JP3411628B2 - Method for manufacturing surface discharge type plasma display panel - Google Patents
Method for manufacturing surface discharge type plasma display panelInfo
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マトリクス表示方式の
面放電型のプラズマディスプレイパネル(PDP)の製
造方法に関する。
【0002】ハイビジョン放送を含む映像メディアの高
品質化にともなって、一般家庭において大画面の表示装
置が普及しつつある。蛍光体によるカラー表示に適した
面放電型PDPは、視認性に優れ且つ大型化及び高速表
示が可能であることから、CRTに代わるフラット形の
表示デバイスとして注目をあつめており、その量産化技
術の向上が望まれている。
【0003】
【従来の技術】図6は一般的な面放電型PDPの分解斜
視図であり、1つの画素EGに対応する部分の基本的な
構造を示している。
【0004】図6に例示したPDP10は、蛍光体の配
置形態による分類の上で反射型と呼称される3電極構造
のPDPであり、一対のガラス基板11,21、横方向
に互いに平行に隣接して延びた一対の表示電極X,Y、
AC駆動のための誘電体層17、MgOからなる保護膜
18、表示電極X,Yと直交するアドレス電極A、アド
レス電極Aと平行なストライプ状の隔壁29、及びフル
カラー表示のための蛍光体層28などから構成されてい
る。
【0005】内部の放電空間30は、隔壁29によって
表示電極X,Yの延長方向に単位発光領域EU毎に区画
され、且つその間隙寸法が規定されている。また、この
放電空間30には、蛍光体層28に対する紫外線励起の
ための放電ガスが封入されている。
【0006】PDP10では、図のように1つの画素
(ドット)EGに対応づけられた3つの単位発光領域E
Uのそれぞれにおいて、一方の表示電極Yとアドレス電
極Aとの交差部に表示又は非表示を選択するための選択
放電セルが画定され、選択放電セルの近傍における表示
電極X,Yの間に主放電セル(面放電セル)が画定され
る。
【0007】蛍光体層28は、面放電によるイオン衝撃
を避けるために、表示電極X,Yと反対側のガラス基板
21上の各隔壁29の間に設けられ、主放電セルの面放
電で生じる紫外線によって励起されて発光する。蛍光体
層28の表層面(放電空間と接する面)で発光した光
は、誘電体層17及びガラス基板11などを透過して外
部へ射出する。つまり、PDP10では、ガラス基板1
1の外面が表示面Hとなる。
【0008】なお、3つの各単位発光領域EUに対応す
る各蛍光体層28の発光色は、順に赤色(R)、緑色
(G)、青色(B)とされている(図中のアルファベッ
トR,G,Bは発光色を示す)。また、表示電極X,Y
は、表示光を発する蛍光体層28に対して表示面H側に
配置されることから、面放電を広範囲とし且つ表示光の
遮光を最小限とするため、ネサ膜などからなる幅の広い
透明導電膜41とその導電性を補うための幅の狭い金属
膜(バス電極)42とから構成されている。
【0009】以上の構造を有したPDP10は、各ガラ
ス基板11,21について別個に所定の構成要素を設け
た後、ガラス基板11,21を対向配置して間隙の周囲
を封止し、内部の排気と放電ガスの封入を行う一連の工
程によって製造される。
【0010】その際、ガラス基板21側の製造におい
て、隔壁29は、低融点ガラスペーストの焼成によって
形成される。すなわち、ストライプ状の開口パターンを
有したスクリーンマスクを用いて、アドレス電極Aを設
けたガラス基板21上に低融点ガラスペーストが150
〜200μm程度の厚さ(高さ)となるように数回重ね
て塗布される。そして、500〜600℃程度の温度の
熱処理が行われ、100〜150μm程度の高さの隔壁
29が形成される。
【0011】また、蛍光体層28は、隔壁29を形成し
た後に、蛍光体ペーストをスクリーンマスクを用いて隔
壁29の間に落とし込むように各色毎に順に塗布して焼
成することによって形成される。これにより、アドレス
電極Aを含むガラス基板21の表面だけでなく、隔壁2
9の側面にも蛍光体が設けられることになり、蛍光体層
28の表面積が増大して輝度が高まる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上述の隔壁29の形成
において、1回目のペーストの塗布に際しては、ガラス
基板21上にアドレス電極Aが存在するので、スクリー
ンマスクの下面とガラス基板21の表面との間にアドレ
ス電極Aの厚さ分の隙間が生じる。すなわち、スクリー
ンマスクが塗布面(ガラス基板21の表面)に対して浮
き上がった状態でペーストの塗布が行われる。このた
め、ペーストがアドレス電極Aの配列方向に拡がり、特
に高精細の場合においてアドレス電極Aの一部がペース
トで覆われてしまうことがあった。
【0013】アドレス電極A上に部分的に低融点ガラス
層が存在すると、存在していない所との特性の違いによ
り正しい表示を行うことができない。そこで、通常は、
ペーストを焼成する以前の段階でペースト塗布状態の検
査が行われ、塗布不良があるときには溶剤などによって
ペースト全体が取り除かれてペーストの再塗布が行われ
る。
【0014】従来では、ペーストの塗布不良の発生率が
表示面の大型化につれて増大することから、特に大型で
高精細のPDPの製造に際して、隔壁29を効率よく形
成することができず、量産性が損なわれていたという問
題があった。
【0015】本発明は、上述の問題に鑑み、放電空間の
間隙寸法を規定する隔壁の形成の歩留りを高め、量産性
の向上を図ることを目的としている。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明においては、平坦
な乾燥状態の低融点ガラスペースト層の上面に、前記隔
壁の形状に対応したパターンで第2の低融点ガラスペー
ストを塗布する。
【0017】請求項1の発明に係る方法は、第1の基板
上に面放電用の表示電極を有し、第2の基板上に前記表
示電極と交差するアドレス電極と面放電によって発光す
る蛍光体層と放電空間を区画しかつ当該放電空間の間隙
寸法を規定する隔壁とを有してなる面放電型プラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法であって、前記アドレス電
極を形成した後の前記第2の基板の表面を前記隔壁の形
成面とし、前記アドレス電極を含めて当該形成面の全域
を一様に覆うように、第1の低融点ガラスペーストを塗
布して乾燥させる工程と、前記形成面の全域で平坦な乾
燥状態の低融点ガラスペースト層の上面に、前記隔壁の
形状に対応したパターンで第2の低融点ガラスペースト
を塗布し、前記低融点ガラスペースト層と同時に焼成し
て前記隔壁を形成する工程とを含む。
【0018】
【0019】
【作用】スクリーンマスクを用いるパターン印刷(部分
塗布)によって隔壁29を形成するときに、隔壁29の
形成面上に設けられた乾燥状態の低融点ガラスペースト
層50bが印刷状態を良好にする下地層となる。
【0020】
【実施例】図1は本発明に係るPDP1の要部の構造を
示す断面図、図2は図1のPDP1の製造方法の一例を
示す断面図である。
【0021】PDP1は、3電極構造の反射型PDPで
あり、表示面側のガラス基板11、透明導電膜41とそ
れに重なる金属層42とからなる表示電極X,Y、表示
電極X,Yを被覆する誘電体層17、保護膜18、背面
側のガラス基板21、表示電極X,Yと直交するアドレ
ス電極A、放電空間30の間隙寸法を規定するストライ
プ状の隔壁29、及び所定発光色の蛍光体28から構成
されている。
【0022】隔壁29は、放電空間30をライン方向に
単位発光領域毎に区画するように各アドレス電極Aの間
に配置されている。隔壁29の配列ピッチ、すなわちラ
イン方向の単位発光領域の寸法は200μm程度であ
る。
【0023】PDP1において、図6のPDP10との
構造上の相違点は、隔壁29がアドレス電極Aを覆う隔
壁下地層(低融点ガラス層)50の上に形成されている
点である。隔壁下地層50を設けることにより、後述の
ように隔壁29の形成が容易になる。なお、アドレス電
極A上の隔壁下地層50の厚さは、放電空間30の間隙
寸法に比べて十分に小さいので、選択放電に支障は生じ
ない。
【0024】図2に示すように、PDP1の製造に際し
ては、ガラス基板21上に厚膜法によって5〜30μm
程度の厚さのアドレス電極Aを形成した後、まず、アド
レス電極Aを含めてガラス基板21を一様に覆うように
隔壁下地層50となる低融点ガラスペースト50aを1
5〜40μm程度の厚さに塗布して乾燥させる〔図2
(a)〕。低融点ガラスペースト50aとしては、例え
ば誘電体層17と同一組成のペーストを用いる。
【0025】次に、乾燥状態の低融点ガラスペースト層
50b上の所定位置に、焼成時の型崩れを防止するため
の無機フィラーを多めに混合した隔壁用の低融点ガラス
ペースト29aを、例えば180〜200μm程度の高
さのストライプ状の壁体となるようにスクリーン印刷法
によって数回重ねて塗布する〔図2(b)〕。
【0026】このとき、ペースト層50bの上面は平坦
であるので、スクリーンマスクが塗布面(ペースト29
aを塗布する面)に接した状態で各回の塗布が行われ
る。また、ペースト層50bは焼成後のガラス層のよう
に緻密ではないので、特に1回目の塗布に際してペース
ト29a中の溶剤がペースト層50bによって吸収さ
れ、塗布後に直ちにペースト29aの流動性が低下す
る。
【0027】これらのことから、ペースト29aのライ
ン方向の拡がり及び型崩れが抑えられ、ペースト29a
を所望の形状に塗布することができ、隔壁29を形成す
るためのペースト塗布工程の歩留りを高めることができ
る。
【0028】その後は、所定温度の熱処理によって、ペ
ースト層50bとペースト29aとを同時に焼成し、隔
壁下地層50上に130μm程度の高さの隔壁29を形
成する〔図2(c)〕。そして、各隔壁29の間に蛍光
体層28を設け、ガラス基板21と別途に表示電極X,
Yなどを設けたガラス基板11とを重ね合わせてPDP
1を完成する。
【0029】図3は図1のPDP1の製造方法の他の例
を示す断面図である。同図において図1及び図2に対応
する構成要素には形状及び材質の差異に係わらず同一の
符号を付してある。
【0030】隔壁29はフォトリソグラフィ法を用いて
形成することができる。すなわち、まず、アドレス電極
Aを覆う乾燥状態の低融点ガラスペースト層50bの全
面に、隔壁用の低融点ガラスペースト29aを塗布する
〔図3(a)〕。ペースト29aとしては、ペースト層
50bと異なる組成のガラス粉末を含有したペーストを
用いる。なお、塗布方法としては、スクリーン印刷法、
ブレードコート法、又はロールコート法などを用いるこ
とができる。
【0031】続いて、ペースト層50bとともにペース
ト29aを焼成して低融点ガラス層29cを形成した
後、感光性樹脂を塗布してパターン露光及び現像を行
い、低融点ガラス層29c上に所定パターンのレジスト
層61を設ける〔図3(b)〕。
【0032】そして、レジスト層61をマスクとして低
融点ガラス層29cを部分的に除去して隔壁29を形成
する。このとき、例えばウエットエッチング法による場
合には、ペースト層50bを焼成して得られる隔壁下地
層50と低融点ガラス層29cとに対して選択性を有す
るエッチャント(硝酸など)を用いる。それにより、ア
ドレス電極Aに損傷を与えることなく容易に隔壁29を
得ることができる。また、サンドブラスト法などの物理
的パターニングによる場合には、隔壁下地層50に耐切
削性の優れた材料を用いればよい。
【0033】図4は本発明の他の実施例に係るPDP2
の要部の構造を示す断面図、図5は図4のPDP2の製
造方法を示す断面図である。図4において、PDP2
は、透過型と呼称される3電極構造の面放電型PDPで
ある。つまり、PDP2では、アドレス電極A及び蛍光
体28を有したガラス基板21の外面が表示面Hとな
り、蛍光体層28の内部を透過した光によって表示が行
われる。
【0034】放電空間30の間隙寸法を規定する隔壁2
9は、面放電用の表示電極X,Yと壁電荷を蓄積する誘
電体層17とを有した背面側のガラス基板11上に設け
られている。
【0035】なお、表示電極X,Yは、透明にする必要
がないので、導電性及び基板との密着性に優れた金属薄
膜から構成されている。また、誘電体層17の表面に
は、隔壁29を形成した後の段階で図示しない保護膜
(MgO)が設けられている。
【0036】PDP2の製造に際しては、ガラス基板1
1上に表示電極X,Yを設けた後、まず、低融点ガラス
ペーストの塗布及び焼成を行って、誘電体層17の一部
となる表面の平坦な下部誘電体層171を形成する〔図
5(a)〕。
【0037】次に、下部誘電体層171と同一組成の低
融点ガラスペースト17aを下部誘電体層171の全面
に塗布して乾燥させる〔図5(b)〕。塗布層の厚さ
は、焼成時の体積減少を考慮し、所定厚さの誘電体層1
7が得られるように選定しておく。
【0038】続いて、乾燥状態の低融点ガラスペースト
層17bを下地層として、スクリーン印刷法によって隔
壁用の低融点ガラスペースト29aを所定の高さとなる
ようにストライプ状に塗布する〔図5(c)〕。
【0039】このとき、低融点ガラスペースト層17b
が平坦であり且つ焼成以前のポーラス状態であるので、
図2の場合と同様にペースト29aの拡がり及び型崩れ
が抑えられる。ただし、特にPDP2が大型になると、
ペースト29aの塗布不良が生じることもある。その場
合には溶剤を用いた拭き取り作業などによって、ペース
ト層17bとともにペースト29aを取り除き、ペース
ト17aの塗布段階からやり直すことができる。拭き取
り作業において、薄膜である表示電極X,Yは、下部誘
電体層171によって保護されて損傷を受けない。
【0040】以降においては、ペースト層17bとペー
スト29aとを同時に焼成し、誘電体層17と隔壁29
とを形成する〔図5(d)〕。そして、誘電体層17の
表面に保護膜を設け、ガラス基板11と別途にアドレス
電極Aなどを設けたガラス基板21とを重ね合わせてP
DP1を完成する。
【0041】
【発明の効果】本発明によれば、放電空間の間隙寸法を
規定する隔壁の形成の歩留りを高めることができ、量産
性の向上を図ることができる。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a matrix display type surface discharge type plasma display panel (PDP). 2. Description of the Related Art With the improvement in quality of video media including high-definition broadcasting, large-screen display devices are becoming popular in ordinary households. Surface discharge type PDPs suitable for color display using phosphors are attracting attention as flat type display devices replacing CRTs because of their excellent visibility, large size and high-speed display. There is a demand for improvement. FIG. 6 is an exploded perspective view of a general surface discharge type PDP, and shows a basic structure of a portion corresponding to one pixel EG. [0006] The PDP 10 illustrated in FIG. 6 is a PDP having a three-electrode structure, which is called a reflection type in terms of classification according to the arrangement of phosphors. , A pair of display electrodes X, Y,
Dielectric layer 17 for AC driving, protective film 18 made of MgO, address electrode A orthogonal to display electrodes X and Y, stripe-shaped partition wall 29 parallel to address electrode A, and phosphor layer for full color display 28 and the like. The internal discharge space 30 is divided by the partition walls 29 in the unit light emitting area EU in the direction in which the display electrodes X and Y extend, and the gap size is defined. The discharge space 30 is filled with a discharge gas for exciting the phosphor layer 28 with ultraviolet rays. [0006] In the PDP 10, three unit light emitting areas E corresponding to one pixel (dot) EG as shown in the figure.
In each of U, a selected discharge cell for selecting display or non-display is defined at the intersection of one display electrode Y and address electrode A, and a main discharge cell is provided between display electrodes X and Y near the selected discharge cell. Discharge cells (surface discharge cells) are defined. The phosphor layer 28 is provided between the partition walls 29 on the glass substrate 21 opposite to the display electrodes X and Y to avoid ion bombardment due to surface discharge, and is generated by surface discharge of the main discharge cell. It emits light when excited by ultraviolet light. The light emitted on the surface layer (the surface in contact with the discharge space) of the phosphor layer 28 passes through the dielectric layer 17 and the glass substrate 11 and is emitted to the outside. That is, in the PDP 10, the glass substrate 1
1 is the display surface H. The emission colors of the respective phosphor layers 28 corresponding to the three unit emission regions EU are red (R), green (G), and blue (B) in this order (the alphabet R in the figure). , G, and B indicate emission colors). Also, the display electrodes X, Y
Is disposed on the display surface H side with respect to the phosphor layer 28 that emits display light, so that a wide transparent film made of a Nesa film or the like is used to make the surface discharge wide and minimize the shielding of the display light. It is composed of a conductive film 41 and a narrow metal film (bus electrode) 42 for supplementing the conductivity. In the PDP 10 having the above-mentioned structure, predetermined components are separately provided for each of the glass substrates 11 and 21, and then the glass substrates 11 and 21 are arranged to face each other to seal the periphery of the gap. It is manufactured by a series of processes for exhausting and filling discharge gas. At this time, in the manufacture of the glass substrate 21, the partition walls 29 are formed by firing a low-melting glass paste. That is, using a screen mask having a stripe-shaped opening pattern, a low-melting glass paste is applied on the glass substrate 21 on which the address electrodes A are provided.
It is applied several times so as to have a thickness (height) of about 200 μm. Then, heat treatment is performed at a temperature of about 500 to 600 ° C., and the partition wall 29 having a height of about 100 to 150 μm is formed. The phosphor layer 28 is formed by forming a partition 29, applying a phosphor paste by using a screen mask between the partitions 29 in order for each color, and firing the phosphor paste. Thus, not only the surface of the glass substrate 21 including the address electrode A but also the partition 2
The phosphor is also provided on the side surface of the phosphor layer 9, so that the surface area of the phosphor layer 28 increases and the luminance increases. In the above-described formation of the partition wall 29, the address electrodes A are present on the glass substrate 21 at the time of the first application of the paste. A gap corresponding to the thickness of the address electrode A is generated between the semiconductor device and the surface of the semiconductor device. That is, the paste is applied while the screen mask is raised with respect to the application surface (the surface of the glass substrate 21). For this reason, the paste spreads in the arrangement direction of the address electrodes A, and in particular, in a case of high definition, a part of the address electrodes A may be covered with the paste. When the low melting point glass layer partially exists on the address electrode A, a correct display cannot be performed due to a difference in characteristics from a portion where the low melting point glass layer does not exist. So, usually,
Inspection of the paste application state is performed at a stage before the paste is baked, and when there is an application failure, the entire paste is removed by a solvent or the like, and the paste is reapplied. In the prior art, since the incidence rate of paste application failure increases with the size of the display surface, the partition wall 29 cannot be efficiently formed, especially in the case of manufacturing a large, high-definition PDP. There was a problem that was damaged. SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, an object of the present invention is to increase the yield of forming the partition walls defining the gap size of the discharge space and improve mass productivity. According to the present invention, a flat surface is provided.
On the upper surface of the low-melting glass paste layer in a dry state,
The second low-melting glass page is patterned according to the shape of the wall.
Apply a strike. According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a first substrate, comprising:
A display electrode for surface discharge on the second substrate;
Address electrode that intersects the indicator electrode and emits light due to surface discharge.
Between the phosphor layer and the discharge space and the gap between the discharge spaces
A surface discharge type plasma device having a partition for defining dimensions.
A method of manufacturing a display panel, comprising:
After forming the pole, the surface of the second substrate is formed in the shape of the partition wall.
And the entire surface including the address electrodes.
The first low melting glass paste so as to cover the
Drying with a cloth, and drying evenly over the entire forming surface.
On the upper surface of the dried low-melting glass paste layer,
Second low melting point glass paste in a pattern corresponding to the shape
And fired simultaneously with the low melting point glass paste layer.
Forming the partition wall by using the above method. [0018] [0019] [act] When the pattern printing using a screen mask (partial coating) forming the partition wall 29, the low-melting glass paste layer 50b is printed state in the dry state provided on forming surface of the partition walls 29 Is a base layer for improving the surface roughness . FIG. 1 is a sectional view showing the structure of a main part of a PDP 1 according to the present invention, and FIG. 2 is a sectional view showing an example of a method of manufacturing the PDP 1 of FIG. The PDP 1 is a reflection-type PDP having a three-electrode structure, and covers the display electrodes X, Y and the display electrodes X, Y, which are composed of the glass substrate 11 on the display surface side, the transparent conductive film 41 and the metal layer 42 overlapping therewith. Dielectric layer 17, protective film 18, rear glass substrate 21, address electrodes A orthogonal to display electrodes X and Y, stripe-shaped barrier ribs 29 defining gap size of discharge space 30, and fluorescent light of a predetermined emission color It is composed of a body 28. The partition walls 29 are arranged between the address electrodes A so as to partition the discharge space 30 in the line direction for each unit light emitting area. The arrangement pitch of the partition walls 29, that is, the size of the unit light emitting region in the line direction is about 200 μm. The PDP 1 is structurally different from the PDP 10 shown in FIG. 6 in that the partition 29 is formed on a partition base layer (low-melting glass layer) 50 that covers the address electrodes A. The provision of the partition base layer 50 facilitates formation of the partition 29 as described later. Note that the thickness of the partition underlayer 50 on the address electrode A is sufficiently smaller than the gap size of the discharge space 30, so that there is no trouble in the selective discharge. As shown in FIG. 2, when the PDP 1 is manufactured, a thickness of 5 to 30 μm is formed on a glass substrate 21 by a thick film method.
After forming the address electrode A having a thickness of about 1 μm, first, a low-melting glass paste 50 a serving as a partition base layer 50 is applied to the glass substrate 21 so as to uniformly cover the glass substrate 21 including the address electrode A.
It is applied to a thickness of about 5 to 40 μm and dried [FIG.
(A)]. As the low-melting glass paste 50a, for example, a paste having the same composition as that of the dielectric layer 17 is used. Next, at a predetermined position on the low-melting glass paste layer 50b in a dry state, a low-melting glass paste 29a for a partition wall containing a large amount of an inorganic filler for preventing shape collapse during firing is applied, for example, 180. It is applied several times by a screen printing method so as to form a striped wall having a height of about 200 μm (FIG. 2B). At this time, since the upper surface of the paste layer 50b is flat, the screen mask is applied to the coating surface (paste 29).
(a surface to which a is applied) is applied in each state. In addition, since the paste layer 50b is not as dense as the glass layer after firing, the solvent in the paste 29a is absorbed by the paste layer 50b particularly at the first application, and the fluidity of the paste 29a immediately decreases after the application. From these facts, the spread and deformation of the paste 29a in the line direction are suppressed.
Can be applied in a desired shape, and the yield of the paste application step for forming the partition wall 29 can be increased. Thereafter, the paste layer 50b and the paste 29a are simultaneously fired by a heat treatment at a predetermined temperature to form the partition walls 29 having a height of about 130 μm on the partition base layer 50 (FIG. 2C). Then, a phosphor layer 28 is provided between the partition walls 29, and the display electrodes X,
PDP with glass substrate 11 provided with Y
Complete 1 FIG. 3 is a sectional view showing another example of the method of manufacturing the PDP 1 of FIG. In the figure, the same reference numerals are given to the components corresponding to FIGS. 1 and 2 irrespective of differences in shape and material. The partition 29 can be formed by using a photolithography method. That is, first, a low-melting glass paste 29a for a partition is applied to the entire surface of the low-melting glass paste layer 50b in a dry state that covers the address electrodes A (FIG. 3A). As the paste 29a, a paste containing glass powder having a composition different from that of the paste layer 50b is used. In addition, as a coating method, a screen printing method,
A blade coating method, a roll coating method, or the like can be used. Subsequently, the paste 29a is baked together with the paste layer 50b to form a low-melting glass layer 29c, and then a photosensitive resin is applied to perform pattern exposure and development to form a predetermined pattern on the low-melting glass layer 29c. A resist layer 61 is provided (FIG. 3B). Then, using the resist layer 61 as a mask, the low melting point glass layer 29c is partially removed to form the partition wall 29. At this time, in the case of, for example, a wet etching method, an etchant (such as nitric acid) having selectivity with respect to the partition wall base layer 50 and the low melting point glass layer 29c obtained by baking the paste layer 50b is used. Thereby, the partition 29 can be easily obtained without damaging the address electrode A. In the case of physical patterning such as a sandblast method, a material having excellent cutting resistance may be used for the partition wall base layer 50. FIG. 4 shows a PDP 2 according to another embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view showing a method of manufacturing the PDP 2 of FIG. In FIG. 4, PDP2
Is a surface discharge type PDP having a three-electrode structure called a transmission type. That is, in the PDP 2, the outer surface of the glass substrate 21 having the address electrodes A and the phosphors 28 becomes the display surface H, and the display is performed by the light transmitted through the phosphor layer 28. The partition 2 for defining the gap size of the discharge space 30
9 is provided on a glass substrate 11 on the back side having display electrodes X and Y for surface discharge and a dielectric layer 17 for accumulating wall charges. Since the display electrodes X and Y do not need to be transparent, they are made of a metal thin film having excellent conductivity and adhesion to the substrate. A protective film (MgO) (not shown) is provided on the surface of the dielectric layer 17 at a stage after the partition 29 is formed. When manufacturing the PDP 2, the glass substrate 1
After the display electrodes X and Y are provided on the substrate 1, first, a low-melting glass paste is applied and baked to form a lower dielectric layer 171 having a flat surface which becomes a part of the dielectric layer 17 [FIG. 5 (a)]. Next, a low-melting glass paste 17a having the same composition as the lower dielectric layer 171 is applied to the entire surface of the lower dielectric layer 171 and dried (FIG. 5B). The thickness of the coating layer is determined in consideration of the volume reduction during firing, and the dielectric layer 1 having a predetermined thickness is formed.
7 is obtained. Subsequently, using the low-melting-point glass paste layer 17b in a dry state as a base layer, a low-melting-point glass paste 29a for a partition is applied in a stripe shape by screen printing so as to have a predetermined height [FIG. )]. At this time, the low melting point glass paste layer 17b
Is flat and in a porous state before firing,
As in the case of FIG. 2, the spread and shape collapse of the paste 29a are suppressed. However, especially when PDP2 is large,
Poor application of the paste 29a may occur. In this case, the paste 29a can be removed together with the paste layer 17b by a wiping operation using a solvent or the like, and the process can be restarted from the step of applying the paste 17a. In the wiping operation, the thin display electrodes X and Y are protected by the lower dielectric layer 171 and are not damaged. Thereafter, the paste layer 17b and the paste 29a are simultaneously fired, and the dielectric layer 17 and the partition 29
(FIG. 5D). Then, a protective film is provided on the surface of the dielectric layer 17, and the glass substrate 11 and a glass substrate 21 provided with an address electrode A or the like are separately superimposed to form a
Complete DP1. According to the present invention, the yield of forming the partition walls defining the gap size of the discharge space can be increased, and the mass productivity can be improved.
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るPDPの要部の構造を示す断面図
である。
【図2】図1のPDPの製造方法の一例を示す断面図で
ある。
【図3】図1のPDPの製造方法の他の例を示す断面図
である。
【図4】本発明の他の実施例に係るPDPの要部の構造
を示す断面図である。
【図5】図4のPDPの製造方法を示す断面図である。
【図6】一般的な面放電型PDPの分解斜視図である。
【符号の説明】
1,2 PDP(プラズマディスプレイパネル)
11,21 ガラス基板(基板)
17a,50a 第1の低融点ガラスペースト
17b,50b 乾燥状態の低融点ガラスペースト層
28 蛍光体層
29 隔壁
29a 第2の低融点ガラスペースト
30 放電空間
A アドレス電極
X,Y 表示電極BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a sectional view showing a structure of a main part of a PDP according to the present invention. FIG. 2 is a sectional view showing an example of a method of manufacturing the PDP of FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating another example of a method of manufacturing the PDP of FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a structure of a main part of a PDP according to another embodiment of the present invention. FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing the PDP in FIG. FIG. 6 is an exploded perspective view of a general surface discharge type PDP. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 PDP (plasma display panel) 11, 21 Glass substrate (substrate) 17a, 50a First low-melting glass paste 17b, 50b Dry low-melting glass paste layer 28 Phosphor layer 29 Partition wall 29a Second low melting point glass paste 30 Discharge space A Address electrode X, Y Display electrode
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 冨岡 哲好 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−248338(JP,A) 特開 平3−20926(JP,A) 特開 昭58−54534(JP,A) 特開 昭61−227344(JP,A) 特開 昭62−195829(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 9/02 H01J 11/02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Tetsuyoshi Tomioka 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (56) References JP-A-61-248338 (JP, A) JP-A-3-3 20926 (JP, A) JP-A-58-54534 (JP, A) JP-A-61-227344 (JP, A) JP-A-62-195829 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. 7 , DB name) H01J 9/02 H01J 11/02
Claims (1)
し、第2の基板上に前記表示電極と交差するアドレス電
極と面放電によって発光する蛍光体層と放電空間を区画
しかつ当該放電空間の間隙寸法を規定する隔壁とを有し
てなる面放電型プラズマディスプレイパネルの製造方法
であって、前記アドレス電極を形成した後の前記第2の基板の表面
を前記隔壁の形成面とし、前記アドレス電極を含めて当
該 形成面の全域を一様に覆うように、第1の低融点ガラ
スペーストを塗布して乾燥させる工程と、 前記形成面の全域で平坦な乾燥状態の低融点ガラスペー
スト層の上面に、前記隔壁の形状に対応したパターンで
第2の低融点ガラスペーストを塗布し、前記低融点ガラ
スペースト層と同時に焼成して前記隔壁を形成する工程
と、 を含むことを特徴とする面放電型プラズマディスプレイ
パネルの製造方法。(57) Claims 1. A display electrode for surface discharge is provided on a first substrate, and an address electrode intersecting with the display electrode and light is emitted by surface discharge on a second substrate. dividing a discharge space and a phosphor layer
And a partition defining the gap size of the discharge space , wherein the surface of the second substrate after forming the address electrode is provided.
Is the surface on which the partition wall is formed, and includes the address electrodes.
As evenly cover the entire area of the forming surface, and a step of drying by applying a first low melting point glass paste on the upper surface of the low melting point glass paste layer flat dry across said forming surface, said Applying a second low-melting glass paste in a pattern corresponding to the shape of the partition wall, and firing the low-melting glass paste layer simultaneously with the low-melting glass paste layer to form the partition wall. Panel manufacturing method.
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