JP3409066B2 - Fluoropolymer composites filled with low volume fraction ceramic - Google Patents

Fluoropolymer composites filled with low volume fraction ceramic

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JP3409066B2
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Description

【発明の詳細な説明】関連特許出願との相互の関係 本出願は1989年6月10日出願の米国特許出願第3
67,241号(これは、1987年2月17日出願の
米国特許出願番号第015,191号、現在米国特許第
4,849,284号の一部継続出願である)と、19
88年12月2日出願の米国特許出願番号第279,4
74号との一部継続出願を基礎とする優先権主張出願で
ある。
Detailed Description of the Invention Correlation with Related Patent Applications This application is US patent application No. 3 filed June 10, 1989.
67,241, which is a continuation-in-part application of U.S. Patent Application No. 015,191, filed February 17, 1987, and currently U.S. Pat. No. 4,849,284.
U.S. Patent Application No. 279,4 filed Dec. 2, 88
This is a priority claim application based on a part continuation application with No. 74.

【発明の背景】本発明はフルオロポリマー複合材料に関
する。更に詳しくは、本発明は多層回路一の結合層とし
て、また、流動性並びに良好な熱的、機械的及び電気的
な性質を要する他の電気回路の用途の結合層としての使
用に特に充分適するフルオロポリマー複合材料に関す
る。本発明のフルオロポリマー複合材料は、化学的な劣
化、特に高pH(アルカリ性)環境に対する耐性をも示
す。本出願人に譲渡され、援用により本書に含める米国
特許第4,849,284号は、Rogers Cor
porationが商標RO−2800として販売する
セラミック充填フルオロポリマー主体の電気用支持材料
について記載している。この電気用支持材料は、少量の
ミクロファイバーグラスと一緒にシリカで充填したポリ
テトラフルオロエチレンを含むのが好ましい。この材料
の重要な特徴として、セラミック充填剤(シリカ)にシ
ランコーティング材料を用いて塗布し、これによりセラ
ミックの表面を疎水性に変えて引張り強さ、剥離強さ及
び寸法安定性の向上をもたらす。米国特許第4,84
9,284号の複合材料は回路支持体又は結合層として
の使用には少くとも50容量%(ボイド、つまり空隙を
除外した体積基準)の充填剤を含ませることを開示して
いる。米国特許第4,849,284号のセラミック充
填フルオロポリマー主体の電気用支持材料は硬質のプリ
ント配線板支持材料を形成するのに非常に適し、他のプ
リント配線板にまさるすぐれた電気的性能を示す。同様
に、この電気用支持材料の低い熱膨脹率とコンプライア
ンス特性により表面実装信頼性及びめっきスルーホール
信頼性が向上する。公知のように、この電気用支持材料
の個々のシートを積み重ねて多層回路板を形成し得る。
実際、米国特許第4,849,284号に開示されてい
る(かつRogers Corporationが商標
RO−2810で販売する)材料の薄膜用配合物は結合
層として使用されて、多層回路板を形成するように複数
の積み重ねた支持体層を一緒に結合し得る。セラミック
充填剤の高い体積分率(55容量%より大きい)がセラ
ミック充填フルオロポリマー複合材のレオロジー(たと
えば流動性)に著しくかつ不利に影響することが認めら
れよう。このことは複合材を結合フィルムとして使用し
たり、初めは剛体構造をしていた開口部を充填するのに
使用する場合特に重大である。50〜55%のセラミッ
ク充填剤体積分率がより高い充填剤分率に比べて著しく
向上したレオロジー性をもたらすが、優秀な熱的、機械
的及び電気的な性質を、評定できるほど変更することな
く、ずっと良好な流れ特性をもたらす必要が感じられて
いる。レオロジーに関する不利な影響のほかに、50%
以上のセラミック充填剤体積分率には一定の不利な環
境、特に高pH(アルカリ性)浴に関して充填したフル
オロポリマー複合材の耐薬品性に悪影響を与えるという
結論も出された。このように高いpH浴(たとえば、p
H=12より大きい)は無電解銅析出に必要とされ、そ
れは微細配線回路(fine line cireui
try)(即ち、マルチチップモジュール)の製造に非
常に望ましくしばしば使用される方法である。高分率
(50容量%以上)のセラミック充填剤がこのようなア
ルカリ性浴中に長時間曝露中、フルオロポリマー回路材
料の耐薬品性を劣化させ得ることが見出された。アルカ
リ性浴に対する低い耐性により惹起されて生じる劣化は
フルオロポリマー複合材の疎水性の低下をもたらす。順
番に、この低下は吸湿性の増大をもたらして、対応する
非常に望ましくない低下を複合回路材料の電気的性質に
及ぼす。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to fluoropolymer composite materials. More particularly, the present invention is particularly well suited for use as a tie layer in multi-layer circuits and as a tie layer in other electrical circuit applications that require fluidity and good thermal, mechanical and electrical properties. Fluoropolymer composite material. The fluoropolymer composites of the present invention also exhibit resistance to chemical degradation, especially high pH (alkaline) environments. U.S. Pat. No. 4,849,284, assigned to the assignee and incorporated herein by reference, is Rogers Cor.
describes a ceramic-filled fluoropolymer based electrical support material sold under the trademark RO-2800 by Poration. The electrical support material preferably comprises silica-filled polytetrafluoroethylene with a small amount of microfiberglass. An important feature of this material is that it is applied to the ceramic filler (silica) with a silane coating material, which makes the surface of the ceramic hydrophobic and provides improved tensile strength, peel strength and dimensional stability. . U.S. Pat. No. 4,84
The 9,284 composite discloses that at least 50% by volume (by volume excluding voids or voids) of filler is disclosed for use as a circuit support or tie layer. The ceramic-filled fluoropolymer-based electrical support material of US Pat. No. 4,849,284 is highly suitable for forming rigid printed wiring board support materials and provides superior electrical performance over other printed wiring boards. Show. Similarly, the low coefficient of thermal expansion and compliance characteristics of this electrical support material improves surface mount reliability and plated through hole reliability. As is known, the individual sheets of electrical support material can be stacked to form a multilayer circuit board.
In fact, a thin film formulation of the material disclosed in US Pat. No. 4,849,284 (and sold by Rogers Corporation under the trademark RO-2810) is used as a tie layer to form a multilayer circuit board. Multiple stacked support layers can be bonded together. It will be appreciated that the high volume fraction of the ceramic filler (greater than 55% by volume) significantly and adversely affects the rheology (eg, flowability) of the ceramic-filled fluoropolymer composite. This is especially important when the composite is used as a bonding film or to fill an opening that was initially rigid in structure. Ceramic filler volume fractions of 50-55% result in significantly improved rheological properties compared to higher filler fractions, but with appreciable modification of excellent thermal, mechanical and electrical properties. Instead, it feels necessary to provide much better flow characteristics. 50% besides adverse effects on rheology
It was also concluded that the above ceramic filler volume fractions adversely affect the chemical resistance of the filled fluoropolymer composites with respect to certain adverse environments, especially high pH (alkaline) baths. Such a high pH bath (eg p
H = greater than 12) is required for electroless copper deposition, which is fine line circuit.
This is a very desirable and often used method for the manufacture of try (ie multi-chip modules). It has been found that high fractions (50% or more by volume) of ceramic fillers can degrade the chemical resistance of fluoropolymer circuit materials during long-term exposure in such alkaline baths. The degradation caused by the low resistance to alkaline baths results in a decrease in the hydrophobicity of the fluoropolymer composite. In turn, this reduction results in an increase in hygroscopicity, with a corresponding, highly undesirable reduction in the electrical properties of the composite circuit material.

【発明の総括】米国特許出願番号第367,241号
(1989年6月16日出願)(本出願人に譲渡され、
本書に全部援用する)では、米国特許第4,849,2
84号に開示された材料のセラミック充填剤含有量が気
孔を除く基準で45容量%のように低いことがあり得
る。それでもなお充分な熱的、機械的及び電気的性質を
保有し、多層回路材料の結合層として、また一定の剛体
構造用の充填材料として使用し得る。米国特許出願番号
第367,241号のセラミック充填フルオロポリマー
複合材料は、米国特許第4,849,284号の材料と
対比してレオロジーが向上していて、アクセスホール
と、材料のZ軸CTEの余分な増大を伴わない樹脂流に
よるフィーチャーフィリング(feature fil
ling)とを必要とするような用途に有用である。高
pH浴に長く曝露する場合米国特許第4,849,28
4号の充填剤高含有量(たとえば、50%以上)のフル
オロポリマー複合材にもたらされる重大な化学劣化が、
気孔を除く基準で約26容量%のように低い少充填剤量
とすることにより低下及び/又は軽減されることが、本
発明によりここに発見された。得られるセラミック充填
複合材は優秀な機械的及び電気性質を有し、耐アルカリ
性に顕著な向上(高充填剤量の複合材に対し)を示す。
従って、本発明は26〜45容量%のシラン塗布セラミ
ックを含有する充填剤入りフルオロポリマー複合材に関
する。本発明のもう1つの重要な特徴として、(セラミ
ック充填剤の総重量の)2〜10%までの比較的大量の
シラン塗布層が、特にめっきされたスルーホール及びソ
リッドポストバイア(solid post via)
を形成するためのレーザーによる孔あけに関して、改良
された性能をもたらすことが見出されている。10%
(好ましくは6%)もの塗布層の使用は、信じがたく予
想外であった。というのは、シラン量は1〜2%である
必要があり、かつ6〜10%に及ぶ高い量では明らかな
改良は得られないと一般に考えられていたからである
(米国特許第4,849,284号の記載のように)。
好ましいシランコーティング層はフェニルシランとフル
オロシランのブレンドを含む。この組合せはアルカリ性
浴に対する化学抵抗を付与し、更にレーザーによる孔あ
けの能力を増進する。同様に、比較的経費の安いフェニ
ルシランと経費の高いフルオロシランの組合せにより極
めて経済的に効果のあるコーティングが提供される。本
発明の前記に論じた特徴と利点を、以下の詳細な説明と
図面により当業者は評価し、かつ理解するはずである。
SUMMARY OF THE INVENTION US Patent Application No. 367,241 (filed June 16, 1989) (assigned to the applicant,
Incorporated herein by reference in its entirety), U.S. Pat. No. 4,849,2.
The ceramic filler content of the material disclosed in No. 84 can be as low as 45% by volume, excluding porosity. Nevertheless, it retains sufficient thermal, mechanical and electrical properties and can be used as a bonding layer for multilayer circuit materials and as a filling material for certain rigid structures. The ceramic-filled fluoropolymer composite of U.S. Patent Application No. 367,241 has improved rheology as compared to the U.S. Pat. No. 4,849,284 material and provides access holes and Z-axis CTE of the material. Feature flow with resin flow without extra growth
It is useful for applications that require lining). For long exposure to high pH baths US Pat. No. 4,849,28
The significant chemical degradation that results in fluoropolymer composites with high filler content of # 4 (eg, 50% or greater) is:
It has now been discovered by the present invention that reduction and / or mitigation can be achieved by having a low filler level as low as about 26% by volume, excluding porosity. The resulting ceramic-filled composite has excellent mechanical and electrical properties and exhibits a marked improvement in alkali resistance (for high filler loading composites).
Accordingly, the present invention relates to a filled fluoropolymer composite containing 26-45% by volume silane coated ceramic. Another important feature of the invention is that relatively large amounts of silane coatings (up to 2-10% of the total weight of the ceramic filler) of silane, especially plated through-holes and solid post vias.
It has been found to result in improved performance with respect to laser drilling to form a. 10%
The use of coating layers (preferably 6%) was incredible and unexpected. This is because it was generally believed that the amount of silane had to be 1-2%, and that high amounts up to 6-10% did not provide a clear improvement (US Pat. No. 4,849,284). As stated in the issue).
A preferred silane coating layer comprises a blend of phenylsilane and fluorosilane. This combination imparts chemical resistance to alkaline baths and further enhances the ability of laser drilling. Similarly, the combination of the relatively inexpensive phenylsilane and the expensive fluorosilane provides a highly economically effective coating. Those skilled in the art will appreciate and appreciate the above discussed features and advantages of the present invention from the following detailed description and drawings.

【好ましい具体例の説明】本発明のセラミック充填フル
オロポリマー複合材は(1)第1の具体例においてはセ
ラミックが、ボイドを除外した容量基準で約26容量%
程度の少ない量で存在していること、(2)第2の具体
例においてはセラミック充填剤がシラン10%以下(セ
ラミック充填剤全体の重量に対して)で塗布してあるこ
と以外は、米国特許第4,849,284号及び米国特
許出願番号367,241(両者共本明細書に参照とし
て完全に含まれる)に記載されている複合材と本質的に
は同様である。これらのすべての具体例ではセラミック
充填剤の塗布にフェニルシラン及びフルオロシランの混
合物を利用するのが好ましい。好ましい具体例である本
発明の第1の具体例は、容量部(ボイドのない容量基
準)で約0.26の量〜0.45より少ない量で存在す
る特定のセラミック充填剤と、0.74〜0.55容量
部で存在するフルオロポリマー(例えばPTFE)との
複合材からなっている。好ましいセラミック充填剤は溶
融無定形シリカである。他のすべての構造上の態様及び
製造法は、本明細書に共に記載してある好ましい高重量
%のシランコーティング及び好ましいシランブレンド以
外は、米国特許第4,849,284号(シランを塗布
したセラミックを含む)の記載と同様である。従って、
米国特許第4,849,284号の詳細を媛用する。本
発明の材料はPTFE重合体をセラミック充填剤及び凝
固剤と分散液中で“湿式ブレンド”するか又はPTFE
の細粉とセラミック充填剤とを乾式ブレンドすることに
よって製造し得る。充填剤含有量を、約26容量%まで
低く減少させることはフルオロポリマー複合材料のアル
カリ条件下での耐性を増加させ意義深いものである。以
下の表1に示した実施例1及び2を比較すると、実施例
1は、PTFEフルオロポリマー50%、シリカ充填剤
50%及びフェニルシラン充填剤コーティング2重量%
の組成を有する米国特許第4,849,284号に記載
されたタイプの複合材である。実施例2はシリカ充填剤
37.1%と、PTFEフルオロポリマー62.9%
と、フェニル及びフルオロ−シラン(3:1比)のブレ
ンド6重量%(充填剤全体の重量に対して)とを組成と
して有する本発明による複合材である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The ceramic-filled fluoropolymer composite of the present invention comprises (1) about 26% by volume of ceramic in the first embodiment, based on volume excluding voids.
US, except that it is present in a minor amount, and (2) in the second embodiment, the ceramic filler is applied at 10% or less (based on the total weight of the ceramic filler) of silane. It is essentially similar to the composites described in U.S. Pat. No. 4,849,284 and U.S. patent application Ser. No. 367,241, both of which are fully incorporated herein by reference. In all of these embodiments, it is preferred to utilize a mixture of phenylsilane and fluorosilane to apply the ceramic filler. A preferred embodiment, the first embodiment of the present invention, comprises a specific ceramic filler present in an amount of about 0.26 to less than 0.45 by volume (void-free volume basis), It is composed of a composite material with a fluoropolymer (for example, PTFE) present at 74 to 0.55 parts by volume. The preferred ceramic filler is fused amorphous silica. All other structural aspects and methods of preparation are described in US Pat. No. 4,849,284 (silane coated except for the preferred high weight percent silane coating and the preferred silane blends described herein together. (Including ceramic). Therefore,
The details of U.S. Pat. No. 4,849,284 are applicable. The materials of the present invention are "wet blended" with PTFE polymer in dispersion with ceramic fillers and coagulants or PTFE.
Can be prepared by dry blending the fine powder with the ceramic filler. Reducing the filler content down to about 26% by volume is significant because it increases the resistance of the fluoropolymer composite to alkaline conditions. Comparing Examples 1 and 2 shown in Table 1 below, Example 1 shows that 50% PTFE fluoropolymer, 50% silica filler and 2% by weight phenylsilane filler coating.
Is a composite of the type described in U.S. Pat. No. 4,849,284 having the composition Example 2 is 37.1% silica filler and 62.9% PTFE fluoropolymer.
And 6% by weight (relative to the total weight of the filler) of a blend of phenyl and fluoro-silane (3: 1 ratio) as a composition.

【表1】 表1の結果は、充填剤量の減少(例えば米国特許4,8
49,284の材料1.7%に対し本発明の0.07
%)に伴なってHO吸収(アルカリ浴中で処理後)が
意義のある減少をすることをはっきり示している。許容
し得るHO吸収は約0.1%より少ないものであるこ
とが分る。表1の結果は、更に表2の実施例3〜12で
立証される。実施例6〜11においてシランコーティン
グはフェニルシラン及びフルオロシランのブレンドから
なっている。実施例12はフェニルシランコーティング
を利用している。
[Table 1] The results in Table 1 show that the amount of filler is reduced (eg US Pat.
0.07 of the present invention for 1.7% of 49,284 materials
%) Clearly shows a significant decrease in H 2 O absorption (after treatment in alkaline bath). It is found that the acceptable H 2 O absorption is less than about 0.1%. The results in Table 1 are further substantiated in Examples 3-12 in Table 2. In Examples 6-11, the silane coating consisted of a blend of phenylsilane and fluorosilane. Example 12 utilizes a phenylsilane coating.

【表2】 表2には、減少する充填剤含有量に伴う吸水量の減少に
より立証されるように、充填剤含有量の減少が、高pH
処理に対する耐薬品性の増大をもたらすことを再び示し
ている。同等のシランコーティングを有する実施例(た
とえば実施例3〜5,6〜8及び9〜11)の比較は、
少くとも1部では、充填剤量を低くすることにより耐薬
品性が増大することを示す。本発明のように低量(たと
えば、27及び37容量%)とすると、米国特許第4,
849,284号の複合材料に関係する50容量%水準
の特性よりも著しく改良が図られることが理解される。
それで、約26容量%(表3,4では少い方では約26
容量%まででの充填剤含有量を有する実施例について記
載していることに注意されたい)〜45容量%未満の充
填剤量を有する本発明の充填剤入りフルオロポリマー回
路材料複合材は、米国特許出願番号第367,241号
(45〜50未満容量%の充填剤量)と米国特許第4,
849,284号(50容量%以上の充填剤量)の両方
の材料に比較して著しい利点を提供する。なおもう1つ
の本発明の特徴としては、セラミック充填剤全体の10
重量%まで(好ましくは6重量%)の高い充填剤量は、
レーザーアブレーション(融蝕)の成績の向上に寄与す
ることが判明している。この発見は、米国特許第4,8
49,284号では、1〜2%のシランコーティング量
が好ましく、2%以上ではシランコーティングでの効果
は無視されると考えられ、かつ示唆されていたため、予
想されていなかった。回路材料のレーザー加工性の決定
に使用する2つの判定基準として(1)アブレーション
に必要なエネルギー量(低量の方が好ましい)及び
(2)完全にまっすぐに(先細りなく)融蝕された穴の
内壁面からのかたより(かたより0°が好ましい)が挙
げられる。図4は、その上に銅の層6を有する基材4
(本発明の複合材料でできている)に形成された、レー
ザー溶融穴2を有する回路板の横断面を示す。角「a」
はまっすぐな壁面からのかたよりを表わす。表3,4
は、乾式及び湿式でブレンドした組成物についてのコー
ティング量とセラミック充填剤量とのデータに対するレ
ーザーアブレーションの成績を示す。実施例13〜30
と実施例32〜38はシリカ充填剤を使用しているが、
実施例31及び39は石英充填剤を使用している。
[Table 2] Table 2 shows the decrease in filler content at high pH, as evidenced by the decrease in water absorption with decreasing filler content.
It is again shown to result in increased chemical resistance to processing. A comparison of examples having equivalent silane coatings (eg Examples 3-5, 6-8 and 9-11)
At least 1 part shows that lowering the amount of filler increases the chemical resistance. With low amounts (eg 27 and 37% by volume) as in the present invention, US Pat.
It is understood that a significant improvement is achieved over the 50% by volume level properties associated with the 849,284 composite material.
So about 26% by volume (about 26% in Tables 3 and 4
Note that examples having filler contents up to 4% by volume are described) and filled fluoropolymer circuit material composites of the present invention having a filler amount of less than 45% by volume are available in the United States. Patent Application No. 367,241 (filler amount of 45% to less than 50% by volume) and US Pat.
849,284 (filler amount of 50% by volume or more) offers significant advantages over both materials. Yet another feature of the present invention is that the total amount of ceramic filler is 10
High filler amounts up to wt% (preferably 6 wt%)
It has been found to contribute to improving the performance of laser ablation. This finding was found in US Pat.
No. 49,284, a silane coating amount of 1 to 2% was preferable, and at 2% or more, the effect on the silane coating was considered to be neglected and suggested, and thus was not expected. The two criteria used to determine the laser processability of circuit materials are (1) the amount of energy required for ablation (a lower amount is preferred) and (2) a perfectly ablated (non-tapered) hole. From the inner wall surface (preferably 0 °). FIG. 4 shows a substrate 4 having a copper layer 6 thereon.
Figure 2 shows a cross section of a circuit board with laser melting holes 2 formed (made of the composite material of the invention). Corner "a"
Represents the sway from a straight wall. Tables 3 and 4
Shows the results of laser ablation for coating and ceramic filler data for dry and wet blended compositions. Examples 13-30
And Examples 32-38 use a silica filler,
Examples 31 and 39 use a quartz filler.

【表3】 [Table 3]

【表4】 表3,4の結果は、高充填剤量と高コーティング量がも
っとも良いレーザーアブレーションの成績(最低のアブ
レーション限界エネルギーで表わす)を与えることを示
す。レーザーアブレーションの成績は、充填剤量若しく
はコーティング量のいずれか、又は両方とも低下すると
悪くなる。充填剤コーティグにより、26%ような低充
填剤量についてまでも、アブレーョン限界を著しく低下
し得る。このことは、実施例18及び20を実施例36
と比較する場合非常に明白である。表3,4では、比
3:1により示すコーティングはフェニルシラン3部対
フルオロシラン1部である。6124として同定される
コーティングはフェニリトリメトキシシランであり、フ
ルオロシランはトリデカフルオロ−1,1,2,2−テ
トラヒドロオクチル−1−トリエトキシシランであっ
て、C13CHCHSi(OCHCH
の化学式を有し、本明細書中以後CFとして示す。レ
ーザー加工性(248mmで、ビームエネルギー、3.
9J/cmの場合)に対する組成の影響についても図
3に示す。なお、斜線はレーザー照射した穴の壁面の直
線からのかたよりを表わす(角度の低い方が好まし
い)。図3では、「シリカ充填剤量」はシランコーティ
ングの寄与する容積%を包含する。図3により、高シラ
ン量及び/又は高セラミックフィルター量の方がレーザ
ーアブレーション(穴の内壁面の品質)の向上をもたら
すことが指摘させる。低量のセラミック充填剤には多量
のシランを使用するのが好ましいことに注意されたい。
本発明の更にもう1つの特徴として、シランコーティン
グにはフェニルシランとフルオロシランのブレンドが好
ましいことが判明している。フルオロシランはアルカリ
性曝露に対する耐薬品性を付与するが、フェニルシラン
はレーザーの穴あけを促進し、かつフルオロシランより
も経費が低い。表5は耐・アルカリ劣化性を付与する場
合のフェニリシランに対するフルオロシランの優位性を
例示する。好ましいブレンドはフェニルシランとフルオ
ロシランの重量比が3:1である。適当なフェニルシラ
ンとフルオロシランの例は、米国特許出願番号第27
9,474号(1988年12月2日出願)に詳細に説
明されていて、それは本出願人に譲渡され、本書に全部
援用する。
[Table 4] The results in Tables 3 and 4 show that high filler loading and high coating loading give the best laser ablation performance (represented by the lowest ablation energy limit). The performance of laser ablation deteriorates when either the amount of filler or the amount of coating, or both, decreases. The filler coating can significantly reduce the abrasion limit, even for filler amounts as low as 26%. This means that Examples 18 and 20 are combined with Example 36.
Very obvious when compared to. In Tables 3 and 4, the coating represented by the ratio 3: 1 is 3 parts phenylsilane to 1 part fluorosilane. The coating identified as 6124 is phenylitrimethoxysilane, the fluorosilane is tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl-1-triethoxysilane, and C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si. (OCH 2 CH 3 ) 3
And has the chemical formula of C 6 F. Laser processability (at 248 mm, beam energy, 3.
The effect of the composition on the case of 9 J / cm 2 ) is also shown in FIG. The diagonal lines represent the deviation from the straight line of the wall surface of the hole irradiated with the laser (the lower the angle is preferable). In FIG. 3, “silica filler amount” includes the volume percent contributed by the silane coating. It is pointed out from FIG. 3 that higher silane content and / or higher ceramic filter content leads to improved laser ablation (quality of the inner wall of the hole). Note that it is preferable to use high amounts of silane for low amounts of ceramic filler.
As a further feature of the present invention, it has been found that a blend of phenylsilane and fluorosilane is preferred for the silane coating. Fluorosilanes provide chemical resistance to alkaline exposure, while phenylsilanes facilitate laser drilling and are less expensive than fluorosilanes. Table 5 illustrates the superiority of fluorosilane over phenylisilane in the case of imparting resistance to alkali and alkali deterioration. A preferred blend has a 3: 1 weight ratio of phenylsilane to fluorosilane. Examples of suitable phenylsilanes and fluorosilanes are described in US patent application Ser. No. 27.
No. 9,474 (filed Dec. 2, 1988), which is assigned to the applicant and incorporated herein by reference in its entirety.

【表5】 この充填剤含有量の低減により、本発明材料は「流れ
る」こととなるので、そのレオロジーは、厚い金属箔の
又は回路部品内層の比較的大きな開口部を充填する程度
まで改良される。それは米国特許第4,849,284
号に開示された高度充填(55%体積分率より大きい)
材料の幾つかによっては充填することができない。本発
明の重要な特徴は、材料のZ軸熱膨脹係数(CTE)を
過度に増大しないでレオロジーを改良するという事実で
ある。30〜45容積%充填剤配合品のZ軸CTEは測
定して、−55〜+125℃の温度範囲(典型的には約
200ppm/℃)の間で、広範に使用されている繊維
強化PTFEよりも相当低かった(表6参照)。本発明
の結合層と一緒にして結合したRO 2800ラミネー
トからできた多層回路板は繊維強化PTFE板のそれよ
りも相当低い総括CTEを示す。CTEの減少は熱循環
と高温組立とに耐えるめっきスルーホール及びバイアの
信頼度を増大することで重要である。
[Table 5] This reduction in filler content causes the inventive material to "flow" so that its rheology is improved to the extent that it fills relatively large openings in thick metal foils or in inner layers of circuit components. It is US Pat. No. 4,849,284
Advanced filling disclosed in No. (greater than 55% volume fraction)
Some materials cannot be filled. An important feature of the present invention is the fact that it improves rheology without unduly increasing the Z-axis coefficient of thermal expansion (CTE) of the material. The Z-axis CTE of a 30-45% by volume filler blend was measured to be from the widely used fiber reinforced PTFE over the temperature range of -55 to + 125 ° C (typically about 200 ppm / ° C). Was also quite low (see Table 6). Multilayer circuit boards made from RO 2800 laminate bonded together with the tie layer of the present invention exhibit a significantly lower overall CTE than that of fiber reinforced PTFE boards. Reducing CTE is important in increasing the reliability of plated through holes and vias that withstand thermal cycling and high temperature assembly.

【表6】 本発明は、セラミック充填PTFE複合材料が有用な印
刷配線板を構成するために使用できる用途の数を大きく
する。本発明は、既に硬質になっている構造体(たとえ
ばエッチングしたCIC電圧板若しくはグラウンド(接
地)板、及び抑止用コア(restraining c
ore)、並びにそのような構造体に結合した回路部
品)の開口部を充填するのに特に有効である。たとえ
ば、図1のAでは開口部52を幾つか有する硬質グラウ
ンド板構造50の横断面を描写する。本発明のシート5
4と56(たとえば、セラミック約0.26〜0.45
体積分率)を次にグラウンド板50の両方の側面につけ
る。図1のBでは、図1のAの積重体58を熱と圧力を
加えてラミネートする。本発明組成物はスムーズに流れ
得るので開口部を完全に充填し、優秀な熱的、機械的及
び電気の性質を提供する。次に図2を参照する。本発明
の複合材料を加工して高密度化してない、未焼結の形の
シートにして、多層印刷配線板と結合したり箔堆積によ
り印刷配線板を構成したりするために使用し得る。図2
において、このような多層回路板を一般的に10で示
す。多層板10は複数の層の支持体材料、12,14及
び16を含み、それらのすべてが電気用支持体材料から
成り、好ましくはRO−2800の商標で販売されてい
る米国特許第4,849,284号のセラミック充填フ
ルオロポリマー材料である。各支持体層12,14及び
16にはそれぞれに導体パターン18,20,22及び
24がある。上に回路パターンを有する支持体層は回路
支持体を意味することに注意されたい。めっきスルーホ
ール26及び28を選択される回路パターンに公知方法
で相互接続する。本発明では、本発明の組成物を有する
支持体材料の別個の層30及び32を接着剤層又は結合
剤層として使用し、個々の回路支持体を一緒にラミネー
トする。このようなラミネートを形成する好ましい方法
として、1つ以上の層の結合剤層を交互にはさんだ回路
支持体の積重体を作製する。次いでこの積重体を融着
し、これにより全体の多層組立体を、同一の電気的及び
機械的性質を全体的に有する均質な構成物に融着する。
米国特許第4,849,284号のシラン塗布セラミッ
ク充填フルオロポリマー以外の材料から成る回路支持体
をラミネートするために、接着剤接合層30及び32を
使用し得ることに大いに注意されたい。好ましい態様と
しては、多層回路板は複数の回路支持体を含み、それら
は全部米国特許第4,849,284号の電気的支持体
材料から成る。米国特許第4,849,284号に言及
されている高度充填複合材料(たとえば充填剤50%以
上)は多くの印刷配線板設計(たとえば本体コンピュー
ター用大型多層板(CPUボード)、ミリタリー表面取
り付け組立体及びマクロ波回路板結合アセンブリ)に非
常に適している。しかしながら、絶縁厚み(diele
ctric thickness)に対比して厚い電圧
平板を必要とする特殊なMLB用途(たとえば厚手電力
板、CTE制御用厚手抑制箔)については、更に低い充
填剤含有量(たとえば45〜50容量%)とすることに
より前記米国特許出願番号第367,241号の指示の
ように充分な流れを可能とすることを必要とする。本発
明による約26%〜45%未満の低い充填剤量は、小孔
のレーザー孔あけ、良好な流れ、及び無電解浴に対する
耐アルカリ性を特に必要とするマルチチップモジュール
の製造についての回路加工技術の発達を促す1つの解答
となる。本発明の低充填剤量では(米国特許第4,84
9,284号の記載の材料が意図するような)良質な慣
用多層板は作製し得ないが、一方、米国特許第4,84
9,284号の材料は、高速度高密度デバイスに好まし
い包装技術として出現しつつある特定種類のマルチチッ
プモジュールには適当ではない。好ましい実施態様を示
して説明したが、これについて種々の変更と置換を施こ
し得るが、それらは本発明の本質と範囲から逸脱するも
のではない。従って、本発明について説明したことは例
示のためであって限定のためではないことを理解された
い。
[Table 6] The present invention expands the number of applications in which ceramic-filled PTFE composites can be used to construct useful printed wiring boards. The present invention is directed to structures that are already rigid (eg, etched CIC voltage plates or ground plates, and restraining cores).
ore), as well as the openings of circuit components associated with such structures). For example, FIG. 1A depicts a cross section of a rigid ground plane structure 50 having several openings 52. Sheet 5 of the present invention
4 and 56 (for example, about 0.26 to 0.45 ceramic)
Volume fractions) are then applied to both sides of ground plate 50. In B of FIG. 1, the stack 58 of A of FIG. 1 is laminated by applying heat and pressure. The composition of the present invention is capable of flowing smoothly so that it completely fills the openings and provides excellent thermal, mechanical and electrical properties. Next, referring to FIG. The composite material of the present invention can be processed into an undensified, unsintered sheet, which can be used to bond to multilayer printed wiring boards or to construct printed wiring boards by foil deposition. Figure 2
In general, such a multilayer circuit board is designated by 10. Multilayer board 10 comprises a plurality of layers of support material, 12, 14 and 16, all of which consist of electrical support material, preferably sold under the trademark RO-2800, U.S. Pat. No. 4,849. , 284 ceramic-filled fluoropolymer material. Each support layer 12, 14 and 16 has a conductor pattern 18, 20, 22 and 24 respectively. Note that a support layer having a circuit pattern on it means a circuit support. The plated through holes 26 and 28 are interconnected to the selected circuit pattern in a known manner. In the present invention, separate layers 30 and 32 of support material having the composition of the present invention are used as adhesive or binder layers to laminate the individual circuit supports together. A preferred method of forming such a laminate is to make a stack of circuit supports with alternating binder layers of one or more layers. The stack is then fused, thereby fusing the entire multi-layer assembly into a homogeneous composition that generally has the same electrical and mechanical properties.
It should be noted that adhesive bonding layers 30 and 32 may be used to laminate circuit supports comprised of materials other than the silane coated ceramic filled fluoropolymer of US Pat. No. 4,849,284. In a preferred embodiment, the multilayer circuit board comprises a plurality of circuit carriers, all of which are the electrical carrier materials of US Pat. No. 4,849,284. The highly filled composite materials (eg, 50% or more filler) referred to in US Pat. No. 4,849,284 are used in many printed wiring board designs (eg, large multi-layer boards (CPU boards) for mainframe computers, military surface mount assemblies). Very suitable for solid and microwave circuit board coupling assemblies). However, the insulation thickness (diele
Lower filler content (eg 45-50% by volume) for special MLB applications (eg thick power boards, CTE control thick restraint foils) which require thick voltage plates compared to tric thickness. Therefore, it is necessary to allow sufficient flow as instructed in the above-mentioned U.S. Patent Application No. 367,241. Low filler loadings of about 26% to less than 45% according to the present invention, circuit fabrication techniques for the manufacture of multi-chip modules that specifically require small hole laser drilling, good flow, and alkali resistance to electroless baths. Is one solution that promotes the development of. At low filler levels of the present invention (US Pat.
Good quality conventional multilayer boards (as intended by the material described in US Pat. No. 9,284) cannot be made, while US Pat.
The 9,284 material is not suitable for the particular type of multichip module emerging as the preferred packaging technology for high speed, high density devices. While the preferred embodiment has been shown and described, various changes and substitutions can be made therein without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, it should be understood that the present invention has been described by way of illustration and not limitation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1のA及びBは、本発明の複合材料を用いて
充填する事前及び事後それぞれの、開口部を有する剛体
構造の横断面図である。
1A and 1B are cross-sectional views of a rigid structure with openings before and after filling with a composite material of the present invention, respectively.

【図2】本発明の熱可塑性複合材料を薄膜結合層として
使用する多層回路板の横断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a multilayer circuit board that uses the thermoplastic composite material of the present invention as a thin film bonding layer.

【図3】248mmで3.9J/cmのビームエネル
ギーで複合材料のレーザー加工性に対するシランと塗布
シリカ充填剤の量(%)の影響を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the effect of the amount (%) of silane and coated silica filler on the laser processability of the composite at a beam energy of 3.9 J / cm 2 at 248 mm.

【図4】本発明の回路板の横断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the circuit board of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

52 開口部 50 グラウンド層 54,56 本発明のシート 58 図1の部材の積重ね 10 多層回路板 12,14,16 支持体材料の層 18,20,22,24 伝導性パターン 26,28 めっきスルーボール 30,32 接着剤結合層 6 銅層 4 本発明の複合材料の基材 2 レーザー融蝕孔 a 壁面からのかたより 52 opening 50 ground layer 54,56 Sheet of the present invention 58 Stacking of the members of FIG. 10 Multilayer circuit board 12, 14, 16 Layers of support material 18, 20, 22, 24 Conductive pattern 26,28 plated through ball 30,32 adhesive bonding layer 6 copper layers 4 Base material of the composite material of the present invention 2 Laser ablation hole a From the wall

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H05K 3/46 H05K 3/46 T (72)発明者 アリン・エフ・ホーン・ザ・サード アメリカ合衆国、コネテイカツト・ 06239、ダニエルスン、ブロード・スト リート・95 (72)発明者 ブレツト・キルヘニ アメリカ合衆国、コネテイカツト・ 06268、ストールズ、シエイデイ・レイ ン・25 (56)参考文献 特開 昭62−80916(JP,A) 特開 昭63−259907(JP,A) 米国特許4849284(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01B 3/44 H05K 3/38 H05K 3/46 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H05K 3/46 H05K 3/46 T (72) Inventor Arin F Horn the Third United States, Connecticutto 06239, Daniel Sun, Broad Street 95 (72) Inventor Brett Kircheni Connecticut 06268, Stalls, Cayde Lane 25 (56) Reference JP 62-80916 (JP, A) JP 63-259907 (JP, A) US Patent 4849284 (US, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01B 3/44 H05K 3/38 H05K 3/46

Claims (24)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 電気用支持材料であって、フルオロポリ
マー材料と、該電気用支持材料全体の少なくとも26容
量%から45容量%未満の量で存在するセラミック充填
剤材料とから成り、前記セラミック充填剤にシランコー
ティングを施してある、電気用支持材料。
1. An electrical support material comprising a fluoropolymer material and a ceramic filler material present in an amount of at least 26% to less than 45% by volume of the total electrical support material. An electrical support material with a silane coating on the agent.
【請求項2】 前記電気用支持材料の少なくとも1部分
に配置され電気伝導性材料からなる少なくとも1つの層
を含む、請求項1の電気用支持材料。
2. The electrical support material of claim 1, comprising at least one layer of electrically conductive material disposed on at least a portion of the electrical support material.
【請求項3】 前記フルオロポリマーが、ポリテトラフ
ルオロエチレン,ヘキサフルオロプロペン,テトラフル
オロエチレン又はペルフルオロアルキルビニルエーテル
から成るグループから選択される、請求項1の電気用支
材料。
3. The electrical utility of claim 1 wherein said fluoropolymer is selected from the group consisting of polytetrafluoroethylene, hexafluoropropene, tetrafluoroethylene or perfluoroalkyl vinyl ether.
Holding material.
【請求項4】 前記セラミック充填剤がシリカを含む、
請求項1の電気用支持材料。
4. The ceramic filler comprises silica.
The electrical support material according to claim 1.
【請求項5】 前記シランコーティングが、p−クロロ
メチルフェニルトリメトキシシラン,アミノエチルアミ
ノトリメトキシシラン,フェニルトリメトキシシランと
アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシランとの混
合物,フルオロシラン,及び少なくとも1種のフルオロ
シランと少なくとも1種のフェニルシランとのブレン
ド,から成るグループから選択される、請求項1の電気
用支持材料。
5. The silane coating comprises p-chloromethylphenyltrimethoxysilane, aminoethylaminotrimethoxysilane, a mixture of phenyltrimethoxysilane and aminoethylaminopropyltrimethoxysilane, fluorosilane, and at least one. The electrical support material of claim 1, selected from the group consisting of a blend of fluorosilane and at least one phenylsilane.
【請求項6】 前記シランコーティングがセラミック充
填剤の重量に対して2重量%より大きく10重量%まで
の量である、請求項1の電気用支持材料
6. The electrical support material of claim 1, wherein the silane coating is in an amount of greater than 2 wt% and up to 10 wt% based on the weight of the ceramic filler.
【請求項7】 前記シランコーティングが少なくとも1
種のフルオロシランと少なくとも1種のフェニルシラン
のブレンドを含む、請求項6の電気用支持材料
7. The silane coating is at least 1
The electrical support material of claim 6, comprising a blend of one fluorosilane and at least one phenylsilane.
【請求項8】 少なくとも第1の回路層と第2の回路層
を含む多層回路において、第1と第2の回路層間にはさ
まれた接着剤層を含み、その接着剤層が、フルオロポリ
マー材料と接着剤層全体の少なくとも26容量%から4
5容量%未満の量であるセラミック充填剤材料とから成
り、前記セラミック充填剤にシランコーテングを施して
あることを特徴とする多層回路。
8. A multilayer circuit including at least a first circuit layer and a second circuit layer, comprising an adhesive layer sandwiched between the first and second circuit layers, the adhesive layer being a fluoropolymer. At least 26% by volume of the total material and adhesive layer to 4
A multilayer circuit comprising a ceramic filler material in an amount of less than 5% by volume, the ceramic filler being silane coated.
【請求項9】 少なくとも1つのめっきされたスルーホ
ールを含む、請求項8の多層回路。
9. The multilayer circuit of claim 8 including at least one plated through hole.
【請求項10】 前記フルオロポリマー材料が、ポリテ
トラフルオロエチレン,ヘキサフルオロプロペン,テト
ラフルオロエチレン又はペルフルオロアルキルビニルエ
ーテルから成るグループから選択される、請求項8の多
層回路。
10. The multilayer circuit of claim 8, wherein the fluoropolymer material is selected from the group consisting of polytetrafluoroethylene, hexafluoropropene, tetrafluoroethylene or perfluoroalkyl vinyl ether.
【請求項11】 前記セラミック充填剤がシリカを含
む、請求項8の多層回路。
11. The multilayer circuit of claim 8, wherein the ceramic filler comprises silica.
【請求項12】 前記シランコーティングが、p−クロ
ロメチルフェニルトリメトキシシラン,アミノエチルア
ミノトリメトキシシラン,フェニルトリメトキシシラン
とアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシランとの
混合物,フルオルシラン,及び少なくとも1種のフルオ
ロシランと少なくとも1種のフェニルシランとのブレン
ド,から成るグループから選択される、請求項8の多層
回路。
12. The silane coating comprises p-chloromethylphenyltrimethoxysilane, aminoethylaminotrimethoxysilane, a mixture of phenyltrimethoxysilane and aminoethylaminopropyltrimethoxysilane, fluorosilane, and at least one fluoro. 9. The multilayer circuit of claim 8 selected from the group consisting of a silane and a blend of at least one phenylsilane.
【請求項13】 前記シランコーティングがセラミック
充填剤の重量に対し2重量%より大きく10重量%まで
の量である、請求項8の多層回路
13. The multilayer circuit of claim 8, wherein the silane coating is in an amount greater than 2 wt% and up to 10 wt% based on the weight of the ceramic filler.
【請求項14】 前記シランコーティングが少なくとも
1種のフルオロシランと少なくとも1種のフェニルシラ
ンのブレンドを含む、請求項13の多層回路
14. The multilayer circuit of claim 13, wherein the silane coating comprises a blend of at least one fluorosilane and at least one phenylsilane.
【請求項15】 硬質になっている構造体であって少な
くとも部分的にこの構造体の中を通る少なくとも1つの
開口部を有する硬質になっている構造体と、少なくとも
1つの前記開口部中の複合材料とから成り、前記複合材
料がフルオロポリマー材料と、複合材料全体の少なくと
も26容量%から45容量%未満までの量であって、シ
ランコーティングを施してあるセラミック充填剤とを含
む、製品。
15. A rigid structure having at least one opening that at least partially passes through the structure, and at least one of the openings. An article comprising a composite material, the composite material comprising a fluoropolymer material and a silane-coated ceramic filler in an amount of at least 26% to less than 45% by volume of the total composite material.
【請求項16】 前記フルオロポリマー材料が、ポリテ
トラフルオロエチレン,ヘキサフルオロプロペン,テト
ラフルオロエチレン又はペルフルオロアルキルビニルエ
ーテルから成るグループから選択される、請求項15の
製品
16. The method of claim 15, wherein the fluoropolymer material is selected from the group consisting of polytetrafluoroethylene, hexafluoropropene, tetrafluoroethylene or perfluoroalkyl vinyl ether.
Product .
【請求項17】 前記セラミック充填剤がシリカを含
む、請求項15の製品
17. The article of claim 15, wherein the ceramic filler comprises silica.
【請求項18】 前記シランコーティングが、p−クロ
ロメチルフェニルトリメトキシシラン,アミノエチルア
ミノトリメトキシシラン,フェニルトリメトキシシラン
とアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシランとの
混合物、フルオロシラン,及び少なくとも1種のフルオ
ロシランと少なくとも1種のフェニルシランとのブレン
ド,から成るグループから選択される、請求項15の
18. The silane coating comprises p-chloromethylphenyltrimethoxysilane, aminoethylaminotrimethoxysilane, a mixture of phenyltrimethoxysilane and aminoethylaminopropyltrimethoxysilane, fluorosilane, and at least one. The product of claim 15 selected from the group consisting of a blend of fluorosilane and at least one phenylsilane .
Goods .
【請求項19】 前記シランコーティングがセラミック
充填剤の重量に対して2重量%より大きく10重量%ま
での量である、請求項15の製品
19. The method of claim 18, wherein the silane coating is in an amount of up to 10 wt.% Greater than 2% by weight relative to the weight of the ceramic filler, product of claim 15.
【請求項20】 前記シランコーティングが少なくとも
1種のフルオロシランと少なくとも1種のフェニルシラ
ンのブレンドを含む、請求項19の製品
20. The method of claim 19, wherein the silane coating comprises a blend of at least one phenyl silane with at least one fluoro silane, product of claim 19.
【請求項21】 電気用支持材料であって、フルオロポ
リマー材料と、該支持材料全体の少なくとも約26容量
%の量であるセラミック充填剤材料とから成り、前記セ
ラミック充填剤に少なくとも1種のフルオロシランと少
なくとも1種のフェニルシランとのブレンドを含むシラ
ンコーティングを施こし、このシランコーティングはセ
ラミック充填剤の重量に対し2重量%より大きく10重
量%までの量である、電気用支持材料。
21. An electrical support material comprising a fluoropolymer material and a ceramic filler material in an amount of at least about 26% by volume of the total support material, the ceramic filler comprising at least one fluoropolymer material. Silane and small
A silan coating comprising a blend with at least one phenylsilane , the silane coating being present in an amount of more than 2% and up to 10% by weight, based on the weight of the ceramic filler, for electrical applications. Support material.
【請求項22】 少なくとも第1の回路層と第2の回路
層を含む多層回路において、第1と第2の回路層の間に
挟まれた接着剤層を含み、その接着剤層がフルオロポリ
マー材料と、接着剤層全体の少なくとも26重量%の量
であるセラミック充填剤とから成り、前記セラミック充
填剤に少なくとも1種のフルオロシランと少なくとも1
種のフェニルシランのブレンドを含むシランコーティン
グを施してあって、そのシランコーティングはセラミッ
ク充填剤の重量に対し2重量大きく10重量%までの量
であることを特徴とする多層回路。
22. A multilayer circuit including at least a first circuit layer and a second circuit layer, comprising an adhesive layer sandwiched between the first and second circuit layers, the adhesive layer being a fluoropolymer. A material and a ceramic filler in an amount of at least 26% by weight of the total adhesive layer, said ceramic filler comprising at least one fluorosilane and at least 1
A multi-layer circuit characterized in that it has a silane coating comprising a blend of phenylsilanes of the species , the silane coating being present in an amount of from 2 to 10% by weight, based on the weight of the ceramic filler.
【請求項23】 硬質になっている構造体であって少な
くとも部分的にこの構造体の中を通る少なくとも1つの
開口部を有する硬質になっている構造体と、前記の少な
くとも1つの開口部中の複合材料とから成り、前記複合
材料がフルオロポリマー材料と複合材料全体の少なくと
も26容量%の量であるセラミック充填剤を含み、前記
セラミック充填剤にシランコーティングを施してあり、
このシランコーティングがセラミック充填剤の重量に対
し2重量%より大きく10重量%までの量である、製
品。
23. A rigid structure having at least one opening that at least partially extends through the structure; and in the at least one opening. A composite material comprising a fluoropolymer material and a ceramic filler in an amount of at least 26% by volume of the total composite material, the ceramic filler having a silane coating,
The product, wherein the silane coating is in an amount of more than 2% by weight and up to 10% by weight relative to the weight of the ceramic filler.
【請求項24】 前記シランコーティングが少なくとも
1種のフルオロシランと少なくとも1種のフェニルシラ
ンのブレンドを含む、請求項23の製品。
24. the silane coating comprises a blend of at least one phenyl silane with at least one fluoro silane, product of claim 23.
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