FR2671932A1 - FLUOROPOLYMER COMPOSITE MATERIAL FOR CERAMIC FILLERS. - Google Patents
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Abstract
On présente un matériau composite comprenant un fluoropolymère contenant des matières de charge de céramique, dans lequel on enrobe la céramique à l'aide d'un silane et la céramique représente une fraction en % en volume d'environ 26 à 45. Le composite de la présente invention manifeste une résistance excellente aux produits chimiques, en particulier à des environnements alcalins. De préférence, le silane comprend un mélange d'au moins un phénylsilane et d'au moins un fluorosilane. De préférence, on enrobe le silane pour obtenir une teneur à raison de 10% du poids total de la matière de charge de céramique. La présente invention trouve son utilité particulière dans le remplissage d'ouvertures (52), par exemple des plans de masse (50), et dans le collage de plaquettes multicouches pour circuits imprimés ou dans la construction de plaquettes de circuits imprimés par lamification de feuilles.A composite material comprising a fluoropolymer containing ceramic fillers is presented, wherein the ceramic is coated with a silane and the ceramic is a volume% fraction of about 26 to 45. The composite of the present invention exhibits excellent resistance to chemicals, particularly alkaline environments. Preferably, the silane comprises a mixture of at least one phenylsilane and at least one fluorosilane. Preferably, the silane is coated to obtain a content of 10% of the total weight of the ceramic filler material. The present invention finds particular utility in the filling of openings (52), for example ground planes (50), and in the bonding of multilayer printed circuit boards or in the construction of printed circuit boards by laminating sheets. .
Description
Matériau composite fluoropolymère contenant des matières de charge deFluoropolymer composite material containing filler materials
céramique La présente invention concerne un matériau de substrat électrique comprenant une matière fluoropolynère et des matières de charge de céramique, qui est particulièrement bien approprié pour être utilisé comme couche de collage dans une plaquette multicouches pour circuits imprimés, ainsi que dans d'autres applications de circuits électroniques, qui nécessitent une aptitude à l'écoulement, ainsi que de bonnes propriétés thermiques, mécaniques et électriques Le matériau composite fluoropolymère de la présente invention manifeste également une résistance à la dégradation provoquée par des produits chimiques, en The present invention relates to an electrical substrate material comprising a fluoropolymeric material and ceramic filler materials, which is particularly suitable for use as a bonding layer in a multilayer printed circuit board, as well as in other applications of electronic circuits, which require flowability, as well as good thermal, mechanical and electrical properties The fluoropolymer composite material of the present invention also exhibits resistance to degradation caused by chemicals, in particular
particulier des environnements à p H élevé (alcalins). especially in high p H (alkaline) environments.
Dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique In the patent of the United States of America
4 849 284,4,849,284,
on décrit un matériau de substrat électrique à base de fluoropolymère contenant des matières de charge de céramique (vendu par Rogers an electrical substrate material based on fluoropolymer containing ceramic filler materials (sold by Rogers
Corporation sous la dénomination commerciale RO-2800). Corporation under the trade name RO-2800).
De préférence, ce matériau de substrat électrique comprend du polytétrafluoréthylène contenant, comme matières de charge, de la silice, ainsi qu'une petite quantité de microfibres de verre Dans une caractéristique importante de ce matériau, les matières de charge de céramique (silice) sont enrobées à l'aide d'une matière d'enduction de silane qui rend hydrophobe la surface de la céramique et qui procure une amélioration quant à la résistance à la traction, la résistance à l'écaillement et la stabilité dimensionnelle Le matériau composite du brevet des Etats-Unis d'Amérique 4 849 284 révèle une fraction de matières de charge en pour cent en volume (sur une base exempte de vides) d'au moins 50, pour une utilisation comme substrat destiné à des circuits imprimés ou comme Preferably, this electrical substrate material comprises polytetrafluoroethylene containing, as fillers, silica, as well as a small amount of glass microfibers. In an important characteristic of this material, ceramic fillers (silica) are coated with a silane coating material which makes the ceramic surface hydrophobic and which provides improvement in tensile strength, chipping resistance and dimensional stability The composite material of the patent of the United States of America 4,849,284 discloses a filler material fraction in volume percent (on a void-free basis) of at least 50, for use as a substrate for printed circuits or as a
couche de collage.bonding layer.
Le matériau de substrat électrique du brevet des Etats-Unis d'Amérique 4 849 284, à base de fluoropolymère contenant des matières de charge de céramique, est bien approprié pour le façonnage de matériau de substrat rigide pour des plaquettes de circuits imprimés et il manifeste une amélioration quant à sa performance électrique par rapport à d'autres matériaux de plaquettes pour circuits imprimés De même, les coefficients peu élevés de dilatation thermique et la nature élastique de ce matériau de substrat électrique, donnent lieu à une fiabilité améliorée quant au montage en surface, ainsi The electrical substrate material of U.S. Patent 4,849,284, based on fluoropolymer containing ceramic fillers, is well suited for shaping rigid substrate material for printed circuit boards an improvement in its electrical performance compared to other printed circuit board materials Likewise, the low coefficients of thermal expansion and the elastic nature of this material of electric substrate, give rise to improved reliability with regard to mounting in surface as well
qu'une fiabilité améliorée quant aux trous métallisés. improved reliability with regard to metallized holes.
Comme il est connu, on doit empiler des feuilles individuelles de ce matériau de substrat électrique pour obtenir une plaquette multicouches pour circuits imprimés En fait, on peut utiliser des formulations de pellicules minces du matériau révélé dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique 4 849 284 (et vendu par Rogers Corporation sous la dénomination commerciale RO-2810), comme couche de collage pour coller l'une à l'autre plusieurs couches de substrat empilées de façon à obtenir la plaquette multicouches pour circuits imprimés. On comprendra que des fractions élevées en volume (supérieures à 55 % en volume) quant aux matières de charge de céramique, affecteront la rhéologie de manière néfaste et importante (par exemple, l'écoulement) du composite de fluoropolymère contenant des matières de charge de céramique Cette caractéristique revêt une importance particulière lorsque le composite est utilisé comme pellicule de collage ou pour combler des ouvertures pratiquées dans des structures préalablement rigides Bien que des fractions en volume de matières de charge de céramique de l'ordre de 50 à 55 % procurent des propriétés Théologiques fortement améliorées par rapport à des fractions plus élevées en matières de charge, on a constaté un besoin de procurer au composite fluoropolymère, des propriétés d'écoulement encore meilleures, sans altérer de façon appréciable les excellentes propriétés thermiques, mécaniques et électriques. Outre les effets néfastes sur la rhéologie, on a également pu déterminer que des fractions de matières de charge de céramique de 50 % et plus en volume avaient également un impact négatif sur la résistance aux produits chimiques du composite fluoropolymère contenant des matières de charge, par rapport à certains environnements hostiles, en particulier des bains à p H élevé (alcalins) On a besoin de tels bains à p H élevé (par exemple, un p H supérieur à 12) pour obtenir un dépôt de cuivre chimique qui constitue un procédé fortement souhaitable et fréquemment utilisé dans la fabrication de composants de circuits sous forme de lignes fines (c' est-à-dire des modules à paillettes) On a trouvé que des teneurs élevées en matières de charge de céramique ( 50 % en volume et plus) pouvaient conférer au matériau fluoropolymère pour circuits imprimés, une résistance médiocre aux produits chimiques lors de l'exposition de longue durée dans de tels bains alcalins La dégradation qui en résulte, provoquée par la résistance médiocre aux bains alcalins, donne lieu à une réduction quant au caractère hydrophobe du composite fluoropolymère A son tour, cette réduction donne lieu à une absorption d'humidité plus intense, accompagnée d'une diminution correspondante et fortement indésirable des propriétés électriques du As is known, individual sheets of this electrical substrate material must be stacked to obtain a multi-layer wafer for printed circuits. In fact, thin film formulations of the material disclosed in US Patent 4 can be used. 849 284 (and sold by Rogers Corporation under the trade name RO-2810), as a bonding layer for bonding to each other several layers of substrate stacked so as to obtain the multilayer wafer for printed circuits. It will be understood that high volume fractions (greater than 55% by volume) as to the ceramic fillers will adversely and significantly affect the rheology (e.g., flow) of the fluoropolymer composite containing fillers. ceramic This characteristic is of particular importance when the composite is used as a bonding film or to fill openings made in previously rigid structures. Although fractions by volume of ceramic filler materials of the order of 50 to 55% provide Theological properties greatly improved compared to higher fractions of fillers, there has been a need to provide the fluoropolymer composite with even better flow properties, without appreciably altering the excellent thermal, mechanical and electrical properties. In addition to the detrimental effects on rheology, it was also possible to determine that fractions of ceramic filler materials of 50% and more by volume also had a negative impact on the chemical resistance of the fluoropolymer composite containing filler materials, by compared to certain hostile environments, in particular baths with high p H (alkaline) One needs such baths with high p H (for example, a p H greater than 12) to obtain a deposit of chemical copper which constitutes a highly desirable and frequently used in the manufacture of circuit components in the form of thin lines (i.e. flake modules) It has been found that high contents of ceramic filler (50% by volume and more) could give fluoropolymer material for printed circuit boards poor chemical resistance upon long-term exposure in such alkali baths alins The resulting degradation, caused by poor resistance to alkaline baths, gives rise to a reduction in the hydrophobic character of the fluoropolymer composite In turn, this reduction gives rise to more intense moisture absorption, accompanied by a decrease corresponding and highly undesirable electrical properties of the
matériau composite pour circuits imprimés. composite material for printed circuits.
Dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique In the patent of the United States of America
5.061 5485,061,548
on a découvert que la teneur en matières de charge de céramique du matériau révélé dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique 4.849 284 pouvait être aussi faible que 45 % en volume sur une base exempte de vides, le matériau gardant toujours des propriétés thermiques, mécaniques et électriques adéquates permettant de l'utiliser comme couche de collage dans des matériaux multicouches pour circuits imprimés et comme matière de charge pour certaines structures rigides Le matériau composite fluoropolymère contenant des matières de charge de céramique du brevet des Etats-Unis d'Amérique 5 061 548 manifeste une rhéologie améliorée par rapport au matériau du brevet des Etats-Unis d'Amérique 4 849 284 et il est utile dans des applications qui nécessitent des trous d'accès et un remplissage caractéristique par écoulement de résine, sans donner lieu à une augmentation excessive du coefficient de dilatation it has been discovered that the ceramic filler content of the material disclosed in U.S. Patent 4,849,284 could be as low as 45% by volume on a void-free basis, the material still retaining thermal properties , mechanical and electrical, suitable for use as a bonding layer in multilayer materials for printed circuits and as a filler for certain rigid structures The fluoropolymer composite material containing ceramic filler materials of the United States patent 5,061,548 exhibits improved rheology compared to US Patent 4,849,284 material and is useful in applications which require access holes and characteristic filling by flow of resin, without giving rise to an excessive increase in the coefficient of expansion
thermique de l'axe des z du matériau. thermal of the material's z-axis.
L'objet de la présente invention est de réduire et/ou de diminuer la dégradation importante provoquée par les produits chimiques, associée aux composites fluoropolymères à teneur élevée en matières de charge (par exemple, 50 % et plus) du brevet des Etats-Unis d'Amérique 4 849 284 au cours d'exposition The object of the present invention is to reduce and / or decrease the significant degradation caused by chemicals, associated with fluoropolymer composites with a high filler content (for example, 50% and more) of the United States patent. of America 4 849 284 during exhibition
de longue durée à des bains à p H élevé. long-term at high p H baths.
Conformément à la présente invention, on réalise cet objet en utilisant des teneurs inférieures en matières de charge de céramiques aussi faibles que d'environ 26 % en volume sur une base exempte de vides, In accordance with the present invention, this object is achieved by using lower contents of ceramic filler as low as about 26% by volume on a void-free basis,
lesdites matières de charge étant enduites de silane. said fillers being coated with silane.
Le composite résultant contenant des matières de charge de céramique, manifeste des propriétés mécaniques et électriques excellentes, et il manifeste une amélioration importante (par rapport à des composites à teneurs plus élevées en matières de The resulting composite containing ceramic filler materials exhibits excellent mechanical and electrical properties, and it exhibits a significant improvement (compared to composites with higher contents of
charge) quant à la résistance aux alcalis. charge) as for resistance to alkalis.
Conformément à une autre caractéristique importante de la présente invention, on a découvert que des quantités relativement importantes d'enrobage au silane allant jusqu'à 2-10 % (du poids total des matières de charge de céramique) donnent lieu à des propriétés améliorées, en particulier, en ce qui concerne le forage au laser pour obtenir des trous métallisés, ainsi que des raccordements pleins ultérieurs L'utilisation d'un enrobage à raison de 10 % (et de préférence, à raison de 6 %) est surprenante et inattendue, étant donné qu'on avait généralement pensé (comme décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique 4.839 284) que les niveaux de silane devaient se situer entre 1 et 2 % et que l'on n'obtenait pas d'amélioration In accordance with another important characteristic of the present invention, it has been found that relatively large amounts of silane coating of up to 2-10% (of the total weight of the ceramic filler) give rise to improved properties, in particular, with regard to laser drilling to obtain metallized holes, as well as subsequent solid connections The use of a coating at a rate of 10% (and preferably, at a rate of 6%) is surprising and unexpected , since it was generally believed (as described in U.S. Patent 4,839,284) that the silane levels should be between 1 and 2% and that no improvement was achieved
appréciable avec des teneurs élevées allant jusqu'à 6- appreciable with high contents going up to 6-
10 %.10%.
L'enrobage au silane préféré comprend un mélange de phénylsilane et de fluorosilane Cette combinaison confère une résistance excellente quant aux produits chimiques à des bains alcalins et favorise en même temps l'aptitude au forage à l'aide du laser De même, la combinaison du phénylsilane relativement moins coûteux et du fluorosilane plus coûteux procure un The preferred silane coating comprises a mixture of phenylsilane and fluorosilane. This combination gives excellent resistance to chemicals in alkaline baths and at the same time promotes the ability to be drilled using the laser. Similarly, the combination of relatively cheaper phenylsilane and more expensive fluorosilane provides
enrobage extrêmement intéressant quant au coût. coating extremely interesting in terms of cost.
L'homme de métier comprendra et appréciera les caractéristiques et avantages de la présente invention mentionnés ci-dessus, ainsi que d'autres à Those skilled in the art will understand and appreciate the features and advantages of the present invention mentioned above, as well as others to
partir de la description détaillée ci-après et des from the detailed description below and
dessins dans lesquels: Les figures l A et 1 B sont des vues respectives en coupe transversale et en élévation d'une structure rigide munie d'ouvertures, avant et après le remplissage à l'aide du matériau composite de la présente invention; la figure 2 est une vue en coupe transversale et en élévation d'une plaquette multicouches pour circuits imprimés, qui utilise le matériau composite thermoplastique selon la présente invention comme couche pelliculaire mince de collage; la figure 3 est un graphique représentant l'effet du silane et de la teneur (%) en matières de charge de silice enrobées sur l 'aptitude au traitement au laser du matériau composite à 248 nm, l'énergie du rayon = 3,9 J/cm 2; et la figure 4 représente une vue en coupe transversale et en élévation d'une plaquette pour drawings in which: FIGS. 1A and 1B are respective views in cross section and in elevation of a rigid structure provided with openings, before and after filling with the composite material of the present invention; Figure 2 is a cross-sectional elevational view of a multilayer printed circuit board, which uses the thermoplastic composite material according to the present invention as a thin bonding film layer; FIG. 3 is a graph representing the effect of the silane and of the content (%) of coated silica filler materials on the laser treatment capacity of the composite material at 248 nm, the energy of the ray = 3.9 J / cm 2; and FIG. 4 represents a view in cross section and in elevation of a plate for
circuits imprimés selon la présente invention. printed circuits according to the present invention.
L matière composite fluoropolymère de la présente invention, contenant des matières de charge de céramique, est essentiellement semblable aux composites décrits dans les brevets des Etats-Unis d'Amérique 4. 849 284 et 5 061 548 avec cette exception que ( 1), dans une première forme de réalisation, la céramique est présente, sur une base exempte de vides, en une quantité aussi faible qu'environ 26 % en volume; et ( 2) dans une seconde forme de réalisation, on enrobe les matières de charge de céramique avec du silane jusqu'à % (par rapport au poids total des matières de charge de céramique) De préférence, toutes ces formes de réalisation utilisent un mélange de phénylsilane et de fluorosilane pour l'enrobage des matières de charge de céramique et ladite matière fluoropolymère est choisie parmi le groupe comprenant le The fluoropolymer composite material of the present invention, containing ceramic fillers, is essentially similar to the composites described in U.S. Patents 4,849,284 and 5,061,548 with the exception that (1), in a first embodiment, the ceramic is present, on a void-free basis, in an amount as low as about 26% by volume; and (2) in a second embodiment, the ceramic fillers are coated with silane up to% (relative to the total weight of the ceramic fillers) Preferably, all of these embodiments use a mixture of phenylsilane and fluorosilane for coating ceramic fillers and said fluoropolymer material is chosen from the group comprising:
polytétrafluoréthylène, l'hexafluoropropène, le tétra- polytetrafluoroethylene, hexafluoropropene, tetra-
fluoréthylène et l'éther perfluoroalkylvinylique. fluorethylene and perfluoroalkylvinyl ether.
Dans une forme de réalisation préférée, la première forme de réalisation de la présente invention comprend un composite de matières de charge particulaires de céramique présentes en une fraction en volume d'environ 0,26 à moins de 0,45 et du fluoropolymère (par exemple, PTFE) présent en une fraction en volume de 0,74 à 0,55 sur une base exempte de vides La matière de charge de céramique préférée est de la silice amorphe fondue Toutes les autres caractéristiques de composition, ainsi que les procédés de fabrication sont les mêmes que ceux révélés dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique 4 849 284 (y compris le fait que la céramique est enrobée de silane), à l'exception de pourcentages en poids supérieurs préférés quant à l'enrobage au silane et des mélanges préférés de silane, ces deux caractéristiques étant décrites ci-après En conséquence, on fera référence aux brevets des Etats-Unis d'Amérique 4 849 284 pour ces détails On peut obtenir les matériaux comprenant la présente invention, soit par "mélange à l'état humide" de polymère PTFE en dispersion avec les matières de charge de céramique et par coagulation, soit par mélange à sec de poudres fines de PTFE avec In a preferred embodiment, the first embodiment of the present invention comprises a composite of particulate ceramic fillers present in a volume fraction of about 0.26 to less than 0.45 and the fluoropolymer (e.g. , PTFE) present in a volume fraction of 0.74 to 0.55 on a void-free basis The preferred ceramic filler is molten amorphous silica All other composition characteristics, as well as manufacturing methods are the same as those disclosed in U.S. Patent 4,849,284 (including the fact that the ceramic is coated with silane), except for preferred higher weight percentages for coating with silane and preferred mixtures of silane, these two characteristics being described below. Reference will therefore be made to United States patents 4,849,284 for these details. the materials comprising the present invention, either by "wet mixing" of PTFE polymer in dispersion with the ceramic fillers and by coagulation, or by dry mixing of fine PTFE powders with
les matières de charge de céramique. ceramic fillers.
La réduction quant à la teneur en matières de charge jusqu'à une valeur aussi faible qu'environ 26 % en volume, donne lieu à une augmentation importante quant à la résistance du matériau composite fluoropolymère à des environnements alcalins Dans la comparaison des exemples 1 et 2 représentés dans le tableau I ci-dessous, l'exemple 1 concerne un composite du type décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique 4.849 284, qui possède une composition de fluoropolymère PTFE à raison de 50 %, des matières de charge en silice à raison de 50 % et d'un enrobage de matières de charge au phénylsilane correspondant à 2 % en poids L'exemple 2 concerne une composition selon la présente invention, à savoir une composition de 37,1 % en matières de charge de silice, de 62,9 % de fluoropolymère PTFE et d'un mélange de phényl et fluorosilanes (rapport 3:1) de 6 % en poids (par rapport The reduction in the filler content to as low as about 26% by volume gives rise to a significant increase in the resistance of the fluoropolymer composite material to alkaline environments In the comparison of Examples 1 and 2 shown in Table I below, Example 1 relates to a composite of the type described in United States patent 4,849,284, which has a composition of fluoropolymer PTFE in an amount of 50%, of the fillers in silica at a rate of 50% and of a coating of fillers with phenylsilane corresponding to 2% by weight. Example 2 relates to a composition according to the present invention, namely a composition of 37.1% of fillers of silica, 62.9% PTFE fluoropolymer and a mixture of phenyl and fluorosilanes (3: 1 ratio) of 6% by weight (relative
au poids total des matières de charge). the total weight of the fillers).
TABLEAU i Exemple 1 Exem Dle 2 Absorption du xylène (%) 5,3 2,7 Absorption de H 20 (%) 0, 05 0,02 Absorption de H 20 * (%) 1,7 0,07 Résistance d'isolation ** (M ohm) 90 + que 300 Coefficient de dilatation thermique (ppm/ C) 40 60 Seuil d'ablation au laser (J/cm 2) 1,7 1, 3 * Après 24 heures dans du Na OH 0,1 M, Triton 1 %, 23 C ** Après 8 heures dans du Na OH 0,1 M, Triton 1 %, 60 C Les résultats du tableau 1 indiquent clairement que l'absorption de H 20 (après traitement dans un bain alcalin) diminue de manière significative lorsque la quantité en matières de charge diminue (par exemple, 0,07 % pour la présente invention contre 1,7 % pour le matériau du brevet des Etats-Unis d'Amérique 4.849 284) On comprendra qu'une absorption acceptable de H 20 doit être inférieure à environ 0,1 % en poids. Les résultats du tableau 1 se vérifient dans les exemples supplémentaires 3- 12 du tableau 2 Dans les exemples 6-11, l'enrobage au silane comprend un mélange de phénylsilane et de fluorosilane Dans l'exemple 12, TABLE i Example 1 Example Dle 2 Absorption of xylene (%) 5.3 2.7 Absorption of H 20 (%) 0.05 0.02 Absorption of H 20 * (%) 1.7 0.07 Insulation resistance ** (M ohm) 90 + than 300 Coefficient of thermal expansion (ppm / C) 40 60 Laser ablation threshold (J / cm 2) 1.7 1, 3 * After 24 hours in Na OH 0.1 M, 1% Triton, 23 C ** After 8 hours in 0.1 M Na OH, 1% Triton, 60 C The results in Table 1 clearly indicate that the absorption of H 20 (after treatment in an alkaline bath) decreases significantly when the quantity of fillers decreases (for example, 0.07% for the present invention against 1.7% for the material of the patent of the United States of America 4,849,284) It will be understood that an absorption acceptable H 20 should be less than about 0.1% by weight. The results of Table 1 are verified in additional examples 3-12 of Table 2 In Examples 6-11, the silane coating comprises a mixture of phenylsilane and fluorosilane In Example 12,
on utilise un enrobage au phénylsilane. a phenylsilane coating is used.
o 1 l Exemple silice %/silane %o 1 l Example silica% / silane%
3 30/ O3 30 / O
a secdried up
4 40/04 40/0
à secdried up
50/050/0
à secdried up
6 29 36 29 3
à secdried up
7 397 39
à secdried up
8 48 68 48 6
à secdried up
9 1 27 99 1 27 9
à sec 37.1 a sec 46.1 à sec 48.6 à sec, témoin absorption de H 20 ( 24 heur 2 absorption de H 20 ( 24 heur poids v< dry 37.1 dry 46.1 dry 48.6 dry, H20 absorption control (24 hours 2 H20 absorption (24 hours weight v <
2.20472.2047
2.19702.1970
2.14522.1452
2.19712.1971
2.18002.1800
2.12012.1201
2.18592.1859
2.16542.1654
2.11632.1163
2.11302.1130
*es, 50 C) res, 50 C)* es, 50 C) res, 50 C)
Tableau 2Table 2
ol absorption 1 absorption 2 initiale de H 90 (%) conditionnée de H 20 ol absorption 1 initial absorption 2 of H 90 (%) conditioned by H 20
0.5152 0 58950.5152 0 5895
1.1160 1 24741.1160 1 2474
2.3566 2 04432.3566 2 0443
0.0435 0 04280.0435 0 0428
0.0361 0 08860.0361 0 0886
0.0774 0 40990.0774 0 4099
0.0458 0 05000.0458 0 0500
0.0140 0 07270.0140 0 0727
0.0613 0 58690.0613 0 5869
0.0400 1 76400.0400 1 7640
sans préconditionnement par bain alcalin. without preconditioning by alkaline bath.
après 24 heures dans du Na OH O,l M, du triton à 1, after 24 hours in Na OH O, 1 M, triton at 1,
0, 23 C.0.23 C.
N b 9 il Dans le tableau 2, on voit une nouvelle fois qu'une diminution quant à la teneur en matières de charge, donne lieu à une augmentation quant à la résistance aux produits chimiques lors d'un traitement à p H élevé, comme indiqué par la diminution quant à l'absorption d'eau lorsque la teneur en matières de charge diminue Une comparaison entre les exemples dans lesquels on trouve des enrobages égaux en silane (tels que les exemples 3-5, 6-8 et 9-11) indique que l'augmentation quant à la résistance aux produits chimiques est fournie, au moins en partie, par les taux inférieurs en matières de charge On comprendra que les taux peu élevés (par exemple, de 27 et de 37 % en volume) selon la présente invention sont améliorés de manière significative par rapport aux taux de 50 % en volume associés au composite du brevet des Etats- Unis d'Amérique 4 849 284 Ainsi, un composite d'un matériau fluoropolymère de la présente invention, destinée à des circuits imprimés et contenant des matières de charge, qui possède une teneur en matières de charge d'environ 26 (il convient de noter que le tableau 3 reprend des exemples possédant des teneurs en matières de charge qui descendent jusqu'à environ 26 % en volume) à moins de 45 % en volume, procurent un avantage significatif par rapport aux matériaux du brevet des Etats-Unis d'Amérique 5 061 548 (teneurs en matières de charge de N b 9 il In Table 2, we see once again that a decrease in the content of fillers gives rise to an increase in the resistance to chemicals during treatment at high p H, as indicated by the decrease in water absorption when the filler content decreases A comparison between the examples in which there are equal coatings of silane (such as examples 3-5, 6-8 and 9-11 ) indicates that the increase in resistance to chemicals is provided, at least in part, by the lower filler rates. It will be understood that the low rates (for example, 27 and 37% by volume) according to the present invention are improved significantly over the 50% volume percent associated with the composite of US Patent 4,849,284 Thus, a composite of a fluoropolymer material of the present invention, intended for circuits print ies and containing fillers, which has a fillers content of approximately 26 (it should be noted that Table 3 shows examples having contents of fillers which drop to approximately 26% by volume) at less than 45% by volume, provide a significant advantage over the materials of the patent of the United States of America 5,061,548 (contents of filler materials
à moins de 50 % en volume) et du brevet des Etats- less than 50% by volume) and the United States patent
Unis d'Amérique 4 849 284 (teneurs en matières de United States of America 4,849,284 (content of
charge de 50 % en volume et plus).load of 50% by volume and more).
Conformément à une autre caractéristique encore de la présente invention, on a trouvé que des taux d'enrobage supérieurs allant jusqu'à 10 % (et de préférence, 6 %) en poids de la teneur totale en matières de charge de céramique, contribuent à des résultats améliorés quant à l'ablation au laser Cette découverte est inattendue, étant donné qu'on avait pensé et suggéré dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique 4 849 284 que des taux d'enrobage au silane de 1 à 2 % étaient préférés et qu'au-delà de 2 %, l'effet de l'enrobage au silane était négligeable Deux critères utilisés pour déterminer l'aptitude au traitement au laser de matériaux destinés à des circuits imprimés, englobent ( 1) le taux d'énergie requis pour l'ablation (des taux inférieurs sont préférés); et ( 2) l'écart par rapport à des parois de trous parfaitement rectilignes (non conique) ayant subi une ablation (un écart de O étant préféré) En figure 4, on représente la section transversale d'une plaquette pour circuits imprimés, qui présente un trou 2 obtenu par ablation au laser et pratiqué dans un substrat 4 (fabriqué à partir du composite de la présente invention), sur lequel on a déposé une couche 6 L'angle "a" représente l'écart par rapport à une paroi rectiligne Dans le tableau 3, on représente les résultats d'ablation au laser pour une série de valeurs d'enrobage et de quantités de matières de charge de céramique pour des compositions mélangées à sec et à l'état humide Dans les exemples 13-30 et 32-38, on utilise des matières de charge de silice, tandis que dans les exemples 31 et 39, on utilise des matières de In accordance with yet another feature of the present invention, it has been found that higher coating rates of up to 10% (and preferably 6%) by weight of the total ceramic filler content contribute to improved results in laser ablation This discovery is unexpected, since it was thought and suggested in US Patent 4,849,284 that silane coating rates of 1 to 2% were preferred and that above 2%, the effect of the silane coating was negligible Two criteria used to determine the suitability for laser treatment of materials intended for printed circuits, include (1) the rate of energy required for ablation (lower rates are preferred); and (2) the deviation with respect to walls of perfectly rectilinear holes (not conical) having undergone ablation (a deviation of O being preferred) In FIG. 4, the cross section of a printed circuit board is shown, which has a hole 2 obtained by laser ablation and made in a substrate 4 (made from the composite of the present invention), on which a layer 6 has been deposited. The angle "a" represents the distance from a wall rectilinear In Table 3, the laser ablation results are represented for a series of coating values and quantities of ceramic filler materials for compositions mixed dry and in the wet state In Examples 13-30 and 32-38, silica filler materials are used, while in Examples 31 and 39, silica filler materials are used
charge de quartz.quartz charge.
Tableau 3Table 3
Seuil d'ablation au laser à 248 nm pour diverses compositions PTFE/céramique Procédé de mélanrge A SEC i M II)DL Ii UMIDE l IUMIDE A SEC A SEC Laser ablation threshold at 248 nm for various PTFE / ceramic compositions SEC dry mixing process i M II) DL Ii UMIDE l WET DRY TO DRY
IIUMIDEWET
I IUMIDEI WET
IHIUMIDEIHIUMIDE
H IUMIDEH WET
A SEC A SEC Teneur en matière de charge 46.1 46.1 37.1 43.8 37.1 27.9 35. 3 27.9 26.7 48.6 48.6 48.6 Enrobage A SEC A SEC Load content 46.1 46.1 37.1 43.8 37.1 27.9 35. 3 27.9 26.7 48.6 48.6 48.6 Coating
6 % 3:16% 3: 1
6 % 3:16% 3: 1
6 % 3:16% 3: 1
% 3:1% 3: 1
6 % 3:16% 3: 1
6 % 3:16% 3: 1
% 3:1% 3: 1
6 % 3:16% 3: 1
% 3:1% 3: 1
2 % 3:12% 3: 1
2 % 61242% 6124
2 % 61242% 6124
Dimension desDimension of
matières de ch.materials of ch.
l Ou lou l Ou 1.5 u lou l Ou 1.5 u l Ou 1.5 u l Ou l Ou l Ou Seuil d'ablation (J/cm) 1.3 1.3 1.3 1.3 1.3 1.7 1.7 1.7 1.7 1.7 1.7 1.7 ce a) r,, N c 1 l Or lou l Or 1.5 u lou l Or 1.5 u l Or 1.5 u l Or l Or l Or Ablation threshold (J / cm) 1.3 1.3 1.3 1.3 1.3 1.7 1.7 1.7 1.7 1.7 1.7 1.7 1.7 ce a) r ,, N c 1
ExempleExample
Les résultats du tableau 3 indiquent que des teneurs élevées en matières de charge et de valeurs élevées quant à l'enrobage, procurent les meilleurs résultats d'ablation au laser (en termes d'énergie seuil la moins élevée pour l'ablation) Les résultats quant à l'ablation au laser se détériorent à mesure que, soit la teneur en matières de charge, soit la teneur en enrobage ou encore les deux, diminuent Grâce à l'enrobage des matières de charge, on peut réduire significativement le seuil d'ablation même pour des teneurs peu élevées en matières de charge, telles que de l'ordre de 26 % Cette caractéristique devient tout à fait évidente lorsqu'on compare les exemples 18 et 20 avec l'exemple 36 Dans le tableau 3, les enrobages indiqués par le rapport 3:1 concernent trois parties de The results in Table 3 indicate that high contents of fillers and high values of coating, provide the best laser ablation results (in terms of the lowest threshold energy for ablation). as for laser ablation deteriorate as either the filler content, or the coating content or both, decrease Thanks to the coating of the filler materials, the threshold of the ablation even for low filler contents, such as of the order of 26% This characteristic becomes quite obvious when comparing Examples 18 and 20 with Example 36 In Table 3, the coatings indicated by the ratio 3: 1 relate to three parts of
phénylsilane pour une partie de fluorosilane. phenylsilane for part of fluorosilane.
L'enrobage identifié par le nombre 6124 constitue du phényltriméthoxysilane et le fluorosilane est le tridécafluoro-l, 1-2,2-tétrahydrooctyl-1-triéthoxysilane dont la formule chimique est C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si(OCH 2 CH 3)3 et il est désigné ci-après par l'abréviation C 6 F. En figure 3, on indique également cet effet de la composition sur l'aptitude au traitement au laser (à 248 nm pour une énergie de rayon de 3,9 J/cm 2), les lignes diagonales représentant l'écart par rapport à des parois de trous rectilignes ayant subi un The coating identified by the number 6124 constitutes phenyltrimethoxysilane and the fluorosilane is tridecafluoro-l, 1-2,2-tetrahydrooctyl-1-triethoxysilane whose chemical formula is C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 and it is designated below by the abbreviation C 6 F. In FIG. 3, this effect of the composition on the ability to be treated with laser is also indicated (at 248 nm for a ray energy of 3.9 J / cm 2), the diagonal lines representing the deviation from walls of rectilinear holes having undergone
traitement au laser (l'angle inférieur étant préféré). laser treatment (lower corner preferred).
En figure 3, les "teneurs en matières de charge de silice" englobent la contribution en % en volume apportée par l'enrobage au silane En figure 3, on indique que des quantités plus élevées en silane et/ou des quantités plus élevées en matières de charge de céramique donnent lieu à une ablation améliorée au laser (qualité des parois des trous) Il est à noter Procédé de mélange A SEC A SEC In FIG. 3, the "contents of silica filler materials" include the contribution in% by volume made by the coating to silane. In FIG. 3, it is indicated that higher quantities of silane and / or higher quantities of materials of ceramic filler give rise to improved laser ablation (quality of the walls of the holes) It should be noted Mixing method A SEC A SEC
HUMIDEWET
IIUMIDEWET
Teneur en mat de charoe 48.6 39.0 39.0 48.6 Charoe mat content 48.6 39.0 39.0 48.6
Tableau 3Table 3
EnrobageCoating
2 % 3:12% 3: 1
2 % 3:12% 3: 1
2 % 3:12% 3: 1
2 % 3:12% 3: 1
(suite) Dimension de Seuil d'tblation la mat de ch (J/cm) u 1 7 l Ou u l Ou 1.7 2.7 2.7 (contd.) Threshold of TV set at room temperature (J / cm) u 1 7 l Ou u l Ou 1.7 2.7 2.7
2 % 3:12% 3: 1
2 % 3:12% 3: 1
2 % 61242% 6124
2 % 3:12% 3: 1
2 % 3:12% 3: 1
% 3:1% 3: 1
non traité non traité non traité non traité non traité l Ou l Ou Quartz l Ou l Ou 1.5 u l Ou l Ou l Ou l Ou Quartz untreated untreated untreated untreated untreated l Or l Or Quartz l Or l Or 1.5 u l Or l Or l Or l Or Quartz
ExempleExample
0, N (O -e A SEC A SEC A SEC A SEC0, N (O -e A SEC A SEC A SEC A SEC
I IUIMIDEI IUIMIDE
HUMIDEWET
IIU Mi DE A SECIIU Mi DE A SEC
H-UMIDEWET
A SEC A SEC 48.6 39.0 29.3 29.3 29 3 35.3 % % % % % 2.7 2.7 2.7 2. 7 2.7 2.7 3.9 3.9 3.9 3.9 3.9 que, de préférence, lorsqu'on utilise des teneurs peu élevées en matières de charge de céramique, on utilise des teneurs élevées en silane. Conformément à une autre caractéristique encore de la présente invention, on a trouvé que l'enrobage au silane constitue, de préférence, un mélange de phénylsilane et de fluorosilane Le fluorosilane confère une résistance quant aux produits chimiques lors d'une exposition à des alcalis, tandis que le phénylsilane favorise le forage au laser, tout en étant moins coûteux que le fluorosilane Dans le tableau 4, on démontre la supériorité du fluorosilane par rapport au phénylsilane pour conférer une résistance à la dégradation due aux alcalis Le mélange préféré concerne un rapport A SEC A SEC 48.6 39.0 29.3 29.3 29 3 35.3%%%%% 2.7 2.7 2.7 2. 7 2.7 2.7 3.9 3.9 3.9 3.9 3.9 that preferably, when using low levels of ceramic filler, we uses high silane contents. In accordance with yet another characteristic of the present invention, it has been found that the silane coating preferably constitutes a mixture of phenylsilane and of fluorosilane. The fluorosilane confers resistance as to chemicals when exposed to alkalis, while phenylsilane promotes laser drilling, while being less expensive than fluorosilane In Table 4, we demonstrate the superiority of fluorosilane over phenylsilane to confer resistance to degradation due to alkalis The preferred mixture relates to a ratio
pondérai phénylsilane: fluorosilane de 3: 1 De préfé- weighted phenylsilane: fluorosilane 3: 1 preferably
rence, l'enrobage de silane est choisi dans le groupe rence, the silane coating is chosen from the group
comprenant le p-chlorométhylphényltriméthoxysilane, l'amino- including p-chloromethylphenyltrimethoxysilane, amino-
éthylaminotriméthoxysilane, un mélange de phényltriméthoxy- ethylaminotrimethoxysilane, a mixture of phenyltrimethoxy-
silane et d'aminoéthylaminopropyltriméthoxysilane, le fluorosilane et un mélange d'au moins un fluorosilane et au silane and aminoethylaminopropyltrimethoxysilane, fluorosilane and a mixture of at least one fluorosilane and at
moins un phénylsilane.minus a phenylsilane.
-Exemple Teneur en Procédé-Example Process Content
mat de ch de mélange.mixing ch mat.
48 6 à sec 41 47 3 à sec 42 46 1 à sec 43 47 3 à sec Absorption de H 20 ( 48 heures, 48 6 dry 41 47 3 dry 42 46 1 dry 43 47 3 dry H20 absorption (48 hours,
2 22 2
Absorption de IH 0 ( 48 heures,Absorption of IH 0 (48 hours,
230 C 2230 C 2
Exemple 4Example 4
1 21 2
Type de Taux de Poids Absorptionlini Absorption 2 condi- Weight Rate Type Absorptionlini Absorption 2 condi-
silane % silane spécif tiale H 20 (%) tionnée H 20 ( 5 %) silane% specific silane H 20 (%) tted H 20 (5%)
C 6 F 2 2 142 0 03 O 33C 6 F 2 2 142 0 03 O 33
C 6 F 4 2 143 0 04 0 41C 6 F 4 2 143 0 04 0 41
C 6 F 6 2 139 0 04 0 50C 6 F 6 2 139 0 04 0 50
6124 4 2 097 0 02 0 996124 4 2,097 0 02 0 99
C) sans pré-conditionnement alcalin C) après 24 heures dans du Na OH aqueux O,l M, 1 % en poids de Triton X-100, N (O r- H-I Par cette réduction quant à la teneur en matières de charges, on améliore la rhéologie du matériau de la présente invention au point qu'il "s'écoulera" et remplira des ouvertures plus grandes pratiquées dans les feuilles métalliques ou les couches internes des composants de circuits, qui ne peuvent être remplies par certains des matériaux à teneur élevée en matières de charge (supérieur à une fraction C) without alkaline preconditioning C) after 24 hours in 0.1 M aqueous Na OH, 1% by weight of Triton X-100, N (O r- HI By this reduction as regards the content of fillers, the rheology of the material of the present invention is improved to the point that it will "flow" and fill larger openings in the metal sheets or the inner layers of the circuit components, which cannot be filled with some of the materials to be high filler content (greater than a fraction
de 55 % en volume), révélés dans le brevet des Etats- 55% by volume), revealed in the United States patent
Unis d'Amérique 4 849 284.United States of America 4,849,284.
Une caractéristique importante de la présente invention concerne le fait que l'on améliore la rhéologie sans augmenter, de manière excessive, le coefficient de dilatation thermique (CTE) de l'axe des x du matériau On a mesuré le CTE de l'axe des x de la formulation de matières de charge à raison de 30 à 45 % en volume, comme étant considérablement inférieur à celui du PTFE renforcé par des fibres et utilisé dans An important characteristic of the present invention relates to the fact that the rheology is improved without excessively increasing the coefficient of thermal expansion (CTE) of the x-axis of the material. The CTE of the axis of the materials has been measured. x of the formulation of fillers at a rate of 30 to 45% by volume, as being considerably lower than that of fiber-reinforced PTFE and used in
une large mesure, dans l'intervalle de température de - a large measure, in the temperature range of -
55 à + 1250 C (spécifiquement, d'environ 200 ppm/0 C) (voir tableau 5) Des plaquettes multicouches pour circuits imprimés, fabriquées à partir de lamifiés RO-2800 collés l'un à l'autre à l'aide de couches de collage de la présente invention, manifesteront un CTE global considérablement inférieur à celui de plaquettes en PTFE renforcé par des fibres La diminution quant au CTE est importante pour augmenter la fiabilité des trous métallisés et des raccordements pour résister à l'assemblage sollicitation aux chocs thermiques et 55 to + 1250 C (specifically, around 200 ppm / 0 C) (see Table 5) Multilayer printed circuit boards, made from RO-2800 laminates bonded together using bonding layers of the present invention will manifest an overall CTE considerably lower than that of fiber-reinforced PTFE wafers The reduction in the CTE is significant in order to increase the reliability of the metallized holes and of the connections in order to withstand the assembly. thermal and
température élevée.high temperature.
L 9L 9
TABLEAU 5TABLE 5
Exemple Matériau -55/+ 125 silane %/mat de ch % ppm/oc Example Material -55 / + 125 silane% / mat of ch% ppm / oc
44 2/30 9444 2/30 94
2/40 682/40 68
46 2/50 4146 2/50 41
47 6/30 8447 6/30 84
48 6/40 7248 6/40 72
49 6/50 4749 6/50 47
La présente invention s'étend à bon nombre d'applications dans lesquelles on peut utiliser des matériaux composites de PTFE contenant des matières de charge de céramique pour construire des plaquettes utiles destinées à des circuits imprimés La présente invention a comme utilité particulière de remplir des ouvertures dans des structures déjà rigides telles que des plans de masse ou de tension gravés pour circuits intégrés et des noyaux de maintien, ou encore des The present invention extends to a number of applications in which PTFE composite materials containing ceramic filler materials can be used to construct useful boards for printed circuits. The present invention has the particular utility of filling openings in already rigid structures such as engraved ground or voltage planes for integrated circuits and holding cores, or even
composants de circuits collés à de telles structures. circuit components bonded to such structures.
Par exemple, en figure l A, on décrit une structure rigide de plan de masse en coupe transversale en 50, muni de plusieurs ouvertures 52 On positionne alors les feuilles 54, 56 de la présente invention (par exemple, possédant une fraction céramique de 0,26 à 0,45 en volume) de chaque côté du plan de masse 50 En figure 1 B, on procède à la ramification du stratifié 58 de la figure l A sous l'action de la chaleur et de la pression La composition de la présente invention permettra un bon écoulement de façon à remplir complètement les ouvertures, tout en procurant également des propriétés thermiques, mécaniques et For example, in FIG. 1A, a rigid structure of mass plane in cross section at 50 is described, provided with several openings 52. The sheets 54, 56 of the present invention are then positioned (for example, having a ceramic fraction of 0 , 26 to 0.45 by volume) on each side of the ground plane 50 In FIG. 1 B, the laminate 58 of FIG. 1 A is branched out under the action of heat and pressure The composition of the present invention will allow a good flow so as to completely fill the openings, while also providing thermal, mechanical and
électriques excellentes.excellent electrics.
En outre, en se référant à la figure 2, on peut traiter le composite de la présente invention pour obtenir une feuille dans sa forme non densifiée et non frittée et l'utiliser pour coller des plaquettes multicouches à circuits imprimés ou pour construire des plaquettes de circuits imprimés par ramification de feuilles En se tournant vers la figure 2, on représente une telle plaquette multicouches pour circuits imprimés, en général, par le chiffre 10 La plaquette comprend plusieurs couches d'un matériau de substrat 12, 14 et 16, chacune étant constituée d'un matériau de substrat électrique, de préférence le matériau fluoropolymère contenant des matières de charge de céramique du brevet des Etats-Unis d'Amérique Furthermore, with reference to FIG. 2, the composite of the present invention can be treated to obtain a sheet in its non-densified and non-sintered form and use it to bond multilayer printed circuit boards or to construct boards. printed circuits by branching of sheets Turning to FIG. 2, such a multilayer wafer for printed circuits is represented, in general, by the number 10 The wafer comprises several layers of a substrate material 12, 14 and 16, each being made of an electrical substrate material, preferably the fluoropolymer material containing ceramic fillers of the United States patent
4 849 284, vendu sous la dénomination commerciale RO- 4,849,284, sold under the trade name RO-
2800 Sur chaque couche de substrat 12, 14 et 16, on applique alors un plaquage métallique sélectif 18, 20, 22 et 24, respectivement Il est à noter qu'une couche de substrat sur laquelle on applique un placage sélectif de circuits imprimés, définit un substrat de circuits Des trous métallisés 26 et 28 relient mutuellement des plaquages sélectifs de circuits 2800 On each substrate layer 12, 14 and 16, a selective metal plating 18, 20, 22 and 24 is then applied, respectively. It should be noted that a layer of substrate on which a selective plating of printed circuits is applied, defines a circuit substrate Metallized holes 26 and 28 interconnect selective circuit plating
imprimés d'une manière connue.printed in a known manner.
Conformément à la présente invention, on utilise des feuilles séparées 30 et 32 comprenant un matériau de substrat dont la composition correspond à celle de la présente invention, comme couche adhésive ou de collage pour lamifier l'un à l'autre des substrats individuels de circuits Dans un procédé préféré pour obtenir un tel lamifié, on réalise un stratifié de substrats de circuits qui alternent avec une ou plusieurs couches d'épaisseurs de collage On colle alors ce stratifié par fusion en faisant fondre et en portant à fusion l'ensemble de l'assemblage multicouches pour obtenir une construction homogène possédant des propriétés électriques et mécaniques stables de bout en bout Comme remarque importante, on notera que l'on peut utiliser les couches adhésives 30 et 32 à épaisseurs decollage pour lamifier des substrats de circuits comprenant des matériaux autres que le fluoropolymère du brevet des Etats- Unis d'Amérique 4 849 284, contenant des matières de charge de céramique enrobées de silane Toutefois, dans une forme de réalisation préférée, une plaquette multicouches pour circuits imprimés englobe des substrats de circuits qui sont tous constitués du In accordance with the present invention, separate sheets 30 and 32 comprising a substrate material, the composition of which corresponds to that of the present invention, are used as an adhesive or bonding layer for laminating to each other individual circuit substrates. In a preferred method for obtaining such a laminate, a laminate of circuit substrates is produced which alternate with one or more layers of bonding thicknesses. This laminate is then glued by fusion by melting and bringing to fusion the whole of the multilayer assembly to obtain a homogeneous construction having stable electrical and mechanical properties from end to end As an important remark, it will be noted that the adhesive layers 30 and 32 with bonding thicknesses can be used to laminate circuit substrates comprising other materials as the fluoropolymer of United States patent 4,849,284, containing materials silane coated ceramic filler However, in a preferred embodiment, a multilayer printed circuit board includes circuit substrates which are all made of
matériau de substrat électrique du brevet des Etats- electric substrate material of the United States patent
Unis d'Amérique 4 849 284.United States of America 4,849,284.
Les composites à teneurs élevées en matières de charge, dont on fait mention dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique 4 849 284 (par exemple, de matières de charge à raison de 50 % en volume et plus), sont très appropriés pour la plupart des modèles de plaquettes de circuits imprimés (par exemple, des plaquettes multicouches de grande dimension pour des unités centrales (plaquettes CPU), des assemblages militaires de montage en surface et des assemblages Composites with high contents of fillers, which are mentioned in US Patent 4,849,284 (for example, fillers in the proportion of 50% by volume and more), are very suitable for most models of printed circuit boards (for example, large multi-layer boards for CPUs (CPU boards), military surface mount assemblies and assemblies
collés de plaquettes de circuits à hyperfréquence). glued to microwave circuit boards).
Toutefois, pour des applications spécifiques de plaquettes multilignes nécessitant des plans épais de tension par rapport à l'épaisseur diélectrique (par exemple, dk S plans épais de puissance, des feuilles épaisses de maintien pour le réglage du CTE), on a besoin d'une teneur inférieure en matières de charge (par exemple, de 45 à 50 % en volume) pour procurer un écoulement adéquat, comme indiqué dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique 5 061 548 susmentionné Les quantités inférieures de matières de charge à raison d'environ 26 % à moins de 45 % conformément à la présente invention, constituent une réponse à l'évolution de la technologie du traitement des circuits imprimés pour la fabrication de modules à paillettes qui nécessitent spécifiquement le forage au laser de petits trous, un bon écoulement et une résistance aux alcalis pour des bains autocatalytiques Les quantités peu élevées en matières de charge de la présente invention pourraient ne pas constituer une bonne plaquette multicouches conventionnelle (comme le ferait le matériau décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique 4 849 284), mais le matériau du brevet des Etats- Unis d'Amérique 4.849 284 n'est pas approprié pour certaines applications concernant des modules à paillettes, qui font leur apparition comme technologie préférée de compactage pour des modèles à grande vitesse/forte However, for specific applications of multiline wafers requiring thick planes of voltage with respect to the dielectric thickness (for example, dk S thick power planes, thick holding sheets for adjusting the CTE), we need a lower filler content (for example, 45 to 50% by volume) to provide adequate flow, as noted in the aforementioned U.S. Patent 5,061,548 The lower amounts of filler at the right rate from about 26% to less than 45% in accordance with the present invention, constitute a response to the evolution of technology for processing printed circuits for the manufacture of glitter modules which specifically require laser drilling of small holes, a good flow and alkali resistance for autocatalytic baths The low amounts of fillers of the present invention may not as a good conventional multilayer wafer (as the material described in United States patent 4,849,284 would do), but the material in United States patent 4,849,284 is not suitable for some applications for glitter modules, which are emerging as the preferred compaction technology for high speed / high models
densité.density.
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