JP3398601B2 - Method for producing aluminum electrode foil for electrolytic capacitor and etching apparatus used for the same - Google Patents

Method for producing aluminum electrode foil for electrolytic capacitor and etching apparatus used for the same

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JP3398601B2 JP21482498A JP21482498A JP3398601B2 JP 3398601 B2 JP3398601 B2 JP 3398601B2 JP 21482498 A JP21482498 A JP 21482498A JP 21482498 A JP21482498 A JP 21482498A JP 3398601 B2 JP3398601 B2 JP 3398601B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電解コンデンサ用
アルミニウム電極箔の製造方法およびこれに使用するエ
ッチング装置に関し、特に低圧用の電解コンデンサに好
適に使用できる電解コンデンサ用のアルミニウム電極箔
の製造方法およびこれに使用するエッチング装置に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor and an etching apparatus used for the same, and particularly to a method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor which can be suitably used for an electrolytic capacitor for low voltage. And an etching apparatus used therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】アルミニウム電解コンデンサは、近年の
電子機器の小型化に伴ってますますサイズの小さいもの
が求められている。アルミニウム電解コンデンサを小型
化するためには、これに使用するアルミニウム電極箔の
単位面積当たりの静電容量を大きくすることが必要であ
り、またこのような構成とすることで、省資源・原材料
コストの低減も図れることとなる。
2. Description of the Related Art Aluminum electrolytic capacitors are required to be smaller and smaller in size with the recent miniaturization of electronic devices. In order to downsize an aluminum electrolytic capacitor, it is necessary to increase the capacitance per unit area of the aluminum electrode foil used for it, and with such a configuration, resource saving and raw material cost Will be reduced.

【0003】そのため従来より、アルミニウム電極箔の
単位面積当たりの静電容量を大きくするために、アルミ
ニウム箔を酸性水溶液に浸漬させて、化学的または電気
的にエッチングを行うことにより、アルミニウム箔の表
面を粗面化させて表面積を拡大する方法が用いられてい
る。
Therefore, conventionally, in order to increase the capacitance per unit area of the aluminum electrode foil, the aluminum foil is immersed in an acidic aqueous solution and chemically or electrically etched to form a surface of the aluminum foil. A method of increasing the surface area by roughening the surface is used.

【0004】このようなエッチングを行うと、一般にア
ルミニウム箔の表面積が拡大して静電容量は大きくなる
が、エッチングが進むにつれてアルミニウム箔自体の機
械的強度は弱くなる。したがって、印加する電圧などを
調整することにより形成するエッチピットの発生場所と
形状とをコントロールして、箔の強度を保ちながら表面
積の拡大を図ることが必要となる。
When such etching is performed, the surface area of the aluminum foil is generally increased and the electrostatic capacity is increased, but the mechanical strength of the aluminum foil itself becomes weaker as the etching proceeds. Therefore, it is necessary to increase the surface area while maintaining the strength of the foil by controlling the location and shape of the etch pit formed by adjusting the applied voltage and the like.

【0005】特に、低圧用のアルミニウム電解コンデン
サ用電極箔の製造においては、微細なピットを形成する
ために、交流電圧を印加してエッチングを行う方法が従
来より行われている。
In particular, in the production of an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor for low voltage, a method of applying an AC voltage to perform etching has been conventionally used to form fine pits.

【0006】図5は、従来の低圧用のアルミニウム電解
コンデンサ用電極箔の製造方法を示す。エッチング槽1
には、エッチング液として塩酸を主成分とする酸性水溶
液3が入っている。
FIG. 5 shows a conventional method of manufacturing an electrode foil for a low voltage aluminum electrolytic capacitor. Etching tank 1
Contains an acidic aqueous solution 3 containing hydrochloric acid as a main component as an etching solution.

【0007】帯状のアルミニウム箔2は、ローラ4を介
して矢印A方向へと搬送されて酸性水溶液3の中を通過
する。エッチング槽1の入口側と出口側には、アルミニ
ウム箔2を介して給電用の極板5a〜5dが設けられて
おり、交流電圧が印加されると極板5a,5bの間およ
び極板5c,5dの間を通過するアルミニウム箔2にエ
ッチング処理が施される。
The strip-shaped aluminum foil 2 is conveyed in the direction of arrow A through the roller 4 and passes through the acidic aqueous solution 3. Electrode plates 5a to 5d for power supply are provided on the inlet side and the outlet side of the etching tank 1 through the aluminum foil 2, and when an AC voltage is applied, the space between the electrode plates 5a and 5b and the electrode plate 5c is provided. , 5d is subjected to etching treatment.

【0008】エッチング処理が施されると、アルミニウ
ム箔2には表面からその内部に向けてクラスタ状につな
がった立方体の微細なピットが多数形成されていき、最
終的には全体としてスポンジ状のポーラス構造となる。
このとき箔の中心部に芯を残すことにより、機械的強度
を確保している。このピットは、密度が高く均一であ
り、さらにピット径の偏差が小さいことなどが理想的で
ある。
When the etching treatment is performed, a large number of cubic fine pits connected in a cluster form from the surface to the inside of the aluminum foil 2 are formed, and finally, as a whole, a sponge-like porous pit is formed. It becomes a structure.
At this time, the core is left at the center of the foil to ensure the mechanical strength. Ideally, the pits have a high density and are uniform, and the deviation of the pit diameter is small.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記従来のエッチング
方法では、はじめのうちはピット先端部におけるアルミ
ニウムイオンの錯イオン形成により、ピット先端部の水
素イオンが濃縮してアルミニウムが溶解しやすい状態に
なっているために、エッチング減量に応じてピットが深
さ方向に形成されて表面積は拡大していく。
In the conventional etching method described above, initially, hydrogen ions at the pit tip end are concentrated due to the formation of aluminum ion complex ions at the pit tip end, and aluminum is easily dissolved. Therefore, pits are formed in the depth direction in accordance with the etching loss, and the surface area increases.

【0010】しかしながら、エッチングの進行に伴いピ
ット内部のアルミニウムイオンの濃度が、箔の内部から
表面方向に向かう拡散に律速して増大し、反応抵抗が逆
に大きくなっていくため、次第に深さ方向へピットが形
成しにくくなる。
However, as the etching progresses, the concentration of aluminum ions in the pits increases at a rate controlled by the diffusion from the inside of the foil toward the surface, and the reaction resistance increases conversely. It becomes difficult to form hepits.

【0011】そのため、次第に表面付近が過剰にエッチ
ングされ、すでに形成されたポーラス構造が破壊されて
いき、エッチング減量あたりの容量がダウンするという
問題があった。
Therefore, there is a problem that the vicinity of the surface is gradually excessively etched, the already formed porous structure is destroyed, and the capacity per etching loss decreases.

【0012】この問題を解決するために、エッチングの
進行に伴って印加する電圧を調節するなどの方法がとら
れているが、エッチング液の水素イオン濃度は十分に制
御されておらず、理想的な状態に設定がなされていなか
った。
In order to solve this problem, a method of adjusting the applied voltage as the etching progresses has been taken, but the hydrogen ion concentration of the etching solution is not sufficiently controlled and is ideal. It was not set to a proper state.

【0013】また、このような問題を解決する方法の一
つとして、上記の酸性水溶液3に添加剤を配合して過剰
なエッチングを抑制する方法が提案されている。添加剤
としては、酸性水溶液3にあらかじめ含有されている塩
酸以外の酸、例えば硫酸などが用いられ、添加剤として
加えた酸の解離により発生した陰イオンにより、アルミ
ニウム箔2の表面に被膜を形成してエッチングされにく
い状態を作り出し、エッチング過剰を抑えるものであ
る。
As one of the methods for solving such a problem, there has been proposed a method of adding an additive to the acidic aqueous solution 3 to suppress excessive etching. As the additive, an acid other than hydrochloric acid which is contained in the acidic aqueous solution 3 in advance, such as sulfuric acid, is used, and a film is formed on the surface of the aluminum foil 2 by anions generated by dissociation of the acid added as the additive. It creates a state that is difficult to be etched and suppresses overetching.

【0014】しかしながら、酸性水溶液3には予め塩酸
が含まれているため、この酸性水溶液3の水素イオン濃
度が高い場合には、添加剤として加えた酸が解離しにく
くなり、その効果が発揮されにくくなるという問題があ
った。また、水素イオン濃度の低い酸性水溶液では、添
加剤の効果は現れやすくなるものの、エッチング倍率を
上げることが難しくなり、表面積を増大させて静電容量
を大きくすることができなくなるという問題があった。
However, since the acidic aqueous solution 3 contains hydrochloric acid in advance, when the hydrogen ion concentration of this acidic aqueous solution 3 is high, the acid added as an additive is less likely to dissociate and its effect is exhibited. There was a problem that it became difficult. Further, in an acidic aqueous solution having a low hydrogen ion concentration, although the effect of the additive is likely to appear, it is difficult to increase the etching rate, and there is a problem that it is impossible to increase the surface area and increase the capacitance. .

【0015】上述のように、従来のアルミニウム箔2の
エッチング方法では、印加する電圧などを制御してピッ
トの形成位置などを調整したり、酸性水溶液3に添加剤
を加えることによりエッチング状態を調整しているが、
水素イオン濃度とエッチングの深さ方向への進行の関
係、さらに水素イオン濃度と添加剤のパッシベーション
性の関係について考慮した設定が行われていなかった。
従って、アルミニウム箔2の表面付近の過剰なエッチン
グを抑制してポーラス構造の破壊を防ぎ、しかも単位面
積当たりの静電容量の高い電解コンデンサ用アルミニウ
ム電極箔を製造することができなかった。
As described above, in the conventional etching method of the aluminum foil 2, the applied voltage or the like is controlled to adjust the pit formation position or the like, or the additive is added to the acidic aqueous solution 3 to adjust the etching state. But
No setting was made considering the relationship between the hydrogen ion concentration and the progress of etching in the depth direction, and the relationship between the hydrogen ion concentration and the passivation property of the additive.
Therefore, it was not possible to manufacture an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor that suppresses excessive etching near the surface of the aluminum foil 2 to prevent the destruction of the porous structure and has a high capacitance per unit area.

【0016】本発明は前記問題点を解決し、単位面積当
たりの静電容量の高い電解コンデンサ用アルミニウム電
極箔の製造方法およびこれに使用するエッチング装置を
提供するものである。
The present invention solves the above problems and provides a method of manufacturing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor having a high electrostatic capacity per unit area, and an etching apparatus used for the method.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明の電解コンデンサ
用アルミニウム電極箔の製造方法は、エッチング液とし
て用いる酸性水溶液の水素イオン濃度を個別に制御する
ことを特徴とする。
The method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor according to the present invention is characterized by individually controlling the hydrogen ion concentration of an acidic aqueous solution used as an etching solution.

【0018】この本発明によると、過剰なエッチングを
抑制し、単位面積当たりの静電容量の高い電解コンデン
サアルミニウム箔を得ることができる。また、本発明の
エッチング装置は、エッチング槽に酸性水溶液の水素イ
オン濃度を制御する制御手段を設けたことを特徴とす
る。
According to the present invention, it is possible to obtain an electrolytic capacitor aluminum foil which suppresses excessive etching and has a high capacitance per unit area. Further, the etching apparatus of the present invention is characterized in that the etching tank is provided with a control means for controlling the hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution.

【0019】この本発明によると、単位面積当たりの静
電容量の高い電解コンデンサアルミニウム箔が容易に安
定して作成できる。
According to this invention, an electrolytic capacitor aluminum foil having a high electrostatic capacity per unit area can be easily and stably produced.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】請求項1記載の電解コンデンサ用
アルミニウム電極箔の製造方法は、酸性水溶液の入った
エッチング槽にアルミニウム箔を流し、アルミニウム箔
に電圧を印加してエッチングを行い、前記アルミニウム
箔上にピットを形成して電解コンデンサ用アルミニウム
電極箔を製造するに際し、エッチング槽を複数設け、前
記複数のエッチング槽をアルミニウム箔が順次通過し、
前記エッチング槽に入った酸性水溶液の各水素イオン濃
度を、それぞれのエッチング槽で独立して制御してエッ
チングを実行することを特徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor according to claim 1 is such that the aluminum foil is poured into an etching bath containing an acidic aqueous solution, and a voltage is applied to the aluminum foil to perform etching. When manufacturing aluminum electrode foil for electrolytic capacitors by forming pits on the foil, a plurality of etching tanks are provided, and the aluminum foil sequentially passes through the plurality of etching tanks,
It is characterized in that each hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution contained in the etching tank is independently controlled in each etching tank to perform etching.

【0021】この構成によると、それぞれのエッチング
槽の酸性水溶液の水素イオン濃度を独立して制御するこ
とで、ピット内部の水素イオン濃度の勾配を制御でき、
深さ方向の任意の場所にピットを形成することができ
る。
According to this structure, the gradient of the hydrogen ion concentration inside the pit can be controlled by independently controlling the hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution in each etching tank.
Pits can be formed at any position in the depth direction.

【0022】請求項2記載の電解コンデンサ用アルミニ
ウム電極箔の製造方法は、請求項1において、アルミニ
ウム箔が通過するエッチング槽の水素イオン濃度を、ア
ルミニウム箔の進行方向に対し、前工程のエッチング槽
の水素イオン濃度が、後工程のエッチング槽の水素イオ
ン濃度に比べて等しいか、あるいはより高くなるように
制御することを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor according to the first aspect, the hydrogen ion concentration of the etching bath through which the aluminum foil passes is set so that the hydrogen ion concentration of the etching bath in the preceding step is relative to the traveling direction of the aluminum foil. It is characterized in that the hydrogen ion concentration is controlled to be equal to or higher than the hydrogen ion concentration of the etching tank in the subsequent step.

【0023】この構成によると、エッチング減量を増や
してもアルミニウム箔の表面付近のエッチング過剰を抑
えることができるため、さらに単位面積あたりの静電容
量を高めることができる。
According to this structure, it is possible to suppress excessive etching near the surface of the aluminum foil even if the amount of etching reduction is increased, and therefore it is possible to further increase the capacitance per unit area.

【0024】請求項3記載の電解コンデンサ用アルミニ
ウム電極箔の製造方法は、請求項1または請求項2にお
いて、水素イオン濃度の制御は、酸性水溶液の供給と排
出をそれぞれのエッチング槽で独立して行うことを特徴
とする。
According to a third aspect of the present invention, in the method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor according to the first or second aspect, the hydrogen ion concentration is controlled by supplying and discharging an acidic aqueous solution independently in each etching tank. It is characterized by performing.

【0025】この構成によると、容易にそれぞれのエッ
チング槽の酸性水溶液の水素イオン濃度を調整すること
ができる。請求項4記載の電解コンデンサ用アルミニウ
ム電極箔の製造方法は、請求項1または請求項2におい
て、水素イオン濃度の制御は、アルミニウム箔の進行方
向に対し、最終工程のエッチング槽に酸性水溶液を供給
し、前側の工程のエッチング槽に順次オーバーフローさ
せ、同時に前工程のエッチング槽に後工程の酸性水溶液
よりも水素イオン濃度の濃い酸性水溶液を追加供給して
行うことを特徴とする。
According to this structure, the hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution in each etching tank can be easily adjusted. The method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor according to claim 4 is the method according to claim 1 or 2, wherein the hydrogen ion concentration is controlled by supplying an acidic aqueous solution to an etching tank in the final step with respect to the traveling direction of the aluminum foil. Then, the etching bath of the front process is sequentially overflowed, and at the same time, an acidic aqueous solution having a higher hydrogen ion concentration than the acidic aqueous solution of the subsequent process is additionally supplied to the etching bath of the previous process.

【0026】この構成によると、容易にそれぞれの槽の
酸性水溶液の水素イオン濃度を調整することができるこ
とに加え、使用する酸性水溶液の量を少なくすることが
できるため経済的である。
According to this structure, the hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution in each tank can be easily adjusted, and the amount of the acidic aqueous solution used can be reduced, which is economical.

【0027】請求項5記載の電解コンデンサ用アルミニ
ウム電極箔の製造方法は、請求項1から請求項4のいず
れかにおいて、酸性水溶液として、塩酸を用いて水素イ
オン濃度を制御することを特徴とする。
A method of manufacturing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor according to claim 5 is characterized in that, in any one of claims 1 to 4, hydrochloric acid is used as the acidic aqueous solution to control the hydrogen ion concentration. .

【0028】この構成によると、エッチング性を損なわ
ずに水素イオン濃度を制御できるため、ピットを箔の深
さ方向に進行させることが容易になる。請求項6記載の
電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法は、請
求項1から請求項4のいずれかにおいて、酸性水溶液と
して、塩酸を主成分とし、その他に添加剤として硫酸、
しゅう酸、りん酸のうちの少なくとも1つ以上の酸を添
加した酸性水溶液を用いて水素イオン濃度を制御するこ
とを特徴とする。
According to this structure, since the hydrogen ion concentration can be controlled without impairing the etching property, it becomes easy to advance the pits in the depth direction of the foil. The method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor according to claim 6 is the method according to any one of claims 1 to 4, wherein the acidic aqueous solution contains hydrochloric acid as a main component, and sulfuric acid as an additive.
It is characterized in that the hydrogen ion concentration is controlled by using an acidic aqueous solution to which at least one acid selected from oxalic acid and phosphoric acid is added.

【0029】この構成によると、エッチング液の水素イ
オン濃度を変えることにより、添加剤のパッシベーショ
ン性を制御することができるため、過剰なエッチングを
抑制する添加剤の効果が十分に引き出される。そのた
め、アルミニウム箔の表面付近の過剰なエッチングを抑
制することができ、単位面積あたりの静電容量を高める
ことができる。
According to this structure, since the passivation property of the additive can be controlled by changing the hydrogen ion concentration of the etching solution, the effect of the additive suppressing excessive etching can be sufficiently obtained. Therefore, excessive etching near the surface of the aluminum foil can be suppressed, and the capacitance per unit area can be increased.

【0030】請求項7記載の電解コンデンサ用アルミニ
ウム電極箔は、請求項1から請求項6のいずれかに記載
の方法によって製造されたことを特徴とする。この構成
によると、表面積が大きく静電容量の大きいアルミニウ
ム電極箔が得られるため、特に低圧用の電解コンデンサ
に好適に使用でき、さらにコンデンサの小型化に有効で
ある。
An aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor according to a seventh aspect is characterized by being manufactured by the method according to any one of the first to sixth aspects. According to this structure, an aluminum electrode foil having a large surface area and a large electrostatic capacity can be obtained, so that it can be suitably used especially for an electrolytic capacitor for low voltage, and it is also effective for downsizing of the capacitor.

【0031】請求項8記載のエッチング装置は、酸性水
溶液の入ったエッチング槽にアルミニウム箔を流し、ア
ルミニウム箔に電圧を印加してエッチングを行い、前記
アルミニウム箔上にピットを形成した電解コンデンサ用
アルミニウム電極箔を製造するエッチング装置であっ
て、前記エッチング槽に水素イオン濃度を検知するセン
サーを設け、前記エッチング槽に供給する酸性水溶液の
量を増減させる流量調節手段を設け、前記センサーによ
り検出された水素イオン濃度に基づいて前記流量調節手
段を制御するコントローラにフィードバックしてエッチ
ング槽の水素イオン濃度を任意に制御する制御装置を設
けたことを特徴とする。
In the etching apparatus according to the present invention, an aluminum foil is poured into an etching bath containing an acidic aqueous solution, a voltage is applied to the aluminum foil to perform etching, and pits are formed on the aluminum foil for electrolytic capacitors. An etching apparatus for manufacturing an electrode foil, wherein a sensor for detecting hydrogen ion concentration is provided in the etching tank, and flow rate adjusting means for increasing or decreasing the amount of acidic aqueous solution supplied to the etching tank is provided, and the sensor is detected. A control device for controlling the hydrogen ion concentration in the etching tank by feedback to a controller for controlling the flow rate adjusting means based on the hydrogen ion concentration is provided.

【0032】この構成によると、エッチングによるエッ
チング槽の酸性水溶液の水素イオン濃度の変化を水素イ
オン濃度を検知するセンサーによって検知でき、直ちに
コントローラがエッチング槽に追加供給する酸性水溶液
の量を加減できるため、エッチング槽の酸性水溶液の水
素イオン濃度を、任意の設定値に一定に保つことができ
る。そのため終始安定した特性の箔を製造することがで
きる。
According to this structure, the change in the hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution in the etching tank due to the etching can be detected by the sensor for detecting the hydrogen ion concentration, and the controller can immediately adjust the amount of the acidic aqueous solution additionally supplied to the etching tank. The hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution in the etching tank can be kept constant at any set value. Therefore, a foil having stable characteristics can be manufactured all the time.

【0033】請求項9記載のエッチング装置は、請求項
8において、制御装置を、アルミニウム箔の進行方向に
対し、前工程のエッチング槽の水素イオン濃度が後工程
のエッチング槽の水素イオン濃度に比べて等しいかある
いはより高くなるように制御するよう構成したことを特
徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention, in the etching apparatus according to the eighth aspect, the controller controls the hydrogen ion concentration of the etching tank of the previous step to be higher than the hydrogen ion concentration of the etching tank of the subsequent step with respect to the traveling direction of the aluminum foil. It is characterized in that it is configured to control so as to be equal or higher.

【0034】この構成によると、エッチング減量を増や
してもアルミニウム箔表面付近のエッチング過剰を抑え
ることができ、さらに単位面積あたりの静電容量を高め
た箔を終始安定して生産することができる。
According to this structure, even if the amount of etching reduction is increased, it is possible to suppress excessive etching near the surface of the aluminum foil, and it is possible to consistently produce a foil having an increased capacitance per unit area.

【0035】以下、本発明の各実施の形態について説明
する。 (実施の形態1)図1,図2は、本発明の(実施の形態
1)を示す。
Each embodiment of the present invention will be described below. (Embodiment 1) FIGS. 1 and 2 show (Embodiment 1) of the present invention.

【0036】上記従来例を示す図5とほぼ同様の構成で
あるが、この(実施の形態1)では、エッチング槽1を
複数設け、エッチング槽1に入った酸性水溶液3の水素
イオン濃度を、それぞれ個別に制御する点で異なる。
Although the structure is almost the same as that of the conventional example shown in FIG. 5, in this (Embodiment 1), a plurality of etching tanks 1 are provided and the hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution 3 contained in the etching tank 1 is They differ in that they are individually controlled.

【0037】具体的には、図1に示すように複数のエッ
チング槽1a〜1cが設けられている。エッチング槽1
a〜1cには、塩酸を主成分とする酸性水溶液3がエッ
チング液として入れられている。
Specifically, as shown in FIG. 1, a plurality of etching tanks 1a-1c are provided. Etching tank 1
An acidic aqueous solution 3 containing hydrochloric acid as a main component is placed as an etching solution in a to 1c.

【0038】帯状のアルミニウム箔2はローラ4を介し
て矢印A方向へと搬送され、エッチング槽1a〜1cに
入った酸性水溶液3の中を順次通過する。それぞれのエ
ッチング槽1a〜1cの入り口側および出口側には、通
過するアルミニウム箔2を介して給電用の極板5a〜5
lが設けられており、交流電圧が印加されると、それぞ
れの極板の間を通過するアルミニウム箔2にエッチング
処理が施される。
The strip-shaped aluminum foil 2 is conveyed in the direction of arrow A through the roller 4 and sequentially passes through the acidic aqueous solution 3 contained in the etching tanks 1a to 1c. Electrodes 5a to 5 for power supply are provided on the inlet side and the outlet side of the respective etching tanks 1a to 1c via the aluminum foil 2 passing therethrough.
1 is provided, and when an AC voltage is applied, the aluminum foil 2 passing between the respective electrode plates is subjected to etching treatment.

【0039】ところで上述のようにアルミニウム箔2
は、エッチング倍率が上がるにつれてその表面付近から
エッチング過剰となりポーラス構造が破壊されやすくな
るため、エッチング槽1には矢印A方向に進むに従って
酸性水溶液に予め含有されている塩酸以外の酸を添加剤
として加える方法が有効である。
By the way, as described above, the aluminum foil 2
Since the porous structure is easily destroyed due to excessive etching from the vicinity of the surface as the etching magnification increases, the etching tank 1 uses an acid other than hydrochloric acid, which is previously contained in the acidic aqueous solution, as an additive in the etching tank 1 in the direction of arrow A. The method of adding is effective.

【0040】添加剤として加える酸としては、硫酸、し
ゅう酸、りん酸などが挙げられこれらの酸のうちの少な
くとも1つ以上の酸を添加する。酸性水溶液に塩酸以外
の酸を添加剤として加えると、その陰イオンがアルミニ
ウム箔表面に被膜を形成してエッチングされにくい状態
を作り出すが、添加剤として加えた酸の解離は、一般
に、水溶液中の水素イオン濃度が低いほど酸の解離が大
きくなる。すなわち、酸性水溶液の水素イオン濃度が低
い槽では添加剤の効果が強く現れてエッチングしにくい
状態になり、逆に水素イオン濃度の高い槽ではエッチン
グしやすい状態になる。
Examples of the acid added as an additive include sulfuric acid, oxalic acid, phosphoric acid and the like, and at least one acid selected from these acids is added. When an acid other than hydrochloric acid is added as an additive to an acidic aqueous solution, its anions form a film on the surface of the aluminum foil to create a state in which it is difficult to etch, but dissociation of the acid added as an additive is generally The lower the hydrogen ion concentration, the greater the acid dissociation. That is, the effect of the additive strongly appears in the tank where the hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution is low, making it difficult to etch, and conversely, the tank where the hydrogen ion concentration is high becomes easy to etch.

【0041】そのため、この(実施の形態1)では、エ
ッチング槽1a〜1cに入った酸性水溶液3の各水素イ
オン濃度を独立して制御できるように、各エッチング槽
1a〜1cに水素イオン濃度の制御手段を設けた。
Therefore, in this (Embodiment 1), the hydrogen ion concentration in each of the etching tanks 1a to 1c is controlled so that each hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution 3 contained in the etching tanks 1a to 1c can be independently controlled. Control means were provided.

【0042】すなわち、図2に示すように、各エッチン
グ槽1a〜1cには、水素イオン濃度を検知するセンサ
ー7と、供給する酸性水溶液の量を増減させる流量調節
手段としてのバルブ8a,8bとを設けた。なお、この
図2では、給電基板5a〜5lの記載を省略している。
That is, as shown in FIG. 2, each etching tank 1a-1c is provided with a sensor 7 for detecting the hydrogen ion concentration, and valves 8a, 8b as flow rate adjusting means for increasing / decreasing the amount of the acidic aqueous solution supplied. Was set up. In FIG. 2, the power supply boards 5a to 5l are omitted.

【0043】センサー7によりエッチング槽1a〜1c
の酸性水溶液3の水素イオン濃度が検知されると、検出
された水素イオン濃度に基づいてバルブ8a,8bを制
御するコントローラ9にフィードバックされる。制御装
置は、エッチング槽1a〜1cの水素イオン濃度を、矢
印A方向に対し、前工程のエッチング槽の水素イオン濃
度が後工程のエッチング槽の水素イオン濃度に比べて等
しいかあるいはより高くなるように制御する。
The etching baths 1a to 1c are controlled by the sensor 7.
When the hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution 3 is detected, it is fed back to the controller 9 that controls the valves 8a and 8b based on the detected hydrogen ion concentration. The controller sets the hydrogen ion concentration of the etching tanks 1a to 1c in the direction of arrow A so that the hydrogen ion concentration of the etching tank of the previous step is equal to or higher than the hydrogen ion concentration of the etching tank of the subsequent step. To control.

【0044】各エッチング槽1a〜1cにおける酸性水
溶液3の水素イオン濃度は、アルミニウム箔2の通過に
伴なって減少していくため、水素イオン濃度の減少した
酸性水溶液よりも濃い酸性水溶液、あるいは主成分であ
る塩酸を矢印B側より加え、同時に体積増加分を矢印C
方向へ排出しながら水素イオン濃度を一定に保つことが
必要となる。このときの流量調整はバルブ8a,8bに
て行う。
Since the hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution 3 in each of the etching tanks 1a to 1c decreases with the passage of the aluminum foil 2, an acidic aqueous solution having a concentration higher than that of the acidic aqueous solution having a reduced hydrogen ion concentration, or Add hydrochloric acid as a component from the arrow B side, and at the same time increase the volume increase with arrow C.
It is necessary to keep the hydrogen ion concentration constant while discharging in the direction. The flow rate adjustment at this time is performed by the valves 8a and 8b.

【0045】このような構成とすることで、工程が進む
につれて塩酸以外に添加した酸が解離しやすくなり、パ
ッシベーション皮膜を形成しやすくなることから、アル
ミニウム箔2の表面付近の過剰なエッチングを抑え、ポ
ーラス構造を破壊することなく減量あたりの容量を増や
すことができる。
With such a structure, as the process progresses, acids added other than hydrochloric acid are easily dissociated, and a passivation film is easily formed, so that excessive etching near the surface of the aluminum foil 2 is suppressed. , The capacity per weight loss can be increased without destroying the porous structure.

【0046】なお、エッチングを行う際に交流電圧を印
加すると、アルミニウム箔2の表面に微少なピットを形
成することができ、静電容量を増加させることができる
ため、特に低圧用の電極箔として好適に使用できること
となる。
If an AC voltage is applied during etching, minute pits can be formed on the surface of the aluminum foil 2 and the capacitance can be increased. It can be preferably used.

【0047】上記のように製造された電解コンデンサ用
アルミニウム箔は、減量あたりの表面積が大きく静電容
量が大きいものであるため、特に低圧用の電解コンデン
サの小型化に有効である。
Since the aluminum foil for electrolytic capacitors manufactured as described above has a large surface area per weight loss and a large capacitance, it is particularly effective for downsizing of low voltage electrolytic capacitors.

【0048】以下にこの(実施の形態1)の具体例を示
す。 実施例1 上記(実施の形態1)において、帯状のアルミニウム箔
2として、厚さ100μmで純度99.9%以上の高純
度箔を用いた。また、酸性水溶液3としては、塩素イオ
ン濃度が2.75Nのものを用い、さらに添加剤として
硫酸を配合し、硫酸濃度が0.1%となるようにした。
A specific example of this (Embodiment 1) is shown below. Example 1 In the above (Embodiment 1), as the strip-shaped aluminum foil 2, a high-purity foil having a thickness of 100 μm and a purity of 99.9% or more was used. As the acidic aqueous solution 3, a chloride ion concentration of 2.75 N was used, and sulfuric acid was further added as an additive so that the sulfuric acid concentration became 0.1%.

【0049】アルミニウム箔2のエッチング槽1として
は、第1〜第3のエッチング槽1を設け、それぞれのエ
ッチング槽1には上記のように調整された酸性水溶液3
をエッチング液として入れた。
As the etching tank 1 for the aluminum foil 2, first to third etching tanks 1 are provided, and each of the etching tanks 1 has the acidic aqueous solution 3 adjusted as described above.
Was added as an etching solution.

【0050】そして、各エッチング槽1の酸性水溶液3
の水素イオン濃度は、前工程から後工程に向かってエッ
チングの進行に伴ない水素イオン濃度が高い条件から低
い条件になるように制御し、第1のエッチング槽の水素
イオン濃度を2.50N、第2液のエッチング槽の水素
イオン濃度を2.25N、第3のエッチング槽の水素イ
オン濃度を2.00Nとした。
Then, the acidic aqueous solution 3 in each etching tank 1
The hydrogen ion concentration of the first etching tank is controlled to be 2.50 N from the condition where the hydrogen ion concentration is high to the condition where the hydrogen ion concentration is low as the etching progresses from the pre-process to the post-process. The hydrogen ion concentration of the second solution etching tank was 2.25N, and the hydrogen ion concentration of the third etching tank was 2.00N.

【0051】このように構成されたエッチング槽1を用
いて、アルミニウム箔2を第1のエッチング槽から第3
のエッチング槽に連続的に流しながら、交流電圧を印加
してエッチング処理を行った。すなわち、矢印A方向に
進むアルミニウム箔2は3回に分けてエッチング処理が
行われるようにした。
Using the etching tank 1 having the above-mentioned structure, the aluminum foil 2 is removed from the first etching tank to the third etching tank.
While continuously flowing into the etching tank of No. 2, an alternating voltage was applied to carry out the etching treatment. That is, the aluminum foil 2 traveling in the direction of arrow A was subjected to the etching treatment in three steps.

【0052】エッチング処理の終了したアルミニウム箔
2を最後に化成して、耐圧22Vの電極箔を完成した。
得られた電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の静電容
量を表1に示す。
The aluminum foil 2 that had been subjected to the etching treatment was finally formed to complete an electrode foil having a withstand voltage of 22V.
Table 1 shows the capacitance of the obtained aluminum electrode foil for electrolytic capacitors.

【0053】また、電解コンデンサ用アルミニウム電極
箔の表面および断面の顕微鏡写真を図3に示す。なお、
図3(a),(b)において、白い部分が母材となるア
ルミニウム箔であり、黒い部分がエッチングされたピッ
トの部分である。
A micrograph of the surface and cross section of the aluminum electrode foil for electrolytic capacitors is shown in FIG. In addition,
In FIGS. 3A and 3B, the white part is the aluminum foil that is the base material, and the black part is the etched pit part.

【0054】[0054]

【表1】 [Table 1]

【0055】実施例2 酸性水溶液3の水素イオン濃度を、第1のエッチング槽
から第3のエッチング槽で等しくなるように制御した。
そしてそれ以外は実施例1と同様にしてアルミニウム箔
2にエッチング処理を施した。
Example 2 The hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution 3 was controlled so as to be equal in the first etching tank and the third etching tank.
The aluminum foil 2 was subjected to etching treatment in the same manner as in Example 1 except for the above.

【0056】得られた電解コンデンサ用アルミニウム電
極箔の静電容量を表1に示す。
The electrostatic capacity of the obtained aluminum electrode foil for electrolytic capacitors is shown in Table 1.

【0057】比較例1 上記実施例1〜3とは異なり、酸性水溶液3の水素イオ
ン濃度の制御を行わずにアルミニウム箔2にエッチング
処理を施した。
Comparative Example 1 Unlike the above Examples 1 to 3, the aluminum foil 2 was etched without controlling the hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution 3.

【0058】酸性水溶液3および添加剤としての硫酸は
上記実施例1.2と同様のものであるが、酸性水溶液3
は、第3のエッチング槽1から第1のエッチング槽1へ
と同一の酸性水溶液が順次オーバーフローするようにな
っている。
The acidic aqueous solution 3 and sulfuric acid as an additive are the same as in Example 1.2 above, but the acidic aqueous solution 3
The same acidic aqueous solution sequentially overflows from the third etching tank 1 to the first etching tank 1.

【0059】そのため酸性水溶液が供給される側の第3
液の水素イオン濃度が一番高くなり、第1液の側に向か
って水素イオン濃度が減少することから、上記実施例1
〜3とは逆に、アルミニウム箔2の進行方向である矢印
A方向へ進むに従って、酸性水溶液の水素イオン濃度が
高くなるよう構成されている。
Therefore, the third side on the side where the acidic aqueous solution is supplied
Since the hydrogen ion concentration of the liquid is the highest and the hydrogen ion concentration decreases toward the first liquid,
Contrary to ~ 3, the hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution is configured to increase as the aluminum foil 2 advances in the direction of arrow A, which is the traveling direction.

【0060】そしてそれ以外は、実施例1と同様にして
アルミニウム箔2にエッチング処理を施した。得られた
電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の静電容量を表1
に示し、その表面および断面の顕微鏡写真を図6に示
す。なお、図6(a),(b)において、白い部分が母
材となるアルミニウム箔であり、黒い部分がエッチング
されたピットの部分である。
The aluminum foil 2 was etched in the same manner as in Example 1 except for the above. The capacitance of the obtained aluminum electrode foil for electrolytic capacitors is shown in Table 1.
6 and a micrograph of the surface and cross section thereof is shown in FIG. In FIGS. 6A and 6B, the white portion is the aluminum foil that is the base material, and the black portion is the etched pit portion.

【0061】表1に示すように、実施例1、実施例2で
は、第1から第3のエッチング槽の水素イオン濃度を制
御し、エッチングの進行に伴なってパッシベーション性
が等しいか、あるいは次第に強くなるようにしたため、
水素イオン濃度の制御を行っていない比較例1に比べ単
位面積当たりの静電容量の大きい電解コンデンサ用アル
ミニウム電極箔が得られた。
As shown in Table 1, in Examples 1 and 2, the hydrogen ion concentrations in the first to third etching baths were controlled so that the passivation properties were equal or gradually increased as the etching progressed. Because I tried to be strong,
As compared with Comparative Example 1 in which the hydrogen ion concentration was not controlled, an aluminum electrode foil for electrolytic capacitors having a large electrostatic capacity per unit area was obtained.

【0062】また、図3(a)と図6(a)とを比較す
ると、実施例1で得られたアルミニウム電極箔2の表面
は、比較例1で得られたアルミニウム電極箔2の表面に
較べて塊状の黒点が少なくなっている。すなわち、表面
付近の過剰なエッチングが抑えられて、微細で均一なピ
ットが多数形成されている。
Further, comparing FIG. 3 (a) with FIG. 6 (a), the surface of the aluminum electrode foil 2 obtained in Example 1 is the same as that of the aluminum electrode foil 2 obtained in Comparative Example 1. Compared with this, there are less lumpy black spots. That is, excessive etching near the surface is suppressed, and many fine and uniform pits are formed.

【0063】また、図3(b)と図6(b)とを比較す
ると、実施例1で得られたアルミニウム電極箔2の断面
は、比較例1で得られたアルミニウム電極箔2の断面に
較べて表面付近だけでなく内部までクラスタ状につなが
った立方体の微細なピットが形成されている。
Further, comparing FIG. 3B with FIG. 6B, the cross section of the aluminum electrode foil 2 obtained in Example 1 is the same as the cross section of the aluminum electrode foil 2 obtained in Comparative Example 1. In comparison, cubic pits are formed that are connected not only near the surface but also inside as clusters.

【0064】そのため、上述のように、実施例1は比較
例1に較べて単位面積あたりの静電容量の大きいアルミ
ニウム電極箔2が得られ、低圧用の電解コンデンサ用ア
ルミニウム電極箔として好適に使用でき、さらにコンデ
ンサの小型化に有効なものであった。
Therefore, as described above, in Example 1, an aluminum electrode foil 2 having a larger electrostatic capacity per unit area than that of Comparative Example 1 was obtained, which is preferably used as an aluminum electrode foil for a low voltage electrolytic capacitor. In addition, it was effective in reducing the size of the capacitor.

【0065】なお、上記(実施例)では、添加剤として
硫酸を使用したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、硫酸の代りにしゅう酸やりん酸を用いても同様の
効果が得られる。さらに、添加剤は単独で使用するだけ
でなく、2種類以上の酸を混ぜて使用してもよい。
Although sulfuric acid was used as the additive in the above (Example), the present invention is not limited to this, and similar effects can be obtained by using oxalic acid or phosphoric acid instead of sulfuric acid. can get. Further, the additive may be used not only alone but also as a mixture of two or more kinds of acids.

【0066】また、酸性水溶液には添加剤を配合せず塩
酸のみで使用しても、エッチング条件によっては、実用
的な電極箔を得ることができる。 (実施の形態2)図4は、本発明の(実施の形態2)を
示す。
Even if the acidic aqueous solution is used without adding any additive and only hydrochloric acid is used, a practical electrode foil can be obtained depending on the etching conditions. (Embodiment 2) FIG. 4 shows (Embodiment 2) of the present invention.

【0067】上記(実施の形態1)におけるエッチング
装置とほぼ同様の構成であるが、上記(実施の形態1)
では、それぞれのエッチング槽1a〜1cにおいて酸性
水溶液3の供給と排出を個別に行うことにより水素イオ
ン濃度の制御を行ったが、この(実施の形態2)では、
酸性水溶液3を最終工程のエッチング槽から前側の工程
のエッチング槽に向かって順次オーバーフローさせて水
素イオン濃度の制御を行った点で異なる。
The structure is almost the same as that of the etching apparatus in the above (Embodiment 1), but the above (Embodiment 1)
Then, the hydrogen ion concentration was controlled by individually supplying and discharging the acidic aqueous solution 3 in each of the etching tanks 1a to 1c, but in this (Embodiment 2),
The difference is that the acidic aqueous solution 3 is sequentially overflowed from the etching bath of the final process to the etching bath of the front process to control the hydrogen ion concentration.

【0068】詳しくは、図4に示すように、それぞれの
エッチング槽1a〜1cの間に酸性水溶液3をオーバー
フローさせる配管9を設けて連結する。そして、エッチ
ング槽1cの側に酸性水溶液を供給してエッチング槽1
bからエッチング槽1aへと配管9を介して順次オーバ
ーフローさせる。
More specifically, as shown in FIG. 4, a pipe 9 for overflowing the acidic aqueous solution 3 is provided and connected between the etching tanks 1a to 1c. Then, an acidic aqueous solution is supplied to the side of the etching tank 1c to etch the etching tank 1c.
Overflow from b to the etching bath 1a is made through the pipe 9 in sequence.

【0069】それと同時にそれぞれのエッチング槽1a
〜1cには上記(実施の形態1)と同様に各バルブ8a
より後工程の酸性水溶液よりも水素イオン濃度の濃い酸
性水溶液を流量を調整しながら追加供給する。
At the same time, each etching tank 1a
1 to 1c, each valve 8a is the same as the above (Embodiment 1).
An acidic aqueous solution having a hydrogen ion concentration higher than that of the acidic aqueous solution in the later step is additionally supplied while adjusting the flow rate.

【0070】また、図4には図示していないが、上記
(実施の形態1)を示す図2と同様に、本発明の(実施
の形態2)においても各エッチング槽の水素イオン濃度
を調整する制御手段として、センサー7、コントローラ
9などの制御装置が設けられている。
Although not shown in FIG. 4, the hydrogen ion concentration of each etching tank is adjusted in (Embodiment 2) of the present invention as in FIG. 2 showing (Embodiment 1) above. A control device such as the sensor 7 and the controller 9 is provided as a control unit for controlling the operation.

【0071】なお、酸性水溶液をオーバーフローさせる
際には、上記とは反対に矢印A方向より酸性水溶液3を
供給すると、上述のように水素イオンの減少したエッチ
ング槽に濃い酸性水溶液や塩酸を加えた際に、矢印A方
向に添加した水素イオンも流れてしまい、全ての槽の水
素イオン濃度が均一化されるため好ましくない。
When the acidic aqueous solution is overflowed, the acidic aqueous solution 3 is supplied in the direction of arrow A, which is the opposite of the above, and the concentrated acidic aqueous solution or hydrochloric acid is added to the etching tank in which hydrogen ions are reduced as described above. At this time, hydrogen ions added in the direction of arrow A also flow, and the hydrogen ion concentrations in all the tanks are made uniform, which is not preferable.

【0072】[0072]

【発明の効果】以上のように本発明の電解コンデンサ用
アルミニウム電極箔の製造方法によると、エッチング槽
を複数設け、前記複数のエッチング槽をアルミニウム箔
が順次通過し、前記エッチング槽に入った酸性水溶液の
各水素イオン濃度を、それぞれのエッチング槽で独立し
て制御してエッチングを実行することで、エッチングに
よりアルミニウム箔の表面に形成されるエッチピットの
形状や密度を制御することができ、密度が高く均一でさ
らにピット径の偏差の小さいエッチピットが得られる。
従って、単位面積あたりの静電容量の大きい電解コンデ
ンサ用アルミニウム電極箔が得られる。
As described above, according to the method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor of the present invention, a plurality of etching baths are provided, and the aluminum foils are sequentially passed through the plurality of etching baths so that the acidity in the etching bath is increased. By controlling each hydrogen ion concentration of the aqueous solution independently in each etching tank to perform etching, the shape and density of the etch pits formed on the surface of the aluminum foil by etching can be controlled. It is possible to obtain an etch pit having a high uniformity and a small deviation in pit diameter.
Therefore, an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor having a large capacitance per unit area can be obtained.

【0073】その際、アルミニウム箔が通過するエッチ
ング槽の水素イオン濃度を、アルミニウム箔の進行方向
に対し、前工程のエッチング槽の水素イオン濃度が、後
工程のエッチング槽の水素イオン濃度に比べて等しい
か、あるいはより高くなるように制御すると、より一層
単位面積あたりの静電容量の大きい電解コンデンサ用ア
ルミニウム電極箔が得られる。
At this time, the hydrogen ion concentration in the etching tank through which the aluminum foil passes is set so that the hydrogen ion concentration in the etching tank in the preceding process is higher than that in the etching tank in the following process with respect to the traveling direction of the aluminum foil. By controlling so as to be equal or higher, an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor having a larger electrostatic capacity per unit area can be obtained.

【0074】また、水素イオン濃度の制御は、供給する
酸性水溶液の水素イオン濃度の制御により行うことで、
容易にそれぞれの槽の水素イオン濃度を調整できる。さ
らに、上述のように水素イオン濃度を各エッチング槽で
個別に制御することで、硫酸、しゅう酸、りん酸のうち
の少なくとも1つ以上の酸を添加した際に、酸の陰イオ
ンがアルミニウム箔の表面に被膜を形成することから、
エッチングの進行に伴なうアルミニウム箔表面付近のエ
ッチング過剰を防ぐことができ、ポーラス構造を破壊す
ることなく表面積を大きくし、静電容量を増やすことが
できる。
The control of the hydrogen ion concentration is performed by controlling the hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution to be supplied,
The hydrogen ion concentration in each tank can be easily adjusted. Further, by individually controlling the hydrogen ion concentration in each etching tank as described above, when at least one acid of sulfuric acid, oxalic acid, and phosphoric acid is added, the anion of the acid is an aluminum foil. Since a film is formed on the surface of
Excessive etching near the surface of the aluminum foil due to the progress of etching can be prevented, the surface area can be increased and the capacitance can be increased without destroying the porous structure.

【0075】上記のように製造された電解コンデンサ用
アルミニウム電極箔は、過剰なエッチングを無くし、ポ
ーラス構造が破壊されるのを防ぐため、アルミニウム箔
の強度を損なうことなく表面積を大きくすることができ
る。このような電解コンデンサ用アルミニウム箔は、特
に低圧用の電解コンデンサに好適に使用できる。
The aluminum electrode foil for electrolytic capacitors manufactured as described above eliminates excessive etching and prevents destruction of the porous structure, so that the surface area can be increased without impairing the strength of the aluminum foil. . Such an aluminum foil for electrolytic capacitors can be suitably used especially for low voltage electrolytic capacitors.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(実施の形態1)におけるエッチング装置の構
成図
FIG. 1 is a configuration diagram of an etching apparatus in (Embodiment 1)

【図2】(実施の形態1)におけるエッチング装置の要
部拡大図
FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the etching apparatus according to (Embodiment 1).

【図3】実施例1においてエッチングされたアルミニウ
ム箔の平面および断面の状態を示す顕微鏡写真
FIG. 3 is a micrograph showing a state of a plane and a cross section of an aluminum foil etched in Example 1.

【図4】(実施の形態2)におけるエッチング装置の構
成を示す図
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of an etching apparatus in (Embodiment 2).

【図5】従来のエッチング装置の構成図FIG. 5 is a block diagram of a conventional etching apparatus

【図6】比較例1においてエッチングされたアルミニウ
ム箔の平面および断面の状態を示す顕微鏡写真
FIG. 6 is a micrograph showing a state of a plane and a cross section of an aluminum foil etched in Comparative Example 1.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 エッチング槽 2 アルミニウム箔 3 酸性水溶液 7 センサ 8 バルブ 9 コントローラ 1 etching tank 2 Aluminum foil 3 acidic aqueous solution 7 sensors 8 valves 9 Controller

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 克之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 小島 浩一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平11−283874(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01G 13/00 371 H01G 9/04 304 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Katsuyuki Nakamura 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Koichi Kojima 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) Reference JP-A-11-283874 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01G 13/00 371 H01G 9/04 304

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 酸性水溶液の入ったエッチング槽にアル
ミニウム箔を流し、アルミニウム箔に電圧を印加してエ
ッチングを行い、前記アルミニウム箔上にピットを形成
して電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を製造するに
際し、 エッチング槽を複数設け、前記複数のエッチング槽をア
ルミニウム箔が順次通過し、前記エッチング槽に入った
酸性水溶液の各水素イオン濃度を、それぞれのエッチン
グ槽で独立して制御してエッチングを実行する電解コン
デンサ用アルミニウム電極箔の製造方法。
1. When manufacturing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor by flowing an aluminum foil into an etching tank containing an acidic aqueous solution, applying a voltage to the aluminum foil to perform etching, and forming pits on the aluminum foil. , A plurality of etching tanks are provided, the aluminum foil sequentially passes through the plurality of etching tanks, and each hydrogen ion concentration of the acidic aqueous solution in the etching tanks is independently controlled in each etching tank to perform etching. Manufacturing method of aluminum electrode foil for electrolytic capacitors.
【請求項2】 アルミニウム箔が通過するエッチング槽
の水素イオン濃度を、アルミニウム箔の進行方向に対
し、前工程のエッチング槽の水素イオン濃度が、後工程
のエッチング槽の水素イオン濃度に比べて等しいか、あ
るいはより高くなるように制御する請求項1記載の電解
コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法。
2. The hydrogen ion concentration of the etching tank through which the aluminum foil passes is equal to the hydrogen ion concentration of the etching tank of the subsequent step in the traveling direction of the aluminum foil as compared with the hydrogen ion concentration of the etching tank of the subsequent step. The method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the aluminum electrode foil is controlled to be higher or higher.
【請求項3】 水素イオン濃度の制御は、酸性水溶液の
供給と排出をそれぞれのエッチング槽で独立して行う請
求項1または請求項2記載の電解コンデンサ用アルミニ
ウム電極箔の製造方法。
3. The method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the hydrogen ion concentration is controlled by independently supplying and discharging the acidic aqueous solution in each etching tank.
【請求項4】 水素イオン濃度の制御は、アルミニウム
箔の進行方向に対し、最終工程のエッチング槽に酸性水
溶液を供給し、前側の工程のエッチング槽に順次オーバ
ーフローさせ、同時に前工程のエッチング槽に後工程の
酸性水溶液よりも水素イオン濃度の濃い酸性水溶液を追
加供給して行う請求項1または請求項2記載の電解コン
デンサ用アルミニウム電極箔の製造方法。
4. The control of the hydrogen ion concentration is performed by supplying an acidic aqueous solution to the etching bath of the final step in the traveling direction of the aluminum foil and causing the acidic bath to sequentially overflow into the etching bath of the front step, and at the same time to the etching bath of the previous step. The method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor according to claim 1 or 2, wherein an acidic aqueous solution having a hydrogen ion concentration higher than that of the acidic aqueous solution in the subsequent step is additionally supplied.
【請求項5】 酸性水溶液として、塩酸を用いて水素イ
オン濃度を制御する請求項1から請求項4のいずれかに
記載の電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方
法。
5. The method for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the hydrogen ion concentration is controlled by using hydrochloric acid as the acidic aqueous solution.
【請求項6】 酸性水溶液として、塩酸を主成分とし、
その他に添加剤として硫酸、しゅう酸、りん酸のうちの
少なくとも1つ以上の酸を添加した酸性水溶液を用いて
水素イオン濃度を制御する請求項1から請求項4のいず
れかに記載の電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製
造方法。
6. An acidic aqueous solution containing hydrochloric acid as a main component,
5. The electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the hydrogen ion concentration is controlled by using an acidic aqueous solution containing at least one acid selected from sulfuric acid, oxalic acid and phosphoric acid as an additive. For manufacturing aluminum electrode foil for automobiles.
【請求項7】 請求項1から請求項6のいずれかに記載
の方法によって製造された電解コンデンサ用アルミニウ
ム電極箔。
7. An aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor, which is produced by the method according to any one of claims 1 to 6.
【請求項8】 酸性水溶液の入ったエッチング槽にアル
ミニウム箔を流し、アルミニウム箔に電圧を印加してエ
ッチングを行い、前記アルミニウム箔上にピットを形成
した電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を製造するエ
ッチング装置であって、 前記エッチング槽に水素イオン濃度を検知するセンサー
を設け、 前記エッチング槽に供給する酸性水溶液の量を増減させ
る流量調節手段を設け、 前記センサーにより検出された水素イオン濃度に基づい
て前記流量調節手段を制御するコントローラにフィード
バックしてエッチング槽の水素イオン濃度を任意に制御
する制御装置を設けたエッチング装置。
8. An etching apparatus for producing an aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor, wherein an aluminum foil is flown into an etching tank containing an acidic aqueous solution, a voltage is applied to the aluminum foil to perform etching, and pits are formed on the aluminum foil. A sensor for detecting the hydrogen ion concentration is provided in the etching tank, and a flow rate adjusting means for increasing or decreasing the amount of the acidic aqueous solution supplied to the etching tank is provided, and the hydrogen ion concentration is detected based on the hydrogen ion concentration detected by the sensor. An etching apparatus provided with a control device that feeds back to a controller that controls a flow rate adjusting means to arbitrarily control the hydrogen ion concentration in an etching tank.
【請求項9】 制御装置を、アルミニウム箔の進行方向
に対し、前工程のエッチング槽の水素イオン濃度が後工
程のエッチング槽の水素イオン濃度に比べて等しいかあ
るいはより高くなるように制御するよう構成した請求項
8記載のエッチング装置。
9. The control device is controlled so that the hydrogen ion concentration in the etching tank in the previous step is equal to or higher than the hydrogen ion concentration in the etching tank in the subsequent step in the traveling direction of the aluminum foil. 9. The etching apparatus according to claim 8, which is configured.
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