JP3412852B2 - Single crystal ingot marking device - Google Patents

Single crystal ingot marking device

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JP3412852B2
JP3412852B2 JP04049893A JP4049893A JP3412852B2 JP 3412852 B2 JP3412852 B2 JP 3412852B2 JP 04049893 A JP04049893 A JP 04049893A JP 4049893 A JP4049893 A JP 4049893A JP 3412852 B2 JP3412852 B2 JP 3412852B2
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芳郎 町谷
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理学電機株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、単結晶インゴットの内
部に存在する結晶格子面の方向を表示するためにその単
結晶インゴットの表面に識別マークを付与するための単
結晶インゴットのためのマーキング装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is a marking for a single crystal ingot for providing an identification mark on the surface of the single crystal ingot to indicate the direction of the crystal lattice plane existing inside the single crystal ingot. Regarding the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】IC製造分野においては、Si(シリコ
ン)の単結晶によって形成された円盤状のSiウエハ
に、膜形成、マスキング、エッチング、アルミ配線、そ
してダイシング等の各種処理が行われる。周知の通り単
結晶とは、その内部の原子配列の向き、すなわち結晶軸
の方向が結晶全体にわたって完全に揃っている物質のこ
とである。この結晶軸の方向は、通常、方位と呼ばれて
おり、上記のIC製造処理においては、処理を受ける複
数のSiウエハに関してそれらの結晶方位を常に一定の
方向に向けた状態でその処理が実行されなければならな
い。
2. Description of the Related Art In the field of IC manufacturing, various processes such as film formation, masking, etching, aluminum wiring, and dicing are performed on a disk-shaped Si wafer formed of Si (silicon) single crystal. As is well known, a single crystal is a substance in which the orientation of the atomic arrangement inside the crystal, that is, the direction of the crystal axis is perfectly aligned throughout the crystal. The direction of this crystal axis is usually called an azimuth, and in the above IC manufacturing process, the process is performed with the crystal orientations of a plurality of Si wafers to be processed always oriented in a fixed direction. It must be.

【0003】従来、Siウエハの結晶方位を知るため
に、図3に示すように、その結晶方位に対するウエハ1
の一定の表面位置にオリエンテーションフラット、通称
オリフラと呼ばれる平面部2を形成したり、図4に示す
ように三角形状の溝3を形成し、それらのオリフラ2、
溝3等によってウエハ1の内部の結晶方位を判定するよ
うにしている。
Conventionally, in order to know the crystal orientation of a Si wafer, as shown in FIG.
Of the orientation flat, which is commonly called an orientation flat, or a triangular groove 3 is formed as shown in FIG.
The crystal orientation inside the wafer 1 is determined by the groove 3 and the like.

【0004】ところで、Siウエハ1は図5又は図6に
示すような円柱形状のSi単結晶インゴット4を薄くカ
ットすることによって作製される。オリフラ2や溝3
は、例えば、インゴット内部の結晶方位に対する一定位
置にけがき線L3を描き、そのけがき線L3を基準とし
てSi単結晶インゴット4に軸方向に切削、研磨等の機
械加工を施すことによって形成される。
The Si wafer 1 is manufactured by thinly cutting a cylindrical Si single crystal ingot 4 as shown in FIG. 5 or FIG. Orientation flat 2 and groove 3
Is formed by, for example, drawing a scribe line L3 at a fixed position with respect to the crystal orientation inside the ingot, and axially cutting, polishing, etc. machining the Si single crystal ingot 4 with reference to the scribe line L3. It

【0005】単結晶インゴットに上記のようなけがき線
を設けるためのマーキング装置として、従来、例えば図
9に示すようなX線回折を利用したものが知られてい
る。この従来装置は、スタンド27を備えたベース26
と、ベース26上でスタンド27に近づき又は離れるよ
うに一方向へ往復直線移動する一方向スライダ28と、
一方向スライダ28上で自由に回転できる回転テーブル
9と、スタンド27に固定された平板状のガイド板29
と、X線源6及びX線カウンタ7を有するX線光学系と
によって構成されている。
As a marking device for providing a marking line as described above on a single crystal ingot, a marking device utilizing X-ray diffraction as shown in, for example, FIG. 9 is conventionally known. This conventional device has a base 26 with a stand 27.
And a one-way slider 28 that reciprocates linearly in one direction on the base 26 toward or away from the stand 27,
A rotary table 9 that can freely rotate on a one-way slider 28 and a flat guide plate 29 fixed to a stand 27.
And an X-ray optical system having an X-ray source 6 and an X-ray counter 7.

【0006】マーキングの対象である単結晶インゴット
4は、回転テーブル9の上に載置される。そして、スラ
イダ28をスタンド27の方向へ移動することにより、
インゴット4の側面をガイド板29に接触させて位置決
めする。そして、回転テーブル9を矢印Qのように回転
させながら、X線源6から放射されるX線をインゴット
4の側面の適所に照射する。X線はインゴット4内の結
晶格子面に対してブラッグ角で入射するときに回折条件
を満足して回折し、その回折X線がX線カウンタ7によ
って検出される。X線カウンタ7が回折X線を検出した
ときに回転テーブル9の回転、すなわち単結晶インゴッ
ト4の回転を停止して、インゴット4の上端表面の適所
に定規等を用いてけがき線を描く。こうして、インゴッ
ト4内の結晶格子面に対して常に一定の位置にけがき線
が作製されることになる。なお、スライダ28及び回転
テーブル9の移動は、手動により直接に、又はギヤ等の
動力伝達手段を用いて間接的に行われる。
The single crystal ingot 4 to be marked is placed on the rotary table 9. Then, by moving the slider 28 toward the stand 27,
The side surface of the ingot 4 is brought into contact with the guide plate 29 for positioning. Then, while rotating the rotary table 9 as shown by the arrow Q, the X-rays emitted from the X-ray source 6 are applied to appropriate positions on the side surface of the ingot 4. When the X-rays enter the crystal lattice plane in the ingot 4 at the Bragg angle, the X-rays are diffracted and satisfy the diffraction condition, and the diffracted X-rays are detected by the X-ray counter 7. When the X-ray counter 7 detects the diffracted X-rays, the rotation of the rotary table 9, that is, the rotation of the single crystal ingot 4 is stopped, and a marking line is drawn on the upper surface of the ingot 4 at a proper position using a ruler or the like. In this way, the marking line is always produced at a fixed position with respect to the crystal lattice plane in the ingot 4. The slider 28 and the rotary table 9 are moved manually by hand or indirectly by using a power transmission means such as a gear.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
のマーキング装置においては、ガイド板29が摩耗する
という問題があった。また、回転テーブル9の回転中心
とインゴット4の中心軸線とを一致させることが難し
く、従って回転テーブル9を回してインゴット4を回転
させた場合、インゴット4が偏心状態で回転することに
なり、安定したマーキング作業ができないという問題も
あった。
However, the conventional marking device described above has a problem that the guide plate 29 is worn. Further, it is difficult to match the center of rotation of the rotary table 9 with the central axis of the ingot 4. Therefore, when the rotary table 9 is rotated to rotate the ingot 4, the ingot 4 rotates in an eccentric state, which is stable. There was also a problem that the marking work could not be done.

【0008】本発明は、上記の問題点を解消するために
なされたものであって、安定したマーキング作業がで
き、しかも寿命の長いマーキング装置を提供することを
目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a marking device capable of performing a stable marking operation and having a long life.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明に係る単結晶インゴットのマーキング装置は、
単結晶インゴットに向けてX線を照射するX線源と、単
結晶インゴットで回折した回折線を検出するX線検出手
段と、平面内で自由に平行移動できる二方向スライドテ
ーブルと、その二方向スライドテーブルの上に配置され
ていて自由に回転できる回転テーブルと、単結晶インゴ
ットの外周面に当接する2個のガイドローラと、それら
2個のガイドローラを結ぶ線分に関する垂直2等分線上
に配置される弾性ローラと、その弾性ローラを上記2個
のガイドローラに近づき又は遠ざかる方向へ移動させる
ローラ移動手段と、上記弾性ローラをその中心軸線のま
わりに回転させるローラ回転手段とを有することを特徴
としている。
In order to achieve the above-mentioned object, a marking device for a single crystal ingot according to the present invention comprises:
An X-ray source that irradiates a single crystal ingot with X-rays, an X-ray detection unit that detects a diffraction line diffracted by the single crystal ingot, a two-way slide table that can freely translate in a plane, and two directions thereof. A rotary table that is placed on a slide table and can rotate freely, two guide rollers that contact the outer peripheral surface of the single crystal ingot, and a vertical bisector relating to the line segment that connects the two guide rollers. An elastic roller disposed, a roller moving means for moving the elastic roller toward or away from the two guide rollers, and a roller rotating means for rotating the elastic roller around its central axis. It has a feature.

【0010】[0010]

【作用】けがき線等といった識別マークを付与する対象
である単結晶インゴットは、回転テーブルの上に載置さ
れる。そして、ローラ移動手段によって弾性ローラを2
個のガイドローラの方向へ移動して単結晶インゴットを
それらのガイドローラに押し付けて位置決めする。単結
晶インゴットは回転テーブル及びスライドテーブルの上
に載っているので、弾性ローラに押されて自由に平行移
動及び回転移動して2個のガイドローラに当接する位置
に位置決めされる。この位置決め状態で単結晶インゴッ
トにX線が照射され、さらにローラ回転手段によって弾
性ローラを回転することにより単結晶インゴットを回転
させる。単結晶インゴットが回転する際、その内部の結
晶格子面に入射するX線の入射角度がブラッグ角に一致
したときX線が回折し、その回折線がX線検出手段によ
って検出される。回折線が検出されたとき単結晶インゴ
ットの回転を停止し、単結晶インゴットの表面に識別マ
ークを付与する。
The single crystal ingot, which is an object to be provided with an identification mark such as a marking line, is placed on the rotary table. Then, the elastic roller is moved by the roller moving means.
The single crystal ingot is moved toward the individual guide rollers and pressed against the guide rollers to be positioned. Since the single crystal ingot is placed on the rotary table and the slide table, the single crystal ingot is pushed by the elastic roller and freely moved in parallel and rotationally to be positioned at the position where it comes into contact with the two guide rollers. In this positioning state, the single crystal ingot is irradiated with X-rays, and the elastic roller is rotated by the roller rotating means to rotate the single crystal ingot. When the single crystal ingot rotates, the X-ray is diffracted when the incident angle of the X-ray incident on the crystal lattice plane inside the single crystal ingot matches the Bragg angle, and the diffraction line is detected by the X-ray detection means. When the diffraction line is detected, the rotation of the single crystal ingot is stopped and an identification mark is provided on the surface of the single crystal ingot.

【0011】スライドテーブル上に載置された単結晶イ
ンゴットは弾性ローラに押されることによって容易に平
行移動及び回転移動し、そして2個のガイドローラと弾
性ローラとによって3点支持されることによって一定の
X線照射位置に正確に位置決めされる。
The single crystal ingot placed on the slide table is easily moved in parallel and rotationally by being pressed by the elastic roller, and is fixed by being supported at three points by the two guide rollers and the elastic roller. The X-ray irradiation position is accurately positioned.

【0012】[0012]

【実施例】図1は本発明に係る単結晶インゴットのマー
キング装置の一実施例を示している。このマーキング装
置は、支持台5と、その支持台5の上に設けられていて
互いに直交するX,Yの2軸方向へ自由に平行移動可能
なスライドテーブル8と、そのXYスライドテーブル8
の上に設けられた回転自在な回転テーブル9とを有して
いる。マーキングの対象である単結晶インゴット4、例
えばSi単結晶インゴットは回転テーブル9の上に載置
される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an embodiment of a marking device for a single crystal ingot according to the present invention. This marking device includes a support base 5, a slide table 8 provided on the support base 5 and freely movable in parallel in two directions of X and Y orthogonal to each other, and an XY slide table 8 thereof.
And a rotatable table 9 which is rotatable above the table. The single crystal ingot 4 to be marked, for example, the Si single crystal ingot, is placed on the rotary table 9.

【0013】XYスライドテーブル8の手前側(図の右
側)には、スタンド10が配置され、それから延びる棒
状アーム11によって弾性ローラ12が支持されてい
る。この弾性ローラ12は、弾性を有する材料、例えば
ゴムによって円柱状に形成されている。弾性ローラ12
は、その下方に配置したベルト車13と一体になってお
り、そのベルト車13に掛けられた無端ベルト14によ
ってベルト車13が回転されるとき、そのベルト車13
と一体になって回転する。無端ベルト14は、スタンド
10の上に固定設置された微小回転駆動装置15の内部
において周知の回転伝達機構(図示せず)に連結されて
いる。この回転伝達機構は、外部に露出するツマミ16
を備えており、そのツマミ16を希望の角度だけ正逆い
ずれかの方向へ回すことにより、無端ベルト14を正逆
任意の方向へ希望する距離だけ周動させることができ
る。無端ベルト14の周動により、弾性ローラ12が正
逆任意の方向へ任意の角度だけ回転する。
A stand 10 is arranged on the front side (right side in the figure) of the XY slide table 8, and a resilient roller 12 is supported by a bar-shaped arm 11 extending from the stand 10. The elastic roller 12 is formed of an elastic material, such as rubber, into a cylindrical shape. Elastic roller 12
Is integrated with a belt wheel 13 disposed therebelow, and when the belt wheel 13 is rotated by an endless belt 14 hung on the belt wheel 13, the belt wheel 13
Rotates together with. The endless belt 14 is connected to a well-known rotation transmission mechanism (not shown) inside the minute rotation drive device 15 fixedly installed on the stand 10. This rotation transmission mechanism is provided with a knob 16 exposed to the outside.
The endless belt 14 can be rotated by a desired distance in any forward or reverse direction by rotating the knob 16 in either forward or reverse direction by a desired angle. The elastic roller 12 is rotated in the forward and reverse directions by an arbitrary angle by the circumferential movement of the endless belt 14.

【0014】支持台5の奥側(図の左側)には断面コ字
形状のブラケット18が固着されており、そのブラケッ
ト18の上端にガイドローラ19が軸回転自在に取り付
けられている。図2に示すように、ガイドローラ19は
2個設けられている。図1において、スタンド10は、
支持台5から延びるガイドプレート17によってガイド
されながら矢印B−B’で示すように2個のガイドロー
ラ19に近づき又は離れる方向へ直進移動する。また、
弾性ローラ12の回転中心は、図2に示すように、2個
のガイドローラ19を結ぶ線分L1に関する垂直2等分
線L2の上に位置している。
A bracket 18 having a U-shaped cross section is fixed to the back side (left side in the figure) of the support base 5, and a guide roller 19 is attached to the upper end of the bracket 18 so as to be axially rotatable. As shown in FIG. 2, two guide rollers 19 are provided. In FIG. 1, the stand 10 is
While being guided by the guide plate 17 extending from the support base 5, the two guide rollers 19 move linearly toward or away from the two guide rollers 19 as indicated by an arrow BB ′. Also,
As shown in FIG. 2, the center of rotation of the elastic roller 12 is located on the perpendicular bisector L2 with respect to the line segment L1 connecting the two guide rollers 19.

【0015】図1において、ブラケット18の奥側側面
には上下移動可能なペンスタンド21が設けられてい
る。そして、ペンスタンド21の上端面に形成した直状
ガイド突起22に滑り移動自在に嵌合するスライダ23
の先端にダイヤモンドペン24が固定され、垂下してい
る。
In FIG. 1, a pen stand 21 which is vertically movable is provided on the rear side surface of the bracket 18. Then, a slider 23 slidably fitted to a straight guide protrusion 22 formed on the upper end surface of the pen stand 21.
The diamond pen 24 is fixed to the tip of the and hangs down.

【0016】回転テーブル9のまわりには、X線源6及
びX線検出手段としてのX線カウンタ7を有するX線回
折ゴニオメータが配設されている。このゴニオメータ
は、支持台5の上に設置された上述した全ての部材を一
体として軸線J5のまわりに回転、いわゆるω回転させ
ることができる。軸線J5というのは、単結晶インゴッ
ト4に対するX線の入射点Pを通る軸線である。
An X-ray diffraction goniometer having an X-ray source 6 and an X-ray counter 7 as X-ray detection means is arranged around the rotary table 9. This goniometer is capable of rotating around the axis J5, that is, so-called ω rotation, by integrating all the above-mentioned members installed on the support base 5. The axis line J5 is an axis line passing through the incident point P of the X-ray on the single crystal ingot 4.

【0017】以下、上記構成より成る単結晶インゴット
のマーキング装置についてその動作を説明する。
The operation of the single crystal ingot marking device having the above structure will be described below.

【0018】マーキング対象である単結晶インゴット4
内の結晶格子面の方位は既知であるから、まず、その結
晶格子面に対して回折条件を満足する位置にX線源6及
びX線カウンタ7を設置する。そしてその後、マーキン
グ対象である単結晶インゴット4を回転テーブル9の上
に載置する。単結晶インゴット4はその重量が非常に大
きいが、それを回転テーブル9の上に載置するという作
業自体はそれほど困難なく実行できる。インゴット4は
単に回転テーブル9の上に載せられるだけであって、そ
れを固定するための措置は何等行わない。
Single crystal ingot 4 to be marked
Since the orientation of the crystal lattice plane inside is known, first, the X-ray source 6 and the X-ray counter 7 are installed at the positions satisfying the diffraction condition with respect to the crystal lattice plane. After that, the single crystal ingot 4 to be marked is placed on the rotary table 9. Although the single crystal ingot 4 has a very large weight, the work itself of placing it on the turntable 9 can be performed without much difficulty. The ingot 4 is merely placed on the turntable 9 and no measures are taken to secure it.

【0019】次に、図2に示すように、スタンド10を
ガイドローラ19の方向へ移動して弾性ローラ12をイ
ンゴット4に当接させ、さらにそのインゴット4をガイ
ドローラ19の方向へ押し込む。この押圧動作によりイ
ンゴット4はガイドローラ19の方向へと平行移動し
て、最終的に2個のガイドローラ19に当接して停止す
る。この状態で単結晶インゴット4は2個のガイドロー
ラ19及び弾性ローラ12によって3点支持され、常に
一定の位置に正確に位置決めされる。この位置決めされ
た状態において、X線源6から放射されたX線が単結晶
インゴット4の外周側面に入射する。このとき、回転ツ
マミ16を回して単結晶インゴット4それ自体を中心軸
線J4のまわりで徐々に回転させると、インゴット4の
内部結晶格子面に対する入射X線の入射角度がブラッグ
角に一致したときにその結晶格子面でX線が回折し、そ
の回折線がX線カウンタ7によって検出される。
Next, as shown in FIG. 2, the stand 10 is moved toward the guide roller 19 to bring the elastic roller 12 into contact with the ingot 4, and the ingot 4 is pushed toward the guide roller 19. By this pressing operation, the ingot 4 moves in parallel in the direction of the guide rollers 19 and finally contacts the two guide rollers 19 and stops. In this state, the single crystal ingot 4 is supported at three points by the two guide rollers 19 and the elastic roller 12, and is always accurately positioned at a fixed position. In this positioned state, the X-rays emitted from the X-ray source 6 enter the outer peripheral side surface of the single crystal ingot 4. At this time, when the rotating knob 16 is rotated to gradually rotate the single crystal ingot 4 itself around the central axis J4, when the incident angle of the incident X-ray with respect to the internal crystal lattice plane of the ingot 4 matches the Bragg angle. X-rays are diffracted by the crystal lattice plane, and the diffraction lines are detected by the X-ray counter 7.

【0020】X線カウンタ7によって回折線が検出され
たとき、単結晶インゴット4の回転を停止し、そしてペ
ンスタンド21及びスライダ23を操作してダイヤモン
ドペン24を単結晶インゴット4の上端面に軽く押し付
け、さらにスライダ23をガイド突起22に沿って直線
移動させることにより、インゴット4の上端面にけがき
線L3、すなわち識別マークを付与する。容易に理解で
きるように、このけがき線L3はX線回折によって検出
されたインゴット内部の結晶格子面に対して常に一定の
位置に形成される。
When the diffraction line is detected by the X-ray counter 7, the rotation of the single crystal ingot 4 is stopped, and the pen stand 21 and the slider 23 are operated to lightly move the diamond pen 24 to the upper end surface of the single crystal ingot 4. By pushing and further linearly moving the slider 23 along the guide protrusion 22, a marking line L3, that is, an identification mark is provided on the upper end surface of the ingot 4. As can be easily understood, the scribe line L3 is always formed at a constant position with respect to the crystal lattice plane inside the ingot detected by X-ray diffraction.

【0021】こうしてけがき線L3が付与された後、単
結晶インゴット4を本マーキング装置から取り外して、
適宜の機械加工装置、例えば研磨機や切削加工機等に装
着してそのけがき線L3を基準として研磨処理や切削加
工等を施し、図5に示すようなオリフラ面2又は図6に
示すような識別用の溝3を形成する。
After the marking line L3 is thus imparted, the single crystal ingot 4 is removed from the marking device,
It is attached to an appropriate machining device, for example, a grinder or a cutting machine, and subjected to polishing or cutting with reference to the marking line L3, and an orientation flat surface 2 as shown in FIG. 5 or as shown in FIG. A groove 3 for different identification is formed.

【0022】なお本実施例によれば、一部の部品を交換
することにより、オリフラ面2又はV溝3を形成した後
の単結晶インゴット4(図5又は図6)に関して、それ
らのオリフラ面2又は溝3が内部の結晶格子面に対して
所定の位置に正確に形成されたか否かを検査することが
できる。図7は、単結晶インゴット4に結晶方位識別用
のV溝3を形成した場合における、そのような結晶方位
検査用の装置の構成例を示している。この検査装置が図
1に示したマーキング装置と異なる点は、インゴット押
圧用の弾性ローラ12を備えたスタンド10に代えて、
くさび状嵌合部材31を備えたスタンド30をガイドプ
レート17の上に滑り移動可能に配設したことである。
くさび状嵌合部材31は、図8に示すように、圧縮バネ
32によってXYスライドテーブル8の方向へ弾性的に
付勢されている。そして、このくさび状嵌合部材31
は、2つのガイドローラ19を結ぶ線分L1に関する垂
直2等分線L2上に位置している。
According to the present embodiment, the orientation flat surface 2 or the orientation flat surface of the single crystal ingot 4 (FIG. 5 or 6) after the V groove 3 is formed by exchanging some of the components. It is possible to inspect whether or not the groove 2 or the groove 3 is accurately formed at a predetermined position with respect to the internal crystal lattice plane. FIG. 7 shows an example of the configuration of such a crystal orientation inspection apparatus when the V-groove 3 for identifying the crystal orientation is formed in the single crystal ingot 4. The difference between this inspection device and the marking device shown in FIG. 1 is that instead of the stand 10 provided with the elastic roller 12 for pressing the ingot,
That is, the stand 30 provided with the wedge-shaped fitting member 31 is slidably arranged on the guide plate 17.
As shown in FIG. 8, the wedge-shaped fitting member 31 is elastically biased toward the XY slide table 8 by the compression spring 32. And this wedge-shaped fitting member 31
Is located on the vertical bisector L2 with respect to the line segment L1 connecting the two guide rollers 19.

【0023】この装置では、以下のようにして検査が行
われる。
In this apparatus, the inspection is carried out as follows.

【0024】まず、方位識別用のV溝3を備えた検査対
象であるSi単結晶インゴット4を回転テーブル9の上
に載せる。インゴット4は、単に回転テーブル9上に載
せられるだけであって、それを固定するための措置は何
等行わない。次に、V溝3にくさび状嵌合部材31をは
め込み、さらにスタンド30を押すことによってインゴ
ット4をガイドローラ19,19へ向けて移動させる。
このときインゴット4は、XYスライドテーブル8の働
きによってX及びYの2方向へ自由に平行移動し、さら
に回転テーブル9の働きによって軸線J4のまわりに適
宜に回転しながら、2つのガイドローラ19の両方に当
接する一定位置にセットされる。このセット状態で、X
線源6からX線が放射され、そのX線R1がインゴット
4の外周側面に入射する。
First, the Si single crystal ingot 4 to be inspected, which is provided with the V groove 3 for identifying the orientation, is placed on the rotary table 9. The ingot 4 is merely placed on the turntable 9 and no measures are taken to fix it. Next, the wedge-shaped fitting member 31 is fitted into the V groove 3, and the stand 30 is pushed to move the ingot 4 toward the guide rollers 19, 19.
At this time, the ingot 4 freely moves in parallel in the two directions of X and Y by the action of the XY slide table 8, and further rotates appropriately around the axis J4 by the action of the rotary table 9, and the ingot 4 of the two guide rollers 19 moves. It is set to a fixed position where it contacts both. In this set state, X
X-rays are emitted from the radiation source 6, and the X-rays R1 enter the outer peripheral side surface of the ingot 4.

【0025】X線R1がインゴット4に入射する状態
で、ゴニオメータの働きにより支持台5、従ってインゴ
ット4を軸線J5を中心としてω回転させる。このω回
転によりインゴット4に対するX線R1の入射角度が徐
々に変化するが、このω回転の間の適宜の角度位置にお
いてインゴット4内の結晶格子面と入射X線R1との間
で回折条件が満足されると、インゴット4でX線の回折
が生じ、その回折X線がX線カウンタ7によって検出さ
れる。X線カウンタ7によって回折X線を検出したとき
のω回転角度を測角することにより、インゴット4内の
結晶格子面の基準位置からの傾斜角度ズレを知ることが
できる。この角度ズレは、とりもなおさず、V溝3の正
規の位置からのズレに相当する。
With the X-ray R1 incident on the ingot 4, the support 5 and hence the ingot 4 are rotated by ω about the axis J5 by the action of the goniometer. The angle of incidence of the X-ray R1 on the ingot 4 gradually changes due to this ω rotation, but the diffraction condition between the crystal lattice plane in the ingot 4 and the incident X-ray R1 changes at an appropriate angular position during this ω rotation. When satisfied, X-ray diffraction occurs in the ingot 4, and the diffracted X-ray is detected by the X-ray counter 7. By measuring the ω rotation angle when the diffracted X-ray is detected by the X-ray counter 7, it is possible to know the tilt angle deviation of the crystal lattice plane in the ingot 4 from the reference position. This angular deviation is, of course, equivalent to the deviation of the V groove 3 from the normal position.

【0026】以上のようなX線回折測定時、インゴット
4は2つのガイドローラ19及びくさび状嵌合部材31
によって3点支持されるので、常にV溝3を基準とする
一定の位置に配置される。よって、きわめて安定した信
頼性の高い検査を行うことができる。
During the X-ray diffraction measurement as described above, the ingot 4 has two guide rollers 19 and a wedge-shaped fitting member 31.
Since it is supported at three points by, it is always arranged at a fixed position with respect to the V groove 3. Therefore, an extremely stable and highly reliable inspection can be performed.

【0027】以上、一つの実施例をあげて本発明を説明
したが、本発明はその実施例に限定されるものではな
い。例えば、単結晶インゴット内の結晶格子面を識別す
るための識別マークは、単結晶インゴットの上端面にけ
がきによって描かれた直径線L3に限られず、他の任意
の形状、模様であってもよい。また、その形成方法もけ
がきに限られず、例えばインキ等によって描くようにし
ても良い。
Although the present invention has been described with reference to one embodiment, the present invention is not limited to this embodiment. For example, the identification mark for identifying the crystal lattice plane in the single crystal ingot is not limited to the diameter line L3 drawn by scribe on the upper end surface of the single crystal ingot, and may have any other shape or pattern. Good. The forming method is not limited to scribing, and may be drawn with ink or the like.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明によれば、弾性ローラによってイ
ンゴットそれ自体を回転させ、しかもそのインゴットを
2つのガイドローラによって支持するようにしたので、
インゴットの回転が滑らかになり、よって安定したマー
キング作業ができるようになった。また、平板状のガイ
ド板を用いた場合に比べてガイドローラは摩耗が少ない
ので、マーキング装置の寿命が長くなった。さらに、本
発明のマーキング装置によれば、一部の部材を変更する
ことにより、本マーキング装置をマーキングが所定の位
置に作製されたか否かを検査するための検査装置として
用いることもできる。
According to the present invention, the elastic roller rotates the ingot itself, and the ingot is supported by the two guide rollers.
The rotation of the ingot has become smoother, and stable marking work has become possible. In addition, the guide roller wears less than in the case where a flat guide plate is used, so that the life of the marking device is extended. Furthermore, according to the marking device of the present invention, by changing a part of the members, the marking device can be used as an inspection device for inspecting whether or not the marking is produced at a predetermined position.

【0029】[0029]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る単結晶インゴットのマーキング装
置の一実施例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a single crystal ingot marking device according to the present invention.

【図2】同マーキング装置を上方からみた場合の平面図
である。
FIG. 2 is a plan view of the marking device when viewed from above.

【図3】単結晶インゴットから切り出されたウエハの一
例を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing an example of a wafer cut out from a single crystal ingot.

【図4】単結晶インゴットから切り出されたウエハの他
の一例を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing another example of a wafer cut out from a single crystal ingot.

【図5】単結晶インゴットの一例を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing an example of a single crystal ingot.

【図6】単結晶インゴットの他の一例を示す斜視図であ
る。
FIG. 6 is a perspective view showing another example of a single crystal ingot.

【図7】図1に示した実施例についての応用使用例を示
す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing an application use example of the embodiment shown in FIG.

【図8】図7に示した応用使用例の平面図である。FIG. 8 is a plan view of the application use example shown in FIG.

【図9】従来の単結晶インゴットのマーキング装置の一
例を示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing an example of a conventional marking device for a single crystal ingot.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

4 単結晶インゴット 6 X線源 7 X線カウンタ(X線検出手段) 8 スライドテーブル 9 回転テーブル 10 スタンド(ローラ移動手段) 13 ベルト車(ローラ回転手段) 14 ベルト(ローラ回転手段) 15 微小回転駆動装置(ローラ回転手段) 17 ガイドプレート(ローラ移動手段) 19 ガイドローラ 21 ペンスタンド 23 スライダ 24 ダイヤモンドペン(けがきペン) L1 ガイドローラを結ぶ線分 L2 垂直2等分線 L3 けがき線(識別マーク) 4 Single crystal ingot 6 X-ray source 7 X-ray counter (X-ray detection means) 8 slide table 9 rotating table 10 stand (roller moving means) 13 Belt car (roller rotation means) 14 Belt (roller rotation means) 15 Micro rotation drive device (roller rotation means) 17 Guide plate (roller moving means) 19 Guide roller 21 Pen stand 23 Slider 24 Diamond pen (scribble pen) Line segment connecting L1 guide rollers L2 vertical bisector L3 marking line (identification mark)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 単結晶インゴットに関してその内部結晶
格子面に対する一定の表面位置に識別マークを形成する
マーキング装置であって、単結晶インゴットに向けてX
線を照射するX線源と、単結晶インゴットで回折した回
折X線を検出するX線検出手段とを備えた単結晶インゴ
ットのマーキング装置において、 平面内で自由に平行移動できる二方向スライドテーブル
と、 二方向スライドテーブルの上に配置され、自由に回転で
き、単結晶インゴットが載置される回転テーブルと、 単結晶インゴットの外周面に当接する2個のガイドロー
ラと、 それら2個のガイドローラを結ぶ線分に関する垂直2等
分線上に配置される弾性ローラと、 その弾性ローラを上記2個のガイドローラに近づき又は
遠ざかる方向へ移動させるローラ移動手段と、 上記弾性ローラをその中心軸線のまわりに回転させるロ
ーラ回転手段とを有することを特徴とする単結晶インゴ
ットのマーキング装置。
1. A marking device for forming an identification mark on a single crystal ingot at a constant surface position with respect to an internal crystal lattice plane of the single crystal ingot, wherein X is directed toward the single crystal ingot.
In a marking device for a single crystal ingot, which comprises an X-ray source for irradiating a beam and an X-ray detection means for detecting a diffracted X-ray diffracted by the single crystal ingot, a bidirectional slide table that can freely translate in a plane , A rotary table placed on a bidirectional slide table, on which a single crystal ingot can be freely rotated and on which a single crystal ingot is placed, two guide rollers abutting on the outer peripheral surface of the single crystal ingot, and those two guide rollers Elastic roller arranged on a perpendicular bisector related to the line segment connecting the two, a roller moving means for moving the elastic roller toward or away from the two guide rollers, and the elastic roller around its central axis. A single-crystal ingot marking device having a roller rotating means for rotating the single crystal ingot.
【請求項2】 単結晶インゴットの表面にけがき線を描
くけがきペンと、そのけがきペンをスライドテーブルに
対して相対的に平行移動させるペンスタンドとを有する
ことを特徴とする請求項1記載の単結晶インゴットのマ
ーキング装置。
2. A single crystal ingot having a scribe line for drawing a scribe line on the surface of the single crystal ingot, and a pen stand for moving the scribe line in parallel with respect to a slide table. A single crystal ingot marking device as described.
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