JP2004244526A - Novel phenol resin, curing agent for epoxy resin, and epoxy resin composition - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なフェノール樹脂、このフェノール樹脂を用いたエポキシ樹脂用硬化剤及びその硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成物に関する。この化合物は、低吸湿性、低応力性かつ高接着性に優れる硬化物を与えることができ、特に半導体封止の用途に有用である。
【０００２】
【従来の技術】
エポキシ樹脂は、その優れた硬化物性や取り扱いの容易さから、幅広い用途で使用されている。また、エポキシ樹脂には、様々な種類の硬化剤が使用でき、その硬化剤の選択により硬化物性が大きく変わるため、各用途の目的に応じて使い分けられている。近年、高分子材料の使用条件が過酷になるに従って、高分子材料に課される諸特性は厳しくなってきた。エポキシ樹脂用硬化剤が使用される用途においても、一般に用いられている各種の硬化剤では、要求特性を十分に満足できなくなってきた。例えば、ノボラック型フェノール樹脂を硬化剤とするエポキシ樹脂組成物は、半導体封止用に用いられているが、この分野でも、要求性能は、厳しくなってきている。即ち、半導体装置の高集積化のため、半導体素子の大型化とパッケージの小型化、薄型化が進み、また実装方式も表面実装へと移行している。この場合、実装時には半導体装置全体がハンダの溶融温度近くの高温にさらされるため、パッケージが吸湿した水分の急激な気化により蒸気圧が発生しパッケージ全体に大きな応力がかかり、クラックが入ることが問題となっている。耐ハンダクラック性の良好な封止材用には、低吸湿性、低応力性（即ち低弾性率）、及び高接着性が要求される。この要求は、ハンダの鉛フリー化に伴う融点の上昇により、近年さらに厳しくなってきている。
現在、硬化剤として主に使用されているフェノールノボラック樹脂（フェノール−ホルムアルデヒド樹脂）では、低吸湿性及び低応力性が十分とは言えなくなってきた。最近、これらの問題を解決するために、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂やフェノールアラルキル樹脂などのようにフェノール核間に環構造を持った炭化水素基を導入したフェノール樹脂とテトラメチルビフェノール型エポキシ樹脂からなる組成物を用い、低吸湿性、低応力性、及び高接着性を改良することが行われているが（特開昭６１−４７７２５号公報）、低吸湿性、低応力性、及び高接着性ともに最近の厳しい要求に対しては必ずしも充分とは言えない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、種々の用途に使用でき、特にエポキシ樹脂用硬化剤として使用した場合に、低吸湿性、低応力性、及び高接着性に優れる硬化物を与えることができる新規なフェノール樹脂を提供すること、同化合物を主成分とするエポキシ樹脂用硬化剤を提供すること、及び同硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成物を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、前記の課題を解決するために種々研究を重ねた結果、エポキシ樹脂用硬化剤として、フェノール核にチオエーテル基を持つフェノール樹脂をエポキシ樹脂用硬化剤の主成分とすることによりその目的を達成できたものである。本発明は、
「 １． 下記一般式（１）で表されるフェノール化合物とアルデヒド類とを重縮合反応して得た新規フェノール樹脂。
一般式（１）
【０００５】
【化３】
（式中の記号は下記のように定義される。
Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基である。Ｒ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はハロゲン原子である。ａは１〜４、ｂは０〜３の整数である。）
２． 一般式（Ｉ）で表されるフェノール化合物および下記一般式（ＩＩ）で表されるフェノール化合物とアルデヒド類とを重縮合反応して得た新規フェノール樹脂。一般式（ＩＩ）
【０００７】
【化４】
（式中の記号は下記のように定義される。
Ｒ３は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はハロゲン原子である。ｃは０〜４の整数である。）
３． 水酸基当量が１３０〜３００ｇ／ｅｑ、軟化点が５０℃〜１４０℃、１５０℃の溶融粘度が０．８Ｐａ・ｓ以下である、１項又は２項に記載された新規フェノール樹脂。
４． １項ないし３項のいずれか１項に記載されたフェノール樹脂を総エポキシ樹脂用硬化剤量に対して５〜１００重量％含むエポキシ樹脂用硬化剤。
５． フェノール樹脂が水酸基当量１３０〜３００ｇ／ｅｑ、軟化点５０℃〜１４０℃、１５０℃の溶融粘度が０．８Ｐａ・ｓである、４項に記載されたエポキシ樹脂硬化剤。
６． エポキシ樹脂、及び４項または５項に記載されたエポキシ樹脂用硬化剤を必須成分としてなるエポキシ樹脂組成物。
７． ４項または５項に記載されたエポキシ樹脂硬化剤を全エポキシ樹脂のエポキシ基１モルに対し全エポキシ基と反応する基が０．５〜２．０モルとなる量配合したエポキシ樹脂組成物。
８． ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビフェノール、テトラメチルビフェノール、テルペンジフェノール、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂、ビフェニルアラルキル樹脂及びクレゾールノボラック樹脂から選ばれた少なくとも１種類のフェノール化合物と、エピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、及び４項または５項に記載されたエポキシ樹脂用硬化剤を必須成分としてなるエポキシ樹脂組成物。
９． エポキシ樹脂、４項または５項に記載されたエポキシ樹脂用硬化剤、及び無機充填材として、破砕型及び／又は球状の、溶融及び／又は結晶シリカ粉末を組成物の７０〜９５重量％を必須成分としてなる半導体封止用エポキシ樹脂組成物。」
に関する。
【０００９】
本発明の請求項１に記載のフェノール樹脂は、チオエーテル基をもつフェノール化合物とアルデヒド類とを酸性触媒下、重縮合反応させる方法が、容易な操作で純度の良いフェノール樹脂が得られる点で好ましい。
その重縮合反応の反応条件としては、一般のノボラック化反応条件を用いることができる。即ち酸性触媒の存在下に、２０〜２００℃の温度で１〜２０時間反応させる。
その酸性触媒としては、例えば、塩酸、硫酸等の鉱酸類；シュウ酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；けいタングステン酸、りんタングステン酸等のヘテロポリ酸；活性白土；その他酸性を示す有機酸塩類等の通常ノボラック樹脂製造用の酸性触媒が使用できる。酸性触媒の使用量は、フェノール化合物１００重量部に対して０．１〜５重量部、好ましくは０．３〜３重量部である。
その縮合反応においては、芳香族炭化水素類、アルコール類、エーテル類等の不活性溶剤、さらに反応条件を選択することにより、ケトン系溶剤を用いることができる。
反応終了後、必要に応じて、酸性触媒、中和した場合はその塩、未反応のフェノール化合物及び反応溶媒などを除去することにより、本発明のフェノール樹脂が得られる。本発明のフェノール樹脂を半導体封止材用に使用する場合には、酸性触媒又はその塩を水洗、濾過、吸着等の方法で除去することが半導体の腐食を防止する上で好ましい。
【００１０】
ここで用いられるチオエーテル基を持つフェノール化合物としては、例えば、メチルチオフェノール、エチルチオフェノール、プロピルチオフェノール、ブチルチオフェノール、フェニルチオフェノール、メチルチオクレゾール、エチルチオクレゾール、プロピルチオクレゾール、ブチルチオクレゾール、フェニルチオクレゾール等があげられる。
これらのチオエーテル基を持つフェノール化合物の中では入手の容易さからメチルチオフェノール、メチルチオクレゾールが好ましい。
またここで用いられるアルデヒド類としてはホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロパナールアルデヒド、ブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、カプロンアルデヒド、ベンズアルデヒド、クロルベンズアルデヒド、ブロムベンズアルデヒド、グリオキザールアルデヒド、マロンアルデヒド、スクシンアルデヒド、グルタルアルデヒド、アジピンアルデヒド、ピメリンアルデヒド、セバシンアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド、サリチルアルデヒド、フタルアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド等があげられる。
上述のフェノール化合物とアルデヒド類を重縮合反応させる際、そのフェノール化合物に対するアルデヒド類の使用割合は、大きくなるほど得られたフェノール樹脂が高分子量化し、硬化物の耐熱性向上などに寄与する一方で、樹脂が高粘度となるため、組成物の流れ性が悪化する。従って、その使用割合は使用目的に応じて調整する必要があるが、通常は、上述のフェノール化合物１モルに対してアルデヒド類０．１〜２．０モル、好ましくは０．１５〜１．０モルである。
【００１１】
通常は上述の反応によって一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を主成分とするフェノール樹脂が得られる。
一般式（ＩＩＩ）
【００１２】
【化５】
（式中の記号は下記のように定義される。
Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基である。Ｒ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はハロゲン原子である。Ｒ４は水素、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基である。ｎは平均値で０．１〜１０の数であり、ａは１〜４、ｂは０〜３の整数である。）
【００１４】
本発明の請求項２に記載のフェノール樹脂は、フェノール化合物とアルデヒド類とをアルカリ存在下で反応させ、ジメチロール化合物を生成させた後、このジメチロール化合物とチオエーテル基を持つフェノール化合物とを酸性触媒存在下、重縮合反応させる方法が、容易な操作で純度の良いフェノール樹脂が得られる点で好ましい。またジメチロール化合物は２，６−ジメチロール−４−メチルフェノール、４，６−ジメチロール−２−メチルフェノール等の市販品を用いても良い。
ここで用いられるアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの金属水酸化物が挙げられるが、反応速度の点から水酸化ナトリウムが好ましい。
またここで用いられるフェノール化合物としては、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、プロピルフェノール、ブチルフェノール、ブチルクレゾール、フェニルフェノール、クミルフェノール、メトキシフェノール、ブロモフェノールなどがあげられる。
これらのフェノール化合物の中では、物性や入手の容易さから、フェノール又はクレゾールが好ましい。
さらにここで用いられるアルデヒド類、酸性触媒、チオエーテル基を持つフェノール化合物、は上述の請求項１に記載のフェノール樹脂の製造に用いるものと同じ物を用いる事が出来る。
その縮合反応においては、芳香族炭化水素類、アルコール類、エーテル類等の不活性溶剤、さらに反応条件を選択することにより、ケトン系溶剤を用いることができる。
反応終了後、必要に応じて、酸性触媒、中和した場合はその塩、未反応のフェノール化合物及び反応溶媒などを除去することにより、本発明のフェノール樹脂が得られる。本発明のフェノール樹脂を半導体封止材用に使用する場合には、酸性触媒又はその塩を水洗、濾過、吸着等の方法で除去することが半導体の腐食を防止する上で好ましい。
【００１５】
また本発明の請求項２に記載のフェノール樹脂のもう一つの製造方法として、チオエーテル基をもつフェノール化合物、フェノール化合物、アルデヒド類とを酸性触媒下、重縮合反応させる方法も、容易な操作で純度の良いフェノール樹脂が得られる点で好ましい。
その重縮合反応の反応条件としては、一般のノボラック化反応条件を用いることができる。即ち酸性触媒の存在下に、２０〜２００℃の温度で１〜２０時間反応させる。
ここで用いられるチオエーテル基を持つフェノール化合物、フェノール化合物、アルデヒド類、酸性触媒、は上述の請求項１に記載のフェノール樹脂の製造に用いるものと同じ物を用いる事が出来る。
その縮合反応においては、芳香族炭化水素類、アルコール類、エーテル類等の不活性溶剤、さらに反応条件を選択することにより、ケトン系溶剤を用いることができる。
反応終了後、必要に応じて、酸性触媒、中和した場合はその塩、未反応のフェノール化合物及び反応溶媒などを除去することにより、本発明のフェノール樹脂が得られる。本発明のフェノール樹脂を半導体封止材用に使用する場合には、酸性触媒又はその塩を水洗、濾過、吸着等の方法で除去することが半導体の腐食を防止する上で好ましい。
通常は上述の反応によって下記一般式（ＩＶ）で表される化合物を主成分とするフェノール樹脂が得られる。
一般式（ＩＶ）
【００１６】
【化６】
（式中の記号は下記のように定義される。
Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基である。Ｒ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はハロゲン原子である。Ｒ３は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はハロゲン原子である。Ｒ５は互いに同一であっても異なっていてもよく、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基である。ｌ、ｍは平均値で０．１〜１０の数であり、ａは１〜４、ｂは０〜３、ｃは０〜４の整数である。）
以上のようにして製造される本発明のフェノール樹脂の品質性状は、各原料の種類、使用割合、反応条件、精製方法等により変化するが、本発明のエポキシ樹脂用硬化剤として使用するにあたっては、水酸基当量が１３０〜３００ｇ／ｅｑ．、好ましくは１４０〜２５０ｇ／ｅｑ．、軟化点が５０〜１４０℃、好ましくは６０〜１００℃、１５０℃の溶融粘度が０．８Ｐａ・ｓ以下、好ましくは０．５Ｐａ・ｓ以下となるよう各種条件等を調整することが好ましい。
【００１８】
本発明のエポキシ樹脂用硬化剤は、以上に述べたようにして得られたフェノール樹脂を主成分とする硬化剤であり、低吸湿性、低応力性および高接着性に優れたエポキシ樹脂硬化物を与えることができる。即ち本発明のエポキシ樹脂用硬化剤は、そのフェノール樹脂を単独で用いたものであってもよいし、これに他のエポキシ樹脂用硬化剤を併用したものであってもよい。
その併用できる他のエポキシ樹脂用硬化剤としては、例えば、ノボラック型フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂、テルペンフェノール樹脂等のフェノール樹脂類；テトラヒドロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸等の酸無水物類；ジアミノジフェニルメタン等のアミン類等があげられる。本発明のエポキシ樹脂用硬化剤を半導体封止用に使用する場合には、併用される他の硬化剤としては、ノボラック型フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂、テルペンフェノール樹脂等のフェノール樹脂類が好ましい。
併用される他の硬化剤の使用量は全硬化剤量に対して、９０重量％以下、好ましくは５０重量％以下、さらに好ましくは３０重量％以下である。他の硬化剤の併用量が多すぎると本発明の効果が十分発揮されなくなる。
本発明のエポキシ樹脂用硬化剤の主成分であるフェノール樹脂と前述の併用できる他のエポキシ樹脂用硬化剤は、組成物とする前にあらかじめ混合してから供してもよいし、組成物配合時にそれぞれの必要量を単独で供することもできる。
【００１９】
以上のようにして製造される本発明のエポキシ樹脂用硬化剤の品質性状は、各成分の種類、使用割合等により変化するが、水酸基当量が１３０〜３００ｇ／ｅｑ．、好ましくは１４０〜２５０ｇ／ｅｑ．、軟化点が５０〜１４０℃、好ましくは６０〜１００℃、１５０℃の溶融粘度が０．８Ｐａ・ｓ以下、好ましくは０．５Ｐａ・ｓ以下となるよう各種条件等を調整することが好ましい。水酸基当量が小さすぎると低吸湿性に劣り、大きすぎると硬化性が悪化する。軟化点が低すぎると固体としての取り扱いが困難になり、高すぎるとエポキシ樹脂等との混合が困難になる。溶融粘度が高すぎると成型時の流動性が損なわれる。
【００２０】
次に、本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂と本発明のエポキシ樹脂用硬化剤を必須成分として配合してなるエポキシ樹脂組成物である。
その使用することが出来るエポキシ樹脂としては例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡＤ、ビフェノール、テトラメチルビフェノール、テルペンジフェノール、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ジブチルハイドロキノン、レゾルシン、メチルレゾルシン、、ビスフェノールＳ、チオジフェノール、ジヒドロキシジフェニルエーテル、ジヒドロキシナフタレン、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールＡノボラック樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂、テルペンフェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールノボラック樹脂などの種々のフェノール類や、種々のフェノール類と、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロトンアルデヒド、グリオキザールなどの種々のアルデヒド類との縮合反応で得られる多価フェノール樹脂、石油系重質油又はピッチ類とホルムアルデヒド重合物とフェノール類とを酸触媒の存在下に重縮合させた変性フェノール樹脂等の各種のフェノール化合物と、エピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂やジアミノジフェニルメタン、アミノフェノール、キシレンジアミンなどの種々のアミン化合物と、エピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、メチルヘキサヒドロキシフタル酸、ダイマー酸などの種々のカルボン酸類と、エピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂などがあげられる。
【００２１】
これらの中で流動性、低吸湿性、耐熱性、低応力性等に優れるエポキシ樹脂としてビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビフェノール、テトラメチルビフェノール、テルペンジフェノール、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂、ビフェニルアラルキル樹脂及びクレゾールノボラック樹脂から選ばれた少なくとも１種類のフェノール化合物と、エピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂を使用することが好ましい。本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体封止用に使用する場合には、特にこれらのエポキシ樹脂を使用することが好ましい。
本発明のエポキシ樹脂組成物に使用される本発明のエポキシ樹脂用硬化剤の使用量は、全エポキシ樹脂成分中のエポキシ基１モルに対して、全硬化剤中のエポキシ基と反応する基が０．５〜２．０モルになる量が好ましく、より好ましくは０．７〜１．２モルである。
【００２２】
本発明のエポキシ樹脂組成物には、他の一般のエポキシ樹脂組成物と同様に、各種添加剤を配合することができる。それら各種添加剤としては例えば、硬化促進剤、無機充填材、カップリング剤、難燃剤、可塑剤、反応性希釈剤、顔料等があげられ、必要に応じて適宜に配合することができる。
その硬化促進剤としては例えば、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン、トリス（ヒドロキシプロピル）ホスフィン、トリス（シアノエチル）ホスフィンなどのホスフィン化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレートなどのホスホニウム塩、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、２，４−ジシアノ−６−［２−メチルイミダゾリル−（１）］−エチル−Ｓ−トリアジン、２，４−ジシアノ−６−［２−ウンデシルイミダゾリル−（１）］−エチル−Ｓ−トリアジンなどのイミダゾール類、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテ−ト、２−メチルイミダゾリウムイソシアヌレート、２−エチル−４−メチルイミダゾリウムテトラフェニルボレート、２−エチル−１，４−ジメチルイミダゾリウムテトラフェニルボレートなどのイミダゾリウム塩、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ベンジルジメチルアミン、テトラメチルブチルグアニジン、Ｎ−メチルピペラジン、２−ジメチルアミノ−１−ピロリンなどのアミン類、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレートなどのアンモニウム塩、１，５−ジアザビシクロ（５，４，０）−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ（４，３，０）−５−ノネン、１，４−ジアザビシクロ（２，２，２）−オクタンなどのジアザビシクロ化合物、それらジアザビシクロ化合物のテトラフェニルボレート、フェノール塩、フェノールノボラック塩、２−エチルヘキサン酸塩などがあげられる。それらの硬化促進剤となる化合物の中では、ホスフィン化合物、イミダゾール化合物、ジアザビシクロ化合物、及びそれらの塩が好ましい。
【００２３】
その充填材としては例えば、溶融シリカ、結晶性シリカ、ガラス粉、アルミナ、炭酸カルシウムなどがあげられる。また、本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体封止の用途に用いる場合いには、無機充填材として、破砕型及び／又は球状の、溶融及び／又は結晶性シリカ粉末充填材を組成物全体の７０〜９５重量％配合することが好ましい。
【００２４】
その難燃剤としては、臭素化エポキシ樹脂、臭素化フェノール樹脂などのハロゲン系難燃剤、三酸化アンチモンなどのアンチモン化合物、赤燐、リン酸エステル類、ホスフィン類などのリン系難燃剤、メラミン誘導体などの窒素系難燃剤及び水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムなどの無機系難燃剤などがあげられる。
【００２５】
本発明の新規なフェノール樹脂は種々の用途に使用することができ、同化合物をエポキシ樹脂用硬化剤の主成分として用いた場合、低吸湿性かつ高接着性に優れ、さらに低応力性に優れた硬化物を与える。またその硬化剤を用いた本発明のエポキシ樹脂組成物は低吸湿性かつ高接着性に優れ、さらに低応力性に優れた硬化物を与えるので、電気電子分野、特に半導体封止の用途に有用である。
【００２６】
【実施例】
以下に、実施例により、本発明を更に詳細に説明する。
＜実施例１＞
温度計、撹拌装置、冷却管を備えた内容量２Ｌの三口フラスコに、４−（メチルチオ）−フェノール２８８ｇ、パラトルエンスルホン酸３．５ｇを仕込み、８０℃に昇温した。撹拌しながら、ホルムアルデヒド３６％水溶液８６ｇを１時間かけて滴下した。フラスコ内の温度は反応熱で１４０℃に上昇した。その間、生成する水は留去した。滴下終了後、温度を１４０℃に保ちながら３時間保持して反応を行わせた。続いて、８０℃まで冷却した後トルエン９００ｇを加え、系内が中性になるまで水洗した。その後、１６０℃、５ｔｏｒｒの減圧下でトルエンと未反応の４−（メチルチオ）−フェノールを留去し、目的のフェノール樹脂を得た。このフェノール樹脂はフェノール性水酸基当量１５３／ｅｑ．、軟化点７５℃、１５０℃での溶融粘度０．２６Ｐａ・ｓの褐色固体であった。
【００２７】
＜実施例２＞
実施例１において４−（メチルチオ）−フェノール２８８ｇを４−（メチルチオ）−ｍ−クレゾール２８９ｇ、ホルムアルデヒド３６％水溶液の使用量を７８ｇとした以外は実施例１と同様の操作を行い、目的のフェノール樹脂を得た。このフェノール樹脂はフェノール性水酸基当量１６５ｇ／ｅｑ．、軟化点６９℃、１５０℃での溶融粘度０．１Ｐａ・ｓの褐色固体であった。このフェノール樹脂のＩＲチャートを図１に、ＧＰＣチャートを図２に示す。
【００２８】
＜実施例３＞
実施例２においてホルムアルデヒド３６％水溶液の使用量を１１０ｇとした以外は、実施例１と同様の操作を行い、目的のフェノール樹脂を得た。このフェノール樹脂はフェノール性水酸基当量１６９ｇ／ｅｑ．、軟化点８１℃、１５０℃での溶融粘度０．５Ｐａ・ｓの褐色固体であった。
【００２９】
＜実施例４＞
温度計、撹拌装置、冷却管を備えた内容量２Ｌの三口フラスコに、ｏ−クレゾール７４ｇ、を仕込み、３０℃に昇温した。発熱に注意しながら５０％水酸化ナトリウム水溶液５６ｇを加え、３０℃で１時間攪拌した。その後、パラホルムアルデヒド４８ｇを加え、３０℃で１時間、４５℃で２時間攪拌した。続いて２０℃に冷却し、発熱に注意しながら濃塩酸６８ｇを滴下した後、メタノール１５０ｇ、４−（メチルチオ）−フェノール２８８ｇを加えた。５０℃に昇温した後、濃塩酸７ｇを投入し、６０℃で２時間、８０℃で１時間攪拌した。反応終了後、トルエン７００ｇを加え、系内が中性になるまで水洗した。その後、１６０℃、５ｔｏｒｒの減圧下でトルエン、未反応のｏ−クレゾール、４−（メチルチオ）−フェノールを留去し、目的のフェノール樹脂を得た。このフェノール樹脂はフェノール性水酸基当量１４４ｇ／ｅｑ．、軟化点９１℃、１５０℃での溶融粘度０．４１Ｐａ・ｓの褐色固体であった。
【００３０】
＜実施例５＞
実施例４において４−（メチルチオ）−フェノール２８８ｇを４−（メチルチオ）−ｍ−クレゾール３１５ｇとした以外は実施例４と同様の操作を行い、目的のフェノール樹脂を得た。このフェノール樹脂はフェノール性水酸基当量１５０ｇ／ｅｑ．、軟化点８７℃、１５０℃での溶融粘度０．３Ｐａ・ｓの褐色固体であった。
このフェノール樹脂のＩＲチャートを図３に、ＧＰＣチャートを図４に示す。
【００３１】
エポキシ樹脂組成物実施例６〜１２及び比較例１〜２
表１に示したように、エポキシ樹脂として、テトラメチルビフェノールから誘導されたエポキシ樹脂、ビフェノールとテトラメチルビフェノールから誘導されたエポキシ樹脂、又はオルソクレゾールノボラック樹脂から誘導されたエポキシ樹脂、エポキシ樹脂用硬化剤として実施例１〜５で製造した各エポキシ樹脂用硬化剤、フェノールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、無機充填剤としてシリカ粉末、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィンを用い、さらにカップリング剤としてエポキシシラン、離型剤としてカルナバワックスをそれぞれ用いて、各エポキシ樹脂組成物を配合した。次いで、各配合物をミキシングロールを用いて７０〜１２０℃の温度で５分間溶融混練した。得られた各溶融混合物は薄板状に取り出し冷却した後、粉砕して各成形材料を得た。これらの各成形材料を用い低圧トランスファー成形機で金型温度１７５℃、成形時間１８０秒で成形して、各試験片を得、１８０℃で８時間ポストキュアさせた。
ポストキュア後の各試験片の吸湿率、ガラス転移温度、および接着性を試験した結果を表１に示した。さらに各成形材料により封止された模擬半導体装置の耐ハンダクラック性を試験した結果を表１に示した。
これより、実施例６〜１２の各エポキシ樹脂組成物の成形材料は、比較例１〜２の成形材料と比較して低吸湿性、低応力性、高接着性のバランスに優れ、さらに耐ハンダクラック性に優れていた。
【００３２】
【表１】
（註）
＊１：Ａ；ビフェニル型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社商品名 エピコ−トＹＸ４０００Ｈ，エポキシ当量：１９３（ｇ／ｅｑ））
＊２：Ｂ；クレゾ−ルノボラック型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社商品名 エピコ−ト１８０Ｓ６２，エポキシ当量：２１０（ｇ／ｅｑ））
＊３：Ｃ；ビフェニル型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社商品名 エピコ−トＹＬ６１２１Ｈ，エポキシ当量：１７２（ｇ／ｅｑ），）
＊４：Ｄ；フェノ−ルノボラック樹脂（群栄化学社商品名 レヂトップＰＳＭ４２６１，水酸基当量：１０３（ｇ／ｅｑ），軟化点：８５℃）
＊５：Ｅ；フェノ−ルアラルキル樹脂（明和化成社商品名 ＭＥＨ−７８００Ｓ，水酸基当量：１７５（ｇ／ｅｑ），軟化点：７５（℃）
＊６：溶融シリカ粉末（龍森社商品名 ＲＤ−８）
＊７：エポキシシラン（信越化学工業社商品名 ＫＢＭ−４０３）
＊８：８５℃、８５％ＲＨ、１６８時間後の吸湿率
＊９：ＴＭＡ法
＊１０：アルミピール試験
＊１１：８０ピンＱＦＰ１６個を８５℃、８５％ＲＨにおいて７２時間吸湿後、２６０℃ハンダ浴に１０秒間浸漬し、
クラックの発生した個数を求めた。
【００３４】
【発明の効果】
本発明のフェノール樹脂はエポキシ樹脂用硬化剤の成分として用いた場合に、低吸湿性、低応力性かつ高接着に優れた硬化物を与えることができるので、同硬化剤を用いた本発明のエポキシ樹脂組成物は半導体封止の用途に有利に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例２のフェノール樹脂のＧＰＣチャートである。
【図２】実施例２のフェノール樹脂のＩＲチャートである。
【図３】実施例５のＧＰＣチャートである。
【図４】実施例５のフェノール樹脂のＩＲチャートである。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a novel phenol resin, a curing agent for an epoxy resin using the phenol resin, and an epoxy resin composition using the curing agent. This compound can give a cured product having excellent low hygroscopicity, low stress and high adhesiveness, and is particularly useful for semiconductor encapsulation.
[0002]
[Prior art]
Epoxy resins are used in a wide variety of applications because of their excellent cured physical properties and ease of handling. Further, various types of curing agents can be used for the epoxy resin, and the curing properties are greatly changed depending on the selection of the curing agent. Therefore, the epoxy resins are properly used according to the purpose of each use. In recent years, various characteristics imposed on a polymer material have become stricter as use conditions of the polymer material have become severer. Even in applications where a curing agent for epoxy resin is used, various commonly used curing agents cannot satisfy the required characteristics sufficiently. For example, an epoxy resin composition using a novolak-type phenol resin as a curing agent is used for semiconductor encapsulation, but in this field, the required performance is becoming strict. That is, in order to increase the degree of integration of a semiconductor device, the size of a semiconductor element and the size and thickness of a package have been increased, and the mounting method has also shifted to surface mounting. In this case, the entire semiconductor device is exposed to a high temperature near the melting temperature of the solder at the time of mounting, and the vapor pressure is generated due to the rapid vaporization of the moisture absorbed by the package, so that a large stress is applied to the entire package and a crack is generated. It has become. For a sealing material having good solder crack resistance, low moisture absorption, low stress (that is, low elastic modulus), and high adhesion are required. This requirement has become more severe in recent years due to an increase in the melting point associated with lead-free soldering.
At present, a phenol novolak resin (phenol-formaldehyde resin) mainly used as a curing agent has not been able to say that its low moisture absorption and low stress are sufficient. Recently, in order to solve these problems, a phenol resin containing a hydrocarbon group with a ring structure between phenol nuclei, such as dicyclopentadiene phenol resin and phenol aralkyl resin, and a tetramethyl biphenol type epoxy resin Improvements in low moisture absorption, low stress, and high adhesiveness have been made using compositions (Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-47725), but low moisture absorption, low stress, and high adhesiveness have been proposed. Neither of these is necessarily sufficient to meet the recent stringent demands.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a novel phenolic resin which can be used for various applications, and particularly when used as a curing agent for an epoxy resin, can provide a cured product excellent in low moisture absorption, low stress, and high adhesion. To provide a curing agent for an epoxy resin containing the compound as a main component, and to provide an epoxy resin composition using the curing agent.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
The present inventors have conducted various studies to solve the above-described problems, and as a result, by using a phenol resin having a thioether group on a phenol nucleus as a main component of the epoxy resin curing agent as a curing agent for the epoxy resin. It has achieved its purpose. The present invention
"1. A novel phenol resin obtained by a polycondensation reaction between a phenol compound represented by the following general formula (1) and an aldehyde.
General formula (1)
[0005]
Embedded image
(The symbols in the formula are defined as follows.
R 1 May be the same or different and are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group. R 2 May be the same or different and are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom. a is an integer of 1-4 and b is an integer of 0-3. )
2. A novel phenol resin obtained by a polycondensation reaction between a phenol compound represented by the general formula (I) and a phenol compound represented by the following general formula (II) and an aldehyde. General formula (II)
[0007]
Embedded image
(The symbols in the formula are defined as follows.
R 3 May be the same or different and are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom. c is an integer of 0-4. )
3. 3. The novel phenolic resin according to
4. Item 4. An epoxy resin curing agent comprising the phenolic resin described in any one of
5. The epoxy resin curing agent according to item 4, wherein the phenol resin has a hydroxyl equivalent of 130 to 300 g / eq, a softening point of 50 to 140 ° C, and a melt viscosity at 150 ° C of 0.8 Pa · s.
6. An epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent for an epoxy resin described in the
7. An epoxy resin composition comprising the epoxy resin curing agent according to
8. Bisphenol A, bisphenol F, biphenol, tetramethyl biphenol, terpene diphenol, dicyclopentadiene phenol resin, biphenyl aralkyl resin and at least one phenol compound selected from cresol novolak resin, epoxy resin produced from epihalohydrin, And an epoxy resin composition comprising, as an essential component, the curing agent for an epoxy resin described in the
9. The epoxy resin, the hardener for the epoxy resin described in the
About.
[0009]
The phenolic resin according to
As the reaction conditions for the polycondensation reaction, general novolak reaction conditions can be used. That is, the reaction is carried out at a temperature of 20 to 200 ° C. for 1 to 20 hours in the presence of an acidic catalyst.
Examples of the acidic catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid; organic acids such as oxalic acid and toluenesulfonic acid; heteropolyacids such as silicotungstic acid and phosphotungstic acid; activated clay; An acidic catalyst for producing novolak resins can be used. The amount of the acidic catalyst used is 0.1 to 5 parts by weight, preferably 0.3 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the phenol compound.
In the condensation reaction, an inert solvent such as aromatic hydrocarbons, alcohols and ethers, and a ketone solvent can be used by selecting reaction conditions.
After completion of the reaction, the phenolic resin of the present invention can be obtained by removing an acidic catalyst, a salt thereof when neutralized, an unreacted phenolic compound, a reaction solvent, and the like, if necessary. When the phenolic resin of the present invention is used for a semiconductor encapsulating material, it is preferable to remove the acidic catalyst or a salt thereof by a method such as washing with water, filtration, and adsorption in order to prevent corrosion of the semiconductor.
[0010]
Examples of the phenol compound having a thioether group used herein include, for example, methylthiophenol, ethylthiophenol, propylthiophenol, butylthiophenol, phenylthiophenol, methylthiocresol, ethylthiocresol, propylthiocresol, butylthiocresol, and phenyl Thiocresol and the like.
Among these phenol compounds having a thioether group, methylthiophenol and methylthiocresol are preferred from the viewpoint of availability.
The aldehydes used here include formaldehyde, acetaldehyde, propanaldehyde, butyraldehyde, valeraldehyde, capronaldehyde, benzaldehyde, chlorbenzaldehyde, bromobenzaldehyde, glyoxalaldehyde, malonaldehyde, succinaldehyde, glutaraldehyde, adipaldehyde, Pimeraldehyde, sebacic aldehyde, acrolein, crotonaldehyde, salicylaldehyde, phthalaldehyde, hydroxybenzaldehyde and the like can be mentioned.
When the above-mentioned phenol compound and aldehyde are subjected to the polycondensation reaction, the use ratio of the aldehyde to the phenol compound is such that the larger the obtained phenol resin is, the higher the molecular weight of the phenol resin becomes. Since the resin has a high viscosity, the flowability of the composition deteriorates. Therefore, the use ratio must be adjusted according to the purpose of use, but usually, 0.1 to 2.0 mol, preferably 0.15 to 1.0 mol of the aldehyde per 1 mol of the above-mentioned phenol compound. Is a mole.
[0011]
Usually, a phenol resin containing the compound represented by the general formula (III) as a main component is obtained by the above reaction.
General formula (III)
[0012]
Embedded image
(The symbols in the formula are defined as follows.
R 1 May be the same or different and are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group. R 2 May be the same or different and are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom. R 4 Is hydrogen, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group. n is an average number of 0.1 to 10, a is an integer of 1 to 4, and b is an integer of 0 to 3. )
[0014]
The phenolic resin according to claim 2 of the present invention comprises reacting a phenolic compound with an aldehyde in the presence of an alkali to form a dimethylol compound, and then reacting the dimethylol compound with a phenolic compound having a thioether group in the presence of an acidic catalyst. A method of performing a polycondensation reaction is preferable in that a phenol resin having high purity can be obtained by an easy operation. As the dimethylol compound, commercially available products such as 2,6-dimethylol-4-methylphenol and 4,6-dimethylol-2-methylphenol may be used.
Examples of the alkaline compound used herein include metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, and potassium carbonate. Of these, sodium hydroxide is preferred from the viewpoint of the reaction rate.
Examples of the phenol compound used here include phenol, cresol, xylenol, propylphenol, butylphenol, butylcresol, phenylphenol, cumylphenol, methoxyphenol, bromophenol and the like.
Among these phenol compounds, phenol or cresol is preferred from the viewpoint of physical properties and availability.
Further, the same aldehydes, acidic catalysts, and phenol compounds having a thioether group as those used in the production of the phenolic resin described in
In the condensation reaction, an inert solvent such as aromatic hydrocarbons, alcohols and ethers, and a ketone solvent can be used by selecting reaction conditions.
After completion of the reaction, the phenolic resin of the present invention can be obtained by removing an acidic catalyst, a salt thereof when neutralized, an unreacted phenolic compound, a reaction solvent, and the like, if necessary. When the phenolic resin of the present invention is used for a semiconductor encapsulating material, it is preferable to remove the acidic catalyst or a salt thereof by a method such as washing with water, filtration, and adsorption in order to prevent corrosion of the semiconductor.
[0015]
As another method for producing the phenolic resin according to claim 2 of the present invention, a method of subjecting a phenolic compound having a thioether group, a phenolic compound, and an aldehyde to a polycondensation reaction in the presence of an acidic catalyst is also a simple method to purify the phenolic resin. This is preferable in that a phenol resin having good odor can be obtained.
As the reaction conditions for the polycondensation reaction, general novolak reaction conditions can be used. That is, the reaction is carried out at a temperature of 20 to 200 ° C. for 1 to 20 hours in the presence of an acidic catalyst.
As the phenol compound having a thioether group, the phenol compound, the aldehydes, and the acidic catalyst used herein, the same ones as those used in the production of the phenol resin described in
In the condensation reaction, an inert solvent such as aromatic hydrocarbons, alcohols and ethers, and a ketone solvent can be used by selecting reaction conditions.
After completion of the reaction, the phenolic resin of the present invention can be obtained by removing an acidic catalyst, a salt thereof when neutralized, an unreacted phenolic compound, a reaction solvent, and the like, if necessary. When the phenolic resin of the present invention is used for a semiconductor encapsulating material, it is preferable to remove the acidic catalyst or a salt thereof by a method such as washing with water, filtration, and adsorption in order to prevent corrosion of the semiconductor.
Usually, a phenol resin containing a compound represented by the following general formula (IV) as a main component is obtained by the above reaction.
General formula (IV)
[0016]
Embedded image
(The symbols in the formula are defined as follows.
R 1 May be the same or different and are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group. R 2 May be the same or different and are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom. R 3 May be the same or different and are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom. R 5 May be the same or different and are hydrogen, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group. l and m are numbers of 0.1 to 10 on average, a is an integer of 1 to 4, b is an integer of 0 to 3, and c is an integer of 0 to 4. )
The quality properties of the phenolic resin of the present invention produced as described above vary depending on the type of each raw material, the usage ratio, the reaction conditions, the purification method, and the like, but when used as the epoxy resin curing agent of the present invention. , The hydroxyl equivalent is 130 to 300 g / eq. , Preferably 140 to 250 g / eq. It is preferable to adjust various conditions such that the melt viscosity at a softening point of 50 to 140 ° C., preferably 60 to 100 ° C. and 150 ° C. is 0.8 Pa · s or less, preferably 0.5 Pa · s or less.
[0018]
The curing agent for an epoxy resin of the present invention is a curing agent containing a phenol resin obtained as described above as a main component, and a cured epoxy resin excellent in low hygroscopicity, low stress and high adhesiveness. Can be given. That is, the curing agent for epoxy resin of the present invention may be one using the phenol resin alone or one using another curing agent for epoxy resin in combination.
Other curing agents for epoxy resins that can be used in combination include, for example, phenolic resins such as novolak type phenolic resins, phenol aralkyl resins, dicyclopentadiene phenolic resins, and terpene phenolic resins; tetrahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, and the like. Acid anhydrides; and amines such as diaminodiphenylmethane. When the epoxy resin curing agent of the present invention is used for semiconductor encapsulation, other curing agents used in combination include novolak type phenol resins, phenol aralkyl resins, dicyclopentadiene phenol resins, terpene phenol resins, and the like. Phenolic resins are preferred.
The amount of the other curing agent used in combination is 90% by weight or less, preferably 50% by weight or less, more preferably 30% by weight or less based on the total amount of the curing agent. If the combined amount of the other curing agents is too large, the effect of the present invention cannot be sufficiently exhibited.
The phenol resin, which is a main component of the epoxy resin curing agent of the present invention, and the other epoxy resin curing agent that can be used in combination as described above may be provided after being mixed in advance before forming the composition, or at the time of compounding the composition. Each required amount can be provided alone.
[0019]
The quality properties of the epoxy resin curing agent of the present invention produced as described above vary depending on the type of each component, the usage ratio, and the like, but the hydroxyl equivalent is 130 to 300 g / eq. , Preferably 140 to 250 g / eq. It is preferable to adjust various conditions such that the melt viscosity at a softening point of 50 to 140 ° C., preferably 60 to 100 ° C. and 150 ° C. is 0.8 Pa · s or less, preferably 0.5 Pa · s or less. If the hydroxyl group equivalent is too small, low hygroscopicity is inferior, and if too large, the curability deteriorates. If the softening point is too low, handling as a solid becomes difficult, and if it is too high, mixing with an epoxy resin or the like becomes difficult. If the melt viscosity is too high, the fluidity during molding is impaired.
[0020]
Next, the epoxy resin composition of the present invention is an epoxy resin composition comprising the epoxy resin and the curing agent for epoxy resin of the present invention as essential components.
Examples of the epoxy resin that can be used include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, biphenol, tetramethylbiphenol, terpene diphenol, hydroquinone, methylhydroquinone, dibutylhydroquinone, resorcinol, methylresorcinol, bisphenol S, and thiodithiophene. Various phenols such as phenol, dihydroxydiphenyl ether, dihydroxynaphthalene, phenol novolak resin, cresol novolak resin, bisphenol A novolak resin, dicyclopentadiene phenol resin, terpene phenol resin, phenol aralkyl resin, naphthol novolak resin, and various phenols And hydroxybenzaldehyde, crotonaldehyde, glyoxal, etc. Various polyphenol resins such as polyphenol resins obtained by condensation reaction with various aldehydes, modified phenol resins such as petroleum heavy oil or pitches, formaldehyde polymer and phenols in the presence of an acid catalyst. Various amine compounds such as epoxy resins and diaminodiphenylmethane, aminophenol, xylene diamine and epoxy resins produced from phenol compounds and epihalohydrins, and epoxy resins produced from epihalohydrins, various resins such as methylhexahydroxyphthalic acid and dimer acid An epoxy resin produced from a carboxylic acid and epihalohydrin may, for example, be mentioned.
[0021]
Among these, bisphenol A, bisphenol F, biphenol, tetramethyl biphenol, terpene diphenol, dicyclopentadiene phenol resin, biphenyl aralkyl resin, and cresol as epoxy resins having excellent fluidity, low moisture absorption, heat resistance, and low stress. It is preferred to use an epoxy resin produced from at least one phenolic compound selected from novolak resins and epihalohydrin. When the epoxy resin composition of the present invention is used for semiconductor encapsulation, it is particularly preferable to use these epoxy resins.
The amount of the epoxy resin curing agent of the present invention used in the epoxy resin composition of the present invention is such that the group reacting with the epoxy group in the entire curing agent is 1 mol of the epoxy group in the entire epoxy resin component. The amount is preferably 0.5 to 2.0 mol, more preferably 0.7 to 1.2 mol.
[0022]
Various additives can be added to the epoxy resin composition of the present invention, similarly to other general epoxy resin compositions. Examples of the various additives include a curing accelerator, an inorganic filler, a coupling agent, a flame retardant, a plasticizer, a reactive diluent, a pigment, and the like, and can be appropriately added as needed.
Examples of the curing accelerator include phosphine compounds such as tributylphosphine, triphenylphosphine, tris (dimethoxyphenyl) phosphine, tris (hydroxypropyl) phosphine, and tris (cyanoethyl) phosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, and methyltributylphosphonium tetra. Phosphonium salts such as phenylborate and methyltricyanoethylphosphonium tetraphenylborate, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 2 , 4-dicyano-6- [2-methylimidazolyl- (1)]-ethyl-S-triazine, 2,4-dicyano-6- [2-undeci Imidazoles such as imidazolyl- (1)]-ethyl-S-triazine, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 2-methylimidazolium isocyanurate, 2-ethyl-4-methylimidazolium tetra Imidazolium salts such as phenylborate, 2-ethyl-1,4-dimethylimidazolium tetraphenylborate, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, benzyldimethylamine, tetramethylbutylguanidine, N-methylpiperazine , 2-dimethylamino-1-pyrroline and other amines, ammonium salts such as triethylammonium tetraphenylborate, 1,5-diazabicyclo (5,4,0) -7-undecene, 1,5-diazabicyclo (4,3 , 0) -5-none , 1,4-diazabicyclo (2,2,2) - diazabicyclo compounds such as octane, tetraphenylborate thereof diazabicyclo compounds, phenol salts, phenol novolak salts and 2-ethyl hexanoate and the like. Among the compounds that serve as curing accelerators, phosphine compounds, imidazole compounds, diazabicyclo compounds, and salts thereof are preferable.
[0023]
Examples of the filler include fused silica, crystalline silica, glass powder, alumina, and calcium carbonate. When the epoxy resin composition of the present invention is used for semiconductor encapsulation, a crushable and / or spherical, fused and / or crystalline silica powder filler is used as the inorganic filler as a whole. It is preferable to mix 70 to 95% by weight.
[0024]
Examples of the flame retardant include halogenated flame retardants such as brominated epoxy resins and brominated phenol resins, antimony compounds such as antimony trioxide, phosphorus-based flame retardants such as red phosphorus, phosphate esters, and phosphines, and melamine derivatives. And inorganic flame retardants such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide.
[0025]
The novel phenolic resin of the present invention can be used for various applications, and when the compound is used as a main component of a curing agent for an epoxy resin, it has excellent low moisture absorption and high adhesiveness, and further excellent low stress property. To give a cured product. Further, the epoxy resin composition of the present invention using the curing agent provides a cured product excellent in low hygroscopicity and high adhesiveness, and further excellent in low stress, so that it is useful in the field of electric and electronic fields, especially for semiconductor encapsulation. It is.
[0026]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
<Example 1>
288 g of 4- (methylthio) -phenol and 3.5 g of paratoluenesulfonic acid were charged into a 2 L three-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser, and the temperature was raised to 80 ° C. While stirring, 86 g of a 36% aqueous solution of formaldehyde was added dropwise over 1 hour. The temperature in the flask rose to 140 ° C. due to the heat of reaction. During that time, the generated water was distilled off. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out by keeping the temperature at 140 ° C. for 3 hours. Subsequently, after cooling to 80 ° C., 900 g of toluene was added, and the system was washed with water until the system became neutral. Thereafter, 4- (methylthio) -phenol unreacted with toluene was distilled off at 160 ° C. under a reduced pressure of 5 torr to obtain a target phenol resin. This phenol resin has a phenolic hydroxyl equivalent of 153 / eq. , A brown solid having a softening point of 75 ° C and a melt viscosity at 150 ° C of 0.26 Pa · s.
[0027]
<Example 2>
The same operation as in Example 1 was carried out except that 288 g of 4- (methylthio) -phenol was used in Example 1 and 289 g of 4- (methylthio) -m-cresol was used, and the amount of a 36% aqueous formaldehyde solution was changed to 78 g. A resin was obtained. This phenol resin has a phenolic hydroxyl equivalent of 165 g / eq. And a brown solid having a softening point of 69 ° C. and a melt viscosity at 150 ° C. of 0.1 Pa · s. FIG. 1 shows an IR chart of this phenol resin, and FIG. 2 shows a GPC chart thereof.
[0028]
<Example 3>
The same operation as in Example 1 was performed, except that the amount of the 36% aqueous formaldehyde solution used in Example 2 was changed to 110 g, to obtain a target phenol resin. The phenol resin has a phenolic hydroxyl equivalent of 169 g / eq. , A brown solid having a softening point of 81 ° C and a melt viscosity at 150 ° C of 0.5 Pa · s.
[0029]
<Example 4>
A 2-L three-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser was charged with 74 g of o-cresol, and the temperature was raised to 30C. 56 g of a 50% aqueous sodium hydroxide solution was added while paying attention to heat generation, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 1 hour. Thereafter, 48 g of paraformaldehyde was added, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 1 hour and at 45 ° C. for 2 hours. Subsequently, the mixture was cooled to 20 ° C., 68 g of concentrated hydrochloric acid was added dropwise while paying attention to heat generation, and 150 g of methanol and 288 g of 4- (methylthio) -phenol were added. After the temperature was raised to 50 ° C., 7 g of concentrated hydrochloric acid was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours and at 80 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, 700 g of toluene was added, and the system was washed with water until the inside of the system became neutral. Thereafter, toluene, unreacted o-cresol, and 4- (methylthio) -phenol were distilled off at 160 ° C. under a reduced pressure of 5 torr to obtain a target phenol resin. This phenol resin has a phenolic hydroxyl equivalent of 144 g / eq. And a brown solid having a softening point of 91 ° C. and a melt viscosity at 150 ° C. of 0.41 Pa · s.
[0030]
<Example 5>
The same operation as in Example 4 was carried out except that 288 g of 4- (methylthio) -phenol was changed to 315 g of 4- (methylthio) -m-cresol in Example 4, to obtain a target phenol resin. The phenol resin has a phenolic hydroxyl equivalent of 150 g / eq. And a brown solid having a softening point of 87 ° C. and a melt viscosity at 150 ° C. of 0.3 Pa · s.
FIG. 3 shows an IR chart of this phenol resin, and FIG. 4 shows a GPC chart thereof.
[0031]
Epoxy resin compositions Examples 6-12 and Comparative Examples 1-2
As shown in Table 1, as the epoxy resin, an epoxy resin derived from tetramethylbiphenol, an epoxy resin derived from biphenol and tetramethylbiphenol, or an epoxy resin derived from ortho-cresol novolak resin, curing for epoxy resin Curing agent for each epoxy resin produced in Examples 1 to 5, phenol novolak resin, phenol aralkyl resin, silica powder as an inorganic filler, triphenylphosphine as a curing accelerator, epoxy silane as a coupling agent, Each epoxy resin composition was compounded using carnauba wax as a release agent. Next, each compound was melt-kneaded at a temperature of 70 to 120 ° C. for 5 minutes using a mixing roll. Each of the obtained molten mixtures was taken out into a thin plate, cooled, and then pulverized to obtain each molding material. Each of these molding materials was molded by a low-pressure transfer molding machine at a mold temperature of 175 ° C. and a molding time of 180 seconds to obtain each test piece, which was post-cured at 180 ° C. for 8 hours.
Table 1 shows the results of testing the moisture absorption, the glass transition temperature, and the adhesiveness of each test piece after the post cure. Table 1 shows the results of a test on the solder crack resistance of the simulated semiconductor device sealed with each molding material.
Accordingly, the molding materials of the epoxy resin compositions of Examples 6 to 12 are excellent in the balance between low moisture absorption, low stress, and high adhesion as compared with the molding materials of Comparative Examples 1 and 2, and furthermore have a solder resistance. Excellent cracking properties.
[0032]
[Table 1]
(Note)
* 1: A: Biphenyl type epoxy resin (Japan Epoxy Resin Co., Ltd., Epicoat YX4000H, epoxy equivalent: 193 (g / eq))
* 2: B; Cresol-novolak type epoxy resin (Japan Epoxy Resin Company, Epicoat 180S62, epoxy equivalent: 210 (g / eq))
* 3: C: biphenyl type epoxy resin (Japan Epoxy Resin Company, Epicoat YL6121H, epoxy equivalent: 172 (g / eq),)
* 4: D: phenol-novolak resin (trade name, Gunei Chemical Co., Ltd., resin top PSM 4261, hydroxyl equivalent: 103 (g / eq), softening point: 85 ° C)
* 5: E: phenol aralkyl resin (MEH-7800S, trade name of Meiwa Kasei Co., Ltd., hydroxyl equivalent: 175 (g / eq), softening point: 75 (° C)
* 6: Fused silica powder (Tatsumori company name RD-8)
* 7: Epoxysilane (brand name KBM-403, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
* 8: 85 ° C, 85% RH, moisture absorption after 168 hours
* 9: TMA method
* 10: Aluminum peel test
* 11: Sixteen 80-pin QFPs were absorbed at 85 ° C. and 85% RH for 72 hours, then immersed in a 260 ° C. solder bath for 10 seconds,
The number of cracks was determined.
[0034]
【The invention's effect】
When the phenolic resin of the present invention is used as a component of a curing agent for an epoxy resin, a cured product excellent in low moisture absorption, low stress and high adhesion can be provided. The epoxy resin composition can be advantageously used for semiconductor encapsulation applications.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a GPC chart of a phenol resin of Example 2.
FIG. 2 is an IR chart of the phenol resin of Example 2.
FIG. 3 is a GPC chart of Example 5.
FIG. 4 is an IR chart of the phenol resin of Example 5.
Claims (9)
一般式（Ｉ）
Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基である。Ｒ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はハロゲン原子である。ａは１〜４、ｂは０〜３の整数である。）A novel phenol resin obtained by a polycondensation reaction between a phenol compound represented by the following general formula (I) and an aldehyde.
General formula (I)
R 1 may be the same or different, and is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group. R 2 may be the same or different and is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom. a is an integer of 1-4 and b is an integer of 0-3. )
一般式（ＩＩ）
Ｒ３は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はハロゲン原子である。ｃは０〜４の整数である。）A novel phenol resin obtained by a polycondensation reaction between a phenol compound represented by the general formula (I) and a phenol compound represented by the following general formula (II) and an aldehyde.
General formula (II)
R 3 may be the same or different and is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom. c is an integer of 0-4. )
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