JP3422990B2 - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JP3422990B2
JP3422990B2 JP2001040003A JP2001040003A JP3422990B2 JP 3422990 B2 JP3422990 B2 JP 3422990B2 JP 2001040003 A JP2001040003 A JP 2001040003A JP 2001040003 A JP2001040003 A JP 2001040003A JP 3422990 B2 JP3422990 B2 JP 3422990B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は主として電子計算機
やワークステーションなどの外部記憶装置として用いら
れる磁気ディスク装置の主要部品である磁気ヘッドにか
かわり、特に耐摺動性にすぐれ、かつ磁気ディスクの摩
耗をも軽減できる磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head which is a main component of a magnetic disk device mainly used as an external storage device such as an electronic computer or a workstation, and is particularly excellent in sliding resistance and wear of the magnetic disk. The present invention also relates to a magnetic head that can reduce

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスク、フロッピー(登録商標)
ディスク、磁気テープなどの磁気記録技術を利用した記
憶装置は計算機やワークステーションなどの外部記憶装
置として広く用いられており、近年の情報量の増大に伴
ってますます大容量のものが要求されている。
2. Description of the Related Art Magnetic disk, floppy (registered trademark)
Storage devices that use magnetic recording technology such as disks and magnetic tapes are widely used as external storage devices such as computers and workstations, and with the increase in the amount of information in recent years, an ever-increasing capacity is demanded. There is.

【0003】一方で装置の形状は、より小型、軽量のも
のが望まれており、これらを両立させるには記録媒体の
飛躍的な記録密度向上が不可欠となっている。例えば磁
気ディスク(以下、ディスクと略称)を記録媒体とする装
置では、従来は磁気ヘッド(以下、ヘッドと略称)がディ
スクから一定の浮上スペースをもって浮上しており、こ
れによって高速なリード・ライトを行うと共にヘッドが
媒体をこするために生ずる媒体の摩耗破壊を防いでい
る。
On the other hand, the shape of the device is desired to be smaller and lighter, and in order to achieve both of them, it is essential to dramatically improve the recording density of the recording medium. For example, in an apparatus that uses a magnetic disk (hereinafter, abbreviated as disk) as a recording medium, a magnetic head (hereinafter, abbreviated as head) is conventionally levitated from the disk with a certain floating space, which enables high-speed read / write. In addition, the head prevents abrasion damage of the medium caused by rubbing the medium.

【0004】しかし、記録密度向上のためには前記の浮
上スペースをさらに下げヘッドをより媒体に近付けなけ
ればならず、ヘッド姿勢の変動や媒体面の凹凸、回転時
のうねりなどによってヘッドとディスクの接触の頻度が
ますます増えてくると予想される。また、究極的にはヘ
ッドとディスクが常に接触状態にあるような、いわゆる
コンタクトレコーディングの様な駆動方法も必要となっ
てくる。
However, in order to improve the recording density, it is necessary to further lower the flying space to bring the head closer to the medium, and the head and the disk may be changed due to variations in the head posture, unevenness of the medium surface, and waviness during rotation. It is expected that the frequency of contact will increase more and more. Ultimately, a driving method such as so-called contact recording in which the head and the disk are always in contact with each other is also required.

【0005】さらに、記録再生を高速に行うためにはデ
ィスクの回転速度も現状よりさらに高速となる。以上の
ことを考慮すると、ヘッド、ディスク共にこのような高
速での接触時の摩耗や損傷を防ぎかつ摩擦係数を低く保
つような工夫が必要であることはいうまでもない。
Further, in order to perform recording / reproducing at high speed, the rotation speed of the disk becomes higher than the current one. In consideration of the above, it goes without saying that it is necessary to devise both the head and the disk to prevent such abrasion and damage at the time of contact at high speed and keep the friction coefficient low.

【0006】上記の事情に鑑み従来からも磁気記録媒体
の表面を保護するために各種の工夫がなされてきた。例
えば、グラファイトをスパッタリングすることによって
得られるカーボン膜、SiO2膜、セラミックス系薄膜
などを保護膜として被覆する試みがなされている。これ
らの保護膜は主として磁気記録媒体の表面を摩耗から防
ぎ、かつヘッドとの摺動時の摩擦係数を低く保つことを
目的としている。
In view of the above circumstances, various measures have been conventionally made to protect the surface of the magnetic recording medium. For example, attempts have been made to coat a carbon film, a SiO 2 film, a ceramics-based thin film, etc. obtained by sputtering graphite as a protective film. The purpose of these protective films is mainly to prevent the surface of the magnetic recording medium from being worn and to keep the friction coefficient at the time of sliding with the head low.

【0007】しかし、磁気記録媒体の摩耗を防ぐために
その強度を強くすればするほど、これと摺動する磁気ヘ
ッドの摩耗が促進され、摩耗粉の多量発生やヘッド表面
形状の変化を招き、結果として磁気記録装置自身の信頼
性が思ったほど向上しないということが問題となってき
た。
However, as the strength of the magnetic recording medium is increased in order to prevent it from being worn, the wear of the magnetic head that slides with the magnetic recording medium is promoted, resulting in the generation of a large amount of wear powder and the change in the head surface shape. As a result, it has been a problem that the reliability of the magnetic recording device itself is not improved as much as expected.

【0008】一方、磁気ヘッドの耐摺動性向上の点から
も被摺動部に保護層を設けることは知られており、例え
ば特開昭56−107326号公報にはポリビニルアル
キルエーテルからなる樹脂層を設けることが示されてい
る。このようなことは当然考えられるものであるが、実
際にはヘッドのスライダ面は浮上中を除いて常にディス
ク面と接触しており、摩耗の度合いが著しいので上記の
保護層はすぐに摩耗消失してしまい、保護効果がなくな
るばかりでなく、これによって生じた摩耗粉がディスク
やヘッドに付着し、かえってクラッシュの原因となるな
ど、実用にならないものであった。
On the other hand, it is known that a sliding layer is provided with a protective layer also from the viewpoint of improving the sliding resistance of the magnetic head. For example, JP-A-56-107326 discloses a resin made of polyvinyl alkyl ether. It is shown to provide layers. This is naturally conceivable, but in reality, the slider surface of the head is always in contact with the disk surface except during flying, and the degree of wear is significant, so the protective layer immediately wears away. Not only is the protective effect lost, the abrasion powder generated by this adheres to the disk and head, causing a crash, which is not practical.

【0009】また、ヘッドコアの摺動面に非晶質炭素膜
やダイヤモンド構造炭素膜、あるいはこれらの混合物か
らなるカーボン膜を保護膜として被覆する提案もなされ
ており、これらに関連するものとして例えば、特開昭6
0−193112号、特開昭63−58613号、特開
昭63−222314号公報等が挙げられる。
Further, it has been proposed to coat the sliding surface of the head core with an amorphous carbon film, a diamond-structured carbon film, or a carbon film made of a mixture thereof as a protective film. JP-A-6
No. 0-193112, JP-A-63-58613, JP-A-63-222314 and the like.

【0010】確かにこれらカーボン膜を保護膜とした場
合は、樹脂層を設けた前者の場合に比較して優れた膜強
度を有しているが、実用化する上ではまだ耐摩耗性が不
十分であったり、摺動時に摩耗粉がでてかえってクラッ
シュの原因になるなどの問題点があった。
Certainly, when these carbon films are used as protective films, the film strength is superior to the former case in which the resin layer is provided, but in practical use, the abrasion resistance is still insufficient. There were problems such as being sufficient and causing abrasion powder when sliding and causing a crash.

【0011】特に上記の公知例はいずれもヘッドの素子
部を保護する目的で形成されたものであり、素子の表面
を覆うように形成されている。したがって、十分な寿命
を得るためには保護層を厚くせざるを得ず、厚くすると
ヘッド素子と記録媒体との間のギャップが広がり、高記
録密度にできないという欠点を持っていた。
In particular, all of the above known examples are formed for the purpose of protecting the element portion of the head, and are formed so as to cover the surface of the element. Therefore, in order to obtain a sufficient life, the protective layer must be thickened, and if it is thickened, the gap between the head element and the recording medium is widened, and the high recording density cannot be achieved.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は従来の炭素膜を保護膜とした場合の問題点を解消
することにあり、ヘッドと磁気ディスクとの双方の摺動
部における損傷を防ぎ、かつ摺動時の摩擦係数の変化を
小さくすることを可能とする改良された磁気ヘッドを提
供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to solve the problems in the conventional case where a carbon film is used as a protective film, and to prevent damage to the sliding parts of both the head and the magnetic disk. It is an object of the present invention to provide an improved magnetic head which is capable of preventing and reducing the change in friction coefficient during sliding.

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的のためには磁気
ヘッドが搭載されるスライダ摺動部に超薄膜でも耐摩耗
性が高くしかも摩耗粉が発生しにくく、かつ記録媒体へ
のダメージも少なくなるような材料を用いた保護層を形
成するのがよい。
To achieve the above object, even in an ultra-thin film, the slider sliding portion on which the magnetic head is mounted has high wear resistance, less abrasion powder is generated, and less damage to the recording medium. It is preferable to form a protective layer using such a material.

【0015】例えば、回転するディスク上にヘッドが浮
上するフローティングタイプのヘッドを備えた固定型磁
気ディスク装置の場合では、装置の起動停止の際にヘッ
ドとディスクは20〜40m/secという高速で摺動
し、動作時は0.1〜0.3μmという狭い間隔スペース
を保って浮上している。したがって、上記保護層はこの
浮上間隔スペースに大きく影響しないような厚さでなけ
ればならず、しかも上記摺動を何万回も繰り返しても摩
耗により特性が落ちないようにしなければならない。
For example, in the case of a fixed type magnetic disk apparatus having a floating type head in which the head floats above a rotating disk , the head and the disk slide at a high speed of 20 to 40 m / sec when the apparatus is started and stopped. It moves and floats with a narrow space of 0.1-0.3 μm maintained during operation. Therefore, the protective layer must have a thickness that does not significantly affect the floating space, and the characteristics must not be deteriorated by abrasion even if the sliding is repeated tens of thousands of times.

【0016】ヘッドの摺動部に保護層を設けることが容
易に実現しないのは、正に上記のような条件を満たす適
切な保護層材料がなかったからにほかならない。本発明
者らは各種の材料でコーティングを試み、種々実験検討
の結果、特定のカーボン系保護膜が上記目的に適してい
るという知見を得た。
The provision of the protective layer on the sliding portion of the head cannot be easily realized because there is no suitable protective layer material that satisfies the above conditions. The present inventors have tried coating with various materials, and as a result of various experimental studies, they have found that a specific carbon-based protective film is suitable for the above purpose.

【0017】本発明は、かかる知見に基づいて為された
ものであり、その具体的な目的達成手段につき以下に順
次説明する。
The present invention has been made on the basis of such findings, and specific means for achieving the object will be described below in order.

【0018】上記本発明の目的は、磁気記録再生素子の
搭載されたスライダが回転する磁気ディスク上を浮上す
るフローティングタイプの磁気ヘッドにおいて、前記ス
ライダの摺動面に格子形状を有する非晶質炭素薄膜が形
成されて成ることを特徴とする磁気ヘッドにより、達成
される。また、上記本発明の目的は、磁気記録再生素子
の搭載されたスライダが回転する磁気ディスク上を浮上
するフローティングタイプの磁気ヘッドにおいて、前記
スライダが酸化ジルコニアまたはアルミナ含有チタンカ
ーバイドであって、前記スライダの摺動面に近接して、
しかも非摺動面を形成するように前記磁気記録再生素子
が配置され、前記スライダの摺動面に格子形状を有する
非晶質炭素薄膜が形成されて成ることを特徴とする磁気
ヘッドによっても、達成される。
An object of the present invention is to provide a floating type magnetic head in which a slider on which a magnetic recording / reproducing element is mounted is levitated on a rotating magnetic disk, and an amorphous carbon having a lattice shape on a sliding surface of the slider. This is achieved by a magnetic head characterized in that a thin film is formed. Another object of the present invention is to provide a floating type magnetic head in which a slider on which a magnetic recording / reproducing element is mounted flies over a rotating magnetic disk, wherein the slider is a titanium oxide containing zirconia or alumina.
A slider, close to the sliding surface of the slider,
Moreover, the magnetic recording / reproducing element is arranged so as to form a non-sliding surface, and an amorphous carbon thin film having a lattice shape is formed on the sliding surface of the slider. To be achieved.

【0019】本発明における保護膜は主として炭素から
なる硬質かつ非晶質の薄膜であり、これを例えば1μm
以上の厚さに形成した場合はマイクロビッカース硬さに
して約1500Hv以上、密度にして1.7〜2.4とな
るものでり、また水素を含む場合はその原子数比率が3
〜30原子%のものである。上記の範囲以外の皮膜は柔
らかく、摩耗速度が大きいか、脆く壊れやすいため好ま
しくない。
The protective film in the present invention is mainly made of carbon.
It is a hard and amorphous thin film of
When formed to the above thickness, the micro Vickers hardness
It is about 1500 Hv or more, and the density is 1.7 to 2.4.
If it contains hydrogen, its atomic ratio is 3
˜30 atom%. Films outside the above range are soft
However, it is preferred because it has a high wear rate or is brittle and fragile.
Not good.

【0020】[0020]

【0021】[0021]

【0022】ここで、上記本発明の特徴ある炭素薄膜に
ついて本発明者等が得た知見につき更に詳述すると以下
の通りである。
The findings obtained by the inventors of the present invention regarding the above-mentioned characteristic carbon thin film of the present invention will be described in more detail below.

【0023】上記の非晶質炭素薄膜については、特にカ
ーボン系の中でも炭化水素ガスをプラズマ中で分解し、
負のバイアス電圧のかかる基板に堆積させることにより
形成される非晶質水素化カーボン膜がよいことがわかっ
た。これはプラズマCVDと称される周知の成膜技術で
あるが、また、これと同様に炭化水素をイオン化して負
のバイアス電圧のかかる基板に引き付け成膜する所謂イ
オンビームデポジションも有効であった。これらの成膜
法で得られた材料は硬度が高い上にクラックが発生しに
くく、摩擦係数も低く、かつ摩耗粉が発生しにくいとい
う、本発明に最も適した性質を有している。また、摩耗
速度がきわめて小さいためにごく薄い膜でも大きな効果
を発揮することができる。
Regarding the above - mentioned amorphous carbon thin film, hydrocarbon gas is decomposed in plasma, especially among carbonaceous materials,
It has been found that an amorphous hydrogenated carbon film formed by deposition on a substrate with a negative bias voltage is good. This is a well-known film forming technique called plasma CVD, but similarly, so-called ion beam deposition in which hydrocarbons are ionized and attracted to a substrate to which a negative bias voltage is applied to form a film is also effective. It was The materials obtained by these film forming methods have high hardness, are resistant to cracking, have a low friction coefficient, and are unlikely to generate abrasion powder, which are the most suitable properties for the present invention. Further, since the wear rate is extremely low, a great effect can be exhibited even with a very thin film.

【0024】この非晶質水素化カーボン膜は、前述のと
おり適量の水素を含有するが、この水素含有量のコント
ロールはCVD条件、例えば原料ガス圧、プラズマを発
生させる際に投入する電力等を適切に制御すれば容易に
行なうことができる。水素は炭化水素が分解して炭素膜
になる際に、大部分は分解脱離するが一部は膜中にトラ
ップされ、炭素鎖の末端に結合して膜を安定化する効果
を持つと考えられる。
This amorphous hydrogenated carbon film contains an appropriate amount of hydrogen as described above, and the control of the hydrogen content depends on the CVD conditions such as the source gas pressure and the electric power supplied when generating plasma. With proper control, this can be done easily. When hydrogen is decomposed into a carbon film, most of the hydrogen is decomposed and desorbed, but part of it is trapped in the film, and it is thought that hydrogen has the effect of binding to the end of the carbon chain and stabilizing the film. To be

【0025】また、上記の微細な凹凸面を有する炭素薄
膜については、前記の非晶質水素化カーボン薄膜が好ま
しいが、これに限らず例えばダイヤモンド微結晶を含む
炭素系薄膜であっても良い。重要なのは微細な凹凸を有
する炭素系薄膜を摺動部に形成することである。
The above-mentioned carbon thin film having a fine uneven surface is preferably the above - mentioned amorphous hydrogenated carbon thin film, but not limited to this, it may be, for example, a carbon-based thin film containing diamond microcrystals. What is important is to form a carbon-based thin film having fine irregularities on the sliding portion.

【0026】このようにして形成した微細な凹凸はヘッ
ドとディスクとの間の接触面積を小さくし、摩擦係数を
低減する効果がある。この微細な凹凸の程度について
は、平均粗さ(Ra)で約2〜50nm、最大突起高さ
100nm以下のものであり、近接する突起間の平均距
離が10〜1000nmのものである。これよりも平均
粗さが粗いか、最大突起高さが高いとディスクを傷つけ
る恐れがある。また、平均粗さが上記より小さいと摩擦
係数低減の効果が小さくなる。
The fine irregularities thus formed have the effect of reducing the contact area between the head and the disk and reducing the friction coefficient. About the degree of this minute unevenness
Has an average roughness (Ra) of about 2 to 50 nm and a maximum protrusion height of 100 nm or less, and an average distance between adjacent protrusions of 10 to 1000 nm. If the average roughness is rougher than this, or if the maximum protrusion height is higher, the disc may be damaged. Further, if the average roughness is smaller than the above, the effect of reducing the friction coefficient becomes small.

【0027】なお、ヘッド摺動部に凹凸をつける方法に
は、気相成長法によりダイヤモンド微結晶からなる微細
な凹凸を有する堆積物を形成するほか、非晶質炭素薄膜
をヘッドのスライダ摺動面、ディスク表面に形成した
後、この炭素薄膜上にレジスト膜を設け、フォトリソグ
ラフィーによりレジストのパターニングを行い微細なマ
スクを形成して、レジストマスクのない部分の非晶質炭
素膜を例えば酸素プラズマなどで選択的にエッチング除
去してもよい。
As a method of forming irregularities on the head sliding portion, vapor deposition method is used to form a deposit having fine irregularities made of diamond microcrystals, and an amorphous carbon thin film is slid on the slider of the head. Surface and disk surface, a resist film is provided on this carbon thin film, and a fine mask is formed by patterning the resist by photolithography. You may selectively remove by etching etc.

【0028】このリソグラフィーによる選択エッチング
方法によると所望の形状の凹凸を形成することができ
る。例えば、ヘッドの摺動方向にそろった格子状の凹凸
を形成すると、ディスクに対するダメージが小さく、高
速回転時に有利である。
According to this selective etching method by lithography, it is possible to form irregularities having a desired shape. For example, if grid-shaped irregularities are formed in the sliding direction of the head, damage to the disk is small, which is advantageous during high-speed rotation.

【0029】また、この格子状の凹凸をスライダの摺動
方向と30°以内、好ましくは5〜30°傾斜させて形
成すると、摺動により発生した微粉等の汚れのかきと
り、排除の効果があり更に信頼性が向上する。
When the grid-like irregularities are formed so as to be inclined within 30 °, preferably 5 to 30 ° with respect to the sliding direction of the slider, there is an effect of scraping and eliminating dirt such as fine powder generated by sliding. Further, the reliability is improved.

【0030】また、摺動時の摩擦係数をさらに下げるた
めには、ヘッド摺動部に潤滑剤を付着させるのがよい。
この潤滑剤とは例えばパーフロロポリエーテルまたはパ
ーフロロアルキルからなる主鎖を持ち、少なくとも一方
の末端がエーテル基、エステル基、水酸基、カルボニル
基、アミノ基、アミド基などの極性基で置換された分子
量1000〜10000程度のものを使うのが最もよ
い。このほかに飽和脂肪酸やその誘導体、高級アルコー
ルやその誘導体なども用いることができる。
Further, the coefficient of friction during sliding can be further reduced.
In order to achieve this, it is advisable to attach a lubricant to the head sliding portion .
The lubricant has a main chain composed of, for example, perfluoropolyether or perfluoroalkyl, and at least one end thereof is substituted with a polar group such as an ether group, an ester group, a hydroxyl group, a carbonyl group, an amino group or an amide group. It is best to use one having a molecular weight of about 1,000 to 10,000. In addition, saturated fatty acids and their derivatives, higher alcohols and their derivatives, etc. can be used.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】〔磁気ヘッドについての具体的
な説明〕 つぎに、本発明による磁気ヘッドの具体的構造を図を参
照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Specific Description of Magnetic Head Next, a specific structure of a magnetic head according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0032】図1は本発明の磁気ヘッドの構造をスライ
ダ底面側からみた斜視図を模式的に示したものである。
ヘッドのスライダ本体1は酸化ジルコニア、アルミナ含
有チタンカーバイド、フェライトなどの材料でできてお
り、2本のスライダ摺動部2が機械加工やエッチング処
理などで形成されている。
FIG. 1 schematically shows a perspective view of the structure of the magnetic head of the present invention as seen from the bottom side of the slider.
The slider body 1 of the head is made of a material such as zirconia oxide, titanium carbide containing alumina, and ferrite, and two slider sliding portions 2 are formed by machining or etching.

【0033】このスライダ摺動部2の後部側面には磁気
信号を電気信号に変えるための記録再生素子3が摺動面
に近接して、ただし摺動面上から若干後退して非摺動面
を形成して配設、搭載されている。スライダ摺動部2は
橇の形状をしており、先頭2aおよび末尾2bの部分は
ヘッド走行時にエッジが当たらないようにテーパがつけ
られている。図の斜線部の摺動面に本発明の特徴あるカ
ーボンからなる保護層4が設けられている。
A recording / reproducing element 3 for converting a magnetic signal into an electric signal is provided on the rear side surface of the slider sliding portion 2 close to the sliding surface, but slightly retracted from the sliding surface to form a non-sliding surface. Is formed, arranged, and mounted. The slider sliding portion 2 has a sled shape, and the leading portion 2a and the trailing portion 2b are tapered so that the edges do not hit when the head is running. A protective layer 4 made of carbon, which is a feature of the present invention, is provided on the sliding surface in the shaded area in the figure.

【0034】図2は、スライダ摺動部2の摺動面をカー
ボン保護層4で覆ったヘッド裏面の平面図を模式的に示
したものであり、図2(a)は上記の非晶質炭素薄膜保
護膜を形成した例、図2(b)は上記した微細な凹凸を
有するカーボン保護層を形成した例、図2(c)は上記
したようにスライダの摺動方向に格子の長手方向がそろ
った格子状の微細な凹凸を有するカーボン保護層を形成
した例、図2(d)は同じく上記したように格子の向き
をスライダの摺動方向に対して30°以内の角度θを持
たせて形成した例である。
[0034] FIG. 2 is a plan view of the head rear surface covering the sliding surface of the slider sliding portion 2 in the carbon protective layer 4 shows schematically, FIG. 2 (a) above amorphous examples example of forming a carbon protective film, FIG. 2 (b) forming a carbon protective layer having fine asperities as described above, FIG. 2 (c) above
An example of forming a carbon protective layer having fine grid-like irregularities in which the longitudinal direction of the grid is aligned in the sliding direction of the slider as described above , and FIG. In this example, the angle θ is within 30 ° with respect to the moving direction.

【0035】図3はスライダ摺動部2の摺動面にカーボ
ン保護層4を形成した図1のX−X′断面拡大図を示し
たものであり、図3(a)は均一な厚さの膜を設けた場
合、図3(b)は微細な凹凸のある膜を設けた場合、図
3(c)は粒子状堆積物5を設けた場合、図3(d)は
粒子状堆積物5の上に均一な厚さの保護膜4を設けた場
合である。
FIG. 3 is an enlarged view of the XX 'section of FIG. 1 in which the carbon protective layer 4 is formed on the sliding surface of the slider sliding portion 2. FIG. 3 (a) shows a uniform thickness. 3 (b) is provided with a film having fine irregularities, FIG. 3 (c) is provided with the particulate deposit 5, and FIG. 3 (d) is provided with the particulate deposit. This is a case where the protective film 4 having a uniform thickness is provided on the surface 5.

【0036】また、図4(a)〜(d)は、図3(a)
〜(d)の上にさらに潤滑層6を設けた場合の断面拡大
図である。
Further, FIGS. 4A to 4D are shown in FIG.
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of a case where a lubricating layer 6 is further provided on (d).

【0037】上記の例ではスライダ摺動部2を左右に2
本持つ薄膜磁気ヘッドについて説明したが、本発明はも
ちろんこの型のヘッドに限定されるものではなく、ヘッ
ドと記録媒体との摺動、接触が生じるような構造のヘッ
ドであればいずれの場合でも効果がある。
In the above example, the slider sliding portion 2 is moved to the left and right by two.
Although the thin-film magnetic head having the present invention has been described, the present invention is not limited to this type of head, and any type of head having a structure in which sliding and contact between the head and the recording medium occur can be used. effective.

【0038】本発明における保護膜は主として炭素から
なる硬質かつ非晶質の薄膜であり、これを例えば1μm
以上の厚さに形成した場合はマイクロビッカース硬さに
して約1500Hv以上、密度にして1.7〜2.4とな
るものでり、また水素を含む場合はその原子数比率が3
〜30原子%のものである。上記の範囲以外の皮膜は柔
らかく、摩耗速度が大きいか、脆く壊れやすいため好ま
しくない。上記の炭素薄膜は例えば次のような方法によ
り形成することができる。
The protective film in the present invention is a hard and amorphous thin film composed mainly of carbon, which is, for example, 1 μm.
When formed to have the above thickness, the micro Vickers hardness is about 1500 Hv or more, and the density is 1.7 to 2.4, and when hydrogen is contained, the atomic ratio is 3 or more.
˜30 atom%. Coatings outside the above range are not preferred because they are soft and have a high wear rate or are brittle and easily broken. The carbon thin film can be formed by the following method, for example.

【0039】〔ヘッドへの炭素薄膜の具体的な形成例
の説明〕 -1).炭化水素ガスを単独または他のガスと混合して
原料とし、プラズマを発生させて、基板表面がプラズマ
電位に対し100V以上電位降下を生じるような条件で
CVD(ケミカルベイパーデポジション)を行う。最も
簡便には被処理基板を一方の電極とし、この面積より十
分に広い電極との間に商用高周波(13.56MHz)
などの高周波電圧を印加し、プラズマを発生させて、基
板近傍に発生する自己バイアス電圧によりイオンを加速
するようにして膜形成するのがよい。この方法に用いる
装置の例を図5(a)に示す。
[Description of Specific Example of Forming Carbon Thin Film on Head] -1). Hydrocarbon gas is used alone or as a raw material by mixing with other gas, plasma is generated, and CVD (chemical vapor deposition) is performed under conditions such that the substrate surface causes a potential drop of 100 V or more with respect to the plasma potential. The easiest way is to use the substrate to be processed as one of the electrodes, and use a commercial high frequency (13.56MHz) between it and the electrode that is sufficiently wider than this area.
It is preferable that a film is formed by applying a high frequency voltage such as to generate plasma and accelerating the ions by a self-bias voltage generated near the substrate. An example of an apparatus used in this method is shown in FIG.

【0040】-2).炭化水素ガスを単独または他のガ
スと混合して原料とし、このガスをイオン化室でイオン
化し、発生するイオンを電界で100〜1000V程度
に加速して基板に衝突させる。この方法に用いる装置の
例を図5(b)に示す。
-2). A hydrocarbon gas is used alone or mixed with another gas as a raw material, and this gas is ionized in an ionization chamber, and the generated ions are accelerated by an electric field to about 100 to 1000 V and collided with a substrate. An example of an apparatus used in this method is shown in FIG.

【0041】また、前記のダイヤモンド微結晶を含む堆
積物を成長させるには次のような方法が周知であり、こ
れらのうちから生成速度、設定できる基板温度の上限な
どを考慮して選択するのがよい。
The following methods are well known for growing the deposit containing the diamond microcrystals, and one of them is selected in consideration of the generation rate, the upper limit of the substrate temperature that can be set, and the like. Is good.

【0042】-3).主として炭化水素系のガスと水素
との混合ガスを原料としてマイクロ波プラズマを発生さ
せると共に基板を200℃〜700℃に加熱する。上記
のプラズマ領域に磁場を印加し、いわゆるエレクトロン
サイクロトロン共鳴とよばれる現象が発生する条件で処
理するとプラズマ密度が高まり、ダイヤモンド粒子の成
長速度を高めることができる。上記より成長速度は小さ
くなるが、上記のマイクロ波プラズマの代わりに高周波
プラズマや直流プラズマを用いてもよい。この方法に用
いる装置の例を図5(c)に示す。
-3). Microwave plasma is generated using a mixed gas of a hydrocarbon-based gas and hydrogen as a raw material, and the substrate is heated to 200 ° C to 700 ° C. When a magnetic field is applied to the above plasma region and the treatment is performed under the condition that a phenomenon called electron cyclotron resonance occurs, the plasma density is increased and the growth rate of diamond particles can be increased. Although the growth rate is lower than the above, high frequency plasma or direct current plasma may be used instead of the above microwave plasma. An example of an apparatus used in this method is shown in FIG.

【0043】-4).基板を700℃〜1000℃程度
に加熱し、炭化水素ガスと水素ガスの混合ガスを導入し
て基板面に熱反応によりダイヤモンド粒子を生成させ
る。
-4). The substrate is heated to about 700 ° C. to 1000 ° C., a mixed gas of hydrocarbon gas and hydrogen gas is introduced, and diamond particles are generated on the surface of the substrate by thermal reaction.

【0044】-5).炭化水素ガスと水素ガスの混合ガ
スを大気圧以下に保持し、基板に近接して配置されたタ
ングステンなどのフィラメントに電流を流して発生する
熱電子を利用して原料ガスを反応させる。
-5). A mixed gas of hydrocarbon gas and hydrogen gas is maintained at atmospheric pressure or less, and a source gas is reacted by utilizing thermoelectrons generated by passing an electric current through a filament such as tungsten arranged close to the substrate.

【0045】-6).炭化水素分子をイオン化し、30
0V〜2000Vのエネルギーで基板に衝突させる。
-6). Ionize hydrocarbon molecules, 30
The substrate is made to collide with energy of 0V to 2000V.

【0046】-7).大気圧下で炭化水素ガスの燃焼炎
のうち還元炎の部分に基板を配置し、基板表面にダイヤ
モンド粒子を生成させる。
-7). Under atmospheric pressure, the substrate is placed in the reducing flame portion of the combustion flame of hydrocarbon gas, and diamond particles are generated on the substrate surface.

【0047】実際には磁気ヘッドの素子の耐熱性が低い
場合が考えられるので、できるだけ低温で形成できるこ
とが好ましく、-3)のマイクロ波CVD法が最も適し
ている。
In practice, the heat resistance of the element of the magnetic head may be low, so it is preferable that the element can be formed at the lowest temperature possible, and the microwave CVD method of -3) is most suitable.

【0048】なお、上記の方法では往々にしてダイヤモ
ンドの他に非晶質炭素も同時に生成するが、これは非晶
質炭素ではあっても往々にして密度が低くもろいもので
あり、本発明の特徴ある適量の水素を含有する非晶質炭
素とは異なり、場合によっては本発明の目的とする耐摺
動性の向上に悪影響を及ぼす。したがってこのような場
合にはO2やH2のプラズマにより非晶質部分をアッシン
グまたはエッチングして取り除いた方がよい。
The above method often produces amorphous carbon in addition to diamond at the same time. However, even though amorphous carbon is used, it often has a low density and is fragile. Unlike amorphous carbon containing a proper amount of hydrogen which is characteristic, it adversely affects the improvement of sliding resistance which is the object of the present invention in some cases. Therefore, in such a case, it is better to remove the amorphous portion by ashing or etching with the plasma of O 2 or H 2 .

【0049】上記の非晶質炭素薄膜またはダイヤモンド
粒子を含む炭素薄膜の生成方法に用いられる原料は、主
として炭素と水素からなる炭化水素化合物であり、酸素
その他の原子を含んでいてもかまわない。
The raw material used in the method for producing the above-mentioned amorphous carbon thin film or carbon thin film containing diamond particles is a hydrocarbon compound mainly composed of carbon and hydrogen, and may contain oxygen and other atoms.

【0050】具体的には、メタン、エタン、プロパン、
ブタン、ペンタン、ヘキサンなどの飽和炭化水素類、エ
チレン、アセチレン、プロペン、ブテンなどの不飽和炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノールな
どのアルコール類、アセトアルデヒド、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン類、ジメチルエーテル、メ
チルエチルエーテル、ジエチルエーテルなどのエーテル
類などが用いられる。
Specifically, methane, ethane, propane,
Saturated hydrocarbons such as butane, pentane and hexane, unsaturated hydrocarbons such as ethylene, acetylene, propene and butene, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, alcohols such as methanol, ethanol and propanol, Ketones such as acetaldehyde, acetone and methyl ethyl ketone, ethers such as dimethyl ether, methyl ethyl ether and diethyl ether are used.

【0051】また、これらの2種以上の混合ガス、ある
いはXr、Ar、He、Ne、O2、H2O、N2など
との混合ガスを用いてもよい。さらに、上記の炭化水素
分子の中の一部の水素がフッ素で置換されたものを用い
ることもできる。
Further, a mixed gas of two or more kinds of these or a mixed gas of Xr, Ar, He, Ne, O 2 , H 2 O, N 2 or the like may be used. Furthermore, it is also possible to use a hydrocarbon molecule in which a part of hydrogen atoms is replaced with fluorine.

【0052】上記主として非晶質炭素からなる薄膜ある
いはダイヤモンド微結晶を含む堆積物の厚さは、厚すぎ
るとヘッドと磁性層の間の実質的な間隔が広がりS/N
の低下を招くので50nm以下が好ましい。一方で薄す
ぎると摩耗により効果が小さくなるので10nm以上が
好ましい。
If the thickness of the above-mentioned thin film mainly composed of amorphous carbon or the deposit containing diamond microcrystals is too thick, the substantial distance between the head and the magnetic layer will increase, and the S / N ratio will increase.
It is preferable that the thickness be 50 nm or less because it causes a decrease in On the other hand, if it is too thin, the effect is reduced due to abrasion, so 10 nm or more is preferable.

【0053】〔ヘッドへの潤滑膜の具体的な形成例〕上記した ヘッドを実現するために、ヘッドスライダ摺動
部の保護膜に潤滑剤を塗布する方法としては次のような
ものがある。
[Specific Example of Forming Lubricating Film on Head] In order to realize the above-described head, a method of applying a lubricant to the protective film on the sliding portion of the head slider is as follows.

【0054】-1).潤滑剤分子を溶かした溶液にヘ
ッドを浸し、一定時間保持したのち引き上げるディップ
法。
-1). A dipping method in which the head is dipped in a solution containing lubricant molecules, held for a certain period of time, and then pulled up.

【0055】-2).潤滑剤分子を溶かした溶液をス
プレーし、溶剤を揮発させるスプレー法。
-2). A spray method in which a solution of lubricant molecules is sprayed and the solvent is volatilized.

【0056】-3).潤滑剤分子を真空槽のなかで蒸
発させ、ヘッドスライダ部表面に蒸着させる蒸着法。
-3). A vapor deposition method that vaporizes lubricant molecules in a vacuum chamber and deposits them on the surface of the head slider.

【0057】もちろん、これらの方法に限られるもので
はない。また、潤滑剤の量は多すぎるとヘッドと磁気記
録媒体の接触部分に集まり、ヘッドを固定してしまう粘
着現象が起こり、また少ないと潤滑作用が小さくなるの
である範囲に制御することが必要である。この量は潤滑
剤の種類や分子量にも依存するが、一般には膜厚換算に
して1〜50nm、好ましくは2〜10nmがよい。
Of course, the method is not limited to these. Also, if the amount of lubricant is too large, it collects in the contact area between the head and the magnetic recording medium, causing an adhesion phenomenon that fixes the head, and if it is too small, the lubricating action becomes small, so it is necessary to control within a certain range. is there. Although this amount depends on the kind and molecular weight of the lubricant, it is generally 1 to 50 nm, preferably 2 to 10 nm in terms of film thickness.

【0058】また、潤滑剤分子として末端または分子鎖
中にカルボニル基、カルボキシル基、エステル基、エー
テル結合、アミド基、アミノ基、水酸基など分極性の大
きな基をもっているものを用い、前記保護層表面にA
l、Fe、Ni、Co、Agなどの金属またはその化合
物を微量存在させるようにすると保護層と潤滑剤との間
に強い結合ができ、粘着現象を低減することができる。
As the lubricant molecule, one having a highly polarizable group such as a carbonyl group, a carboxyl group, an ester group, an ether bond, an amide group, an amino group and a hydroxyl group at the terminal or the molecular chain is used, and the surface of the protective layer is used. To A
When a small amount of a metal such as 1, Fe, Ni, Co, Ag, or a compound thereof is present, a strong bond can be formed between the protective layer and the lubricant, and the adhesion phenomenon can be reduced.

【0059】〔磁気ディスクへの炭素薄膜の形成〕 磁気ディスクの摺動信頼性をさらに向上させるために
は、本発明の磁気ヘッドに適用した特定の保護膜と同質
のものを磁気ディスクの保護膜として設けるのがよい。
特に好ましいのは上記磁気ヘッドの保護膜に用いたのと
同じ方法で形成される非晶質水素化カーボン膜である。
また、この保護膜の上に潤滑層を設けるとさらに信頼性
を向上できる。この潤滑層の材料や形成方法も上記磁気
ヘッドの場合に説明したものと同様のものを用いること
ができる。
[Formation of Carbon Thin Film on Magnetic Disk] In order to further improve the sliding reliability of the magnetic disk, a protective film of the same kind as the specific protective film applied to the magnetic head of the present invention should be used. It is better to provide
Particularly preferable is an amorphous hydrogenated carbon film formed by the same method as that used for the protective film of the magnetic head.
Further, if a lubricating layer is provided on this protective film, the reliability can be further improved. As the material and forming method of this lubricating layer, the same ones as those explained in the case of the above magnetic head can be used.

【0060】本発明により磁気ディスク装置の信頼性が
向上するのは次のような理由による。磁気ディスクが故
障する際はほとんどディスク側が損傷する。これは磁気
記録媒体の機械的強度が弱いためであり、このために従
来から耐摩耗性の高い保護層を設けたり潤滑層を設けた
りする工夫がなされている。
The reason why the reliability of the magnetic disk device is improved by the present invention is as follows. When a magnetic disk fails, the disk side is almost always damaged. This is because the mechanical strength of the magnetic recording medium is weak, and for this reason, it has been conventionally devised to provide a protective layer having high wear resistance or a lubricating layer.

【0061】しかし、本発明者らは、磁気ヘッドと磁気
ディスクの摺動における磁気ヘッドの役割あるいは影響
が大きいと考え、磁気ヘッドが磁気ディスクと摺動する
部分も適当な材質および形状にする必要があると考え
た。なぜならば、磁気ヘッドと磁気ディスクの摺動にお
いて発生する両者の接触面積に依存するはずであり、摺
動前は表面の微細な凹凸により比較的小さな接触面積が
摺動と共に摩耗で大きくなり、これが摩擦力増加ひいて
はヘッドクラッシュにつながると思われるからである。
However, the present inventors consider that the role or influence of the magnetic head on the sliding of the magnetic head and the magnetic disk is large, and therefore the portion where the magnetic head slides on the magnetic disk must be made of an appropriate material and shape. I thought there was. This is because it should depend on the contact area between the magnetic head and the magnetic disk, which occurs during sliding.Before sliding, a relatively small contact area increases due to abrasion due to fine irregularities on the surface. This is because it is thought that the increase in frictional force will eventually lead to a head crash.

【0062】すなわち、磁気ヘッドの摩耗を防ぐことに
より摩擦力の変化が小さくなり、磁気ディスク側のダメ
ージも押さえられ、信頼性が向上するはずである。これ
を実現するためには耐摩耗性の高い保護層が必要であ
り、本発明者らは各種材料を比較検討し、特定の炭素系
材料が優れていることを見いだしたのである。特定の炭
素系材料とは、先に述べたように非晶質炭素およびダイ
ヤモンド微結晶を含む堆積物である。これらは次のよう
な特徴を持ち、これが耐摺動性向上に作用していると考
えられる。
That is, by preventing the wear of the magnetic head, the change in frictional force is reduced, damage on the magnetic disk side is suppressed, and reliability should be improved. In order to realize this, a protective layer having high wear resistance is necessary, and the present inventors have conducted comparative examinations of various materials and found that a specific carbon-based material is superior. The specific carbon-based material is a deposit containing amorphous carbon and diamond crystallites as described above. These have the following characteristics, and it is considered that these are effective in improving the sliding resistance.

【0063】すなわち、(a)硬度が高い(ビッカース
硬度で1500 〜5000)。 (b)摺動時に大きな摩耗粉が発生しにくい。 (c)摺動相手の材料に付着しにくい。
That is, (a) the hardness is high (Vickers hardness of 1500 to 5000). (B) Large abrasion powder is unlikely to be generated during sliding. (C) It is difficult to adhere to the material of the sliding partner.

【0064】本発明においては上記磁気ヘッドも磁気デ
ィスクも共に相互の摺動面に同質の炭素系保護膜を設け
ている。一般に摩擦摩耗の分野では所謂ともずりと称さ
れる同質の材料同志の組み合わせは摩耗を促進するとさ
れる。しかし、本発明のカーボン系材料に限っては、逆
に同質の材料で相乗効果があり、飛躍的に耐摩耗性が向
上することがわかった。これは前記の炭素系材料の特徴
からいって一般的に同質材料同志の摺動で問題となる凝
着現象がおきにくいためと考えられる。
In the present invention, both the magnetic head and the magnetic disk are provided with the same type of carbon-based protective film on their sliding surfaces. Generally, in the field of friction and wear, it is said that a combination of materials of the same quality, so-called "shear," promotes wear. However, it has been found that, conversely, the carbonaceous material of the present invention has a synergistic effect with the same material, and the wear resistance is dramatically improved. It is considered that this is because, due to the characteristics of the above-mentioned carbon-based material, the adhesion phenomenon, which is generally a problem due to sliding of like materials, is unlikely to occur.

【0065】本発明を用いて磁気ディスク装置の摺動信
頼性以外の性能を向上させることもできる。すなわち、
磁気ヘッド側の摩耗が低減すれば磁気ヘッドの摺動部の
表面粗さを粗くしてやることにより磁気ディスク側の表
面を粗くしなくても前記の摩擦力上昇を防ぐことができ
る。したがって、磁気ディスクの表面を平滑にすること
ができ、磁気ヘッドの浮上量を低減でき、記録密度向上
およびS/N向上に効果がある。
By using the present invention, performances other than the sliding reliability of the magnetic disk device can be improved. That is,
If the wear on the magnetic head side is reduced, the above-mentioned increase in frictional force can be prevented without roughening the surface on the magnetic disk side by roughening the surface roughness of the sliding portion of the magnetic head. Therefore, the surface of the magnetic disk can be smoothed, the flying height of the magnetic head can be reduced, and the recording density and the S / N can be improved.

【0066】また、本発明により磁気ヘッド、磁気ディ
スクの摩耗が大きく低減されるので、磁気ヘッドと磁気
ディスクが常時または断続的に接触するような状態で記
録再生を行ういわゆるコンタクトレコーディングのよう
な厳しい条件においても好適に使用することができる。
Further, since the wear of the magnetic head and the magnetic disk is greatly reduced by the present invention, a severe condition such as so-called contact recording in which recording / reproduction is performed in a state where the magnetic head and the magnetic disk are constantly or intermittently contacted with each other. It can be preferably used even under the conditions.

【0067】[0067]

【実施例】以下に実施例を示し、更に本発明を具体的に
説明する。 〈実施例1〉酸化ジルコニアなど透磁率の高い材料でで
きた厚さ4mmのウエハを用意し、この表面に真空蒸
着、めっき、スパッタリングなどの薄膜形成工程とフォ
トリソグラフィ工程を用いてコア材料およびコイル材
料、電極、保護層などの必要パターンを形成する。この
ようにして形成した薄膜磁気ヘッド素子3をウエハから
切りだし、機械加工により図1の様な形状のヘッド本体
1とした。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. Example 1 A 4 mm-thick wafer made of a material having a high magnetic permeability such as zirconia oxide was prepared, and a core material and a coil were formed on the surface of the wafer by a thin film forming process such as vacuum deposition, plating and sputtering and a photolithography process. A required pattern of materials, electrodes, protective layers, etc. is formed. The thin-film magnetic head element 3 thus formed was cut out from the wafer and machined to form the head body 1 having a shape as shown in FIG.

【0068】つぎにスライダ摺動部2の摺動面を鏡面研
磨し、テーパ部2aと側面エッジ部2bの面とり加工を
行い、橇状の摺動部2を形成した。このヘッド本体1を
洗浄し加工残渣を取り除いた後、スライダ摺動部側を表
にして図5(a)に示すような内部電極型高周波プラズマ
発生装置のバイアスのかかる側の電極に置き、メタンガ
スを50sccmの流量で導入してガス圧が50mTo
rrになるように排気速度を調整した。
Next, the sliding surface of the slider sliding portion 2 was mirror-polished and the tapered portion 2a and the side edge portion 2b were chamfered to form a sled-shaped sliding portion 2. After cleaning the head body 1 to remove the processing residue, the slider sliding portion side is placed on the electrode on the biased side of the internal electrode type high frequency plasma generator as shown in FIG. Is introduced at a flow rate of 50 sccm and the gas pressure is 50 mTo
The exhaust speed was adjusted so as to be rr.

【0069】反応室内のガス圧が安定した後、高周波電
圧を印加し、反射電力が最小になるように定在波比SW
R(Standing WaveRatio)のマッチング調整を行
い、実効電力1kWで1分間放置した。これによりスラ
イダ摺動部表面に膜厚20nmの水素含有量約10原子
%の非晶質水素化カーボン膜が形成された。
After the gas pressure in the reaction chamber has stabilized, a high-frequency voltage is applied and the standing wave ratio SW is set so as to minimize the reflected power.
Matching adjustment of R (Standing Wave Ratio) was performed, and it was left for 1 minute at an effective power of 1 kW. As a result, an amorphous hydrogenated carbon film having a hydrogen content of 20 nm and a hydrogen content of about 10 atomic% was formed on the slider sliding surface.

【0070】このようにして製作した磁気ヘッドを、ス
パッタリングによりカーボン保護膜が形成された磁気デ
ィスクと組み合わせてCSS試験機に組み込み、荷重1
0gをかけてディスクを回転させ、一旦ヘッドが浮上し
たのち回転を緩めて再びヘッドとディスクを接触させ、
回転を停止するサイクルを繰り返すいわゆるCSS試験
を行い、ヘッドに発生する摩擦力(gf)の変化と30k回
試験後のヘッドおよびディスクの損傷の程度を評価し
た。
The magnetic head thus manufactured was combined with a magnetic disk on which a carbon protective film was formed by sputtering and incorporated into a CSS tester to obtain a load of 1
Rotate the disk by applying 0 g, and once the head has floated, loosen the rotation and contact the disk with the head again,
A so-called CSS test in which a cycle of stopping the rotation was repeated was performed to evaluate the change in frictional force (gf) generated in the head and the degree of damage to the head and the disk after the 30-k test.

【0071】また、比較のため、水素を含まないスパッ
タカーボン膜を形成したヘッドについても同じ試験を行
った。結果は表1に示す通りであり、スパッタカーボン
を形成した場合に比べ、摩擦力の増加が少なく、ヘッ
ド、ディスクの摺動面の損傷も軽微であった。また、上
記のCSS試験におけるヘッドにかかる摩擦力の摺動回
数依存性を図6に示す。図示の通りCSS回数が増える
に伴い両者の特性の差が明瞭である。 〈実施例2〜7〉実施例1と同様に非晶質炭素保護膜の
形成された磁気ヘッドを作成し、これと下記のような磁
気ディスクとを組み合わせてそれぞれCSS試験を行っ
た。 結果は表1に示すように摩擦力(gf)の増加が少なく、ヘ
ッド、ディスクの摺動面の損傷も軽微であった。実施例
1と3とを対比してみれば明らかなように、ディスクの
保護膜の種類としてヘッド側と同一の非晶質カーボンを
被覆したものは格段に特性が改善され、さらに実施例4
に示すように潤滑剤膜を被覆した場合には一層良好とな
る。
For comparison, the same test was conducted on a head having a sputtered carbon film containing no hydrogen. The results are as shown in Table 1, and the frictional force did not increase much and the sliding surfaces of the head and the disk were slightly damaged as compared with the case where sputtered carbon was formed. Further, FIG. 6 shows the dependency of the frictional force applied to the head in the above CSS test on the number of sliding times. As shown in the figure, as the number of CSSs increases, the difference between the two characteristics becomes clear. <Examples 2 to 7> Similar to Example 1, magnetic heads having an amorphous carbon protective film formed were prepared, and a CSS test was conducted by combining this with a magnetic disk as described below. As shown in Table 1, the increase in frictional force (gf) was small, and the sliding surfaces of the head and the disk were not significantly damaged. As is clear from comparison between Examples 1 and 3, the characteristics of the disk protective film coated with the same amorphous carbon as the head side were remarkably improved.
When the lubricant film is coated as shown in FIG.

【0072】[0072]

【表1】 〈実施例8〉実施例1の非晶質水素化カーボン薄膜を形
成する際の投入電力、ガス流量等をコントロールして非
晶質水素化カーボン薄膜中の水素含有量を変えると共
に、水素量と薄膜の強度(硬度で表示)との関係について
調べた。
[Table 1] <Embodiment 8> The hydrogen content in the amorphous hydrogenated carbon thin film is changed by controlling the input power, the gas flow rate, and the like when forming the amorphous hydrogenated carbon thin film of Example 1. The relationship with the strength (expressed as hardness) of the thin film was investigated.

【0073】図8(a)は投入電力と水素含有量との関係
を、図8(b)はガス流量と水素含有量との関係をそれぞ
れ示したものであり、いずれの場合によっても水素含有
量のコントロールは可能である。
FIG. 8 (a) shows the relationship between the input electric power and the hydrogen content, and FIG. 8 (b) shows the relationship between the gas flow rate and the hydrogen content. Amount control is possible.

【0074】また、図9は水素含有量とカーボン薄膜の
強度(硬度で表示)との関係を示した特性図であり、含有
量1〜30原子%において良好な強度を示し、特に3〜
15原子%において好ましいことがわかる。 〈実施例9〜15〉実施例1と同様の工程で、先ずスラ
イダを構成する材料として酸化ジルコニアのウエハを準
備し、この表面にコア材料及びコイル材料、電極、保護
層などの必要パターンを形成し、素子をウエハから切り
だし、機械加工によりヘッド形状としたのち、スライダ
摺動部2の摺動面を鏡面研磨し、テーパ部2aと側面エ
ッジ部2bの面とり加工を行い、ヘッド本体1を準備し
た。
FIG. 9 is a characteristic diagram showing the relationship between the hydrogen content and the strength (indicated by hardness) of the carbon thin film, showing a good strength at a content of 1 to 30 atom%, particularly 3 to
It can be seen that 15 atom% is preferable. <Examples 9 to 15> In the same steps as in Example 1, first, a wafer of zirconia oxide was prepared as a material for the slider, and necessary patterns such as a core material and a coil material, electrodes, and a protective layer were formed on the surface of the wafer. Then, the element is cut out from the wafer and formed into a head shape by machining, and then the sliding surface of the slider sliding portion 2 is mirror-polished, and the taper portion 2a and the side edge portion 2b are chamfered. Prepared.

【0075】このヘッド本体1を洗浄し加工残渣を取り
除いた後、スライダ摺動部側を表にして図5(c)に示し
たような有磁場マイクロ波プラズマ発生装置の真空槽に
入れ、基板となる上記ヘッド本体1を250℃に加熱
し、メタンと水素との混合比2:98の混合ガスを流速
100sccmの流量で導入し、ガス圧が100mTo
rrになるように排気速度を調整した。
After cleaning the head body 1 to remove processing residues, the slider sliding portion side is placed in a table and placed in a vacuum chamber of a magnetic field microwave plasma generator as shown in FIG. Is heated to 250 ° C., a mixed gas of methane and hydrogen with a mixing ratio of 2:98 is introduced at a flow rate of 100 sccm, and the gas pressure is 100 mTo.
The exhaust speed was adjusted so as to be rr.

【0076】反応室内のガス圧が安定した後、磁界発生
用コイルに電流を流し、500Wのマイクロ波を導入し
てプラズマを発生させた。5分間後にマイクロ波を停止
して真空槽を大気開放し、ヘッド本体を取り出したとこ
ろスライダ摺動面に微細な凹凸のある堆積物が形成され
た。
After the gas pressure in the reaction chamber became stable, a current was passed through the magnetic field generating coil and a microwave of 500 W was introduced to generate plasma. After 5 minutes, the microwave was stopped, the vacuum chamber was opened to the atmosphere, and the head body was taken out. As a result, a deposit having fine irregularities was formed on the slider sliding surface.

【0077】これをラマン散乱スペクトルおよび薄膜X
線回折で分析したところ、ダイヤモンド微粒子と非晶質
炭素が混在することが確認された。また、その表面形状
は、平均厚さが20nmであり平均粗さRaで10nm
であることがわかった。また、非晶質炭素に含まれる水
素量は約7原子%であった。
Raman scattering spectrum and thin film X
An analysis by line diffraction confirmed that diamond fine particles and amorphous carbon were mixed. Further, the surface shape thereof has an average thickness of 20 nm and an average roughness Ra of 10 nm.
I found out. The amount of hydrogen contained in the amorphous carbon was about 7 atom%.

【0078】一方、磁気ディスクについては、表1の実
施例1〜7と同一のものを準備した。このようにして製
作した磁気ヘッドと磁気ディスクとを用いて実施例1と
同様にCSS試験を行い、ヘッドに発生する摩擦力(g
f)の変化と30k回試験後のヘッド及びディスクの損
傷の程度を評価した。結果は表2に示す通りであり、表
1の実施例1〜7に比べ、摩擦力の増加が少なく、ヘッ
ド、ディスクの摺動面の損傷も軽微であった。
On the other hand, as the magnetic disk, the same magnetic disks as those in Examples 1 to 7 in Table 1 were prepared. Using the magnetic head and the magnetic disk thus manufactured, the CSS test was conducted in the same manner as in Example 1, and the frictional force (g
The change in f) and the degree of damage to the head and disk after the 30 k test were evaluated. The results are shown in Table 2, and compared with Examples 1 to 7 in Table 1, the increase in frictional force was small and the damages on the sliding surfaces of the head and the disk were also slight.

【0079】[0079]

【表2】 〈実施例16〉実施例1と同様の工程で、先ずスライダ
を構成する材料として酸化ジルコニアのウエハを準備
し、この表面にコア材料及びコイル材料、電極、保護層
などの必要パターンを形成し、素子をウエハから切りだ
し、機械加工によりヘッド形状としたのち、スライダ摺
動部2の摺動面を鏡面研磨し、テーパ部2aと側面エッ
ジ部2bの面とり加工を行い、ヘッド本体1を準備し
た。
[Table 2] <Example 16> In the same steps as in Example 1, first, a wafer of zirconia oxide was prepared as a material for forming a slider, and necessary patterns such as a core material and a coil material, electrodes, and a protective layer were formed on the surface of the wafer. After the element is cut out from the wafer and formed into a head shape by machining, the sliding surface of the slider sliding portion 2 is mirror-polished and the taper portion 2a and the side edge portion 2b are chamfered to prepare the head body 1. did.

【0080】このヘッド本体1を洗浄し加工残渣を取り
除いた後、スライダ摺動部側を表にして実施例1と同様
に内部電極型高周波プラズマ発生装置のバイアスのかか
る側の電極に置き、メタンガスを50sccmの流量で
導入してガス圧が50mTorrになるように排気速度
を調整した。実効電力1kWで1分間放置した所スライ
ダ表面に20nmの膜厚の非晶質水素化カーボン膜(水
素含有量約10原子%)が形成された。
After cleaning the head body 1 to remove the processing residue, the slider sliding portion side is placed on the surface of the electrode on the biased side of the internal electrode type high frequency plasma generator in the same manner as in Example 1, and methane gas is added. Was introduced at a flow rate of 50 sccm, and the exhaust speed was adjusted so that the gas pressure was 50 mTorr. When left for 1 minute with an effective power of 1 kW, an amorphous hydrogenated carbon film (hydrogen content: about 10 atomic%) having a film thickness of 20 nm was formed on the slider surface.

【0081】このようにして形成したカーボン薄膜上に
厚さ200nmのポジ型レジストを塗布し、乾燥させた
後、幅1ミクロン、間隔5μmの格子状パターンを持つ
マスク原版を介して紫外線を照射することによって露光
し、現像リンスすることによって上記の寸法を持つレジ
ストマスクパターンを形成した。
A 200 nm-thick positive resist is applied to the carbon thin film thus formed, dried, and then irradiated with ultraviolet rays through a mask original plate having a lattice-shaped pattern having a width of 1 μm and an interval of 5 μm. By doing so, the resist mask pattern having the above dimensions was formed by exposing and developing.

【0082】つぎにこの磁気ヘッドのスライダ摺動部側
を表にして再度前記のプラズマ発生装置に入れ、酸素ガ
スを導入してガス圧を0.2Torrに保ち、500W
の電力をかけて2分間保持した。これによりレジストの
ない露出部分のカーボン膜が選択的にエッチングされ、
前記の格子状マスク寸法を持つカーボン薄膜のパターン
を形成した。その後レジストマスクを剥離して実施例1
と同様にスパッタカーボン保護膜の設けられた磁気ディ
スクと組み合わせてCSS試験を行った。
Next, with the slider sliding portion side of this magnetic head facing up, the slider was again placed in the above-mentioned plasma generator, and oxygen gas was introduced to maintain the gas pressure at 0.2 Torr and 500 W.
Power was applied and held for 2 minutes. This selectively etches the exposed carbon film without the resist,
A pattern of a carbon thin film having the above-mentioned grid-like mask size was formed. After that, the resist mask is peeled off and the first embodiment is performed.
Similarly to the above, a CSS test was performed in combination with a magnetic disk provided with a sputtered carbon protective film.

【0083】結果は、30k回の試験後も摩擦係数の増
加は3g以下であり、摩擦力の増加が少なく、ヘッド、
ディスクの摺動面の損傷も軽微であった。
The results show that the increase in the friction coefficient was 3 g or less even after the test of 30 k times, and the increase in the frictional force was small.
The sliding surface of the disc was also slightly damaged.

【0084】なお、ヘッドスライダ摺動部に設けた格子
状マスク寸法を持つカーボン薄膜のパターンにつき、格
子の方向をスライダ摺動部の摺動方向に一致させたも
の、摺動方向からθ角傾斜したものをそれぞれ準備して
摺動特性を測定したところ、摺動方向に一致させた場合
には、ディスクに対するダメージが小さく、高速回転に
有利であること、また、30°以内、好ましくは5°〜
30°であれば、傾斜させた方がヘッドに付着した汚れ
のかき取りに効果あり、更に信頼性の向上に有効である
ことがわかった。 〈実施例17〉実施例1〜7及び9〜16で実施した磁
気ヘッドと磁気ディスクとの組み合わせを用い、図7に
示したように磁気ディスク10枚をスピンドルに一定間
隔で取り付け、磁気ヘッドを磁気ディスクの各面に一本
づつ取り付け磁気ヘッド位置決め機構及び信号記録再生
用回路基板を取り付けて磁気ディスク装置を組み立て
た。この装置を稼動させて磁気ヘッドを浮上量0.1μ
mで浮上させ、すべてのトラックに信号を書き込み順次
読み出すサイクルを連続して行う寿命試験を行った。
In the pattern of the carbon thin film having the grid-like mask size provided on the head slider sliding portion, the grid direction is made to coincide with the sliding direction of the slider sliding portion, and the angle θ is inclined from the sliding direction. When the sliding characteristics were measured and the sliding characteristics were matched, the damage to the disk was small and it was advantageous for high speed rotation, and it was within 30 °, preferably 5 °. ~
It was found that if the inclination angle is 30 °, it is effective to scrape the dirt adhering to the head by tilting the head, and it is more effective to improve the reliability. <Embodiment 17> Using the combination of the magnetic head and the magnetic disk implemented in Embodiments 1 to 7 and 9 to 16, ten magnetic disks were attached to the spindle at regular intervals as shown in FIG. A magnetic head positioning mechanism and a signal recording / reproducing circuit board were attached to each surface of the magnetic disk, and a magnetic disk device was assembled. When this device is operated, the flying height of the magnetic head is 0.1μ.
A life test was carried out in which the system was levitated at m, and signals were sequentially written on all tracks and sequentially read out.

【0085】連続5000時間の動作のあと装置を分解
して磁気ヘッドと磁気ディスクの表面を光学顕微鏡で観
察したところ、磁気ヘッドのスライダ摺動部のテーパ部
2aにごくわずかに汚れがついているものがあったが、
それ以外は磁気ヘッド、磁気ディスク共に傷や付着物は
見られなかった。
After continuous operation for 5000 hours, the device was disassembled and the surfaces of the magnetic head and the magnetic disk were observed with an optical microscope. As a result, the taper portion 2a of the slider sliding portion of the magnetic head was slightly soiled. There was,
Other than that, no scratches or deposits were found on either the magnetic head or the magnetic disk.

【0086】比較のため、グラファイト板をターゲット
としてスライダ摺動面にカーボン保護膜をスパッタ成膜
した磁気ヘッドを各装置に1本ずつ組み込んだところ、
このヘッドには摺動方向に数本の傷が発生し、付着物も
多かった。また、磁気ディスクにも汚れが多く付着し、
なかにはクラッシュに至ったものもあった。なお、この
カーボン保護膜には水素が含まれていない。 〈実施例18〉実施例17で用いた磁気ディスク装置を
用い、ヘッド荷重と回転数を調整して磁気ヘッドがほぼ
連続的に磁気ディスク表面に当たる条件(コンタクトレ
コーディングと称される)とし、前記実施例17と同様
の試験を行った。
For comparison, a graphite head was used as a target, and one magnetic head having a carbon protective film formed by sputtering on the slider sliding surface was incorporated into each device.
Several scratches were generated on this head in the sliding direction, and there were many deposits. Also, a lot of dirt adheres to the magnetic disk,
Some of them even crashed. Note that this carbon protective film does not contain hydrogen. <Embodiment 18> Using the magnetic disk device used in Embodiment 17, the head load and the number of revolutions are adjusted so that the magnetic head almost continuously hits the magnetic disk surface (referred to as contact recording). The same test as in Example 17 was conducted.

【0087】連続2000時間の試験の後、装置を分解
して磁気ヘッドと磁気ディスクの損傷を調べたところ、
磁気ディスク側に光学顕微鏡で判別できる軽微な摩耗痕
が数個所見られたが、保護膜のみの摩耗であり、磁気記
録媒体には達していなかった。同装置内において、実施
例17内で示した比較例の磁気ヘッド(スパッタカーボ
ン膜)と組んだ磁気ディスクはクラッシュし、磁気ヘッ
ド側の傷も大きかった。
After continuous 2000 hours of testing, the device was disassembled and the damage to the magnetic head and the magnetic disk was examined.
There were several slight wear marks on the magnetic disk side that could be discerned with an optical microscope, but the wear was on the protective film only and did not reach the magnetic recording medium. In the apparatus, the magnetic disk assembled with the magnetic head (sputtered carbon film) of the comparative example shown in Example 17 crashed and the scratches on the magnetic head side were large.

【0088】[0088]

【発明の効果】以上説明したように本発明によると磁気
ヘッドのみならず、磁気ディスク側の耐摺動特性をも向
上させることができ、磁気ディスク装置の長寿命化に大
きな効果がある。また、磁気ディスクと磁気ヘッドの間
の浮上スペースを小さくしても必要な信頼性を確保でき
るため、磁気ディスクの記録密度をさらに向上させるこ
とができる。
As described above, according to the present invention, not only the magnetic head but also the sliding resistance of the magnetic disk can be improved, which has a great effect on extending the life of the magnetic disk device. Further, since the required reliability can be secured even if the floating space between the magnetic disk and the magnetic head is reduced, the recording density of the magnetic disk can be further improved.

【0089】これまでは磁気ディスクに限って説明をし
てきたが、このほかヘッドを用いて記録再生を行う記憶
装置であれば本発明をまったく同様に用いることがで
き、長寿命化を実現できることはいうまでもない。この
ような例としては、例えば、磁気テープ、フロッピーデ
ィスク、浮上型ヘッドを用いる光磁気ディスクなどがあ
る。
Up to now, the description has been limited to the magnetic disk, but the present invention can be used in the same manner as long as it is a storage device for recording / reproducing by using a head, and it is possible to realize a long life. Needless to say. Examples of this include a magnetic tape, a floppy disk, and a magneto-optical disk using a floating head.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は本発明の一実施例となる磁気ヘッドを模
式的に示した斜視図。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a magnetic head according to an embodiment of the present invention.

【図2】図2は同じく本発明の実施例となる磁気ヘッド
の摺動面に炭素薄膜を形成した平面図。
FIG. 2 is a plan view in which a carbon thin film is formed on the sliding surface of the magnetic head according to the embodiment of the present invention.

【図3】図3は同じく本発明の他の実施例となる磁気ヘ
ッド摺動部の断面図。
FIG. 3 is a sectional view of a magnetic head sliding portion according to another embodiment of the present invention.

【図4】図4は同じく本発明の他の実施例となる磁気ヘ
ッド摺動部の断面図。
FIG. 4 is a sectional view of a magnetic head sliding portion according to another embodiment of the present invention.

【図5】図5は炭素薄膜を形成する成膜装置の概略図。FIG. 5 is a schematic view of a film forming apparatus for forming a carbon thin film.

【図6】図6は本発明の磁気ヘッドを用いたCSS試験
の結果を示す特性曲線図。
FIG. 6 is a characteristic curve diagram showing the results of a CSS test using the magnetic head of the present invention.

【図7】図7は本発明の磁気ディスク装置の構造を示す
見取り図。
FIG. 7 is a sketch drawing showing the structure of the magnetic disk device of the present invention.

【図8】図8は炭素薄膜中の水素含有量をコントロール
する一実施例を示した特性曲線図。
FIG. 8 is a characteristic curve diagram showing an example of controlling the hydrogen content in a carbon thin film.

【図9】図9は炭素薄膜中の水素含有量と硬度との関係
を示した特性曲線図。
FIG. 9 is a characteristic curve diagram showing the relationship between hydrogen content and hardness in a carbon thin film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ヘッド本体、 2…スライダ摺動部、 3…記録再生用素子、 4…保護膜。 1 ... Head body, 2 ... Slider sliding part, 3 ... Recording / reproducing element, 4 ... Protective film.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹元 一成 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株式会社日立製作所 生産技術研究所内 (72)発明者 鬼頭 諒 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株式会社日立製作所 生産技術研究所内 (56)参考文献 特開 平4−182916(JP,A)   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Issei Takemoto               292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa               Production Engineering Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Ryo Kitou               292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa               Production Engineering Laboratory, Hitachi, Ltd.                (56) Reference JP-A-4-182916 (JP, A)

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】磁気記録再生素子の搭載されたスライダが
回転する磁気ディスク上を浮上するフローティングタイ
プの磁気ヘッドにおいて、前記スライダの摺動面に格子
形状を有する非晶質炭素薄膜が形成されて成ることを特
徴とする磁気ヘッド。
1. A floating type magnetic head in which a slider on which a magnetic recording / reproducing element is mounted floats above a rotating magnetic disk, wherein an amorphous carbon thin film having a lattice shape is formed on a sliding surface of the slider. A magnetic head characterized by being formed.
【請求項2】磁気記録再生素子の搭載されたスライダが
回転する磁気ディスク上を浮上するフローティングタイ
プの磁気ヘッドにおいて、前記スライダが酸化ジルコニ
アまたはアルミナ含有チタンカーバイドであって、前記
スライダの摺動面に近接して、しかも非摺動面を形成す
るように前記磁気記録再生素子が配置され、前記スライ
ダの摺動面に格子形状を有する非晶質炭素薄膜が形成さ
れて成ることを特徴とする磁気ヘッド。
2. A floating type magnetic head in which a slider on which a magnetic recording / reproducing element is mounted flies over a rotating magnetic disk, wherein the slider is zirconium oxide.
A or alumina-containing titanium carbide , the magnetic recording / reproducing element is arranged so as to form a non-sliding surface close to the sliding surface of the slider, and a grid shape is formed on the sliding surface of the slider. A magnetic head comprising an amorphous carbon thin film having the same.
【請求項3】前記非晶質炭素薄膜の格子の長手方向が、
前記スライダの摺動方向に略一致させて形成されて成る
ことを特徴とする請求項1もしくは2記載の磁気ヘッ
ド。
3. The longitudinal direction of the lattice of the amorphous carbon thin film is
3. The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head is formed so as to substantially match the sliding direction of the slider.
【請求項4】前記非晶質炭素薄膜の格子の長手方向が、
前記スライダの摺動方向に対して、5°〜30°の範囲
で傾斜するように形成されて成ることを特徴とする請求
項1もしくは2記載の磁気ヘッド。
4. The longitudinal direction of the lattice of the amorphous carbon thin film is
The magnetic head according to claim 1 or 2, wherein the magnetic head is formed so as to be inclined in a range of 5 ° to 30 ° with respect to the sliding direction of the slider.
【請求項5】前記格子形状が、幅1μmであり、かつ隣
接する格子の間隔が5μmであることを特徴とする請求
項1もしくは2記載の磁気ヘッド。
5. The magnetic head according to claim 1, wherein the lattice shape has a width of 1 μm, and an interval between adjacent lattices is 5 μm.
【請求項6】前記非晶質炭素薄膜のビッカース硬度が1
500Hv以上であることを特徴とする請求項1乃至4
のいずれか一つに記載の磁気ヘッド。
6. The Vickers hardness of the amorphous carbon thin film is 1.
It is 500 Hv or more, It is characterized by the above-mentioned.
The magnetic head according to any one of 1.
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