JP3383004B2 - Method and apparatus for producing hologram recording medium - Google Patents

Method and apparatus for producing hologram recording medium

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JP3383004B2
JP3383004B2 JP14868193A JP14868193A JP3383004B2 JP 3383004 B2 JP3383004 B2 JP 3383004B2 JP 14868193 A JP14868193 A JP 14868193A JP 14868193 A JP14868193 A JP 14868193A JP 3383004 B2 JP3383004 B2 JP 3383004B2
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pixel
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recording medium
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敏雄 茂出木
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  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はホログラム記録媒体
成方法および作成装置、特に、真正な物品であることを
証明するためのセキュリティ用ホログラムシールへの利
用に適したホログラム記録媒体作成方法および作成装
置に関する。
The present invention relates to a work <br/> forming method and producing apparatus of the hologram recording medium, in particular, the hologram recording which is suitable for application to a security hologram seal for prove genuine article medium on creating a method and create device.

【0002】[0002]

【従来の技術】クレジットカード、預金通帳、金券など
の偽造を防止するための手段として、ホログラムシール
が利用されている。また、ビデオテープや高級腕時計な
どの商品についても、海賊版が出回るのを防止するため
に、ホログラムシールが利用されている。この他、装飾
用、販売促進用といった目的にも、ホログラムシールが
利用されている。このようなホログラムシールには、三
次元立体像ではなく二次元の絵柄がモチーフとして用い
られることが多い。
2. Description of the Related Art Hologram stickers are used as a means for preventing counterfeiting of credit cards, bankbooks, cash vouchers and the like. In addition, hologram seals are used for products such as video tapes and luxury watches to prevent pirated copies from circulating. In addition, hologram stickers are also used for purposes such as decoration and sales promotion. In such a hologram sticker, a two-dimensional picture is often used as a motif instead of a three-dimensional stereoscopic image.

【0003】このようなホログラムシールを作成するに
は、通常、レーザ光を用いて干渉縞を形成させる光学的
なホログラム撮影方法が用いられている。すなわち、二
次元の絵柄モチーフが描かれた原稿を用意し、2つに分
岐させたレーザ光の一方をこの原稿に照射し、その反射
光と分岐したもう一方のレーザ光とを干渉させてその干
渉縞を感光材に記録するのである。こうしてホログラム
原版が作成できたら、この原版を用いて、プレスの手法
によりホログラムシールを量産することができる。
To make such a hologram sticker, an optical hologram photographing method in which an interference fringe is formed by using a laser beam is usually used. That is, a manuscript on which a two-dimensional pattern motif is drawn is prepared, and one of the laser beams branched into two is irradiated to this manuscript, and the reflected light and the other branched laser light are interfered with each other. The interference fringes are recorded on the photosensitive material. After the hologram master plate is created in this manner, hologram seals can be mass-produced using the master plate by a pressing method.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の光学的なホログラム撮影方法には、鮮明なホロ
グラム像が得られないという問題がある。すなわち、光
学的に形成された干渉縞は、振動に敏感であるため、振
動を完全に排除した環境でのホログラム撮影を行う必要
がある。ところが、かなりの精度の防振台を用いて撮影
を行っても、振動を完全に排除することは困難であり、
このため、干渉縞の記録像にいわゆる「ボケ」が生じ、
コントラストのある明るいホログラム像が得られないの
である。また、用いるレーザ光の発振波長にもゆらぎが
生じるため、くも硝子状ノイズが避けられない。このよ
うに、光学的なホログラム撮影には再現性が悪いという
問題があるため、同じ原版を何枚か作成することも困難
になる。
However, the above-mentioned conventional optical hologram photographing method has a problem that a clear hologram image cannot be obtained. That is, since the optically formed interference fringe is sensitive to vibration, it is necessary to perform hologram imaging in an environment in which vibration is completely eliminated. However, it is difficult to completely eliminate the vibration even when shooting with a vibration-proof table with considerable accuracy.
Therefore, so-called "blur" occurs in the recorded image of the interference fringes,
A bright hologram image with contrast cannot be obtained. Further, since the oscillation wavelength of the laser light used also fluctuates, spider glass noise cannot be avoided. As described above, since there is a problem of poor reproducibility in optical hologram photographing, it is difficult to make several same original plates.

【0005】そこで本発明は、鮮明なホログラム像が得
られ、しかも再現性の良いホログラム記録媒体作成方
法および作成装置を提供することを目的とする。
[0005] The present invention is a clear hologram image can be obtained. Moreover an object of the invention to provide a forming method and producing apparatus of good reproducibility holographic recording medium.

【0006】[0006]

【0007】[0007]

【0008】[0008]

【0009】[0009]

【0010】[0010]

【0011】[0011]

【0012】[0012]

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】 (1) 本願第1の発明
、回折格子により所定のモチーフが表現されたホログ
ラム記録媒体を作成する方法において、所定線幅の格子
線を所定ピッチおよび所定角度で所定の閉領域内に配置
した画素パターンを、線幅、ピッチ、角度という3つの
パラメータのうちの少なくとも1つを変えることによっ
て複数用意する第1の段階と、それぞれ所定の画素値を
もった複数の画素を平面上の所定位置に定義することに
より所定のモチーフを表現した、モチーフ画素情報を用
意する第2の段階と、このモチーフ画素情報において定
義された各画素と、第1の段階で用意した各画素パター
ンとの対応関係を、各画素についての画素値を参照する
ことにより定義する第3の段階と、この対応関係に基づ
いて、画素パターンを所定の画素位置に配置する第4の
段階と、を行うようにしたものである。
Means for Solving the Problems (1) First Invention of the Present Application
Is a method for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, in which a pixel pattern in which a grid line having a predetermined line width is arranged in a predetermined closed region at a predetermined pitch and a predetermined angle is used. , A first step of preparing a plurality by changing at least one of the three parameters of angle, and a predetermined motif by defining a plurality of pixels each having a predetermined pixel value at a predetermined position on a plane. The second step of preparing the motif pixel information expressing the above, and the correspondence between each pixel defined in this motif pixel information and each pixel pattern prepared in the first step are represented by the pixel value for each pixel. And a fourth step of arranging the pixel pattern at a predetermined pixel position based on this correspondence relationship. It is obtained by the.

【0016】(2) 本願第2の発明は、上述の第1の発
に係るホログラム記録媒体の作成方法において、第2
の段階で、複数の異なるモチーフについてのモチーフ画
素情報をそれぞれ用意し、第3の段階で、異なるモチー
フに所属する画素については、異なる画素パターンを対
応させ、複数のモチーフを同一平面上に重複させて表現
するようにしたものである。
(2) The second invention of the present application is based on the first invention.
In the method for producing a hologram recording medium according to Ming ,
In the step of, the motif pixel information for a plurality of different motifs is prepared respectively, and in the third step, for the pixels belonging to different motifs, different pixel patterns are made to correspond, and a plurality of motifs are made to overlap on the same plane. Is expressed as follows.

【0017】(3) 本願第3の発明は、上述の第1の発
に係るホログラム記録媒体の作成方法において、第1
の段階で、互いに近似したパラメータをもつ複数の画素
パターンを1グループとして、複数グループの画素パタ
ーンを用意し、第2の段階で、複数の異なるモチーフに
ついてのモチーフ画素情報をそれぞれ用意し、第3の段
階で、異なるモチーフに所属する画素については、異な
るグループに属する画素パターンを対応させ、複数のモ
チーフを同一平面上に重複させて表現するようにしたも
のである。
(3) The third invention of the present application is based on the first invention.
In the method for producing a hologram recording medium according to Ming ,
In the step, a plurality of pixel patterns having parameters close to each other are set as one group, a plurality of groups of pixel patterns are prepared, and in a second step, motif pixel information about a plurality of different motifs is prepared respectively. At this stage, with respect to pixels belonging to different motifs, pixel patterns belonging to different groups are made to correspond to each other, and a plurality of motifs are represented by overlapping on the same plane.

【0018】(4) 本願第4の発明は、回折格子により
所定のモチーフが表現されたホログラム記録媒体を作成
する方法において、所定線幅の格子線を所定ピッチおよ
び所定角度で所定の閉領域内に配置した画素パターン
を、線幅、ピッチ、角度という3つのパラメータのうち
の少なくとも1つを変えることによって複数用意する第
1の段階と、それぞれ所定の画素値をもった複数の画素
をM行N列の配列上に定義することにより所定のモチー
フを表現したモチーフ画素情報を、複数の異なるモチー
フについてそれぞれ用意する第2の段階と、m行n列に
配列された副画素から構成される単位副画素配列を定義
し、この単位副画素配列内の各副画素位置にどのモチー
フの画素を配置するかを定めた副画素構成情報を用意す
る第3の段階と、モチーフ画素情報において定義された
各画素と、第1の段階で用意した各画素パターンとの対
応関係を、各画素についての画素値を参照することによ
り定義する第4の段階と、単位副画素配列自身をM行N
列に配列することにより、(m×M)行(n×N)列の
副画素配列を定義し、第4の段階で定義した対応関係に
基づいて、各モチーフごとに各単位副画素配列に対応す
る画素パターンを抽出し、第3の段階で用意した副画素
構成情報に基づいて、抽出された画素パターンを所定の
副画素位置に配置する第5の段階と、を行うようにした
ものである。
(4) A fourth invention of the present application is a method for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, in which a grid line having a predetermined line width is formed in a predetermined closed region at a predetermined pitch and a predetermined angle. The first step of preparing a plurality of pixel patterns arranged in the above by changing at least one of three parameters of line width, pitch, and angle, and a plurality of pixels each having a predetermined pixel value in M rows. A unit composed of a second stage in which motif pixel information expressing a predetermined motif by defining it on an array of N columns is prepared for each of a plurality of different motifs, and sub-pixels arranged in m rows and n columns. A third step of defining a sub-pixel array and preparing sub-pixel configuration information that defines which motif pixel is to be arranged at each sub-pixel position in this unit sub-pixel array. The fourth step of defining the correspondence between each pixel defined in the pixel information and each pixel pattern prepared in the first step by referring to the pixel value of each pixel, and the unit sub-pixel array Self M row N
By arranging them in columns, a sub-pixel array of (m × M) rows (n × N) columns is defined, and based on the correspondence defined in the fourth step, each unit sub-pixel array is arranged for each motif. The fifth step of extracting the corresponding pixel pattern and arranging the extracted pixel pattern at a predetermined sub-pixel position based on the sub-pixel configuration information prepared in the third step. is there.

【0019】(5) 本願第5の発明は、回折格子により
所定のモチーフが表現されたホログラム記録媒体を作成
する方法において、所定線幅の格子線を所定ピッチおよ
び所定角度で所定の閉領域内に配置した画素パターン
を、線幅、ピッチ、角度という3つのパラメータのうち
の少なくとも1つを変えることによって複数用意する第
1の段階と、それぞれ所定の画素値をもった複数の画素
をM行N列の配列上に定義することにより所定のモチー
フを表現したモチーフ画素情報を、複数の異なるモチー
フについてそれぞれ用意する第2の段階と、m行n列に
配列された副画素から構成される単位副画素配列を定義
し、この単位副画素配列内の各副画素位置にどのモチー
フの画素を配置するかを定めた副画素構成情報を用意す
る第3の段階と、モチーフ画素情報において定義された
各画素と、第1の段階で用意した各画素パターンとの対
応関係を、各画素についての画素値を参照することによ
り定義する第4の段階と、単位副画素配列自身を(M/
m)行(N/n)列に配列することにより、M行N列の
副画素配列を定義し、第4の段階で定義した対応関係に
基づいて、各モチーフごとに各単位副画素配列に対応す
る画素パターンを抽出し、第3の段階で用意した副画素
構成情報に基づいて、抽出された画素パターンのうちの
一部を選択してこれを所定の副画素位置に配置する第5
の段階と、を行うようにしたものである。
(5) A fifth invention of the present application is a method for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, wherein a grid line having a predetermined line width is formed in a predetermined closed region at a predetermined pitch and a predetermined angle. The first step of preparing a plurality of pixel patterns arranged in the above by changing at least one of three parameters of line width, pitch, and angle, and a plurality of pixels each having a predetermined pixel value in M rows. A unit composed of a second stage in which motif pixel information expressing a predetermined motif by defining it on an array of N columns is prepared for each of a plurality of different motifs, and sub-pixels arranged in m rows and n columns. A third step of defining a sub-pixel array and preparing sub-pixel configuration information that defines which motif pixel is to be arranged at each sub-pixel position in this unit sub-pixel array. The fourth step of defining the correspondence between each pixel defined in the pixel information and each pixel pattern prepared in the first step by referring to the pixel value of each pixel, and the unit sub-pixel array Self (M /
m) rows (N / n) columns to define a sub-pixel array of M rows and N columns, and based on the correspondence defined in the fourth step, each sub-pixel array for each motif A fifth step of extracting a corresponding pixel pattern, selecting a part of the extracted pixel pattern based on the sub-pixel configuration information prepared in the third step, and disposing the selected pixel pattern at a predetermined sub-pixel position.
The steps and are to be performed.

【0020】(6) 本願第6の発明は、上述した第1〜
第5のいずれかの発明に係るホログラム記録媒体の作成
方法において、画素としての全占有領域と、この全占有
領域の中で格子線を配置する対象となった閉領域と、の
面積比がそれぞれ異なる複数の画素パターンを用意し、
各画素位置にはその画素のもつ画素値に応じた面積比を
もつ画素パターンを対応させ、階調をもったモチーフを
表現するようにしたものである。
(6) The sixth invention of the present application is the above-mentioned first to third inventions.
In the method for producing a hologram recording medium according to any one of the fifth invention, the area ratios of the total occupied area as a pixel and the closed area in which the lattice line is arranged in the entire occupied area are respectively Prepare multiple different pixel patterns,
A pixel pattern having an area ratio corresponding to the pixel value of the pixel is associated with each pixel position to express a motif having gradation.

【0021】(7) 本願第7の発明は、回折格子により
所定のモチーフが表現されたホログラム記録媒体を作成
する装置において、所定線幅の格子線を所定ピッチおよ
び所定角度で所定の閉領域内に配置した画素パターン
を、線幅、ピッチ、角度という3つのパラメータのうち
の少なくとも1つを変えることによって複数用意した画
素パターンファイルを保持する手段と、それぞれ所定の
画素値をもった複数の画素を平面上の所定位置に定義す
ることにより所定のモチーフを表現した、モチーフ画素
情報ファイルを入力する手段と、このモチーフ画素情報
ファイルにおいて定義された各画素と、画素パターンフ
ァイル内に用意された各画素パターンとの対応関係を、
各画素についての画素値を参照することにより定義した
対応関係情報ファイルを作成する手段と、この対応関係
情報ファイルに基づいて、画素パターンを所定の画素位
置に配置した画像データを作成する手段と、m行n列に
配列された副画素から構成される単位副画素配列につい
て、この単位副画素配列内の各副画素位置にどのモチー
フの画素を配列するかを定めた副画素構成情報ファイル
を保持する手段と、を設け、画像データを作成する手段
が、副画素構成情報ファイルに基づいて画素パターンの
配置処理を行うようにしたものである。
(7) A seventh invention of the present application is, in an apparatus for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, in a predetermined closed region at a predetermined pitch and a predetermined angle with respect to a grid line having a predetermined line width. A means for holding a plurality of pixel pattern files prepared by changing at least one of three parameters of the line width, pitch, and angle of the pixel pattern arranged in, and a plurality of pixels each having a predetermined pixel value. Means for inputting a motif pixel information file expressing a predetermined motif by defining at a predetermined position on the plane, each pixel defined in this motif pixel information file, and each prepared in the pixel pattern file. The correspondence with the pixel pattern,
Means for creating a correspondence relationship information file defined by referring to pixel values for each pixel, and means for creating image data in which pixel patterns are arranged at predetermined pixel positions based on the correspondence relationship information file, m rows and n columns
For the unit subpixel array that consists of arrayed subpixels
Which sub-pixel position in this unit sub-pixel array
Sub-pixel configuration information file that defines whether to arrange the pixels
And a means for creating image data
Of the pixel pattern based on the sub-pixel configuration information file
The arrangement processing is performed.

【0022】[0022]

【0023】[0023]

【作 用】本発明に係るホログラム記録媒体の特徴は、
回折格子が形成された画素を平面的に配置することによ
り、ホログラムパターンを記録するようにした点にあ
る。このように、画素を並べる方法を採れば、コンピュ
ータによって任意のモチーフ画像を作成することができ
る。また、各画素内に形成する回折格子の画像パターン
も、コンピュータによって作成することができ、最終的
なホログラムパターン作成までの作業をすべてコンピュ
ータによって処理することができる。要するに、本発明
によれば、光学的な撮影を行うことなしに、コンピュー
タによって発生した回折格子パターンデータによってホ
ログラム記録媒体の作成が可能になる。一度作成した回
折格子パターンデータを保存しておき、このデータに基
づいて再度ホログラム記録媒体の作成作業を行えば、ほ
ぼ同じ記録媒体を得ることができ、ほぼ完全な再現性が
得られることになる。また、光学的な撮影を行う必要が
ないため、鮮明なホログラム像が得られる。
[Operation] The features of the hologram recording medium according to the present invention are:
The point is that a hologram pattern is recorded by arranging pixels on which a diffraction grating is formed in a plane. By adopting the method of arranging pixels in this way, an arbitrary motif image can be created by a computer. The image pattern of the diffraction grating formed in each pixel can also be created by a computer, and all the operations up to the final hologram pattern creation can be processed by the computer. In short, according to the present invention, it is possible to create a hologram recording medium by computer-generated diffraction grating pattern data without performing optical imaging. If the diffraction grating pattern data created once is saved and the hologram recording medium is created again based on this data, almost the same recording medium can be obtained and almost complete reproducibility can be obtained. . Further, since it is not necessary to perform optical photographing, a clear hologram image can be obtained.

【0024】このように本発明では、回折格子が形成さ
れた画素を並べることにより所望のモチーフを表現して
いるため、種々の特殊効果を利用することができる。た
とえば、回折格子を構成する格子線の線幅、ピッチ、配
置角度、を変えることにより、光学的特性の異なる回折
格子を作成することができる。そこで、このような光学
的特性の異なる複数の画素を用意しておき、適宜使い分
ければ、種々の特殊効果が表現できるのである。具体的
には、第1のモチーフについては第1の画素を並べて表
現し、第2のモチーフについては第2の画素を並べて表
現するようにすれば、2つのモチーフを同一平面上に記
録することができ、しかも光学的特性の違いにより、こ
れら2つのモチーフを別々に観察することができるよう
になる。
As described above, according to the present invention, since a desired motif is expressed by arranging the pixels on which the diffraction grating is formed, various special effects can be utilized. For example, a diffraction grating having different optical characteristics can be created by changing the line width, pitch, and arrangement angle of the grating lines that form the diffraction grating. Therefore, various special effects can be expressed by preparing a plurality of such pixels having different optical characteristics and appropriately using them. Specifically, if the first pixels are arranged side by side for the first motif and the second pixels are arranged side by side for the second motif, two motifs are recorded on the same plane. In addition, these two motifs can be observed separately due to the difference in optical characteristics.

【0025】なお、一般に「ホログラム」という文言
は、干渉縞によって得られた像を指す言葉として用いら
れており、そのような意味からすれば、本発明の記録媒
体上に作成される像は、「ホログラム」ではなく「疑似
ホログラム」あるいは「回折格子パターン」と言うべき
ものである。しかしながら、偽造防止用のシールとして
用いられている記録媒体は、一般に「ホログラムシー
ル」と呼ばれているため、本願明細書においては、記録
媒体上に形成されている「回折格子パターン」について
も「ホログラム」という言葉を用いることにする。
In general, the word "hologram" is used as a word indicating an image obtained by interference fringes. From such a meaning, the image formed on the recording medium of the present invention is It should be called "pseudo hologram" or "diffraction grating pattern" instead of "hologram". However, since a recording medium used as a seal for preventing forgery is generally called a "hologram seal", the "diffraction grating pattern" formed on the recording medium is also referred to as "hologram seal" in this specification. We will use the term "hologram".

【0026】[0026]

【実施例】以下、本発明を図示するいくつかの実施例に
基づいて説明する。
The present invention will be described below based on several illustrated embodiments.

【0027】§1. 基本的実施例 本発明に係るホログラム記録媒体の特徴は、複数の画素
の集合によって構成されるモチーフを、媒体上にホログ
ラムとして表現した点にある。ここでは、図1(a) に示
すような比較的単純なモチーフ(英文字の「A」を示
す)を本発明によってホログラム記録媒体上に表現する
方法について説明する。なお、本発明に係るホログラム
記録媒体の作成方法は、コンピュータを用いて実施する
ことを前提としたものであり、これから説明する各処理
は、いずれもコンピュータを用いて実行される。
§1. Basic Example A feature of the hologram recording medium according to the present invention is that a motif composed of a plurality of pixels is represented as a hologram on the medium. Here, a method of expressing a relatively simple motif (indicating an English letter "A") as shown in FIG. 1 (a) on a hologram recording medium according to the present invention will be described. The method for producing a hologram recording medium according to the present invention is premised on being carried out by using a computer, and each processing described below is executed by using the computer.

【0028】まず、図1(a) に示すモチーフに対応する
画像データとして、図1(b) に示すようなモチーフ画素
情報を用意する。ここに示す例では、7行7列に画素が
配列されており、各画素は「0」または「1」のいずれ
かの画素値をもっており、いわゆる二値画像を示す情報
となる。このような情報は、いわゆる「ラスター画像デ
ータ」と呼ばれている一般的な画像データであり、通常
の作画装置によって作成することができる。あるいは、
紙面上に描かれたデザイン画をスキャナ装置によって取
り込むことにより、このようなモチーフ画素情報を用意
してもかまわない。
First, as the image data corresponding to the motif shown in FIG. 1A, motif pixel information as shown in FIG. 1B is prepared. In the example shown here, pixels are arranged in 7 rows and 7 columns, and each pixel has a pixel value of either "0" or "1", which is information indicating a so-called binary image. Such information is general image data called so-called "raster image data", and can be created by an ordinary drawing device. Alternatively,
Such motif pixel information may be prepared by capturing a design image drawn on the paper surface with a scanner device.

【0029】続いて、図2に示すように、所定線幅dの
格子線を所定ピッチpおよび所定角度θで所定の閉領域
V内に配置した画素パターンを定義する。ここで、閉領
域Vは1つの画素を構成する領域であり、実際には非常
に微小な要素になる。別言すれば、図1(a) ,(b) に示
した7×7の配列における1つ1つの画素に相当した大
きさのものになる。この実施例では、閉領域Vとして、
縦×横が50μm×45μmの大きさの長方形を用いて
いる。また、この閉領域V内に配置される格子線Lの線
幅dおよびピッチpも光の波長に準じた微小な寸法をも
ったものであり、この実施例では、線幅d=0.6μ
m、ピッチp=1.2μmである。要するに、格子線L
は回折格子としての機能を果たす線幅dおよびピッチp
で配置されている必要がある。格子線Lの配置角度θ
は、所定の基準軸に対して設定された角度である。本明
細書では、図示するような方向にX軸およびY軸をとっ
たXY座標系を定義し、X軸を基準軸として格子線Lの
配置角度θを表わすことにする。このような画素パター
ンも、コンピュータ上では画像データとして用意される
ことになる。なお、この画素パターンの画像データは、
「ラスター画像データ」として用意してもよいし(この
場合は、モチーフを構成する1つ1つの画素が、更に微
小な画素によって表現されることになる)、あるいは、
格子線Lを構成する四角形の4頂点の座標値を指定する
ことにより格子線Lの輪郭線を定義した「ベクトル画像
データ」として用意してもよい。データ量を抑えるため
には、後者の方が好ましい。
Subsequently, as shown in FIG. 2, a pixel pattern is defined in which lattice lines having a predetermined line width d are arranged in a predetermined closed region V at a predetermined pitch p and a predetermined angle θ. Here, the closed region V is a region that constitutes one pixel and is actually a very small element. In other words, it has a size corresponding to each pixel in the 7 × 7 array shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b). In this embodiment, as the closed region V,
A rectangle with a size of 50 μm × 45 μm in length × width is used. Further, the line width d and the pitch p of the lattice lines L arranged in the closed region V also have minute dimensions according to the wavelength of light. In this embodiment, the line width d = 0.6 μ.
m, pitch p = 1.2 μm. In short, the grid line L
Is a line width d and a pitch p that function as a diffraction grating
Must be placed in. Arrangement angle θ of the grid line L
Is an angle set with respect to a predetermined reference axis. In this specification, an XY coordinate system in which the X axis and the Y axis are taken in the directions shown in the figure is defined, and the arrangement angle θ of the grid line L is represented with the X axis as the reference axis. Such a pixel pattern is also prepared as image data on the computer. The image data of this pixel pattern is
It may be prepared as "raster image data" (in this case, each pixel forming the motif is represented by a smaller pixel), or
You may prepare as "vector image data" which defined the outline of the grid line L by designating the coordinate value of four vertices of the quadrangle which comprises the grid line L. The latter is preferable in order to reduce the amount of data.

【0030】次に、図1(b) に示すようなモチーフ画素
情報における各画素値に基づいて、図2に示すような画
素パターンを所定の画素に対応づけ、各画素位置に、対
応する画素パターンを配置する処理を行う。具体的に
は、図1(b) に示すモチーフ画素情報において、画素値
が「1」である画素のそれぞれに図2の画素パターンを
対応づける。画素値が「0」である画素には、画素パタ
ーンは対応づけられない。こうして対応づけられた画素
位置に、それぞれ画素パターンを配置してゆく。いわ
ば、図1(b) に示す配列を壁にたとえれば、この壁の中
の「1」と描かれた各領域に、図2に示すようなタイル
を1枚ずつ貼る作業を行うことになる。この結果、図3
に示すような画像パターンが得られる。この画像パター
ンが最終的にホログラム記録媒体に記録されるパターン
である。図1(a) に示すモチーフがそのまま表現されて
いるが、1つ1つの画素は回折格子で構成されており、
ホログラムとしての視覚的な効果が得られることにな
る。
Next, based on each pixel value in the motif pixel information as shown in FIG. 1 (b), a pixel pattern as shown in FIG. 2 is associated with a predetermined pixel, and a pixel corresponding to each pixel position is provided. Perform the process of placing the pattern. Specifically, in the motif pixel information shown in FIG. 1B, the pixel pattern of FIG. 2 is associated with each pixel having a pixel value of “1”. No pixel pattern is associated with a pixel having a pixel value of “0”. Pixel patterns are arranged at the pixel positions thus associated. So to speak, if the array shown in Fig. 1 (b) is compared to a wall, the work of sticking tiles as shown in Fig. 2 to each area drawn as "1" in this wall will be performed. . As a result,
An image pattern as shown in is obtained. This image pattern is the pattern finally recorded on the hologram recording medium. The motif shown in Fig. 1 (a) is expressed as it is, but each pixel is composed of a diffraction grating,
The visual effect as a hologram will be obtained.

【0031】もっとも、図2に示すような画素パターン
を「タイル」として貼り付ける処理は、コンピュータ内
での画像処理として行われる。この処理は、たとえば、
図4に示すように、モチーフ全体に対応する画像の右下
位置に座標原点Oをとった場合、貼り付けるべき画素位
置に基づいたオフセット量a,bを演算により求め、画
像データとしての貼り込み処理を行えばよい。このよう
な演算処理の結果、図3に示すようなパターンを示す画
像データが得られるので、この画像データに基づいて、
図3に示すようなパターンをフィルムなどの上に物理的
に出力すれば、所望のホログラム記録媒体が作成できる
ことになる。なお、本実施例では、後述するように、コ
ンピュータで作成した画像データを電子ビーム描画装置
に与え、電子ビームにより図3に示すようなパターンを
原版上に描画し、この原版を用いてプレスの手法でホロ
グラムシールを大量生産するようにしている。
Of course, the process of pasting pixel patterns as shown in FIG. 2 as "tiles" is performed as image processing in the computer. This process can be
As shown in FIG. 4, when the coordinate origin O is set at the lower right position of the image corresponding to the entire motif, the offset amounts a and b based on the pixel positions to be pasted are calculated and the pasted as image data. It suffices to perform processing. As a result of such arithmetic processing, image data showing a pattern as shown in FIG. 3 is obtained, and therefore, based on this image data,
By physically outputting the pattern shown in FIG. 3 on a film or the like, a desired hologram recording medium can be created. In the present embodiment, as will be described later, image data created by a computer is given to an electron beam drawing apparatus, an electron beam is used to draw a pattern as shown in FIG. 3 on an original plate, and this original plate is used to press a pattern. We are trying to mass produce hologram stickers by the method.

【0032】§2. 複数の画素パターンを用いる実施
上述した基本的実施例では、図2に示すような画素パタ
ーンのみを用いてホログラム記録媒体を作成したが、こ
こでは、複数種類の画素パターンを用いる方法を説明す
る。図2に示すように、この画素パターンは、格子線L
の線幅d、ピッチp、配置角度θという3つのパラメー
タによって特定されるパターンである。この3つのパラ
メータのうちの少なくとも1つを変えることにより、異
なったパターンが得られることになる。より具体的に
は、線幅dおよびピッチpを変えると、そのパターンか
ら観察される色が変化することになり、配置角度θを変
えると、そのパターンが観察できる向きが変化すること
になる。したがって、パラメータを変えた複数種類の画
素パターンを用意しておき、これらを使い分けることに
より、変化に富んだ効果的なホログラム像を形成させる
ことができる。
§2. Implementation using multiple pixel patterns
Example In the above-described basic example, the hologram recording medium was created using only the pixel patterns shown in FIG. 2, but here, a method of using a plurality of types of pixel patterns will be described. As shown in FIG. 2, this pixel pattern has a grid line L.
Is a pattern specified by three parameters, namely, the line width d, the pitch p, and the arrangement angle θ. Different patterns will be obtained by changing at least one of these three parameters. More specifically, when the line width d and the pitch p are changed, the color observed from the pattern changes, and when the arrangement angle θ is changed, the observable direction of the pattern changes. Therefore, by preparing a plurality of types of pixel patterns with different parameters and using these differently, it is possible to form an effective hologram image rich in variations.

【0033】具体的な例を示すと次のようになる。たと
えば、図5に示すような5種類の画素パターンP1〜P
5を用意する。これらの画素パターンは、3つのパラメ
ータのうち、線幅dおよびピッチpは同じであるが、角
度θがそれぞれ異なっている。すなわち、図示したよう
に、角度θ=30°,60°,90°,120°,15
0°の5とおりが用意されている(実際の格子線は所定
の幅をもったものであるが、図示の便宜上、以下の図で
は格子線を単なる線で示すことにする)。
A concrete example is as follows. For example, five types of pixel patterns P1 to P as shown in FIG.
Prepare 5. Among these three parameters, these pixel patterns have the same line width d and pitch p, but different angles θ. That is, as shown in the figure, the angles θ = 30 °, 60 °, 90 °, 120 °, 15
Five types of 0 ° are prepared (the actual grid line has a predetermined width, but for convenience of illustration, the grid line is shown as a simple line in the following figures).

【0034】このように複数の画素パターンを用いる場
合、どの画素位置にどの画素パターンを配置するかを決
める必要がある。そこで、図6(a) に示すような対応関
係情報を用意する。この対応関係情報は、図1(b) に示
すモチーフ画素情報において画素値が「1」となってい
る各画素について、図5に示す5種類の画素パターンP
1〜P5のいずれか1つを対応させたことを示す情報で
ある。画素値が「0」となっている画素については、い
ずれの画素パターンも対応させていない(あるいは、格
子線が全く形成されていない空の画素パターンP0なる
ものを定義し、画素値が「0」となっている画素につい
ては、この空の画素パターンP0を対応させてもよ
い)。この対応関係情報は、いわば、「5種類のタイル
のうちのどれをどの位置に貼り込むか」ということを指
示する情報ということになる。したがって、このような
対応関係情報を作成しておけば、コンピュータによる機
械的な貼り込み作業が可能になる。なお、図6(a) の例
では、対応関係情報として画素パターンの名称P1〜P
5を特定する情報を用いているが、図6(b) の例のよう
に、格子線の角度θの値(すなわち、パラメータの値)
を特定する情報を用いるようにしてもかまわない。
When using a plurality of pixel patterns in this way, it is necessary to determine which pixel pattern is to be arranged at which pixel position. Therefore, the correspondence information as shown in FIG. 6 (a) is prepared. This correspondence information includes five types of pixel patterns P shown in FIG. 5 for each pixel whose pixel value is “1” in the motif pixel information shown in FIG. 1 (b).
It is information indicating that any one of 1 to P5 is associated. Regarding a pixel having a pixel value of “0”, no pixel pattern is associated (or an empty pixel pattern P0 in which no grid line is formed is defined, and the pixel value is “0”). The pixels having “” may correspond to this empty pixel pattern P0). This correspondence information is, so to speak, information that indicates "which of the five types of tiles is to be attached to which position". Therefore, if such correspondence information is created, mechanical pasting work by a computer becomes possible. In the example of FIG. 6A, the pixel pattern names P1 to P are used as the correspondence information.
Although the information for specifying 5 is used, as in the example of FIG. 6 (b), the value of the angle θ of the grid line (that is, the value of the parameter)
You may use the information which specifies.

【0035】こうして5種類の画素パターンを用いて形
成されるホログラム像は、より変化に富んだものとな
る。この例のように、角度θというパラメータを変えた
複数の画素パターンを用いた場合、図1(a) に示すモチ
ーフにおける左右の各部において光が観察される角度が
異なるため、実際の記録媒体を手に取って傾けながら観
察すると、左右に光が流れるような効果が得られる。線
幅dあるいはピッチpというパラメータを変えた複数の
画素パターンを用いれば、左右において観察される色が
異なるような効果が得られることになる。もちろん、2
つ以上のパラメータを変えた種々の画素パターンを用意
することも可能である。
Thus, the hologram image formed by using the five types of pixel patterns becomes more varied. When a plurality of pixel patterns with different parameters of angle θ are used as in this example, the angle at which light is observed at the left and right parts of the motif shown in FIG. If you hold it in your hand and observe it while tilting it, you can get the effect that light flows left and right. By using a plurality of pixel patterns having different parameters such as the line width d or the pitch p, it is possible to obtain the effect that the colors observed on the left and right are different. Of course 2
It is also possible to prepare various pixel patterns in which one or more parameters are changed.

【0036】ところで、図6に示すような対応関係情報
を用意するには、コンピュータに対して何らかの指示を
与える必要がある。最も基本的な指示の与え方は、ディ
スプレイ上に図1(a) に示すようなモチーフを表示さ
せ、このモチーフを構成する1つ1つの画素それぞれに
ついて、P1〜P5(あるいは30°〜150°)のい
ずれかを指定する方法である。このような方法で対応関
係情報を作成すれば、全く任意の対応関係を定義するこ
とが可能である。しかしながら、画素1つ1つについ
て、対応する画素パターンを1つ1つ指示してゆく作業
は、かなり労力と時間を有する作業になる。そこで、こ
の実施例では、簡単な操作で対応関係情報を作成するこ
とができる機能をコンピュータのプログラムに用意して
ある。ここで、図6(b) に示す対応関係情報を見ると、
ある規則性が発見できる。すなわち、2列目の画素はθ
=30°6列目の画素はθ=150°、の画素パターン
が対応づけられており、2列目から6列目に向かうにし
たがって、θの値は30°ずつ増えている。このように
パラメータの値を徐々に変化させてゆく手法は、一般に
「グラデーション」と呼ばれている手法であり、この例
では、水平方向にグラデーションがかかっていることに
なる。
By the way, in order to prepare the correspondence information as shown in FIG. 6, it is necessary to give some instructions to the computer. The most basic way to give instructions is to display a motif as shown in Fig. 1 (a) on the display, and select P1 to P5 (or 30 ° to 150 °) for each pixel that constitutes this motif. ) Is one of the methods to specify. By creating the correspondence information by such a method, it is possible to define a completely arbitrary correspondence. However, the task of instructing the corresponding pixel pattern one by one for each pixel is a task that requires considerable effort and time. Therefore, in this embodiment, a computer program has a function capable of creating correspondence information by a simple operation. Looking at the correspondence information shown in FIG. 6 (b),
A certain regularity can be discovered. That is, the pixel in the second column is θ
A pixel pattern of θ = 150 ° is associated with the pixel in the sixth column of = 30 °, and the value of θ increases by 30 ° from the second column to the sixth column. Such a method of gradually changing the parameter value is generally called a “gradation”, and in this example, gradation is applied in the horizontal direction.

【0037】このようなグラデーションをかけるための
対応関係情報の作成は、次のような簡単な作業で行うこ
とができる。すなわち、図7に示すように、テーマとな
っているモチーフをディスプレイ画面上に表示させた上
で、グラデーションをかけるための対応関係情報を作成
する旨の指示を与えればよい。具体的には、水平方向へ
のグラデーションをかける旨の指示を与えるとともに、
2列目の画素位置をマウスなどで指定して初期値θ=3
0°を入力し、6列目の画素位置をマウスなどで指定し
て終期値θ=150°を入力すればよい。このような情
報が与えられれば、3〜5列目の画素については線形補
間を行うことにより、θの値を自動的に設定することが
できる。したがって、オペレータは画素1つ1つについ
て、対応する画素パターンを指定する必要はない。もち
ろん、垂直方向にグラデーションをかけるような設定も
同様に行うことができる。また、ここでは角度θに関す
るグラデーションをかけているが、格子線の線幅dやピ
ッチpに関するグラデーションも同様に設定することが
可能である。
The correspondence information for applying such gradation can be created by the following simple operation. That is, as shown in FIG. 7, after displaying the theme motif on the display screen, an instruction to create correspondence information for applying a gradation may be given. Specifically, while giving an instruction to apply horizontal gradation,
Initial value θ = 3 by specifying the pixel position of the second row with a mouse
The final value θ = 150 ° may be input by inputting 0 °, specifying the pixel position of the sixth column with a mouse or the like. If such information is given, the value of θ can be automatically set by performing linear interpolation for the pixels in the third to fifth columns. Therefore, the operator does not need to specify the corresponding pixel pattern for each pixel. Of course, it is possible to make the setting in which the gradation is applied in the vertical direction as well. Further, although the gradation regarding the angle θ is applied here, the gradation regarding the line width d and the pitch p of the lattice lines can be set in the same manner.

【0038】なお、図示する例は、7×7の比較的小規
模な画素配列のものであるが、実際には、より大規模な
画素配列のモチーフが用いられる。したがって、初期値
と終期値だけを指定したのでは、画素パターンのバリエ
ーションが膨大な数になってしまう場合がある。たとえ
ば、初期値を指定した画素から終期値を指定した画素に
至るまでに、121画素が存在したとすると、上述のよ
うな設定では、θの値が、右の画素から左の画素へ向か
って30°,31°,32°,…,149°,150°
と増加してゆき、121通りもの画素パターンが必要に
なる。このような場合には、初期値と終期値の他に、ス
テップ値を指定すればよい。たとえば、ステップ値とし
て30°を指定すれば、θの値のバリエーションは、3
0°,60°,90°,120°,150°の5種類に
限定されるため、図5に示すような5通りの画素パター
ンを用意すれば十分である。
The example shown is for a relatively small 7 × 7 pixel array, but in reality, a motif for a larger pixel array is used. Therefore, if only the initial value and the final value are specified, the number of pixel pattern variations may become enormous. For example, if 121 pixels exist from the pixel for which the initial value is specified to the pixel for which the final value is specified, in the above setting, the value of θ changes from the right pixel to the left pixel. 30 °, 31 °, 32 °, ..., 149 °, 150 °
As the number of pixel patterns increases, 121 pixel patterns are required. In such a case, the step value may be designated in addition to the initial value and the final value. For example, if 30 ° is specified as the step value, the variation of the value of θ is 3
Since it is limited to five kinds of 0 °, 60 °, 90 °, 120 °, and 150 °, it is sufficient to prepare five kinds of pixel patterns as shown in FIG.

【0039】また、図1(b) に示したモチーフ画素情報
は、各画素値が「0」または「1」のいずれかをとる二
値画像情報であるが、階調をもった画像をモチーフとし
て用いる場合には、各画素値に基づいて対応させる画素
パターンを決定することも可能である。たとえば、図1
(b) に示すモチーフ画素情報の代わりに、図8に示すよ
うなモチーフ画素情報が与えられた場合を考える。ここ
では、各画素値は0〜255までのいずれかの値をと
る。ここで、このような画素値をもった各画素を、図5
に示す5種類の画素パターンP1〜P5に対応づけるの
に、次のような規則を定義したとする。
The motif pixel information shown in FIG. 1 (b) is binary image information in which each pixel value is either "0" or "1", but an image having gradation is used as a motif. When used as, it is also possible to determine the corresponding pixel pattern based on each pixel value. For example, in Figure 1.
Consider a case where motif pixel information as shown in FIG. 8 is given instead of the motif pixel information shown in (b). Here, each pixel value takes any value from 0 to 255. Here, each pixel having such a pixel value is shown in FIG.
It is assumed that the following rule is defined to associate with the five types of pixel patterns P1 to P5 shown in FIG.

【0040】 画素値50以下の画素: 対応づけなし 画素値51〜100の画素: P1を対応づける 画素値101〜150の画素: P2を対応づける 画素値151〜200の画素: P3を対応づける 画素値201〜250の画素: P4を対応づける 画素値251以上の画素: P5を対応づける このような規則を定義しておけば、図8に示すようなモ
チーフ画素情報に基づいて、図6に示すような対応関係
情報を自動的に設定することが可能になる。
Pixels having a pixel value of 50 or less: Pixels having unassociated pixel values 51 to 100: Pixels having pixel values 101 to 150 associated with P1: Pixels having pixel values 151 to 200 associated with P2: Pixels associated with P3 Pixels having values 201 to 250: P4 having pixel values 251 or more: pixels having pixel values 251 or more: P5 having such a rule defined are shown in FIG. 6 based on motif pixel information as shown in FIG. It becomes possible to automatically set such correspondence information.

【0041】§3. 複数のモチーフを表現する実施例 続いて、同一平面上に複数のモチーフを重複させて表現
する実施例について説明する。たとえば、図9(a) に示
すモチーフAと、同図(b) に示すモチーフBとが与えら
れ、これら2つのモチーフを同一平面上に重複して表現
することを考える。この場合、図10に示すような2つ
の画素パターンP1,P2を用意する。ここで、画素パ
ターンP1,P2は、格子線の線幅dやピッチpは同じ
であるが、角度θがP1では45°であるのに対し、P
2では90°になっている。そして、モチーフAに所属
する画素については、画素パターンP1を対応させ、モ
チーフBに所属する画素については、画素パターンP2
を対応させるように、対応関係情報を作成するのであ
る。具体的には、モチーフAにおいて画素値「1」をも
った画素位置に画素パターンP1を対応づけた対応関係
情報R1を図11(a)に示すように作成するとともに、
モチーフBにおいて画素値「1」をもった画素位置に画
素パターンP2を対応づけた対応関係情報R2を図11
(b) に示すように作成する。そして、これら2つの対応
関係情報R1,R2に基づいて、画素パターンP1,P
2の貼り込み処理を行えば、図12に示すような回折格
子パターンをもったホログラム記録媒体が作成される。
ここで、モチーフAはθ=45°の回折格子で表現さ
れ、モチーフBはθ=90°の回折格子で表現されてい
るため、両モチーフは観察できる角度が異なり、別々の
モチーフとして区別して観察される。このような方法に
よれば、複数のモチーフ(3つ以上も可能である)を同
一平面上に重複させて表現することができる。
§3. Example in which a plurality of motifs are expressed Next, an example in which a plurality of motifs are overlapped and expressed on the same plane will be described. For example, suppose that a motif A shown in FIG. 9 (a) and a motif B shown in FIG. 9 (b) are given, and that these two motifs are redundantly expressed on the same plane. In this case, two pixel patterns P1 and P2 as shown in FIG. 10 are prepared. Here, in the pixel patterns P1 and P2, the line width d and the pitch p of the lattice lines are the same, but the angle θ is 45 ° in P1, whereas P
At 2, it is 90 °. The pixels belonging to the motif A are associated with the pixel pattern P1 and the pixels belonging to the motif B are associated with the pixel pattern P2.
Correspondence relationship information is created so as to correspond to each other. Specifically, as shown in FIG. 11A, the correspondence information R1 in which the pixel pattern P1 is associated with the pixel position having the pixel value “1” in the motif A is created as shown in FIG.
The correspondence relationship information R2 in which the pixel pattern P2 is associated with the pixel position having the pixel value “1” in the motif B is shown in FIG.
Create it as shown in (b). Then, based on these two pieces of correspondence information R1 and R2, the pixel patterns P1 and P
By performing the sticking process of No. 2, a hologram recording medium having a diffraction grating pattern as shown in FIG. 12 is created.
Here, since the motif A is expressed by a diffraction grating of θ = 45 ° and the motif B is expressed by a diffraction grating of θ = 90 °, the observable angles of both motifs are different, and they are distinguished and observed as separate motifs. To be done. According to such a method, a plurality of motifs (three or more are possible) can be overlapped and expressed on the same plane.

【0042】また、同一のモチーフについて、複数の画
素パターンを用いることも可能である。この場合、他の
モチーフとの区別を可能ならしめるために、互いに近似
したパラメータをもつ複数の画素パターンを1グループ
として定義するとよい。たとえば、図13に示す6種類
の画素パターンは、第1のグループに属する3つの画素
パターンP11,P12,P13と、第2のグループに
属する3つの画素パターンP21,P22,P23と、
によって構成されている。これらの画素パターンは、い
ずれも線幅dおよびピッチpは同じであるが、角度θが
それぞれで異なっている。ただし、第1のグループに属
する画素パターンの角度θは、40°,45°,50°
と互いに近似しており、第2のグループに属する画素パ
ターンの角度θも、85°,90°,95°と互いに近
似している。このような6種類の画素パターンを用意
し、たとえば、モチーフAに所属する画素については、
第1のグループに属する画素パターンを対応させ、モチ
ーフBに所属する画素については、第2のグループに属
する画素パターンを対応させるようにする。具体的に
は、図9(a) に示すモチーフAについては、図14(a)
に示すような対応関係情報R1を作成し、図9(b) に示
すモチーフBについては、図14(b) に示すような対応
関係情報R2を作成すればよい。このような対応関係情
報を用いて作成されたホログラム記録媒体上のパターン
は、図12に示すものとほぼ同じになるが、同じモチー
フ内でも格子角度値が若干分散しているため、より効果
的な表現が可能になる。なお、モチーフAについてはθ
=45°を中心として5°ずつ分散しているのに対し、
モチーフBについてはθ=90°を中心として5°ずつ
分散しているため、モチーフAとBとを区別して把握す
るためのパターン認識は十分に可能である。
It is also possible to use a plurality of pixel patterns for the same motif. In this case, in order to distinguish it from other motifs, it is preferable to define a plurality of pixel patterns having similar parameters as one group. For example, the six types of pixel patterns shown in FIG. 13 include three pixel patterns P11, P12, P13 belonging to the first group and three pixel patterns P21, P22, P23 belonging to the second group.
It is composed by. These pixel patterns have the same line width d and pitch p, but have different angles θ. However, the angle θ of the pixel patterns belonging to the first group is 40 °, 45 °, 50 °.
And the angles θ of the pixel patterns belonging to the second group are also close to 85 °, 90 °, and 95 °. Six kinds of pixel patterns like this are prepared. For example, for pixels belonging to the motif A,
Pixel patterns belonging to the first group are associated with each other, and pixels belonging to the motif B are associated with pixel patterns belonging to the second group. Specifically, for motif A shown in FIG. 9 (a), FIG.
The correspondence information R1 as shown in FIG. 9 is created, and the correspondence information R2 as shown in FIG. 14 (b) is created for the motif B shown in FIG. 9 (b). The pattern on the hologram recording medium created using such correspondence information is almost the same as that shown in FIG. 12, but it is more effective because the lattice angle values are slightly dispersed within the same motif. Can be expressed. For motif A, θ
= 45 ° as the center and 5 ° at a time,
Since the motif B is dispersed by 5 ° around θ = 90 °, pattern recognition for distinguishing and understanding the motifs A and B is sufficiently possible.

【0043】§4. 画素が重複する複数のモチーフを
表現する実施例 前述の例において、図9に示す2つのモチーフA,B
は、画素値「1」をもった画素が重複することはないた
め、図12に示すように、両モチーフの画素を混合した
表現が可能になる。ところが、画素値「1」をもった画
素が重複する複数のモチーフについては、前述の例のよ
うな手法をそのまま適用することはできない。たとえ
ば、図15(a) ,(b) に示すような2つのモチーフA,
Bに対して、前述の手法をそのまま適用して作業を進め
てみる。ここでは、モチーフAについては図10に示す
パターンP1を対応させ、モチーフBについては図10
に示すパターンP2を対応させるものとしよう。する
と、モチーフAについては図16(a) に示すような対応
関係情報R1が作成され、モチーフBについては図16
(b) に示すような対応関係情報R2が作成される。とこ
ろが、この2つの対応関係情報R1,R2に基づいて、
実際に画素パターンを貼り込む作業を行おうとすると、
図16に実線で囲った画素について画素パターンの衝突
が生じる。たとえば、2行3列目の画素について見る
と、対応関係情報R1によれば画素パターンP1を貼り
込む旨が示されているのに対し、対応関係情報R2によ
れば画素パターンP2を貼り込む旨が示されている。こ
のため、実際にはどちらの画素パターンを貼り込めばよ
いか判断できなくなる。
[0043]§4. Multiple motifs with overlapping pixels
Example of expressing In the above example, the two motifs A and B shown in FIG.
, The pixels with the pixel value "1" never overlap.
Therefore, as shown in FIG. 12, pixels of both motifs were mixed.
Expression becomes possible. However, an image with a pixel value of "1"
For multiple motifs with overlapping elements, see the example above.
Such a method cannot be applied as it is. for example
For example, two motifs A as shown in FIGS. 15 (a) and 15 (b),
For B, apply the above-mentioned method as it is and proceed with the work.
Try. Here, the motif A is shown in FIG.
The pattern P1 is made to correspond, and the motif B is shown in FIG.
Let it correspond to the pattern P2 shown in FIG. Do
And motif A corresponds to the one shown in Fig. 16 (a).
Relationship information R1 is created, and for motif B, FIG.
Correspondence information R2 as shown in (b) is created. Toko
Based on these two correspondence information R1 and R2,
When actually trying to paste the pixel pattern,
Pixel pattern collision for pixels surrounded by solid lines in FIG.
Occurs. For example, look at the pixel in the second row and third column
According to the correspondence information R1, the pixel pattern P1 is pasted.
Although it is shown that the correspondence information R2
This indicates that the pixel pattern P2 is to be attached. This
Therefore, which pixel pattern should you actually paste?
I can't judge how.

【0044】このような問題を解決するため、本発明で
は、次のような副画素という概念を導入する。いま、図
17に示すように、M行N列(この例では7行7列)の
画素配列によって所定のモチーフが表現されている場合
を考える。この場合、図の右方に示すように、m行n列
(この例では2行2列)に配列された副画素から構成さ
れる「単位副画素配列」というものを定義する。この例
では、この「単位副画素配列」は1つの画素に対応する
大きさを有している。より具体的に説明すれば、図17
に示す例では、1つの画素を4分割したものが副画素と
なっており、4つの副画素によって1つの「単位副画素
配列」が構成されている。続いて、この「単位副画素配
列」内の各副画素位置にどのモチーフの画素を配置する
かを定めた副画素構成情報を作成する。たとえば、モチ
ーフAとモチーフBとを重複表示する場合、各副画素位
置には、モチーフAの画素かモチーフBの画素かのいず
れかが配置されることになる。そこで、図18に示すよ
うな副画素構成情報を作成して、各副画素位置にどのモ
チーフの画素を配置するかを定義するのである。図18
の例では、左上および右下の副画素位置にモチーフAの
画素を、左下および右上の副画素位置にモチーフBの画
素を、それぞれ配置することが定義されている。これ
は、どのような定義を行ってもよいが、両モチーフを対
等に表示する上では、このように対角位置に同じモチー
フの画素を配置するのが好ましい。
In order to solve such a problem, the present invention introduces the following concept of subpixel. Now, consider a case where a predetermined motif is expressed by a pixel array of M rows and N columns (7 rows and 7 columns in this example) as shown in FIG. In this case, as shown on the right side of the drawing, what is defined as a "unit sub-pixel array" that is composed of sub-pixels arranged in m rows and n columns (2 rows and 2 columns in this example). In this example, this "unit subpixel array" has a size corresponding to one pixel. More specifically, referring to FIG.
In the example shown in (1), one pixel is divided into four to form a sub-pixel, and the four sub-pixels form one "unit sub-pixel array". Subsequently, sub-pixel configuration information that defines which motif pixel is to be arranged at each sub-pixel position in this "unit sub-pixel array" is created. For example, when the motif A and the motif B are displayed in an overlapping manner, either the pixel of the motif A or the pixel of the motif B is arranged at each sub-pixel position. Therefore, sub-pixel configuration information as shown in FIG. 18 is created to define which motif pixel is to be arranged at each sub-pixel position. FIG.
In the above example, it is defined that the pixels of the motif A are arranged at the upper left and lower right subpixel positions, and the pixels of the motif B are arranged at the lower left and upper right subpixel positions, respectively. Although any definition may be made, it is preferable to arrange pixels of the same motif in diagonal positions in this way in order to display both motifs equally.

【0045】次に、図17に示すように定義した「単位
副画素配列」自身を、図19(a) に示すように、M行N
列に配列する。前述のように、この例では、「単位副画
素配列」は1つの画素に対応する大きさを有しているの
で、この図19(a) に示す「単位副画素配列」の配列
は、図17の左方に示す画素の配列と同じものになる。
なお、この図19(a) に示す「単位副画素配列」の配列
を、「副画素」の配列としてみた場合は、図19(b) 示
すような(m×M)行(n×N)列(この例では14行
14列)の配列となる。
Next, as shown in FIG. 19A, the "unit subpixel array" itself defined as shown in FIG.
Arrange in columns. As described above, in this example, since the “unit subpixel array” has a size corresponding to one pixel, the array of the “unit subpixel array” shown in FIG. It becomes the same as the array of pixels shown on the left side of 17.
When the array of "unit subpixel array" shown in FIG. 19A is viewed as an array of "subpixel", (m × M) rows (n × N) as shown in FIG. 19B. It becomes an array of columns (14 rows and 14 columns in this example).

【0046】ところで、図16(a) ,(b) に示したよう
に、2つのモチーフA,Bについては、それぞれ対応関
係情報R1,R2が得られるので、この情報を用いれ
ば、各「単位副画素配列」について、所定の画素パター
ンを抽出することができる。図20は、このようにして
抽出された画素パターンを示すものである。49組の
「単位副画素配列」のうちのいくつかには画素パターン
P1あるいはP2が抽出され、別ないくつかにはその両
方が抽出されている。続いて、この抽出された画素パタ
ーンを、図18で定義した副画素構成情報に基づいて、
所定の副画素位置に配置するのである。すなわち、モチ
ーフAについての画素パターンP1は、図21(a) に示
すように、「単位副画素配列(図21では実線で示して
ある)」内の左上および右下の副画素位置に配置する。
また、モチーフBについての画素パターンP2は、図2
1(b) に示すように、「単位副画素配列」内の左下およ
び右上の副画素位置に配置する。このような配置を同一
平面上に重複して行うようにすれば、図22に示すよう
なパターンが得られ、これが実際のホログラム記録媒体
に記録されるパターンとなる。
By the way, as shown in FIGS. 16 (a) and 16 (b), the correspondence information R1 and R2 can be obtained for the two motifs A and B, respectively. A predetermined pixel pattern can be extracted from the “sub-pixel array”. FIG. 20 shows a pixel pattern extracted in this way. Pixel patterns P1 or P2 are extracted in some of the 49 sets of "unit subpixel arrays", and both are extracted in some of them. Then, based on the sub-pixel configuration information defined in FIG. 18, the extracted pixel pattern is
It is arranged at a predetermined sub-pixel position. That is, the pixel pattern P1 for the motif A is arranged at the upper left and lower right subpixel positions in the “unit subpixel array (shown by the solid line in FIG. 21)” as shown in FIG. .
The pixel pattern P2 for the motif B is shown in FIG.
As shown in 1 (b), they are arranged at the lower left and upper right subpixel positions in the "unit subpixel array". If such an arrangement is duplicated on the same plane, a pattern as shown in FIG. 22 is obtained, and this becomes a pattern actually recorded on the hologram recording medium.

【0047】この図22に示すパターン内には、モチー
フAとモチーフBとが重複して表現されていることにな
る。しかも、モチーフAを表現する副画素と、モチーフ
Bを表現する副画素とでは、格子線の形成角度が異なる
ため、ある1つの方向から観察するとモチーフAが認識
でき(図21(a) のようなパターンが認識できる)、別
な方向から観察するとモチーフBが認識できる(図21
(b) のようなパターンが認識できる)ようになってい
る。このような手法を用いれば、画素が重複する複数の
モチーフについても、同一平面上に重複して表現するこ
とが可能になる。なお、図15に示した2つのモチーフ
A,Bは、いずれも解像度の低い画像であるため、図2
1(a) ,(b) に示すパターンは、もとのモチーフに比べ
てかなり歪んだものとなっているが、実際には、より解
像度の高い画像をモチーフとして用いるため、観察され
る画像の歪みはほとんど問題にはならない。
In the pattern shown in FIG. 22, the motif A and the motif B are redundantly expressed. Moreover, since the sub-pixel expressing the motif A and the sub-pixel expressing the motif B have different grid line formation angles, the motif A can be recognized when observed from one direction (see FIG. 21 (a)). Pattern can be recognized), and motif B can be recognized when observed from another direction (Fig. 21).
(A pattern like (b) can be recognized). By using such a method, it is possible to represent a plurality of motifs with overlapping pixels on the same plane in an overlapping manner. Since the two motifs A and B shown in FIG. 15 are both low-resolution images,
The patterns shown in 1 (a) and (b) are considerably distorted compared to the original motif, but in reality, since the image with higher resolution is used as the motif, Distortion is hardly a problem.

【0048】なお、この手法では、3つ以上のモチーフ
についての重複表現も可能である。たとえば、図23
(a) に示すような副画素構成情報を定義すれば、4つの
モチーフA,B,C,Dを同一平面上に重複表現するこ
とができる。また、図23(b)に示すような副画素構成
情報を定義すれば、3つのモチーフA,B,Cを同一平
面上に重複表現することができる。ただし、この場合、
3つのモチーフA,B,Cは対等ではなく、モチーフC
の濃度がモチーフA,Bの濃度の2倍になる。変則的な
例としては、図23(c) に示すような副画素構成情報を
定義することも可能である。ここで、「A+C」なる表
示は、AまたはCのいずれか一方の画素がここに表示さ
れるという意味であり、モチーフAとモチーフCとが相
補的なパターン(たとえば、図9に示すようなモチーフ
A,Bのように、画素値「1」をもった画素位置が重な
ることがないようなパターン)である場合を前提とした
定義の仕方である。なお、3つのモチーフA,B,Cを
対等に重複表現する場合には、図24(a) または(b) に
示すような副画素構成情報を定義するとよい。この場
合、「単位副画素配列」は3行3列の配列になる。
In this method, it is possible to represent three or more motifs in an overlapping manner. For example, in FIG.
By defining the sub-pixel configuration information as shown in (a), the four motifs A, B, C and D can be expressed in duplicate on the same plane. Further, if the sub-pixel configuration information as shown in FIG. 23 (b) is defined, the three motifs A, B, and C can be expressed in duplicate on the same plane. However, in this case,
The three motifs A, B and C are not equal, but motif C
Is twice as high as that of motifs A and B. As an irregular example, it is also possible to define sub-pixel configuration information as shown in FIG. 23 (c). Here, the display “A + C” means that either one of the pixels A or C is displayed here, and the motif A and the motif C are complementary patterns (for example, as shown in FIG. 9). The definition method is based on the premise that patterns such as motifs A and B are such that pixel positions having a pixel value “1” do not overlap). When the three motifs A, B, and C are equally expressed in duplicate, the sub-pixel configuration information as shown in FIG. 24 (a) or (b) may be defined. In this case, the “unit subpixel array” is an array of 3 rows and 3 columns.

【0049】ここで、まとめの意味で、上述した手法を
用いた場合における個々の画素と個々の副画素との一般
的な対応関係を述べておく。いま、図25に示すよう
に、モチーフAがM行N列の画素配列で表現されてお
り、個々の画素には、A11,A12,…と名前が付さ
れており、同様に、図26に示すように、モチーフBが
M行N列の画素配列で表現されており、個々の画素に
は、B11,B12,…と名前が付されている場合を考
える。この場合、図27に示すように、M行N列の「単
位副画素配列」が定義でき、これは(m×M)行(n×
N)列の副画素配列ともいうことができる。このとき、
図25および図26に示す個々の画素と、図27に示す
個々の副画素との対応関係は、図示したようになる(個
々の画素に付された名前を参照)。ここで、1つの「単
位副画素配列」についての左上副画素と右下副画素には
全く同じ画素が対応し、左下副画素と右上副画素にも全
く同じ画素が対応することになる(たとえば、図27に
おける1行1列目の「単位副画素配列」に着目すると、
左上副画素と右下副画素には全く同じ画素A11が対応
し、左下副画素と右上副画素にも全く同じ画素B11が
対応している)。
Here, for the purpose of summary, a general correspondence relationship between each pixel and each sub-pixel when the above-described method is used will be described. Now, as shown in FIG. 25, the motif A is expressed by a pixel array of M rows and N columns, and individual pixels are named A11, A12, ... As shown, consider a case where the motif B is represented by a pixel array of M rows and N columns, and individual pixels are named B11, B12, .... In this case, as shown in FIG. 27, a “unit sub-pixel array” of M rows and N columns can be defined, which is (m × M) rows (n ×
It can also be referred to as a subpixel array of N) columns. At this time,
The correspondence between the individual pixels shown in FIGS. 25 and 26 and the individual sub-pixels shown in FIG. 27 is as shown in the figure (see the names given to the individual pixels). Here, the upper left subpixel and the lower right subpixel in one "unit subpixel array" correspond to exactly the same pixel, and the lower left subpixel and the upper right subpixel also correspond to exactly the same pixel (for example, , Paying attention to the "unit sub-pixel array" in the first row and first column in FIG.
The same pixel A11 corresponds to the upper left subpixel and the lower right subpixel, and the same pixel B11 corresponds to the lower left subpixel and the upper right subpixel).

【0050】これに対して、次に述べる変形例は、各副
画素のそれぞれに全く異なる画素を配置する方法を示す
ものである。この変形例では、図27に示す「単位副画
素配列」の代わりに、図28に示す「単位副画素配列」
が用いられる。いずれも実線で示した領域が「単位副画
素配列」であるが、両者では大きさが異なる。すなわ
ち、図27の例では、モチーフの1画素と同じ大きさを
もった「単位副画素配列」が定義されているため、副画
素はモチーフの1画素の1/4の大きさになるのに対
し、図28の例では、モチーフの4画素分の大きさをも
った「単位副画素配列」が定義されているため、副画素
はモチーフの1画素と同じ大きさになる。結局、図28
の例では、モチーフ全体を示すためには、「単位副画素
配列」自身を(M/m)行(N/n)列に配置した「単
位副画素配列」の配列を定義することになる。この配列
は、副画素の配列としてみれば、M行N列の配列にな
る。
On the other hand, the modified example described below shows a method of arranging completely different pixels in each of the sub-pixels. In this modification, instead of the "unit subpixel array" shown in FIG. 27, the "unit subpixel array" shown in FIG.
Is used. In each case, the area shown by the solid line is the "unit sub-pixel array", but the sizes are different in both areas. That is, in the example of FIG. 27, since the “unit subpixel array” having the same size as one pixel of the motif is defined, the subpixel has a size of ¼ of one pixel of the motif. On the other hand, in the example of FIG. 28, since the “unit subpixel array” having the size of four pixels of the motif is defined, the subpixel has the same size as one pixel of the motif. After all, FIG.
In the above example, in order to show the entire motif, an array of “unit subpixel array” in which the “unit subpixel array” itself is arranged in (M / m) rows (N / n) columns is defined. When viewed as an array of sub-pixels, this array is an array of M rows and N columns.

【0051】ここで、図28における1行1列目の「単
位副画素配列Z(周囲をハッチングして示してある)」
内には、どのような画素パターンの貼り込み処理が行わ
れるかを考えてみる。モチーフAに関しては、図25を
参照すればわかるように、画素A11,A12,A2
1,A22に対応した画素パターンが貼り込み候補とし
て抽出される。一方、モチーフBに関しては、図26を
参照すればわかるように、画素B11,B12,B2
1,B22に対応した画素パターンが貼り込み候補とし
て抽出される。そこで、図28の下方に示した副画素構
成情報に基づいて、抽出された画素パターンのうちの一
部のみを選択して、これを所定の副画素位置に配置する
のである。具体的には、モチーフAに関しては、抽出さ
れた画素A11,A12,A21,A22のうちの左上
および右下位置にある画素A11,A22だけが選択さ
れ、モチーフBに関しては、抽出された画素B11,B
12,B21,B22のうちの左下および右上位置にあ
る画素B12,B21だけが選択されることになる。こ
うして、図28の「単位副画素配列Z」に示されている
ように、この中には、画素A11,B12,B21,A
22の4つについての画素パターンが貼り込まれること
になる。ここで、図28に示す「単位副画素配列」の配
列全体を観察すればわかるように、もとのモチーフAお
よびモチーフBを構成する画素のうちの2つに1つは間
引かれている。実際に用いるモチーフはかなり解像度の
高い画像であるため、このような間引きを行っても特に
問題はない。
Here, the "unit sub-pixel array Z (the periphery is shown by hatching)" in the first row and first column in FIG.
Let us consider what kind of pixel pattern is to be embedded. Regarding the motif A, as can be seen by referring to FIG. 25, pixels A11, A12, A2
A pixel pattern corresponding to 1, A22 is extracted as a paste candidate. On the other hand, regarding the motif B, as can be seen by referring to FIG. 26, the pixels B11, B12, B2
A pixel pattern corresponding to 1, B22 is extracted as a paste candidate. Therefore, based on the sub-pixel configuration information shown in the lower part of FIG. 28, only a part of the extracted pixel pattern is selected and arranged at a predetermined sub-pixel position. Specifically, for the motif A, only the pixels A11, A22 at the upper left and lower right positions of the extracted pixels A11, A12, A21, A22 are selected, and for the motif B, the extracted pixel B11 is selected. , B
Only the pixels B12 and B21 at the lower left and upper right positions of 12, B21 and B22 are selected. Thus, as shown in the "unit sub-pixel array Z" of FIG. 28, the pixels A11, B12, B21, A
Pixel patterns for four of 22 will be pasted. Here, as can be seen by observing the entire arrangement of the “unit subpixel arrangement” shown in FIG. 28, one of two pixels forming the original motif A and motif B is thinned out. . Since the motif actually used is an image with a fairly high resolution, there is no particular problem even if such thinning is performed.

【0052】図27に示す手法では、画素は間引かれる
ことはないが、副画素の大きさがモチーフの画素の大き
さよりも細かくなってしまうのに対し、図28に示す手
法では、副画素の大きさはモチーフの画素の大きさと同
じであるが、画素は間引かれてしまうことになり、いず
れも一長一短がある。したがって、実際に用いるモチー
フの絵柄や解像度などを考慮して、いずれか適した手法
を採用すればよい。
In the method shown in FIG. 27, the pixels are not thinned out, but the size of the sub-pixel becomes smaller than the size of the pixel of the motif, whereas in the method shown in FIG. The size of is the same as the size of the pixel of the motif, but the pixels are thinned out, and both have advantages and disadvantages. Therefore, any suitable method may be adopted in consideration of the pattern of the motif to be actually used, the resolution, and the like.

【0053】なお、画素や副画素の形状として、これま
での実施例では長方形のものを用いているが、図29
(a) に示すような正方形のもの(たとえば、50μm×
50μmの大きさ)や、図29(b) に示すような円形の
ものを用いてもかまわない。ただ、回折格子の形成密度
を高める意味では、円形の画素よりも矩形の画素(長方
形や正方形)を用いる方が好ましい。
The shape of the pixel or sub-pixel is rectangular in the above embodiments, but FIG.
Square shape as shown in (a) (for example, 50 μm ×
A size of 50 μm) or a circular shape as shown in FIG. 29 (b) may be used. However, in terms of increasing the formation density of the diffraction grating, it is preferable to use rectangular pixels (rectangular or square) rather than circular pixels.

【0054】§5. 階調をもったモチーフを表現する
実施例 これまでの説明は、基本的に階調をもたない二値画像と
してモチーフが与えられた場合の処理についてのもので
あったが、本発明は階調をもったモチーフについても適
用可能である。階調をもったモチーフを表現する場合に
は、たとえば、図30に示すような複数の画素パターン
を用意しておけばよい。ここで、実線で示す領域は画素
としての全占有領域Vであり、破線で示す領域は、全占
有領域Vの中で格子線を配置する対象となった閉領域W
である。図30に示す5つの画素パターンは、全占有領
域Vに対する閉領域Wの面積比が、それぞれ100%,
50%,30%,10%,5%のものであり、それぞれ
濃度値の異なる画素パターンということができる。もと
になったモチーフを構成する各画素の画素値(濃度値)
に応じて、これら濃度値の異なる画素パターンを使い分
けるようにすれば、階調をもったモチーフの表現が可能
になる。
[0054]§5. Expressing gradational motifs
Example The explanation so far is basically a binary image without gradation.
And the processing when a motif is given
However, the present invention is also suitable for motifs with gradation.
It can be used. When expressing a motif with gradation
Is a plurality of pixel patterns as shown in FIG.
You should prepare. Here, the area indicated by the solid line is the pixel
Is the total occupied area V, and the area indicated by the broken line
A closed region W in which a grid line is arranged in the existing region V
Is. The five pixel patterns shown in FIG. 30 are all occupied areas.
The area ratio of the closed area W to the area V is 100%,
50%, 30%, 10%, 5%,
It can be said that the pixel patterns have different density values. Originally
Pixel value (density value) of each pixel that constitutes the changed motif
The pixel patterns with different density values are used according to
By doing so, it is possible to express motifs with gradation.
become.

【0055】§6. 具体的な装置構成例 最後に、上述したホログラム記録媒体の作成方法を実施
するための具体的な装置構成例を図31に示しておく。
この装置の基本的な構成要素は、ワークステーション1
0、データフォーマット変換装置20、電子ビーム描画
装置30、プレス装置40である。ワークステーション
10は、上述した種々の演算処理を行うためのプログラ
ムを搭載したコンピュータであり、キーボードやマウス
などの入力機器、ディスプレイやプリンタなどの出力機
器、フロッピディスクドライブ装置やハードディスクド
ライブ装置などの外部記憶装置、などを有する。ここで
は、3つのモチーフA,B,Cについてのモチーフ画素
情報ファイルをそれぞれフロッピディスク1,2,3で
ワークステーション10に供給している状態が示されて
いる。このように、モチーフ画素情報(ラスター画像デ
ータ)は、他の作画装置などで作成したものをワークス
テーション10に入力するようにしてもよいし、紙面上
に描かれたデザイン画をスキャナ装置でワークステーシ
ョン10に入力するようにしてもよいし、ワークステー
ション10に搭載した作画ソフトウエアを用いて、ワー
クステーション10自身で作成するようにしてもよい。
§6. Specific Device Configuration Example Lastly, FIG. 31 shows a specific device configuration example for implementing the above-described hologram recording medium producing method.
The basic components of this device are the workstation 1
0, a data format conversion device 20, an electron beam drawing device 30, and a pressing device 40. The workstation 10 is a computer equipped with a program for performing the above-described various arithmetic processes, and has input devices such as a keyboard and a mouse, output devices such as a display and a printer, and external devices such as a floppy disk drive device and a hard disk drive device. It has a memory device and the like. Here, a state is shown in which motif pixel information files for three motifs A, B, and C are supplied to the workstation 10 by the floppy disks 1, 2, and 3, respectively. As described above, the motif pixel information (raster image data) may be created by another drawing device or the like and input to the workstation 10. Alternatively, the design image drawn on the paper may be processed by the scanner device. The data may be input to the station 10, or may be created by the workstation 10 itself by using the drawing software installed in the workstation 10.

【0056】続いて、ワークステーション10を用い
て、入力したモチーフ画素情報に基づいた対応関係情報
を作成し、これを対応関係情報ファイル11として保存
する。また、副画素構成情報を定義して、これを副画素
構成情報ファイル12として保存し、更に、必要な画素
パターンを必要な種類だけ作成し、これを画素パターン
ファイル13として保存する。オペレータはワークステ
ーション10に対して対話式に指示を入力することによ
り、これらのファイルを用意することができる。これら
のファイルが用意できたら、ワークステーション10
は、対応関係情報ファイル11および副画素構成情報フ
ァイル12を検索しながら、画素パターンファイル13
内の所定の画素パターンを、所定の画素位置に貼り込む
処理を行い、ホログラムパターンデータを出力する。
Subsequently, the workstation 10 is used to create correspondence information based on the input motif pixel information, and this is stored as a correspondence information file 11. Further, the sub-pixel configuration information is defined, this is stored as the sub-pixel configuration information file 12, further, necessary pixel patterns are created in the required types, and this is stored as the pixel pattern file 13. An operator can prepare these files by interactively entering instructions into the workstation 10. Once you have these files, workstation 10
While searching the correspondence relationship information file 11 and the sub-pixel configuration information file 12, the pixel pattern file 13
A predetermined pixel pattern therein is pasted at a predetermined pixel position, and hologram pattern data is output.

【0057】このホログラムパターンデータは、データ
フォーマット変換装置20に与えられる。このデータフ
ォーマット変換装置20は、ワークステーション10が
出力したホログラムパターンデータを、電子ビーム描画
装置30の要求するフォーマットに変換する機能をもっ
た装置である。フォーマット変換されたデータは、電子
ビーム描画装置30に与えられ、ホログラムパターンが
ホログラム原版4上に物理的なパターンとして出力され
る。プレス装置40は、このホログラム原版4を用い
て、フィルム上にホログラムパターンをプレスする装置
であり、ホログラムシール5が大量生産されることにな
る。
This hologram pattern data is given to the data format conversion device 20. The data format conversion device 20 is a device having a function of converting the hologram pattern data output from the workstation 10 into a format required by the electron beam drawing device 30. The format-converted data is given to the electron beam drawing device 30, and the hologram pattern is output as a physical pattern on the hologram master 4. The pressing device 40 is a device that presses a hologram pattern on a film using the hologram original plate 4, and the hologram seal 5 is mass-produced.

【0058】なお、図2に示す画素パターンにおいて、
各格子線Lは任意の四角形の形状をしたものであるが、
電子ビーム描画装置30として、フォトマスク作成用に
市販されている一般的な装置を用いるのであれば、対向
する辺がX軸またはY軸に平行な平行四辺形の形状をし
た格子線Lを用いるのが好ましい。たとえば、格子線L
の配置角度θが、−45°≦θ≦45°の場合には、図
32に示すように、短辺がY軸に平行な平行四辺形の格
子線Lを用い、格子線Lの配置角度θが、θ>45°ま
たは、θ<−45°の場合には、図33に示すように、
短辺がX軸に平行な平行四辺形の格子線Lを用いるとよ
い。このように、対向する辺がX軸またはY軸に平行な
平行四辺形を用いると、フォトマスク作成用の電子ビー
ム描画装置における描画効率が向上する。
In the pixel pattern shown in FIG. 2,
Each grid line L has an arbitrary square shape,
If a general device commercially available for photomask production is used as the electron beam drawing device 30, a parallelogrammatic lattice line L whose opposite sides are parallel to the X axis or the Y axis is used. Is preferred. For example, the grid line L
When the arrangement angle θ is −45 ° ≦ θ ≦ 45 °, a parallelogrammatic grid line L whose short side is parallel to the Y axis is used and the arrangement angle of the grid line L is as shown in FIG. When θ is θ> 45 ° or θ <−45 °, as shown in FIG.
It is preferable to use parallelogrammatic grid lines L whose short sides are parallel to the X axis. As described above, when the parallelogram whose opposite sides are parallel to the X axis or the Y axis is used, the drawing efficiency in the electron beam drawing apparatus for making a photomask is improved.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上のとおり本発明に係るホログラム記
録媒体作成方法によれば、回折格子が形成された画素
を平面的に配置することにより、ホログラムパターンを
記録するようにしたため、鮮明で再現性の良いホログラ
ム像が得られるようになる。
As described above, according to the method for producing a hologram recording medium of the present invention, the hologram pattern is recorded by arranging the pixels on which the diffraction grating is formed in a plane. A hologram image with good properties can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るホログラム記録媒体のモチーフと
して用いられているパターンおよび画素情報の一例を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram showing an example of pattern and pixel information used as a motif of a hologram recording medium according to the present invention.

【図2】本発明に係るホログラム記録媒体に用いられる
画素パターンの一例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a pixel pattern used in the hologram recording medium according to the present invention.

【図3】図1に示すモチーフと図2に示す画素パターン
とを用いて作成されたホログラム記録媒体を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing a hologram recording medium created using the motif shown in FIG. 1 and the pixel pattern shown in FIG.

【図4】図3に示すホログラム記録媒体を作成するため
の貼り込み処理の概念を示す図である。
4 is a diagram showing a concept of a pasting process for producing the hologram recording medium shown in FIG.

【図5】本発明に係るホログラム記録媒体に用いられる
複数の画素パターンの一例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an example of a plurality of pixel patterns used in the hologram recording medium according to the present invention.

【図6】図1に示すモチーフと図5に示す画素パターン
との対応関係を定義する対応関係情報を示す図である。
6 is a diagram showing correspondence relationship information that defines a correspondence relationship between the motif shown in FIG. 1 and the pixel pattern shown in FIG.

【図7】図6に示す対応関係情報を作成する一実施例を
示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing an example of creating the correspondence information shown in FIG. 6;

【図8】階調をもったモチーフについての画素情報の一
例を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing an example of pixel information about a motif having gradation.

【図9】本発明に係るホログラム記録媒体に重複して記
録される2つのモチーフの例を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing an example of two motifs that are redundantly recorded on the hologram recording medium according to the present invention.

【図10】図9に示す2つのモチーフについてそれぞれ
用いられる画素パターンの一例を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing an example of a pixel pattern used for each of the two motifs shown in FIG.

【図11】図9に示す2つのモチーフと、図10に示す
2つの画素パターンとの対応関係を定義する対応関係情
報を示す図である。
11 is a diagram showing correspondence relationship information defining a correspondence relationship between the two motifs shown in FIG. 9 and the two pixel patterns shown in FIG.

【図12】図9に示す2つのモチーフと、図10に示す
2つの画素パターンと、図11に示す対応関係情報と、
を用いて作成されたホログラム記録媒体を示す図であ
る。
12 is a diagram showing two motifs shown in FIG. 9, two pixel patterns shown in FIG. 10, and correspondence information shown in FIG.
It is a figure which shows the hologram recording medium created using.

【図13】図9に示す2つのモチーフについてそれぞれ
用いられる2つのグループに所属した画素パターンの一
例を示す図である。
13 is a diagram showing an example of pixel patterns belonging to two groups used respectively for the two motifs shown in FIG.

【図14】図9に示す2つのモチーフと、図13に示す
2つの画素パターンとの対応関係を定義する対応関係情
報を示す図である。
14 is a diagram showing correspondence relationship information defining a correspondence relationship between the two motifs shown in FIG. 9 and the two pixel patterns shown in FIG. 13.

【図15】本発明に係るホログラム記録媒体に重複して
記録される2つのモチーフの別な例を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing another example of two motifs that are redundantly recorded in the hologram recording medium according to the present invention.

【図16】図15に示す2つのモチーフと、図10に示
す2つの画素パターンとの対応関係を定義する対応関係
情報を示す図である。
16 is a diagram showing correspondence relationship information defining a correspondence relationship between the two motifs shown in FIG. 15 and the two pixel patterns shown in FIG.

【図17】本発明において用いる「単位副画素配列」の
概念を説明する図である。
FIG. 17 is a diagram illustrating the concept of a “unit subpixel array” used in the present invention.

【図18】図17に示す「単位副画素配列」について定
義された副画素構成情報の一例を示す図である。
18 is a diagram showing an example of sub-pixel configuration information defined for the "unit sub-pixel array" shown in FIG.

【図19】図17に示す「単位副画素配列」についての
配列およびこの配列に対応する副画素配列を示す図であ
る。
FIG. 19 is a diagram showing an array regarding the “unit subpixel array” shown in FIG. 17 and a subpixel array corresponding to this array.

【図20】図19に示す「単位副画素配列」の配列の各
要素について抽出された画素パターンを示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing a pixel pattern extracted for each element of the array of “unit subpixel array” shown in FIG. 19;

【図21】図20に示されている画素パターンを、各副
画素へ配置した状態を示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing a state in which the pixel pattern shown in FIG. 20 is arranged in each sub-pixel.

【図22】図21に示す配置により作成されるホログラ
ム記録媒体を示す図である。
22 is a diagram showing a hologram recording medium created by the arrangement shown in FIG.

【図23】本発明に利用される副画素構成情報の別な構
成例を示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing another configuration example of sub-pixel configuration information used in the present invention.

【図24】3つのモチーフを重複表現する場合に適した
副画素構成情報の構成例を示す図である。
[Fig. 24] Fig. 24 is a diagram illustrating a configuration example of sub-pixel configuration information suitable for the case where three motifs are redundantly expressed.

【図25】モチーフAについての画素配置を示す図であ
る。
25 is a diagram showing a pixel arrangement for motif A. FIG.

【図26】モチーフBについての画素配置を示す図であ
る。
26 is a diagram showing a pixel arrangement for motif B. FIG.

【図27】図25に示すモチーフAと図26に示すモチ
ーフBとを、副画素を用いて重複表現した例を示す図で
ある。
FIG. 27 is a diagram showing an example in which the motif A shown in FIG. 25 and the motif B shown in FIG. 26 are overlappingly expressed by using subpixels.

【図28】図25に示すモチーフAと図26に示すモチ
ーフBとを、副画素を用いて重複表現した別な例を示す
図である。
FIG. 28 is a diagram showing another example in which the motif A shown in FIG. 25 and the motif B shown in FIG. 26 are overlappingly expressed using subpixels.

【図29】本発明に係るホログラム記録媒体に利用でき
る画素の種々の形状を示す図である。
FIG. 29 is a diagram showing various shapes of pixels that can be used in the hologram recording medium according to the present invention.

【図30】本発明により階調をもったモチーフの表現を
行う場合に用いる画素パターンを示す図である。
FIG. 30 is a diagram showing a pixel pattern used when expressing a motif having gradation according to the present invention.

【図31】本発明に係るホログラム記録媒体の作成方法
を実施するための装置構成例を示すブロック図である。
FIG. 31 is a block diagram showing an example of an apparatus configuration for carrying out the method for producing a hologram recording medium according to the present invention.

【図32】電子ビーム描画装置を用いて格子線を描画す
る場合に適した画素パターンの第1の例を示す図であ
る。
FIG. 32 is a diagram showing a first example of a pixel pattern suitable for drawing a lattice line using an electron beam drawing device.

【図33】電子ビーム描画装置を用いて格子線を描画す
る場合に適した画素パターンの第2の例を示す図であ
る。
FIG. 33 is a diagram showing a second example of a pixel pattern suitable for drawing a lattice line using an electron beam drawing device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,3…フロッピディスク 4…ホログラム原版 5…ホログラムシール 10…ワークステーション 11…対応関係情報ファイル 12…副画素構成情報ファイル 13…画素パターンファイル 20…データフォーマット変換装置 30…電子ビーム描画装置 40…プレス装置 A,B…モチーフ L…格子線 P1〜P5,P11〜P23…画素パターン R1,R2…対応関係情報 V…格子線を配置する閉領域 W…画素としての全占有領域 X,Y…座標軸 Z…単位副画素配列 d…格子線の線幅 p…格子線のピッチ θ…格子線の配置角度 1, 2, 3 ... Floppy disk 4 ... Hologram original 5 ... Hologram sticker 10 ... workstation 11 ... Correspondence information file 12 ... Sub-pixel configuration information file 13 ... Pixel pattern file 20 ... Data format conversion device 30 ... Electron beam drawing device 40 ... Press machine A, B ... Motif L ... Lattice line P1 to P5, P11 to P23 ... Pixel pattern R1, R2 ... Correspondence information V: Closed area where grid lines are placed W: Total occupied area as pixels X, Y ... Coordinate axes Z ... Unit sub-pixel array d ... Line width of grid line p ... Pitch of grid lines θ: Arrangement angle of grid lines

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 回折格子により所定のモチーフが表現さ
れたホログラム記録媒体を作成する方法であって、 所定線幅の格子線を所定ピッチおよび所定角度で所定の
閉領域内に配置した画素パターンを、線幅、ピッチ、角
度という3つのパラメータのうちの少なくとも1つを変
えることによって複数用意する第1の段階と、 それぞれ所定の画素値をもった複数の画素を平面上の所
定位置に定義することにより所定のモチーフを表現し
た、モチーフ画素情報を用意する第2の段階と、 前記モチーフ画素情報において定義された各画素と、前
記第1の段階で用意した各画素パターンとの対応関係
を、各画素についての画素値を参照することにより定義
する第3の段階と、 前記対応関係に基づいて、前記画素パターンを所定の画
素位置に配置する第4の段階と、 を有することを特徴とするホログラム記録媒体の作成方
法。
1. A method for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, comprising a pixel pattern in which a grid line having a predetermined line width is arranged in a predetermined closed region at a predetermined pitch and a predetermined angle. , A first step of preparing a plurality by changing at least one of the three parameters of line width, pitch, and angle, and defining a plurality of pixels each having a predetermined pixel value at a predetermined position on the plane. A second step of preparing motif pixel information expressing a predetermined motif by the above, and a correspondence relationship between each pixel defined in the motif pixel information and each pixel pattern prepared in the first step, A third step defined by referring to a pixel value for each pixel, and a third step of arranging the pixel pattern at a predetermined pixel position based on the correspondence relationship. How to create a hologram recording medium, comprising the steps of, a.
【請求項2】 請求項に記載のホログラム記録媒体の
作成方法において、 第2の段階で、複数の異なるモチーフについてのモチー
フ画素情報をそれぞれ用意し、 第3の段階で、異なるモチーフに所属する画素について
は、異なる画素パターンを対応させ、 複数のモチーフを同一平面上に重複させて表現するよう
にしたことを特徴とするホログラム記録媒体の作成方
法。
2. The method for producing a hologram recording medium according to claim 1 , wherein in the second step, motif pixel information for a plurality of different motifs is prepared, and in the third step, the motif pixel information belongs to different motifs. Regarding a pixel, a method for producing a hologram recording medium, characterized in that different pixel patterns are made to correspond to each other, and a plurality of motifs are expressed by overlapping on the same plane.
【請求項3】 請求項に記載のホログラム記録媒体の
作成方法において、 第1の段階で、互いに近似したパラメータをもつ複数の
画素パターンを1グループとして、複数グループの画素
パターンを用意し、 第2の段階で、複数の異なるモチーフについてのモチー
フ画素情報をそれぞれ用意し、 第3の段階で、異なるモチーフに所属する画素について
は、異なるグループに属する画素パターンを対応させ、 複数のモチーフを同一平面上に重複させて表現するよう
にしたことを特徴とするホログラム記録媒体の作成方
法。
3. The method for producing a hologram recording medium according to claim 1 , wherein in the first step, a plurality of pixel patterns having mutually similar parameters are set as one group, and a plurality of groups of pixel patterns are prepared. In the second stage, motif pixel information for a plurality of different motifs is prepared respectively, and in the third stage, for pixels belonging to different motifs, pixel patterns belonging to different groups are made to correspond, and a plurality of motifs are arranged on the same plane. A method for producing a hologram recording medium, characterized in that it is represented in an overlapping manner.
【請求項4】 回折格子により所定のモチーフが表現さ
れたホログラム記録媒体を作成する方法であって、 所定線幅の格子線を所定ピッチおよび所定角度で所定の
閉領域内に配置した画素パターンを、線幅、ピッチ、角
度という3つのパラメータのうちの少なくとも1つを変
えることによって複数用意する第1の段階と、 それぞれ所定の画素値をもった複数の画素をM行N列の
配列上に定義することにより所定のモチーフを表現した
モチーフ画素情報を、複数の異なるモチーフについてそ
れぞれ用意する第2の段階と、 m行n列に配列された副画素から構成される単位副画素
配列を定義し、この単位副画素配列内の各副画素位置に
どのモチーフの画素を配置するかを定めた副画素構成情
報を用意する第3の段階と、 前記モチーフ画素情報において定義された各画素と、前
記第1の段階で用意した各画素パターンとの対応関係
を、各画素についての画素値を参照することにより定義
する第4の段階と、 前記単位副画素配列自身をM行N列に配列することによ
り、(m×M)行(n×N)列の副画素配列を定義し、
前記対応関係に基づいて、各モチーフごとに各単位副画
素配列に対応する画素パターンを抽出し、前記副画素構
成情報に基づいて、抽出された画素パターンを所定の副
画素位置に配置する第5の段階と、 を有することを特徴とするホログラム記録媒体の作成方
法。
4. A method for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, comprising a pixel pattern in which a grid line having a predetermined line width is arranged at a predetermined pitch and a predetermined angle in a predetermined closed region. , A line width, a pitch, and a first step of preparing a plurality by changing at least one of three parameters, and a plurality of pixels each having a predetermined pixel value on an array of M rows and N columns. By defining the motif pixel information representing a predetermined motif by defining, a second stage is prepared for each of a plurality of different motifs, and a unit subpixel array composed of subpixels arranged in m rows and n columns is defined. A third step of preparing sub-pixel configuration information that defines which motif pixel is to be arranged at each sub-pixel position in this unit sub-pixel array; And a fourth step of defining the correspondence relationship between each pixel defined by the above and each pixel pattern prepared in the first step by referring to the pixel value of each pixel, and the unit subpixel array itself By arranging M rows and N columns to define a sub-pixel array of (m × M) rows (n × N) columns,
A fifth pattern in which a pixel pattern corresponding to each unit subpixel array is extracted for each motif based on the correspondence relationship, and the extracted pixel pattern is arranged at a predetermined subpixel position based on the subpixel configuration information. The method for producing a hologram recording medium, which comprises:
【請求項5】 回折格子により所定のモチーフが表現さ
れたホログラム記録媒体を作成する方法であって、 所定線幅の格子線を所定ピッチおよび所定角度で所定の
閉領域内に配置した画素パターンを、線幅、ピッチ、角
度という3つのパラメータのうちの少なくとも1つを変
えることによって複数用意する第1の段階と、 それぞれ所定の画素値をもった複数の画素をM行N列の
配列上に定義することにより所定のモチーフを表現した
モチーフ画素情報を、複数の異なるモチーフについてそ
れぞれ用意する第2の段階と、 m行n列に配列された副画素から構成される単位副画素
配列を定義し、この単位副画素配列内の各副画素位置に
どのモチーフの画素を配置するかを定めた副画素構成情
報を用意する第3の段階と、 前記モチーフ画素情報において定義された各画素と、前
記第1の段階で用意した各画素パターンとの対応関係
を、各画素についての画素値を参照することにより定義
する第4の段階と、 前記単位副画素配列自身を(M/m)行(N/n)列に
配列することにより、M行N列の副画素配列を定義し、
前記対応関係に基づいて、各モチーフごとに各単位副画
素配列に対応する画素パターンを抽出し、前記副画素構
成情報に基づいて、抽出された画素パターンのうちの一
部を選択してこれを所定の副画素位置に配置する第5の
段階と、 を有することを特徴とするホログラム記録媒体の作成方
法。
5. A method for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, comprising a pixel pattern in which grid lines having a predetermined line width are arranged in a predetermined closed region at a predetermined pitch and a predetermined angle. , A line width, a pitch, and a first step of preparing a plurality by changing at least one of three parameters, and a plurality of pixels each having a predetermined pixel value on an array of M rows and N columns. By defining the motif pixel information representing a predetermined motif by defining, a second stage is prepared for each of a plurality of different motifs, and a unit subpixel array composed of subpixels arranged in m rows and n columns is defined. A third step of preparing sub-pixel configuration information that defines which motif pixel is to be arranged at each sub-pixel position in this unit sub-pixel array; And a fourth step of defining the correspondence relationship between each pixel defined by the above and each pixel pattern prepared in the first step by referring to the pixel value of each pixel, and the unit subpixel array itself Are arranged in (M / m) rows (N / n) columns to define a subpixel array of M rows and N columns,
A pixel pattern corresponding to each unit sub-pixel array is extracted for each motif based on the correspondence relationship, and a part of the extracted pixel pattern is selected based on the sub-pixel configuration information. A method for producing a hologram recording medium, comprising: a fifth step of arranging at a predetermined sub-pixel position.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載のホログ
ラム記録媒体の作成方法において、 画素としての全占有領域と、この全占有領域の中で格子
線を配置する対象となった閉領域と、の面積比がそれぞ
れ異なる複数の画素パターンを用意し、各画素位置には
その画素のもつ画素値に応じた面積比をもつ画素パター
ンを対応させ、階調をもったモチーフを表現するように
したことを特徴とするホログラム記録媒体の作成方法。
6. The method for producing a hologram recording medium according to claim 1 , wherein the entire occupied area as a pixel and the closed area in which the lattice line is arranged in the entire occupied area. A plurality of pixel patterns with different area ratios of and are prepared, and a pixel pattern having an area ratio corresponding to the pixel value of the pixel is made to correspond to each pixel position so that a motif with gradation can be expressed. A method for producing a hologram recording medium, characterized in that
【請求項7】 回折格子により所定のモチーフが表現さ
れたホログラム記録媒体を作成する装置であって、 所定線幅の格子線を所定ピッチおよび所定角度で所定の
閉領域内に配置した画素パターンを、線幅、ピッチ、角
度という3つのパラメータのうちの少なくとも1つを変
えることによって複数用意した画素パターンファイルを
保持する手段と、 それぞれ所定の画素値をもった複数の画素を平面上の所
定位置に定義することにより所定のモチーフを表現し
た、モチーフ画素情報ファイルを入力する手段と、 前記モチーフ画素情報ファイルにおいて定義された各画
素と、前記画素パターンファイル内に用意された各画素
パターンとの対応関係を、各画素についての画素値を参
照することにより定義した対応関係情報ファイルを作成
する手段と、 前記対応関係情報ファイルに基づいて、前記画素パター
ンを所定の画素位置に配置した画像データを作成する手
段と、 前記画像データに基づいて、所定の記録媒体にホログラ
ムパターンを形成する手段と、m行n列に配列された副画素から構成される単位副画素
配列について、この単位副画素配列内の各副画素位置に
どのモチーフの画素を配列するかを定めた副画素構成情
報ファイルを保持する手段と、 を備え、前記画像データを作成する手段が、前記副画素
構成情報ファイルに基づいて画素パターンの配置処理を
行う ことを特徴とするホログラム記録媒体の作成装置。
7. A device for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, comprising a pixel pattern in which a grid line having a predetermined line width is arranged at a predetermined pitch and a predetermined angle in a predetermined closed region. , A means for holding a plurality of prepared pixel pattern files by changing at least one of the three parameters of line width, pitch and angle, and a plurality of pixels each having a predetermined pixel value at a predetermined position on the plane. Means for inputting a motif pixel information file expressing a predetermined motif by defining the above, and correspondence between each pixel defined in the motif pixel information file and each pixel pattern prepared in the pixel pattern file And a means for creating a correspondence relationship information file that defines the relationship by referring to the pixel value for each pixel. , On the basis of the correspondence relationship information file, and means for creating image data arranging the pixel pattern at a predetermined pixel position, based on the image data, means for forming a hologram pattern on a predetermined recording medium, m A unit subpixel composed of subpixels arranged in row n columns
For the array, for each subpixel position in this unit subpixel array
Sub-pixel configuration information that determines which motif pixels are arranged
Means for holding a report file, and means for creating the image data,
Pixel pattern placement processing based on the configuration information file
An apparatus for producing a hologram recording medium, which is characterized by performing .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4498629B2 (en) * 2001-03-14 2010-07-07 大日本印刷株式会社 Optical diffraction structure and manufacturing method thereof
JP4156221B2 (en) * 2001-10-11 2008-09-24 大日本印刷株式会社 Optical structure
GB0326576D0 (en) * 2003-11-14 2003-12-17 Printetch Ltd Printing composition
JP4826298B2 (en) * 2006-03-14 2011-11-30 大日本印刷株式会社 Optically anisotropic medium creation system and method
JP5488581B2 (en) * 2006-08-22 2014-05-14 大日本印刷株式会社 Method for producing diffraction grating recording medium expressing three-dimensional pattern
RU2432262C1 (en) * 2007-09-03 2011-10-27 Нэшнл Принтинг Бюро, Инкорпорейтед Эдминистрейтив Эдженси Printed document with counterfeit protection
JP5099638B2 (en) * 2008-07-25 2012-12-19 独立行政法人 国立印刷局 True / false discrimination printed matter
JP2010039048A (en) * 2008-08-01 2010-02-18 Dainippon Printing Co Ltd Apparatus and method for multiplexing designs, program and anisotropic reflective medium
JP6032067B2 (en) * 2013-03-06 2016-11-24 大日本印刷株式会社 Creating diffraction grating image data
JP6988177B2 (en) * 2017-06-13 2022-01-05 凸版印刷株式会社 Calculation methods for holograms, optical films, and methods for manufacturing optical films

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