JP3392053B2 - 定純度酸素を製造するための固体電解質系 - Google Patents
定純度酸素を製造するための固体電解質系Info
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- C01—INORGANIC CHEMISTRY
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】発明は、混合ガス供給流から
酸素を分離して所望の純度の酸素を生成するための装置
及び方法に関し、一層特には空気から酸素を分離して選
定した純度を有する酸素を生成するための固体電解質イ
オン輸送膜を利用する装置及び方法に関する。
酸素を分離して所望の純度の酸素を生成するための装置
及び方法に関し、一層特には空気から酸素を分離して選
定した純度を有する酸素を生成するための固体電解質イ
オン輸送膜を利用する装置及び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】酸素イオンを急速に輸送することができ
る固体電解質イオン性又は混合イオン性−電子伝導体
は、空気分離において使用するための有意の可能性を有
する。そのような材料で造られる膜は、酸素イオンだけ
を輸送し、従って酸素をその他のすべての種に比べて透
過する無限の選択性を有する。この性質は、酸素生成物
が固有に純であるので、酸素製造において特に有利であ
る。逆に、固体電解質イオン輸送材料は、また、空気流
から酸素を除いて酸素の存在しない「窒素」生成物を製
造するのにも用いてよい。
る固体電解質イオン性又は混合イオン性−電子伝導体
は、空気分離において使用するための有意の可能性を有
する。そのような材料で造られる膜は、酸素イオンだけ
を輸送し、従って酸素をその他のすべての種に比べて透
過する無限の選択性を有する。この性質は、酸素生成物
が固有に純であるので、酸素製造において特に有利であ
る。逆に、固体電解質イオン輸送材料は、また、空気流
から酸素を除いて酸素の存在しない「窒素」生成物を製
造するのにも用いてよい。
【０００３】空気は、水蒸気を種々の量で含有し得るガ
スの混合物であり、界面レベルで、下記の大よその容積
による組成を有する：酸素（２０．９％）、窒素（７８
％）、アルゴン（０．９４％）、残りはその他の微量の
ガスからなる。基本の固体電解質イオン輸送プロセスが
空気を供給ガスとして使用される場合に、供給空気流中
の少量の不純物（例えば、アルゴン、二酸化炭素、水及
び微量の炭化水素）が「窒素」残留質中に保留される。
スの混合物であり、界面レベルで、下記の大よその容積
による組成を有する：酸素（２０．９％）、窒素（７８
％）、アルゴン（０．９４％）、残りはその他の微量の
ガスからなる。基本の固体電解質イオン輸送プロセスが
空気を供給ガスとして使用される場合に、供給空気流中
の少量の不純物（例えば、アルゴン、二酸化炭素、水及
び微量の炭化水素）が「窒素」残留質中に保留される。
【０００４】従って、酸素イオンだけを輸送する固体電
解質イオン性伝導体は、空気のようなガス混合物から酸
素を分離するために魅力的であるように思われる。これ
らの材料は、酸素イオン及び電子を輸送することができ
る純にイオン性の伝導体又は混合伝導体にすることがで
き、酸素についてのその他のすべてのガスに勝るそれら
の無限の選択性の故に、特に魅力的である。これの一つ
の結果は、固体電解質イオン輸送分離装置によって生成
される酸素が超高純度（ＵＨＰ）であることである。し
かし、超高純度の酸素は、特に高い圧力及び温度におい
て極めて反応性である。これより、超高純度の酸素を輸
送（例えば、パイピングにより）、伝熱、等のために取
り扱うことは、費用がかかる傾向にありかつ特種の材料
を用いることを要するのがしばしばである。その上に、
現行の酸素の用途のほとんどは、たった９０〜９９％の
純度を要求し、純度をＵＨＰレベルに上げかつＵＨＰ酸
素を取り扱うことの増大される困難を扱うことに、利点
はめったに存在しない。
解質イオン性伝導体は、空気のようなガス混合物から酸
素を分離するために魅力的であるように思われる。これ
らの材料は、酸素イオン及び電子を輸送することができ
る純にイオン性の伝導体又は混合伝導体にすることがで
き、酸素についてのその他のすべてのガスに勝るそれら
の無限の選択性の故に、特に魅力的である。これの一つ
の結果は、固体電解質イオン輸送分離装置によって生成
される酸素が超高純度（ＵＨＰ）であることである。し
かし、超高純度の酸素は、特に高い圧力及び温度におい
て極めて反応性である。これより、超高純度の酸素を輸
送（例えば、パイピングにより）、伝熱、等のために取
り扱うことは、費用がかかる傾向にありかつ特種の材料
を用いることを要するのがしばしばである。その上に、
現行の酸素の用途のほとんどは、たった９０〜９９％の
純度を要求し、純度をＵＨＰレベルに上げかつＵＨＰ酸
素を取り扱うことの増大される困難を扱うことに、利点
はめったに存在しない。
【０００５】慣用の非極低温空気分離プロセスでは、酸
素の濃度は低く保たれかつ増分量で精製され、ＵＨＰ酸
素を生成するか又は希釈するかのいずれかをする必要が
ない。対照して、極低温蒸留によって生成される酸素
は、極めて純に（純度およそ９９．５％）にすることが
でき、ＵＨＰ酸素の反応性が高いことから、特種の材料
及び手順が採用されるのが典型的である。従って、極低
温プロセスにおいて安全に用いられることができる材料
は、遭遇される酸素濃度に依存する。酸素濃度が高くな
るにつれて、用いるのに安全な特種材料は、ほんの少し
である。要求は、ＵＨＰ酸素を生産しかつ必ず通常酸素
と酸素を接触させる材料との反応の速度を増大させる高
い温度で作動しなければならない固体電解質イオン輸送
プロセスでは、更に一層厳しいものになり得る。
素の濃度は低く保たれかつ増分量で精製され、ＵＨＰ酸
素を生成するか又は希釈するかのいずれかをする必要が
ない。対照して、極低温蒸留によって生成される酸素
は、極めて純に（純度およそ９９．５％）にすることが
でき、ＵＨＰ酸素の反応性が高いことから、特種の材料
及び手順が採用されるのが典型的である。従って、極低
温プロセスにおいて安全に用いられることができる材料
は、遭遇される酸素濃度に依存する。酸素濃度が高くな
るにつれて、用いるのに安全な特種材料は、ほんの少し
である。要求は、ＵＨＰ酸素を生産しかつ必ず通常酸素
と酸素を接触させる材料との反応の速度を増大させる高
い温度で作動しなければならない固体電解質イオン輸送
プロセスでは、更に一層厳しいものになり得る。
【０００６】どの材料が高い濃度の酸素を含有する液体
又はガスにおいて使用するために適しているかを求める
ために広範囲の研究が、極低温蒸留による酸素の製造業
者によってなされてきた。固体電解質イオン輸送プロセ
スによって生成される超高純度の酸素に関連するこれら
の研究は、反応性の酸素濃度及び圧力への非常に強い依
存性を示す。酸素濃度又は圧力が増大するにつれて、材
料は、一層酸化及び燃焼されやすくなり（すなわち、急
速に酸化される）、そのような用途において安全に用い
られることができる材料は、一層少なくなる。例えば、
図３は、高い耐食性を有するコバルトベースの合金であ
るＨａｙｎｅｓ合金第２５番の酸素濃度８０％、９０
％、及び９９．７％における室温での発火−燃焼挙動を
示すグラフである。グラフから、Ｈａｙｎｅｓ合金第２
５番サンプルの燃焼が、酸素濃度が高くなることにより
顕著に促進されることが見られる。図４は、高い耐食性
を有するニッケル−クロム−モリブデン合金であるＨＡ
ＳＴＥＬＬＯＹ（登録商標）合金Ｃ−２２Tmの直径３．
１７５ｍｍ（０．１２５インチ）の棒についての室温で
の引火性データを示すグラフであり、グラフでは、燃焼
は、ただ高い酸素濃度及び高い圧力で起きただけであっ
た。遺憾ながら、これらのテストから収集することがで
きる情報にもかかわらず、固体電解質イオン輸送手段が
用いられる、通常６００℃を越える温度範囲でなされた
テストはわずかである。そのような温度の上昇は、反応
性の問題を更に一層ひどいものにさせるようである。し
かし、酸素濃度を純酸素から一層低い値に減少させるこ
とが、酸素と接触する材料の酸化又は燃焼への感受性を
低減させることは明らかである。
又はガスにおいて使用するために適しているかを求める
ために広範囲の研究が、極低温蒸留による酸素の製造業
者によってなされてきた。固体電解質イオン輸送プロセ
スによって生成される超高純度の酸素に関連するこれら
の研究は、反応性の酸素濃度及び圧力への非常に強い依
存性を示す。酸素濃度又は圧力が増大するにつれて、材
料は、一層酸化及び燃焼されやすくなり（すなわち、急
速に酸化される）、そのような用途において安全に用い
られることができる材料は、一層少なくなる。例えば、
図３は、高い耐食性を有するコバルトベースの合金であ
るＨａｙｎｅｓ合金第２５番の酸素濃度８０％、９０
％、及び９９．７％における室温での発火−燃焼挙動を
示すグラフである。グラフから、Ｈａｙｎｅｓ合金第２
５番サンプルの燃焼が、酸素濃度が高くなることにより
顕著に促進されることが見られる。図４は、高い耐食性
を有するニッケル−クロム−モリブデン合金であるＨＡ
ＳＴＥＬＬＯＹ（登録商標）合金Ｃ−２２Tmの直径３．
１７５ｍｍ（０．１２５インチ）の棒についての室温で
の引火性データを示すグラフであり、グラフでは、燃焼
は、ただ高い酸素濃度及び高い圧力で起きただけであっ
た。遺憾ながら、これらのテストから収集することがで
きる情報にもかかわらず、固体電解質イオン輸送手段が
用いられる、通常６００℃を越える温度範囲でなされた
テストはわずかである。そのような温度の上昇は、反応
性の問題を更に一層ひどいものにさせるようである。し
かし、酸素濃度を純酸素から一層低い値に減少させるこ
とが、酸素と接触する材料の酸化又は燃焼への感受性を
低減させることは明らかである。
【０００７】今、開発中の２つのタイプの固体電解質イ
オン輸送膜：イオンだけを膜を通して伝えるイオン性伝
導体並びにイオン及び電子の両方を膜を通して伝える混
合伝導体がある。そのような混合伝導特性を示すイオン
輸送膜は、イオン性伝導体に関して必要である電場を加
える又は外部電極を必要としないで膜を横切る酸素の部
分差圧をかける場合に、酸素を輸送することができる。
本明細書中で用いる通りの「固体電解質イオン性伝導
体」、「固体電解質イオン輸送系」、又は簡単に「固体
電解質」又は「イオン輸送膜」なる用語は、その他の方
法で特定しない場合には、イオン性タイプの系又は混合
伝導体タイプの系のいずれかを表示するのに用いる。
オン輸送膜：イオンだけを膜を通して伝えるイオン性伝
導体並びにイオン及び電子の両方を膜を通して伝える混
合伝導体がある。そのような混合伝導特性を示すイオン
輸送膜は、イオン性伝導体に関して必要である電場を加
える又は外部電極を必要としないで膜を横切る酸素の部
分差圧をかける場合に、酸素を輸送することができる。
本明細書中で用いる通りの「固体電解質イオン性伝導
体」、「固体電解質イオン輸送系」、又は簡単に「固体
電解質」又は「イオン輸送膜」なる用語は、その他の方
法で特定しない場合には、イオン性タイプの系又は混合
伝導体タイプの系のいずれかを表示するのに用いる。
【０００８】固体電解質イオン輸送技術は、Ｐｒａｓａ
ｄ等のＳｔａｇｅｄ Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅ Ｍｅｍ
ｂｒａｎｅなる表題の米国特許第５，５４７，４９４号
に一層詳細に記載されており、同特許を、技術の現状を
一層完全に説明するために本明細書中に援用する。
ｄ等のＳｔａｇｅｄ Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅ Ｍｅｍ
ｂｒａｎｅなる表題の米国特許第５，５４７，４９４号
に一層詳細に記載されており、同特許を、技術の現状を
一層完全に説明するために本明細書中に援用する。
【０００９】パージ流が存在しない場合に、酸素をイオ
ン輸送膜から運び去る「透過質」流は「純」酸素であ
る。混合伝導膜について、供給流及び残留質流は、共に
酸素輸送についての駆動力を生じるために高い圧力（又
は「透過質」流を極めて低い圧力）にしなければならな
い。そのような非パージ式膜は、不活性ガス流から酸素
を一層多量に取り去るために魅力的であるが、酸素回収
は、加えることができる圧力によって制限される。
ン輸送膜から運び去る「透過質」流は「純」酸素であ
る。混合伝導膜について、供給流及び残留質流は、共に
酸素輸送についての駆動力を生じるために高い圧力（又
は「透過質」流を極めて低い圧力）にしなければならな
い。そのような非パージ式膜は、不活性ガス流から酸素
を一層多量に取り去るために魅力的であるが、酸素回収
は、加えることができる圧力によって制限される。
【００１０】発明者等は、固体電解質イオン輸送プロセ
スによって生成される酸素を希釈することについて記載
する従来技術を何ら知らない。下記の文献は、圧力及び
酸素濃度の関数としての材料の耐酸化性に関する：テネ
シー、ガットリング、１９９５年９月、Ｒ．Ｚａｗｉｅ
ｒｕｃｈａ，Ｋ．ＭｃＩｌｒｏｙ，及びＪ．Ｆ．Ｍｉｌ
ｌｉｏｎ，Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ ｏｆ Ｓｅｌｅ
ｃｔｅｄ ＨｅａｔＲｅｓｉｓｔａｎｔ Ａｌｌｏｙｓ
ｉｎ Ｏｘｙｇｅｎ Ｇａｓ Ｍｉｘｔｕｒｅｓ，Ｐ
ｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ ２ｎｄ Ｉｎｔ
ｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ ｏｎ
Ｈｅａｔ−Ｒｅｓｉｓｔａｎｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ、
９７〜１０３頁；並びに１９９３年１２月、ルイジア
ナ、ニューオーリンズ、ＡＳＭＥ Ｗｉｎｔｅｒ Ａｎ
ｎｕａｌ Ｍｅｅｔｉｎｇにおいて紹介されたＲ．Ｚａ
ｗｉｅｒｕｃｈａ，Ｒ．Ｆ．Ｄｒｎｅｖｉｃｈ，Ｄ．
Ｅ．Ｗｈｉｔｅ及びＫ．ＭｃＩｌｒｏｙ，Ｍａｔｅｒｉ
ａｌｓ ａｎｄ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｃｏｎｓｉｄｅｒａ
ｔｉｏｎｓ ｆｏｒ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ Ｉｎ
ｖｏｌｖｉｎｇ Ｏｘｙｇｅｎ Ｅｎｒｉｃｈｅｄ Ａ
ｔｍｏｓｐｈｅｒｅｓ。
スによって生成される酸素を希釈することについて記載
する従来技術を何ら知らない。下記の文献は、圧力及び
酸素濃度の関数としての材料の耐酸化性に関する：テネ
シー、ガットリング、１９９５年９月、Ｒ．Ｚａｗｉｅ
ｒｕｃｈａ，Ｋ．ＭｃＩｌｒｏｙ，及びＪ．Ｆ．Ｍｉｌ
ｌｉｏｎ，Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ ｏｆ Ｓｅｌｅ
ｃｔｅｄ ＨｅａｔＲｅｓｉｓｔａｎｔ Ａｌｌｏｙｓ
ｉｎ Ｏｘｙｇｅｎ Ｇａｓ Ｍｉｘｔｕｒｅｓ，Ｐ
ｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ ２ｎｄ Ｉｎｔ
ｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ ｏｎ
Ｈｅａｔ−Ｒｅｓｉｓｔａｎｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ、
９７〜１０３頁；並びに１９９３年１２月、ルイジア
ナ、ニューオーリンズ、ＡＳＭＥ Ｗｉｎｔｅｒ Ａｎ
ｎｕａｌ Ｍｅｅｔｉｎｇにおいて紹介されたＲ．Ｚａ
ｗｉｅｒｕｃｈａ，Ｒ．Ｆ．Ｄｒｎｅｖｉｃｈ，Ｄ．
Ｅ．Ｗｈｉｔｅ及びＫ．ＭｃＩｌｒｏｙ，Ｍａｔｅｒｉ
ａｌｓ ａｎｄ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｃｏｎｓｉｄｅｒａ
ｔｉｏｎｓ ｆｏｒ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ Ｉｎ
ｖｏｌｖｉｎｇ Ｏｘｙｇｅｎ Ｅｎｒｉｃｈｅｄ Ａ
ｔｍｏｓｐｈｅｒｅｓ。
【００１１】Ｃｈｅｎ等のＰｒｏｃｅｓｓ ｆｏｒ Ｒ
ｅｍｏｖｉｎｇ Ｏｘｙｇｅｎ ａｎｄ Ｎｉｔｒｏｇ
ｅｎ ｆｒｏｍ Ｃｒｕｄｅ Ａｒｇｏｎなる表題の米
国特許第Ｒｅ．３４，５９５号（米国特許第５，０３
５，７２６号の再発行）は、粗製アルゴンガス流から低
レベルの酸素を取り出すために電気駆動式固体電解質膜
を使用することに関する。Ｃｈｅｎ等は、多段プロセス
のいくつかの例について要求される電力を推定し、かつ
また供給側に酸素圧力を保つことによって作動される混
合伝導体膜を使用することの可能性についても述べてい
る。Ｃｈｅｎ等は、更に、電気駆動式イオン性膜の透過
質側から流出する酸素を、パージ酸素流として取り出す
か又は窒素のような適した「スイープ」ガスと混合する
かのいずれかにしてよいことを教示している。
ｅｍｏｖｉｎｇ Ｏｘｙｇｅｎ ａｎｄ Ｎｉｔｒｏｇ
ｅｎ ｆｒｏｍ Ｃｒｕｄｅ Ａｒｇｏｎなる表題の米
国特許第Ｒｅ．３４，５９５号（米国特許第５，０３
５，７２６号の再発行）は、粗製アルゴンガス流から低
レベルの酸素を取り出すために電気駆動式固体電解質膜
を使用することに関する。Ｃｈｅｎ等は、多段プロセス
のいくつかの例について要求される電力を推定し、かつ
また供給側に酸素圧力を保つことによって作動される混
合伝導体膜を使用することの可能性についても述べてい
る。Ｃｈｅｎ等は、更に、電気駆動式イオン性膜の透過
質側から流出する酸素を、パージ酸素流として取り出す
か又は窒素のような適した「スイープ」ガスと混合する
かのいずれかにしてよいことを教示している。
【００１２】Ｍａｚａｎｅｃ等のＰｒｏｃｅｓｓ ｆｏ
ｒ Ｓｅｐａｒａｔｉｎｇ Ｏｘｙｇｅｎ ｆｒｏｍ
ａｎ Ｏｘｙｇｅｎ−Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ Ｇａｓ
ｂｙＵｓｉｎｇ ａ Ｂｉ−Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ Ｍ
ｉｘｅｄ Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ Ｍｅｍｂｒａｎｅ
なる表題の米国特許第５，１６０，７１３号は、分離さ
れた酸素を回収するために収集し又は酸素消費物質と反
応させることができることを一般的に規定するビスマス
含有混合金属酸化物膜を用いた酸素分離プロセスに関す
る。酸素の減損された残留質流は、明らかに廃棄され
る。
ｒ Ｓｅｐａｒａｔｉｎｇ Ｏｘｙｇｅｎ ｆｒｏｍ
ａｎ Ｏｘｙｇｅｎ−Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ Ｇａｓ
ｂｙＵｓｉｎｇ ａ Ｂｉ−Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ Ｍ
ｉｘｅｄ Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ Ｍｅｍｂｒａｎｅ
なる表題の米国特許第５，１６０，７１３号は、分離さ
れた酸素を回収するために収集し又は酸素消費物質と反
応させることができることを一般的に規定するビスマス
含有混合金属酸化物膜を用いた酸素分離プロセスに関す
る。酸素の減損された残留質流は、明らかに廃棄され
る。
【００１３】Ｍａｚａｎｅｃ等のＳｏｌｉｄ Ｍｕｌｔ
ｉ−Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｍｅｍｂｒａｎｅｓ，Ｅｌｅ
ｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅａｃｔｏｒ Ｃｏｍｐ
ｏｎｅｎｔｓ，Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅ
ａｃｔｏｒｓ ａｎｄ Ｕｓｅ ｏｆ Ｍｅｍｂｒａｎ
ｅｓ，Ｒｅａｃｔｏｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ，ａｎｄ
Ｒｅａｃｔｏｒ ｆｏｒ Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ Ｒｅ
ａｃｔｉｏｎｓなる表題の米国特許第５，３０６，４１
１号は、電気化学反応装置における固体電解質膜の多数
の使用に関する。煙道ガス又は廃棄ガス中の亜酸化窒素
及び硫黄酸化物を、それぞれ窒素ガス及び硫黄元素に転
化されることができること、及び軽質炭化水素ガスのよ
うな反応体ガスが所望の反応を妨げない不活性な希釈ガ
スと混合されることができることが述べられているが、
そのような混合物をもたらすための理由が述べられてい
ない。引用するＭａｚａｎｅｃ等の特許の内で、酸素含
有ガス流から精製された生成物を製造するプロセスにつ
いて開示しているものはない。
ｉ−Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｍｅｍｂｒａｎｅｓ，Ｅｌｅ
ｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅａｃｔｏｒ Ｃｏｍｐ
ｏｎｅｎｔｓ，Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅ
ａｃｔｏｒｓ ａｎｄ Ｕｓｅ ｏｆ Ｍｅｍｂｒａｎ
ｅｓ，Ｒｅａｃｔｏｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ，ａｎｄ
Ｒｅａｃｔｏｒ ｆｏｒ Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ Ｒｅ
ａｃｔｉｏｎｓなる表題の米国特許第５，３０６，４１
１号は、電気化学反応装置における固体電解質膜の多数
の使用に関する。煙道ガス又は廃棄ガス中の亜酸化窒素
及び硫黄酸化物を、それぞれ窒素ガス及び硫黄元素に転
化されることができること、及び軽質炭化水素ガスのよ
うな反応体ガスが所望の反応を妨げない不活性な希釈ガ
スと混合されることができることが述べられているが、
そのような混合物をもたらすための理由が述べられてい
ない。引用するＭａｚａｎｅｃ等の特許の内で、酸素含
有ガス流から精製された生成物を製造するプロセスにつ
いて開示しているものはない。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】従って、発明の目的
は、酸素含有ガスを、高純度の酸素を造るために固体電
解質イオン輸送膜を使用して精製する効率的な方法を提
供し、かつそのような超高純度の酸素を、固体電解質イ
オン輸送膜からの残留質ガス又は反応性ガスを超高純度
の酸素又は別の源からの希釈剤に調節して加えることに
よって希釈するにある。
は、酸素含有ガスを、高純度の酸素を造るために固体電
解質イオン輸送膜を使用して精製する効率的な方法を提
供し、かつそのような超高純度の酸素を、固体電解質イ
オン輸送膜からの残留質ガス又は反応性ガスを超高純度
の酸素又は別の源からの希釈剤に調節して加えることに
よって希釈するにある。
【００１５】本発明の別の目的は、イオン輸送プロセス
によって生成される超高純度の酸素を、生成物酸素を安
全かつ一層簡便に取り扱うことができるようにわずかに
希釈するための簡単かつ実用的な手段を提供するにあ
る。
によって生成される超高純度の酸素を、生成物酸素を安
全かつ一層簡便に取り扱うことができるようにわずかに
希釈するための簡単かつ実用的な手段を提供するにあ
る。
【００１６】発明のそれ以上の目的は、そのような加え
たガスを使用して固体電解質イオン輸送膜の透過質側を
パージすることによって好ましくはプロセスの効率を増
大させるにある。
たガスを使用して固体電解質イオン輸送膜の透過質側を
パージすることによって好ましくはプロセスの効率を増
大させるにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】発明は、酸素元素及び少
なくとも一種の他のガスを含有する供給ガス流を分離し
て選定した酸素の濃度を有する酸素生成物ガス流にする
方法を含む。その方法は、残留質側及び透過質側を有す
るイオン輸送膜を収容するイオン輸送モジュールを使用
して供給ガス流から酸素を取り出して、膜から出て透過
質側に入る超高純度の酸素ガス流と残留質ガス流との両
方を生成し、かつ超高純度の酸素ガス流と付加ガス流と
をブレンドして選定した酸素の濃度を有する酸素生成物
ガス流を生成することを含む方法。
なくとも一種の他のガスを含有する供給ガス流を分離し
て選定した酸素の濃度を有する酸素生成物ガス流にする
方法を含む。その方法は、残留質側及び透過質側を有す
るイオン輸送膜を収容するイオン輸送モジュールを使用
して供給ガス流から酸素を取り出して、膜から出て透過
質側に入る超高純度の酸素ガス流と残留質ガス流との両
方を生成し、かつ超高純度の酸素ガス流と付加ガス流と
をブレンドして選定した酸素の濃度を有する酸素生成物
ガス流を生成することを含む方法。
【００１８】発明の好適な実施態様では、供給ガス流は
空気である。発明の別の好適な実施態様では、希釈され
た酸素生成物ガス流は、酸素８０〜９９．９容積％の選
定した濃度を有する。発明のなお別の好適な実施態様で
は、ブレンディングは、酸素がイオン輸送膜を通って透
過する点と酸素生成物ガス流を使用する点との間の１つ
又はそれ以上の点で起きる。発明の別の好適な実施態様
では、ブレンディングのための付加ガス流は、残留質ガ
ス流の少なくとも一部を含む。発明の他の好適な実施態
様では、ブレンディングのための付加ガス流を、１つ又
はそれ以上の導管、多孔質物質、又は残留質ガス流の少
なくとも一部を選択的に透過させ得る膜を通して供し
て、残留質ガス流の少なくとも一部を、超高純度の酸素
ガス流が膜から出る際に又は出た後に超高純度の酸素ガ
ス流とブレンドさせる。いくつかの場合には、多孔質物
質をイオン輸送膜と接触させる又はイオン輸送膜中に分
散させる。
空気である。発明の別の好適な実施態様では、希釈され
た酸素生成物ガス流は、酸素８０〜９９．９容積％の選
定した濃度を有する。発明のなお別の好適な実施態様で
は、ブレンディングは、酸素がイオン輸送膜を通って透
過する点と酸素生成物ガス流を使用する点との間の１つ
又はそれ以上の点で起きる。発明の別の好適な実施態様
では、ブレンディングのための付加ガス流は、残留質ガ
ス流の少なくとも一部を含む。発明の他の好適な実施態
様では、ブレンディングのための付加ガス流を、１つ又
はそれ以上の導管、多孔質物質、又は残留質ガス流の少
なくとも一部を選択的に透過させ得る膜を通して供し
て、残留質ガス流の少なくとも一部を、超高純度の酸素
ガス流が膜から出る際に又は出た後に超高純度の酸素ガ
ス流とブレンドさせる。いくつかの場合には、多孔質物
質をイオン輸送膜と接触させる又はイオン輸送膜中に分
散させる。
【００１９】発明の更に好適な実施態様では、ブレンデ
ィングのための付加ガス流を、イオン輸送膜の少なくと
も１つの端部上の不完全なシールを通して供し、かつブ
レンディングのための付加ガス流が、ブレンディングの
ための付加ガス流に、残留質ガス流の少なくとも一部を
含ませてもよい。発明のなおそれ以上の実施態様では、
ブレンディングのための付加ガス流は、供給ガス流の少
なくとも一部、不活性なガス流、又は窒素ガス流を含
む。発明の他の実施態様では、ブレンディングのための
付加ガス流は、超高純度の酸素ガス流と反応して選定し
た酸素の濃度を有する希釈された酸素生成物ガス流を生
成する反応性ガス流であり、希釈された酸素生成物ガス
流は、それが固体電解質イオン輸送膜の透過質側をパー
ジしかつ固体電解質の効率を増大させるようにしてよ
い。
ィングのための付加ガス流を、イオン輸送膜の少なくと
も１つの端部上の不完全なシールを通して供し、かつブ
レンディングのための付加ガス流が、ブレンディングの
ための付加ガス流に、残留質ガス流の少なくとも一部を
含ませてもよい。発明のなおそれ以上の実施態様では、
ブレンディングのための付加ガス流は、供給ガス流の少
なくとも一部、不活性なガス流、又は窒素ガス流を含
む。発明の他の実施態様では、ブレンディングのための
付加ガス流は、超高純度の酸素ガス流と反応して選定し
た酸素の濃度を有する希釈された酸素生成物ガス流を生
成する反応性ガス流であり、希釈された酸素生成物ガス
流は、それが固体電解質イオン輸送膜の透過質側をパー
ジしかつ固体電解質の効率を増大させるようにしてよ
い。
【００２０】発明の実施態様では、方法は、更に、希釈
された酸素透過質ガス流及び残留質ガス流からの熱を供
給ガス流に伝えて暖められた供給ガス流を生成しかつ暖
められた供給ガス流を加熱して高温の供給ガス流を生成
することを含む。発明の別の実施態様では、方法は、加
えて、供給ガスを圧縮して圧縮された供給ガス流を生成
することを含む。
された酸素透過質ガス流及び残留質ガス流からの熱を供
給ガス流に伝えて暖められた供給ガス流を生成しかつ暖
められた供給ガス流を加熱して高温の供給ガス流を生成
することを含む。発明の別の実施態様では、方法は、加
えて、供給ガスを圧縮して圧縮された供給ガス流を生成
することを含む。
【００２１】
【発明の実施の形態】発明のその他の目的、特徴及び利
点は、好適な実施態様の下記の記述及び添付する図面か
ら当業者に考え付くものと思う。
点は、好適な実施態様の下記の記述及び添付する図面か
ら当業者に考え付くものと思う。
【００２２】従って、本発明は、ＵＨＰ酸素を高い温度
で安全かつ取り扱い容易のために製造しかつ希釈するこ
とに関し、一層特には固体電解質イオン輸送装置を作動
させる間に典型的に遭遇されるものに関する。そのよう
な希釈又はブレンディングは、イオン輸送膜の透過質
側、イオン輸送膜の最も近い端（イオン輸送モジュール
への供給ガス流入口の近く）又はイオン輸送膜の遠位の
端の近く、イオン輸送モジュールの外側で、或は酸素が
イオン輸送膜を透過する点と酸素生成物ガス流を使用す
る点との間の任意の点で起こり得る。ＵＨＰ酸素を高い
温度で取り扱うことの困難は、固体電解質イオン輸送プ
ロセスによって固有に生成されるＵＨＰ酸素を直ぐに希
釈することによって改善されることに留意すべきであ
る。付随する利点として、固体電解質イオン輸送分離プ
ロセスは、また、希釈剤をイオン輸送膜についての還流
流として使用する場合に、増進される、すなわち系につ
いての所要動力は低減される。これより、発明の本質
は、イオン輸送分離プロセスの酸素透過質を希釈して高
い温度で一層安全かつ一層取り扱い容易なわずかに不純
な酸素生成物であるが、それの純度は意図する用途につ
いて十分な酸素生成物を製造するにある。
で安全かつ取り扱い容易のために製造しかつ希釈するこ
とに関し、一層特には固体電解質イオン輸送装置を作動
させる間に典型的に遭遇されるものに関する。そのよう
な希釈又はブレンディングは、イオン輸送膜の透過質
側、イオン輸送膜の最も近い端（イオン輸送モジュール
への供給ガス流入口の近く）又はイオン輸送膜の遠位の
端の近く、イオン輸送モジュールの外側で、或は酸素が
イオン輸送膜を透過する点と酸素生成物ガス流を使用す
る点との間の任意の点で起こり得る。ＵＨＰ酸素を高い
温度で取り扱うことの困難は、固体電解質イオン輸送プ
ロセスによって固有に生成されるＵＨＰ酸素を直ぐに希
釈することによって改善されることに留意すべきであ
る。付随する利点として、固体電解質イオン輸送分離プ
ロセスは、また、希釈剤をイオン輸送膜についての還流
流として使用する場合に、増進される、すなわち系につ
いての所要動力は低減される。これより、発明の本質
は、イオン輸送分離プロセスの酸素透過質を希釈して高
い温度で一層安全かつ一層取り扱い容易なわずかに不純
な酸素生成物であるが、それの純度は意図する用途につ
いて十分な酸素生成物を製造するにある。
【００２３】基本の発明を図１に例示する。作業中、周
囲の供給ガス流８を圧縮機１０によって圧縮し、次いで
熱交換器１２を通過させ、そこで供給ガス流８を酸素生
成物ガス流３０及び窒素廃棄流３２に対して暖め、次い
でトリムヒーター１４で更に加熱して４００℃を超え
る、好ましくは４００°〜１２００℃、一層好ましくは
６００°〜１０００℃の温度にする。高温の供給ガス流
１８は、次いでイオン輸送分離装置モジュール１６に入
りかつ残留質側１７ａ及び透過質側１７ｂを有するイオ
ン輸送膜１７の一方の側に沿って流れる。イオン輸送膜
１７は、最も近い端４０及び遠位の端４２を有する。イ
オン輸送膜１７は、酸素イオン空格子点及び電子の両方
を伝える固体酸化物で構成されるのが好ましい。そのよ
うな膜は、酸素だけをイオン輸送膜１７の残留質側１７
ａから透過質側１７ｂに透過させることになる。パージ
又は還流の存在しない場合には、透過された酸素は超高
純度（ＵＨＰ）になる。これは、生成物ガス流として採
用することができるが、この流体を安全に取り扱うには
特殊材料が要求されることになる。
囲の供給ガス流８を圧縮機１０によって圧縮し、次いで
熱交換器１２を通過させ、そこで供給ガス流８を酸素生
成物ガス流３０及び窒素廃棄流３２に対して暖め、次い
でトリムヒーター１４で更に加熱して４００℃を超え
る、好ましくは４００°〜１２００℃、一層好ましくは
６００°〜１０００℃の温度にする。高温の供給ガス流
１８は、次いでイオン輸送分離装置モジュール１６に入
りかつ残留質側１７ａ及び透過質側１７ｂを有するイオ
ン輸送膜１７の一方の側に沿って流れる。イオン輸送膜
１７は、最も近い端４０及び遠位の端４２を有する。イ
オン輸送膜１７は、酸素イオン空格子点及び電子の両方
を伝える固体酸化物で構成されるのが好ましい。そのよ
うな膜は、酸素だけをイオン輸送膜１７の残留質側１７
ａから透過質側１７ｂに透過させることになる。パージ
又は還流の存在しない場合には、透過された酸素は超高
純度（ＵＨＰ）になる。これは、生成物ガス流として採
用することができるが、この流体を安全に取り扱うには
特殊材料が要求されることになる。
【００２４】不純な酸素ガス流２６の希釈度を調節する
一方法は、高温の供給ガス流１８を、随意の検出器１を
用いてモニターしかつ不純な酸素ガス流２６を、随意の
検出器２を用いてモニターすることである。そのような
実施態様では、随意の検出器１及び２並びにバルブ５４
を、随意のマイクロプロセッサ３に電気接続する。随意
のマイクロプロセッサ３は、随意の検出器１及び２から
受ける情報に応答してバルブ５４の作動を動的に制御及
び調節して選定した純度の不純な酸素ガス流２６を得
る。検出器及びマイクロプロセッサを使用してバルブの
作動を制御することによって還流を調節するそのような
方法は、例えば、１９９５年１２月５日に出願されたＰ
ｒａｓａｄ等のＲｅａｃｔｉｖｅ Ｐｕｒｇｅ ｆｏｒ
Ｓｏｌｉｄ Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅ Ｍｅｍｂｒａ
ｎｅ Ｇａｓ Ｓｅｐａｒａｔｉｏｎなる表題の米国特
許出願第０８／５６７，６９９号に開示されており、同
米国特許出願を本明細書中に援用する。
一方法は、高温の供給ガス流１８を、随意の検出器１を
用いてモニターしかつ不純な酸素ガス流２６を、随意の
検出器２を用いてモニターすることである。そのような
実施態様では、随意の検出器１及び２並びにバルブ５４
を、随意のマイクロプロセッサ３に電気接続する。随意
のマイクロプロセッサ３は、随意の検出器１及び２から
受ける情報に応答してバルブ５４の作動を動的に制御及
び調節して選定した純度の不純な酸素ガス流２６を得
る。検出器及びマイクロプロセッサを使用してバルブの
作動を制御することによって還流を調節するそのような
方法は、例えば、１９９５年１２月５日に出願されたＰ
ｒａｓａｄ等のＲｅａｃｔｉｖｅ Ｐｕｒｇｅ ｆｏｒ
Ｓｏｌｉｄ Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅ Ｍｅｍｂｒａ
ｎｅ Ｇａｓ Ｓｅｐａｒａｔｉｏｎなる表題の米国特
許出願第０８／５６７，６９９号に開示されており、同
米国特許出願を本明細書中に援用する。
【００２５】図１では、加圧された残留質ガス流２０
は、酸素ガスが減損されることになり、供給ガス流８が
空気ならば、主に窒素からなることになる。この残留質
ガス流２０は、通常、おそらくタービンを通して膨張さ
せて動力を発生させた後に、熱交換器１２を逆に通して
導かれかつ廃棄流３２として放出されることになろう。
本発明では、窒素冨化残留質流２０の小部分がバルブ５
４を通過し、このガス流２２を酸素透過質と一緒にして
わずかに不純な酸素ガス流２６を生成する。上述した通
りに、バルブ５４は、随意のマイクロプロセッサ３によ
って制御することができる。別法として、この希釈は、
酸素透過質ガス流２６と窒素ガス流２５（シルエットで
示す）とをイオン輸送分離装置モジュール１６の外部で
ブレンドすることによって達成することができる。別の
希釈方法は、バルブ５８を通過させて連続してガス流３
４及びガス流２５（共にシルエットで示す）になる外部
ガス流を使用し、これに酸素透過質ガス流２６をブレン
ドすることを含む。更に別の希釈方法は、高温の供給ガ
ス流１８から取りかつバルブ５０を通過させるガス流３
６（シルエットで示す）を使用して酸素透過質ガス流２
６とブレンドすることを含む。別の希釈方法は、高温の
供給ガス流１８から取りかつバルブ５２を通過させるガ
ス流３８（シルエットで示す）を使用して、イオン輸送
膜１７の透過質側１７ｂから出る酸素透過質ガス流とブ
レンドすることを含む。希釈した後の好適な酸素濃度の
範囲は、８０．０〜９９．９％、一層好ましくは９０．
０〜９９．７％である。
は、酸素ガスが減損されることになり、供給ガス流８が
空気ならば、主に窒素からなることになる。この残留質
ガス流２０は、通常、おそらくタービンを通して膨張さ
せて動力を発生させた後に、熱交換器１２を逆に通して
導かれかつ廃棄流３２として放出されることになろう。
本発明では、窒素冨化残留質流２０の小部分がバルブ５
４を通過し、このガス流２２を酸素透過質と一緒にして
わずかに不純な酸素ガス流２６を生成する。上述した通
りに、バルブ５４は、随意のマイクロプロセッサ３によ
って制御することができる。別法として、この希釈は、
酸素透過質ガス流２６と窒素ガス流２５（シルエットで
示す）とをイオン輸送分離装置モジュール１６の外部で
ブレンドすることによって達成することができる。別の
希釈方法は、バルブ５８を通過させて連続してガス流３
４及びガス流２５（共にシルエットで示す）になる外部
ガス流を使用し、これに酸素透過質ガス流２６をブレン
ドすることを含む。更に別の希釈方法は、高温の供給ガ
ス流１８から取りかつバルブ５０を通過させるガス流３
６（シルエットで示す）を使用して酸素透過質ガス流２
６とブレンドすることを含む。別の希釈方法は、高温の
供給ガス流１８から取りかつバルブ５２を通過させるガ
ス流３８（シルエットで示す）を使用して、イオン輸送
膜１７の透過質側１７ｂから出る酸素透過質ガス流とブ
レンドすることを含む。希釈した後の好適な酸素濃度の
範囲は、８０．０〜９９．９％、一層好ましくは９０．
０〜９９．７％である。
【００２６】しかし、窒素冨化残留質流２０の一部分を
パージ流２２として使用してイオン輸送膜１７の透過質
側１７ｂを還流させることが好ましい。酸素輸送が起き
るためには、イオン輸送膜１７の残留質側１７ａの酸素
分圧は、下記の不等式によって表わされる通りに、イオ
ン輸送膜１７の透過質側１７ｂの酸素分圧を越えなけれ
ばならない：
パージ流２２として使用してイオン輸送膜１７の透過質
側１７ｂを還流させることが好ましい。酸素輸送が起き
るためには、イオン輸送膜１７の残留質側１７ａの酸素
分圧は、下記の不等式によって表わされる通りに、イオ
ン輸送膜１７の透過質側１７ｂの酸素分圧を越えなけれ
ばならない：
【数１】ｐ1 Ｙ1 ＞ｐ2 Ｙ2 （１）
ここで、ｐ1 は膜の残留質側の全圧であり；ｐ2 は膜の
透過質側の全圧であり；Ｙ1 は膜の残留質側の酸素のモ
ル分率であり；Ｙ2 は膜の透過質側の酸素のモル分率で
ある。これは、膜を横切る種の濃度の差がその膜を横切
る化学的ポテンシャルを生じるという良く知られた熱力
学的原理を採用する。この条件は、分離プロセスがイオ
ン輸送膜１７全体にわたって作動するためにイオン輸送
分離装置モジュール１６の至る所で支配しなければなら
ない。還流ガス流を用いない場合、透過質ガスは純酸素
（Ｙ2 ＝１）であり、膜を通る駆動力は、圧力ｐ1 及び
ｐ2が相対的一定のままであると仮定すれば、Ｙ1 が十
分に小さくなる場合に消滅することになる。しかし、残
留質窒素ガス流２０のいくらかを、イオン輸送膜１７の
透過質側１７ｂをパージするための還流又はパージ流２
２として用いる場合に、Ｙ2 の値は、イオン輸送分離装
置モジュール１６の残留質排出端において低減され、そ
れにより高温の供給ガス流１８中の酸素の一層多くをイ
オン輸送膜１７を通して透過させる。
透過質側の全圧であり；Ｙ1 は膜の残留質側の酸素のモ
ル分率であり；Ｙ2 は膜の透過質側の酸素のモル分率で
ある。これは、膜を横切る種の濃度の差がその膜を横切
る化学的ポテンシャルを生じるという良く知られた熱力
学的原理を採用する。この条件は、分離プロセスがイオ
ン輸送膜１７全体にわたって作動するためにイオン輸送
分離装置モジュール１６の至る所で支配しなければなら
ない。還流ガス流を用いない場合、透過質ガスは純酸素
（Ｙ2 ＝１）であり、膜を通る駆動力は、圧力ｐ1 及び
ｐ2が相対的一定のままであると仮定すれば、Ｙ1 が十
分に小さくなる場合に消滅することになる。しかし、残
留質窒素ガス流２０のいくらかを、イオン輸送膜１７の
透過質側１７ｂをパージするための還流又はパージ流２
２として用いる場合に、Ｙ2 の値は、イオン輸送分離装
置モジュール１６の残留質排出端において低減され、そ
れにより高温の供給ガス流１８中の酸素の一層多くをイ
オン輸送膜１７を通して透過させる。
【００２７】従って、この還流又はパージ方法を用いる
と、プロセスの効率を増大させる。しかし、抜き出され
た透過質ガス流２６は、もはや純酸素でなく、イオン輸
送膜１７を還流するのに用いた量の窒素によって希釈さ
れる。前述した通りに、抜き出された透過質流２６は、
もはやＵＨＰ酸素ではないので、このガスの取り扱いは
今一層簡単になることから、この希釈は通常望ましいこ
とである。次に、透過質ガス流２６及び残留する残留質
流３１は、熱交換器１２において圧縮機１０によって圧
縮された後の供給流８に対して冷却される。今冷却され
かつ希釈された酸素生成物ガス流３０を最終生成物とし
て抜き出しかつ残留する窒素残留質ガス流３２を廃棄流
として放出する。
と、プロセスの効率を増大させる。しかし、抜き出され
た透過質ガス流２６は、もはや純酸素でなく、イオン輸
送膜１７を還流するのに用いた量の窒素によって希釈さ
れる。前述した通りに、抜き出された透過質流２６は、
もはやＵＨＰ酸素ではないので、このガスの取り扱いは
今一層簡単になることから、この希釈は通常望ましいこ
とである。次に、透過質ガス流２６及び残留する残留質
流３１は、熱交換器１２において圧縮機１０によって圧
縮された後の供給流８に対して冷却される。今冷却され
かつ希釈された酸素生成物ガス流３０を最終生成物とし
て抜き出しかつ残留する窒素残留質ガス流３２を廃棄流
として放出する。
【００２８】実施において、高純度酸素流の希釈は、多
くの方法で達成することができる。希釈は、内部的に
（すなわち、イオン輸送モジュール内で）行っても又は
外部的に行ってもよい。そのような希釈は、希釈された
生成物ガス流が下流の部材を通過する前に行うのが好ま
しく、ガス流を、それがイオン輸送モジュールから出る
前に希釈するのが最も好ましい。
くの方法で達成することができる。希釈は、内部的に
（すなわち、イオン輸送モジュール内で）行っても又は
外部的に行ってもよい。そのような希釈は、希釈された
生成物ガス流が下流の部材を通過する前に行うのが好ま
しく、ガス流を、それがイオン輸送モジュールから出る
前に希釈するのが最も好ましい。
【００２９】酸素ガス流を希釈することの特に簡便な方
法の内の一つは、イオン輸送分離装置モジュール１６の
最も近い端４０又は遠位の端４２における決して完全で
ないシールを、残留質窒素ガス流２０及び／又は高温の
供給ガス流１８の一部がわざとイオン輸送膜１７の透過
質側１７ｂ中に漏洩して酸素透過質ガス流を希釈するよ
うに用いることである。漏洩の好適な位置は、イオン輸
送分離装置モジュール１６のデザインに依存する。高温
の供給ガス流１８と透過質ガス流２６とが互いに向流に
流れるならば、イオン輸送膜１７の残留質側１７ａから
イオン輸送膜１７の透過質側１７ｂへの漏洩を有するの
が好ましい。高温の供給ガス流１８と透過質ガス流２６
とが並流幾何学的形状を有するならば、高温の供給ガス
流１８からイオン輸送膜１７の残留質側１７ａへの漏洩
を有するのが好ましい。高温の供給ガス流１８と透過質
ガス流２６とが「十字流」流れ幾何学的形状を有するな
らば、漏洩は、イオン輸送分離装置モジュール１６の最
も近い端４０、遠位の端４２、又は両方の端のいずれか
でよい。不完全な又は「漏れやすい」シールの利点は、
かかるシールが完全な漏れ止めシールに比べて造るのが
一層容易であることであるのに留意すべきである。パッ
キングで造られたほとんどのシール及びＯ−リングで造
られたいくつかのシールは、ガス流をイオン輸送分離装
置モジュール１６の残留質側から透過質側にいくらかバ
イパスさせる。膨張差を達成するために、スライディン
グシールが採用されることが、時にある。このシール
は、一層多くの漏れを経験するのが典型的であるので、
それは陽極の上流側に、すなわちイオン輸送モジュール
１６への供給ガス流入口に近い最も近い端４０に置くべ
きである。
法の内の一つは、イオン輸送分離装置モジュール１６の
最も近い端４０又は遠位の端４２における決して完全で
ないシールを、残留質窒素ガス流２０及び／又は高温の
供給ガス流１８の一部がわざとイオン輸送膜１７の透過
質側１７ｂ中に漏洩して酸素透過質ガス流を希釈するよ
うに用いることである。漏洩の好適な位置は、イオン輸
送分離装置モジュール１６のデザインに依存する。高温
の供給ガス流１８と透過質ガス流２６とが互いに向流に
流れるならば、イオン輸送膜１７の残留質側１７ａから
イオン輸送膜１７の透過質側１７ｂへの漏洩を有するの
が好ましい。高温の供給ガス流１８と透過質ガス流２６
とが並流幾何学的形状を有するならば、高温の供給ガス
流１８からイオン輸送膜１７の残留質側１７ａへの漏洩
を有するのが好ましい。高温の供給ガス流１８と透過質
ガス流２６とが「十字流」流れ幾何学的形状を有するな
らば、漏洩は、イオン輸送分離装置モジュール１６の最
も近い端４０、遠位の端４２、又は両方の端のいずれか
でよい。不完全な又は「漏れやすい」シールの利点は、
かかるシールが完全な漏れ止めシールに比べて造るのが
一層容易であることであるのに留意すべきである。パッ
キングで造られたほとんどのシール及びＯ−リングで造
られたいくつかのシールは、ガス流をイオン輸送分離装
置モジュール１６の残留質側から透過質側にいくらかバ
イパスさせる。膨張差を達成するために、スライディン
グシールが採用されることが、時にある。このシール
は、一層多くの漏れを経験するのが典型的であるので、
それは陽極の上流側に、すなわちイオン輸送モジュール
１６への供給ガス流入口に近い最も近い端４０に置くべ
きである。
【００３０】図２Ａは、酸素含有供給ガス流から酸素ガ
スを分離するための固体電解質イオン輸送分離装置膜及
び次いで酸素ガス流を酸素が減損された残留質ガス流で
希釈するためのメータリングオリフィスを採用した装置
を使用する希釈方法を例示する略ダイヤグラムである。
この装置は、本質的に、一装置で図１のイオン輸送モジ
ュール１６及び残留質ガスパージ流２２を希釈用に向け
る機能を果たす。作業中、供給ガス流７０をバッフル７
６によって、イオン輸送チューブ７２の外部を横断して
流れるように向け、そこで酸素は取り去られて、ガス流
は酸素減損されることになる。イオン輸送チューブ７２
をチューブシート７４によって一端に支持させ、他端を
キャップしかつ自由フローティングにする。イオン輸送
チューブ７２のキャップした端部は、選定した直径のオ
リフィス７８を有する。酸素減損された残留質ガス流７
９は、残留質ガス流８０として装置を出、残留質パージ
ガス流８２はオリフィス７８を通過してイオン輸送チュ
ーブ７２の透過質（内部）側をパージして調節された純
度の酸素生成物ガス流８４を生成し、これが装置を出
る。
スを分離するための固体電解質イオン輸送分離装置膜及
び次いで酸素ガス流を酸素が減損された残留質ガス流で
希釈するためのメータリングオリフィスを採用した装置
を使用する希釈方法を例示する略ダイヤグラムである。
この装置は、本質的に、一装置で図１のイオン輸送モジ
ュール１６及び残留質ガスパージ流２２を希釈用に向け
る機能を果たす。作業中、供給ガス流７０をバッフル７
６によって、イオン輸送チューブ７２の外部を横断して
流れるように向け、そこで酸素は取り去られて、ガス流
は酸素減損されることになる。イオン輸送チューブ７２
をチューブシート７４によって一端に支持させ、他端を
キャップしかつ自由フローティングにする。イオン輸送
チューブ７２のキャップした端部は、選定した直径のオ
リフィス７８を有する。酸素減損された残留質ガス流７
９は、残留質ガス流８０として装置を出、残留質パージ
ガス流８２はオリフィス７８を通過してイオン輸送チュ
ーブ７２の透過質（内部）側をパージして調節された純
度の酸素生成物ガス流８４を生成し、これが装置を出
る。
【００３１】オリフィス７８のサイズ並びに関与するガ
ス流の流量及び圧力は、酸素希釈の量を決める。本発明
の典型的な用途である、所望の酸素ガス純度９５％を有
する連産品を有するガスタービンについて、パラメータ
ーは、典型的には下記の通りになる： 残留質ガス流７９圧力：２００ｐｓｉａ（１４Kg/cm
2Ａ） 透過質ガス流７０圧力：２０ｐｓｉａ（１．４Kg/cm
2Ａ） イオン輸送チューブ７２の寸法：Ｏ．Ｄ．０．７５イン
チ（１．９ｃｍ）×２０ｆｔ（６．１ｍ） イオン輸送チューブ７２作業温度：１６５２°F （９０
０℃） 残留質ガス流８０酸素含量：１３％ イオン輸送チューブ７２を通る平均Ｏ2 フラックス：１
０ＮＣＦ／ｆｔ2 （３．０Ｎｍ3 ／ｍ2 ） オリフィス７８流出係数：０．９５
ス流の流量及び圧力は、酸素希釈の量を決める。本発明
の典型的な用途である、所望の酸素ガス純度９５％を有
する連産品を有するガスタービンについて、パラメータ
ーは、典型的には下記の通りになる： 残留質ガス流７９圧力：２００ｐｓｉａ（１４Kg/cm
2Ａ） 透過質ガス流７０圧力：２０ｐｓｉａ（１．４Kg/cm
2Ａ） イオン輸送チューブ７２の寸法：Ｏ．Ｄ．０．７５イン
チ（１．９ｃｍ）×２０ｆｔ（６．１ｍ） イオン輸送チューブ７２作業温度：１６５２°F （９０
０℃） 残留質ガス流８０酸素含量：１３％ イオン輸送チューブ７２を通る平均Ｏ2 フラックス：１
０ＮＣＦ／ｆｔ2 （３．０Ｎｍ3 ／ｍ2 ） オリフィス７８流出係数：０．９５
【００３２】この情報から、希釈ガス流８２のの流量
は、イオン輸送チューブ７２当り０．２３８ＮＣＦＨ
（６７４０Ｎｃｍ3 ／時）と計算することができる。良
く知られたオリフィス式から、要求されるオリフィス７
８直径は、０．０１３３インチ（０．３３８ｍｍ）であ
るのが分かる。
は、イオン輸送チューブ７２当り０．２３８ＮＣＦＨ
（６７４０Ｎｃｍ3 ／時）と計算することができる。良
く知られたオリフィス式から、要求されるオリフィス７
８直径は、０．０１３３インチ（０．３３８ｍｍ）であ
るのが分かる。
【００３３】代わりの希釈配置及び装置が可能である。
図２Ｂは、酸素減損された残留質ガス流パージによって
酸素含有供給ガス流から酸素ガスを分離するための固体
電解質イオン輸送分離装置膜を採用する装置の例を例示
する略ダイヤグラムである。図２Ａのように、この装置
は、本質的に、一装置で図１のイオン輸送モジュール１
６及び残留質ガスパージ流２２を希釈用に向ける機能を
果たす。作業中、供給ガス流１００をバッフル１０２に
よって、イオン輸送チューブ１０４の外部を横断して流
れるように向け、そこで酸素が取り去られて、ガス流は
酸素減損されることになる。イオン輸送チューブ１０４
をチューブシート１０６によって一端に支持させ、他端
をキャップしかつ自由フローティングにする。酸素減損
された残留質ガス流１１２は、装置を出て２つの部分：
連産品として廃棄又は回収する残留質ガス流１１３、及
びバルブ１１６を通過して純ガス流１１８になり、示す
通りの装置に戻して供給する残留質ガス流１１４に分割
される。示さないが、残留質ガス流１１４は、バルブ１
１６を低い温度用にデザインされた一層安価な材料で作
らせるために、典型的には熱交換器で冷却させた後に、
バルブ１１６を通過する。そのような場合には、パージ
ガス流１１８を加熱した後に、装置に供給する。パージ
ガス流１１８は、チューブシート１１０によって支持さ
れるパージ供給チューブ１０８を用いてイオン輸送チュ
ーブ７２の内部に供給してイオン輸送チューブ７２の透
過質側をパージして調節された純度の酸素生成物ガス流
１２０を生成し、これが装置を出る。
図２Ｂは、酸素減損された残留質ガス流パージによって
酸素含有供給ガス流から酸素ガスを分離するための固体
電解質イオン輸送分離装置膜を採用する装置の例を例示
する略ダイヤグラムである。図２Ａのように、この装置
は、本質的に、一装置で図１のイオン輸送モジュール１
６及び残留質ガスパージ流２２を希釈用に向ける機能を
果たす。作業中、供給ガス流１００をバッフル１０２に
よって、イオン輸送チューブ１０４の外部を横断して流
れるように向け、そこで酸素が取り去られて、ガス流は
酸素減損されることになる。イオン輸送チューブ１０４
をチューブシート１０６によって一端に支持させ、他端
をキャップしかつ自由フローティングにする。酸素減損
された残留質ガス流１１２は、装置を出て２つの部分：
連産品として廃棄又は回収する残留質ガス流１１３、及
びバルブ１１６を通過して純ガス流１１８になり、示す
通りの装置に戻して供給する残留質ガス流１１４に分割
される。示さないが、残留質ガス流１１４は、バルブ１
１６を低い温度用にデザインされた一層安価な材料で作
らせるために、典型的には熱交換器で冷却させた後に、
バルブ１１６を通過する。そのような場合には、パージ
ガス流１１８を加熱した後に、装置に供給する。パージ
ガス流１１８は、チューブシート１１０によって支持さ
れるパージ供給チューブ１０８を用いてイオン輸送チュ
ーブ７２の内部に供給してイオン輸送チューブ７２の透
過質側をパージして調節された純度の酸素生成物ガス流
１２０を生成し、これが装置を出る。
【００３４】本発明に従うなお別の希釈方法は、残留質
ガスの少なくとも一部を透過させ得る又はその他の方法
でイオン輸送膜１７の透過質側１７ｂへの残留質ガスの
通過を可能にするセラミック又はその他の材料を、イオ
ン輸送膜１７の近くの又は該膜１７中の選定した領域に
おいて使用する。これは、いくらかの残留質ガスをイオ
ン輸送膜１７の透過質側１７ｂを通して透過させる又は
別のように透過質側１７ｂに通させることになる。その
ような物質は、イオン輸送膜１７全体にわたって均一に
分散させても又はイオン輸送膜１７の選定した領域だけ
に分散させてもよい。この残留質−ガス−透過性物質
は、代わりにイオン輸送膜１７の外部のいくらかの領域
において使用することができよう。別法として、残留質
ガスのいくらかをＵＨＰ酸素透過質中に移行させるため
に、導管４１のような小さい孔又は導管をイオン輸送膜
１７に又はイオン輸送膜１７の近くの領域に設置するこ
とができる。また、所望ならば、これらの透過又は輸送
手段の組合せを用いることもできる。
ガスの少なくとも一部を透過させ得る又はその他の方法
でイオン輸送膜１７の透過質側１７ｂへの残留質ガスの
通過を可能にするセラミック又はその他の材料を、イオ
ン輸送膜１７の近くの又は該膜１７中の選定した領域に
おいて使用する。これは、いくらかの残留質ガスをイオ
ン輸送膜１７の透過質側１７ｂを通して透過させる又は
別のように透過質側１７ｂに通させることになる。その
ような物質は、イオン輸送膜１７全体にわたって均一に
分散させても又はイオン輸送膜１７の選定した領域だけ
に分散させてもよい。この残留質−ガス−透過性物質
は、代わりにイオン輸送膜１７の外部のいくらかの領域
において使用することができよう。別法として、残留質
ガスのいくらかをＵＨＰ酸素透過質中に移行させるため
に、導管４１のような小さい孔又は導管をイオン輸送膜
１７に又はイオン輸送膜１７の近くの領域に設置するこ
とができる。また、所望ならば、これらの透過又は輸送
手段の組合せを用いることもできる。
【００３５】発明の好適な様式は、図１に示す通りに、
窒素冨化残留質ガス流２０の一部をパージガス流２２と
して用いてイオン輸送膜１７の透過質側１７ｂを還流す
ることである。
窒素冨化残留質ガス流２０の一部をパージガス流２２と
して用いてイオン輸送膜１７の透過質側１７ｂを還流す
ることである。
【００３６】発明を実施することの代わりの様式は、抜
き出した窒素冨化残留質２０の一部を希釈ガス流２４と
して用いることであり、希釈ガス流２４は、バルブ５６
を通過し、ガス流２５となり、かつ抜き出した透過質流
２６とブレンドされる。この手段は、好適な作業の様式
程には有利ではないが、例えばイオン輸送分離装置モジ
ュール１６が３口装置である場合のように、イオン輸送
膜１７を還流することが実施し得ない場合に、用いるこ
とができる。発明の目的は、酸素を希釈することにあ
り、代わりの様式は、窒素冨化残留質を用いるよりもむ
しろ、最終の酸素生成物要求に匹敵し得る外部源からの
任意の希釈ガスを用いることができる。
き出した窒素冨化残留質２０の一部を希釈ガス流２４と
して用いることであり、希釈ガス流２４は、バルブ５６
を通過し、ガス流２５となり、かつ抜き出した透過質流
２６とブレンドされる。この手段は、好適な作業の様式
程には有利ではないが、例えばイオン輸送分離装置モジ
ュール１６が３口装置である場合のように、イオン輸送
膜１７を還流することが実施し得ない場合に、用いるこ
とができる。発明の目的は、酸素を希釈することにあ
り、代わりの様式は、窒素冨化残留質を用いるよりもむ
しろ、最終の酸素生成物要求に匹敵し得る外部源からの
任意の希釈ガスを用いることができる。
【００３７】別の代わりの方法は、イオン輸送膜１７を
通して透過された酸素のいくらかと反応することができ
る燃料種を含有する還流流れを用いることである。その
ような燃焼の生成物は、最終の酸素生成物ガス流を適当
なレベルに希釈する。例えば、メタン１％を純酸素流に
加えると、水及び二酸化炭素を生成し、これらは酸素ガ
ス流２６を希釈して酸素９７％にすることになる。「反
応性希釈剤」の使用は、また、熱を生成する働きをし、
この熱はイオン輸送分離装置モジュール１６の加熱要求
を補うことができる。酸素濃度の低下は、またいくぶ
ん、燃焼が起きる領域でのイオン輸送膜１７を通る酸素
束（ｆｌｕｘ）を増す。
通して透過された酸素のいくらかと反応することができ
る燃料種を含有する還流流れを用いることである。その
ような燃焼の生成物は、最終の酸素生成物ガス流を適当
なレベルに希釈する。例えば、メタン１％を純酸素流に
加えると、水及び二酸化炭素を生成し、これらは酸素ガ
ス流２６を希釈して酸素９７％にすることになる。「反
応性希釈剤」の使用は、また、熱を生成する働きをし、
この熱はイオン輸送分離装置モジュール１６の加熱要求
を補うことができる。酸素濃度の低下は、またいくぶ
ん、燃焼が起きる領域でのイオン輸送膜１７を通る酸素
束（ｆｌｕｘ）を増す。
【００３８】本発明を発明の特定の実施態様に関して説
明したが、多くのその他の変更及び変更態様並びにその
他の使用は、当業者に明らかになるものと思う。従っ
て、本発明は、本明細書中の特定の開示によって制限さ
れず、ただ特許請求の範囲の記載によってだけ制限され
るのが好適である。
明したが、多くのその他の変更及び変更態様並びにその
他の使用は、当業者に明らかになるものと思う。従っ
て、本発明は、本明細書中の特定の開示によって制限さ
れず、ただ特許請求の範囲の記載によってだけ制限され
るのが好適である。
【００３９】イオン輸送分離装置モジュール１６への高
温の供給ガス流１８は、酸素元素を含有する任意のガス
でよい。しかし、イオン輸送分離装置モジュール１６へ
の高温の供給ガス流１８は、窒素（一層正確には、酸素
の存在しないガス）７９〜９７％、すなわち酸素３〜２
１％の好適な範囲を有するのが普通であり、一層好適な
範囲は、窒素（酸素の存在しないガス）７９〜９２％、
すなわち酸素８〜２１％である。
温の供給ガス流１８は、酸素元素を含有する任意のガス
でよい。しかし、イオン輸送分離装置モジュール１６へ
の高温の供給ガス流１８は、窒素（一層正確には、酸素
の存在しないガス）７９〜９７％、すなわち酸素３〜２
１％の好適な範囲を有するのが普通であり、一層好適な
範囲は、窒素（酸素の存在しないガス）７９〜９２％、
すなわち酸素８〜２１％である。
【００４０】上述した通りに、「固体電解質イオン性伝
導体」、「固体電解質イオン輸送膜」、「固体電解
質」、又は「イオン輸送膜」なる用語は、本明細書中そ
の他の方法で特定しない場合には、一般的に、イオン性
タイプ（電気駆動式）の系又は混合伝導体タイプ（圧力
駆動式）の系のいずれかを表示するのに用いる。
導体」、「固体電解質イオン輸送膜」、「固体電解
質」、又は「イオン輸送膜」なる用語は、本明細書中そ
の他の方法で特定しない場合には、一般的に、イオン性
タイプ（電気駆動式）の系又は混合伝導体タイプ（圧力
駆動式）の系のいずれかを表示するのに用いる。
【００４１】本明細書中で用いる通りの「窒素」なる用
語は、一般的に、酸素減損ガス、すなわち供給ガスに比
べて酸素が減損されたガスを意味する。上に検討した通
りに、イオン輸送膜は、単に酸素透過を許すだけであ
る。従って、残留質の組成は、供給ガスの組成に依存す
ることになる。供給ガスは、酸素が減損されるが、窒素
及びその他のいずれのガス（例えば、アルゴン）を供給
ガス中に存在させ続けることになる。用語の意味すると
ころは、用語を使用する関係において本明細書中に開示
する通りの発明に照らしてみれば当業者にとって明らか
になるものと思う。
語は、一般的に、酸素減損ガス、すなわち供給ガスに比
べて酸素が減損されたガスを意味する。上に検討した通
りに、イオン輸送膜は、単に酸素透過を許すだけであ
る。従って、残留質の組成は、供給ガスの組成に依存す
ることになる。供給ガスは、酸素が減損されるが、窒素
及びその他のいずれのガス（例えば、アルゴン）を供給
ガス中に存在させ続けることになる。用語の意味すると
ころは、用語を使用する関係において本明細書中に開示
する通りの発明に照らしてみれば当業者にとって明らか
になるものと思う。
【００４２】本明細書中で用いる通りの「酸素元素」な
る用語は、周期表中のいずれの他の元素とも化合されて
いない任意の酸素を意味する。酸素元素は、二原子形態
が典型的であるが、単一の酸素原子、三原子のオゾン、
及び他の元素と化合されていないその他の形態を含む。
る用語は、周期表中のいずれの他の元素とも化合されて
いない任意の酸素を意味する。酸素元素は、二原子形態
が典型的であるが、単一の酸素原子、三原子のオゾン、
及び他の元素と化合されていないその他の形態を含む。
【００４３】「高純度」なる用語は、含有する望まない
ガスが５容積％よりも少ないガス流を意味する。ガス流
は、純度少なくとも９９．０％が好ましく、９９．９％
が一層好ましく、純度少なくとも９９．９９％が最も好
ましく、ここで、「純な」とは、望まないガスが存在し
ないことを示す。
ガスが５容積％よりも少ないガス流を意味する。ガス流
は、純度少なくとも９９．０％が好ましく、９９．９％
が一層好ましく、純度少なくとも９９．９９％が最も好
ましく、ここで、「純な」とは、望まないガスが存在し
ないことを示す。
【００４４】本明細書中で用いる通りの「下流の部材」
又は「下流の機素」なる用語は、ガス流がイオン輸送モ
ジュールを出た後に通って流れる装置を意味する。下流
の部材の例は、熱交換器であろう。
又は「下流の機素」なる用語は、ガス流がイオン輸送モ
ジュールを出た後に通って流れる装置を意味する。下流
の部材の例は、熱交換器であろう。
【００４５】インター−システム、インター−ステージ
熱交換器、インター−クーラー、ヒーター、等のような
物理的機素の多くの代わりの変更を、本発明において任
意の適した様式で用いてよい。本明細書中に記載するこ
れらの機素、例えば熱交換器の使用は、総括プロセスの
熱効率を高めるのがしばしばである。その他の部材は、
ポリマー膜又は吸着剤床プレ精製装置又はポスト精製装
置を含むであろう。そのような部材及びそれらの操作
は、当分野並びにガス分離及びガス処理の実施において
良く知られておりかつ本発明におけるそれらの適した使
用は、当業者に理解されるであろう。
熱交換器、インター−クーラー、ヒーター、等のような
物理的機素の多くの代わりの変更を、本発明において任
意の適した様式で用いてよい。本明細書中に記載するこ
れらの機素、例えば熱交換器の使用は、総括プロセスの
熱効率を高めるのがしばしばである。その他の部材は、
ポリマー膜又は吸着剤床プレ精製装置又はポスト精製装
置を含むであろう。そのような部材及びそれらの操作
は、当分野並びにガス分離及びガス処理の実施において
良く知られておりかつ本発明におけるそれらの適した使
用は、当業者に理解されるであろう。
【００４６】発明の特定の特徴を、単に便宜のために図
面の内の一つ又はそれ以上に示すが、発明に従って各々
の特徴を他の特徴と組合せてよい。加えて、挙げる例
に、種々の変更及び変更態様を、発明の精神から逸脱し
ないでなし得るであろう。代わりの実施態様は、当業者
によって認識されるものと思い、それらは特許請求の範
囲の記載の範囲内に含まれることを意図する。
面の内の一つ又はそれ以上に示すが、発明に従って各々
の特徴を他の特徴と組合せてよい。加えて、挙げる例
に、種々の変更及び変更態様を、発明の精神から逸脱し
ないでなし得るであろう。代わりの実施態様は、当業者
によって認識されるものと思い、それらは特許請求の範
囲の記載の範囲内に含まれることを意図する。
【図１】固体電解質イオン輸送膜の一方の側に沿って流
れる加熱された空気を膜の他方の側への酸素の透過を許
し、酸素を還流、内部希釈剤、及び外部希釈剤の内の少
なくとも一つによって希釈する固体電解質イオン輸送分
離装置モジュールを用いた発明に従う系の例を例示する
略ダイヤグラムである。
れる加熱された空気を膜の他方の側への酸素の透過を許
し、酸素を還流、内部希釈剤、及び外部希釈剤の内の少
なくとも一つによって希釈する固体電解質イオン輸送分
離装置モジュールを用いた発明に従う系の例を例示する
略ダイヤグラムである。
【図２Ａ】酸素含有供給ガス流から酸素ガスを分離する
ための固体電解質イオン輸送分離装置膜及び次いで酸素
ガス流を酸素が減損された残留質ガス流で希釈するため
のメータリングオリフィスを採用した装置の例を例示す
る略ダイヤグラムである。
ための固体電解質イオン輸送分離装置膜及び次いで酸素
ガス流を酸素が減損された残留質ガス流で希釈するため
のメータリングオリフィスを採用した装置の例を例示す
る略ダイヤグラムである。
【図２Ｂ】酸素が減損された残留質ガス流パージによっ
て酸素含有供給ガス流から酸素ガスを分離するための固
体電解質イオン輸送分離装置膜を採用する装置の例を例
示する略ダイヤグラムである。
て酸素含有供給ガス流から酸素ガスを分離するための固
体電解質イオン輸送分離装置膜を採用する装置の例を例
示する略ダイヤグラムである。
【図３】Ｈａｙｎｅｓ合金第２５番の種々の酸素濃度及
び圧力における発火−燃焼挙動を例示するダイヤグラム
である。
び圧力における発火−燃焼挙動を例示するダイヤグラム
である。
【図４】ＨＡＳＴＥＬＬＯＹ合金Ｃ−２２Tmの種々の酸
素濃度及び圧力における発火−燃焼挙動を例示するダイ
ヤグラムである。
素濃度及び圧力における発火−燃焼挙動を例示するダイ
ヤグラムである。
１，２ 検出器
３ マイクロプロセッサ
１０ 圧縮機
１２ 熱交換器
１４ トリムヒーター
１６ イオン輸送分離装置モジュール
１７ａ 残留質側
１７ｂ 透過質側
４１ 導管
７２ イオン輸送チューブ
７４ チューブシート
７６ バッフル
７８ オリフィス
１０２ バッフル
１０４ イオン輸送チューブ
１０６ チューブシート
１０８ パージ供給チューブ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平８−309142（ＪＰ，Ａ)
特表 平５−508381（ＪＰ，Ａ)
米国特許5562754（ＵＳ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B01D 53/22
B01D 69/02
Claims (3)
- 【請求項１】 濃度酸素８０〜９９．７容積％を有する
希釈された酸素生成物ガス流を製造する方法であって、
下記： 残留質側及び透過質側を有するイオン輸送膜を収容する
イオン輸送モジュールを使用して空気を含む供給ガス流
から酸素を取り出して膜から出て透過質側に入る超純な
酸素ガス流と残留質ガス流との両方を生成し；かつ超純
な酸素ガス流と希釈剤ガスとをブレンドして濃度酸素８
０〜９９．７容積％を有する希釈された酸素生成物ガス
流を製造することを含む方法。 - 【請求項２】 ブレンディングが、酸素がイオン輸送膜
を透過する点と酸素生成物ガス流が下流の部材、すなわ
ちガス流がイオン輸送モジュールから出た後に通って流
れる装置を通過する点との間の１つ又はそれ以上の点で
起きる請求項１の方法。 - 【請求項３】 ブレンディングのための付加ガス流を、
イオン輸送膜の少なくとも１つの端部上の不完全なシー
ル、１つ又はそれ以上の導管、多孔質物質、或は残留質
ガス流の少なくとも一部を選択的に透過し得る膜を通し
て供して、残留質ガス流の少なくとも一部を、超純な酸
素ガス流が膜から出る際に又は出た後に超純な酸素ガス
流とブレンドさせる請求項１の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/848,260 US6117210A (en) | 1997-04-29 | 1997-04-29 | Solid electrolyte systems for producing controlled purity oxygen |
| US848260 | 1997-04-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10328522A JPH10328522A (ja) | 1998-12-15 |
| JP3392053B2 true JP3392053B2 (ja) | 2003-03-31 |
Family
ID=25302815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15510098A Expired - Fee Related JP3392053B2 (ja) | 1997-04-29 | 1998-04-28 | 定純度酸素を製造するための固体電解質系 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6117210A (ja) |
| EP (1) | EP0875283B1 (ja) |
| JP (1) | JP3392053B2 (ja) |
| KR (1) | KR19980081786A (ja) |
| CN (1) | CN1101244C (ja) |
| AU (1) | AU733840B2 (ja) |
| BR (1) | BR9801490A (ja) |
| CA (1) | CA2236186C (ja) |
| DE (1) | DE69819809T2 (ja) |
| ES (1) | ES2206783T3 (ja) |
| ID (1) | ID20226A (ja) |
| ZA (1) | ZA983542B (ja) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6352624B1 (en) * | 1999-06-01 | 2002-03-05 | Northrop Grumman Corporation | Electrochemical oxygen generating system |
| US6537514B1 (en) * | 1999-10-26 | 2003-03-25 | Praxair Technology, Inc. | Method and apparatus for producing carbon dioxide |
| KR100364584B1 (ko) * | 2000-08-08 | 2002-12-12 | 이흥섭 | 기체분리막을 이용한 산소공급장치 |
| US6406518B1 (en) * | 2000-08-21 | 2002-06-18 | Praxair Technology, Inc. | Gas separation process using ceramic membrane and regenerators |
| US6562104B2 (en) * | 2000-12-19 | 2003-05-13 | Praxair Technology, Inc. | Method and system for combusting a fuel |
| DE10064894A1 (de) * | 2000-12-23 | 2002-06-27 | Alstom Switzerland Ltd | Luftzerlegungseinrichtung |
| CA2493605A1 (en) * | 2001-07-25 | 2003-02-06 | Richard A. Haase | Processes and apparatus for the manufacture of polynuclear aluminum compounds and disinfectants, and polynuclear aluminum compounds and disinfectants from such processes and apparatus |
| US6562105B2 (en) * | 2001-09-27 | 2003-05-13 | Praxair Technology, Inc. | Combined method of separating oxygen and generating power |
| MXPA04009982A (es) * | 2002-04-11 | 2006-02-22 | Richard A Haase | Metodos, procesos, sistemas y aparatos con tecnologia de combustiion de agua, para la combustion de hidrogeno y oxigeno. |
| FR2838982B1 (fr) * | 2002-04-26 | 2005-02-25 | Air Liquide | Procede de fourniture d'air comprime a au moins un premier et un second postes utilisateurs |
| US7425231B2 (en) | 2003-08-06 | 2008-09-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | Feed gas contaminant removal in ion transport membrane systems |
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