物数は認められず、またペリクルフレームの
側面上を10倍の実体顕微鏡によって観察したが、液の垂
れや異物の付着は認められなかったし、膜切断面を 100
倍の実体顕微鏡によって観察したが、傷やささくれ立ち
は認められなかった。
Next, using a tube type dispenser for this cutter, while dripping 10 microliters of a fluorine-based solvent, CT-SOLV100 [trade name of Asahi Glass Co., Ltd.] per minute, the adhesive portion of the pellicle frame was removed. While moving the cutter along the peripheral part, the unnecessary film portion outside the pellicle frame is cut and removed, and the foreign matter on the pellicle film obtained by removing this unnecessary film portion is collected by a concentrating lamp (400,000 lux). When measured in a dark room using
The number of foreign matter of more than m was not observed, and the side surface of the pellicle frame was observed with a stereoscopic microscope at 10 times. No liquid dripping or foreign matter was observed.
Observation with a stereoscopic microscope with a double magnification revealed no scratches or fraying.

【0022】比較例2 サイトップ CTX809SP2(前出)をフッ素系溶剤CT-SOLV.
180(前出)に溶解させて濃度3%の溶液を調製し、こ
の溶液を直径 200mm、厚さ 600μmの鏡面研磨したシリ
コン基板上にスピンコーターを用いて塗布して、膜の厚
みが 0.8μmの透明膜を形成させたのち、この膜上に外
寸 200mm× 200mm×5mm幅、厚さ5mmの枠を、エポキシ
系接着剤アラルダイトラピッド(前出)を用いて接着し
てから水中で剥離してペリクル膜を作製した。
Comparative Example 2 CYTOP CTX809SP2 (described above) was used as a fluorine-based solvent CT-SOLV.
A solution with a concentration of 3% was prepared by dissolving it in 180 (above), and this solution was applied onto a mirror-polished silicon substrate with a diameter of 200 mm and a thickness of 600 μm using a spin coater, and the film thickness was 0.8 μm. After forming the transparent film, a frame with an outer size of 200 mm × 200 mm × 5 mm and a thickness of 5 mm is adhered to this film using the epoxy adhesive Aralday Rapid (described above) and then peeled off in water. To produce a pellicle film.

【0023】ついで、このペリクル膜にフレーム外寸 1
00mm× 100mm×5mm、フレーム厚さ4mmのアルミニウム
合金製フレームを、エポキシ系接着剤アラルダイトラピ
ッド(前出)を用いて接着し、この二つのフレームはペ
リクルフレームの接着面を上向きにして固定用の治具に
取り付けて相対的に位置がずれないように固定し、これ
にはまた、別に膜切断用の器具としてXYZ自動ステー
ジを用意し、前記フレームを固定治具ごと自動ステージ
上に固定した。
Then, the outer dimensions of the frame are attached to the pellicle film 1
An aluminum alloy frame with a size of 00 mm × 100 mm × 5 mm and a frame thickness of 4 mm is adhered using an epoxy adhesive Aralday Rapid (described above), and these two frames are fixed with the adhesive surface of the pellicle frame facing up. It was attached to a jig and fixed so that the relative position did not shift. Further, an XYZ automatic stage was separately prepared as an instrument for film cutting, and the frame was fixed together with the fixing jig on the automatic stage.

【0024】つぎに、ステージ上部ペリクル膜から 0.3
mmの位置にチューブ式ディスペンサーのチューブ先端を
設置し、ステージをチューブ式ディスペンサーのチュー
ブ先端がフレームに沿って相対的に移動する様に動か
し、CT-SOLV100(前出)を毎分10マイクロリットル滴下
しながら、前記ペリクルフレームの接着剤部分の周辺部
に沿って移動させてペリクルフレーム外側の不要膜部分
を切断除去し、この不要膜部分を除去して得られたペリ
クルの膜上の異物を、集光ランプ(40万ルクス)を用い
て、暗室内において測定したところ、 0.3μm以上の異
物数は認められず、また膜切断面を 100倍の顕微鏡によ
って観察したところ、傷やささくれ立ちは認められなか
ったが、しかし、ペリクルフレームの側面上を10倍の実
体顕微鏡によって観察したところ、これには液の垂れと
溶解した膜の残査と思われる異物の付着が認められた。
Next, from the stage upper pellicle film, 0.3
Install the tube tip of the tube type dispenser at the position of mm, move the stage so that the tube tip of the tube type dispenser moves relatively along the frame, and drop 10 microliters of CT-SOLV100 (mentioned above) per minute. However, the unnecessary film portion outside the pellicle frame is cut and removed by moving along the peripheral portion of the adhesive portion of the pellicle frame, and the foreign matter on the pellicle film obtained by removing the unnecessary film portion is removed. When measured in a dark room using a concentrating lamp (400,000 lux), the number of foreign matter of 0.3 μm or more was not observed, and when observing the cut surface of the film with a microscope of 100 times, scratches and fraying were recognized. However, when observed on the side surface of the pellicle frame with a 10 × stereoscopic microscope, it was found that the liquid drips and the residue of the dissolved film remained. Adhesion of objects was recognized.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明ペリクルの製造方法によれば、
ペリクル不要膜の切断時に供給する溶媒の制御が容易で
あることから、ペリクル不要膜を発塵無く切断除去でき
るだけでなく、従来切断時に発生していたペリクル膜上
やペリクルフレーム上のシミや汚れの無いペリクルを得
る事が出来る。
According to the pellicle manufacturing method of the present invention ,
It is easy to control the solvent supplied when cutting the pellicle-free film.
As a result , not only can the pellicle unnecessary film be cut and removed without dust generation, but also a pellicle that is free from stains and stains on the pellicle film and pellicle frame that have been generated during conventional cutting can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による不要膜除去のための刃部の設置例
の縦断面図を示したものである。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view of an installation example of a blade portion for removing an unnecessary film according to the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−145292(JP,A) 特開 昭63−191619(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 1/14 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-2-145292 (JP, A) JP-A-63-191619 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G03F 1/14

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ペリクル製造における不要膜除去の工程
において、ペリクル膜を溶解可能な溶媒をカッターに滴
下し、不要膜の除去をカッターと該溶媒とを同時に用い
て行なうことを特徴とするペリクルの製造方法。
1. A solvent capable of dissolving a pellicle film is dropped onto a cutter in a process of removing an unnecessary film in pellicle production.
And a method of manufacturing a pellicle, wherein the unnecessary film is removed by using a cutter and the solvent at the same time.
【請求項2】 該溶媒の沸点が、80℃以上180℃以2. The boiling point of the solvent is 80 ° C. or higher and 180 ° C. or lower.
下である請求項1に記載のペリクルの製造方法。The method for producing a pellicle according to claim 1, which is below.
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