JP3325884B2 - Manufacturing method of magnetic head - Google Patents

Manufacturing method of magnetic head

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JP3325884B2
JP3325884B2 JP2001040004A JP2001040004A JP3325884B2 JP 3325884 B2 JP3325884 B2 JP 3325884B2 JP 2001040004 A JP2001040004 A JP 2001040004A JP 2001040004 A JP2001040004 A JP 2001040004A JP 3325884 B2 JP3325884 B2 JP 3325884B2
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magnetic
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は主として電子計算機
やワークステーションなどの外部記憶装置として用いら
れる磁気ディスク装置の主要部品である磁気ヘッドの製
造方法にかかわり、特に耐摺動性にすぐれ、かつ磁気デ
ィスクの摩耗をも軽減できる磁気ヘッドの製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the manufacture of a magnetic head , which is a main component of a magnetic disk drive mainly used as an external storage device such as a computer or a workstation .
The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head which is particularly excellent in sliding resistance and can reduce wear of a magnetic disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスク、フロッピー(登録商標)
ディスク、磁気テープなどの磁気記録技術を利用した記
憶装置は計算機やワークステーションなどの外部記憶装
置として広く用いられており、近年の情報量の増大に伴
ってますます大容量のものが要求されている。
2. Description of the Related Art Magnetic disks, floppy (registered trademark)
Storage devices using magnetic recording technology, such as disks and magnetic tapes, are widely used as external storage devices such as computers and workstations. I have.

【0003】一方で装置の形状は、より小型、軽量のも
のが望まれており、これらを両立させるには記録媒体の
飛躍的な記録密度向上が不可欠となっている。例えば磁
気ディスク(以下、ディスクと略称)を記録媒体とする装
置では、従来は磁気ヘッド(以下、ヘッドと略称)がディ
スクから一定の浮上スペースをもって浮上しており、こ
れによって高速なリード・ライトを行うと共にヘッドが
媒体をこするために生ずる媒体の摩耗破壊を防いでい
る。
On the other hand, it is desired that the device be smaller and lighter in shape, and it is indispensable to dramatically improve the recording density of a recording medium in order to achieve both. For example, in an apparatus using a magnetic disk (hereinafter, abbreviated as a disk) as a recording medium, a magnetic head (hereinafter, abbreviated as a head) is conventionally floated from the disk with a certain floating space, thereby enabling high-speed read / write. In addition, the wear of the medium caused by the rubbing of the medium by the head is prevented.

【0004】しかし、記録密度向上のためには前記の浮
上スペースをさらに下げヘッドをより媒体に近付けなけ
ればならず、ヘッド姿勢の変動や媒体面の凹凸、回転時
のうねりなどによってヘッドとディスクの接触の頻度が
ますます増えてくると予想される。また、究極的にはヘ
ッドとディスクが常に接触状態にあるような、いわゆる
コンタクトレコーディングの様な駆動方法も必要となっ
てくる。
However, in order to improve the recording density, the flying space must be further reduced to bring the head closer to the medium, and the head and the disk are displaced due to fluctuations in the head attitude, irregularities on the medium surface, and undulation during rotation. It is expected that the frequency of contact will increase more and more. Further, ultimately, a driving method such as so-called contact recording in which the head and the disk are always in contact with each other is required.

【0005】さらに、記録再生を高速に行うためにはデ
ィスクの回転速度も現状よりさらに高速となる。以上の
ことを考慮すると、ヘッド、ディスク共にこのような高
速での接触時の摩耗や損傷を防ぎかつ摩擦係数を低く保
つような工夫が必要であることはいうまでもない。
[0005] Furthermore, in order to perform recording and reproduction at a high speed, the rotation speed of the disk becomes higher than the current state. In consideration of the above, it is needless to say that the head and the disk need to be devised so as to prevent wear and damage at the time of such high-speed contact and to keep the friction coefficient low.

【0006】上記の事情に鑑み従来からも磁気記録媒体
の表面を保護するために各種の工夫がなされてきた。例
えば、グラファイトをスパッタリングすることによって
得られるカーボン膜、SiO2膜、セラミックス系薄膜
などを保護膜として被覆する試みがなされている。これ
らの保護膜は主として磁気記録媒体の表面を摩耗から防
ぎ、かつヘッドとの摺動時の摩擦係数を低く保つことを
目的としている。
In view of the above circumstances, various devices have been conventionally devised to protect the surface of the magnetic recording medium. For example, attempts have been made to cover as a protective film a carbon film, a SiO 2 film, a ceramic thin film, etc. obtained by sputtering graphite. The purpose of these protective films is mainly to prevent the surface of the magnetic recording medium from being worn and to keep the coefficient of friction when sliding with the head low.

【0007】しかし、磁気記録媒体の摩耗を防ぐために
その強度を強くすればするほど、これと摺動する磁気ヘ
ッドの摩耗が促進され、摩耗粉の多量発生やヘッド表面
形状の変化を招き、結果として磁気記録装置自身の信頼
性が思ったほど向上しないということが問題となってき
た。
However, as the strength of the magnetic recording medium is increased in order to prevent the abrasion of the magnetic recording medium, the abrasion of the magnetic head which slides with the magnetic recording medium is accelerated, and a large amount of abrasion powder is generated and the head surface shape is changed. As a result, there has been a problem that the reliability of the magnetic recording apparatus itself is not improved as expected.

【0008】一方、磁気ヘッドの耐摺動性向上の点から
も被摺動部に保護層を設けることは知られており、例え
ば特開昭56−107326号公報にはポリビニルアル
キルエーテルからなる樹脂層を設けることが示されてい
る。このようなことは当然考えられるものであるが、実
際にはヘッドのスライダ面は浮上中を除いて常にディス
ク面と接触しており、摩耗の度合いが著しいので上記の
保護層はすぐに摩耗消失してしまい、保護効果がなくな
るばかりでなく、これによって生じた摩耗粉がディスク
やヘッドに付着し、かえってクラッシュの原因となるな
ど、実用にならないものであった。
On the other hand, it is known that a protective layer is provided on a slidable portion also from the viewpoint of improving the sliding resistance of a magnetic head. For example, JP-A-56-107326 discloses a resin made of polyvinyl alkyl ether. It is shown that a layer is provided. Such a thing is of course conceivable, but in practice, the slider surface of the head is always in contact with the disk surface except during flying, and the degree of wear is so great that the above-mentioned protective layer wears away immediately. As a result, not only the protection effect is lost, but also the abrasion powder generated thereby adheres to the disk or the head, causing a crash, which is not practical.

【0009】また、ヘッドコアの摺動面に非晶質炭素膜
やダイヤモンド構造炭素膜、あるいはこれらの混合物か
らなるカーボン膜を保護膜として被覆する提案もなされ
ており、これらに関連するものとして例えば、特開昭6
0−193112号、特開昭63−58613号、特開
昭63−222314号公報等が挙げられる。
It has also been proposed to coat the sliding surface of the head core with an amorphous carbon film, a diamond-structured carbon film, or a carbon film made of a mixture thereof as a protective film. JP 6
0-193112, JP-A-63-58613, JP-A-63-222314, and the like.

【0010】確かにこれらカーボン膜を保護膜とした場
合は、樹脂層を設けた前者の場合に比較して優れた膜強
度を有しているが、実用化する上ではまだ耐摩耗性が不
十分であったり、摺動時に摩耗粉がでてかえってクラッ
シュの原因になるなどの問題点があった。
Although the carbon film used as the protective film has excellent film strength as compared with the former case in which the resin layer is provided, the wear resistance is still insufficient for practical use. There have been problems such as being insufficient or causing abrasion powder during sliding and causing a crash.

【0011】特に上記の公知例はいずれもヘッドの素子
部を保護する目的で形成されたものであり、素子の表面
を覆うように形成されている。したがって、十分な寿命
を得るためには保護層を厚くせざるを得ず、厚くすると
ヘッド素子と記録媒体との間のギャップが広がり、高記
録密度にできないという欠点を持っていた。
In particular, the above-mentioned known examples are all formed for the purpose of protecting the element portion of the head, and are formed so as to cover the surface of the element. Therefore, in order to obtain a sufficient life, the protective layer has to be thickened, and if it is thickened, the gap between the head element and the recording medium is widened, so that a high recording density cannot be obtained.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は従来の炭素膜を保護膜とした場合の問題点を解消
することにあり、ヘッドと磁気ディスクとの双方の摺動
部における損傷を防ぎ、かつ摺動時の摩擦係数の変化を
小さくすることを可能とする改良された磁気ヘッドの製
造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to solve the problems in the case where a conventional carbon film is used as a protective film, and to prevent damage to sliding portions of both a head and a magnetic disk. The manufacture of an improved magnetic head that prevents and reduces the change in the coefficient of friction during sliding
It is to provide a manufacturing method .

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的のためには磁気
ヘッドが搭載されるスライダ摺動部に超薄膜でも耐摩耗
性が高くしかも摩耗粉が発生しにくく、かつ記録媒体へ
のダメージも少なくなるような材料を用いた保護層を形
成するのがよい。
In order to achieve the above object, the slider sliding portion on which the magnetic head is mounted has high abrasion resistance even with an ultra-thin film, hardly generates abrasion powder, and has little damage to the recording medium. It is preferable to form a protective layer using such a material.

【0015】例えば、回転するディスク上にヘッドが浮
上するフローティングタイプのヘッドを備えた固定型磁
気ディスク装置の場合では、装置の起動停止の際にヘッ
ドとディスクは20〜40m/secという高速で摺動
し、動作時は0.1〜0.3μmという狭い間隔スペース
を保って浮上している。したがって、上記保護層はこの
浮上間隔スペースに大きく影響しないような厚さでなけ
ればならず、しかも上記摺動を何万回も繰り返しても摩
耗により特性が落ちないようにしなければならない。
For example, in the case of a fixed magnetic disk drive having a floating type head in which the head floats on a rotating disk , the head and the disk slide at a high speed of 20 to 40 m / sec when the device is started and stopped. In operation, it floats with a narrow space of 0.1 to 0.3 μm. Therefore, the protective layer must have such a thickness that does not greatly affect the space between the floating portions, and furthermore, the characteristics must not be deteriorated by abrasion even if the sliding is repeated tens of thousands of times.

【0016】ヘッドの摺動部に保護層を設けることが容
易に実現しないのは、正に上記のような条件を満たす適
切な保護層材料がなかったからにほかならない。本発明
者らは各種の材料でコーティングを試み、種々実験検討
の結果、特定のカーボン系保護膜が上記目的に適してい
るという知見を得た。
Providing a protective layer on the sliding portion of the head is not easily realized only because there is no suitable protective layer material satisfying the above conditions. The present inventors have attempted coating with various materials, and as a result of various experimental studies, have found that a specific carbon-based protective film is suitable for the above purpose.

【0017】本発明は、かかる知見に基づいて為された
ものであり、その具体的な目的達成手段につき以下に順
次説明する。
The present invention has been made based on such knowledge, and specific means for achieving the object will be sequentially described below.

【0018】上記本発明の目的は、磁気記録再生素子の
搭載されたスライダが回転する磁気ディスク上を浮上す
るフローティングタイプの磁気ヘッドの製造方法であっ
て、前記スライダ上に非晶質炭素薄膜を形成する工程
と、前記非晶質炭素薄膜上に所定の幅及び間隔を有する
格子形状のマスクを形成する工程と、前記マスクによっ
て覆われた領域以外の前記非晶質炭素薄膜を加工する工
程とを備えて成ることを特徴とする磁気ヘッドの製造方
により、達成される。そして、前記非晶質炭素薄膜の
加工は、酸素プラズマ雰囲気中でなされることが好まし
い。
An object of the present invention is to provide a magnetic recording / reproducing element.
The mounted slider flies above the rotating magnetic disk
Method of manufacturing a floating type magnetic head.
Forming an amorphous carbon thin film on the slider
Having a predetermined width and interval on the amorphous carbon thin film
Forming a lattice-shaped mask; and
Processing the amorphous carbon thin film other than the area covered with
Manufacturing a magnetic head, comprising:
Achieved by law . And, the amorphous carbon thin film
Processing is preferably done in an oxygen plasma atmosphere
No.

【0019】ここで重要なのは、微細な凹凸を有する非
晶質炭素薄膜を、スライダの摺動部に形成することであ
る。そのためにスライダの摺動部に形成された炭素薄膜
上に、例えばレジスト膜を設け、フォトリソグラフィー
によりレジストのパターニングを行い微細な格子形状の
マスクを形成して、レジストマスクのない部分の非晶質
炭素薄膜を例えば酸素プラズマなどで選択的にエッチン
グ除去して炭素薄膜を加工することである
What is important here is that the non-
Forming a crystalline carbon thin film on the sliding part of the slider.
You. For this purpose, a carbon thin film formed on the sliding part of the slider
On top, for example, a resist film is provided, and photolithography is performed.
Patterning of the resist by using
After forming a mask, the amorphous portion of the part without the resist mask
Selectively etch carbon thin film with oxygen plasma, for example.
To process the carbon thin film by removing the carbon .

【0020】[0020]

【0021】[0021]

【0022】ここで、上記本発明の特徴ある炭素薄膜に
ついて本発明者等が得た知見につき更に詳述すると以下
の通りである。
Here, the findings obtained by the present inventors regarding the carbon thin film characteristic of the present invention will be described in more detail as follows.

【0023】上記の非晶質炭素薄膜については、特にカ
ーボン系の中でも炭化水素ガスをプラズマ中で分解し、
負のバイアス電圧のかかる基板に堆積させることにより
形成される非晶質水素化カーボン膜がよいことがわかっ
た。これはプラズマCVDと称される周知の成膜技術で
あるが、また、これと同様に炭化水素をイオン化して負
のバイアス電圧のかかる基板に引き付け成膜する所謂イ
オンビームデポジションも有効であった。これらの成膜
法で得られた材料は硬度が高い上にクラックが発生しに
くく、摩擦係数も低く、かつ摩耗粉が発生しにくいとい
う、本発明に最も適した性質を有している。また、摩耗
速度がきわめて小さいためにごく薄い膜でも大きな効果
を発揮することができる。
With respect to the above - mentioned amorphous carbon thin film, hydrocarbon gas is decomposed in a plasma, especially among carbon-based thin films.
It has been found that an amorphous hydrogenated carbon film formed by deposition on a substrate to which a negative bias voltage is applied is good. This is a well-known film forming technique called plasma CVD. Similarly, a so-called ion beam deposition, which ionizes hydrocarbons and attracts them to a substrate to which a negative bias voltage is applied to form films, is also effective. Was. The materials obtained by these film forming methods have properties most suitable for the present invention such that they have high hardness, are hardly cracked, have a low coefficient of friction, and hardly generate abrasion powder. Further, since the abrasion speed is extremely low, even a very thin film can exert a great effect.

【0024】この非晶質水素化カーボン膜は、前述のと
おり適量の水素を含有するが、この水素含有量のコント
ロールはCVD条件、例えば原料ガス圧、プラズマを発
生させる際に投入する電力等を適切に制御すれば容易に
行なうことができる。水素は炭化水素が分解して炭素膜
になる際に、大部分は分解脱離するが一部は膜中にトラ
ップされ、炭素鎖の末端に結合して膜を安定化する効果
を持つと考えられる。
The amorphous hydrogenated carbon film contains an appropriate amount of hydrogen as described above. The hydrogen content is controlled by controlling the CVD conditions, for example, the pressure of the raw material gas, the electric power applied when generating plasma, and the like. It can be easily done if properly controlled. Hydrogen is considered to have the effect of decomposing and desorbing most when hydrocarbons are decomposed into a carbon film, but partly trapped in the film and bonding to the end of the carbon chain to stabilize the film. Can be

【0025】また、上記の微細な凹凸面を有する炭素薄
膜については、前記の非晶質水素化カーボン薄膜が好ま
しいが、これに限らず例えばダイヤモンド微結晶を含む
炭素系薄膜であっても良い。重要なのは微細な凹凸を有
する炭素系薄膜を摺動部に形成することである。
The carbon thin film having the fine uneven surface is preferably the above - mentioned amorphous hydrogenated carbon thin film, but is not limited thereto, and may be, for example, a carbon-based thin film containing diamond microcrystals. What is important is to form a carbon-based thin film having fine irregularities on the sliding portion.

【0026】このようにして形成した微細な凹凸はヘッ
ドとディスクとの間の接触面積を小さくし、摩擦係数を
低減する効果がある。この微細な凹凸の程度について
は、平均粗さ(Ra)で約2〜50nm、最大突起高さ
100nm以下のものであり、近接する突起間の平均距
離が10〜1000nmのものである。これよりも平均
粗さが粗いか、最大突起高さが高いとディスクを傷つけ
る恐れがある。また、平均粗さが上記より小さいと摩擦
係数低減の効果が小さくなる。
The fine irregularities formed in this way have the effect of reducing the contact area between the head and the disk and reducing the coefficient of friction. About the degree of this fine unevenness
Has an average roughness (Ra) of about 2 to 50 nm, a maximum projection height of 100 nm or less, and an average distance between adjacent projections of 10 to 1000 nm. If the average roughness is higher or the maximum protrusion height is higher, the disc may be damaged. If the average roughness is smaller than the above, the effect of reducing the friction coefficient is reduced.

【0027】なお、ヘッド摺動部に凹凸をつける方法に
は、気相成長法によりダイヤモンド微結晶からなる微細
な凹凸を有する堆積物を形成するほか、非晶質炭素薄膜
をヘッドのスライダ摺動面、ディスク表面に形成した
後、この炭素薄膜上にレジスト膜を設け、フォトリソグ
ラフィーによりレジストのパターニングを行い微細なマ
スクを形成して、レジストマスクのない部分の非晶質炭
素膜を例えば酸素プラズマなどで選択的にエッチング除
去してもよい。
The method of providing the head sliding portion with irregularities includes forming a deposit having fine irregularities composed of diamond microcrystals by a vapor phase epitaxy method, and forming an amorphous carbon thin film on the slider sliding portion of the head. After forming a resist film on this carbon thin film, patterning the resist by photolithography to form a fine mask, and forming a non-resist maskless portion of the amorphous carbon film with, for example, oxygen plasma For example, it may be selectively etched away.

【0028】このリソグラフィーによる選択エッチング
方法によると所望の形状の凹凸を形成することができ
る。例えば、ヘッドの摺動方向にそろった格子状の凹凸
を形成すると、ディスクに対するダメージが小さく、高
速回転時に有利である。
According to this selective etching method by lithography, it is possible to form irregularities of a desired shape. For example, forming a lattice-like unevenness in the head sliding direction is advantageous in that the damage to the disk is small and the disk is rotated at a high speed.

【0029】また、この格子状の凹凸をスライダの摺動
方向と30°以内、好ましくは5〜30°傾斜させて形
成すると、摺動により発生した微粉等の汚れのかきと
り、排除の効果があり更に信頼性が向上する。
Further , when the grid-like irregularities are formed at an angle of 30 ° or less, preferably 5 to 30 ° with respect to the sliding direction of the slider, there is an effect of removing and removing dirt such as fine powder generated by the sliding. Further, the reliability is improved.

【0030】また、摺動時の摩擦係数をさらに下げるた
めには、ヘッド摺動部に潤滑剤を付着させるのがよい。
この潤滑剤とは例えばパーフロロポリエーテルまたはパ
ーフロロアルキルからなる主鎖を持ち、少なくとも一方
の末端がエーテル基、エステル基、水酸基、カルボニル
基、アミノ基、アミド基などの極性基で置換された分子
量1000〜10000程度のものを使うのが最もよ
い。このほかに飽和脂肪酸やその誘導体、高級アルコー
ルやその誘導体なども用いることができる。
Further, the friction coefficient at the time of sliding is further reduced.
For this purpose, it is preferable to apply a lubricant to the head sliding portion .
This lubricant has a main chain composed of, for example, perfluoropolyether or perfluoroalkyl, and at least one terminal is substituted with a polar group such as an ether group, an ester group, a hydroxyl group, a carbonyl group, an amino group, or an amide group. It is best to use one having a molecular weight of about 1,000 to 10,000. In addition, saturated fatty acids and their derivatives, higher alcohols and their derivatives, and the like can also be used.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】〔磁気ヘッドについての具体的
な説明〕 つぎに、本発明による磁気ヘッドの具体的構造を図を参
照しながら説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [Specific Description of Magnetic Head] Next, a specific structure of a magnetic head according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0032】図1は本発明の磁気ヘッドの構造をスライ
ダ底面側からみた斜視図を模式的に示したものである。
ヘッドのスライダ本体1は酸化ジルコニア、アルミナ含
有チタンカーバイド、フェライトなどの材料でできてお
り、2本のスライダ摺動部2が機械加工やエッチング処
理などで形成されている。
FIG. 1 schematically shows a perspective view of the structure of a magnetic head according to the present invention as viewed from the bottom surface of a slider.
The slider body 1 of the head is made of a material such as zirconia oxide, alumina-containing titanium carbide, or ferrite, and two slider sliding portions 2 are formed by machining or etching.

【0033】このスライダ摺動部2の後部側面には磁気
信号を電気信号に変えるための記録再生素子3が摺動面
に近接して、ただし摺動面上から若干後退して非摺動面
を形成して配設、搭載されている。スライダ摺動部2は
橇の形状をしており、先頭2aおよび末尾2bの部分は
ヘッド走行時にエッジが当たらないようにテーパがつけ
られている。図の斜線部の摺動面に本発明の特徴あるカ
ーボンからなる保護層4が設けられている。
A recording / reproducing element 3 for converting a magnetic signal into an electric signal is provided on the rear side surface of the slider sliding portion 2 in close proximity to the sliding surface, but slightly recedes from the sliding surface to form a non-sliding surface. Formed, arranged and mounted. The slider sliding portion 2 has a sled shape, and the leading portion 2a and the trailing portion 2b are tapered so that the edge does not hit when the head is running. The protective layer 4 made of carbon, which is a feature of the present invention, is provided on the sliding surface of the hatched portion in the figure.

【0034】図2は、スライダ摺動部2の摺動面をカー
ボン保護層4で覆ったヘッド裏面の平面図を模式的に示
したものであり、図2(a)は上記の非晶質炭素薄膜保
護膜を形成した例、図2(b)は上記した微細な凹凸を
有するカーボン保護層を形成した例、図2(c)は上記
したようにスライダの摺動方向に格子の長手方向がそろ
った格子状の微細な凹凸を有するカーボン保護層を形成
した例、図2(d)は同じく上記したように格子の向き
をスライダの摺動方向に対して30°以内の角度θを持
たせて形成した例である。
[0034] FIG. 2 is a plan view of the head rear surface covering the sliding surface of the slider sliding portion 2 in the carbon protective layer 4 shows schematically, FIG. 2 (a) above amorphous examples example of forming a carbon protective film, FIG. 2 (b) forming a carbon protective layer having fine asperities as described above, FIG. 2 (c) above
Example of forming a carbon protective layer having a longitudinal direction uniform grid-like fine irregularities of the lattice in the sliding direction of the slider as, FIG. 2 (d) also sliding of the slider the direction of the grating as described above This is an example in which an angle θ within 30 ° with respect to the moving direction is formed.

【0035】図3はスライダ摺動部2の摺動面にカーボ
ン保護層4を形成した図1のX−X′断面拡大図を示し
たものであり、図3(a)は均一な厚さの膜を設けた場
合、図3(b)は微細な凹凸のある膜を設けた場合、図
3(c)は粒子状堆積物5を設けた場合、図3(d)は
粒子状堆積物5の上に均一な厚さの保護膜4を設けた場
合である。
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view taken along the line XX 'of FIG. 1 in which a carbon protective layer 4 is formed on the sliding surface of the slider sliding portion 2. FIG. 3 (a) shows a uniform thickness. 3 (b) shows a case where a film having fine irregularities is provided, FIG. 3 (c) shows a case where a particulate deposit 5 is provided, and FIG. 3 (d) shows a particulate deposit. In this case, a protective film 4 having a uniform thickness is provided on the protective film 5.

【0036】また、図4(a)〜(d)は、図3(a)
〜(d)の上にさらに潤滑層6を設けた場合の断面拡大
図である。
FIGS. 4 (a) to 4 (d) correspond to FIGS.
FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view when a lubricating layer 6 is further provided on (d).

【0037】上記の例ではスライダ摺動部2を左右に2
本持つ薄膜磁気ヘッドについて説明したが、本発明はも
ちろんこの型のヘッドに限定されるものではなく、ヘッ
ドと記録媒体との摺動、接触が生じるような構造のヘッ
ドであればいずれの場合でも効果がある。
In the above example, the slider sliding portion 2 is
Although the thin-film magnetic head having the present invention has been described, the present invention is of course not limited to this type of head, and any type of head having a structure in which sliding and contact between the head and the recording medium occur is applicable. effective.

【0038】本発明における保護膜は主として炭素から
なる硬質かつ非晶質の薄膜であり、これを例えば1μm
以上の厚さに形成した場合はマイクロビッカース硬さに
して約1500Hv以上、密度にして1.7〜2.4とな
るものでり、また水素を含む場合はその原子数比率が3
〜30原子%のものである。上記の範囲以外の皮膜は柔
らかく、摩耗速度が大きいか、脆く壊れやすいため好ま
しくない。上記の炭素薄膜は例えば次のような方法によ
り形成することができる。
The protective film according to the present invention is a hard and amorphous thin film mainly composed of carbon.
When formed to the above thickness, the micro Vickers hardness becomes about 1500 Hv or more and the density becomes 1.7 to 2.4. When hydrogen is contained, the atomic number ratio is 3
-30 atomic%. Coatings outside the above range are not preferred because they are soft, have a high wear rate, or are brittle and fragile. The carbon thin film can be formed, for example, by the following method.

【0039】〔ヘッドへの炭素薄膜の具体的な形成例
の説明〕 -1).炭化水素ガスを単独または他のガスと混合して
原料とし、プラズマを発生させて、基板表面がプラズマ
電位に対し100V以上電位降下を生じるような条件で
CVD(ケミカルベイパーデポジション)を行う。最も
簡便には被処理基板を一方の電極とし、この面積より十
分に広い電極との間に商用高周波(13.56MHz)
などの高周波電圧を印加し、プラズマを発生させて、基
板近傍に発生する自己バイアス電圧によりイオンを加速
するようにして膜形成するのがよい。この方法に用いる
装置の例を図5(a)に示す。
[Description of Specific Example of Forming Carbon Thin Film on Head] -1). A hydrocarbon gas is used alone or mixed with another gas to form a raw material, plasma is generated, and CVD (chemical vapor deposition) is performed under conditions such that the substrate surface has a potential drop of 100 V or more with respect to the plasma potential. Most simply, the substrate to be processed is one electrode, and a commercial high frequency (13.56 MHz) is placed between the substrate and an electrode sufficiently larger than this area.
It is preferable to form a film by applying a high-frequency voltage such as that described above, generating plasma, and accelerating ions by a self-bias voltage generated near the substrate. FIG. 5A shows an example of an apparatus used in this method.

【0040】-2).炭化水素ガスを単独または他のガ
スと混合して原料とし、このガスをイオン化室でイオン
化し、発生するイオンを電界で100〜1000V程度
に加速して基板に衝突させる。この方法に用いる装置の
例を図5(b)に示す。
-2). A hydrocarbon gas is used alone or as a mixture with another gas to produce a raw material. This gas is ionized in an ionization chamber, and the generated ions are accelerated to about 100 to 1000 V by an electric field to collide with a substrate. FIG. 5B shows an example of an apparatus used in this method.

【0041】また、前記のダイヤモンド微結晶を含む堆
積物を成長させるには次のような方法が周知であり、こ
れらのうちから生成速度、設定できる基板温度の上限な
どを考慮して選択するのがよい。
The following methods are well-known for growing the above-mentioned deposits containing diamond microcrystals, and the following methods are selected from these methods in consideration of the production rate, the upper limit of the settable substrate temperature, and the like. Is good.

【0042】-3).主として炭化水素系のガスと水素
との混合ガスを原料としてマイクロ波プラズマを発生さ
せると共に基板を200℃〜700℃に加熱する。上記
のプラズマ領域に磁場を印加し、いわゆるエレクトロン
サイクロトロン共鳴とよばれる現象が発生する条件で処
理するとプラズマ密度が高まり、ダイヤモンド粒子の成
長速度を高めることができる。上記より成長速度は小さ
くなるが、上記のマイクロ波プラズマの代わりに高周波
プラズマや直流プラズマを用いてもよい。この方法に用
いる装置の例を図5(c)に示す。
-3). Microwave plasma is generated mainly using a mixed gas of a hydrocarbon gas and hydrogen as a raw material, and the substrate is heated to 200 ° C. to 700 ° C. When a magnetic field is applied to the above-described plasma region and the treatment is performed under conditions that cause a phenomenon called electron cyclotron resonance, the plasma density increases, and the growth rate of diamond particles can be increased. Although the growth rate is lower than the above, high-frequency plasma or DC plasma may be used instead of the microwave plasma. FIG. 5C shows an example of an apparatus used in this method.

【0043】-4).基板を700℃〜1000℃程度
に加熱し、炭化水素ガスと水素ガスの混合ガスを導入し
て基板面に熱反応によりダイヤモンド粒子を生成させ
る。
-4). The substrate is heated to about 700 ° C. to 1000 ° C., a mixed gas of hydrocarbon gas and hydrogen gas is introduced, and diamond particles are generated on the substrate surface by a thermal reaction.

【0044】-5).炭化水素ガスと水素ガスの混合ガ
スを大気圧以下に保持し、基板に近接して配置されたタ
ングステンなどのフィラメントに電流を流して発生する
熱電子を利用して原料ガスを反応させる。
-5). A mixed gas of a hydrocarbon gas and a hydrogen gas is maintained at a pressure lower than the atmospheric pressure, and a raw material gas is reacted by utilizing a thermoelectron generated by applying a current to a filament such as tungsten arranged close to the substrate.

【0045】-6).炭化水素分子をイオン化し、30
0V〜2000Vのエネルギーで基板に衝突させる。
-6). Ionize hydrocarbon molecules, 30
The substrate is caused to collide with an energy of 0 V to 2000 V.

【0046】-7).大気圧下で炭化水素ガスの燃焼炎
のうち還元炎の部分に基板を配置し、基板表面にダイヤ
モンド粒子を生成させる。
-7). The substrate is placed at the reducing flame portion of the hydrocarbon gas combustion flame under atmospheric pressure, and diamond particles are generated on the substrate surface.

【0047】実際には磁気ヘッドの素子の耐熱性が低い
場合が考えられるので、できるだけ低温で形成できるこ
とが好ましく、-3)のマイクロ波CVD法が最も適し
ている。
Actually, since the heat resistance of the element of the magnetic head may be low, it is preferable that the magnetic head can be formed at a temperature as low as possible, and the microwave CVD method of -3) is most suitable.

【0048】なお、上記の方法では往々にしてダイヤモ
ンドの他に非晶質炭素も同時に生成するが、これは非晶
質炭素ではあっても往々にして密度が低くもろいもので
あり、本発明の特徴ある適量の水素を含有する非晶質炭
素とは異なり、場合によっては本発明の目的とする耐摺
動性の向上に悪影響を及ぼす。したがってこのような場
合にはO2やH2のプラズマにより非晶質部分をアッシン
グまたはエッチングして取り除いた方がよい。
In the above-mentioned method, amorphous carbon is often formed simultaneously with diamond in addition to the diamond. This is because amorphous carbon often has a low density and is brittle. Unlike amorphous carbon containing an appropriate amount of characteristic hydrogen, it may have an adverse effect on the improvement of the sliding resistance intended in the present invention in some cases. Therefore, in such a case, it is better to remove the amorphous portion by ashing or etching with O 2 or H 2 plasma.

【0049】上記の非晶質炭素薄膜またはダイヤモンド
粒子を含む炭素薄膜の生成方法に用いられる原料は、主
として炭素と水素からなる炭化水素化合物であり、酸素
その他の原子を含んでいてもかまわない。
The raw material used in the above-mentioned method for producing an amorphous carbon thin film or a carbon thin film containing diamond particles is a hydrocarbon compound mainly composed of carbon and hydrogen, and may contain oxygen and other atoms.

【0050】具体的には、メタン、エタン、プロパン、
ブタン、ペンタン、ヘキサンなどの飽和炭化水素類、エ
チレン、アセチレン、プロペン、ブテンなどの不飽和炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノールな
どのアルコール類、アセトアルデヒド、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン類、ジメチルエーテル、メ
チルエチルエーテル、ジエチルエーテルなどのエーテル
類などが用いられる。
Specifically, methane, ethane, propane,
Saturated hydrocarbons such as butane, pentane and hexane; unsaturated hydrocarbons such as ethylene, acetylene, propene and butene; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; alcohols such as methanol, ethanol and propanol; Ketones such as acetaldehyde, acetone and methyl ethyl ketone, and ethers such as dimethyl ether, methyl ethyl ether and diethyl ether are used.

【0051】また、これらの2種以上の混合ガス、ある
いはXr、Ar、He、Ne、O2、H2O、N2など
との混合ガスを用いてもよい。さらに、上記の炭化水素
分子の中の一部の水素がフッ素で置換されたものを用い
ることもできる。
A mixed gas of two or more of these, or a mixed gas with Xr, Ar, He, Ne, O 2 , H 2 O, N 2, etc. may be used. Further, a hydrocarbon molecule in which some of the hydrogen atoms in the above-described hydrocarbon molecule have been replaced with fluorine can also be used.

【0052】上記主として非晶質炭素からなる薄膜ある
いはダイヤモンド微結晶を含む堆積物の厚さは、厚すぎ
るとヘッドと磁性層の間の実質的な間隔が広がりS/N
の低下を招くので50nm以下が好ましい。一方で薄す
ぎると摩耗により効果が小さくなるので10nm以上が
好ましい。
If the thickness of the thin film mainly composed of amorphous carbon or the deposit containing diamond microcrystals is too large, the substantial distance between the head and the magnetic layer is increased and the S / N ratio is increased.
Is preferably 50 nm or less, since this causes a decrease in On the other hand, if the thickness is too thin, the effect is reduced due to abrasion.

【0053】〔ヘッドへの潤滑膜の具体的な形成例〕上記した ヘッドを実現するために、ヘッドスライダ摺動
部の保護膜に潤滑剤を塗布する方法としては次のような
ものがある。
[Specific Example of Forming Lubricating Film on Head] In order to realize the above-described head, there are the following methods for applying a lubricant to the protective film of the sliding portion of the head slider.

【0054】-1).潤滑剤分子を溶かした溶液にヘ
ッドを浸し、一定時間保持したのち引き上げるディップ
法。
-1). A dip method in which the head is immersed in a solution in which lubricant molecules are dissolved, held for a certain period of time, and then pulled up.

【0055】-2).潤滑剤分子を溶かした溶液をス
プレーし、溶剤を揮発させるスプレー法。
-2). A spray method in which a solution of lubricant molecules is sprayed to evaporate the solvent.

【0056】-3).潤滑剤分子を真空槽のなかで蒸
発させ、ヘッドスライダ部表面に蒸着させる蒸着法。
-3). A vapor deposition method in which lubricant molecules are vaporized in a vacuum chamber and vapor-deposited on the surface of the head slider.

【0057】もちろん、これらの方法に限られるもので
はない。また、潤滑剤の量は多すぎるとヘッドと磁気記
録媒体の接触部分に集まり、ヘッドを固定してしまう粘
着現象が起こり、また少ないと潤滑作用が小さくなるの
である範囲に制御することが必要である。この量は潤滑
剤の種類や分子量にも依存するが、一般には膜厚換算に
して1〜50nm、好ましくは2〜10nmがよい。
Of course, the method is not limited to these methods. If the amount of the lubricant is too large, it collects at the contact portion between the head and the magnetic recording medium, causing an adhesion phenomenon that fixes the head, and if the amount is small, the lubricating action is reduced, so that it is necessary to control the amount within a range. is there. This amount depends on the type and molecular weight of the lubricant, but is generally 1 to 50 nm, preferably 2 to 10 nm in terms of film thickness.

【0058】また、潤滑剤分子として末端または分子鎖
中にカルボニル基、カルボキシル基、エステル基、エー
テル結合、アミド基、アミノ基、水酸基など分極性の大
きな基をもっているものを用い、前記保護層表面にA
l、Fe、Ni、Co、Agなどの金属またはその化合
物を微量存在させるようにすると保護層と潤滑剤との間
に強い結合ができ、粘着現象を低減することができる。
Further, a lubricant molecule having a highly polarizable group such as a carbonyl group, a carboxyl group, an ester group, an ether bond, an amide group, an amino group, a hydroxyl group at the terminal or in the molecular chain is used. A
When a small amount of a metal such as l, Fe, Ni, Co, or Ag or a compound thereof is present, a strong bond can be formed between the protective layer and the lubricant, and the sticking phenomenon can be reduced.

【0059】〔磁気ディスクへの炭素薄膜の形成〕 磁気ディスクの摺動信頼性をさらに向上させるために
は、本発明の磁気ヘッドに適用した特定の保護膜と同質
のものを磁気ディスクの保護膜として設けるのがよい。
特に好ましいのは上記磁気ヘッドの保護膜に用いたのと
同じ方法で形成される非晶質水素化カーボン膜である。
また、この保護膜の上に潤滑層を設けるとさらに信頼性
を向上できる。この潤滑層の材料や形成方法も上記磁気
ヘッドの場合に説明したものと同様のものを用いること
ができる。
[Formation of Carbon Thin Film on Magnetic Disk] In order to further improve the sliding reliability of the magnetic disk, a protective film of the same quality as the specific protective film applied to the magnetic head of the present invention should be used. It is good to provide as.
Particularly preferred is an amorphous hydrogenated carbon film formed by the same method as that used for the protective film of the magnetic head.
Further, if a lubricating layer is provided on this protective film, the reliability can be further improved. The same material and method for forming the lubricating layer can be used as those described for the magnetic head.

【0060】本発明により磁気ディスク装置の信頼性が
向上するのは次のような理由による。磁気ディスクが故
障する際はほとんどディスク側が損傷する。これは磁気
記録媒体の機械的強度が弱いためであり、このために従
来から耐摩耗性の高い保護層を設けたり潤滑層を設けた
りする工夫がなされている。
The reason that the reliability of the magnetic disk drive is improved by the present invention is as follows. When a magnetic disk fails, the disk side is almost completely damaged. This is because the mechanical strength of the magnetic recording medium is low. For this reason, a contrivance has been made to provide a protective layer having high wear resistance or a lubricating layer.

【0061】しかし、本発明者らは、磁気ヘッドと磁気
ディスクの摺動における磁気ヘッドの役割あるいは影響
が大きいと考え、磁気ヘッドが磁気ディスクと摺動する
部分も適当な材質および形状にする必要があると考え
た。なぜならば、磁気ヘッドと磁気ディスクの摺動にお
いて発生する両者の接触面積に依存するはずであり、摺
動前は表面の微細な凹凸により比較的小さな接触面積が
摺動と共に摩耗で大きくなり、これが摩擦力増加ひいて
はヘッドクラッシュにつながると思われるからである。
However, the present inventors consider that the role or influence of the magnetic head on the sliding of the magnetic head and the magnetic disk is great, and it is necessary to make the part where the magnetic head slides on the magnetic disk also an appropriate material and shape. I thought there was. This is because it depends on the contact area between the magnetic head and the magnetic disk that occurs during sliding. Before sliding, a relatively small contact area due to fine irregularities on the surface increases due to abrasion along with the sliding. This is because it is considered that the frictional force is increased, which may lead to a head crash.

【0062】すなわち、磁気ヘッドの摩耗を防ぐことに
より摩擦力の変化が小さくなり、磁気ディスク側のダメ
ージも押さえられ、信頼性が向上するはずである。これ
を実現するためには耐摩耗性の高い保護層が必要であ
り、本発明者らは各種材料を比較検討し、特定の炭素系
材料が優れていることを見いだしたのである。特定の炭
素系材料とは、先に述べたように非晶質炭素およびダイ
ヤモンド微結晶を含む堆積物である。これらは次のよう
な特徴を持ち、これが耐摺動性向上に作用していると考
えられる。
That is, by preventing the wear of the magnetic head, the change in frictional force is reduced, damage on the magnetic disk side is suppressed, and reliability should be improved. To achieve this, a protective layer with high wear resistance is required, and the present inventors have compared and examined various materials and found that a specific carbon-based material was superior. The specific carbon-based material is a deposit containing amorphous carbon and diamond crystallites as described above. These have the following characteristics, which are considered to be acting to improve the sliding resistance.

【0063】すなわち、(a)硬度が高い(ビッカース
硬度で1500 〜5000)。 (b)摺動時に大きな摩耗粉が発生しにくい。 (c)摺動相手の材料に付着しにくい。
That is, (a) the hardness is high (Vickers hardness is 1500 to 5000). (B) Large abrasion powder is hardly generated during sliding. (C) It does not easily adhere to the sliding partner material.

【0064】本発明においては上記磁気ヘッドも磁気デ
ィスクも共に相互の摺動面に同質の炭素系保護膜を設け
ている。一般に摩擦摩耗の分野では所謂ともずりと称さ
れる同質の材料同志の組み合わせは摩耗を促進するとさ
れる。しかし、本発明のカーボン系材料に限っては、逆
に同質の材料で相乗効果があり、飛躍的に耐摩耗性が向
上することがわかった。これは前記の炭素系材料の特徴
からいって一般的に同質材料同志の摺動で問題となる凝
着現象がおきにくいためと考えられる。
In the present invention, both the magnetic head and the magnetic disk are provided with a homogeneous carbon-based protective film on their sliding surfaces. Generally, in the field of friction wear, a combination of materials of the same quality, which is called so-called warp, promotes wear. However, only the carbon-based material of the present invention has a synergistic effect with a material of the same quality, and it has been found that the wear resistance is dramatically improved. This is considered to be due to the fact that the adhesion phenomenon, which is generally a problem in sliding between similar materials, is unlikely to occur due to the characteristics of the carbon-based material.

【0065】本発明を用いて磁気ディスク装置の摺動信
頼性以外の性能を向上させることもできる。すなわち、
磁気ヘッド側の摩耗が低減すれば磁気ヘッドの摺動部の
表面粗さを粗くしてやることにより磁気ディスク側の表
面を粗くしなくても前記の摩擦力上昇を防ぐことができ
る。したがって、磁気ディスクの表面を平滑にすること
ができ、磁気ヘッドの浮上量を低減でき、記録密度向上
およびS/N向上に効果がある。
The present invention can be used to improve performance other than the sliding reliability of the magnetic disk drive. That is,
If the wear on the magnetic head side is reduced, the above-mentioned increase in frictional force can be prevented without making the surface on the magnetic disk side rough by increasing the surface roughness of the sliding portion of the magnetic head. Therefore, the surface of the magnetic disk can be smoothed, the flying height of the magnetic head can be reduced, and the recording density and S / N can be improved.

【0066】また、本発明により磁気ヘッド、磁気ディ
スクの摩耗が大きく低減されるので、磁気ヘッドと磁気
ディスクが常時または断続的に接触するような状態で記
録再生を行ういわゆるコンタクトレコーディングのよう
な厳しい条件においても好適に使用することができる。
Further, since the wear of the magnetic head and the magnetic disk is greatly reduced by the present invention, severe conditions such as so-called contact recording, in which recording and reproduction are performed in a state where the magnetic head and the magnetic disk are in constant or intermittent contact. It can be suitably used under the conditions.

【0067】[0067]

【実施例】以下に実施例を示し、更に本発明を具体的に
説明する。 〈実施例1〉酸化ジルコニアなど透磁率の高い材料でで
きた厚さ4mmのウエハを用意し、この表面に真空蒸
着、めっき、スパッタリングなどの薄膜形成工程とフォ
トリソグラフィ工程を用いてコア材料およびコイル材
料、電極、保護層などの必要パターンを形成する。この
ようにして形成した薄膜磁気ヘッド素子3をウエハから
切りだし、機械加工により図1の様な形状のヘッド本体
1とした。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. <Example 1> A wafer having a thickness of 4 mm made of a material having high magnetic permeability such as zirconia oxide was prepared, and a core material and a coil were formed on the surface by using a thin film forming process such as vacuum evaporation, plating, and sputtering and a photolithography process. Form necessary patterns such as materials, electrodes, and protective layers. The thin-film magnetic head element 3 formed in this manner was cut out from the wafer, and the head body 1 having the shape shown in FIG. 1 was formed by machining.

【0068】つぎにスライダ摺動部2の摺動面を鏡面研
磨し、テーパ部2aと側面エッジ部2bの面とり加工を
行い、橇状の摺動部2を形成した。このヘッド本体1を
洗浄し加工残渣を取り除いた後、スライダ摺動部側を表
にして図5(a)に示すような内部電極型高周波プラズマ
発生装置のバイアスのかかる側の電極に置き、メタンガ
スを50sccmの流量で導入してガス圧が50mTo
rrになるように排気速度を調整した。
Next, the sliding surface of the slider sliding portion 2 was mirror-polished, and the tapered portion 2a and the side edge portion 2b were chamfered to form a sled-shaped sliding portion 2. After cleaning the head main body 1 to remove processing residues, the slider sliding portion is placed face up on an electrode on the biased side of the internal electrode type high frequency plasma generator as shown in FIG. Is introduced at a flow rate of 50 sccm and the gas pressure is 50 mTo.
The pumping speed was adjusted to be rr.

【0069】反応室内のガス圧が安定した後、高周波電
圧を印加し、反射電力が最小になるように定在波比SW
R(Standing WaveRatio)のマッチング調整を行
い、実効電力1kWで1分間放置した。これによりスラ
イダ摺動部表面に膜厚20nmの水素含有量約10原子
%の非晶質水素化カーボン膜が形成された。
After the gas pressure in the reaction chamber is stabilized, a high-frequency voltage is applied, and the standing wave ratio SW is set so that the reflected power is minimized.
R (Standing WaveRatio) matching adjustment was performed and left for 1 minute at an effective power of 1 kW. As a result, an amorphous hydrogenated carbon film having a hydrogen content of about 10 atomic% and a thickness of 20 nm was formed on the slider sliding surface.

【0070】このようにして製作した磁気ヘッドを、ス
パッタリングによりカーボン保護膜が形成された磁気デ
ィスクと組み合わせてCSS試験機に組み込み、荷重1
0gをかけてディスクを回転させ、一旦ヘッドが浮上し
たのち回転を緩めて再びヘッドとディスクを接触させ、
回転を停止するサイクルを繰り返すいわゆるCSS試験
を行い、ヘッドに発生する摩擦力(gf)の変化と30k回
試験後のヘッドおよびディスクの損傷の程度を評価し
た。
The magnetic head manufactured in this manner was combined with a magnetic disk on which a carbon protective film was formed by sputtering and assembled into a CSS tester, and a load of 1
Rotate the disc by applying 0 g, and once the head floats, loosen the rotation and bring the head and the disc into contact again,
A so-called CSS test in which a cycle of stopping the rotation was repeated was performed to evaluate the change in the frictional force (gf) generated in the head and the degree of damage to the head and the disk after the 30k tests.

【0071】また、比較のため、水素を含まないスパッ
タカーボン膜を形成したヘッドについても同じ試験を行
った。結果は表1に示す通りであり、スパッタカーボン
を形成した場合に比べ、摩擦力の増加が少なく、ヘッ
ド、ディスクの摺動面の損傷も軽微であった。また、上
記のCSS試験におけるヘッドにかかる摩擦力の摺動回
数依存性を図6に示す。図示の通りCSS回数が増える
に伴い両者の特性の差が明瞭である。 〈実施例2〜7〉実施例1と同様に非晶質炭素保護膜の
形成された磁気ヘッドを作成し、これと下記のような磁
気ディスクとを組み合わせてそれぞれCSS試験を行っ
た。 結果は表1に示すように摩擦力(gf)の増加が少なく、ヘ
ッド、ディスクの摺動面の損傷も軽微であった。実施例
1と3とを対比してみれば明らかなように、ディスクの
保護膜の種類としてヘッド側と同一の非晶質カーボンを
被覆したものは格段に特性が改善され、さらに実施例4
に示すように潤滑剤膜を被覆した場合には一層良好とな
る。
For comparison, the same test was performed on a head on which a sputtered carbon film containing no hydrogen was formed. The results are as shown in Table 1. The increase in the frictional force was small and the sliding surfaces of the head and the disk were slightly damaged as compared with the case where sputtered carbon was formed. FIG. 6 shows the dependence of the frictional force applied to the head on the number of times of sliding in the CSS test. As shown in the figure, the difference between the two characteristics becomes clear as the number of CSS increases. <Examples 2 to 7> A magnetic head on which an amorphous carbon protective film was formed was prepared in the same manner as in Example 1, and a CSS test was performed by combining this with a magnetic disk as described below. As shown in Table 1, the increase in the frictional force (gf) was small, and the damage to the sliding surfaces of the head and the disk was also slight. As is clear from the comparison between Examples 1 and 3, the type of the protective film of the disk coated with the same amorphous carbon as that of the head side has remarkably improved characteristics.
As shown in (1), when the lubricant film is coated, it is further improved.

【0072】[0072]

【表1】 [Table 1]

【0073】〈実施例8〉実施例1の非晶質水素化カー
ボン薄膜を形成する際の投入電力、ガス流量等をコント
ロールして非晶質水素化カーボン薄膜中の水素含有量を
変えると共に、水素量と薄膜の強度(硬度で表示)との関
係について調べた。
Example 8 The hydrogen content in the amorphous hydrogenated carbon thin film was changed by controlling the input power, gas flow rate, etc., when forming the amorphous hydrogenated carbon thin film of Example 1. The relationship between the amount of hydrogen and the strength (expressed in hardness) of the thin film was examined.

【0074】図8(a)は投入電力と水素含有量との関係
を、図8(b)はガス流量と水素含有量との関係をそれぞ
れ示したものであり、いずれの場合によっても水素含有
量のコントロールは可能である。
FIG. 8 (a) shows the relationship between the input electric power and the hydrogen content, and FIG. 8 (b) shows the relationship between the gas flow rate and the hydrogen content. Control of the amount is possible.

【0075】また、図9は水素含有量とカーボン薄膜の
強度(硬度で表示)との関係を示した特性図であり、含有
量1〜30原子%において良好な強度を示し、特に3〜
15原子%において好ましいことがわかる。 〈実施例9〜15〉実施例1と同様の工程で、先ずスラ
イダを構成する材料として酸化ジルコニアのウエハを準
備し、この表面にコア材料及びコイル材料、電極、保護
層などの必要パターンを形成し、素子をウエハから切り
だし、機械加工によりヘッド形状としたのち、スライダ
摺動部2の摺動面を鏡面研磨し、テーパ部2aと側面エ
ッジ部2bの面とり加工を行い、ヘッド本体1を準備し
た。
FIG. 9 is a characteristic diagram showing the relationship between the hydrogen content and the strength (expressed in hardness) of the carbon thin film.
It turns out that it is preferable at 15 atomic%. <Examples 9 to 15> In the same process as in Example 1, first, a wafer of zirconia oxide was prepared as a material constituting the slider, and necessary patterns such as a core material and a coil material, an electrode, and a protective layer were formed on the surface thereof. Then, the element is cut out from the wafer and formed into a head shape by machining. Then, the sliding surface of the slider sliding portion 2 is mirror-polished, and the tapered portion 2a and the side edge portion 2b are chamfered. Was prepared.

【0076】このヘッド本体1を洗浄し加工残渣を取り
除いた後、スライダ摺動部側を表にして図5(c)に示し
たような有磁場マイクロ波プラズマ発生装置の真空槽に
入れ、基板となる上記ヘッド本体1を250℃に加熱
し、メタンと水素との混合比2:98の混合ガスを流速
100sccmの流量で導入し、ガス圧が100mTo
rrになるように排気速度を調整した。
After the head main body 1 was washed to remove processing residues, the head was placed in a vacuum chamber of a magnetic field microwave plasma generator as shown in FIG. Is heated to 250 ° C., a mixed gas of methane and hydrogen having a mixing ratio of 2:98 is introduced at a flow rate of 100 sccm, and the gas pressure is set to 100 mTo.
The pumping speed was adjusted to be rr.

【0077】反応室内のガス圧が安定した後、磁界発生
用コイルに電流を流し、500Wのマイクロ波を導入し
てプラズマを発生させた。5分間後にマイクロ波を停止
して真空槽を大気開放し、ヘッド本体を取り出したとこ
ろスライダ摺動面に微細な凹凸のある堆積物が形成され
た。
After the gas pressure in the reaction chamber was stabilized, a current was passed through the coil for generating a magnetic field, and a microwave of 500 W was introduced to generate plasma. After 5 minutes, the microwave was stopped, the vacuum chamber was opened to the atmosphere, and the head body was taken out. As a result, a deposit having fine irregularities was formed on the slider sliding surface.

【0078】これをラマン散乱スペクトルおよび薄膜X
線回折で分析したところ、ダイヤモンド微粒子と非晶質
炭素が混在することが確認された。また、その表面形状
は、平均厚さが20nmであり平均粗さRaで10nm
であることがわかった。また、非晶質炭素に含まれる水
素量は約7原子%であった。
This was analyzed by Raman scattering spectrum and thin film X
Analysis by line diffraction confirmed that diamond fine particles and amorphous carbon were mixed. In addition, the surface shape has an average thickness of 20 nm and an average roughness Ra of 10 nm.
It turned out to be. The amount of hydrogen contained in the amorphous carbon was about 7 atomic%.

【0079】一方、磁気ディスクについては、表1の実
施例1〜7と同一のものを準備した。このようにして製
作した磁気ヘッドと磁気ディスクとを用いて実施例1と
同様にCSS試験を行い、ヘッドに発生する摩擦力(g
f)の変化と30k回試験後のヘッド及びディスクの損
傷の程度を評価した。結果は表2に示す通りであり、表
1の実施例1〜7に比べ、摩擦力の増加が少なく、ヘッ
ド、ディスクの摺動面の損傷も軽微であった。
On the other hand, the same magnetic disks as those of Examples 1 to 7 in Table 1 were prepared. Using the magnetic head and the magnetic disk thus manufactured, a CSS test was performed in the same manner as in Example 1, and the frictional force (g
The change in f) and the degree of damage to the head and the disk after 30k tests were evaluated. The results are as shown in Table 2. The increase in the frictional force was small and the sliding surfaces of the head and the disk were slightly damaged as compared with Examples 1 to 7 in Table 1.

【0080】[0080]

【表2】 [Table 2]

【0081】〈実施例16〉実施例1と同様の工程で、
先ずスライダを構成する材料として酸化ジルコニアのウ
エハを準備し、この表面にコア材料及びコイル材料、電
極、保護層などの必要パターンを形成し、素子をウエハ
から切りだし、機械加工によりヘッド形状としたのち、
スライダ摺動部2の摺動面を鏡面研磨し、テーパ部2a
と側面エッジ部2bの面とり加工を行い、ヘッド本体1
を準備した。
<Embodiment 16> In the same process as in Embodiment 1,
First, a wafer of zirconia oxide was prepared as a material constituting the slider, and necessary patterns such as a core material and a coil material, an electrode, and a protective layer were formed on this surface, and the element was cut out from the wafer and formed into a head shape by machining. Later
The sliding surface of the slider sliding portion 2 is mirror-polished, and the tapered portion 2a
And the side edge portion 2b are chamfered to form the head body 1
Was prepared.

【0082】このヘッド本体1を洗浄し加工残渣を取り
除いた後、スライダ摺動部側を表にして実施例1と同様
に内部電極型高周波プラズマ発生装置のバイアスのかか
る側の電極に置き、メタンガスを50sccmの流量で
導入してガス圧が50mTorrになるように排気速度
を調整した。実効電力1kWで1分間放置した所スライ
ダ表面に20nmの膜厚の非晶質水素化カーボン膜(水
素含有量約10原子%)が形成された。
After cleaning the head main body 1 to remove processing residues, the slider sliding portion is placed face up on the electrode on the biased side of the internal electrode type high frequency plasma generator in the same manner as in the first embodiment. Was introduced at a flow rate of 50 sccm, and the pumping speed was adjusted so that the gas pressure became 50 mTorr. When the slider was left for 1 minute at an effective power of 1 kW, an amorphous hydrogenated carbon film (hydrogen content: about 10 atomic%) having a thickness of 20 nm was formed on the slider surface.

【0083】このようにして形成したカーボン薄膜上に
厚さ200nmのポジ型レジストを塗布し、乾燥させた
後、幅1ミクロン、間隔5μmの格子状パターンを持つ
マスク原版を介して紫外線を照射することによって露光
し、現像リンスすることによって上記の寸法を持つレジ
ストマスクパターンを形成した。
A positive resist having a thickness of 200 nm is applied on the carbon thin film formed in this manner, dried, and then irradiated with ultraviolet rays through a mask master having a lattice pattern having a width of 1 μm and an interval of 5 μm. Thus, a resist mask pattern having the above dimensions was formed by performing exposure and development rinsing.

【0084】つぎにこの磁気ヘッドのスライダ摺動部側
を表にして再度前記のプラズマ発生装置に入れ、酸素ガ
スを導入してガス圧を0.2Torrに保ち、500W
の電力をかけて2分間保持した。これによりレジストの
ない露出部分のカーボン膜が選択的にエッチングされ、
前記の格子状マスク寸法を持つカーボン薄膜のパターン
を形成した。その後レジストマスクを剥離して実施例1
と同様にスパッタカーボン保護膜の設けられた磁気ディ
スクと組み合わせてCSS試験を行った。
Next, the magnetic head was put into the plasma generator again with the slider sliding portion side facing up, oxygen gas was introduced, the gas pressure was maintained at 0.2 Torr, and 500 W
For 2 minutes. This selectively etches the exposed portion of the carbon film without the resist,
A pattern of a carbon thin film having the lattice mask dimension was formed. Then, the resist mask was peeled off, and Example 1 was removed.
A CSS test was performed in combination with a magnetic disk provided with a sputtered carbon protective film in the same manner as described above.

【0085】結果は、30k回の試験後も摩擦係数の増
加は3g以下であり、摩擦力の増加が少なく、ヘッド、
ディスクの摺動面の損傷も軽微であった。
As a result, the increase in the coefficient of friction was 3 g or less even after the 30k tests, the increase in the frictional force was small,
Damage to the sliding surface of the disk was also slight.

【0086】なお、ヘッドスライダ摺動部に設けた格子
状マスク寸法を持つカーボン薄膜のパターンにつき、格
子の方向をスライダ摺動部の摺動方向に一致させたも
の、摺動方向からθ角傾斜したものをそれぞれ準備して
摺動特性を測定したところ、摺動方向に一致させた場合
には、ディスクに対するダメージが小さく、高速回転に
有利であること、また、30°以内、好ましくは5°〜
30°であれば、傾斜させた方がヘッドに付着した汚れ
のかき取りに効果あり、更に信頼性の向上に有効である
ことがわかった。 〈実施例17〉実施例1〜7及び9〜16で実施した磁
気ヘッドと磁気ディスクとの組み合わせを用い、図7に
示したように磁気ディスク10枚をスピンドルに一定間
隔で取り付け、磁気ヘッドを磁気ディスクの各面に一本
づつ取り付け磁気ヘッド位置決め機構及び信号記録再生
用回路基板を取り付けて磁気ディスク装置を組み立て
た。この装置を稼動させて磁気ヘッドを浮上量0.1μ
mで浮上させ、すべてのトラックに信号を書き込み順次
読み出すサイクルを連続して行う寿命試験を行った。
A pattern of a carbon thin film having a grid-like mask dimension provided on a head slider sliding portion was prepared by matching the direction of the grid with the sliding direction of the slider sliding portion, and was inclined at an angle θ from the sliding direction. When the sliding characteristics were measured and the sliding characteristics were matched with each other, the damage to the disk was small, which was advantageous for high-speed rotation, and within 30 °, preferably 5 °. ~
When the angle is 30 °, it has been found that the inclination is more effective for removing dirt adhering to the head and more effective for improving the reliability. <Embodiment 17> Using the combinations of the magnetic heads and the magnetic disks implemented in Embodiments 1 to 7 and 9 to 16, ten magnetic disks were mounted on a spindle at regular intervals as shown in FIG. The magnetic disk drive was assembled by mounting the magnetic head positioning mechanism and the signal recording / reproducing circuit board one by one on each surface of the magnetic disk. By operating this device, the flying height of the magnetic head was 0.1μ.
m, and a life test was performed in which a cycle of writing signals to all tracks and sequentially reading signals was performed continuously.

【0087】連続5000時間の動作のあと装置を分解
して磁気ヘッドと磁気ディスクの表面を光学顕微鏡で観
察したところ、磁気ヘッドのスライダ摺動部のテーパ部
2aにごくわずかに汚れがついているものがあったが、
それ以外は磁気ヘッド、磁気ディスク共に傷や付着物は
見られなかった。
After continuous operation for 5000 hours, the apparatus was disassembled and the surfaces of the magnetic head and the magnetic disk were observed with an optical microscope. The taper portion 2a of the slider sliding portion of the magnetic head was found to be very slightly contaminated. There was,
Other than that, no scratches or deposits were observed on both the magnetic head and the magnetic disk.

【0088】比較のため、グラファイト板をターゲット
としてスライダ摺動面にカーボン保護膜をスパッタ成膜
した磁気ヘッドを各装置に1本ずつ組み込んだところ、
このヘッドには摺動方向に数本の傷が発生し、付着物も
多かった。また、磁気ディスクにも汚れが多く付着し、
なかにはクラッシュに至ったものもあった。なお、この
カーボン保護膜には水素が含まれていない。 〈実施例18〉実施例17で用いた磁気ディスク装置を
用い、ヘッド荷重と回転数を調整して磁気ヘッドがほぼ
連続的に磁気ディスク表面に当たる条件(コンタクトレ
コーディングと称される)とし、前記実施例17と同様
の試験を行った。
For comparison, a magnetic head having a carbon protective film formed by sputtering on a slider sliding surface using a graphite plate as a target was incorporated into each device one by one.
This head had several flaws in the sliding direction, and had a lot of deposits. Also, a lot of dirt adheres to the magnetic disk,
Some crashed. This carbon protective film does not contain hydrogen. <Embodiment 18> The magnetic disk drive used in Embodiment 17 was used to adjust the head load and the number of revolutions so that the magnetic head could almost continuously hit the surface of the magnetic disk (referred to as contact recording). The same test as in Example 17 was performed.

【0089】連続2000時間の試験の後、装置を分解
して磁気ヘッドと磁気ディスクの損傷を調べたところ、
磁気ディスク側に光学顕微鏡で判別できる軽微な摩耗痕
が数個所見られたが、保護膜のみの摩耗であり、磁気記
録媒体には達していなかった。同装置内において、実施
例17内で示した比較例の磁気ヘッド(スパッタカーボ
ン膜)と組んだ磁気ディスクはクラッシュし、磁気ヘッ
ド側の傷も大きかった。
After a continuous 2000 hour test, the device was disassembled and the magnetic head and magnetic disk were examined for damage.
Several minor wear marks were observed on the magnetic disk side that could be discriminated by an optical microscope, but the wear was only on the protective film and did not reach the magnetic recording medium. In the same apparatus, the magnetic disk assembled with the magnetic head (sputtered carbon film) of the comparative example shown in Example 17 crashed, and the scratches on the magnetic head side were large.

【0090】[0090]

【発明の効果】以上説明したように本発明によると磁気
ヘッドのみならず、磁気ディスク側の耐摺動特性をも向
上させることができ、磁気ディスク装置の長寿命化に大
きな効果がある。また、磁気ディスクと磁気ヘッドの間
の浮上スペースを小さくしても必要な信頼性を確保でき
るため、磁気ディスクの記録密度をさらに向上させるこ
とができる。
As described above, according to the present invention, not only the magnetic head but also the anti-sliding characteristics of the magnetic disk can be improved, which has a great effect on extending the life of the magnetic disk device. Further, since the required reliability can be ensured even if the flying space between the magnetic disk and the magnetic head is reduced, the recording density of the magnetic disk can be further improved.

【0091】これまでは磁気ディスクに限って説明をし
てきたが、このほかヘッドを用いて記録再生を行う記憶
装置であれば本発明をまったく同様に用いることがで
き、長寿命化を実現できることはいうまでもない。この
ような例としては、例えば、磁気テープ、フロッピーデ
ィスク、浮上型ヘッドを用いる光磁気ディスクなどがあ
る。
Although the description has been limited to the magnetic disk, the present invention can be used in exactly the same manner as long as the storage device performs recording and reproduction using a head, and it is possible to realize a long life. Needless to say. Such examples include, for example, a magnetic tape, a floppy disk, and a magneto-optical disk using a flying head.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は本発明の一実施例となる磁気ヘッドを模
式的に示した斜視図。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a magnetic head according to an embodiment of the present invention.

【図2】図2は同じく本発明の実施例となる磁気ヘッド
の摺動面に炭素薄膜を形成した平面図。
FIG. 2 is a plan view in which a carbon thin film is formed on a sliding surface of the magnetic head according to the embodiment of the present invention.

【図3】図3は同じく本発明の他の実施例となる磁気ヘ
ッド摺動部の断面図。
FIG. 3 is a sectional view of a magnetic head sliding portion according to another embodiment of the present invention.

【図4】図4は同じく本発明の他の実施例となる磁気ヘ
ッド摺動部の断面図。
FIG. 4 is a sectional view of a magnetic head sliding portion according to another embodiment of the present invention.

【図5】図5は炭素薄膜を形成する成膜装置の概略図。FIG. 5 is a schematic view of a film forming apparatus for forming a carbon thin film.

【図6】図6は本発明の磁気ヘッドを用いたCSS試験
の結果を示す特性曲線図。
FIG. 6 is a characteristic curve diagram showing a result of a CSS test using the magnetic head of the present invention.

【図7】図7は本発明の磁気ディスク装置の構造を示す
見取り図。
FIG. 7 is a sketch drawing showing the structure of the magnetic disk drive of the present invention.

【図8】図8は炭素薄膜中の水素含有量をコントロール
する一実施例を示した特性曲線図。
FIG. 8 is a characteristic curve diagram showing one example of controlling the hydrogen content in the carbon thin film.

【図9】図9は炭素薄膜中の水素含有量と硬度との関係
を示した特性曲線図。
FIG. 9 is a characteristic curve diagram showing a relationship between a hydrogen content in a carbon thin film and hardness.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ヘッド本体、 2…スライダ摺動部、 3…記録再生用素子、 4…保護膜。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Head main body, 2 ... Slider sliding part, 3 ... Recording / reproducing element, 4 ... Protective film.

フロントページの続き (72)発明者 竹元 一成 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株式会社日立製作所 生産技術研究所内 (72)発明者 鬼頭 諒 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株式会社日立製作所 生産技術研究所内 (56)参考文献 特開 平1−189019(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/60 G11B 21/21 Continued on the front page (72) Inventor Kazunari Takemoto 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Hitachi, Ltd. Production Technology Research Institute (72) Inventor Ryo Kito 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa, Inc. (56) References JP-A-1-189019 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11B 5/60 G11B 21/21

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】磁気記録再生素子の搭載されたスライダが
回転する磁気ディスク上を浮上するフローティングタイ
プの磁気ヘッドの製造方法であって、前記スライダ上に
非晶質炭素薄膜を形成する工程と、前記非晶質炭素薄膜
上に所定の幅及び間隔を有する格子形状のマスクを形成
する工程と、前記マスクによって覆われた領域以外の前
記非晶質炭素薄膜を加工する工程とを備えて成ることを
特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
1. A method for manufacturing a floating type magnetic head in which a slider on which a magnetic recording / reproducing element is mounted floats on a rotating magnetic disk, comprising: forming an amorphous carbon thin film on the slider; Forming a lattice-shaped mask having a predetermined width and interval on the amorphous carbon thin film, and processing the amorphous carbon thin film other than a region covered by the mask. A method for manufacturing a magnetic head, comprising:
【請求項2】前記非晶質炭素薄膜の加工が、酸素プラズ
マ雰囲気中でなされることを特徴とする請求項1記載の
磁気ヘッドの製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the processing of the amorphous carbon thin film is performed in an oxygen plasma atmosphere.
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