JP3384464B2 - Method for treating volatile organic chlorine compounds - Google Patents
Method for treating volatile organic chlorine compoundsInfo
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、揮発性有機塩素化合物
の処理に係り、特に、トリクロロエチレン、テトラクロ
ロエチレン等の揮発性有機塩素化合物を気相中で分解処
理する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】揮発性有機塩素化合物による環境汚染と
くに土壌汚染・地下水・上水の汚染が報告され、社会的
に大きな問題となっている。汚染源としては主としてド
ライクリーニングや、金属工業・電子工業等の脱脂洗浄
剤の漏出に起因すると言われている。水中に含まれるこ
れらの揮発性有機塩素化合物は空気を液中に吹き込み曝
気するストリッピング方式で気相へ追い出し、これを吸
着剤で無害化する方式が一般的である。また、土中に井
戸を設置し、真空ポンプで井戸の内部を減圧しガス中に
抽出した揮発性有機塩素化合物を吸着剤にて処理する方
式も良く知られている。
【０００３】前記ガスの吸着処理は比較的確実な方法で
あるが、対象成分濃度が低濃度のときには、吸着剤の飽
和吸着量が、数％（ＷＴ）以下と小さく、使い捨て又は
工場持ち帰り再生する場合には、多量の吸着剤を必要と
するため、設備費・ランニングコストも高くなる点が、
問題であった。使用済みの吸着剤についても廃棄物処分
又は吸着剤メーカーの工場にて再生するにしても再び環
境を汚染する恐れがあった。
【０００４】そのため、吸着剤をその場で再生し、繰り
返し使用する方法が開発された。この方法は再生用ガス
又は水蒸気によって吸着成分を脱着し、続いてコンデン
サー（凝縮器）によって回収し、揮発性有機塩素化合物
を濃縮して廃棄処分している。これらの濃縮回収した揮
発性有機塩素化合物は、産業廃棄物として処分されるに
あたり、再び環境汚染を引き起こすことが懸念され、完
全で安全な処理方式とは言いがたいものであった。
【０００５】そこで、紫外線を用いて揮発性有機塩素化
合物を分解無害化する方法が検討されている。例えば、
希薄な揮発性有機塩素化合物を含有するガス（ストリッ
ピングガスなど）に紫外線を照射する方法、ガス中の有
機塩素化合物を吸着剤に吸着させた後、吸着剤を加熱空
気によって再生し、再生排ガス中の揮発性有機塩素化合
物に紫外線を照射して分解する方法等である。しかしな
がら、これら従来の紫外線分解法では、十分な分解がで
きないという問題点があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解消し、紫外線分解法においても十分な分解がで
き、効率的でかつ安全な揮発性有機塩素化合物の処理方
法を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、揮発性有機塩素化合物を含む排ガスを
活性炭に吸着させ、該活性炭から水蒸気又は熱風により
脱着後、脱着ガスを凝縮液化して揮発性有機塩素化合物
を含む溶液を分離し、分離した溶液を曝気して揮発性有
機塩素化合物を気相中に移行させ、該気相に水蒸気を付
加した後、該気相を紫外線に曝露して前記気相中の揮発
性有機塩素化合物を分解することを特徴とする揮発性有
機塩素化合物の処理方法としたものである。
【０００８】そして、前記処理方法において、水素源と
して水蒸気を含む気体を用いることができる。また、本
発明では、揮発性有機塩素化合物を含有する気相中に水
蒸気を含む気体を付加する水素源付加装置と、該水素源
を付加された揮発性有機塩素化合物を含む気体に紫外線
を照射する紫外線照射装置とを備えた揮発性有機塩素化
合物の処理装置を用いることができる。さらに、本発明
では、上記処理装置において、紫外線照射後の気体をア
ルカリ剤により処理する湿式中和装置を備えているのが
よい。
【０００９】上記のように、本発明は希薄なガスから濃
縮・回収して液化させた揮発性有機塩素化合物、又は使
用済みで廃棄処分しなければならない揮発性有機塩素化
合物等に空気を吹き込み、揮発した高濃度ガスに水素源
の存在下で紫外線を照射して、ガス中の揮発性有機塩素
化合物を、塩化水素、二酸化炭素及び水に分解した後、
さらにそのガスを苛性ソーダ等のアルカリ剤で湿式中和
し、保安フィルターとしての吸着剤を通過させた後、大
気へ放出させる揮発性有機塩素化合物処理方法を提供す
るものである。
【００１０】照射する紫外線は短波長のものが有効であ
る。水銀ランプを使用する場合、水銀の共鳴線である波
長２５３．７ｎｍと１８４．９ｎｍを比較すると１８
４．９ｎｍの方が効果的である。そのため、光源はこの
波長を効率的に発生する低圧水銀ランプで、しかもこの
波長を透過する材質（合成石英）で構成されたものを用
いるべきである。なお、トリクロロエチレン（ＴＣＥ）
及びテトラクロロエチレン分解の化学反応式は以下に示
す通りであると考えられる。
【００１１】
トリクロロエチレン
Ｃ2 ＨＣｌ3 ＋ 3/2Ｏ2 ＋Ｈ2 Ｏ → ２ＣＯ2 ＋３ＨＣｌ
テトラクロロエチレン
Ｃ2 Ｃｌ4 ＋Ｏ2 ＋２Ｈ2 Ｏ → ２ＣＯ2 ＋４ＨＣｌ
このように有機塩素化合物は分解され、水との反応によ
り有機塩素化合物中の塩素は塩化水素として固定され
る。なお、照射する気相中の揮発性有機塩素化合物濃度
は、ＴＣＥの場合、１００ｐｐｍから５００００ｐｐｍ
程度が有効である。
【００１２】また、揮発性有機塩素化合物の紫外線によ
る安定的な分解には当該物質濃度、特にその中の塩素原
子の量に応じて上記反応式に示されるように水素源が必
要である。その水素源を供給して必要量を確保する点が
本発明の要旨である。例えばＴＣＥ１ｍｏｌの分解には
水素原子が２ｍｏｌ必要であり、それは水分子では１ｍ
ｏｌに相当する。大気中の水蒸気は天候に応じて変動す
る。気温１０℃、相対湿度３０％のとき、水蒸気濃度は
９００ｐｐｍである。この濃度の水蒸気で分解できるト
リクロロエチレン濃度は最高９００ｐｐｍである。その
ため、高濃度のＴＣＥを安定して分解するためには水素
の供給源として水蒸気を安定して供給する必要がある。
【００１３】
【作用】本発明の作用について、本発明の一例を示す図
１を参照しながら説明する。図１において、トリクロロ
エチレン、テトラクロロエチレン等の揮発性有機塩素化
合物を含有する原水１は、ストリッピング装置２に導か
れて上方から充填物３に散布され、下方から送風機４に
よって吹き込まれるストリッピングガス（空気など５）
により水中の揮発性有機塩素化合物が除去され、処理水
６となって流出する。一方、ストリッピング装置２から
排気される排ガス７中には、水中から追い出された揮発
性有機塩素化合物が含まれており、この排ガス７を吸着
剤８を充填した吸着装置９に導入して吸着剤８に接触さ
せることにより、排ガス７中の有機塩素化合物は吸着剤
８に吸着され、無害化された処理ガス１０となって排出
される。吸着の条件は常温常圧で良い。
【００１４】このような吸着条件において、吸着剤８は
吸着の進行によって吸着能を失うが、破過に達する以前
に排ガスの通気停止あるいは予備吸着装置への切り換え
を行ない、吸着剤８の吸着成分の脱着、再生を行なえば
良い。脱着、再生は、例えば吸着剤層にボイラー１１で
発生させた水蒸気１２をさらにヒーター１３で加熱した
後供給し、吸着剤層を通過させ、吸着剤８に吸着された
揮発性有機塩素化合物を脱着する。脱着には水蒸気の他
空気等の高温気体を用いることができる。排出される揮
発性有機塩素化合物を含有する蒸気１４はコンデンサー
１５に導かれて凝縮回収される。凝縮回収された液は分
離槽１６に導かれて、揮発性有機塩素化合物液１７と水
１８に分離され、水１８は原水１に混合し再度ストリッ
ピング等処理される。一方、揮発性有機塩素化合物１７
は廃液タンク１９に導かれる。
【００１５】廃液タンク１９中の揮発性有機塩素化合物
液１７にコンプレッサー等の空気源２０から発生させた
空気の一部を通過させ、揮発性有機塩素化合物を高濃度
に含有するガス２１を発生させる。そのガスに水素源付
加装置、即ち加湿槽２２によって水素源である水蒸気を
含む加湿された空気２３を混合させ、一定の濃度・風量
となるように調整する。
【００１６】続いて、この揮発性有機塩素化合物及び水
蒸気を含有するガス２４を、低圧紫外線ランプ２５を内
蔵したＵＶリアクタ２６の中に一定時間流し、紫外線に
よってガス中の有機塩素化合物を分解する。紫外線への
曝露時間は、紫外線ランプの強度とガス流量によって適
宜選定する。分解によって発生した塩化水素を含むガス
２７は中和槽２８に導かれて中和無害化され、最後に活
性炭を充填した保安フィルター２９を通って無害化され
た処理ガス３０として大気へ放出される。中和槽はスク
ラバ方式であっても良い。
【００１７】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をより具体的
に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
実施例１
図１に示す装置を用いて、本発明に従って下記条件によ
り揮発性有機塩素化合物を処理した。
【００１８】処理条件
（ストリッピング装置２）
方式 ：テラレット充填塔（５ｍ充填）
通気量（空気）／通水量 ：３０
通水速度 ：６０ｍ／ｈ
水質
原水中トリクロロエチレン ：０．３〜０．６ｍｇ／リットル
処理水中トリクロロエチレン ：＜０．０３ｍｇ／リットル
【００１９】（吸着装置８）
方式 ：繊維状活性炭吸着（水蒸気再生）
吸着剤通気ＳＶ ：５０００リットル／ｈ
再生水蒸気流量 ：３０ｋｇ／ｈ
入口（排ガス）トリクロロエチレン：２〜４ｐｐｍ
出口（処理ガス）トリクロロエチレン：＜０．３３ｐｐｍ
再生頻度 ：８時間毎
再生時間 ：３０分
【００２０】
（ＵＶリアクタ２６）
紫外線ランプ ：低圧水銀ランプ（１１０ｗ）
原ガス流量 ：０．５〜３．８リットル／ｍｉｎ
紫外線照射時間 ：１〜８ｍｉｎ
ＵＶリアクタ容積 ：３．８リットル
原ガストリクロロエチレン濃度：１８５００ｐｐｍ
原ガス水蒸気濃度 ：２５０００ｐｐｍ
処理ガストリクロロエチレン濃度：０．５ｐｐｍ以下
【００２１】
（中和槽２８）
中和剤 ：１規定苛性ソーダ溶液
（保安フィルター２９）
充填剤 ：粒状活性炭
ＳＶ ：１０００（リットル／ｈｒ）
【００２２】上記の様にトリクロロエチレンは紫外線照
射によってほぼ１００％分解されていることが分かっ
た。このとき原ガス中には十分量の水蒸気が含まれてい
た。また、ＵＶリアクタ処理ガス中の炭酸ガス及び一酸
化炭素濃度を分析した結果を図２に示す。滞留時間８分
では一酸化炭素はほゞ消失し、炭酸ガス濃度は３７５０
０ｐｐｍとなった。この結果から、原ガスのトリクロロ
エチレン中に含まれる炭素がほぼ１００％炭酸ガスに酸
化分解されていることがわかった。
【００２３】実施例２
実施例１と同様の操作によって揮発性有機塩素化合物を
吸着剤に吸着、脱着し、凝縮させた液に空気を吹き込ん
でガス化させ、ＵＶリアクタによって処理した。ただ
し、トリクロロエチレン濃度を約５０００ｐｐｍとなる
ように設定した。
処理条件
【００２４】
（ＵＶリアクタ２６）
紫外線ランプ ：低圧水銀ランプ（１１０ｗ）
原ガス流量 ：１．０〜７．６リットル／ｍｉｎ
紫外線照射時間 ：０．５〜４ｍｉｎ
ＵＶリアクタ容積 ：３．８リットル
原ガストリクロロエチレン濃度：４９００ｐｐｍ
原ガス水蒸気濃度 ：３０，０００ｐｐｍ
処理ガストリクロロエチレン濃度：０．５ｐｐｍ以下
【００２５】（中和槽２８）
中和剤 ：１規定苛性ソーダ溶液
（保安フィルター２９）
充填剤 ：粒状活性炭
ＳＶ ：１０００リットル／ｈ
ｒ
【００２６】上記の様にトリクロロエチレンは紫外線照
射によってほぼ１００％分解されていることが分かっ
た。この時、原ガス中には十分量の水蒸気が含まれてい
た。また、ＵＶリアクタ出口ガス中の炭酸ガス及び一酸
化炭素濃度を分析した結果を図３に示す。滞留時間４分
では一酸化炭素はほゞ消失し、炭酸ガス濃度は１０１０
０ｐｐｍとなった。この結果から、原ガスのトリクロロ
エチレン中に含まれる炭素がほぼ１００％炭酸ガスに酸
化分解されていることがわかった。
【００２７】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、揮発
性有機塩素化合物を効果的に無害化し、環境汚染を防止
することができる。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the treatment of volatile organic chlorine compounds, and in particular, to the decomposition of volatile organic chlorine compounds such as trichloroethylene and tetrachloroethylene in the gas phase. How to do it. [0002] Environmental pollution due to volatile organic chlorine compounds, particularly soil pollution, groundwater and drinking water pollution, has been reported and has become a serious social problem. It is said that the contamination source is mainly caused by dry cleaning and leakage of a degreasing cleaning agent in the metal industry and the electronics industry. In general, these volatile organic chlorine compounds contained in water are expelled into the gas phase by a stripping method in which air is blown into the liquid and aerated, and this is made harmless by an adsorbent. It is also well known that a well is installed in the soil, the inside of the well is depressurized by a vacuum pump, and the volatile organic chlorine compound extracted into the gas is treated with an adsorbent. [0003] The gas adsorption treatment is a relatively reliable method, but when the concentration of the target component is low, the saturated adsorption amount of the adsorbent is as small as several% (WT) or less, and the disposable or factory take-back is regenerated. In that case, a large amount of adsorbent is required, and equipment and running costs are also high.
It was a problem. Even with used adsorbents, there is a risk that the environment will be polluted again even if the waste is disposed of or recycled at the factory of the adsorbent manufacturer. Therefore, a method has been developed in which the adsorbent is regenerated in situ and used repeatedly. In this method, an adsorbed component is desorbed by a regeneration gas or water vapor, subsequently recovered by a condenser (condenser), and a volatile organic chlorine compound is concentrated and disposed. When the concentrated and recovered volatile organic chlorine compounds are disposed of as industrial waste, there is a concern that they may cause environmental pollution again, and it is hard to say that this is a complete and safe processing method. [0005] Therefore, a method of decomposing and detoxifying volatile organic chlorine compounds using ultraviolet rays has been studied. For example,
A method of irradiating a gas containing a dilute volatile organic chlorine compound (stripping gas, etc.) with ultraviolet light. After adsorbing the organic chlorine compound in the gas to the adsorbent, the adsorbent is regenerated by heated air, and the regenerated exhaust gas A method of irradiating the volatile organic chlorine compound therein with ultraviolet rays for decomposition. However, there is a problem that these conventional ultraviolet decomposition methods cannot sufficiently decompose. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems and provides a method for efficiently and safely treating volatile organic chlorine compounds which can be sufficiently decomposed even by an ultraviolet ray decomposition method.
The task is to provide a law . [0007] In order to solve the above problems, the present invention provides an exhaust gas containing a volatile organic chlorine compound.
Adsorbed on activated carbon, from the activated carbon by steam or hot air
After desorption, the desorbed gas is condensed and liquefied to form volatile organic chlorine compounds.
Separate the solution containing
Transferring the chlorine compound into the gas phase, adding water vapor to the gas phase, and then exposing the gas phase to ultraviolet rays to decompose the volatile organic chlorine compound in the gas phase. This is a method for treating an organic chlorine compound . [0008] In the processing method, it is possible to <br/> the hydrogen source is used a gas containing water vapor. Further, in the present invention, the hydrogen source addition device for adding a gas containing water <br/> vapor in the gas phase containing the volatile organic chlorine compounds, volatile organic chlorine compounds are added to the hydrogen source an ultraviolet irradiation device which irradiates ultraviolet rays to the gas containing it is possible to use processing apparatus volatile organic chlorinated compounds with. Further, in the present invention, it is preferable that the above-mentioned processing apparatus is provided with a wet neutralization apparatus for processing the gas after the irradiation of the ultraviolet rays with an alkali agent. As described above, the present invention blows air into a volatile organic chlorine compound which is concentrated and recovered from a dilute gas and liquefied, or a volatile organic chlorine compound which has been used and must be disposed of. After irradiating the volatile high-concentration gas with ultraviolet rays in the presence of a hydrogen source to decompose volatile organic chlorine compounds in the gas into hydrogen chloride, carbon dioxide and water,
Further, the present invention provides a method for treating volatile organic chlorine compounds in which the gas is wet-neutralized with an alkaline agent such as caustic soda, passed through an adsorbent as a security filter, and then released to the atmosphere. [0010] It is effective to use ultraviolet rays having a short wavelength. When a mercury lamp is used, a wavelength of 253.7 nm, which is a resonance line of mercury, is compared with 184.9 nm.
4.9 nm is more effective. Therefore, the light source should be a low-pressure mercury lamp that efficiently generates this wavelength and that is made of a material (synthetic quartz) that transmits this wavelength. In addition, trichlorethylene (TCE)
It is considered that the chemical reaction formula for decomposing tetrachloroethylene is as shown below. [0011] trichlorethylene C 2 HCl 3 + 3 / 2O 2 + H 2 O → 2CO 2 + 3HCl tetrachlorethylene C 2 Cl 4 + O 2 + 2H 2 O → 2CO 2 + 4HCl organochlorine compounds in this manner is decomposed, with water The chlorine in the organic chlorine compound is fixed as hydrogen chloride by the reaction. The volatile organic chlorine compound concentration in the gas phase to be irradiated is 100 ppm to 50,000 ppm in the case of TCE.
The degree is effective. Further, for stable decomposition of a volatile organic chlorine compound by ultraviolet rays, a hydrogen source is required as shown in the above reaction formula according to the concentration of the substance, particularly the amount of chlorine atoms therein. The point of the present invention is to supply the hydrogen source to secure a required amount. For example, the decomposition of 1 mol of TCE requires 2 mol of hydrogen atoms, which is 1 m for water molecules.
ol. Water vapor in the atmosphere fluctuates depending on the weather. At a temperature of 10 ° C. and a relative humidity of 30%, the water vapor concentration is 900 ppm. The maximum concentration of trichlorethylene that can be decomposed with water vapor at this concentration is 900 ppm. Therefore, in order to stably decomposing TCE of high concentration, it is necessary to stably supply steam to the source of hydrogen. The operation of the present invention will be described with reference to FIG. 1 showing an example of the present invention. In FIG. 1, raw water 1 containing volatile organic chlorine compounds such as trichloroethylene and tetrachloroethylene is guided to a stripping device 2 and is sprayed on a packing 3 from above, and stripping gas (air) blown by a blower 4 from below. 5)
As a result, the volatile organic chlorine compounds in the water are removed, and the treated water 6 flows out. On the other hand, the exhaust gas 7 exhausted from the stripping device 2 contains a volatile organic chlorine compound expelled from the water, and this exhaust gas 7 is introduced into an adsorption device 9 filled with an adsorbent 8 to be adsorbed. When the organic chlorine compound is brought into contact with the agent 8, the organic chlorine compound in the exhaust gas 7 is adsorbed by the adsorbent 8, and is discharged as a detoxified processing gas 10. Adsorption conditions may be room temperature and normal pressure. Under such adsorption conditions, the adsorbent 8 loses its adsorbing ability due to the progress of adsorption, but before reaching breakthrough, the exhaust gas is stopped from being vented or switched to a pre-adsorption device, and the adsorbent component of the adsorbent 8 is adsorbed. It is only necessary to carry out desorption and regeneration. For desorption and regeneration, for example, steam 12 generated in the boiler 11 is supplied to the adsorbent layer after being further heated by the heater 13, passed through the adsorbent layer, and the volatile organic chlorine compound adsorbed by the adsorbent 8 is desorbed. I do. A high-temperature gas such as air can be used for desorption in addition to steam. The discharged vapor 14 containing a volatile organic chlorine compound is led to a condenser 15 where it is condensed and recovered. The condensed and recovered liquid is guided to a separation tank 16, where it is separated into a volatile organic chlorine compound liquid 17 and water 18, and the water 18 is mixed with the raw water 1 and subjected to stripping or the like again. On the other hand, volatile organic chlorine compounds 17
Is led to the waste liquid tank 19. A part of the air generated from an air source 20 such as a compressor is passed through the volatile organic chlorine compound liquid 17 in the waste liquid tank 19 to generate a gas 21 containing a high concentration of the volatile organic chlorine compound. . The gas is mixed with humidified air 23 containing water vapor, which is a hydrogen source, by a hydrogen source adding device, that is, a humidifying tank 22, so as to adjust to a constant concentration and air volume. Subsequently, the gas 24 containing the volatile organic chlorine compound and water vapor is allowed to flow for a predetermined time into a UV reactor 26 having a built-in low-pressure ultraviolet lamp 25 to decompose the organic chlorine compound in the gas by ultraviolet rays. The exposure time to ultraviolet rays is appropriately selected according to the intensity of the ultraviolet lamp and the gas flow rate. The gas 27 containing hydrogen chloride generated by the decomposition is guided to a neutralization tank 28, where it is neutralized and rendered harmless. Finally, it passes through a security filter 29 filled with activated carbon and is discharged to the atmosphere as a detoxified processing gas 30. . The neutralization tank may be of a scrubber type. EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. Example 1 Using the apparatus shown in FIG. 1, a volatile organochlorine compound was treated according to the present invention under the following conditions. Treatment conditions (stripping apparatus 2) Method: Terralet packed tower (5 m packed) Aeration (air) / water flow: 30 Water flow speed: 60 m / h Trichlorethylene in raw water of raw water: 0.3 to 0.6 mg / Trichlorethylene in liter treated water: <0.03 mg / liter [Adsorption device 8] Method: Adsorption of fibrous activated carbon (steam regeneration) Adsorbent ventilation SV: 5000 liter / h Regenerated steam flow rate: 30 kg / h Inlet (exhaust gas) trichloroethylene : 2 to 4 ppm Outlet (processing gas) trichlorethylene: <0.33 ppm Regeneration frequency: Every 8 hours Regeneration time: 30 minutes (UV reactor 26) Ultraviolet lamp: Low-pressure mercury lamp (110w) Raw gas flow: 0.5 ~ 3.8 liter / min UV irradiation time: 1 ~ 8min UV reactor Capacity: 3.8 liter Raw gas trichlorethylene concentration: 18500 ppm Raw gas steam concentration: 25000 ppm Treatment gas trichlorethylene concentration: 0.5 ppm or less (Neutralization tank 28) Neutralizer: 1 N caustic soda solution (security filter 29) Filling Agent: granular activated carbon SV: 1000 (liter / hr) As described above, it was found that trichlorethylene was decomposed almost 100% by ultraviolet irradiation. At this time, the raw gas contained a sufficient amount of water vapor. FIG. 2 shows the results of analyzing the concentrations of carbon dioxide and carbon monoxide in the UV reactor processing gas. At a residence time of 8 minutes, carbon monoxide almost disappeared and the carbon dioxide concentration was 3750.
It became 0 ppm. From this result, it was found that carbon contained in the raw gas trichloroethylene was oxidatively decomposed into almost 100% carbon dioxide gas. Example 2 A volatile organic chlorine compound was adsorbed to and desorbed from an adsorbent by the same operation as in Example 1, and air was blown into the condensed liquid to be gasified, followed by treatment with a UV reactor. However, the trichlorethylene concentration was set to be about 5000 ppm. (UV reactor 26) Ultraviolet lamp: low-pressure mercury lamp (110 w) Raw gas flow rate: 1.0 to 7.6 liter / min Ultraviolet irradiation time: 0.5 to 4 min UV reactor volume: 3.8 liter Raw gas trichlorethylene concentration: 4900 ppm Raw gas water vapor concentration: 30,000 ppm Processed gas trichlorethylene concentration: 0.5 ppm or less (Neutralization tank 28) Neutralizer: 1 N caustic soda solution (security filter 29) Filler: Granular activated carbon SV: 1000 liter / h
r As described above, it was found that trichloroethylene was decomposed almost 100% by irradiation with ultraviolet rays. At this time, the raw gas contained a sufficient amount of water vapor. FIG. 3 shows the results of analyzing the concentrations of carbon dioxide and carbon monoxide in the UV reactor outlet gas. At a residence time of 4 minutes, carbon monoxide almost disappeared and the carbon dioxide concentration was 1010
It became 0 ppm. From this result, it was found that carbon contained in the raw gas trichloroethylene was oxidatively decomposed into almost 100% carbon dioxide gas. As described above, according to the present invention, volatile organic chlorine compounds can be effectively rendered harmless, and environmental pollution can be prevented.
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の処理方法に用いる装置の一例を示す工
程図。
【図２】ＵＶリアクタ出口ガス中のＣＯ2 とＣＯのガス
濃度を示すグラフ。
【図３】ＵＶリアクタ出口ガス中のＣＯ2 とＣＯのガス
濃度を示すグラフ。
【符号の説明】
１：原水、２：ストリッピング装置、３：充填物、４：
送風機、５：曝気気体、６：処理水、７：排気ガス、
８：吸着剤、９：吸着装置、１０：吸着処理ガス、１
１：ボイラー、１２：水蒸気、１３：ヒーター、１４：
脱着蒸気、１５：コンデンサー、１６：分離槽、１７：
揮発性有機塩素化合物液、１８：水、１９：廃液タン
ク、２０：コンプレッサー、２１：揮発性有機塩素化合
物高濃度含有ガス、２２：加湿槽、２３：加湿空気、２
４：被処理ガス、２５：低圧紫外線ランプ、２６：ＵＶ
リアクタ、２７：塩化水素を含む分解ガス、２８：中和
槽、２９：保安フィルター、３０：無害化された処理ガ
スBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a process diagram showing an example of an apparatus used for a processing method of the present invention. FIG. 2 is a graph showing gas concentrations of CO 2 and CO in a UV reactor outlet gas. FIG. 3 is a graph showing gas concentrations of CO 2 and CO in a UV reactor outlet gas. [Explanation of Signs] 1: Raw water, 2: Stripping device, 3: Packed material, 4:
Blower, 5: aerated gas, 6: treated water, 7: exhaust gas,
8: adsorbent, 9: adsorption device, 10: adsorption treatment gas, 1
1: boiler, 12: steam, 13: heater, 14:
Desorption steam, 15: condenser, 16: separation tank, 17:
Volatile organic chlorine compound liquid, 18: water, 19: waste liquid tank, 20: compressor, 21: gas containing high concentration of volatile organic chlorine compound, 22: humidifier, 23: humidified air, 2
4: gas to be treated, 25: low-pressure ultraviolet lamp, 26: UV
Reactor, 27: decomposition gas containing hydrogen chloride, 28: neutralization tank, 29: security filter, 30: detoxified processing gas
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩泉 孝司 神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号 株式会社荏原総合研究所内 (72)発明者 三井 康弘 東京都港区港南１丁目６番27号 荏原イ ンフィルコ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−191095（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−200836（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−68859（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−200715（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−70126（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01D 53/70 B09C 1/06 C02F 1/20 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Takashi Iwaizumi 4-2-1 Motofujisawa, Fujisawa-shi, Kanagawa Inside Ebara Research Institute Co., Ltd. (72) Inventor Yasuhiro Mitsui 1-6-127 Konan, Minato-ku, Tokyo (56) References JP-A-62-191095 (JP, A) JP-A-61-200836 (JP, A) JP-A-52-68859 (JP, A) JP-A-4-200715 (JP, A) Japanese Utility Model Hei 4-70126 (JP, U) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B01D 53/70 B09C 1/06 C02F 1/20
Claims (1)
性炭に吸着させ、該活性炭から水蒸気又は熱風により脱
着後、脱着ガスを凝縮液化して揮発性有機塩素化合物を
含む溶液を分離し、分離した溶液を曝気して揮発性有機
塩素化合物を気相中に移行させ、該気相に水蒸気を付加
した後、該気相を紫外線に曝露して前記気相中の揮発性
有機塩素化合物を分解することを特徴とする揮発性有機
塩素化合物の処理方法。(57) [Claims] 1. An exhaust gas containing a volatile organic chlorine compound is adsorbed on activated carbon, desorbed from the activated carbon by steam or hot air, and the desorbed gas is condensed and liquefied to form a volatile organic chlorine compound. Is separated, the separated solution is aerated, and the volatile organic chlorine compound is transferred into the gas phase, and after adding water vapor to the gas phase , the gas phase is exposed to ultraviolet rays, and A method for treating a volatile organic chlorine compound, comprising decomposing the volatile organic chlorine compound.
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