JP3398181B2 - Method for producing polyphenols and method for producing condensate of polyphenols - Google Patents

Method for producing polyphenols and method for producing condensate of polyphenols

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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は耐熱性、耐湿性、靭性、
電気特性等に優れたポリフェノール類の製造法、ポリフ
ェノール類の縮合体の製造法に関する。
The present invention relates to heat resistance, moisture resistance, toughness,
Excellent preparation of polyphenols such as electric characteristics, relates to the preparation of condensates of polyphenols.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、電子産業を中心として科学技術が
急速な進歩を遂げているが、なかでも半導体関連技術あ
るいは積層板などの進歩はめざましいものがある。
2. Description of the Related Art Recently, science and technology have been making rapid progress mainly in the electronics industry, but in particular, semiconductor-related technologies and laminated plates have progressed remarkably.

【0003】半導体はメモリーの集積度の増加に伴い、
配線の微細化とチップの薄膜化が進んでいるが、集積度
の向上とともに、実装方法もまたスルーホール実装から
表面実装へと移行している。
With the increase in the degree of integration of memory in semiconductors,
Although wiring is becoming finer and chips are becoming thinner, the mounting method is also shifting from through-hole mounting to surface mounting as the degree of integration is improved.

【0004】表面実装の自動化ラインではリード線の半
田付けの際に半導体パッケージが急激な温度変化を受
け、樹脂成形部にクラックが生じたり、リード線−樹脂
間の界面が劣化し、半導体パッケージの耐湿性が低下す
るという問題がある。
In an automated surface mounting line, the semiconductor package undergoes a rapid temperature change during soldering of the lead wire, cracks occur in the resin molding portion, and the interface between the lead wire and the resin deteriorates. There is a problem that the moisture resistance decreases.

【0005】前述の問題を解決するため半導体パッケー
ジを半田浴に浸漬した時の熱衝撃を緩和する目的で、シ
リコーン化合物の添加、熱可塑性オリゴマーの添加ある
いはシリコーン変性などの方法が提案されているが、い
ずれの方法も半田浸漬後、成形物にクラックが生じてし
まい、信頼性のある半導体封止用樹脂組成物が得られる
には至っていない。
In order to solve the above-mentioned problems, methods such as addition of a silicone compound, addition of a thermoplastic oligomer, or silicone modification have been proposed for the purpose of mitigating thermal shock when the semiconductor package is immersed in a solder bath. However, in any of the methods, a crack is generated in the molded product after dipping the solder, and a reliable resin composition for semiconductor encapsulation cannot be obtained.

【0006】半導体樹脂組成物には、エポキシ樹脂と組
み合わせたフェノール樹脂がしばしば用いられており、
該フェノール樹脂としては一般にノボラックフェノール
樹脂やノボラッククレゾール樹脂が使用されている。し
かし前記フェノール樹脂を用いた場合、半導体パッケー
ジの吸湿性が強く、その結果として前述のように半田浴
浸漬時にクラックの発生が避けられないという問題があ
る。そこで最近では、半導体封止用樹脂の耐熱性を改善
するために、例えば、耐湿性に優れたフェノール樹脂と
して、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂が提案
されている(特開昭62−201922号公報)。しか
し、前記ジシクロペンタジエン変性物は耐湿性は優れる
ものの、架橋密度が低いため満足できる耐熱性が得られ
ないという問題がある。
Phenolic resins are often used in combination with epoxy resins in semiconductor resin compositions,
As the phenol resin, novolac phenol resin or novolac cresol resin is generally used. However, when the above-mentioned phenol resin is used, the hygroscopicity of the semiconductor package is strong, and as a result, there is a problem that cracks cannot be avoided when the solder bath is immersed. Therefore, recently, in order to improve the heat resistance of the resin for semiconductor encapsulation, for example, a dicyclopentadiene-modified phenol resin has been proposed as a phenol resin having excellent moisture resistance (Japanese Patent Laid-Open No. 62-201922). . However, although the above-mentioned dicyclopentadiene-modified product has excellent moisture resistance, there is a problem that satisfactory heat resistance cannot be obtained because of its low crosslink density.

【0007】高速電子機器の分野においては近年、電子
素子の高密度化、信号の高速化、高周波数化に伴い信号
の遅延と装置の発熱が問題になっている。信号の遅延時
間は比誘電率の平方根に比例して大きくなるため、高速
電子機器のプリント配線板としては、誘電率の低いもの
が求められている。一般に広く用いられているガラス布
を基材とする積層板は誘電率が4.5〜5.0とかなり
大きく、高速電子機器用、高周波機器用としては不十分
である。そこで誘電率を低くするために、ポリエチレ
ン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフェニレンオキ
サイド、ポリスルフォンなどを用いた積層板が開発され
ている。しかしながら、これらは熱可塑性樹脂であるた
め、強度または半田耐熱性等が十分でないという問題が
ある。
In the field of high-speed electronic equipment, signal delay and heat generation of the device have become a problem in recent years as the density of electronic elements increases, the speed of signals increases, and the frequency increases. Since the signal delay time increases in proportion to the square root of the relative dielectric constant, a printed wiring board for high-speed electronic equipment having a low dielectric constant is required. Laminates having a glass cloth as a base material, which are widely used in general, have a considerably large dielectric constant of 4.5 to 5.0 and are insufficient for high-speed electronic devices and high-frequency devices. Therefore, in order to lower the dielectric constant, a laminated plate using polyethylene, polytetrafluoroethylene, polyphenylene oxide, polysulfone, or the like has been developed. However, since these are thermoplastic resins, there is a problem that strength, solder heat resistance, etc. are not sufficient.

【0008】エポキシ樹脂積層板は一般的にはノボラッ
クエポキシ樹脂を主成分とし、難燃化を目的として臭素
化エポキシ樹脂を配合して製造されている。誘電率は一
般的に使用するエポキシ樹脂の構造に起因するが、組み
合わせる硬化剤によっても大きく変動する。
Epoxy resin laminates are generally manufactured by incorporating a novolac epoxy resin as a main component and a brominated epoxy resin for the purpose of flame retardancy. Although the dielectric constant is generally due to the structure of the epoxy resin used, it also varies greatly depending on the curing agent combined.

【0009】エポキシ樹脂積層板は、通常、硬化剤とし
てジシアンジアミドが使用されている。しかし、この硬
化剤を用いると得られる基板の誘電率が悪くなるだけで
なく、耐湿性も著しく悪くなるという問題がある。そこ
で、近年、これをフェノール樹脂に代替し、これらの特
性を改善しようという検討が行われているが、ノボラッ
クフェノール樹脂やノボラッククレゾール樹脂のような
通常のフェノール樹脂では、耐湿性、誘電特性および耐
熱性の特性を全て満足するような積層板は得られていな
いのが現状である。この際一般的にノボラックフェノー
ル樹脂の架橋密度を高め耐熱性を向上させる方法とし
て、核体数を高める方法が採用されるが、吸湿性が高ま
り、耐湿性が低下し、また脆さが顕著になり靭性の低下
が生じるという欠点がある。
Dicyandiamide is usually used as a curing agent for epoxy resin laminates. However, when this curing agent is used, not only the dielectric constant of the obtained substrate deteriorates but also the moisture resistance remarkably deteriorates. Therefore, in recent years, studies have been conducted to replace them with phenolic resins to improve their properties.However, ordinary phenolic resins such as novolac phenolic resins and novolac cresol resins have moisture resistance, dielectric properties and heat resistance. At present, there is no laminated plate satisfying all the characteristics of the property. At this time, generally, as a method for increasing the crosslink density of the novolac phenol resin and improving the heat resistance, a method of increasing the number of nuclei is adopted, but the hygroscopicity is increased, the moisture resistance is reduced, and the brittleness is remarkable. However, there is a drawback that the toughness is deteriorated.

【0010】したがって、高速電子機器用、高周波機器
用に適したプリント基板を製造するためには、新たなフ
ェノール樹脂を開発し、これをエポキシ樹脂と組み合わ
せることにより、前記各特性を満足させることが求めら
れている。
Therefore, in order to manufacture a printed circuit board suitable for high-speed electronic equipment and high-frequency equipment, it is necessary to develop a new phenol resin and combine it with an epoxy resin to satisfy the above-mentioned respective characteristics. It has been demanded.

【0011】更に電気絶縁材料、繊維強化複合材料、塗
装材料、成型材料、接着材料等においても同様に耐湿
性、接着性、耐熱性等を改善するため、従来品の欠点を
改良したエポキシ樹脂組成物の開発が望まれている。
Further, in the case of electrical insulating materials, fiber reinforced composite materials, coating materials, molding materials, adhesive materials, etc., the epoxy resin composition which has the disadvantages of the conventional products improved in order to similarly improve the moisture resistance, adhesiveness, heat resistance and the like. Development of things is desired.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低吸
湿性を保持しつつ、立体障害が少なく、架橋速度の大き
いポリフェノール類又はその縮合体の製造法を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for producing a polyphenol or a condensate thereof having a low hygroscopicity, a small steric hindrance and a high crosslinking rate.

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、ブタジ
エン、イソプレン、ピペリレン又はこれらの混合物と、
炭素数6〜12のフェノール類とを反応させて得られる
二量体のモノフェノキシ体を、酸触媒の存在下、炭素数
6〜12のフェノール類を反応させることを特徴とする
ポリフェノール類の製造法が提供される。
According to the invention, butadiene, isoprene, piperylene or mixtures thereof,
Production of polyphenols characterized by reacting a dimer monophenoxy compound obtained by reacting with a C6-12 phenol with a C6-12 phenol in the presence of an acid catalyst. Law is provided.

【0016】また本発明によれば、オクタトリエンおよ
び/またはジメチルオクタトリエンを、酸触媒の存在
下、炭素数6〜12のフェノール類と反応させることを
特徴とするポリフェノール類の製造法が提供される。
The present invention also provides a method for producing polyphenols, which comprises reacting octatriene and / or dimethyloctatriene with phenols having 6 to 12 carbon atoms in the presence of an acid catalyst. It

【0017】更に本発明によれば、前記各製造法により
得られるポリフェノール類と、炭素数1〜12のケトン
類またはアルデヒド類とを、酸触媒の存在下、縮合反応
させることを特徴とするポリフェノール類の縮合体の製
造法が提供される。
Further, according to the present invention, the polyphenol obtained by each of the above-mentioned production methods and a ketone or an aldehyde having 1 to 12 carbon atoms are subjected to a condensation reaction in the presence of an acid catalyst. Methods of making condensates of the class are provided.

【0018】更にまた本発明によれば、前記各製造法に
より得られるポリフェノール類5〜95重量%及び炭素
数6〜12のフェノール類95〜5重量%の混合物と、
炭素数1〜12のケトン類またはアルデヒド類とを、酸
触媒の存在下、縮合反応させることを特徴とするポリフ
ェノール類の縮合体の製造法が提供される。
Furthermore, according to the present invention, a mixture of 5 to 95% by weight of polyphenols and 95 to 5% by weight of phenols having 6 to 12 carbon atoms obtained by each of the above production methods,
Provided is a method for producing a polyphenol condensate, which comprises subjecting a ketone or an aldehyde having 1 to 12 carbon atoms to a condensation reaction in the presence of an acid catalyst.

【0019】[0019]

【0020】[0020]

【0021】[0021]

【0022】以下本発明を更に詳細に説明する。The present invention will be described in more detail below.

【0023】本発明のポリフェノール類の製造法は、特
定のモノフェノキシ体を、酸触媒の存在下、炭素数6〜
12のフェノール類と反応させる(以下第1の製造法と
称す)か、若しくはオクタトリエン及び/又はジメチル
オクタトリエンを、酸触媒の存在下、炭素数6〜12の
フェノール類と反応させる(以下第2の製造法と称す)
方法である。
The method for producing polyphenols of the present invention is a method for producing a specific monophenoxy compound in the presence of an acid catalyst having 6 to 6 carbon atoms.
12 phenols (hereinafter referred to as the first production method) or octatriene and / or dimethyloctatriene are reacted with C 6-12 phenols in the presence of an acid catalyst (hereinafter referred to as 2)
Is the way.

【0024】前記第1の製造法における特定のモノフェ
ノキシ体は、ブタジエン、イソプレン、ピペリレン又は
これらの混合物(以下適宜二量体成分と称す)と、炭素
数6〜12のフェノール類とを反応させることにより得
ることができる。該反応は例えば、(株)講談社編、大
河原信編集、1976年発行「オリゴマー」58頁およ
びR,BaKer,Chemical Review,73(5),487(1973)等に記載
の公知のテロメル化反応等により行なうことができる。
具体的には、ニッケル、パラジウム、白金、コバルト、
ロジウム、イリジウム、鉄、チタンまたはハフニウム等
の金属触媒の存在下、ブタジエン、イソプレンまたはピ
ペリレンと、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾ
ール、p−クレゾール、ジエチルフェノール、ヒドロキ
ノン、カテコール、レゾルシン、ピロガロール、α,β
−ナフトール、ビスフェノールA、ジヒドロキシビフェ
ニル等の炭素数6〜12のフェノール類とを、好ましく
は30〜150℃で、0.5〜5時間テロメル化反応さ
せることにより製造できる。この際前記ブタジエン、イ
ソプレンまたはピペリレンと炭素数6〜12のフェノー
ル類との仕込み量は、重量比で1:1〜1:10である
のが好ましい。またブタジエン、イソプレンまたはピペ
リレンの二量化を選択的に行うために、配位子としてト
リフェニルホスフィン等のホスフィン類、アミン類を使
用することが好ましく、更に反応にあたっては反応に影
響を及ぼさない溶剤、具体的にはベンゼン、トルエン、
キシレン等を使用することもできる。
The specific monophenoxy compound in the first production method is obtained by reacting butadiene, isoprene, piperylene or a mixture thereof (hereinafter appropriately referred to as a dimer component) with a phenol having 6 to 12 carbon atoms. Can be obtained. The reaction is, for example, a known telomerization reaction described in Kodansha, edited by Shin Okawara, 1976, "Oligomer", page 58, and R, BaKer, Chemical Review, 73 (5), 487 (1973). Can be done by.
Specifically, nickel, palladium, platinum, cobalt,
In the presence of a metal catalyst such as rhodium, iridium, iron, titanium or hafnium, butadiene, isoprene or piperylene and phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, diethylphenol, hydroquinone, catechol, resorcin, pyrogallol, α , Β
-Phenols having 6 to 12 carbon atoms such as naphthol, bisphenol A and dihydroxybiphenyl can be produced by telomerization reaction at preferably 30 to 150 ° C for 0.5 to 5 hours. At this time, the amount of the butadiene, isoprene or piperylene and the phenol having 6 to 12 carbon atoms to be charged is preferably 1: 1 to 1:10 in weight ratio. Further, in order to selectively carry out the dimerization of butadiene, isoprene or piperylene, it is preferable to use a phosphine such as triphenylphosphine as a ligand, an amine, and a solvent that does not affect the reaction in the reaction, Specifically, benzene, toluene,
Xylene or the like can also be used.

【0025】前記反応により得られる二量体のモノフェ
ノキシ体としては、例えば、1−フェノキシ−2,7−
オクタジエン、3−フェノキシ−1,7−オクタジエ
ン、3−フェノキシジメチルオクタジエン、フェノキシ
メチルオクタジエン等を挙げることができるが、次の反
応に供するには、環状のものを含んでいても良いが、好
ましくは得られるポリフェノール類の硬化性を向上させ
るために鎖状のモノフェノキシ体を用いるのが望まし
い。また前記反応においては、モノフェノキシ体の他に
少量の1,3,7−オクタトリエン、ジメチルオクタト
リエン等が生成するが、公知の精製法により分離するこ
とができる。
Examples of the dimeric monophenoxy compound obtained by the above reaction include 1-phenoxy-2,7-
Octadiene, 3-phenoxy-1,7-octadiene, 3-phenoxydimethyloctadiene, phenoxymethyloctadiene and the like can be mentioned, but for use in the next reaction, a cyclic one may be included, It is preferable to use a chain monophenoxy compound in order to improve the curability of the obtained polyphenols. In addition, in the above reaction, a small amount of 1,3,7-octatriene, dimethyloctatriene and the like are produced in addition to the monophenoxy compound, which can be separated by a known purification method.

【0026】一方前記第2の製造法に用いるオクタトリ
エン、ジメチルオクタトリエンを調製するには、例えば
アルコール、フェノール等の活性水素溶剤が存在しない
系において、前記テロメル化反応と同様の金属触媒の存
在下、ブタジエン、イソプレンまたはピペリレンを二量
化する方法(以下、「オリゴメル化反応」と称す)等に
より得ることができ、具体的には前記文献に記載の方法
で製造できる。また前記オリゴメル化反応以外の方法と
しては、ブタジエン、イソプレンまたはピペリレンを、
熱反応、ラジカル反応、カチオン重合等の公知の反応に
より鎖状に二量化することによって得ることもできる。
次の反応に供するオクタトリエン、ジメチルオクタトリ
エンは、環状のものを含んでいても良いが、得られるポ
リフェノール類の硬化性を向上させるために鎖状のもの
を使用するのが好ましい。
On the other hand, in order to prepare octatriene and dimethyloctatriene used in the second production method, the presence of a metal catalyst similar to that in the telomerization reaction is used in a system in which an active hydrogen solvent such as alcohol or phenol is not present. It can be obtained by, for example, a method of dimerizing butadiene, isoprene or piperylene (hereinafter referred to as "oligomerization reaction") and the like, and specifically can be produced by the method described in the above-mentioned document. Further, as a method other than the oligomerization reaction, butadiene, isoprene or piperylene,
It can also be obtained by chain-like dimerization by a known reaction such as thermal reaction, radical reaction or cationic polymerization.
The octatriene and dimethyloctatriene used in the next reaction may include cyclic ones, but it is preferable to use chain ones in order to improve the curability of the obtained polyphenols.

【0027】次に前記第1の方法では前記モノフェノキ
シ体を、前記第2の製造法では前記オクタトリエン及び
/又はジメチルオクタトリエンを、酸触媒の存在下、炭
素数6〜12のフェノール類と反応(以下、「アルキル
化反応」という)させることにより目的のポリフェノー
ル類を製造することができる。
Next, in the first method, the monophenoxy compound is used, and in the second production method, the octatriene and / or dimethyloctatriene is used in the presence of an acid catalyst to obtain phenols having 6 to 12 carbon atoms. The reaction (hereinafter referred to as “alkylation reaction”) can produce the target polyphenols.

【0028】前記第1及び第2の方法に用いる酸触媒と
しては、硫酸等の無機酸;p−トルエンスルホン酸、メ
タンスルホン酸等の炭素数1〜10のアルカンスルホン
酸;トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢
酸、陰イオン交換樹脂、AlCl3、三フッ化ホウ素等
を挙げることができ、特に活性および後処理の容易さか
ら、三フッ化ホウ素系触媒、具体的には三フッ化ホウ素
フェノール錯体、三フッ化ホウ素エーテル錯体、三フッ
化ホウ素アミン錯体等が好ましい。前記酸触媒の使用量
は、触媒の種類、目的により異なるが、例えば、三フッ
化ホウ素フェノール錯体の場合、原料の二量体成分10
0重量部に対し、通常0.1〜15重量部、好ましくは
1〜8重量部である。
As the acid catalyst used in the first and second methods, inorganic acids such as sulfuric acid; alkanesulfonic acids having 1 to 10 carbon atoms such as p-toluenesulfonic acid and methanesulfonic acid; trifluoromethanesulfonic acid, Examples thereof include trifluoroacetic acid, anion exchange resin, AlCl 3 , and boron trifluoride. Particularly, the boron trifluoride-based catalyst, specifically, boron trifluoride phenol complex is used because of its activity and ease of post-treatment. , Boron trifluoride ether complex, boron trifluoride amine complex and the like are preferable. The amount of the acid catalyst used varies depending on the type of the catalyst and the purpose. For example, in the case of a boron trifluoride phenol complex, the dimer component 10 of the raw material is used.
It is usually 0.1 to 15 parts by weight, preferably 1 to 8 parts by weight, relative to 0 parts by weight.

【0029】前記炭素数6〜12のフェノール類として
は、前記テロメル化反応において列挙した化合物と同様
な化合物等を列挙することができる。
Examples of the phenols having 6 to 12 carbon atoms include the same compounds as those listed in the telomerization reaction.

【0030】前記モノフェノキシ体、若しくはオクタト
リエンおよび/またはジメチルオクタトリエンと、炭素
数6〜12のフェノール類との仕込みモル比は、1:2
〜1:20が好ましく、目的に応じ適宜選択することが
望ましい。
The molar ratio of the monophenoxy compound or octatriene and / or dimethyloctatriene to the phenols having 6 to 12 carbon atoms is 1: 2.
The ratio is preferably from about 1:20, and is appropriately selected depending on the purpose.

【0031】前記アルキル化反応は、触媒の種類により
反応条件が異なるが、反応温度は通常10〜170℃、
好ましくは50〜150℃、反応時間は1〜5時間の範
囲で行なうのが望ましい。更に反応に当たっては、反応
に影響を及ぼさない範囲で、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロロベンゼン等の溶媒を使用することもでき
る。
Although the reaction conditions of the alkylation reaction differ depending on the type of catalyst, the reaction temperature is usually 10 to 170 ° C.,
It is desirable to carry out the reaction at 50 to 150 ° C. for 1 to 5 hours. Further, in the reaction, a solvent such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene or the like can be used as long as it does not affect the reaction.

【0032】前記アルキル化反応の酸触媒の除去は、公
知慣用の方法で実施できる。具体的には水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム水溶液による失活と水洗により触媒
を除去できる。また、水酸化カルシウム、酸化マグネシ
ウムで失活後、濾過する方法も好ましい。
The removal of the acid catalyst in the alkylation reaction can be carried out by a known and conventional method. Specifically, the catalyst can be removed by deactivating with an aqueous solution of sodium hydroxide or potassium hydroxide and washing with water. A method of deactivating with calcium hydroxide or magnesium oxide and then filtering is also preferable.

【0033】本発明のポリフェノール類の製造法で得ら
れるポリフェノールの数平均分子量は296〜150
0、軟化点は70〜120℃、水酸基当量は130〜1
85g/eqであるのが好ましい。
The polyphenol obtained by the method for producing polyphenols of the present invention has a number average molecular weight of 296 to 150.
0, the softening point is 70 to 120 ° C., the hydroxyl equivalent is 130 to 1
It is preferably 85 g / eq.

【0034】本発明のポリフェノール類の縮合体の製造
法は、前記第1の製造法又は第2の製造法により得られ
るポリフェノール類と、炭素数1〜12のアルデヒド類
またはケトン類とを、酸触媒の存在下、縮合反応させる
(以下第3の製造法と称す)か、前記第1の製造法又は
第2の製造法により得られるポリフェノール類5〜95
重量%及び炭素数6〜12のフェノール類95〜5重量
%の混合物と、炭素数1〜12のアルデヒド類またはケ
トン類とを、酸触媒の存在下、縮合反応させる(以下第
4の製造法と称す)方法である。
The method for producing a condensate of polyphenols of the present invention is a method in which the polyphenols obtained by the first production method or the second production method and aldehydes or ketones having 1 to 12 carbon atoms are treated with an acid. Polyphenols 5 to 95 obtained by a condensation reaction (hereinafter referred to as a third production method) in the presence of a catalyst or obtained by the first production method or the second production method.
And a mixture of 95% to 5% by weight of phenols having 6 to 12 carbon atoms and an aldehyde or ketone having 1 to 12 carbon atoms are subjected to a condensation reaction in the presence of an acid catalyst (hereinafter referred to as the fourth production method). Method).

【0035】前記第3及び第4の製造法において用いる
炭素数1〜12のアルデヒド類としては、例えばホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、
ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベン
ズアルデヒド等を挙げることができ、また炭素数1〜1
2のケトン類としては、例えばアセトン、2−ブタノ
ン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等を挙げること
ができる。
Examples of the aldehydes having 1 to 12 carbon atoms used in the third and fourth production methods include formaldehyde, acetaldehyde, propylaldehyde,
Butyraldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde and the like can be mentioned, and the carbon number is 1 to 1.
Examples of the ketones of 2 include acetone, 2-butanone, cyclohexanone, and acetophenone.

【0036】前記第3の製造法において、ポリフェノー
ル類と、炭素数1〜12のアルデヒド類またはケトン類
との仕込み当量比は、目的に応じて異なるが、通常は
1:1〜20:1であるのが望ましい。
In the third production method, the charging equivalent ratio of the polyphenols and the aldehydes or ketones having 1 to 12 carbon atoms is different depending on the purpose, but is usually 1: 1 to 20: 1. It is desirable to have.

【0037】また前記第4の製造法における炭素数6〜
12のフェノール類としては、前記第1及び第2の製造
法において列挙したものと同様な化合物等を好ましく挙
げることができる。この際ポリフェノール類及び炭素数
6〜12のフェノール類の混合物と、炭素数1〜12の
アルデヒド類またはケトン類との仕込み当量比は、目的
に応じて異なるが、通常は1:1〜20:1であるのが
望ましい。前記第4の製造法における縮合反応では、ポ
リフェノール類とともに炭素数6〜12のフェノール類
が、ケトン類またはアルデヒド類と反応するため、フェ
ノール性水酸基の含量は大きく変化する。したがって、
製造に際しては目的に応じて、フェノール性水酸基の含
量を考慮して実施するのが好ましい。また第4の製造法
においては、前記第1及び第2の製造法によりポリフェ
ノール類を製造した後、酸触媒、未反応の炭素数6〜1
2のフェノール類、溶剤等を除去することなく、前記炭
素数1〜12のアルデヒド類またはケトン類を添加して
縮合反応させることもできる。
The carbon number of 6 to 6 in the fourth manufacturing method is also used.
Preferable examples of 12-phenols include the same compounds as listed in the first and second production methods. At this time, the charging equivalent ratio of the mixture of polyphenols and phenols having 6 to 12 carbon atoms and the aldehydes or ketones having 1 to 12 carbon atoms varies depending on the purpose, but is usually 1: 1 to 20: A value of 1 is desirable. In the condensation reaction in the fourth production method, the polyphenols and the phenols having 6 to 12 carbon atoms react with the ketones or the aldehydes, so that the content of the phenolic hydroxyl group greatly changes. Therefore,
It is preferable to carry out the production in consideration of the content of the phenolic hydroxyl group depending on the purpose. Further, in the fourth production method, after the polyphenols are produced by the first and second production methods, an acid catalyst and an unreacted carbon number of 6 to 1 are used.
It is also possible to add the aldehydes or ketones having 1 to 12 carbon atoms and carry out the condensation reaction without removing the phenols of 2, the solvent and the like.

【0038】前記第3及び第4の製造法における酸触媒
としては、前記第1及び第2の製造法において列挙した
ものと同様な化合物、更には蓚酸等の有機酸、塩酸等の
無機酸等を使用することができる。酸触媒の使用量は、
ポリフェノール類100重量部に対して、0.1〜15
重量部、特に1〜8重量部であるのが好ましい。
As the acid catalyst in the third and fourth production methods, the same compounds as those listed in the first and second production methods, organic acids such as oxalic acid, inorganic acids such as hydrochloric acid and the like can be used. Can be used. The amount of acid catalyst used is
0.1 to 15 per 100 parts by weight of polyphenols
It is preferably about 1 to 8 parts by weight, especially 1 to 8 parts by weight.

【0039】前記第3及び第4の製造法における反応条
件は、触媒の種類により異なるが、好ましくは反応温度
40〜170℃、特に好ましくは50〜150℃で、1
〜5時間反応させるのが望ましい。また反応に当たって
は必要に応じて溶媒を使用することもでき、該溶剤とし
ては、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエー
テル等のエーテル類、酢酸エチルセロソルブ等のエステ
ル類等を挙げることができる。更に反応を円滑に行なう
ために、反応時に生成する水を除去するのが好ましい。
The reaction conditions in the third and fourth production methods differ depending on the kind of the catalyst, but the reaction temperature is preferably 40 to 170 ° C., particularly preferably 50 to 150 ° C.
It is desirable to react for ~ 5 hours. Further, in the reaction, a solvent may be used if necessary, and as the solvent, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone,
Examples thereof include ethers such as diethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether, and esters such as ethyl acetate cellosolve. Further, in order to carry out the reaction smoothly, it is preferable to remove water produced during the reaction.

【0040】前記縮合反応の酸触媒の除去は、前記アル
キル化反応における酸触媒の除去と同様に行なうことが
できる。
The removal of the acid catalyst in the condensation reaction can be carried out in the same manner as the removal of the acid catalyst in the alkylation reaction.

【0041】前記第3及び第4の製造法で得られる縮合
体の数平均分子量は、402〜2500、軟化点78〜
150℃、水酸基当量124〜250g/eqであるの
が好ましい。
The number average molecular weight of the condensate obtained by the third and fourth production methods is 402 to 2500, and the softening point is 78 to
It is preferably 150 ° C. and the hydroxyl equivalent is 124 to 250 g / eq.

【0042】本発明のポリフェノール類及びポリフェノ
ール類の縮合体は、例えばエピクロヒドリン等でエポキ
シ化したエポキシ樹脂として積層板、封止材等の主樹脂
として利用することもできる他、ナフトキノンジアジド
スルフォニルクロリド等で変性し、ポジ型レジストとし
て使用することもできる。
The polyphenols and the condensates of polyphenols of the present invention can be used as a main resin for laminates, encapsulants, etc., as an epoxy resin epoxidized with epichlorohydrin, etc., and also with naphthoquinone diazide sulfonyl chloride, etc. It can be modified and used as a positive resist.

【0043】前記第1〜4の製造法で得られるポリフェ
ノール類及び/又はポリフェノールの縮合体及びエポキ
シ樹脂を必須成分として用いてエポキシ樹脂組成物を得
ることができる。
Polyphenols and / or polyphenol condensates and epoxies obtained by the above-mentioned first to fourth production methods
To obtain an epoxy resin composition using a resin as an essential component
You can

【0044】前記エポキシ樹脂組成物において用いるエ
ポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールAジグリシ
ジルエーテル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型
エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ
樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノー
ルAジグリシジルエーテル、ナフトールノボラック型エ
ポキシ樹脂、3官能エポキシ樹脂、4官能エポキシ樹
脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等を挙げることができ
る。これらの分子量及びエポキシ当量等は、用途に応じ
て適宜選択することができる。
[0044] As the epoxy resin used in the e epoxy resin composition, for example bisphenol A diglycidyl ether type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, ortho-cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, bisphenol F novolac Examples thereof include epoxy resin, brominated phenol novolac type epoxy resin, brominated bisphenol A diglycidyl ether, naphthol novolac type epoxy resin, trifunctional epoxy resin, tetrafunctional epoxy resin and biphenyl type epoxy resin. The molecular weight, epoxy equivalent and the like of these can be appropriately selected according to the application.

【0045】前記エポキシ樹脂組成物において、必須成
分として含有する前記エポキシ樹脂と、ポリフェノール
類及び/又はポリフェノール類の縮合体との配合割合
は、その用途及び使用する各成分に応じて種々選択する
ことができるが、エポキシ樹脂1分子中に含まれるエポ
キシ基の数と、ポリフェノール類及び/又はポリフェノ
ール類の縮合体中のフェノール性水酸基の数が当量付近
となるのが最も好ましく、エポキシ樹脂30〜70重量
%、ポリフェノール類及び/又はポリフェノール類の縮
合体70〜30重量%となるように配合するのが望まし
い。
[0045] In the epoxy resin composition, said epoxy resin containing as essential components, the mixing ratio of the condensate of polyphenols and / or polyphenols, be variously selected depending on the components to the application and uses However, it is most preferable that the number of epoxy groups contained in one molecule of the epoxy resin and the number of phenolic hydroxyl groups in the polyphenols and / or the condensate of the polyphenols are in the vicinity of an equivalent amount, and the epoxy resins 30 to 70 It is desirable that the amount of the polyphenols and / or the polyphenol condensate is 70 to 30% by weight.

【0046】前記エポキシ樹脂組成物には、前記必須成
分の他に、さらに公知のフェノール樹脂、硬化促進剤、
各種充填剤、添加剤等を用途に応じて併用することもで
きる。
[0046] The epoxy resin composition, in addition to the essential ingredients, further known phenolic resin, a curing accelerator,
Various fillers, additives and the like can be used together depending on the application.

【0047】前記フェノール樹脂としては、例えばビス
フェノールA、臭素化ビスフェノールA、ノボラックフ
ェノール樹脂、ノボラックオルソクレゾール樹脂、ビス
フェノールAノボラック型フェノール樹脂、ビスフェノ
ールFノボラック型フェノール樹脂、臭素化ノボラック
フェノール樹脂、ナフトールノボラック型フェノール樹
脂又はこれらの混合物等を挙げることができる。前記フ
ェノール樹脂の配合割合は、ポリフェノール類及び/又
はポリフェノール類の縮合体100重量部に対して、1
00重量部以下が好ましい。
Examples of the phenol resin include bisphenol A, brominated bisphenol A, novolac phenol resin, novolac orthocresol resin, bisphenol A novolac type phenol resin, bisphenol F novolac type phenol resin, brominated novolac phenol resin, naphthol novolac type resin. Examples thereof include phenolic resins and mixtures thereof. The compounding ratio of the phenol resin is 1 with respect to 100 parts by weight of polyphenols and / or polyphenol condensates.
It is preferably not more than 00 parts by weight.

【0048】また前記硬化促進剤としては公知のものが
いずれも使用できるが、例えば、第3級アミン、イミダ
ゾール、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩、リン系
化合物又はこれらの混合物等を挙げることができる。前
記硬化促進剤の配合割合は、前記必須成分100重量部
に対して8重量部以下が好ましい。
Any known curing accelerator may be used. Examples thereof include tertiary amines, imidazoles, organic acid metal salts, Lewis acids, amine complex salts, phosphorus compounds, and mixtures thereof. be able to. The mixing ratio of the curing accelerator is preferably 8 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the essential components.

【0049】更に前記充填剤、添加剤としては、着色
剤、難燃剤、離型剤、カップリング剤、結晶性シリカ
粉、溶融シリカ粉、アルミナ粉、タルク、石英ガラス
粉、炭酸カルシウム粉、ガラス繊維、ピッチ、アミノ樹
脂、アルキッド樹脂等を挙げることができ、その配合割
合は、用途に応じて適宜選択することができる。
Further, as the above-mentioned fillers and additives, colorants, flame retardants, release agents, coupling agents, crystalline silica powder, fused silica powder, alumina powder, talc, quartz glass powder, calcium carbonate powder, glass. Fiber, pitch, amino resin, alkyd resin and the like can be mentioned, and the mixing ratio thereof can be appropriately selected according to the application.

【0050】前記エポキシ樹脂組成物は、後述する電子
材料用、積層板用、封止材用とする他に、絶縁粉体塗料
組成物等の用途に使用することもできる。
[0050] The epoxy resin composition for electronic material described below, laminates, in addition to a sealing material, can also be used in applications such as an insulating powder coating composition.

【0051】前記第1〜4の製造法で得られるポリフェ
ノール類及び/又はポリフェノール類の縮合体と、エポ
キシ樹脂と、硬化促進剤を必須成分として用いて電子材
料用エポキシ樹脂組成物及び積層板用エポキシ樹脂組成
物を得ることができる。
[0051] and condensate of the polyphenols obtained in the first to fourth manufacturing methods and / or polyphenols, Epo
Electronic material using xy resin and curing accelerator as essential components
Epoxy Resin Composition for Materials and Epoxy Resin Composition for Laminated Board
You can get things.

【0052】前記必須成分としては、前記エポキシ樹脂
組成物で具体的に列挙したものを好ましく挙げることが
できるが、電子材料用とする場合には、前記ポリフェノ
ール類及び/又はポリフェノール類の縮合体として、ポ
リフェノール類の製造に際し、モノフェノキシ体、若し
くはオクタトリエン及び/又はジメチルオクタトリエン
と、炭素数6〜12のフェノール類との仕込みモル比
を、1:5〜1:20として製造した軟化点が低く硬化
性に優れたポリフェノール類を、またポリフェノール類
の縮合体の製造に際し、ポリフェノール類、若しくはポ
リフェノール類及び炭素数6〜12のフェノール類の混
合物と、炭素数1〜12のアルデヒド類又はケトン類と
の仕込みモル比を10:1〜2:1として製造した軟化
点が低く硬化性に優れたポリフェノール類の縮合体を用
いるのが好ましい。一方、積層板用として用いる場合に
は、前記ポリフェノール類及び/又はポリフェノール類
の縮合体として、ポリフェノール類の製造に際し、モノ
フェノキシ体、若しくはオクタトリエン及び/又はジメ
チルオクタトリエンと、炭素数6〜12のフェノール類
との仕込みモル比を、1:3〜1:5として製造した比
較的高分子量のポリフェノール類、またポリフェノール
類の縮合体の製造に際し、ポリフェノール類、若しくは
ポリフェノール類及び炭素数6〜12のフェノール類の
混合物と、炭素数1〜12のアルデヒド類又はケトン類
との仕込みモル比を1:1〜6:1として製造した高分
子量のポリフェノール類の縮合体を用いるのが好まし
い。また電子材料用エポキシ樹脂組成物には、通常フェ
ノール樹脂の硬化剤として常用されるホルマリン、ヘキ
サメチレンテトラミン、メラミン、メチル化メラミン、
ブチル化メラミン等の硬化剤を含有させることもでき
る。これらの硬化剤の使用量は、該組成物を硬化せしめ
る量であれば特に限定されない。更に積層板用エポキシ
樹脂組成物には、前記ポリフェノール類、縮合体に、更
にハロゲン化フェノール樹脂等を配合したり、ハロゲン
化多価エポキシ化合物等を付加反応させた変性フェノー
ル樹脂化あるいはエポキシ樹脂化した樹脂成分等を配合
することもできる。
As the above-mentioned essential components, those specifically listed in the above-mentioned epoxy resin composition can be preferably mentioned, but in the case of using for electronic materials, as the polyphenols and / or polyphenols condensates. In the production of polyphenols, a monophenoxy compound, or octatriene and / or dimethyloctatriene, and a phenol having 6 to 12 carbon atoms were charged at a molar ratio of 1: 5 to 1:20 to produce a softening point. When producing low-curing polyphenols and polyphenols condensates, polyphenols, or a mixture of polyphenols and phenols having 6 to 12 carbons, and aldehydes or ketones having 1 to 12 carbons It has a low softening point and is excellent in curability. Preferably used condensates of polyphenols was. On the other hand, when it is used for a laminated plate, as a polyphenols and / or a condensate of polyphenols, a monophenoxy compound, or octatriene and / or dimethyloctatriene, and a carbon number of 6 to 12 are used in the production of polyphenols. In the production of a relatively high molecular weight polyphenols produced by adjusting the molar ratio of the phenols to phenols to be 1: 3 to 1: 5, or a polyphenol condensate, polyphenols, or polyphenols and 6 to 12 carbon atoms are produced. It is preferable to use a condensate of high molecular weight polyphenols produced by adjusting the charged molar ratio of the mixture of the phenols of 1 to the aldehydes or ketones having 1 to 12 carbon atoms to 1: 1 to 6: 1. Further, in the epoxy resin composition for electronic materials, formalin, hexamethylenetetramine, melamine, methylated melamine usually used as a curing agent for phenolic resins,
A curing agent such as butylated melamine can also be included. The amount of these curing agents used is not particularly limited as long as it is an amount that cures the composition. Further, in the epoxy resin composition for laminated board, a halogenated phenolic resin or the like is further added to the above polyphenols or condensate, or a modified phenolic resin or an epoxy resin is prepared by addition reaction of a halogenated polyvalent epoxy compound or the like. It is also possible to mix the resin component and the like.

【0053】前記電子材料用又は積層板用エポキシ樹脂
組成物において、必須成分の配合割合は、エポキシ樹脂
と、前記第1〜4の製造法で得られるポリフェノール類
及び/又はポリフェノール類の縮合体との配合について
は、前記エポキシ樹脂組成物と同様であり、硬化促進剤
の配合割合は、エポキシ樹脂及び前記第1〜4の製造法
で得られるポリフェノール類及び/又はポリフェノール
類の縮合体100重量部に対して、0.1〜8重量部と
するのが好ましい。
In the epoxy resin composition for electronic materials or laminates, the mixing ratio of the essential components is the epoxy resin and the polyphenols and / or polyphenol condensates obtained by the first to fourth production methods. The mixing ratio of the curing accelerator is the same as that of the epoxy resin composition, and the mixing ratio of the curing accelerator is 100 parts by weight of the epoxy resin and the polyphenols and / or polyphenol condensates obtained by the first to fourth production methods. On the other hand, it is preferably 0.1 to 8 parts by weight.

【0054】前記電子材用エポキシ樹脂組成物を使用す
るには、例えば前記各成分を混合後、注型材として使用
したり、無機充填剤を添加して絶縁粉体塗料とする等の
方法を用いることができ、一方積層板用エポキシ樹脂組
成物を使用するには、ガラス布等に該組成物の溶液を含
浸させ、乾燥したプリプレグを積層成形する等の方法を
用いることができる。
To use the above-mentioned epoxy resin composition for electronic materials, for example, after mixing the above-mentioned components, it is used as a casting material, or an inorganic powder is added to form an insulating powder coating. On the other hand, in order to use the epoxy resin composition for laminated boards, a method of impregnating a glass cloth or the like with a solution of the composition and laminating and molding a dried prepreg can be used.

【0055】前記第1〜4の製造法で得られるポリフェ
ノール類及び/又はポリフェノール類の縮合体と、エポ
キシ樹脂と、硬化促進剤と、無機充填剤とを必須成分と
して用いて封止材用エポキシ樹脂組成物を得ることがで
きる。
[0055] and condensate of the polyphenols obtained in the first to fourth manufacturing methods and / or polyphenols, Epo
An epoxy resin composition for encapsulant can be obtained by using a xy resin, a curing accelerator, and an inorganic filler as essential components.
Wear.

【0056】前記必須成分としては、前記エポキシ樹脂
組成物で具体的に列挙したものを好ましく挙げることが
でき、特に無機充填剤として、結晶性シリカ粉、アルミ
ナ粉、タルク、石英ガラス粉、炭酸カルシウム粉、ガラ
ス繊維等を挙げることができる。また前記ポリフェノー
ル類及び/又はポリフェノール類の縮合体として、ポリ
フェノール類の製造に際し、モノフェノキシ体、若しく
はオクタトリエン及び/又はジメチルオクタトリエン
と、炭素数6〜12のフェノール類との仕込みモル比
を、1:7〜1:20として製造した低分子量のポリフ
ェノール類、またポリフェノール類の縮合体の製造に際
し、ポリフェノール類、若しくはポリフェノール類及び
炭素数6〜12のフェノール類の混合物と、炭素数1〜
12のアルデヒド類又はケトン類との仕込みモル比を1
0:1〜20:1として製造した低分子量のポリフェノ
ール類の縮合体を用いるのが好ましい。
As the above-mentioned essential components, those specifically listed in the above-mentioned epoxy resin composition can be preferably cited. Particularly, as the inorganic filler, crystalline silica powder, alumina powder, talc, quartz glass powder, calcium carbonate are preferred. Powder, glass fiber, etc. can be mentioned. Further, as the polyphenols and / or polyphenols condensates, in the production of polyphenols, a monophenoxy compound, or octatriene and / or dimethyloctatriene, and a charging molar ratio of phenols having 6 to 12 carbon atoms, When producing low molecular weight polyphenols produced as 1: 7 to 1:20, or a condensate of polyphenols, polyphenols, or a mixture of polyphenols and phenols having 6 to 12 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms are produced.
Charge molar ratio of 12 with aldehydes or ketones to 1
It is preferable to use a condensate of low molecular weight polyphenols produced as 0: 1 to 20: 1.

【0057】前記封止材用エポキシ樹脂組成物におい
て、必須成分の配合割合は、エポキシ樹脂4〜30重量
%、前記第1〜4の製造法で得られるポリフェノール類
及び/又はポリフェノール類の縮合体4〜30重量%、
無機充填剤50〜90重量%とするのが好ましく、硬化
促進剤の配合割合は、エポキシ樹脂及び前記第1〜4の
製造法で得られるポリフェノール類及び/又はポリフェ
ノール類の縮合体100重量部に対して、0.1〜5重
量部とするのが好ましい。この際無機充填剤の配合割合
が50重量%未満の場合には、熱変化に伴う体積変化が
大きいのでクラックが生じやすく、また90重量%を超
えると、耐衝撃性が低下するので好ましくない。
In the epoxy resin composition for the encapsulant, the blending ratio of the essential components is 4 to 30% by weight of the epoxy resin, and the polyphenols and / or polyphenol condensates obtained by the first to fourth production methods are used. 4-30% by weight,
The inorganic filler is preferably 50 to 90% by weight, and the mixing ratio of the curing accelerator is 100 parts by weight of the epoxy resin and the polyphenols and / or polyphenols condensates obtained by the first to fourth production methods. On the other hand, it is preferably 0.1 to 5 parts by weight. At this time, if the compounding ratio of the inorganic filler is less than 50% by weight, the volume change due to the heat change is large and cracks are likely to occur, and if it exceeds 90% by weight, the impact resistance is deteriorated, which is not preferable.

【0058】前記封止材用エポキシ樹脂組成物を使用す
るには、例えば前記各必須成分及び必要に応じて添加す
る充填剤、添加剤を、ミキサー等によって十分均一に混
合した後、更に熱ロール又はニーダー等で溶融混練し、
冷却後粉砕する等の方法によって用いることができる。
この際、トランスファー成形機等で通常120〜220
℃、好ましくは150〜200℃で、通常10〜300
秒成型し、更に通常160〜220℃、好ましくは17
0〜200℃で、通常0.5〜5時間硬化させるのが望
ましい。
[0058] To use the encapsulant epoxy resin composition, for example fillers to be added depending on the each essential components and necessary additives, were mixed well uniformly by a mixer or the like, further hot roll Alternatively, melt kneading with a kneader or the like,
It can be used by a method such as crushing after cooling.
At this time, it is usually 120 to 220 with a transfer molding machine or the like.
℃, preferably 150 ~ 200 ℃, usually 10 ~ 300
Second molding, usually 160-220 ℃, preferably 17
It is desirable to cure at 0 to 200 ° C. for usually 0.5 to 5 hours.

【0059】[0059]

【発明の効果】本発明の製造法では、架橋速度が大き
く、吸湿性が低く、しかも高耐熱性、強靭性をも兼備し
たポリフェノール類及びその縮合体を得ることができ
る。
According to the production method of the present invention, it is possible to obtain polyphenols and their condensates having a high crosslinking rate, a low hygroscopicity, a high heat resistance and a high toughness.

【0060】[0060]

【0061】[0061]

【実施例】次に本発明を実施例および比較例により具体
的に説明する。
EXAMPLES Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples.

【0062】[0062]

【実施例1】窒素置換した撹拌機付きの容量10リット
ルのオートクレーブにパラジウム(II)アセチルアセト
ナート5.0g、トリフェニルホスフィン15.5g、
フェノール3500gを仕込み、90℃に昇温後、イソ
プレン1000gを3時間かけて逐次添加した。イソプ
レンの添加とともに発熱したが、除熱により反応温度を
90℃に保持し、添加後さらに3時間撹拌を続けてテロ
メル化反応を行なった。反応終了後、反応液に2%希塩
酸水2000gを添加して触媒を失活させた後、トルエ
ン3000gを添加した。その後、トルエン層を分離、
水洗、減圧蒸留したところ、1−フェノキシジメチルオ
クタジエン985g、3−フェノキシジメチルオクタジ
エン112g、ジメチルオクタトリエン100gからな
るイソプレンの二量体成分が得られた。この二量体成分
のうち、1−フェノキシジメチルオクタジエン及び3−
フェノキシジメチルオクタジエンを用い、次のアルキル
化反応を行った。
Example 1 5.0 g of palladium (II) acetylacetonate and 15.5 g of triphenylphosphine were placed in an autoclave having a capacity of 10 liters, which was replaced with nitrogen and equipped with a stirrer.
After charging 3500 g of phenol and raising the temperature to 90 ° C., 1000 g of isoprene was sequentially added over 3 hours. Although heat was generated with the addition of isoprene, the reaction temperature was maintained at 90 ° C. by removing heat, and after the addition, stirring was continued for 3 hours to carry out the telomerization reaction. After completion of the reaction, 2000 g of 2% dilute hydrochloric acid water was added to the reaction solution to deactivate the catalyst, and then 3000 g of toluene was added. Then, separate the toluene layer,
After washing with water and distillation under reduced pressure, a dimer component of isoprene consisting of 985 g of 1-phenoxydimethyloctadiene, 112 g of 3-phenoxydimethyloctadiene and 100 g of dimethyloctatriene was obtained. Of this dimer component, 1-phenoxydimethyloctadiene and 3-
The following alkylation reaction was carried out using phenoxydimethyloctadiene.

【0063】撹拌機、温度計付きの5リットルの4つ口
フラスコに水分を60ppmまで脱水したフェノール1
880gと三フッ化ホウ素・フェノール錯体36gを添
加し充分混合した後、系内温度を90〜100℃に保ち
ながら前記二量体成分400gを1時間かけて添加し
た。その後、系内温度を130℃に昇温し、3時間加熱
撹拌した。反応後、反応液に3重量%水酸化ナトリウム
水溶液700gを加え、2時間撹拌させて触媒を失活さ
せた後、トルエン1500gを添加し、水洗操作を3回
繰り返して、トルエン層を回収した。次いで蒸留により
トルエン層を濃縮し、軟化点85℃、OH当量175g
/eq、数平均分子量450のポリフェノール類(1)
650gを得た。
Phenol 1 dehydrated to a water content of 60 ppm in a 5-liter four-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer
After 880 g and 36 g of boron trifluoride / phenol complex were added and thoroughly mixed, 400 g of the dimer component was added over 1 hour while maintaining the system temperature at 90 to 100 ° C. Then, the temperature in the system was raised to 130 ° C., and the mixture was heated and stirred for 3 hours. After the reaction, 700 g of a 3 wt% sodium hydroxide aqueous solution was added to the reaction solution, the mixture was stirred for 2 hours to deactivate the catalyst, and 1500 g of toluene was added, and the washing operation with water was repeated 3 times to recover a toluene layer. Next, the toluene layer is concentrated by distillation to give a softening point of 85 ° C. and an OH equivalent of 175 g.
/ Eq, polyphenols with a number average molecular weight of 450 (1)
650 g were obtained.

【0064】[0064]

【実施例2】窒素置換した撹拌機付きの10リットルの
オートクレーブにパラジウム(II)アセチルアセトナー
ト5.0g、トリフェニルホスフィン15.5g、ベン
ゼン3000gを仕込み、90℃に昇温後、イソプレン
1000gを3時間かけて逐次添加した。イソプレンの
添加とともに発熱したが、除熱により反応温度を90℃
に保持し、添加後さらに3時間撹拌を続けて、オリゴメ
ル化反応を行なった。反応終了後、反応液に2%希塩酸
水2000gを添加して触媒を失活させた後、ベンゼン
3000gを添加した。その後、ベンゼン層を分離、水
洗し、減圧蒸留したところ、ジメチルオクタトリエン7
20gおよび環状のイソプレンの二量体50gからなる
留分が得られた。この二量体成分を用い、下記の反応を
行った。
Example 2 5.0 g of palladium (II) acetylacetonate, 15.5 g of triphenylphosphine, and 3000 g of benzene were charged into a 10-liter autoclave equipped with a stirrer that had been replaced with nitrogen, and after heating to 90 ° C., 1000 g of isoprene was added. Sequentially added over 3 hours. Heat was generated with the addition of isoprene, but the reaction temperature was 90 ° C due to heat removal.
After the addition, the mixture was further stirred for 3 hours to carry out an oligomerization reaction. After completion of the reaction, 2000 g of 2% dilute hydrochloric acid water was added to the reaction solution to deactivate the catalyst, and then 3000 g of benzene was added. Then, the benzene layer was separated, washed with water, and distilled under reduced pressure to obtain dimethyl octatriene 7
A fraction consisting of 20 g and 50 g of cyclic isoprene dimer was obtained. The following reaction was performed using this dimer component.

【0065】撹拌機、温度計付きの5リットル4つ口フ
ラスコに水分を60ppmまで脱水したフェノール30
00gと三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体36g
を添加し充分混合した。系内温度を90〜100℃に保
ちながら前記二量体成分400gを1時間要して添加し
た。その後、系内温度を100℃に保ち、3時間加熱撹
拌し、得られた反応生成物溶液に3重量%水酸化ナトリ
ウム水溶液700g及びトルエン1500gを加え、2
時間撹拌させて触媒を失活させた。次いで2時間放置し
た後、水洗操作を3回繰り返し、有機層を回収した。次
いで未反応のフェノールとトルエンとを蒸留により除去
し、軟化点82℃、OH当量165g/eq、数平均分
子量400のポリフェノール類(2)550gを得た。
Phenol 30 dehydrated to a water content of 60 ppm in a 5-liter four-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer
00g and 36g of boron trifluoride / diethyl ether complex
Was added and mixed well. While maintaining the system temperature at 90 to 100 ° C, 400 g of the dimer component was added over 1 hour. Then, the temperature in the system was kept at 100 ° C., the mixture was heated and stirred for 3 hours, and 700 g of a 3 wt% sodium hydroxide aqueous solution and 1500 g of toluene were added to the obtained reaction product solution,
The catalyst was deactivated by stirring for a period of time. Then, after standing for 2 hours, the washing operation with water was repeated 3 times to collect the organic layer. Then, unreacted phenol and toluene were removed by distillation to obtain 550 g of polyphenol (2) having a softening point of 82 ° C., an OH equivalent of 165 g / eq and a number average molecular weight of 400.

【0066】[0066]

【実施例3】イソプレンをブタジエンに代えた以外は実
施例1と同様な条件でテロメル化反応を行った後、失
活、抽出および減圧蒸留を行い、1−フェノキシオクタ
ジエン950g、3−フェノキシジメチルオクタジエン
90g、オクタトリエン110gからなるブタジエンの
二量体成分を得た。オクタトリエンを除く前記二量体成
分を用いて実施例1と同様にアルキル化反応を行ったと
ころ、軟化点77℃、OH当量168g/eq、数平均
分子量430のポリフェノール類(3)が480g得ら
れた。
Example 3 A telomerization reaction was carried out under the same conditions as in Example 1 except that butadiene was used instead of isoprene, followed by deactivation, extraction and distillation under reduced pressure to obtain 950 g of 1-phenoxyoctadiene and 3-phenoxydimethyl. A butadiene dimer component consisting of 90 g of octadiene and 110 g of octatriene was obtained. When an alkylation reaction was carried out in the same manner as in Example 1 using the dimer components except octatriene, 480 g of polyphenols (3) having a softening point of 77 ° C., an OH equivalent of 168 g / eq and a number average molecular weight of 430 were obtained. Was given.

【0067】[0067]

【実施例4】イソプレンをブタジエンに代えた以外は実
施例2と同様な条件でオリゴメル化反応を行った後、失
活、抽出および減圧蒸留を行い、オクタトリエン900
gを得た。このオクタトリエンを用いて実施例1と同様
にアルキル化反応を行ったところ、軟化点75℃、OH
当量160g/eq、数平均分子量395のポリフェノ
ール類(4)が490g得られた。
[Example 4] Octatriene 900 was prepared by conducting an oligomerization reaction under the same conditions as in Example 2 except that butadiene was used instead of isoprene, followed by deactivation, extraction and distillation under reduced pressure.
g was obtained. When an alkylation reaction was carried out in the same manner as in Example 1 using this octatriene, the softening point was 75 ° C. and OH
490 g of polyphenols (4) having an equivalent weight of 160 g / eq and a number average molecular weight of 395 were obtained.

【0068】[0068]

【実施例5】イソプレンをピペリレンに代えた以外は実
施例2と同様な条件でオリゴメル化反応を行った後、失
活、抽出、蒸留を行い、ジメチルオクタトリエン800
gを得た。このジメチルオクタトリエンを用いて実施例
1と同様にアルキル化反応を行ったところ、軟化点82
℃、OH当量166g/eq、数平均分子量420のポ
リフェノール類(5)が505g得られた。
Example 5 Dimethyloctatriene 800 was prepared by performing the oligomerization reaction under the same conditions as in Example 2 except that isoprene was replaced with piperylene, followed by deactivation, extraction and distillation.
g was obtained. When an alkylation reaction was carried out in the same manner as in Example 1 using this dimethyl octatriene, a softening point of 82
As a result, 505 g of a polyphenol (5) having an OH equivalent of 166 g / eq and a number average molecular weight of 420 was obtained.

【0069】[0069]

【実施例6】実施例1で得られた1−フェノキシジメチ
ルオクタジエン180g、3−フェノキシジメチルオク
タジエン20gと、α−ナフトール1200gと、クロ
ロベンゼン1200gとを用いて、実施例1と同様にア
ルキル化反応を行い、軟化点105℃、OH当量220
g/eq、数平均分子量520のポリフェノール類
(6)450gを得た。
Example 6 Alkylation was carried out in the same manner as in Example 1 using 180 g of 1-phenoxydimethyloctadiene obtained in Example 1, 20 g of 3-phenoxydimethyloctadiene, 1200 g of α-naphthol and 1200 g of chlorobenzene. After the reaction, the softening point is 105 ° C and the OH equivalent is 220.
450 g of polyphenols (6) having g / eq and a number average molecular weight of 520 were obtained.

【0070】[0070]

【実施例7】還流冷却器、リービッヒコンデンサーを備
えた5リットル反応器に、フェノール1600gとトル
エン300gとを仕込み、170℃に加熱して、トルエ
ン250gを留出し、系内の水分が60ppmになるま
で脱水した。次いで系内を70℃まで冷却し、三フッ化
ホウ素・フェノール錯体16gを添加し均一混合した
後、反応温度70℃にて、実施例1で合成したポリフェ
ノール類(1)360gを1.0時間かけて徐々に滴下
した。滴下終了後70℃で30分反応を続けた後140
℃に昇温し、さらに2.5時間、加熱撹拌した。系内を
70℃に降温後、パラホルムアルデヒド30gを添加
し、70℃でさらに1時間反応を続けた。反応終了後マ
グネシウム化合物「KW−1000」(商品名;協和化
学工業株式会社製)40gを添加し30分撹拌して触媒
を失活させた後、反応液を濾過した。得られた透明な反
応液を200℃で減圧蒸留し、軟化点93℃、OH当量
156、平均分子量640の縮合体(1)400gを得
た。
Example 7 A 5 liter reactor equipped with a reflux condenser and a Liebig condenser was charged with 1600 g of phenol and 300 g of toluene and heated to 170 ° C. to distill 250 g of toluene, and the water content in the system becomes 60 ppm. Dehydrated until. Then, the system was cooled to 70 ° C., 16 g of boron trifluoride / phenol complex was added and uniformly mixed, and then the polyphenols (1) synthesized in Example 1 (360 g) was reacted for 1.0 hour at a reaction temperature of 70 ° C. It dripped gradually over it. After the dropping was completed, the reaction was continued at 70 ° C for 30 minutes and then 140
The temperature was raised to 0 ° C., and the mixture was further heated and stirred for 2.5 hours. After the temperature inside the system was lowered to 70 ° C., 30 g of paraformaldehyde was added, and the reaction was continued at 70 ° C. for another hour. After completion of the reaction, 40 g of magnesium compound "KW-1000" (trade name; manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) was added and stirred for 30 minutes to deactivate the catalyst, and then the reaction solution was filtered. The obtained transparent reaction liquid was distilled under reduced pressure at 200 ° C. to obtain 400 g of a condensate (1) having a softening point of 93 ° C., an OH equivalent of 156 and an average molecular weight of 640.

【0071】[0071]

【実施例8】還流冷却器、リービッヒコンデンサーを備
えた5リットル反応器に、メチルイソブチルケトン20
00リットル、p−トルエンスルホン酸10g、および
実施例1で合成したポリフェノール類(1)400gを
添加した後、70℃で40%ホルマリン水溶液40gを
添加し、70℃でさらに1時間反応を続けた。反応終了
後、マグネシウム化合物「KW−1000」(商品名;
協和化学工業株式会社製)40gを添加し30分撹拌し
て触媒を失活させた後、反応液を濾過した。得られた透
明な反応液を200℃で減圧蒸留し、軟化点110℃、
OH当量178、平均分子量720の縮合体(2)39
0gを得た。
Example 8 A 5 liter reactor equipped with a reflux condenser and a Liebig condenser was charged with 20 parts of methyl isobutyl ketone.
After adding 00 liters, 10 g of p-toluenesulfonic acid, and 400 g of the polyphenols (1) synthesized in Example 1, 40 g of 40% formalin aqueous solution was added at 70 ° C., and the reaction was continued at 70 ° C. for another hour. . After completion of the reaction, magnesium compound "KW-1000" (trade name;
40 g of Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) was added and stirred for 30 minutes to deactivate the catalyst, and then the reaction solution was filtered. The obtained transparent reaction solution was distilled under reduced pressure at 200 ° C to give a softening point of 110 ° C,
Condensate (2) 39 with OH equivalent 178 and average molecular weight 720
0 g was obtained.

【0072】[0072]

【参考例1〜8】樹脂単独の硬化物の試験片を作成する
ため、硬化剤として、実施例1〜8で合成したポリフェ
ノール樹脂(1)〜(6)または縮合体(1)、(2)
に、主剤としてクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(商品名「エポクロンN−660」、大日本インキ化学
工業(株)製、エポキシ当量214g/eq)、さらに
硬化促進剤としてベンジルジメチルアミンをそれぞれ用
い、表1に示す組成で配合して、各エポキシ樹脂組成物
を得た。
[Reference Examples 1 to 8] In order to prepare a test piece of a cured product of a resin alone, polyphenol resins (1) to (6) or condensates (1) and (2) synthesized in Examples 1 to 8 were used as a curing agent. )
In addition, cresol novolac type epoxy resin (trade name "Epochlon N-660", Dainippon Ink and Chemicals, Inc., epoxy equivalent 214 g / eq) was used as the main agent, and benzyldimethylamine was used as the curing accelerator. Each epoxy resin composition was obtained by blending with the composition shown in.

【0073】これらのエポキシ樹脂組成物を100℃で
2時間、次いで160℃で2時間、さらに180℃で2
時間の条件で硬化せしめて試験片とし、JIS K−6
911に準拠して、常温での曲げ強度、引張り強度、引
張り伸び率および85℃・85%RH条件下での吸水率
を測定した。さらにDMA(Dynamic MechanicalAnalysi
s、動的粘弾性試験)によってガラス転移温度および動
的粘弾性率を測定した。結果を表1に示す。
These epoxy resin compositions were treated at 100 ° C. for 2 hours, then at 160 ° C. for 2 hours, then at 180 ° C. for 2 hours.
A test piece was obtained by curing under the conditions of time, JIS K-6
According to 911, bending strength at room temperature, tensile strength, tensile elongation, and water absorption under conditions of 85 ° C. and 85% RH were measured. In addition, DMA (Dynamic Mechanical Analysi
s, dynamic viscoelasticity test) to measure the glass transition temperature and the dynamic viscoelasticity. The results are shown in Table 1.

【0074】[0074]

【参考比較例1〜3】硬化剤としてノボラックフェノー
ル樹脂(商品名「タマノール758」、(荒川化学工業
(株)製、OH当量104g/eq)、ジシクロペンタ
ジエン変性フェノール樹脂(OH当量173g/e
q)、リモネン変性フェノール樹脂(OH当量172g
/eq)を用いた以外は、参考例1〜8と同様に行なっ
た。各測定結果を表1に示す。
[Reference Comparative Examples 1 to 3] Novolac phenol resin (trade name "Tamanol 758", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., OH equivalent 104 g / eq), dicyclopentadiene-modified phenol resin (OH equivalent 173 g / e) as a curing agent.
q), limonene modified phenolic resin (OH equivalent 172 g
/ Eq) was used, and the same procedure as in Reference Examples 1 to 8 was performed. Table 1 shows each measurement result.

【0075】[0075]

【表1】 [Table 1]

【0076】[0076]

【参考例9〜16】硬化剤として実施例1〜8で合成し
たポリフェノール類(1)〜(6)または縮合体
(1)、(2)を用い、主剤としてクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂(商品名「エポクロンN−660」、
大日本インキ化学工業(株)製、エポキシ当量214g
/eq)を用いて、表2に示す他の添加剤とともに表2
の配合で配合した後、加熱ロールを使用して混練温度7
0〜120℃で約8分間の条件で混練りした。その後、
約5mmφに粉砕し、半導体封止用エポキシ樹脂組成物
を作製した。次いで得られた組成物を以下の方法によ
り、銅箔接着強度、半田クラック性試験、半田耐湿性試
験の各測定を行なった。結果を表2に示す。
[Reference Examples 9 to 16] Polyphenols (1) to (6) or condensates (1) and (2) synthesized in Examples 1 to 8 were used as a curing agent, and a cresol novolac type epoxy resin (trade name) was used as a main component. "Epochron N-660",
Dainippon Ink and Chemicals, Inc., epoxy equivalent 214g
/ Eq) with other additives shown in Table 2 in Table 2
After blending with the above blending, kneading temperature is 7 using a heating roll.
Kneading was performed at 0 to 120 ° C. for about 8 minutes. afterwards,
The epoxy resin composition for semiconductor encapsulation was produced by pulverizing to about 5 mmφ. Then, each of the obtained compositions was subjected to measurements of copper foil adhesive strength, solder crack resistance test, and solder moisture resistance test by the following methods. The results are shown in Table 2.

【0077】(1)銅箔接着強度 半導体封止材用エポキシ樹脂組成物を加熱混合し、35
μm電解銅箔を敷いた金型に流し込み175℃で6時間
硬化させてサンプルを調製した。得られたサンプルをJ
IS C6481に準拠し銅箔接着力を求めた。
(1) Copper foil adhesive strength The epoxy resin composition for semiconductor encapsulating material is heated and mixed, and 35
A sample was prepared by pouring it into a mold lined with a μm electrolytic copper foil and curing it at 175 ° C. for 6 hours. The obtained sample is J
The copper foil adhesive strength was determined according to IS C6481.

【0078】(2)半田クラック性試験 半導体封止材用エポキシ樹脂組成物を、トランスファー
成形機(成形条件;金型温度175℃、硬化時間2分
間)を用いて成形し、175℃、8時間で後硬化させ
た。硬化終了後、得られたテスト用素子(チップサイズ
36mm×36mm、パッケージ圧2.0mm)16個
について、85℃、85%RHの水蒸気下、48時間お
よび72時間処理後、250℃の半田浴に10秒間浸漬
させ、顕微鏡で外部クラックの発生を観察した。
(2) Solder cracking property test The epoxy resin composition for semiconductor encapsulant was molded using a transfer molding machine (molding conditions; mold temperature 175 ° C., curing time 2 minutes), and 175 ° C. for 8 hours. Post-cured. After curing, 16 test elements (chip size 36 mm x 36 mm, package pressure 2.0 mm) obtained were treated under steam at 85 ° C and 85% RH for 48 hours and 72 hours, and then solder bath at 250 ° C. It was dipped in the glass for 10 seconds and the generation of external cracks was observed with a microscope.

【0079】(3)半田耐湿性試験 (2)で封止したテスト用素子を85℃、85%RHで
72時間吸湿した後、250℃の半田浴に10秒間浸漬
後、プレッシャークッカー試験(125℃、100%R
H)を行い回路のオーブン不良を測定した。
(3) Solder moisture resistance test The test element sealed in (2) was absorbed at 85 ° C. and 85% RH for 72 hours, immersed in a solder bath at 250 ° C. for 10 seconds, and then subjected to a pressure cooker test (125). ℃, 100% R
H) was performed to measure the oven failure of the circuit.

【0080】[0080]

【参考比較例4〜6】硬化剤としてノボラックフェノー
ル樹脂(商品名「タマノール758」、(荒川化学工業
(株)製、OH当量104g/eq)、ジシクロペンタ
ジエン変性フェノール樹脂(OH当量173g/e
q)、リモネン変性フェノール樹脂(OH当量172g
/eq)を用いた以外は、参考例9〜16と同様に行な
って半導体封止材用エポキシ樹脂組成物を作製し、各測
定を行なった。結果を表2に示す。
[Reference Comparative Examples 4 to 6] Novolak phenol resin (trade name "Tamanol 758", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., OH equivalent 104 g / eq), dicyclopentadiene-modified phenol resin (OH equivalent 173 g / e) as a curing agent.
q), limonene modified phenolic resin (OH equivalent 172 g
/ Eq) was used, and an epoxy resin composition for semiconductor encapsulating material was prepared in the same manner as in Reference Examples 9 to 16, and each measurement was performed. The results are shown in Table 2.

【0081】[0081]

【表2】 [Table 2]

フロントページの続き (72)発明者 大月 裕 神奈川県横浜市中区千鳥町8番地 日本 石油株式会社中央技術研究所内 (56)参考文献 特開 昭55−45761(JP,A) 特開 平6−40982(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 37/14 C07C 39/15 C07C 39/21 C07C 41/06 C07C 43/23 Front page continued (72) Inventor Yu Otsuki 8 Chidori-cho, Naka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Japan Petroleum Co., Ltd. Central Research Laboratory (56) Reference JP-A-55-45761 (JP, A) JP-A-6 −40982 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) C07C 37/14 C07C 39/15 C07C 39/21 C07C 41/06 C07C 43/23

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ブタジエン、イソプレン、ピペリレン又
はこれらの混合物と、炭素数6〜12のフェノール類と
を反応させて得られる二量体のモノフェノキシ体を、酸
触媒の存在下、炭素数6〜12のフェノール類と反応さ
せることを特徴とするポリフェノール類の製造法。
1. A dimeric monophenoxy compound obtained by reacting butadiene, isoprene, piperylene or a mixture thereof with a phenol having 6 to 12 carbon atoms is used in the presence of an acid catalyst to have 6 to 6 carbon atoms. A method for producing polyphenols, which comprises reacting with 12 phenols.
【請求項2】 オクタトリエンおよび/またはジメチル
オクタトリエンを、酸触媒の存在下、炭素数6〜12の
フェノール類と反応させることを特徴とするポリフェノ
ール類の製造法。
2. A method for producing polyphenols, which comprises reacting octatriene and / or dimethyloctatriene with phenols having 6 to 12 carbon atoms in the presence of an acid catalyst.
【請求項3】 請求項1又は2記載の製造法により得ら
れるポリフェノール類と、炭素数1〜12のケトン類ま
たはアルデヒド類とを、酸触媒の存在下、縮合反応させ
ることを特徴とするポリフェノール類の縮合体の製造
法。
3. A polyphenol, characterized in that a polyphenol obtained by the production method according to claim 1 or 2 and a ketone or aldehyde having 1 to 12 carbon atoms are subjected to a condensation reaction in the presence of an acid catalyst. For the production of condensates of the same class.
【請求項4】 請求項1又は2記載の製造法により得ら
れるポリフェノール類5〜95重量%及び炭素数6〜1
2のフェノール類95〜5重量%の混合物と、炭素数1
〜12のケトン類またはアルデヒド類とを、酸触媒の存
在下、縮合反応させることを特徴とするポリフェノール
類の縮合体の製造法。
4. The polyphenols obtained by the production method according to claim 1 or 2, 5 to 95% by weight, and 6 to 1 carbon atoms.
A mixture of 2 to 95% by weight of phenols and 1 carbon atom
A method for producing a condensate of polyphenols, which comprises subjecting the ketones or aldehydes of to 12 to a condensation reaction in the presence of an acid catalyst.
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