JP2003202796A - Hologram recording medium - Google Patents

Hologram recording medium

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JP2003202796A
JP2003202796A JP2002319586A JP2002319586A JP2003202796A JP 2003202796 A JP2003202796 A JP 2003202796A JP 2002319586 A JP2002319586 A JP 2002319586A JP 2002319586 A JP2002319586 A JP 2002319586A JP 2003202796 A JP2003202796 A JP 2003202796A
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JP
Japan
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pixel
motif
subpixel
sub
pattern
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002319586A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshio Motegi
敏雄 茂出木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2002319586A priority Critical patent/JP2003202796A/en
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hologram recording medium which makes bright hologram images obtainable and provides good reproducibility. <P>SOLUTION: The hologram image superposed with a motif A indicating an English letter 'A' and a motif B indicating an English letter 'B' is formed. The motifs A and B expressed by a pixel array of 7×7 are prepared and subpixels quadrisecting one pixel are defined. The motif A is allocated to the upper left and lower right subpixels and the motif B is allocated to the lower left and upper right subpixels. Diffraction grating patterns facing a 45° direction are formed at the subpixels of the motif A and the diffraction grating patterns facing a perpendicular direction are formed at the subpixels of the motif B. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はホログラム記録媒体
ならびにその作成方法および作成装置、特に、真正な物
品であることを証明するためのセキュリティ用ホログラ
ムシールへの利用に適したホログラム記録媒体ならびに
その作成方法および作成装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hologram recording medium, a method and an apparatus for producing the hologram recording medium, and more particularly, a hologram recording medium suitable for use as a security hologram sticker for certifying an authentic article and the production thereof. A method and a production device.

【0002】[0002]

【従来の技術】クレジットカード、預金通帳、金券など
の偽造を防止するための手段として、ホログラムシール
が利用されている。また、ビデオテープや高級腕時計な
どの商品についても、海賊版が出回るのを防止するため
に、ホログラムシールが利用されている。この他、装飾
用、販売促進用といった目的にも、ホログラムシールが
利用されている。このようなホログラムシールには、三
次元立体像ではなく二次元の絵柄がモチーフとして用い
られることが多い。
2. Description of the Related Art Hologram stickers are used as a means for preventing counterfeiting of credit cards, bankbooks, cash vouchers and the like. In addition, hologram seals are used for products such as video tapes and luxury watches to prevent pirated copies from circulating. In addition, hologram stickers are also used for purposes such as decoration and sales promotion. In such a hologram sticker, a two-dimensional picture is often used as a motif instead of a three-dimensional stereoscopic image.

【0003】このようなホログラムシールを作成するに
は、通常、レーザ光を用いて干渉縞を形成させる光学的
なホログラム撮影方法が用いられている。すなわち、二
次元の絵柄モチーフが描かれた原稿を用意し、2つに分
岐させたレーザ光の一方をこの原稿に照射し、その反射
光と分岐したもう一方のレーザ光とを干渉させてその干
渉縞を感光材に記録するのである。こうしてホログラム
原版が作成できたら、この原版を用いて、プレスの手法
によりホログラムシールを量産することができる。
To make such a hologram sticker, an optical hologram photographing method in which an interference fringe is formed by using a laser beam is usually used. That is, a manuscript on which a two-dimensional pattern motif is drawn is prepared, and one of the laser beams branched into two is irradiated to this manuscript, and the reflected light and the other branched laser light are interfered with each other. The interference fringes are recorded on the photosensitive material. After the hologram master plate is created in this manner, hologram seals can be mass-produced using the master plate by a pressing method.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の光学的なホログラム撮影方法には、鮮明なホロ
グラム像が得られないという問題がある。すなわち、光
学的に形成された干渉縞は、振動に敏感であるため、振
動を完全に排除した環境でのホログラム撮影を行う必要
がある。ところが、かなりの精度の防振台を用いて撮影
を行っても、振動を完全に排除することは困難であり、
このため、干渉縞の記録像にいわゆる「ボケ」が生じ、
コントラストのある明るいホログラム像が得られないの
である。また、用いるレーザ光の発振波長にもゆらぎが
生じるため、くも硝子状ノイズが避けられない。このよ
うに、光学的なホログラム撮影には再現性が悪いという
問題があるため、同じ原版を何枚か作成することも困難
になる。
However, the above-mentioned conventional optical hologram photographing method has a problem that a clear hologram image cannot be obtained. That is, since the optically formed interference fringe is sensitive to vibration, it is necessary to perform hologram imaging in an environment in which vibration is completely eliminated. However, it is difficult to completely eliminate the vibration even when shooting with a vibration-proof table with considerable accuracy.
Therefore, so-called "blur" occurs in the recorded image of the interference fringes,
A bright hologram image with contrast cannot be obtained. Further, since the oscillation wavelength of the laser light used also fluctuates, spider glass noise cannot be avoided. As described above, since there is a problem of poor reproducibility in optical hologram photographing, it is difficult to make several same original plates.

【0005】そこで本発明は、鮮明なホログラム像が得
られ、しかも再現性の良いホログラム記録媒体ならびに
その作成方法および作成装置を提供することを目的とす
る。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a hologram recording medium capable of obtaining a clear hologram image and having good reproducibility, and a method and apparatus for producing the hologram recording medium.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】(1) 本願第1の発明
は、回折格子により所定のモチーフが表現されたホログ
ラム記録媒体において、所定線幅の格子線を所定ピッチ
および所定角度で所定の閉領域内に配置した画素パター
ンを、線幅、ピッチ、角度という3つのパラメータのう
ちの少なくとも1つを変えることにより複数定義し、こ
れら複数の画素パターンを並べることにより所定のモチ
ーフを表現するようにしたものである。
[Means for Solving the Problems] (1) A first invention of the present application is a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, and a grating line having a predetermined line width is closed at a predetermined pitch and a predetermined angle. A plurality of pixel patterns arranged in the area are defined by changing at least one of three parameters of line width, pitch, and angle, and a predetermined motif is expressed by arranging the plurality of pixel patterns. It was done.

【0007】(2) 本願第2の発明は、上述の第1の発
明に係るホログラム記録媒体において、各モチーフごと
に異なる画素パターンを用いることにより、複数のモチ
ーフを同一平面上に重複させて表現するようにしたもの
である。
(2) A second invention of the present application is that, in the hologram recording medium according to the above-mentioned first invention, a plurality of motifs are overlapped on the same plane by using different pixel patterns for each motif. It is something that is done.

【0008】(3) 本願第3の発明は、上述の第1の発
明に係るホログラム記録媒体において、互いに近似した
パラメータをもつ複数の画素パターンを1グループとし
て、複数グループの画素パターンを定義し、各モチーフ
ごとに異なるグループに属する画素パターンを用いるこ
とにより、複数のモチーフを同一平面上に重複させて表
現するようにしたものである。
(3) According to a third aspect of the present invention, in the hologram recording medium according to the first aspect of the present invention, a plurality of pixel patterns having similar parameters are defined as one group, and a plurality of groups of pixel patterns are defined. By using pixel patterns that belong to different groups for each motif, a plurality of motifs are made to overlap and be expressed on the same plane.

【0009】(4) 本願第4の発明は、上述の第2また
は第3の発明に係るホログラム記録媒体において、2行
2列に配列された副画素から構成される単位副画素配列
を縦横に並べ、各単位副画素配列における左上の副画素
および右下の副画素には、第1のモチーフを表現するた
めの画素パターンを配置し、各単位副画素配列における
左下の副画素および右上の副画素には、第2のモチーフ
を表現するための画素パターンを配置し、2つのモチー
フを同一平面上に重複させて表現するようにしたもので
ある。
(4) A fourth invention of the present application is that, in the hologram recording medium according to the above-mentioned second or third invention, a unit subpixel array composed of subpixels arranged in two rows and two columns is arranged vertically and horizontally. A pixel pattern for expressing the first motif is arranged in the upper left subpixel and the lower right subpixel in each unit subpixel array, and the lower left subpixel and the upper right subpixel in each unit subpixel array are arranged. A pixel pattern for expressing the second motif is arranged in each pixel, and two motifs are made to overlap and be expressed on the same plane.

【0010】(5) 本願第5の発明は、上述の第2また
は第3の発明に係るホログラム記録媒体において、2行
2列に配列された副画素から構成される単位副画素配列
を縦横に並べ、各単位副画素配列における左上の副画素
には第1のモチーフを表現するための画素パターンを配
置し、各単位副画素配列における右上の副画素には第2
のモチーフを表現するための画素パターンを配置し、各
単位副画素配列における左下の副画素には第3のモチー
フを表現するための画素パターンを配置し、各単位副画
素配列における右下の副画素には第4のモチーフを表現
するための画素パターンを配置し、4つのモチーフを同
一平面上に重複させて表現するようにしたものである。
(5) According to a fifth aspect of the present invention, in the hologram recording medium according to the second or third aspect of the invention, a unit sub-pixel array composed of sub-pixels arranged in 2 rows and 2 columns is arranged vertically and horizontally. The pixel pattern for expressing the first motif is arranged in the upper left subpixel of each unit subpixel array, and the second upper pixel of the second subpixel is arranged in the upper right subpixel of each unit subpixel array.
The pixel pattern for expressing the motif is arranged, the pixel pattern for expressing the third motif is arranged in the lower left subpixel in each unit subpixel array, and the lower right subpixel in each unit subpixel array is arranged. A pixel pattern for expressing the fourth motif is arranged in each pixel, and four motifs are made to overlap and be expressed on the same plane.

【0011】(6) 本願第6の発明は、上述の第2また
は第3の発明に係るホログラム記録媒体において、3行
3列に配列された副画素から構成される単位副画素配列
を縦横に並べ、各単位副画素配列における上段左側の副
画素、中段中央の副画素、下段右側の副画素には第1の
モチーフを表現するための画素パターンを配置し、各単
位副画素配列における上段中央の副画素、中段右側の副
画素、下段左側の副画素には第2のモチーフを表現する
ための画素パターンを配置し、各単位副画素配列におけ
る上段右側の副画素、中段左側の副画素、下段中央の副
画素には第3のモチーフを表現するための画素パターン
を配置し、3つのモチーフを同一平面上に重複させて表
現するようにしたものである。
(6) A sixth invention of the present application is that, in the hologram recording medium according to the above-mentioned second or third invention, a unit subpixel array composed of subpixels arranged in 3 rows and 3 columns is arranged vertically and horizontally. The pixel pattern for expressing the first motif is arranged in the upper left subpixel, the middle central subpixel, and the lower right subpixel in each unit subpixel array, and the upper center in each unit subpixel array is arranged. A pixel pattern for expressing the second motif is arranged in the sub-pixels, the middle-right sub-pixels, and the lower-left sub-pixels, and the upper-right sub-pixels, the middle-left sub-pixels in each unit sub-pixel array, A pixel pattern for expressing the third motif is arranged in the subpixel in the center of the lower row, and three motifs are made to overlap and be expressed on the same plane.

【0012】(7) 本願第7の発明は、上述の第2また
は第3の発明に係るホログラム記録媒体において、3行
3列に配列された副画素から構成される単位副画素配列
を縦横に並べ、各単位副画素配列における上段左側の副
画素、中段右側の副画素、下段中央の副画素には第1の
モチーフを表現するための画素パターンを配置し、各単
位副画素配列における上段中央の副画素、中段左側の副
画素、下段右側の副画素には第2のモチーフを表現する
ための画素パターンを配置し、各単位副画素配列におけ
る上段右側の副画素、中段中央の副画素、下段左側の副
画素には第3のモチーフを表現するための画素パターン
を配置し、3つのモチーフを同一平面上に重複させて表
現するようにしたものである。
(7) A seventh invention of the present application is that, in the hologram recording medium according to the second or third invention, a unit subpixel array composed of subpixels arranged in 3 rows and 3 columns is arranged vertically and horizontally. A pixel pattern for expressing the first motif is arranged in the upper left subpixel, the middle right subpixel, and the lower center subpixel of each unit subpixel array, and the upper center of each unit subpixel array is arranged. A pixel pattern for expressing the second motif is arranged in the sub-pixels of the sub-pixel, the left sub-pixel in the middle row, and the sub-pixel in the right lower row, and the sub-pixel on the upper-right side in the unit sub-pixel array, the sub-pixel in the middle row, A pixel pattern for expressing the third motif is arranged in the sub pixel on the left side of the lower row, and three motifs are made to overlap and be expressed on the same plane.

【0013】(8) 本願第8の発明は、上述の第1〜第
7のいずれかの発明に係るホログラム記録媒体におい
て、画素としての全占有領域と、この全占有領域の中で
格子線を配置する対象となった閉領域と、の面積比がそ
れぞれ異なる複数の画素パターンを用意し、平面上にこ
れらの画素パターンを並べることにより階調をもったモ
チーフを表現するようにしたものである。
(8) An eighth invention of the present application is, in the hologram recording medium according to any one of the first to seventh inventions, a total occupied area as a pixel and a grid line in the entire occupied area. A plurality of pixel patterns having different area ratios to the closed region to be arranged are prepared, and by arranging these pixel patterns on a plane, a motif with gradation can be expressed. .

【0014】(9) 本願第9の発明は、回折格子により
所定のモチーフが表現されたホログラム記録媒体を作成
する方法において、所定線幅の格子線を所定ピッチおよ
び所定角度で所定の閉領域内に配置した画素パターンを
用意する段階と、それぞれ所定の画素値をもった複数の
画素を平面上の所定位置に定義することにより所定のモ
チーフを表現した、モチーフ画素情報を用意する段階
と、このモチーフ画素情報における各画素値に基づい
て、用意した画素パターンを所定の画素に対応づけ、各
画素位置に、対応する画素パターンを配置する段階と、
を行うようにしたものである。
(9) A ninth invention of the present application is a method for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, wherein a grid line having a predetermined line width is formed in a predetermined closed region at a predetermined pitch and a predetermined angle. Preparing a pixel pattern arranged in, and preparing motif pixel information expressing a predetermined motif by defining a plurality of pixels each having a predetermined pixel value at a predetermined position on a plane, and A step of associating a prepared pixel pattern with a predetermined pixel based on each pixel value in the motif pixel information, and arranging a corresponding pixel pattern at each pixel position;
Is to do.

【0015】(10) 本願第10の発明は、回折格子によ
り所定のモチーフが表現されたホログラム記録媒体を作
成する方法において、所定線幅の格子線を所定ピッチお
よび所定角度で所定の閉領域内に配置した画素パターン
を、線幅、ピッチ、角度という3つのパラメータのうち
の少なくとも1つを変えることによって複数用意する第
1の段階と、それぞれ所定の画素値をもった複数の画素
を平面上の所定位置に定義することにより所定のモチー
フを表現した、モチーフ画素情報を用意する第2の段階
と、このモチーフ画素情報において定義された各画素
と、第1の段階で用意した各画素パターンとの対応関係
を、各画素についての画素値を参照することにより定義
する第3の段階と、この対応関係に基づいて、画素パタ
ーンを所定の画素位置に配置する第4の段階と、を行う
ようにしたものである。
(10) A tenth invention of the present application is a method for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, wherein a grid line having a predetermined line width is formed in a predetermined closed region at a predetermined pitch and a predetermined angle. A plurality of pixel patterns arranged on the plane by changing at least one of three parameters of line width, pitch, and angle; and a plurality of pixels each having a predetermined pixel value on a plane. A second step of preparing motif pixel information, which expresses a predetermined motif by defining it in a predetermined position, each pixel defined in this motif pixel information, and each pixel pattern prepared in the first step The third step of defining the correspondence relationship between the pixel patterns by referring to the pixel value for each pixel, and based on this correspondence relationship, the pixel pattern is defined as a predetermined pixel position. A fourth step of placing, in which to perform the.

【0016】(11) 本願第11の発明は、上述の第10
の発明に係るホログラム記録媒体の作成方法において、
第2の段階で、複数の異なるモチーフについてのモチー
フ画素情報をそれぞれ用意し、第3の段階で、異なるモ
チーフに所属する画素については、異なる画素パターン
を対応させ、複数のモチーフを同一平面上に重複させて
表現するようにしたものである。
(11) The eleventh invention of the present application is the above-mentioned tenth invention.
In the method for producing a hologram recording medium according to the invention,
In the second step, motif pixel information for a plurality of different motifs is prepared respectively, and in a third step, for pixels belonging to different motifs, different pixel patterns are made to correspond to each other, and the plurality of motifs are arranged on the same plane. It is an expression that is duplicated.

【0017】(12) 本願第12の発明は、上述の第10
の発明に係るホログラム記録媒体の作成方法において、
第1の段階で、互いに近似したパラメータをもつ複数の
画素パターンを1グループとして、複数グループの画素
パターンを用意し、第2の段階で、複数の異なるモチー
フについてのモチーフ画素情報をそれぞれ用意し、第3
の段階で、異なるモチーフに所属する画素については、
異なるグループに属する画素パターンを対応させ、複数
のモチーフを同一平面上に重複させて表現するようにし
たものである。
(12) The twelfth invention of the present application is the above-mentioned tenth invention.
In the method for producing a hologram recording medium according to the invention,
In the first stage, a plurality of pixel patterns having similar parameters to each other are set as one group, and a plurality of groups of pixel patterns are prepared. In the second stage, motif pixel information about a plurality of different motifs is prepared. Third
At the stage of, for pixels belonging to different motifs,
Pixel patterns belonging to different groups are made to correspond to each other, and a plurality of motifs are expressed by overlapping on the same plane.

【0018】(13) 本願第13の発明は、回折格子によ
り所定のモチーフが表現されたホログラム記録媒体を作
成する方法において、所定線幅の格子線を所定ピッチお
よび所定角度で所定の閉領域内に配置した画素パターン
を、線幅、ピッチ、角度という3つのパラメータのうち
の少なくとも1つを変えることによって複数用意する第
1の段階と、それぞれ所定の画素値をもった複数の画素
をM行N列の配列上に定義することにより所定のモチー
フを表現したモチーフ画素情報を、複数の異なるモチー
フについてそれぞれ用意する第2の段階と、m行n列に
配列された副画素から構成される単位副画素配列を定義
し、この単位副画素配列内の各副画素位置にどのモチー
フの画素を配置するかを定めた副画素構成情報を用意す
る第3の段階と、モチーフ画素情報において定義された
各画素と、第1の段階で用意した各画素パターンとの対
応関係を、各画素についての画素値を参照することによ
り定義する第4の段階と、単位副画素配列自身をM行N
列に配列することにより、(m×M)行(n×N)列の
副画素配列を定義し、第4の段階で定義した対応関係に
基づいて、各モチーフごとに各単位副画素配列に対応す
る画素パターンを抽出し、第3の段階で用意した副画素
構成情報に基づいて、抽出された画素パターンを所定の
副画素位置に配置する第5の段階と、を行うようにした
ものである。
(13) A thirteenth invention of the present application is a method for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, wherein a grid line having a predetermined line width is formed in a predetermined closed region at a predetermined pitch and a predetermined angle. The first step of preparing a plurality of pixel patterns arranged in the above by changing at least one of three parameters of line width, pitch, and angle, and M rows of a plurality of pixels each having a predetermined pixel value. A unit composed of a second stage in which motif pixel information expressing a predetermined motif by defining it on an array of N columns is prepared for each of a plurality of different motifs, and subpixels arranged in m rows and n columns. A third step of defining a sub-pixel array and providing sub-pixel configuration information that defines which motif pixel is to be arranged at each sub-pixel position in this unit sub-pixel array; A fourth step of defining a correspondence relationship between each pixel defined in the half-pixel information and each pixel pattern prepared in the first step by referring to a pixel value of each pixel, and a unit sub-pixel Array itself M rows N
By arranging them in columns, a sub-pixel array of (m × M) rows (n × N) columns is defined, and based on the correspondence defined in the fourth step, each unit sub-pixel array is arranged for each motif. The fifth step of extracting the corresponding pixel pattern and arranging the extracted pixel pattern at a predetermined sub-pixel position based on the sub-pixel configuration information prepared in the third step. is there.

【0019】(14) 本願第14の発明は、回折格子によ
り所定のモチーフが表現されたホログラム記録媒体を作
成する方法において、所定線幅の格子線を所定ピッチお
よび所定角度で所定の閉領域内に配置した画素パターン
を、線幅、ピッチ、角度という3つのパラメータのうち
の少なくとも1つを変えることによって複数用意する第
1の段階と、それぞれ所定の画素値をもった複数の画素
をM行N列の配列上に定義することにより所定のモチー
フを表現したモチーフ画素情報を、複数の異なるモチー
フについてそれぞれ用意する第2の段階と、m行n列に
配列された副画素から構成される単位副画素配列を定義
し、この単位副画素配列内の各副画素位置にどのモチー
フの画素を配置するかを定めた副画素構成情報を用意す
る第3の段階と、モチーフ画素情報において定義された
各画素と、第1の段階で用意した各画素パターンとの対
応関係を、各画素についての画素値を参照することによ
り定義する第4の段階と、単位副画素配列自身を(M/
m)行(N/n)列に配列することにより、M行N列の
副画素配列を定義し、第4の段階で定義した対応関係に
基づいて、各モチーフごとに各単位副画素配列に対応す
る画素パターンを抽出し、第3の段階で用意した副画素
構成情報に基づいて、抽出された画素パターンのうちの
一部を選択してこれを所定の副画素位置に配置する第5
の段階と、を行うようにしたものである。
(14) A fourteenth invention of the present application is a method for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, wherein a grid line having a predetermined line width is formed in a predetermined closed region at a predetermined pitch and a predetermined angle. The first step of preparing a plurality of pixel patterns arranged in the above by changing at least one of three parameters of line width, pitch, and angle, and M rows of a plurality of pixels each having a predetermined pixel value. A unit composed of a second stage in which motif pixel information expressing a predetermined motif by defining it on an array of N columns is prepared for each of a plurality of different motifs, and subpixels arranged in m rows and n columns. A third step of defining a sub-pixel array and providing sub-pixel configuration information that defines which motif pixel is to be arranged at each sub-pixel position in this unit sub-pixel array; A fourth step of defining a correspondence relationship between each pixel defined in the half-pixel information and each pixel pattern prepared in the first step by referring to a pixel value of each pixel, and a unit sub-pixel The array itself (M /
m) rows (N / n) columns to define a sub-pixel array of M rows and N columns, and based on the correspondence defined in the fourth step, each sub-pixel array for each motif A fifth step of extracting a corresponding pixel pattern, selecting a part of the extracted pixel pattern based on the sub-pixel configuration information prepared in the third step, and disposing the selected pixel pattern at a predetermined sub-pixel position.
The steps and are to be performed.

【0020】(15) 本願第15の発明は、上述した第9
〜第14のいずれかの発明に係るホログラム記録媒体の
作成方法において、画素としての全占有領域と、この全
占有領域の中で格子線を配置する対象となった閉領域
と、の面積比がそれぞれ異なる複数の画素パターンを用
意し、各画素位置にはその画素のもつ画素値に応じた面
積比をもつ画素パターンを対応させ、階調をもったモチ
ーフを表現するようにしたものである。
(15) The fifteenth invention of the present application is the ninth invention described above.
In the method for producing a hologram recording medium according to any one of the fourteenth invention, the area ratio of the entire occupied area as the pixel and the closed area in which the lattice line is arranged in the entire occupied area is A plurality of different pixel patterns are prepared, and a pixel pattern having an area ratio corresponding to the pixel value of the pixel is associated with each pixel position to express a gradation motif.

【0021】(16) 本願第16の発明は、回折格子によ
り所定のモチーフが表現されたホログラム記録媒体を作
成する装置において、所定線幅の格子線を所定ピッチお
よび所定角度で所定の閉領域内に配置した画素パターン
を、線幅、ピッチ、角度という3つのパラメータのうち
の少なくとも1つを変えることによって複数用意した画
素パターンファイルを保持する手段と、それぞれ所定の
画素値をもった複数の画素を平面上の所定位置に定義す
ることにより所定のモチーフを表現した、モチーフ画素
情報ファイルを入力する手段と、このモチーフ画素情報
ファイルにおいて定義された各画素と、画素パターンフ
ァイル内に用意された各画素パターンとの対応関係を、
各画素についての画素値を参照することにより定義した
対応関係情報ファイルを作成する手段と、この対応関係
情報ファイルに基づいて、画素パターンを所定の画素位
置に配置した画像データを作成する手段と、この画像デ
ータに基づいて、所定の記録媒体にホログラムパターン
を形成する手段と、を設けたものである。
(16) According to a sixteenth invention of the present application, in a device for producing a hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, a grid line having a predetermined line width within a predetermined closed region at a predetermined pitch and a predetermined angle. Means for holding a plurality of pixel pattern files prepared by changing at least one of the three parameters of the pixel pattern arranged in line width, pitch, and angle, and a plurality of pixels each having a predetermined pixel value. Means for inputting a motif pixel information file expressing a predetermined motif by defining at a predetermined position on the plane, each pixel defined in this motif pixel information file, and each prepared in the pixel pattern file. The correspondence with the pixel pattern,
Means for creating a correspondence relationship information file defined by referring to pixel values for each pixel, and means for creating image data in which pixel patterns are arranged at predetermined pixel positions based on the correspondence relationship information file, And a means for forming a hologram pattern on a predetermined recording medium based on the image data.

【0022】(17) 本願第17の発明は、上述した第1
6の発明に係るホログラム記録媒体の作成装置におい
て、m行n列に配列された副画素から構成される単位副
画素配列について、この単位副画素配列内の各副画素位
置にどのモチーフの画素を配列するかを定めた副画素構
成情報ファイルを保持する手段を更に設け、画像データ
を作成する手段が、副画素構成情報ファイルに基づいて
画素パターンの配置処理を行うようにしたものである。
(17) The seventeenth invention of the present application is the above-mentioned first invention.
In the hologram recording medium producing apparatus according to the sixth aspect of the present invention, for a unit subpixel array composed of subpixels arranged in m rows and n columns, which motif pixel is assigned to each subpixel position in the unit subpixel array. A means for holding a sub-pixel configuration information file that determines whether or not to arrange is further provided, and a means for creating image data performs a pixel pattern arranging process based on the sub-pixel configuration information file.

【0023】本発明に係るホログラム記録媒体の特徴
は、回折格子が形成された画素を平面的に配置すること
により、ホログラムパターンを記録するようにした点に
ある。このように、画素を並べる方法を採れば、コンピ
ュータによって任意のモチーフ画像を作成することがで
きる。また、各画素内に形成する回折格子の画像パター
ンも、コンピュータによって作成することができ、最終
的なホログラムパターン作成までの作業をすべてコンピ
ュータによって処理することができる。要するに、本発
明によれば、光学的な撮影を行うことなしに、コンピュ
ータによって発生した回折格子パターンデータによって
ホログラム記録媒体の作成が可能になる。一度作成した
回折格子パターンデータを保存しておき、このデータに
基づいて再度ホログラム記録媒体の作成作業を行えば、
ほぼ同じ記録媒体を得ることができ、ほぼ完全な再現性
が得られることになる。また、光学的な撮影を行う必要
がないため、鮮明なホログラム像が得られる。
A feature of the hologram recording medium according to the present invention is that a hologram pattern is recorded by arranging pixels on which a diffraction grating is formed in a plane. By adopting the method of arranging pixels in this way, an arbitrary motif image can be created by a computer. The image pattern of the diffraction grating formed in each pixel can also be created by a computer, and all the operations up to the final hologram pattern creation can be processed by the computer. In short, according to the present invention, it is possible to create a hologram recording medium by computer-generated diffraction grating pattern data without performing optical imaging. If you save the diffraction grating pattern data created once and perform the creation work of the hologram recording medium again based on this data,
Almost the same recording medium can be obtained, and almost complete reproducibility can be obtained. Further, since it is not necessary to perform optical photographing, a clear hologram image can be obtained.

【0024】このように本発明では、回折格子が形成さ
れた画素を並べることにより所望のモチーフを表現して
いるため、種々の特殊効果を利用することができる。た
とえば、回折格子を構成する格子線の線幅、ピッチ、配
置角度、を変えることにより、光学的特性の異なる回折
格子を作成することができる。そこで、このような光学
的特性の異なる複数の画素を用意しておき、適宜使い分
ければ、種々の特殊効果が表現できるのである。具体的
には、第1のモチーフについては第1の画素を並べて表
現し、第2のモチーフについては第2の画素を並べて表
現するようにすれば、2つのモチーフを同一平面上に記
録することができ、しかも光学的特性の違いにより、こ
れら2つのモチーフを別々に観察することができるよう
になる。
As described above, according to the present invention, since a desired motif is expressed by arranging the pixels on which the diffraction grating is formed, various special effects can be utilized. For example, a diffraction grating having different optical characteristics can be created by changing the line width, pitch, and arrangement angle of the grating lines that form the diffraction grating. Therefore, various special effects can be expressed by preparing a plurality of such pixels having different optical characteristics and appropriately using them. Specifically, if the first pixels are arranged side by side for the first motif and the second pixels are arranged side by side for the second motif, two motifs are recorded on the same plane. In addition, these two motifs can be observed separately due to the difference in optical characteristics.

【0025】なお、一般に「ホログラム」という文言
は、干渉縞によって得られた像を指す言葉として用いら
れており、そのような意味からすれば、本発明の記録媒
体上に作成される像は、「ホログラム」ではなく「疑似
ホログラム」あるいは「回折格子パターン」と言うべき
ものである。しかしながら、偽造防止用のシールとして
用いられている記録媒体は、一般に「ホログラムシー
ル」と呼ばれているため、本願明細書においては、記録
媒体上に形成されている「回折格子パターン」について
も「ホログラム」という言葉を用いることにする。
In general, the word "hologram" is used as a word indicating an image obtained by interference fringes. From such a meaning, the image formed on the recording medium of the present invention is It should be called "pseudo hologram" or "diffraction grating pattern" instead of "hologram". However, since a recording medium used as a seal for preventing forgery is generally called a "hologram seal", the "diffraction grating pattern" formed on the recording medium is also referred to as "hologram seal" in this specification. We will use the term "hologram".

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図示するいくつか
の実施例に基づいて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described below based on several illustrated embodiments.

【0027】<<<§1. 基本的実施例>>>本発明
に係るホログラム記録媒体の特徴は、複数の画素の集合
によって構成されるモチーフを、媒体上にホログラムと
して表現した点にある。ここでは、図1(a) に示すよう
な比較的単純なモチーフ(英文字の「A」を示す)を本
発明によってホログラム記録媒体上に表現する方法につ
いて説明する。なお、本発明に係るホログラム記録媒体
の作成方法は、コンピュータを用いて実施することを前
提としたものであり、これから説明する各処理は、いず
れもコンピュータを用いて実行される。
<<<< §1. Basic Example >>>> A feature of the hologram recording medium according to the present invention is that a motif constituted by a set of a plurality of pixels is expressed as a hologram on the medium. Here, a method of expressing a relatively simple motif (indicating an English letter "A") as shown in FIG. 1 (a) on a hologram recording medium according to the present invention will be described. The method for producing a hologram recording medium according to the present invention is premised on being carried out by using a computer, and each processing described below is executed by using the computer.

【0028】まず、図1(a) に示すモチーフに対応する
画像データとして、図1(b) に示すようなモチーフ画素
情報を用意する。ここに示す例では、7行7列に画素が
配列されており、各画素は「0」または「1」のいずれ
かの画素値をもっており、いわゆる二値画像を示す情報
となる。このような情報は、いわゆる「ラスター画像デ
ータ」と呼ばれている一般的な画像データであり、通常
の作画装置によって作成することができる。あるいは、
紙面上に描かれたデザイン画をスキャナ装置によって取
り込むことにより、このようなモチーフ画素情報を用意
してもかまわない。
First, as the image data corresponding to the motif shown in FIG. 1A, motif pixel information as shown in FIG. 1B is prepared. In the example shown here, pixels are arranged in 7 rows and 7 columns, and each pixel has a pixel value of either "0" or "1", which is information indicating a so-called binary image. Such information is general image data called so-called "raster image data", and can be created by an ordinary drawing device. Alternatively,
Such motif pixel information may be prepared by capturing a design image drawn on the paper surface with a scanner device.

【0029】続いて、図2に示すように、所定線幅dの
格子線を所定ピッチpおよび所定角度θで所定の閉領域
V内に配置した画素パターンを定義する。ここで、閉領
域Vは1つの画素を構成する領域であり、実際には非常
に微小な要素になる。別言すれば、図1(a) ,(b) に示
した7×7の配列における1つ1つの画素に相当した大
きさのものになる。この実施例では、閉領域Vとして、
縦×横が50μm×45μmの大きさの長方形を用いて
いる。また、この閉領域V内に配置される格子線Lの線
幅dおよびピッチpも光の波長に準じた微小な寸法をも
ったものであり、この実施例では、線幅d=0.6μ
m、ピッチp=1.2μmである。要するに、格子線L
は回折格子としての機能を果たす線幅dおよびピッチp
で配置されている必要がある。格子線Lの配置角度θ
は、所定の基準軸に対して設定された角度である。本明
細書では、図示するような方向にX軸およびY軸をとっ
たXY座標系を定義し、X軸を基準軸として格子線Lの
配置角度θを表わすことにする。このような画素パター
ンも、コンピュータ上では画像データとして用意される
ことになる。なお、この画素パターンの画像データは、
「ラスター画像データ」として用意してもよいし(この
場合は、モチーフを構成する1つ1つの画素が、更に微
小な画素によって表現されることになる)、あるいは、
格子線Lを構成する四角形の4頂点の座標値を指定する
ことにより格子線Lの輪郭線を定義した「ベクトル画像
データ」として用意してもよい。データ量を抑えるため
には、後者の方が好ましい。
Subsequently, as shown in FIG. 2, a pixel pattern is defined in which lattice lines having a predetermined line width d are arranged in a predetermined closed region V at a predetermined pitch p and a predetermined angle θ. Here, the closed region V is a region that constitutes one pixel and is actually a very small element. In other words, it has a size corresponding to each pixel in the 7 × 7 array shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b). In this embodiment, as the closed region V,
A rectangle with a size of 50 μm × 45 μm in length × width is used. Further, the line width d and the pitch p of the lattice lines L arranged in this closed region V also have minute dimensions according to the wavelength of light, and in this embodiment, the line width d = 0.6 μ.
m, pitch p = 1.2 μm. In short, the grid line L
Is a line width d and a pitch p that function as a diffraction grating
Must be placed in. Arrangement angle θ of the grid line L
Is an angle set with respect to a predetermined reference axis. In this specification, an XY coordinate system in which the X axis and the Y axis are taken in the directions shown in the figure is defined, and the arrangement angle θ of the grid line L is represented with the X axis as the reference axis. Such a pixel pattern is also prepared as image data on the computer. The image data of this pixel pattern is
It may be prepared as "raster image data" (in this case, each pixel forming the motif is represented by a smaller pixel), or
You may prepare as "vector image data" which defined the outline of the grid line L by designating the coordinate value of four vertices of the quadrangle which comprises the grid line L. The latter is preferable in order to reduce the amount of data.

【0030】次に、図1(b) に示すようなモチーフ画素
情報における各画素値に基づいて、図2に示すような画
素パターンを所定の画素に対応づけ、各画素位置に、対
応する画素パターンを配置する処理を行う。具体的に
は、図1(b) に示すモチーフ画素情報において、画素値
が「1」である画素のそれぞれに図2の画素パターンを
対応づける。画素値が「0」である画素には、画素パタ
ーンは対応づけられない。こうして対応づけられた画素
位置に、それぞれ画素パターンを配置してゆく。いわ
ば、図1(b) に示す配列を壁にたとえれば、この壁の中
の「1」と描かれた各領域に、図2に示すようなタイル
を1枚ずつ貼る作業を行うことになる。この結果、図3
に示すような画像パターンが得られる。この画像パター
ンが最終的にホログラム記録媒体に記録されるパターン
である。図1(a) に示すモチーフがそのまま表現されて
いるが、1つ1つの画素は回折格子で構成されており、
ホログラムとしての視覚的な効果が得られることにな
る。
Next, based on each pixel value in the motif pixel information as shown in FIG. 1 (b), a pixel pattern as shown in FIG. 2 is associated with a predetermined pixel, and a pixel corresponding to each pixel position is provided. Perform the process of placing the pattern. Specifically, in the motif pixel information shown in FIG. 1B, the pixel pattern of FIG. 2 is associated with each pixel having a pixel value of “1”. No pixel pattern is associated with a pixel having a pixel value of “0”. Pixel patterns are arranged at the pixel positions thus associated. So to speak, if the array shown in Fig. 1 (b) is compared to a wall, the work of sticking tiles as shown in Fig. 2 to each area drawn as "1" in this wall will be performed. . As a result,
An image pattern as shown in is obtained. This image pattern is the pattern finally recorded on the hologram recording medium. The motif shown in Fig. 1 (a) is expressed as it is, but each pixel is composed of a diffraction grating,
The visual effect as a hologram will be obtained.

【0031】もっとも、図2に示すような画素パターン
を「タイル」として貼り付ける処理は、コンピュータ内
での画像処理として行われる。この処理は、たとえば、
図4に示すように、モチーフ全体に対応する画像の右下
位置に座標原点Oをとった場合、貼り付けるべき画素位
置に基づいたオフセット量a,bを演算により求め、画
像データとしての貼り込み処理を行えばよい。このよう
な演算処理の結果、図3に示すようなパターンを示す画
像データが得られるので、この画像データに基づいて、
図3に示すようなパターンをフィルムなどの上に物理的
に出力すれば、所望のホログラム記録媒体が作成できる
ことになる。なお、本実施例では、後述するように、コ
ンピュータで作成した画像データを電子ビーム描画装置
に与え、電子ビームにより図3に示すようなパターンを
原版上に描画し、この原版を用いてプレスの手法でホロ
グラムシールを大量生産するようにしている。
Of course, the process of pasting pixel patterns as shown in FIG. 2 as "tiles" is performed as image processing in the computer. This process can be
As shown in FIG. 4, when the coordinate origin O is set at the lower right position of the image corresponding to the entire motif, the offset amounts a and b based on the pixel positions to be pasted are calculated and the pasted as image data. It suffices to perform processing. As a result of such arithmetic processing, image data showing a pattern as shown in FIG. 3 is obtained, and therefore, based on this image data,
By physically outputting the pattern shown in FIG. 3 on a film or the like, a desired hologram recording medium can be created. In the present embodiment, as will be described later, image data created by a computer is given to an electron beam drawing apparatus, an electron beam is used to draw a pattern as shown in FIG. 3 on an original plate, and this original plate is used to press a pattern. We are trying to mass produce hologram stickers by the method.

【0032】<<<§2. 複数の画素パターンを用い
る実施例>>>上述した基本的実施例では、図2に示す
ような画素パターンのみを用いてホログラム記録媒体を
作成したが、ここでは、複数種類の画素パターンを用い
る方法を説明する。図2に示すように、この画素パター
ンは、格子線Lの線幅d、ピッチp、配置角度θという
3つのパラメータによって特定されるパターンである。
この3つのパラメータのうちの少なくとも1つを変える
ことにより、異なったパターンが得られることになる。
より具体的には、線幅dおよびピッチpを変えると、そ
のパターンから観察される色が変化することになり、配
置角度θを変えると、そのパターンが観察できる向きが
変化することになる。したがって、パラメータを変えた
複数種類の画素パターンを用意しておき、これらを使い
分けることにより、変化に富んだ効果的なホログラム像
を形成させることができる。
<<<< §2. Embodiment using a plurality of pixel patterns >> In the above-described basic embodiment, the hologram recording medium was created using only the pixel patterns shown in FIG. 2, but here, a method using a plurality of types of pixel patterns is used. Will be explained. As shown in FIG. 2, this pixel pattern is a pattern specified by three parameters: the line width d of the lattice line L, the pitch p, and the arrangement angle θ.
Different patterns will be obtained by changing at least one of these three parameters.
More specifically, when the line width d and the pitch p are changed, the color observed from the pattern changes, and when the arrangement angle θ is changed, the observable direction of the pattern changes. Therefore, by preparing a plurality of types of pixel patterns with different parameters and using these differently, it is possible to form an effective holographic image rich in variations.

【0033】具体的な例を示すと次のようになる。たと
えば、図5に示すような5種類の画素パターンP1〜P
5を用意する。これらの画素パターンは、3つのパラメ
ータのうち、線幅dおよびピッチpは同じであるが、角
度θがそれぞれ異なっている。すなわち、図示したよう
に、角度θ=30°,60°,90°,120°,15
0°の5とおりが用意されている(実際の格子線は所定
の幅をもったものであるが、図示の便宜上、以下の図で
は格子線を単なる線で示すことにする)。
A concrete example is as follows. For example, five types of pixel patterns P1 to P as shown in FIG.
Prepare 5. Among these three parameters, these pixel patterns have the same line width d and pitch p, but different angles θ. That is, as shown in the figure, the angles θ = 30 °, 60 °, 90 °, 120 °, 15
Five types of 0 ° are prepared (the actual grid line has a predetermined width, but for convenience of illustration, the grid line is shown as a simple line in the following figures).

【0034】このように複数の画素パターンを用いる場
合、どの画素位置にどの画素パターンを配置するかを決
める必要がある。そこで、図6(a) に示すような対応関
係情報を用意する。この対応関係情報は、図1(b) に示
すモチーフ画素情報において画素値が「1」となってい
る各画素について、図5に示す5種類の画素パターンP
1〜P5のいずれか1つを対応させたことを示す情報で
ある。画素値が「0」となっている画素については、い
ずれの画素パターンも対応させていない(あるいは、格
子線が全く形成されていない空の画素パターンP0なる
ものを定義し、画素値が「0」となっている画素につい
ては、この空の画素パターンP0を対応させてもよ
い)。この対応関係情報は、いわば、「5種類のタイル
のうちのどれをどの位置に貼り込むか」ということを指
示する情報ということになる。したがって、このような
対応関係情報を作成しておけば、コンピュータによる機
械的な貼り込み作業が可能になる。なお、図6(a) の例
では、対応関係情報として画素パターンの名称P1〜P
5を特定する情報を用いているが、図6(b) の例のよう
に、格子線の角度θの値(すなわち、パラメータの値)
を特定する情報を用いるようにしてもかまわない。
When using a plurality of pixel patterns in this way, it is necessary to determine which pixel pattern is to be arranged at which pixel position. Therefore, the correspondence information as shown in FIG. 6 (a) is prepared. This correspondence information includes five types of pixel patterns P shown in FIG. 5 for each pixel whose pixel value is “1” in the motif pixel information shown in FIG. 1 (b).
It is information indicating that any one of 1 to P5 is associated. Regarding a pixel having a pixel value of “0”, no pixel pattern is associated (or an empty pixel pattern P0 in which no grid line is formed is defined, and the pixel value is “0”). The pixels having “” may correspond to this empty pixel pattern P0). This correspondence information is, so to speak, information that indicates "which of the five types of tiles is to be attached to which position". Therefore, if such correspondence information is created, mechanical pasting work by a computer becomes possible. In the example of FIG. 6A, the pixel pattern names P1 to P are used as the correspondence information.
Although the information for specifying 5 is used, as in the example of FIG. 6 (b), the value of the angle θ of the grid line (that is, the value of the parameter)
You may use the information which specifies.

【0035】こうして5種類の画素パターンを用いて形
成されるホログラム像は、より変化に富んだものとな
る。この例のように、角度θというパラメータを変えた
複数の画素パターンを用いた場合、図1(a) に示すモチ
ーフにおける左右の各部において光が観察される角度が
異なるため、実際の記録媒体を手に取って傾けながら観
察すると、左右に光が流れるような効果が得られる。線
幅dあるいはピッチpというパラメータを変えた複数の
画素パターンを用いれば、左右において観察される色が
異なるような効果が得られることになる。もちろん、2
つ以上のパラメータを変えた種々の画素パターンを用意
することも可能である。
Thus, the hologram image formed by using the five types of pixel patterns becomes more varied. When a plurality of pixel patterns with different parameters of angle θ are used as in this example, the angles at which light is observed in the left and right parts of the motif shown in FIG. If you hold it in your hand and observe it while tilting it, you can get the effect that light flows left and right. By using a plurality of pixel patterns having different parameters such as the line width d or the pitch p, it is possible to obtain the effect that the colors observed on the left and right are different. Of course 2
It is also possible to prepare various pixel patterns in which one or more parameters are changed.

【0036】ところで、図6に示すような対応関係情報
を用意するには、コンピュータに対して何らかの指示を
与える必要がある。最も基本的な指示の与え方は、ディ
スプレイ上に図1(a) に示すようなモチーフを表示さ
せ、このモチーフを構成する1つ1つの画素それぞれに
ついて、P1〜P5(あるいは30°〜150°)のい
ずれかを指定する方法である。このような方法で対応関
係情報を作成すれば、全く任意の対応関係を定義するこ
とが可能である。しかしながら、画素1つ1つについ
て、対応する画素パターンを1つ1つ指示してゆく作業
は、かなり労力と時間を有する作業になる。そこで、こ
の実施例では、簡単な操作で対応関係情報を作成するこ
とができる機能をコンピュータのプログラムに用意して
ある。ここで、図6(b) に示す対応関係情報を見ると、
ある規則性が発見できる。すなわち、2列目の画素はθ
=30°6列目の画素はθ=150°、の画素パターン
が対応づけられており、2列目から6列目に向かうにし
たがって、θの値は30°ずつ増えている。このように
パラメータの値を徐々に変化させてゆく手法は、一般に
「グラデーション」と呼ばれている手法であり、この例
では、水平方向にグラデーションがかかっていることに
なる。
By the way, in order to prepare the correspondence information as shown in FIG. 6, it is necessary to give some instructions to the computer. The most basic way to give instructions is to display a motif as shown in Fig. 1 (a) on the display, and select P1 to P5 (or 30 ° to 150 °) for each pixel that constitutes this motif. ) Is one of the methods to specify. By creating the correspondence information by such a method, it is possible to define a completely arbitrary correspondence. However, the task of instructing the corresponding pixel pattern one by one for each pixel is a task that requires considerable effort and time. Therefore, in this embodiment, a computer program has a function capable of creating correspondence information by a simple operation. Looking at the correspondence information shown in FIG. 6 (b),
A certain regularity can be discovered. That is, the pixel in the second column is θ
A pixel pattern of θ = 150 ° is associated with the pixel in the sixth column of = 30 °, and the value of θ increases by 30 ° from the second column to the sixth column. Such a method of gradually changing the parameter value is generally called a “gradation”, and in this example, gradation is applied in the horizontal direction.

【0037】このようなグラデーションをかけるための
対応関係情報の作成は、次のような簡単な作業で行うこ
とができる。すなわち、図7に示すように、テーマとな
っているモチーフをディスプレイ画面上に表示させた上
で、グラデーションをかけるための対応関係情報を作成
する旨の指示を与えればよい。具体的には、水平方向へ
のグラデーションをかける旨の指示を与えるとともに、
2列目の画素位置をマウスなどで指定して初期値θ=3
0°を入力し、6列目の画素位置をマウスなどで指定し
て終期値θ=150°を入力すればよい。このような情
報が与えられれば、3〜5列目の画素については線形補
間を行うことにより、θの値を自動的に設定することが
できる。したがって、オペレータは画素1つ1つについ
て、対応する画素パターンを指定する必要はない。もち
ろん、垂直方向にグラデーションをかけるような設定も
同様に行うことができる。また、ここでは角度θに関す
るグラデーションをかけているが、格子線の線幅dやピ
ッチpに関するグラデーションも同様に設定することが
可能である。
The correspondence information for applying such gradation can be created by the following simple operation. That is, as shown in FIG. 7, after displaying the theme motif on the display screen, an instruction to create correspondence information for applying a gradation may be given. Specifically, while giving an instruction to apply horizontal gradation,
Initial value θ = 3 by specifying the pixel position of the second row with a mouse
The final value θ = 150 ° may be input by inputting 0 °, specifying the pixel position of the sixth column with a mouse or the like. If such information is given, the value of θ can be automatically set by performing linear interpolation for the pixels in the third to fifth columns. Therefore, the operator does not need to specify the corresponding pixel pattern for each pixel. Of course, it is possible to make the setting in which the gradation is applied in the vertical direction as well. Further, although the gradation regarding the angle θ is applied here, the gradation regarding the line width d and the pitch p of the lattice lines can be set in the same manner.

【0038】なお、図示する例は、7×7の比較的小規
模な画素配列のものであるが、実際には、より大規模な
画素配列のモチーフが用いられる。したがって、初期値
と終期値だけを指定したのでは、画素パターンのバリエ
ーションが膨大な数になってしまう場合がある。たとえ
ば、初期値を指定した画素から終期値を指定した画素に
至るまでに、121画素が存在したとすると、上述のよ
うな設定では、θの値が、右の画素から左の画素へ向か
って30°,31°,32°,…,149°,150°
と増加してゆき、121通りもの画素パターンが必要に
なる。このような場合には、初期値と終期値の他に、ス
テップ値を指定すればよい。たとえば、ステップ値とし
て30°を指定すれば、θの値のバリエーションは、3
0°,60°,90°,120°,150°の5種類に
限定されるため、図5に示すような5通りの画素パター
ンを用意すれば十分である。
The example shown is for a relatively small 7 × 7 pixel array, but in reality, a motif for a larger pixel array is used. Therefore, if only the initial value and the final value are specified, the number of pixel pattern variations may become enormous. For example, if 121 pixels exist from the pixel for which the initial value is specified to the pixel for which the final value is specified, in the above setting, the value of θ changes from the right pixel to the left pixel. 30 °, 31 °, 32 °, ..., 149 °, 150 °
As the number of pixel patterns increases, 121 pixel patterns are required. In such a case, the step value may be designated in addition to the initial value and the final value. For example, if 30 ° is specified as the step value, the variation of the value of θ is 3
Since it is limited to five kinds of 0 °, 60 °, 90 °, 120 °, and 150 °, it is sufficient to prepare five kinds of pixel patterns as shown in FIG.

【0039】また、図1(b) に示したモチーフ画素情報
は、各画素値が「0」または「1」のいずれかをとる二
値画像情報であるが、階調をもった画像をモチーフとし
て用いる場合には、各画素値に基づいて対応させる画素
パターンを決定することも可能である。たとえば、図1
(b) に示すモチーフ画素情報の代わりに、図8に示すよ
うなモチーフ画素情報が与えられた場合を考える。ここ
では、各画素値は0〜255までのいずれかの値をと
る。ここで、このような画素値をもった各画素を、図5
に示す5種類の画素パターンP1〜P5に対応づけるの
に、次のような規則を定義したとする。
The motif pixel information shown in FIG. 1 (b) is binary image information in which each pixel value is either "0" or "1", but an image having gradation is used as a motif. When used as, it is also possible to determine the corresponding pixel pattern based on each pixel value. For example, in Figure 1.
Consider a case where motif pixel information as shown in FIG. 8 is given instead of the motif pixel information shown in (b). Here, each pixel value takes any value from 0 to 255. Here, each pixel having such a pixel value is shown in FIG.
It is assumed that the following rule is defined to associate with the five types of pixel patterns P1 to P5 shown in FIG.

【0040】 画素値50以下の画素: 対応づけなし 画素値51〜100の画素: P1を対応づける 画素値101〜150の画素: P2を対応づける 画素値151〜200の画素: P3を対応づける 画素値201〜250の画素: P4を対応づける 画素値251以上の画素: P5を対応づける このような規則を定義しておけば、図8に示すようなモ
チーフ画素情報に基づいて、図6に示すような対応関係
情報を自動的に設定することが可能になる。
Pixels having a pixel value of 50 or less: Pixels having unassociated pixel values 51 to 100: Pixels having pixel values 101 to 150 associated with P1: Pixels having pixel values 151 to 200 associated with P2: Pixels associated with P3 Pixels having values 201 to 250: P4 having pixel values 251 or more: pixels having pixel values 251 or more: P5 having such a rule defined are shown in FIG. 6 based on motif pixel information as shown in FIG. It becomes possible to automatically set such correspondence information.

【0041】<<<§3. 複数のモチーフを表現する
実施例>>>続いて、同一平面上に複数のモチーフを重
複させて表現する実施例について説明する。たとえば、
図9(a) に示すモチーフAと、同図(b) に示すモチーフ
Bとが与えられ、これら2つのモチーフを同一平面上に
重複して表現することを考える。この場合、図10に示
すような2つの画素パターンP1,P2を用意する。こ
こで、画素パターンP1,P2は、格子線の線幅dやピ
ッチpは同じであるが、角度θがP1では45°である
のに対し、P2では90°になっている。そして、モチ
ーフAに所属する画素については、画素パターンP1を
対応させ、モチーフBに所属する画素については、画素
パターンP2を対応させるように、対応関係情報を作成
するのである。具体的には、モチーフAにおいて画素値
「1」をもった画素位置に画素パターンP1を対応づけ
た対応関係情報R1を図11(a)に示すように作成する
とともに、モチーフBにおいて画素値「1」をもった画
素位置に画素パターンP2を対応づけた対応関係情報R
2を図11(b) に示すように作成する。そして、これら
2つの対応関係情報R1,R2に基づいて、画素パター
ンP1,P2の貼り込み処理を行えば、図12に示すよ
うな回折格子パターンをもったホログラム記録媒体が作
成される。ここで、モチーフAはθ=45°の回折格子
で表現され、モチーフBはθ=90°の回折格子で表現
されているため、両モチーフは観察できる角度が異な
り、別々のモチーフとして区別して観察される。このよ
うな方法によれば、複数のモチーフ(3つ以上も可能で
ある)を同一平面上に重複させて表現することができ
る。
<<<< §3. Example in which a plurality of motifs are represented >>>> Next, an example in which a plurality of motifs are overlapped and expressed on the same plane will be described. For example,
Given a motif A shown in FIG. 9 (a) and a motif B shown in FIG. 9 (b), consider expressing these two motifs on the same plane in an overlapping manner. In this case, two pixel patterns P1 and P2 as shown in FIG. 10 are prepared. Here, the pixel patterns P1 and P2 have the same line width d and pitch p of the lattice lines, but the angle θ is 45 ° for P1 and 90 ° for P2. Then, the correspondence information is created such that the pixel belonging to the motif A is associated with the pixel pattern P1 and the pixel belonging to the motif B is associated with the pixel pattern P2. Specifically, the correspondence information R1 in which the pixel pattern P1 is associated with the pixel position having the pixel value “1” in the motif A is created as shown in FIG. Correspondence relationship information R in which the pixel pattern P2 is associated with the pixel position having "1"
2 is created as shown in FIG. 11 (b). Then, if the pixel patterns P1 and P2 are pasted on the basis of these two pieces of correspondence information R1 and R2, a hologram recording medium having a diffraction grating pattern as shown in FIG. 12 is created. Here, since the motif A is expressed by a diffraction grating of θ = 45 ° and the motif B is expressed by a diffraction grating of θ = 90 °, the observable angles of both motifs are different, and they are distinguished and observed as separate motifs. To be done. According to such a method, a plurality of motifs (three or more are possible) can be overlapped and expressed on the same plane.

【0042】また、同一のモチーフについて、複数の画
素パターンを用いることも可能である。この場合、他の
モチーフとの区別を可能ならしめるために、互いに近似
したパラメータをもつ複数の画素パターンを1グループ
として定義するとよい。たとえば、図13に示す6種類
の画素パターンは、第1のグループに属する3つの画素
パターンP11,P12,P13と、第2のグループに
属する3つの画素パターンP21,P22,P23と、
によって構成されている。これらの画素パターンは、い
ずれも線幅dおよびピッチpは同じであるが、角度θが
それぞれで異なっている。ただし、第1のグループに属
する画素パターンの角度θは、40°,45°,50°
と互いに近似しており、第2のグループに属する画素パ
ターンの角度θも、85°,90°,95°と互いに近
似している。このような6種類の画素パターンを用意
し、たとえば、モチーフAに所属する画素については、
第1のグループに属する画素パターンを対応させ、モチ
ーフBに所属する画素については、第2のグループに属
する画素パターンを対応させるようにする。具体的に
は、図9(a) に示すモチーフAについては、図14(a)
に示すような対応関係情報R1を作成し、図9(b) に示
すモチーフBについては、図14(b) に示すような対応
関係情報R2を作成すればよい。このような対応関係情
報を用いて作成されたホログラム記録媒体上のパターン
は、図12に示すものとほぼ同じになるが、同じモチー
フ内でも格子角度値が若干分散しているため、より効果
的な表現が可能になる。なお、モチーフAについてはθ
=45°を中心として5°ずつ分散しているのに対し、
モチーフBについてはθ=90°を中心として5°ずつ
分散しているため、モチーフAとBとを区別して把握す
るためのパターン認識は十分に可能である。
It is also possible to use a plurality of pixel patterns for the same motif. In this case, in order to distinguish it from other motifs, it is preferable to define a plurality of pixel patterns having similar parameters as one group. For example, the six types of pixel patterns shown in FIG. 13 include three pixel patterns P11, P12, P13 belonging to the first group and three pixel patterns P21, P22, P23 belonging to the second group.
It is composed by. These pixel patterns have the same line width d and pitch p, but have different angles θ. However, the angle θ of the pixel patterns belonging to the first group is 40 °, 45 °, 50 °.
And the angles θ of the pixel patterns belonging to the second group are also close to 85 °, 90 °, and 95 °. Six kinds of pixel patterns like this are prepared. For example, for pixels belonging to the motif A,
Pixel patterns belonging to the first group are associated with each other, and pixels belonging to the motif B are associated with pixel patterns belonging to the second group. Specifically, for motif A shown in FIG. 9 (a), FIG.
The correspondence information R1 as shown in FIG. 9 is created, and the correspondence information R2 as shown in FIG. 14 (b) is created for the motif B shown in FIG. 9 (b). The pattern on the hologram recording medium created using such correspondence information is almost the same as that shown in FIG. 12, but it is more effective because the lattice angle values are slightly dispersed within the same motif. Can be expressed. For motif A, θ
= 45 ° as the center and 5 ° at a time,
Since the motif B is dispersed by 5 ° around θ = 90 °, pattern recognition for distinguishing and understanding the motifs A and B is sufficiently possible.

【0043】<<<§4. 画素が重複する複数のモチ
ーフを表現する実施例>>>前述の例において、図9に
示す2つのモチーフA,Bは、画素値「1」をもった画
素が重複することはないため、図12に示すように、両
モチーフの画素を混合した表現が可能になる。ところ
が、画素値「1」をもった画素が重複する複数のモチー
フについては、前述の例のような手法をそのまま適用す
ることはできない。たとえば、図15(a) ,(b) に示す
ような2つのモチーフA,Bに対して、前述の手法をそ
のまま適用して作業を進めてみる。ここでは、モチーフ
Aについては図10に示すパターンP1を対応させ、モ
チーフBについては図10に示すパターンP2を対応さ
せるものとしよう。すると、モチーフAについては図1
6(a) に示すような対応関係情報R1が作成され、モチ
ーフBについては図16(b) に示すような対応関係情報
R2が作成される。ところが、この2つの対応関係情報
R1,R2に基づいて、実際に画素パターンを貼り込む
作業を行おうとすると、図16に実線で囲った画素につ
いて画素パターンの衝突が生じる。たとえば、2行3列
目の画素について見ると、対応関係情報R1によれば画
素パターンP1を貼り込む旨が示されているのに対し、
対応関係情報R2によれば画素パターンP2を貼り込む
旨が示されている。このため、実際にはどちらの画素パ
ターンを貼り込めばよいか判断できなくなる。
<<<< §4. Example in which a plurality of motifs in which pixels overlap is expressed >>>> In the above-described example, the two motifs A and B shown in FIG. As shown in FIG. 12, a mixed expression of pixels of both motifs is possible. However, for a plurality of motifs in which pixels having a pixel value of "1" overlap, the method as in the above example cannot be applied as it is. For example, for the two motifs A and B as shown in FIGS. 15 (a) and 15 (b), the above-mentioned method is applied as it is to proceed with the work. Here, it is assumed that the motif A corresponds to the pattern P1 shown in FIG. 10 and the motif B corresponds to the pattern P2 shown in FIG. Then, for motif A,
Correspondence information R1 shown in FIG. 6 (a) is created, and correspondence information R2 shown in FIG. 16 (b) is created for motif B. However, if an attempt is made to actually paste the pixel pattern based on the two pieces of correspondence information R1 and R2, the pixel patterns collide with the pixels surrounded by the solid line in FIG. For example, regarding the pixel in the second row and the third column, while the correspondence information R1 indicates that the pixel pattern P1 is to be pasted,
The correspondence information R2 indicates that the pixel pattern P2 is to be pasted. Therefore, it becomes impossible to actually determine which pixel pattern should be attached.

【0044】このような問題を解決するため、本発明で
は、次のような副画素という概念を導入する。いま、図
17に示すように、M行N列(この例では7行7列)の
画素配列によって所定のモチーフが表現されている場合
を考える。この場合、図の右方に示すように、m行n列
(この例では2行2列)に配列された副画素から構成さ
れる「単位副画素配列」というものを定義する。この例
では、この「単位副画素配列」は1つの画素に対応する
大きさを有している。より具体的に説明すれば、図17
に示す例では、1つの画素を4分割したものが副画素と
なっており、4つの副画素によって1つの「単位副画素
配列」が構成されている。続いて、この「単位副画素配
列」内の各副画素位置にどのモチーフの画素を配置する
かを定めた副画素構成情報を作成する。たとえば、モチ
ーフAとモチーフBとを重複表示する場合、各副画素位
置には、モチーフAの画素かモチーフBの画素かのいず
れかが配置されることになる。そこで、図18に示すよ
うな副画素構成情報を作成して、各副画素位置にどのモ
チーフの画素を配置するかを定義するのである。図18
の例では、左上および右下の副画素位置にモチーフAの
画素を、左下および右上の副画素位置にモチーフBの画
素を、それぞれ配置することが定義されている。これ
は、どのような定義を行ってもよいが、両モチーフを対
等に表示する上では、このように対角位置に同じモチー
フの画素を配置するのが好ましい。
In order to solve such a problem, the present invention introduces the following concept of subpixel. Now, consider a case where a predetermined motif is expressed by a pixel array of M rows and N columns (7 rows and 7 columns in this example) as shown in FIG. In this case, as shown on the right side of the drawing, what is defined as a "unit sub-pixel array" that is composed of sub-pixels arranged in m rows and n columns (2 rows and 2 columns in this example). In this example, this "unit subpixel array" has a size corresponding to one pixel. More specifically, referring to FIG.
In the example shown in (1), one pixel is divided into four to form a sub-pixel, and the four sub-pixels form one "unit sub-pixel array". Subsequently, sub-pixel configuration information that defines which motif pixel is to be arranged at each sub-pixel position in this "unit sub-pixel array" is created. For example, when the motif A and the motif B are displayed in an overlapping manner, either the pixel of the motif A or the pixel of the motif B is arranged at each sub-pixel position. Therefore, sub-pixel configuration information as shown in FIG. 18 is created to define which motif pixel is to be arranged at each sub-pixel position. FIG.
In the above example, it is defined that the pixels of the motif A are arranged at the upper left and lower right subpixel positions, and the pixels of the motif B are arranged at the lower left and upper right subpixel positions, respectively. Although any definition may be made, it is preferable to arrange pixels of the same motif in diagonal positions in this way in order to display both motifs equally.

【0045】次に、図17に示すように定義した「単位
副画素配列」自身を、図19(a) に示すように、M行N
列に配列する。前述のように、この例では、「単位副画
素配列」は1つの画素に対応する大きさを有しているの
で、この図19(a) に示す「単位副画素配列」の配列
は、図17の左方に示す画素の配列と同じものになる。
なお、この図19(a) に示す「単位副画素配列」の配列
を、「副画素」の配列としてみた場合は、図19(b) 示
すような(m×M)行(n×N)列(この例では14行
14列)の配列となる。
Next, as shown in FIG. 19A, the "unit subpixel array" itself defined as shown in FIG.
Arrange in columns. As described above, in this example, since the “unit subpixel array” has a size corresponding to one pixel, the array of the “unit subpixel array” shown in FIG. It becomes the same as the array of pixels shown on the left side of 17.
When the array of "unit subpixel array" shown in FIG. 19A is viewed as an array of "subpixel", (m × M) rows (n × N) as shown in FIG. 19B. It becomes an array of columns (14 rows and 14 columns in this example).

【0046】ところで、図16(a) ,(b) に示したよう
に、2つのモチーフA,Bについては、それぞれ対応関
係情報R1,R2が得られるので、この情報を用いれ
ば、各「単位副画素配列」について、所定の画素パター
ンを抽出することができる。図20は、このようにして
抽出された画素パターンを示すものである。49組の
「単位副画素配列」のうちのいくつかには画素パターン
P1あるいはP2が抽出され、別ないくつかにはその両
方が抽出されている。続いて、この抽出された画素パタ
ーンを、図18で定義した副画素構成情報に基づいて、
所定の副画素位置に配置するのである。すなわち、モチ
ーフAについての画素パターンP1は、図21(a) に示
すように、「単位副画素配列(図21では実線で示して
ある)」内の左上および右下の副画素位置に配置する。
また、モチーフBについての画素パターンP2は、図2
1(b) に示すように、「単位副画素配列」内の左下およ
び右上の副画素位置に配置する。このような配置を同一
平面上に重複して行うようにすれば、図22に示すよう
なパターンが得られ、これが実際のホログラム記録媒体
に記録されるパターンとなる。
By the way, as shown in FIGS. 16 (a) and 16 (b), the correspondence information R1 and R2 can be obtained for the two motifs A and B, respectively. A predetermined pixel pattern can be extracted from the “sub-pixel array”. FIG. 20 shows a pixel pattern extracted in this way. Pixel patterns P1 or P2 are extracted in some of the 49 sets of "unit subpixel arrays", and both are extracted in some of them. Then, based on the sub-pixel configuration information defined in FIG. 18, the extracted pixel pattern is
It is arranged at a predetermined sub-pixel position. That is, the pixel pattern P1 for the motif A is arranged at the upper left and lower right subpixel positions in the “unit subpixel array (shown by the solid line in FIG. 21)” as shown in FIG. .
The pixel pattern P2 for the motif B is shown in FIG.
As shown in 1 (b), they are arranged at the lower left and upper right subpixel positions in the "unit subpixel array". If such an arrangement is duplicated on the same plane, a pattern as shown in FIG. 22 is obtained, and this becomes a pattern actually recorded on the hologram recording medium.

【0047】この図22に示すパターン内には、モチー
フAとモチーフBとが重複して表現されていることにな
る。しかも、モチーフAを表現する副画素と、モチーフ
Bを表現する副画素とでは、格子線の形成角度が異なる
ため、ある1つの方向から観察するとモチーフAが認識
でき(図21(a) のようなパターンが認識できる)、別
な方向から観察するとモチーフBが認識できる(図21
(b) のようなパターンが認識できる)ようになってい
る。このような手法を用いれば、画素が重複する複数の
モチーフについても、同一平面上に重複して表現するこ
とが可能になる。なお、図15に示した2つのモチーフ
A,Bは、いずれも解像度の低い画像であるため、図2
1(a) ,(b) に示すパターンは、もとのモチーフに比べ
てかなり歪んだものとなっているが、実際には、より解
像度の高い画像をモチーフとして用いるため、観察され
る画像の歪みはほとんど問題にはならない。
In the pattern shown in FIG. 22, the motif A and the motif B are redundantly expressed. Moreover, since the sub-pixel expressing the motif A and the sub-pixel expressing the motif B have different grid line formation angles, the motif A can be recognized when observed from one direction (see FIG. 21 (a)). Pattern can be recognized), and motif B can be recognized when observed from another direction (Fig. 21).
(A pattern like (b) can be recognized). By using such a method, it is possible to represent a plurality of motifs with overlapping pixels on the same plane in an overlapping manner. Since the two motifs A and B shown in FIG. 15 are both low-resolution images,
The patterns shown in 1 (a) and (b) are considerably distorted compared to the original motif, but in reality, since the image with higher resolution is used as the motif, Distortion is hardly a problem.

【0048】なお、この手法では、3つ以上のモチーフ
についての重複表現も可能である。たとえば、図23
(a) に示すような副画素構成情報を定義すれば、4つの
モチーフA,B,C,Dを同一平面上に重複表現するこ
とができる。また、図23(b)に示すような副画素構成
情報を定義すれば、3つのモチーフA,B,Cを同一平
面上に重複表現することができる。ただし、この場合、
3つのモチーフA,B,Cは対等ではなく、モチーフC
の濃度がモチーフA,Bの濃度の2倍になる。変則的な
例としては、図23(c) に示すような副画素構成情報を
定義することも可能である。ここで、「A+C」なる表
示は、AまたはCのいずれか一方の画素がここに表示さ
れるという意味であり、モチーフAとモチーフCとが相
補的なパターン(たとえば、図9に示すようなモチーフ
A,Bのように、画素値「1」をもった画素位置が重な
ることがないようなパターン)である場合を前提とした
定義の仕方である。なお、3つのモチーフA,B,Cを
対等に重複表現する場合には、図24(a) または(b) に
示すような副画素構成情報を定義するとよい。この場
合、「単位副画素配列」は3行3列の配列になる。
In this method, it is possible to represent three or more motifs in an overlapping manner. For example, in FIG.
By defining the sub-pixel configuration information as shown in (a), the four motifs A, B, C and D can be expressed in duplicate on the same plane. Further, if the sub-pixel configuration information as shown in FIG. 23 (b) is defined, the three motifs A, B, and C can be expressed in duplicate on the same plane. However, in this case,
The three motifs A, B and C are not equal, but motif C
Is twice as high as that of motifs A and B. As an irregular example, it is also possible to define sub-pixel configuration information as shown in FIG. 23 (c). Here, the display “A + C” means that either one of the pixels A or C is displayed here, and the motif A and the motif C are complementary patterns (for example, as shown in FIG. 9). The definition method is based on the premise that patterns such as motifs A and B are such that pixel positions having a pixel value “1” do not overlap). When the three motifs A, B, and C are equally expressed in duplicate, the sub-pixel configuration information as shown in FIG. 24 (a) or (b) may be defined. In this case, the “unit subpixel array” is an array of 3 rows and 3 columns.

【0049】ここで、まとめの意味で、上述した手法を
用いた場合における個々の画素と個々の副画素との一般
的な対応関係を述べておく。いま、図25に示すよう
に、モチーフAがM行N列の画素配列で表現されてお
り、個々の画素には、A11,A12,…と名前が付さ
れており、同様に、図26に示すように、モチーフBが
M行N列の画素配列で表現されており、個々の画素に
は、B11,B12,…と名前が付されている場合を考
える。この場合、図27に示すように、M行N列の「単
位副画素配列」が定義でき、これは(m×M)行(n×
N)列の副画素配列ともいうことができる。このとき、
図25および図26に示す個々の画素と、図27に示す
個々の副画素との対応関係は、図示したようになる(個
々の画素に付された名前を参照)。ここで、1つの「単
位副画素配列」についての左上副画素と右下副画素には
全く同じ画素が対応し、左下副画素と右上副画素にも全
く同じ画素が対応することになる(たとえば、図27に
おける1行1列目の「単位副画素配列」に着目すると、
左上副画素と右下副画素には全く同じ画素A11が対応
し、左下副画素と右上副画素にも全く同じ画素B11が
対応している)。
Here, for the purpose of summary, a general correspondence relationship between each pixel and each sub-pixel when the above-described method is used will be described. Now, as shown in FIG. 25, the motif A is expressed by a pixel array of M rows and N columns, and individual pixels are named A11, A12, ... As shown, consider a case where the motif B is represented by a pixel array of M rows and N columns, and individual pixels are named B11, B12, .... In this case, as shown in FIG. 27, a “unit sub-pixel array” of M rows and N columns can be defined, which is (m × M) rows (n ×
It can also be referred to as a subpixel array of N) columns. At this time,
The correspondence between the individual pixels shown in FIGS. 25 and 26 and the individual sub-pixels shown in FIG. 27 is as shown in the figure (see the names given to the individual pixels). Here, the upper left subpixel and the lower right subpixel in one "unit subpixel array" correspond to exactly the same pixel, and the lower left subpixel and the upper right subpixel also correspond to exactly the same pixel (for example, , Paying attention to the "unit sub-pixel array" in the first row and first column in FIG.
The same pixel A11 corresponds to the upper left subpixel and the lower right subpixel, and the same pixel B11 corresponds to the lower left subpixel and the upper right subpixel).

【0050】これに対して、次に述べる変形例は、各副
画素のそれぞれに全く異なる画素を配置する方法を示す
ものである。この変形例では、図27に示す「単位副画
素配列」の代わりに、図28に示す「単位副画素配列」
が用いられる。いずれも実線で示した領域が「単位副画
素配列」であるが、両者では大きさが異なる。すなわ
ち、図27の例では、モチーフの1画素と同じ大きさを
もった「単位副画素配列」が定義されているため、副画
素はモチーフの1画素の1/4の大きさになるのに対
し、図28の例では、モチーフの4画素分の大きさをも
った「単位副画素配列」が定義されているため、副画素
はモチーフの1画素と同じ大きさになる。結局、図28
の例では、モチーフ全体を示すためには、「単位副画素
配列」自身を(M/m)行(N/n)列に配置した「単
位副画素配列」の配列を定義することになる。この配列
は、副画素の配列としてみれば、M行N列の配列にな
る。
On the other hand, the modified example described below shows a method of arranging completely different pixels in each of the sub-pixels. In this modification, instead of the "unit subpixel array" shown in FIG. 27, the "unit subpixel array" shown in FIG.
Is used. In each case, the area shown by the solid line is the "unit sub-pixel array", but the sizes are different in both areas. That is, in the example of FIG. 27, since the “unit subpixel array” having the same size as one pixel of the motif is defined, the subpixel has a size of ¼ of one pixel of the motif. On the other hand, in the example of FIG. 28, since the “unit subpixel array” having the size of four pixels of the motif is defined, the subpixel has the same size as one pixel of the motif. After all, FIG.
In the above example, in order to show the entire motif, an array of “unit subpixel array” in which the “unit subpixel array” itself is arranged in (M / m) rows (N / n) columns is defined. When viewed as an array of sub-pixels, this array is an array of M rows and N columns.

【0051】ここで、図28における1行1列目の「単
位副画素配列Z(周囲をハッチングして示してある)」
内には、どのような画素パターンの貼り込み処理が行わ
れるかを考えてみる。モチーフAに関しては、図25を
参照すればわかるように、画素A11,A12,A2
1,A22に対応した画素パターンが貼り込み候補とし
て抽出される。一方、モチーフBに関しては、図26を
参照すればわかるように、画素B11,B12,B2
1,B22に対応した画素パターンが貼り込み候補とし
て抽出される。そこで、図28の下方に示した副画素構
成情報に基づいて、抽出された画素パターンのうちの一
部のみを選択して、これを所定の副画素位置に配置する
のである。具体的には、モチーフAに関しては、抽出さ
れた画素A11,A12,A21,A22のうちの左上
および右下位置にある画素A11,A22だけが選択さ
れ、モチーフBに関しては、抽出された画素B11,B
12,B21,B22のうちの左下および右上位置にあ
る画素B12,B21だけが選択されることになる。こ
うして、図28の「単位副画素配列Z」に示されている
ように、この中には、画素A11,B12,B21,A
22の4つについての画素パターンが貼り込まれること
になる。ここで、図28に示す「単位副画素配列」の配
列全体を観察すればわかるように、もとのモチーフAお
よびモチーフBを構成する画素のうちの2つに1つは間
引かれている。実際に用いるモチーフはかなり解像度の
高い画像であるため、このような間引きを行っても特に
問題はない。
Here, the "unit sub-pixel array Z (the periphery is shown by hatching)" in the first row and first column in FIG.
Let us consider what kind of pixel pattern is to be embedded. Regarding the motif A, as can be seen by referring to FIG. 25, pixels A11, A12, A2
A pixel pattern corresponding to 1, A22 is extracted as a paste candidate. On the other hand, regarding the motif B, as can be seen by referring to FIG. 26, the pixels B11, B12, B2
A pixel pattern corresponding to 1, B22 is extracted as a paste candidate. Therefore, based on the sub-pixel configuration information shown in the lower part of FIG. 28, only a part of the extracted pixel pattern is selected and arranged at a predetermined sub-pixel position. Specifically, for the motif A, only the pixels A11, A22 at the upper left and lower right positions of the extracted pixels A11, A12, A21, A22 are selected, and for the motif B, the extracted pixel B11 is selected. , B
Only the pixels B12 and B21 at the lower left and upper right positions of 12, B21 and B22 are selected. Thus, as shown in the "unit sub-pixel array Z" of FIG. 28, the pixels A11, B12, B21, A
Pixel patterns for four of 22 will be pasted. Here, as can be seen by observing the entire arrangement of the “unit subpixel arrangement” shown in FIG. 28, one of two pixels forming the original motif A and motif B is thinned out. . Since the motif actually used is an image with a fairly high resolution, there is no particular problem even if such thinning is performed.

【0052】図27に示す手法では、画素は間引かれる
ことはないが、副画素の大きさがモチーフの画素の大き
さよりも細かくなってしまうのに対し、図28に示す手
法では、副画素の大きさはモチーフの画素の大きさと同
じであるが、画素は間引かれてしまうことになり、いず
れも一長一短がある。したがって、実際に用いるモチー
フの絵柄や解像度などを考慮して、いずれか適した手法
を採用すればよい。
In the method shown in FIG. 27, the pixels are not thinned out, but the size of the sub-pixel becomes smaller than the size of the pixel of the motif, whereas in the method shown in FIG. The size of is the same as the size of the pixel of the motif, but the pixels are thinned out, and both have advantages and disadvantages. Therefore, any suitable method may be adopted in consideration of the pattern and resolution of the motif actually used.

【0053】なお、画素や副画素の形状として、これま
での実施例では長方形のものを用いているが、図29
(a) に示すような正方形のもの(たとえば、50μm×
50μmの大きさ)や、図29(b) に示すような円形の
ものを用いてもかまわない。ただ、回折格子の形成密度
を高める意味では、円形の画素よりも矩形の画素(長方
形や正方形)を用いる方が好ましい。
The shape of the pixel or sub-pixel is rectangular in the above embodiments, but FIG.
Square shape as shown in (a) (for example, 50 μm ×
A size of 50 μm) or a circular shape as shown in FIG. 29 (b) may be used. However, in terms of increasing the formation density of the diffraction grating, it is preferable to use rectangular pixels (rectangular or square) rather than circular pixels.

【0054】<<<§5. 階調をもったモチーフを表
現する実施例>>>これまでの説明は、基本的に階調を
もたない二値画像としてモチーフが与えられた場合の処
理についてのものであったが、本発明は階調をもったモ
チーフについても適用可能である。階調をもったモチー
フを表現する場合には、たとえば、図30に示すような
複数の画素パターンを用意しておけばよい。ここで、実
線で示す領域は画素としての全占有領域Vであり、破線
で示す領域は、全占有領域Vの中で格子線を配置する対
象となった閉領域Wである。図30に示す5つの画素パ
ターンは、全占有領域Vに対する閉領域Wの面積比が、
それぞれ100%,50%,30%,10%,5%のも
のであり、それぞれ濃度値の異なる画素パターンという
ことができる。もとになったモチーフを構成する各画素
の画素値(濃度値)に応じて、これら濃度値の異なる画
素パターンを使い分けるようにすれば、階調をもったモ
チーフの表現が可能になる。
<<<< §5. Example of expressing a motif having a gradation >> The description so far has been about processing when a motif is given as a binary image having no gradation. The invention can be applied to motifs having gradation. When expressing a motif having gradation, for example, a plurality of pixel patterns as shown in FIG. 30 may be prepared. Here, the area shown by the solid line is the entire occupied area V as a pixel, and the area shown by the broken line is the closed area W in which the grid lines are arranged in the occupied area V. In the five pixel patterns shown in FIG. 30, the area ratio of the closed region W to the entire occupied region V is
The pixel patterns are 100%, 50%, 30%, 10%, and 5%, respectively, and can be referred to as pixel patterns having different density values. If the pixel patterns (density values) of the respective pixels forming the original motif are used properly, it is possible to express the motif with gradation.

【0055】<<<§6. 具体的な装置構成例>>>
最後に、上述したホログラム記録媒体の作成方法を実施
するための具体的な装置構成例を図31に示しておく。
この装置の基本的な構成要素は、ワークステーション1
0、データフォーマット変換装置20、電子ビーム描画
装置30、プレス装置40である。ワークステーション
10は、上述した種々の演算処理を行うためのプログラ
ムを搭載したコンピュータであり、キーボードやマウス
などの入力機器、ディスプレイやプリンタなどの出力機
器、フロッピディスクドライブ装置やハードディスクド
ライブ装置などの外部記憶装置、などを有する。ここで
は、3つのモチーフA,B,Cについてのモチーフ画素
情報ファイルをそれぞれフロッピディスク1,2,3で
ワークステーション10に供給している状態が示されて
いる。このように、モチーフ画素情報(ラスター画像デ
ータ)は、他の作画装置などで作成したものをワークス
テーション10に入力するようにしてもよいし、紙面上
に描かれたデザイン画をスキャナ装置でワークステーシ
ョン10に入力するようにしてもよいし、ワークステー
ション10に搭載した作画ソフトウエアを用いて、ワー
クステーション10自身で作成するようにしてもよい。
<<<< §6. Specific device configuration example >>>
Finally, FIG. 31 shows an example of a specific device configuration for carrying out the method for producing the hologram recording medium described above.
The basic components of this device are the workstation 1
0, a data format conversion device 20, an electron beam drawing device 30, and a pressing device 40. The workstation 10 is a computer equipped with a program for performing the above-described various arithmetic processes, and has input devices such as a keyboard and a mouse, output devices such as a display and a printer, and external devices such as a floppy disk drive device and a hard disk drive device. It has a memory device and the like. Here, a state is shown in which motif pixel information files for three motifs A, B, and C are supplied to the workstation 10 by the floppy disks 1, 2, and 3, respectively. As described above, the motif pixel information (raster image data) may be created by another drawing device or the like and input to the workstation 10. Alternatively, the design image drawn on the paper may be processed by the scanner device. The data may be input to the station 10, or may be created by the workstation 10 itself by using the drawing software installed in the workstation 10.

【0056】続いて、ワークステーション10を用い
て、入力したモチーフ画素情報に基づいた対応関係情報
を作成し、これを対応関係情報ファイル11として保存
する。また、副画素構成情報を定義して、これを副画素
構成情報ファイル12として保存し、更に、必要な画素
パターンを必要な種類だけ作成し、これを画素パターン
ファイル13として保存する。オペレータはワークステ
ーション10に対して対話式に指示を入力することによ
り、これらのファイルを用意することができる。これら
のファイルが用意できたら、ワークステーション10
は、対応関係情報ファイル11および副画素構成情報フ
ァイル12を検索しながら、画素パターンファイル13
内の所定の画素パターンを、所定の画素位置に貼り込む
処理を行い、ホログラムパターンデータを出力する。
Subsequently, the workstation 10 is used to create correspondence information based on the input motif pixel information, and this is stored as a correspondence information file 11. Further, the sub-pixel configuration information is defined, this is stored as the sub-pixel configuration information file 12, further, necessary pixel patterns are created in the required types, and this is stored as the pixel pattern file 13. An operator can prepare these files by interactively entering instructions into the workstation 10. Once you have these files, workstation 10
While searching the correspondence relationship information file 11 and the sub-pixel configuration information file 12, the pixel pattern file 13
A predetermined pixel pattern therein is pasted at a predetermined pixel position, and hologram pattern data is output.

【0057】このホログラムパターンデータは、データ
フォーマット変換装置20に与えられる。このデータフ
ォーマット変換装置20は、ワークステーション10が
出力したホログラムパターンデータを、電子ビーム描画
装置30の要求するフォーマットに変換する機能をもっ
た装置である。フォーマット変換されたデータは、電子
ビーム描画装置30に与えられ、ホログラムパターンが
ホログラム原版4上に物理的なパターンとして出力され
る。プレス装置40は、このホログラム原版4を用い
て、フィルム上にホログラムパターンをプレスする装置
であり、ホログラムシール5が大量生産されることにな
る。
This hologram pattern data is given to the data format conversion device 20. The data format conversion device 20 is a device having a function of converting the hologram pattern data output from the workstation 10 into a format required by the electron beam drawing device 30. The format-converted data is given to the electron beam drawing device 30, and the hologram pattern is output as a physical pattern on the hologram master 4. The pressing device 40 is a device that presses a hologram pattern on a film using the hologram original plate 4, and the hologram seal 5 is mass-produced.

【0058】なお、図2に示す画素パターンにおいて、
各格子線Lは任意の四角形の形状をしたものであるが、
電子ビーム描画装置30として、フォトマスク作成用に
市販されている一般的な装置を用いるのであれば、対向
する辺がX軸またはY軸に平行な平行四辺形の形状をし
た格子線Lを用いるのが好ましい。たとえば、格子線L
の配置角度θが、−45°≦θ≦45°の場合には、図
32に示すように、短辺がY軸に平行な平行四辺形の格
子線Lを用い、格子線Lの配置角度θが、θ>45°ま
たは、θ<−45°の場合には、図33に示すように、
短辺がX軸に平行な平行四辺形の格子線Lを用いるとよ
い。このように、対向する辺がX軸またはY軸に平行な
平行四辺形を用いると、フォトマスク作成用の電子ビー
ム描画装置における描画効率が向上する。
In the pixel pattern shown in FIG. 2,
Each grid line L has an arbitrary square shape,
If a general device commercially available for photomask production is used as the electron beam drawing device 30, a parallelogrammatic lattice line L whose opposite sides are parallel to the X axis or the Y axis is used. Is preferred. For example, the grid line L
When the arrangement angle θ is −45 ° ≦ θ ≦ 45 °, a parallelogrammatic grid line L whose short side is parallel to the Y axis is used and the arrangement angle of the grid line L is as shown in FIG. When θ is θ> 45 ° or θ <−45 °, as shown in FIG.
It is preferable to use parallelogrammatic grid lines L whose short sides are parallel to the X axis. As described above, when the parallelogram whose opposite sides are parallel to the X axis or the Y axis is used, the drawing efficiency in the electron beam drawing apparatus for making a photomask is improved.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上のとおり本発明に係るホログラム記
録媒体およびその作成方法によれば、回折格子が形成さ
れた画素を平面的に配置することにより、ホログラムパ
ターンを記録するようにしたため、鮮明で再現性の良い
ホログラム像が得られるようになる。
As described above, according to the hologram recording medium and the method for producing the same according to the present invention, the hologram pattern is recorded by arranging the pixels on which the diffraction grating is formed in a plane. A hologram image with good reproducibility can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るホログラム記録媒体のモチーフと
して用いられているパターンおよび画素情報の一例を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram showing an example of pattern and pixel information used as a motif of a hologram recording medium according to the present invention.

【図2】本発明に係るホログラム記録媒体に用いられる
画素パターンの一例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a pixel pattern used in the hologram recording medium according to the present invention.

【図3】図1に示すモチーフと図2に示す画素パターン
とを用いて作成されたホログラム記録媒体を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing a hologram recording medium created using the motif shown in FIG. 1 and the pixel pattern shown in FIG.

【図4】図3に示すホログラム記録媒体を作成するため
の貼り込み処理の概念を示す図である。
4 is a diagram showing a concept of a pasting process for producing the hologram recording medium shown in FIG.

【図5】本発明に係るホログラム記録媒体に用いられる
複数の画素パターンの一例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an example of a plurality of pixel patterns used in the hologram recording medium according to the present invention.

【図6】図1に示すモチーフと図5に示す画素パターン
との対応関係を定義する対応関係情報を示す図である。
6 is a diagram showing correspondence relationship information that defines a correspondence relationship between the motif shown in FIG. 1 and the pixel pattern shown in FIG.

【図7】図6に示す対応関係情報を作成する一実施例を
示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing an example of creating the correspondence information shown in FIG. 6;

【図8】階調をもったモチーフについての画素情報の一
例を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing an example of pixel information about a motif having gradation.

【図9】本発明に係るホログラム記録媒体に重複して記
録される2つのモチーフの例を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing an example of two motifs that are redundantly recorded on the hologram recording medium according to the present invention.

【図10】図9に示す2つのモチーフについてそれぞれ
用いられる画素パターンの一例を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing an example of a pixel pattern used for each of the two motifs shown in FIG.

【図11】図9に示す2つのモチーフと、図10に示す
2つの画素パターンとの対応関係を定義する対応関係情
報を示す図である。
11 is a diagram showing correspondence relationship information defining a correspondence relationship between the two motifs shown in FIG. 9 and the two pixel patterns shown in FIG.

【図12】図9に示す2つのモチーフと、図10に示す
2つの画素パターンと、図11に示す対応関係情報と、
を用いて作成されたホログラム記録媒体を示す図であ
る。
12 is a diagram showing two motifs shown in FIG. 9, two pixel patterns shown in FIG. 10, and correspondence information shown in FIG.
It is a figure which shows the hologram recording medium created using.

【図13】図9に示す2つのモチーフについてそれぞれ
用いられる2つのグループに所属した画素パターンの一
例を示す図である。
13 is a diagram showing an example of pixel patterns belonging to two groups used respectively for the two motifs shown in FIG.

【図14】図9に示す2つのモチーフと、図13に示す
2つの画素パターンとの対応関係を定義する対応関係情
報を示す図である。
14 is a diagram showing correspondence relationship information defining a correspondence relationship between the two motifs shown in FIG. 9 and the two pixel patterns shown in FIG. 13.

【図15】本発明に係るホログラム記録媒体に重複して
記録される2つのモチーフの別な例を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing another example of two motifs that are redundantly recorded in the hologram recording medium according to the present invention.

【図16】図15に示す2つのモチーフと、図10に示
す2つの画素パターンとの対応関係を定義する対応関係
情報を示す図である。
16 is a diagram showing correspondence relationship information defining a correspondence relationship between the two motifs shown in FIG. 15 and the two pixel patterns shown in FIG.

【図17】本発明において用いる「単位副画素配列」の
概念を説明する図である。
FIG. 17 is a diagram illustrating the concept of a “unit subpixel array” used in the present invention.

【図18】図17に示す「単位副画素配列」について定
義された副画素構成情報の一例を示す図である。
18 is a diagram showing an example of sub-pixel configuration information defined for the "unit sub-pixel array" shown in FIG.

【図19】図17に示す「単位副画素配列」についての
配列およびこの配列に対応する副画素配列を示す図であ
る。
FIG. 19 is a diagram showing an array regarding the “unit subpixel array” shown in FIG. 17 and a subpixel array corresponding to this array.

【図20】図19に示す「単位副画素配列」の配列の各
要素について抽出された画素パターンを示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing a pixel pattern extracted for each element of the array of “unit subpixel array” shown in FIG. 19;

【図21】図20に示されている画素パターンを、各副
画素へ配置した状態を示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing a state in which the pixel pattern shown in FIG. 20 is arranged in each sub-pixel.

【図22】図21に示す配置により作成されるホログラ
ム記録媒体を示す図である。
22 is a diagram showing a hologram recording medium created by the arrangement shown in FIG.

【図23】本発明に利用される副画素構成情報の別な構
成例を示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing another configuration example of sub-pixel configuration information used in the present invention.

【図24】3つのモチーフを重複表現する場合に適した
副画素構成情報の構成例を示す図である。
[Fig. 24] Fig. 24 is a diagram illustrating a configuration example of sub-pixel configuration information suitable for the case where three motifs are redundantly expressed.

【図25】モチーフAについての画素配置を示す図であ
る。
25 is a diagram showing a pixel arrangement for motif A. FIG.

【図26】モチーフBについての画素配置を示す図であ
る。
26 is a diagram showing a pixel arrangement for motif B. FIG.

【図27】図25に示すモチーフAと図26に示すモチ
ーフBとを、副画素を用いて重複表現した例を示す図で
ある。
FIG. 27 is a diagram showing an example in which the motif A shown in FIG. 25 and the motif B shown in FIG. 26 are overlappingly expressed by using subpixels.

【図28】図25に示すモチーフAと図26に示すモチ
ーフBとを、副画素を用いて重複表現した別な例を示す
図である。
FIG. 28 is a diagram showing another example in which the motif A shown in FIG. 25 and the motif B shown in FIG. 26 are overlappingly expressed using subpixels.

【図29】本発明に係るホログラム記録媒体に利用でき
る画素の種々の形状を示す図である。
FIG. 29 is a diagram showing various shapes of pixels that can be used in the hologram recording medium according to the present invention.

【図30】本発明により階調をもったモチーフの表現を
行う場合に用いる画素パターンを示す図である。
FIG. 30 is a diagram showing a pixel pattern used when expressing a motif having gradation according to the present invention.

【図31】本発明に係るホログラム記録媒体の作成方法
を実施するための装置構成例を示すブロック図である。
FIG. 31 is a block diagram showing an example of an apparatus configuration for carrying out the method for producing a hologram recording medium according to the present invention.

【図32】電子ビーム描画装置を用いて格子線を描画す
る場合に適した画素パターンの第1の例を示す図であ
る。
FIG. 32 is a diagram showing a first example of a pixel pattern suitable for drawing a lattice line using an electron beam drawing device.

【図33】電子ビーム描画装置を用いて格子線を描画す
る場合に適した画素パターンの第2の例を示す図であ
る。
FIG. 33 is a diagram showing a second example of a pixel pattern suitable for drawing a lattice line using an electron beam drawing device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,3…フロッピディスク 4…ホログラム原版 5…ホログラムシール 10…ワークステーション 11…対応関係情報ファイル 12…副画素構成情報ファイル 13…画素パターンファイル 20…データフォーマット変換装置 30…電子ビーム描画装置 40…プレス装置 A,B…モチーフ L…格子線 P1〜P5,P11〜P23…画素パターン R1,R2…対応関係情報 V…格子線を配置する閉領域 W…画素としての全占有領域 X,Y…座標軸 Z…単位副画素配列 d…格子線の線幅 p…格子線のピッチ θ…格子線の配置角度 1, 2, 3 ... Floppy disk 4 ... Hologram original 5 ... Hologram sticker 10 ... workstation 11 ... Correspondence information file 12 ... Sub-pixel configuration information file 13 ... Pixel pattern file 20 ... Data format conversion device 30 ... Electron beam drawing device 40 ... Press machine A, B ... Motif L ... Lattice line P1 to P5, P11 to P23 ... Pixel pattern R1, R2 ... Correspondence information V: Closed area where grid lines are placed W: Total occupied area as pixels X, Y ... Coordinate axes Z ... Unit sub-pixel array d ... Line width of grid line p ... Pitch of grid lines θ: Arrangement angle of grid lines

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成14年11月27日(2002.11.
27)
[Submission date] November 27, 2002 (2002.11.
27)

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】全文[Correction target item name] Full text

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【書類名】 明細書[Document name] Statement

【発明の名称】 ホログラム記録媒体Title of invention Holographic recording medium

【特許請求の範囲】[Claims]

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はホログラム記録
体、特に、真正な物品であることを証明するためのセキ
ュリティ用ホログラムシールへの利用に適したホログラ
ム記録媒体に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a hologram recording medium.
The present invention relates to a hologram recording medium suitable for use as a body, particularly as a security hologram seal for proving that it is a genuine article.

【0002】[0002]

【従来の技術】クレジットカード、預金通帳、金券など
の偽造を防止するための手段として、ホログラムシール
が利用されている。また、ビデオテープや高級腕時計な
どの商品についても、海賊版が出回るのを防止するため
に、ホログラムシールが利用されている。この他、装飾
用、販売促進用といった目的にも、ホログラムシールが
利用されている。このようなホログラムシールには、三
次元立体像ではなく二次元の絵柄がモチーフとして用い
られることが多い。
2. Description of the Related Art Hologram stickers are used as a means for preventing counterfeiting of credit cards, bankbooks, cash vouchers and the like. In addition, hologram seals are used for products such as video tapes and luxury watches to prevent pirated copies from circulating. In addition, hologram stickers are also used for purposes such as decoration and sales promotion. In such a hologram sticker, a two-dimensional picture is often used as a motif instead of a three-dimensional stereoscopic image.

【0003】このようなホログラムシールを作成するに
は、通常、レーザ光を用いて干渉縞を形成させる光学的
なホログラム撮影方法が用いられている。すなわち、二
次元の絵柄モチーフが描かれた原稿を用意し、2つに分
岐させたレーザ光の一方をこの原稿に照射し、その反射
光と分岐したもう一方のレーザ光とを干渉させてその干
渉縞を感光材に記録するのである。こうしてホログラム
原版が作成できたら、この原版を用いて、プレスの手法
によりホログラムシールを量産することができる。
To make such a hologram sticker, an optical hologram photographing method in which an interference fringe is formed by using a laser beam is usually used. That is, a manuscript on which a two-dimensional pattern motif is drawn is prepared, and one of the laser beams branched into two is irradiated to this manuscript, and the reflected light and the other branched laser light are interfered with each other. The interference fringes are recorded on the photosensitive material. After the hologram master plate is created in this manner, hologram seals can be mass-produced using the master plate by a pressing method.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の光学的なホログラム撮影方法には、鮮明なホロ
グラム像が得られないという問題がある。すなわち、光
学的に形成された干渉縞は、振動に敏感であるため、振
動を完全に排除した環境でのホログラム撮影を行う必要
がある。ところが、かなりの精度の防振台を用いて撮影
を行っても、振動を完全に排除することは困難であり、
このため、干渉縞の記録像にいわゆる「ボケ」が生じ、
コントラストのある明るいホログラム像が得られないの
である。また、用いるレーザ光の発振波長にもゆらぎが
生じるため、くも硝子状ノイズが避けられない。このよ
うに、光学的なホログラム撮影には再現性が悪いという
問題があるため、同じ原版を何枚か作成することも困難
になる。
However, the above-mentioned conventional optical hologram photographing method has a problem that a clear hologram image cannot be obtained. That is, since the optically formed interference fringe is sensitive to vibration, it is necessary to perform hologram imaging in an environment in which vibration is completely eliminated. However, it is difficult to completely eliminate the vibration even when shooting with a vibration-proof table with considerable accuracy.
Therefore, so-called "blur" occurs in the recorded image of the interference fringes,
A bright hologram image with contrast cannot be obtained. Further, since the oscillation wavelength of the laser light used also fluctuates, spider glass noise cannot be avoided. As described above, since there is a problem of poor reproducibility in optical hologram photographing, it is difficult to make several same original plates.

【0005】そこで本発明は、鮮明なホログラム像が得
られ、しかも再現性の良いホログラム記録媒体を提供す
ることを目的とする。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a hologram recording medium which can obtain a clear hologram image and has good reproducibility.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】(1) 本発明の第1の態
様は、複数の画素の集合からなる画像が回折格子によっ
て表現されたホログラム記録媒体において、所定の画素
には、所定線幅の格子線を所定ピッチおよび所定角度で
所定の閉領域内に配置した画素パターンが記録されてお
り、かつ、線幅、ピッチ、角度という3つのパラメータ
のうちの少なくとも1つが互いに異なる複数の画素パタ
ーンが存在しており、同一の画素パターンが記録された
画素の集合を1画素グループとして、複数の画素グルー
プが形成されており、1つの画素グループに所属する画
素の集合によって1つのモチーフが構成され、複数のモ
チーフが同一平面上に重複して表現されているようにし
たものである。
Means for Solving the Problems (1) First Mode of the Present Invention
The image consists of a set of multiple pixels
In the hologram recording medium represented by
Is a grid line with a specified line width at a specified pitch and a specified angle.
The pixel pattern arranged in the predetermined closed area is recorded.
And three parameters: line width, pitch, angle
A plurality of pixel patterns, at least one of which is different from each other
Existed, and the same pixel pattern was recorded.
A group of pixels is used as one pixel group, and
Images that belong to one pixel group.
One motif is made up of a set of elements, and
Make sure that the chiefs are duplicated on the same plane
It is a thing.

【0007】(2) 本発明の第2の態様は、複数の画素
の集合からなる画像が回折格子によって表現されたホロ
グラム記録媒体において、所定の画素には、所定線幅の
格子線を所定ピッチおよび所定角度で所定の閉領域内に
配置した画素パターンが記録されており、かつ、線幅、
ピッチ、角度という3つのパラメータのうちの少なくと
も1つが互いに異なる複数の画素パターンが存在してお
り、互いに近似したパラメータをもつ画素パターンが記
録された画素の集合を1画素グループとして、複数の画
素グループが形成されており、1つの画素グループに所
属する画素の集合によって1つのモチーフが構成され、
複数のモチーフが同一平面上に重複して表現されている
ようにしたものである。
(2) A second aspect of the present invention is a plurality of pixels.
An image consisting of a set of
In a gram recording medium, a predetermined pixel has a predetermined line width
Lattice lines within a given closed area at a given pitch and a given angle
The arranged pixel pattern is recorded, and the line width,
At least one of the three parameters of pitch and angle
There are multiple pixel patterns, one of which is different from the other.
The pixel pattern with parameters that are similar to each other.
A set of recorded pixels is treated as one pixel group and
A pixel group is formed and one pixel group
One motif is composed of the set of pixels to which it belongs,
Multiple motifs are duplicated on the same plane
It was done like this.

【0008】(3) 本発明の第3の態様は、上述の第1
または第2の態様に係るホログラム記録媒体において、
各モチーフとして文字を表現するようにしたものであ
る。
(3) A third aspect of the present invention relates to the above-mentioned first aspect.
Alternatively, in the hologram recording medium according to the second aspect,
It is designed to express letters as each motif.
It

【0009】(4) 本発明の第4の態様は、画像が回折
格子によって表現されたホログラム記録媒体において、
m行n列に配列された副画素から構成される単位副画素
配列を1つの画素として、この画素をM行N列に配列す
ることにより画像が形成されており、所定の副画素に
は、所定線幅の格子線を所定ピッチおよび所定角度で所
定の閉領域内に配置した画素パターンが記録されてお
り、かつ、線幅、ピッチ、角度という3つのパラメータ
のうちの少なくとも1つが互いに異なる複数の画素パタ
ーンが存在しており、同一もしくは互いに近似したパラ
メータをもつ画素パターンを1グループとして、個々の
画素パターンを複数のグループに分類したときに、所定
の副画素には、単位副画素配列内で当該副画素が占める
位置によって一義的に定まる特定のグループに所属する
画素パターンが記録されているようにしたものである。
(4) In the fourth aspect of the present invention, the image is diffracted.
In the hologram recording medium represented by a lattice,
A unit sub-pixel composed of sub-pixels arranged in m rows and n columns
The array is set as one pixel, and this pixel is arranged in M rows and N columns.
The image is formed by
Is a grid line with a specified line width and a specified pitch and angle.
The pixel pattern arranged in a fixed closed area is recorded.
And three parameters: line width, pitch, angle
A plurality of pixel patterns, at least one of which is different from each other
Parameters that exist and are the same or close to each other.
Pixel patterns with meters as one group
When the pixel patterns are classified into multiple groups,
The sub-pixel of is occupied by the sub-pixel in the unit sub-pixel array.
Belong to a specific group that is uniquely determined by position
The pixel pattern is recorded.

【0010】(5) 本発明の第5の態様は、上述の第4
の態様に係るホログラム記録媒体において、2行2列に
配列された副画素から構成される単位副画素配列が縦横
に並べられており、各単位副画素配列における左上の副
画素および右下の副画素には、第1のグループに所属す
る画素パターンが配置され、各単位副画素配列における
左下の副画素および右上の副画素には、第2のグループ
に所属する画素パターンが配置されているようにしたも
のである。
(5) A fifth aspect of the present invention relates to the above-mentioned fourth aspect.
In the hologram recording medium according to the aspect,
A unit sub-pixel array composed of arranged sub-pixels is arranged vertically and horizontally.
And the upper left sub-pixel in each unit sub-pixel array.
The pixel and the lower right sub-pixel belong to the first group.
Pixel patterns are arranged in each unit sub-pixel array
In the lower left subpixel and the upper right subpixel, the second group
The pixel patterns belonging to are also arranged.
Of.

【0011】(6) 本発明の第6の態様は、上述の第4
の態様に係るホログラム記録媒体において、2行2列に
配列された副画素から構成される単位副画素配列が縦横
に並べられており、各単位副画素配列における左上の副
画素には第1のグループに所属する画素パターンが配置
され、各単位副画素配列における右上の副画素には第2
のグループに所属する画素パターンが配置され、各単位
副画素配列における左下の副画素には第3のグループに
所属する画素パターンが配置され、各単位副画素配列に
おける右下の副画素には第4のグループに所属する画素
パターンが配置されているようにしたものである。
(6) A sixth aspect of the present invention is based on the above-mentioned fourth aspect.
In the hologram recording medium according to the aspect,
A unit sub-pixel array composed of arranged sub-pixels is arranged vertically and horizontally.
And the upper left sub-pixel in each unit sub-pixel array.
Pixel pattern belonging to the first group is arranged in the pixel
The second subpixel in the upper right subpixel of each unit subpixel array is
Pixel patterns belonging to the group of are arranged in each unit
For the lower left subpixel in the subpixel array,
The pixel pattern to which it belongs is arranged, and in each unit subpixel array
Pixel belonging to the 4th group in the lower right subpixel in
The pattern is arranged.

【0012】(7) 本発明の第7の態様は、上述の第4
の態様に係るホログラム記録媒体において、3行3列に
配列された副画素から構成される単位副画素配列が縦横
に並べられており、各単位副画素配列における上段左側
の副画素、中段中央の副画素、下段右側の副画素には第
1のグループに所属する画素パターンが配置され、各単
位副画素配列における上段中央の副画素、中段右側の副
画素、下段左側の副画素には第2のグループに所属する
画素パターンが配置され、各単位副画素配列における上
段右側の副画素、中段左側の副画素、下段中央の副画素
には第3のグループに所属する画素パターンが配置され
ているようにしたものである。
(7) A seventh aspect of the present invention is based on the above-mentioned fourth aspect.
In the hologram recording medium according to the aspect,
A unit sub-pixel array composed of arranged sub-pixels is arranged vertically and horizontally.
And the upper left side of each unit sub-pixel array.
The sub-pixel of, the middle sub-pixel, and the lower right sub-pixel
Pixel patterns belonging to one group are arranged and
Sub-pixel in the center of the upper row and sub-pixel in the right of the middle row
Pixel, sub-pixel on the lower left side belongs to the second group
Pixel patterns are arranged and the upper part of each unit sub-pixel array is arranged.
Right sub-pixel, middle left sub-pixel, bottom center sub-pixel
The pixel patterns belonging to the third group are arranged in
It is something like.

【0013】(8) 本発明の第8の態様は、上述の第4
の態様に係るホログラム記録媒体において、3行3列に
配列された副画素から構成される単位副画素配列が縦横
に並べられており、各単位副画素配列における上段左側
の副画素、中段右側の副画素、下段中央の副画素には第
1のグループに所属する画素パターンが配置され、各単
位副画素配列における上段中央の副画素、中段左側の副
画素、下段右側の副画素には第2のグループに所属する
画素パターンが配置され、各単位副画素配列における上
段右側の副画素、中段中央の副画素、下段左側の副画素
には第3のグループに所属する画素パターンが配置され
ているようにしたものである。
(8) An eighth aspect of the present invention is based on the above-mentioned fourth aspect.
In the hologram recording medium according to the aspect,
A unit sub-pixel array composed of arranged sub-pixels is arranged vertically and horizontally.
And the upper left side of each unit sub-pixel array.
The sub-pixel of, the right sub-pixel in the middle row, and the sub-pixel in the middle of the lower row
Pixel patterns belonging to one group are arranged and
Sub-pixel in the center of the upper row and sub-pixel on the left side of the middle row
Pixel, lower right sub-pixel belongs to the second group
Pixel patterns are arranged and the upper part of each unit sub-pixel array is arranged.
Right sub-pixel, middle middle sub-pixel, lower left sub-pixel
The pixel patterns belonging to the third group are arranged in
It is something like.

【0014】(9) 本発明の第9の態様は、上述の第1
〜第8の態様に係るホログラム記録媒体において、画素
もしくは副画素としての全占有領域と、この全占有領域
の中で格子線を配置する対象となった閉領域と、の面積
比がそれぞれ異なる複数の画素パターンを用意し、平面
上にこれらの画素パターンを並べることにより階調をも
った画像が表現されているようにしたものである。
(9) A ninth aspect of the present invention is based on the above-mentioned first aspect.
~ In the hologram recording medium according to the eighth aspect, a pixel
Or the entire occupied area as a sub-pixel and this entire occupied area
Area of the closed area where the grid lines are placed in
Prepare multiple pixel patterns with different ratios
By arranging these pixel patterns on top
The image is made to be expressed.

【0015】本発明に係るホログラム記録媒体の特徴
は、回折格子が形成された画素を平面的に配置すること
により、ホログラムパターンを記録するようにした点に
ある。このように、画素を並べる方法を採れば、コンピ
ュータによって任意のモチーフ画像を作成することがで
きる。また、各画素内に形成する回折格子の画像パター
ンも、コンピュータによって作成することができ、最終
的なホログラムパターン作成までの作業をすべてコンピ
ュータによって処理することができる。要するに、本発
明によれば、光学的な撮影を行うことなしに、コンピュ
ータによって発生した回折格子パターンデータによって
ホログラム記録媒体の作成が可能になる。一度作成した
回折格子パターンデータを保存しておき、このデータに
基づいて再度ホログラム記録媒体の作成作業を行えば、
ほぼ同じ記録媒体を得ることができ、ほぼ完全な再現性
が得られることになる。また、光学的な撮影を行う必要
がないため、鮮明なホログラム像が得られる。
A feature of the hologram recording medium according to the present invention is that a hologram pattern is recorded by arranging pixels on which a diffraction grating is formed in a plane. By adopting the method of arranging pixels in this way, an arbitrary motif image can be created by a computer. The image pattern of the diffraction grating formed in each pixel can also be created by a computer, and all the operations up to the final hologram pattern creation can be processed by the computer. In short, according to the present invention, it is possible to create a hologram recording medium by computer-generated diffraction grating pattern data without performing optical imaging. If you save the diffraction grating pattern data created once and perform the creation work of the hologram recording medium again based on this data,
Almost the same recording medium can be obtained, and almost complete reproducibility can be obtained. Further, since it is not necessary to perform optical photographing, a clear hologram image can be obtained.

【0016】このように本発明では、回折格子が形成さ
れた画素を並べることにより所望のモチーフを表現して
いるため、種々の特殊効果を利用することができる。た
とえば、回折格子を構成する格子線の線幅、ピッチ、配
置角度、を変えることにより、光学的特性の異なる回折
格子を作成することができる。そこで、このような光学
的特性の異なる複数の画素を用意しておき、適宜使い分
ければ、種々の特殊効果が表現できるのである。具体的
には、第1のモチーフについては第1の画素を並べて表
現し、第2のモチーフについては第2の画素を並べて表
現するようにすれば、2つのモチーフを同一平面上に記
録することができ、しかも光学的特性の違いにより、こ
れら2つのモチーフを別々に観察することができるよう
になる。
As described above, according to the present invention, since a desired motif is expressed by arranging the pixels on which the diffraction grating is formed, various special effects can be utilized. For example, a diffraction grating having different optical characteristics can be created by changing the line width, pitch, and arrangement angle of the grating lines that form the diffraction grating. Therefore, various special effects can be expressed by preparing a plurality of such pixels having different optical characteristics and appropriately using them. Specifically, if the first pixels are arranged side by side for the first motif and the second pixels are arranged side by side for the second motif, two motifs are recorded on the same plane. In addition, these two motifs can be observed separately due to the difference in optical characteristics.

【0017】なお、一般に「ホログラム」という文言
は、干渉縞によって得られた像を指す言葉として用いら
れており、そのような意味からすれば、本発明の記録媒
体上に作成される像は、「ホログラム」ではなく「疑似
ホログラム」あるいは「回折格子パターン」と言うべき
ものである。しかしながら、偽造防止用のシールとして
用いられている記録媒体は、一般に「ホログラムシー
ル」と呼ばれているため、本願明細書においては、記録
媒体上に形成されている「回折格子パターン」について
も「ホログラム」という言葉を用いることにする。
In general, the word "hologram" is used as a word indicating an image obtained by interference fringes. From such a meaning, an image formed on the recording medium of the present invention is It should be called "pseudo hologram" or "diffraction grating pattern" instead of "hologram". However, since a recording medium used as a seal for preventing forgery is generally called a "hologram seal", the "diffraction grating pattern" formed on the recording medium is also referred to as "hologram seal" in this specification. We will use the term "hologram".

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図示するいくつか
の実施例に基づいて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described below based on several illustrated embodiments.

【0019】<<<§1. 基本的実施例>>>本発明
に係るホログラム記録媒体の特徴は、複数の画素の集合
によって構成されるモチーフを、媒体上にホログラムと
して表現した点にある。ここでは、図1(a) に示すよう
な比較的単純なモチーフ(英文字の「A」を示す)を本
発明によってホログラム記録媒体上に表現する方法につ
いて説明する。なお、本発明に係るホログラム記録媒体
の作成方法は、コンピュータを用いて実施することを前
提としたものであり、これから説明する各処理は、いず
れもコンピュータを用いて実行される。
<<<< §1. Basic Example >>>> A feature of the hologram recording medium according to the present invention is that a motif constituted by a set of a plurality of pixels is expressed as a hologram on the medium. Here, a method of expressing a relatively simple motif (indicating an English letter "A") as shown in FIG. 1 (a) on a hologram recording medium according to the present invention will be described. The method for producing a hologram recording medium according to the present invention is premised on being carried out by using a computer, and each processing described below is executed by using the computer.

【0020】まず、図1(a) に示すモチーフに対応する
画像データとして、図1(b) に示すようなモチーフ画素
情報を用意する。ここに示す例では、7行7列に画素が
配列されており、各画素は「0」または「1」のいずれ
かの画素値をもっており、いわゆる二値画像を示す情報
となる。このような情報は、いわゆる「ラスター画像デ
ータ」と呼ばれている一般的な画像データであり、通常
の作画装置によって作成することができる。あるいは、
紙面上に描かれたデザイン画をスキャナ装置によって取
り込むことにより、このようなモチーフ画素情報を用意
してもかまわない。
First, as image data corresponding to the motif shown in FIG. 1 (a), motif pixel information as shown in FIG. 1 (b) is prepared. In the example shown here, pixels are arranged in 7 rows and 7 columns, and each pixel has a pixel value of either "0" or "1", which is information indicating a so-called binary image. Such information is general image data called so-called "raster image data", and can be created by an ordinary drawing device. Alternatively,
Such motif pixel information may be prepared by capturing a design image drawn on the paper surface with a scanner device.

【0021】続いて、図2に示すように、所定線幅dの
格子線を所定ピッチpおよび所定角度θで所定の閉領域
V内に配置した画素パターンを定義する。ここで、閉領
域Vは1つの画素を構成する領域であり、実際には非常
に微小な要素になる。別言すれば、図1(a) ,(b) に示
した7×7の配列における1つ1つの画素に相当した大
きさのものになる。この実施例では、閉領域Vとして、
縦×横が50μm×45μmの大きさの長方形を用いて
いる。また、この閉領域V内に配置される格子線Lの線
幅dおよびピッチpも光の波長に準じた微小な寸法をも
ったものであり、この実施例では、線幅d=0.6μ
m、ピッチp=1.2μmである。要するに、格子線L
は回折格子としての機能を果たす線幅dおよびピッチp
で配置されている必要がある。格子線Lの配置角度θ
は、所定の基準軸に対して設定された角度である。本明
細書では、図示するような方向にX軸およびY軸をとっ
たXY座標系を定義し、X軸を基準軸として格子線Lの
配置角度θを表わすことにする。このような画素パター
ンも、コンピュータ上では画像データとして用意される
ことになる。なお、この画素パターンの画像データは、
「ラスター画像データ」として用意してもよいし(この
場合は、モチーフを構成する1つ1つの画素が、更に微
小な画素によって表現されることになる)、あるいは、
格子線Lを構成する四角形の4頂点の座標値を指定する
ことにより格子線Lの輪郭線を定義した「ベクトル画像
データ」として用意してもよい。データ量を抑えるため
には、後者の方が好ましい。
Then, as shown in FIG. 2, a pixel pattern is defined in which lattice lines having a predetermined line width d are arranged in a predetermined closed region V at a predetermined pitch p and a predetermined angle θ. Here, the closed region V is a region that constitutes one pixel and is actually a very small element. In other words, it has a size corresponding to each pixel in the 7 × 7 array shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b). In this embodiment, as the closed region V,
A rectangle with a size of 50 μm × 45 μm in length × width is used. Further, the line width d and the pitch p of the lattice lines L arranged in this closed region V also have minute dimensions according to the wavelength of light, and in this embodiment, the line width d = 0.6 μ.
m, pitch p = 1.2 μm. In short, the grid line L
Is a line width d and a pitch p that function as a diffraction grating
Must be placed in. Arrangement angle θ of the grid line L
Is an angle set with respect to a predetermined reference axis. In this specification, an XY coordinate system in which the X axis and the Y axis are taken in the directions shown in the figure is defined, and the arrangement angle θ of the grid line L is represented with the X axis as the reference axis. Such a pixel pattern is also prepared as image data on the computer. The image data of this pixel pattern is
It may be prepared as "raster image data" (in this case, each pixel forming the motif is represented by a smaller pixel), or
You may prepare as "vector image data" which defined the outline of the grid line L by designating the coordinate value of four vertices of the quadrangle which comprises the grid line L. The latter is preferable in order to reduce the amount of data.

【0022】次に、図1(b) に示すようなモチーフ画素
情報における各画素値に基づいて、図2に示すような画
素パターンを所定の画素に対応づけ、各画素位置に、対
応する画素パターンを配置する処理を行う。具体的に
は、図1(b) に示すモチーフ画素情報において、画素値
が「1」である画素のそれぞれに図2の画素パターンを
対応づける。画素値が「0」である画素には、画素パタ
ーンは対応づけられない。こうして対応づけられた画素
位置に、それぞれ画素パターンを配置してゆく。いわ
ば、図1(b) に示す配列を壁にたとえれば、この壁の中
の「1」と描かれた各領域に、図2に示すようなタイル
を1枚ずつ貼る作業を行うことになる。この結果、図3
に示すような画像パターンが得られる。この画像パター
ンが最終的にホログラム記録媒体に記録されるパターン
である。図1(a) に示すモチーフがそのまま表現されて
いるが、1つ1つの画素は回折格子で構成されており、
ホログラムとしての視覚的な効果が得られることにな
る。
Next, based on each pixel value in the motif pixel information as shown in FIG. 1 (b), the pixel pattern as shown in FIG. 2 is associated with a predetermined pixel, and the pixel corresponding to each pixel position Perform the process of placing the pattern. Specifically, in the motif pixel information shown in FIG. 1B, the pixel pattern of FIG. 2 is associated with each pixel having a pixel value of “1”. No pixel pattern is associated with a pixel having a pixel value of “0”. Pixel patterns are arranged at the pixel positions thus associated. So to speak, if the array shown in Fig. 1 (b) is compared to a wall, the work of sticking tiles as shown in Fig. 2 to each area drawn as "1" in this wall will be performed. . As a result,
An image pattern as shown in is obtained. This image pattern is the pattern finally recorded on the hologram recording medium. The motif shown in Fig. 1 (a) is expressed as it is, but each pixel is composed of a diffraction grating,
The visual effect as a hologram will be obtained.

【0023】もっとも、図2に示すような画素パターン
を「タイル」として貼り付ける処理は、コンピュータ内
での画像処理として行われる。この処理は、たとえば、
図4に示すように、モチーフ全体に対応する画像の右下
位置に座標原点Oをとった場合、貼り付けるべき画素位
置に基づいたオフセット量a,bを演算により求め、画
像データとしての貼り込み処理を行えばよい。このよう
な演算処理の結果、図3に示すようなパターンを示す画
像データが得られるので、この画像データに基づいて、
図3に示すようなパターンをフィルムなどの上に物理的
に出力すれば、所望のホログラム記録媒体が作成できる
ことになる。なお、本実施例では、後述するように、コ
ンピュータで作成した画像データを電子ビーム描画装置
に与え、電子ビームにより図3に示すようなパターンを
原版上に描画し、この原版を用いてプレスの手法でホロ
グラムシールを大量生産するようにしている。
Of course, the process of pasting pixel patterns as shown in FIG. 2 as "tiles" is performed as image processing in the computer. This process can be
As shown in FIG. 4, when the coordinate origin O is set at the lower right position of the image corresponding to the entire motif, the offset amounts a and b based on the pixel positions to be pasted are calculated and the pasted as image data. It suffices to perform processing. As a result of such arithmetic processing, image data showing a pattern as shown in FIG. 3 is obtained, and therefore, based on this image data,
By physically outputting the pattern shown in FIG. 3 on a film or the like, a desired hologram recording medium can be created. In the present embodiment, as will be described later, image data created by a computer is given to an electron beam drawing apparatus, an electron beam is used to draw a pattern as shown in FIG. 3 on an original plate, and this original plate is used to press a pattern. We are trying to mass produce hologram stickers by the method.

【0024】<<<§2. 複数の画素パターンを用い
る実施例>>>上述した基本的実施例では、図2に示す
ような画素パターンのみを用いてホログラム記録媒体を
作成したが、ここでは、複数種類の画素パターンを用い
る方法を説明する。図2に示すように、この画素パター
ンは、格子線Lの線幅d、ピッチp、配置角度θという
3つのパラメータによって特定されるパターンである。
この3つのパラメータのうちの少なくとも1つを変える
ことにより、異なったパターンが得られることになる。
より具体的には、線幅dおよびピッチpを変えると、そ
のパターンから観察される色が変化することになり、配
置角度θを変えると、そのパターンが観察できる向きが
変化することになる。したがって、パラメータを変えた
複数種類の画素パターンを用意しておき、これらを使い
分けることにより、変化に富んだ効果的なホログラム像
を形成させることができる。
<<<< §2. Embodiment using a plurality of pixel patterns >> In the above-described basic embodiment, the hologram recording medium was created using only the pixel patterns shown in FIG. 2, but here, a method using a plurality of types of pixel patterns is used. Will be explained. As shown in FIG. 2, this pixel pattern is a pattern specified by three parameters: the line width d of the lattice line L, the pitch p, and the arrangement angle θ.
Different patterns will be obtained by changing at least one of these three parameters.
More specifically, when the line width d and the pitch p are changed, the color observed from the pattern changes, and when the arrangement angle θ is changed, the observable direction of the pattern changes. Therefore, by preparing a plurality of types of pixel patterns with different parameters and using these differently, it is possible to form an effective holographic image rich in variations.

【0025】具体的な例を示すと次のようになる。たと
えば、図5に示すような5種類の画素パターンP1〜P
5を用意する。これらの画素パターンは、3つのパラメ
ータのうち、線幅dおよびピッチpは同じであるが、角
度θがそれぞれ異なっている。すなわち、図示したよう
に、角度θ=30°,60°,90°,120°,15
0°の5とおりが用意されている(実際の格子線は所定
の幅をもったものであるが、図示の便宜上、以下の図で
は格子線を単なる線で示すことにする)。
A concrete example is as follows. For example, five types of pixel patterns P1 to P as shown in FIG.
Prepare 5. Among these three parameters, these pixel patterns have the same line width d and pitch p, but different angles θ. That is, as shown in the figure, the angles θ = 30 °, 60 °, 90 °, 120 °, 15
Five types of 0 ° are prepared (the actual grid line has a predetermined width, but for convenience of illustration, the grid line is shown as a simple line in the following figures).

【0026】このように複数の画素パターンを用いる場
合、どの画素位置にどの画素パターンを配置するかを決
める必要がある。そこで、図6(a) に示すような対応関
係情報を用意する。この対応関係情報は、図1(b) に示
すモチーフ画素情報において画素値が「1」となってい
る各画素について、図5に示す5種類の画素パターンP
1〜P5のいずれか1つを対応させたことを示す情報で
ある。画素値が「0」となっている画素については、い
ずれの画素パターンも対応させていない(あるいは、格
子線が全く形成されていない空の画素パターンP0なる
ものを定義し、画素値が「0」となっている画素につい
ては、この空の画素パターンP0を対応させてもよ
い)。この対応関係情報は、いわば、「5種類のタイル
のうちのどれをどの位置に貼り込むか」ということを指
示する情報ということになる。したがって、このような
対応関係情報を作成しておけば、コンピュータによる機
械的な貼り込み作業が可能になる。なお、図6(a) の例
では、対応関係情報として画素パターンの名称P1〜P
5を特定する情報を用いているが、図6(b) の例のよう
に、格子線の角度θの値(すなわち、パラメータの値)
を特定する情報を用いるようにしてもかまわない。
When using a plurality of pixel patterns in this way, it is necessary to determine which pixel pattern is to be arranged at which pixel position. Therefore, the correspondence information as shown in FIG. 6 (a) is prepared. This correspondence information includes five types of pixel patterns P shown in FIG. 5 for each pixel whose pixel value is “1” in the motif pixel information shown in FIG. 1 (b).
It is information indicating that any one of 1 to P5 is associated. Regarding a pixel having a pixel value of “0”, no pixel pattern is associated (or an empty pixel pattern P0 in which no grid line is formed is defined, and the pixel value is “0”). The pixels having “” may correspond to this empty pixel pattern P0). This correspondence information is, so to speak, information that indicates "which of the five types of tiles is to be attached to which position". Therefore, if such correspondence information is created, mechanical pasting work by a computer becomes possible. In the example of FIG. 6A, the pixel pattern names P1 to P are used as the correspondence information.
Although the information for specifying 5 is used, as in the example of FIG. 6 (b), the value of the angle θ of the grid line (that is, the value of the parameter)
You may use the information which specifies.

【0027】こうして5種類の画素パターンを用いて形
成されるホログラム像は、より変化に富んだものとな
る。この例のように、角度θというパラメータを変えた
複数の画素パターンを用いた場合、図1(a) に示すモチ
ーフにおける左右の各部において光が観察される角度が
異なるため、実際の記録媒体を手に取って傾けながら観
察すると、左右に光が流れるような効果が得られる。線
幅dあるいはピッチpというパラメータを変えた複数の
画素パターンを用いれば、左右において観察される色が
異なるような効果が得られることになる。もちろん、2
つ以上のパラメータを変えた種々の画素パターンを用意
することも可能である。
Thus, the hologram image formed by using the five types of pixel patterns becomes more varied. When a plurality of pixel patterns with different parameters of angle θ are used as in this example, the angles at which light is observed in the left and right parts of the motif shown in FIG. If you hold it in your hand and observe it while tilting it, you can get the effect that light flows left and right. By using a plurality of pixel patterns having different parameters such as the line width d or the pitch p, it is possible to obtain the effect that the colors observed on the left and right are different. Of course 2
It is also possible to prepare various pixel patterns in which one or more parameters are changed.

【0028】ところで、図6に示すような対応関係情報
を用意するには、コンピュータに対して何らかの指示を
与える必要がある。最も基本的な指示の与え方は、ディ
スプレイ上に図1(a) に示すようなモチーフを表示さ
せ、このモチーフを構成する1つ1つの画素それぞれに
ついて、P1〜P5(あるいは30°〜150°)のい
ずれかを指定する方法である。このような方法で対応関
係情報を作成すれば、全く任意の対応関係を定義するこ
とが可能である。しかしながら、画素1つ1つについ
て、対応する画素パターンを1つ1つ指示してゆく作業
は、かなり労力と時間を有する作業になる。そこで、こ
の実施例では、簡単な操作で対応関係情報を作成するこ
とができる機能をコンピュータのプログラムに用意して
ある。ここで、図6(b) に示す対応関係情報を見ると、
ある規則性が発見できる。すなわち、2列目の画素はθ
=30°6列目の画素はθ=150°、の画素パターン
が対応づけられており、2列目から6列目に向かうにし
たがって、θの値は30°ずつ増えている。このように
パラメータの値を徐々に変化させてゆく手法は、一般に
「グラデーション」と呼ばれている手法であり、この例
では、水平方向にグラデーションがかかっていることに
なる。
By the way, in order to prepare the correspondence information as shown in FIG. 6, it is necessary to give some instruction to the computer. The most basic way to give instructions is to display a motif as shown in Fig. 1 (a) on the display, and select P1 to P5 (or 30 ° to 150 °) for each pixel that constitutes this motif. ) Is one of the methods to specify. By creating the correspondence information by such a method, it is possible to define a completely arbitrary correspondence. However, the task of instructing the corresponding pixel pattern one by one for each pixel is a task that requires considerable effort and time. Therefore, in this embodiment, a computer program has a function capable of creating correspondence information by a simple operation. Looking at the correspondence information shown in FIG. 6 (b),
A certain regularity can be discovered. That is, the pixel in the second column is θ
A pixel pattern of θ = 150 ° is associated with the pixel in the sixth column of = 30 °, and the value of θ increases by 30 ° from the second column to the sixth column. Such a method of gradually changing the parameter value is generally called a “gradation”, and in this example, gradation is applied in the horizontal direction.

【0029】このようなグラデーションをかけるための
対応関係情報の作成は、次のような簡単な作業で行うこ
とができる。すなわち、図7に示すように、テーマとな
っているモチーフをディスプレイ画面上に表示させた上
で、グラデーションをかけるための対応関係情報を作成
する旨の指示を与えればよい。具体的には、水平方向へ
のグラデーションをかける旨の指示を与えるとともに、
2列目の画素位置をマウスなどで指定して初期値θ=3
0°を入力し、6列目の画素位置をマウスなどで指定し
て終期値θ=150°を入力すればよい。このような情
報が与えられれば、3〜5列目の画素については線形補
間を行うことにより、θの値を自動的に設定することが
できる。したがって、オペレータは画素1つ1つについ
て、対応する画素パターンを指定する必要はない。もち
ろん、垂直方向にグラデーションをかけるような設定も
同様に行うことができる。また、ここでは角度θに関す
るグラデーションをかけているが、格子線の線幅dやピ
ッチpに関するグラデーションも同様に設定することが
可能である。
The correspondence information for applying such gradation can be created by the following simple operation. That is, as shown in FIG. 7, after displaying the theme motif on the display screen, an instruction to create correspondence information for applying a gradation may be given. Specifically, while giving an instruction to apply horizontal gradation,
Initial value θ = 3 by specifying the pixel position of the second row with a mouse
The final value θ = 150 ° may be input by inputting 0 °, specifying the pixel position of the sixth column with a mouse or the like. If such information is given, the value of θ can be automatically set by performing linear interpolation for the pixels in the third to fifth columns. Therefore, the operator does not need to specify the corresponding pixel pattern for each pixel. Of course, it is possible to make the setting in which the gradation is applied in the vertical direction as well. Further, although the gradation regarding the angle θ is applied here, the gradation regarding the line width d and the pitch p of the lattice lines can be set in the same manner.

【0030】なお、図示する例は、7×7の比較的小規
模な画素配列のものであるが、実際には、より大規模な
画素配列のモチーフが用いられる。したがって、初期値
と終期値だけを指定したのでは、画素パターンのバリエ
ーションが膨大な数になってしまう場合がある。たとえ
ば、初期値を指定した画素から終期値を指定した画素に
至るまでに、121画素が存在したとすると、上述のよ
うな設定では、θの値が、右の画素から左の画素へ向か
って30°,31°,32°,…,149°,150°
と増加してゆき、121通りもの画素パターンが必要に
なる。このような場合には、初期値と終期値の他に、ス
テップ値を指定すればよい。たとえば、ステップ値とし
て30°を指定すれば、θの値のバリエーションは、3
0°,60°,90°,120°,150°の5種類に
限定されるため、図5に示すような5通りの画素パター
ンを用意すれば十分である。
The example shown is for a 7 × 7 relatively small pixel array, but in reality, a motif for a larger pixel array is used. Therefore, if only the initial value and the final value are specified, the number of pixel pattern variations may become enormous. For example, if 121 pixels exist from the pixel for which the initial value is specified to the pixel for which the final value is specified, in the above setting, the value of θ changes from the right pixel to the left pixel. 30 °, 31 °, 32 °, ..., 149 °, 150 °
As the number of pixel patterns increases, 121 pixel patterns are required. In such a case, the step value may be designated in addition to the initial value and the final value. For example, if 30 ° is specified as the step value, the variation of the value of θ is 3
Since it is limited to five kinds of 0 °, 60 °, 90 °, 120 °, and 150 °, it is sufficient to prepare five kinds of pixel patterns as shown in FIG.

【0031】また、図1(b) に示したモチーフ画素情報
は、各画素値が「0」または「1」のいずれかをとる二
値画像情報であるが、階調をもった画像をモチーフとし
て用いる場合には、各画素値に基づいて対応させる画素
パターンを決定することも可能である。たとえば、図1
(b) に示すモチーフ画素情報の代わりに、図8に示すよ
うなモチーフ画素情報が与えられた場合を考える。ここ
では、各画素値は0〜255までのいずれかの値をと
る。ここで、このような画素値をもった各画素を、図5
に示す5種類の画素パターンP1〜P5に対応づけるの
に、次のような規則を定義したとする。
The motif pixel information shown in FIG. 1 (b) is binary image information in which each pixel value is either "0" or "1". When used as, it is also possible to determine the corresponding pixel pattern based on each pixel value. For example, in Figure 1.
Consider a case where motif pixel information as shown in FIG. 8 is given instead of the motif pixel information shown in (b). Here, each pixel value takes any value from 0 to 255. Here, each pixel having such a pixel value is shown in FIG.
It is assumed that the following rule is defined to associate with the five types of pixel patterns P1 to P5 shown in FIG.

【0032】 画素値50以下の画素: 対応づけなし 画素値51〜100の画素: P1を対応づける 画素値101〜150の画素: P2を対応づける 画素値151〜200の画素: P3を対応づける 画素値201〜250の画素: P4を対応づける 画素値251以上の画素: P5を対応づける このような規則を定義しておけば、図8に示すようなモ
チーフ画素情報に基づいて、図6に示すような対応関係
情報を自動的に設定することが可能になる。
Pixels with a pixel value of 50 or less: Pixels with uncorrelated pixel values 51 to 100: Pixels with pixel values 101 to 150 with which P1 is associated: Pixels with pixel values 151 to 200 with which P2 is associated: Pixels with associated P3 Pixels having values of 201 to 250: P4 having pixel values of 251 or more: P5 having pixel values of P5 are associated with each other. If such a rule is defined, the pixel values shown in FIG. 6 are obtained based on the motif pixel information shown in FIG. It becomes possible to automatically set such correspondence information.

【0033】<<<§3. 複数のモチーフを表現する
実施例>>>続いて、同一平面上に複数のモチーフを重
複させて表現する実施例について説明する。たとえば、
図9(a) に示すモチーフAと、同図(b) に示すモチーフ
Bとが与えられ、これら2つのモチーフを同一平面上に
重複して表現することを考える。この場合、図10に示
すような2つの画素パターンP1,P2を用意する。こ
こで、画素パターンP1,P2は、格子線の線幅dやピ
ッチpは同じであるが、角度θがP1では45°である
のに対し、P2では90°になっている。そして、モチ
ーフAに所属する画素については、画素パターンP1を
対応させ、モチーフBに所属する画素については、画素
パターンP2を対応させるように、対応関係情報を作成
するのである。具体的には、モチーフAにおいて画素値
「1」をもった画素位置に画素パターンP1を対応づけ
た対応関係情報R1を図11(a)に示すように作成する
とともに、モチーフBにおいて画素値「1」をもった画
素位置に画素パターンP2を対応づけた対応関係情報R
2を図11(b) に示すように作成する。そして、これら
2つの対応関係情報R1,R2に基づいて、画素パター
ンP1,P2の貼り込み処理を行えば、図12に示すよ
うな回折格子パターンをもったホログラム記録媒体が作
成される。ここで、モチーフAはθ=45°の回折格子
で表現され、モチーフBはθ=90°の回折格子で表現
されているため、両モチーフは観察できる角度が異な
り、別々のモチーフとして区別して観察される。このよ
うな方法によれば、複数のモチーフ(3つ以上も可能で
ある)を同一平面上に重複させて表現することができ
る。
<<<< §3. Example in which a plurality of motifs are represented >>>> Next, an example in which a plurality of motifs are overlapped and expressed on the same plane will be described. For example,
Given a motif A shown in FIG. 9 (a) and a motif B shown in FIG. 9 (b), consider expressing these two motifs on the same plane in an overlapping manner. In this case, two pixel patterns P1 and P2 as shown in FIG. 10 are prepared. Here, the pixel patterns P1 and P2 have the same line width d and pitch p of the lattice lines, but the angle θ is 45 ° for P1 and 90 ° for P2. Then, the correspondence information is created such that the pixel belonging to the motif A is associated with the pixel pattern P1 and the pixel belonging to the motif B is associated with the pixel pattern P2. Specifically, the correspondence information R1 in which the pixel pattern P1 is associated with the pixel position having the pixel value “1” in the motif A is created as shown in FIG. Correspondence relationship information R in which the pixel pattern P2 is associated with the pixel position having "1"
2 is created as shown in FIG. 11 (b). Then, if the pixel patterns P1 and P2 are pasted on the basis of these two pieces of correspondence information R1 and R2, a hologram recording medium having a diffraction grating pattern as shown in FIG. 12 is created. Here, since the motif A is expressed by a diffraction grating of θ = 45 ° and the motif B is expressed by a diffraction grating of θ = 90 °, the observable angles of both motifs are different, and they are distinguished and observed as separate motifs. To be done. According to such a method, a plurality of motifs (three or more are possible) can be overlapped and expressed on the same plane.

【0034】また、同一のモチーフについて、複数の画
素パターンを用いることも可能である。この場合、他の
モチーフとの区別を可能ならしめるために、互いに近似
したパラメータをもつ複数の画素パターンを1グループ
として定義するとよい。たとえば、図13に示す6種類
の画素パターンは、第1のグループに属する3つの画素
パターンP11,P12,P13と、第2のグループに
属する3つの画素パターンP21,P22,P23と、
によって構成されている。これらの画素パターンは、い
ずれも線幅dおよびピッチpは同じであるが、角度θが
それぞれで異なっている。ただし、第1のグループに属
する画素パターンの角度θは、40°,45°,50°
と互いに近似しており、第2のグループに属する画素パ
ターンの角度θも、85°,90°,95°と互いに近
似している。このような6種類の画素パターンを用意
し、たとえば、モチーフAに所属する画素については、
第1のグループに属する画素パターンを対応させ、モチ
ーフBに所属する画素については、第2のグループに属
する画素パターンを対応させるようにする。具体的に
は、図9(a) に示すモチーフAについては、図14(a)
に示すような対応関係情報R1を作成し、図9(b) に示
すモチーフBについては、図14(b) に示すような対応
関係情報R2を作成すればよい。このような対応関係情
報を用いて作成されたホログラム記録媒体上のパターン
は、図12に示すものとほぼ同じになるが、同じモチー
フ内でも格子角度値が若干分散しているため、より効果
的な表現が可能になる。なお、モチーフAについてはθ
=45°を中心として5°ずつ分散しているのに対し、
モチーフBについてはθ=90°を中心として5°ずつ
分散しているため、モチーフAとBとを区別して把握す
るためのパターン認識は十分に可能である。
It is also possible to use a plurality of pixel patterns for the same motif. In this case, in order to distinguish it from other motifs, it is preferable to define a plurality of pixel patterns having similar parameters as one group. For example, the six types of pixel patterns shown in FIG. 13 include three pixel patterns P11, P12, P13 belonging to the first group and three pixel patterns P21, P22, P23 belonging to the second group.
It is composed by. These pixel patterns have the same line width d and pitch p, but have different angles θ. However, the angle θ of the pixel patterns belonging to the first group is 40 °, 45 °, 50 °.
And the angles θ of the pixel patterns belonging to the second group are also close to 85 °, 90 °, and 95 °. Six kinds of pixel patterns like this are prepared. For example, for pixels belonging to the motif A,
Pixel patterns belonging to the first group are associated with each other, and pixels belonging to the motif B are associated with pixel patterns belonging to the second group. Specifically, for motif A shown in FIG. 9 (a), FIG.
The correspondence information R1 as shown in FIG. 9 is created, and the correspondence information R2 as shown in FIG. 14 (b) is created for the motif B shown in FIG. 9 (b). The pattern on the hologram recording medium created using such correspondence information is almost the same as that shown in FIG. 12, but it is more effective because the lattice angle values are slightly dispersed within the same motif. Can be expressed. For motif A, θ
= 45 ° as the center and 5 ° at a time,
Since the motif B is dispersed by 5 ° around θ = 90 °, pattern recognition for distinguishing and understanding the motifs A and B is sufficiently possible.

【0035】<<<§4. 画素が重複する複数のモチ
ーフを表現する実施例>>>前述の例において、図9に
示す2つのモチーフA,Bは、画素値「1」をもった画
素が重複することはないため、図12に示すように、両
モチーフの画素を混合した表現が可能になる。ところ
が、画素値「1」をもった画素が重複する複数のモチー
フについては、前述の例のような手法をそのまま適用す
ることはできない。たとえば、図15(a) ,(b) に示す
ような2つのモチーフA,Bに対して、前述の手法をそ
のまま適用して作業を進めてみる。ここでは、モチーフ
Aについては図10に示すパターンP1を対応させ、モ
チーフBについては図10に示すパターンP2を対応さ
せるものとしよう。すると、モチーフAについては図1
6(a) に示すような対応関係情報R1が作成され、モチ
ーフBについては図16(b) に示すような対応関係情報
R2が作成される。ところが、この2つの対応関係情報
R1,R2に基づいて、実際に画素パターンを貼り込む
作業を行おうとすると、図16に実線で囲った画素につ
いて画素パターンの衝突が生じる。たとえば、2行3列
目の画素について見ると、対応関係情報R1によれば画
素パターンP1を貼り込む旨が示されているのに対し、
対応関係情報R2によれば画素パターンP2を貼り込む
旨が示されている。このため、実際にはどちらの画素パ
ターンを貼り込めばよいか判断できなくなる。
<<<< §4. Example in which a plurality of motifs in which pixels overlap is expressed >>>> In the above-described example, the two motifs A and B shown in FIG. As shown in FIG. 12, a mixed expression of pixels of both motifs is possible. However, for a plurality of motifs in which pixels having a pixel value of "1" overlap, the method as in the above example cannot be applied as it is. For example, for the two motifs A and B as shown in FIGS. 15 (a) and 15 (b), the above-mentioned method is applied as it is to proceed with the work. Here, it is assumed that the motif A corresponds to the pattern P1 shown in FIG. 10 and the motif B corresponds to the pattern P2 shown in FIG. Then, for motif A,
Correspondence information R1 shown in FIG. 6 (a) is created, and correspondence information R2 shown in FIG. 16 (b) is created for motif B. However, if an attempt is made to actually paste the pixel pattern based on the two pieces of correspondence information R1 and R2, the pixel patterns collide with the pixels surrounded by the solid line in FIG. For example, regarding the pixel in the second row and the third column, while the correspondence information R1 indicates that the pixel pattern P1 is to be pasted,
The correspondence information R2 indicates that the pixel pattern P2 is to be pasted. Therefore, it becomes impossible to actually determine which pixel pattern should be attached.

【0036】このような問題を解決するため、本発明で
は、次のような副画素という概念を導入する。いま、図
17に示すように、M行N列(この例では7行7列)の
画素配列によって所定のモチーフが表現されている場合
を考える。この場合、図の右方に示すように、m行n列
(この例では2行2列)に配列された副画素から構成さ
れる「単位副画素配列」というものを定義する。この例
では、この「単位副画素配列」は1つの画素に対応する
大きさを有している。より具体的に説明すれば、図17
に示す例では、1つの画素を4分割したものが副画素と
なっており、4つの副画素によって1つの「単位副画素
配列」が構成されている。続いて、この「単位副画素配
列」内の各副画素位置にどのモチーフの画素を配置する
かを定めた副画素構成情報を作成する。たとえば、モチ
ーフAとモチーフBとを重複表示する場合、各副画素位
置には、モチーフAの画素かモチーフBの画素かのいず
れかが配置されることになる。そこで、図18に示すよ
うな副画素構成情報を作成して、各副画素位置にどのモ
チーフの画素を配置するかを定義するのである。図18
の例では、左上および右下の副画素位置にモチーフAの
画素を、左下および右上の副画素位置にモチーフBの画
素を、それぞれ配置することが定義されている。これ
は、どのような定義を行ってもよいが、両モチーフを対
等に表示する上では、このように対角位置に同じモチー
フの画素を配置するのが好ましい。
In order to solve such a problem, the present invention introduces the following concept of subpixel. Now, consider a case where a predetermined motif is expressed by a pixel array of M rows and N columns (7 rows and 7 columns in this example) as shown in FIG. In this case, as shown on the right side of the drawing, what is defined as a "unit sub-pixel array" that is composed of sub-pixels arranged in m rows and n columns (2 rows and 2 columns in this example). In this example, this "unit subpixel array" has a size corresponding to one pixel. More specifically, referring to FIG.
In the example shown in (1), one pixel is divided into four to form a sub-pixel, and the four sub-pixels form one "unit sub-pixel array". Subsequently, sub-pixel configuration information that defines which motif pixel is to be arranged at each sub-pixel position in this "unit sub-pixel array" is created. For example, when the motif A and the motif B are displayed in an overlapping manner, either the pixel of the motif A or the pixel of the motif B is arranged at each sub-pixel position. Therefore, sub-pixel configuration information as shown in FIG. 18 is created to define which motif pixel is to be arranged at each sub-pixel position. FIG.
In the above example, it is defined that the pixels of the motif A are arranged at the upper left and lower right subpixel positions, and the pixels of the motif B are arranged at the lower left and upper right subpixel positions, respectively. Although any definition may be made, it is preferable to arrange pixels of the same motif in diagonal positions in this way in order to display both motifs equally.

【0037】次に、図17に示すように定義した「単位
副画素配列」自身を、図19(a) に示すように、M行N
列に配列する。前述のように、この例では、「単位副画
素配列」は1つの画素に対応する大きさを有しているの
で、この図19(a) に示す「単位副画素配列」の配列
は、図17の左方に示す画素の配列と同じものになる。
なお、この図19(a) に示す「単位副画素配列」の配列
を、「副画素」の配列としてみた場合は、図19(b) 示
すような(m×M)行(n×N)列(この例では14行
14列)の配列となる。
Next, the "unit sub-pixel array" itself defined as shown in FIG. 17 is converted into M rows and N columns as shown in FIG. 19 (a).
Arrange in columns. As described above, in this example, since the “unit subpixel array” has a size corresponding to one pixel, the array of the “unit subpixel array” shown in FIG. It becomes the same as the array of pixels shown on the left side of 17.
When the array of "unit subpixel array" shown in FIG. 19A is viewed as an array of "subpixel", (m × M) rows (n × N) as shown in FIG. 19B. It becomes an array of columns (14 rows and 14 columns in this example).

【0038】ところで、図16(a) ,(b) に示したよう
に、2つのモチーフA,Bについては、それぞれ対応関
係情報R1,R2が得られるので、この情報を用いれ
ば、各「単位副画素配列」について、所定の画素パター
ンを抽出することができる。図20は、このようにして
抽出された画素パターンを示すものである。49組の
「単位副画素配列」のうちのいくつかには画素パターン
P1あるいはP2が抽出され、別ないくつかにはその両
方が抽出されている。続いて、この抽出された画素パタ
ーンを、図18で定義した副画素構成情報に基づいて、
所定の副画素位置に配置するのである。すなわち、モチ
ーフAについての画素パターンP1は、図21(a) に示
すように、「単位副画素配列(図21では実線で示して
ある)」内の左上および右下の副画素位置に配置する。
また、モチーフBについての画素パターンP2は、図2
1(b) に示すように、「単位副画素配列」内の左下およ
び右上の副画素位置に配置する。このような配置を同一
平面上に重複して行うようにすれば、図22に示すよう
なパターンが得られ、これが実際のホログラム記録媒体
に記録されるパターンとなる。
By the way, as shown in FIGS. 16 (a) and 16 (b), correspondence information R1 and R2 can be obtained for the two motifs A and B, respectively. A predetermined pixel pattern can be extracted from the “sub-pixel array”. FIG. 20 shows a pixel pattern extracted in this way. Pixel patterns P1 or P2 are extracted in some of the 49 sets of "unit subpixel arrays", and both are extracted in some of them. Then, based on the sub-pixel configuration information defined in FIG. 18, the extracted pixel pattern is
It is arranged at a predetermined sub-pixel position. That is, the pixel pattern P1 for the motif A is arranged at the upper left and lower right subpixel positions in the “unit subpixel array (shown by the solid line in FIG. 21)” as shown in FIG. .
The pixel pattern P2 for the motif B is shown in FIG.
As shown in 1 (b), they are arranged at the lower left and upper right subpixel positions in the "unit subpixel array". If such an arrangement is duplicated on the same plane, a pattern as shown in FIG. 22 is obtained, and this becomes a pattern actually recorded on the hologram recording medium.

【0039】この図22に示すパターン内には、モチー
フAとモチーフBとが重複して表現されていることにな
る。しかも、モチーフAを表現する副画素と、モチーフ
Bを表現する副画素とでは、格子線の形成角度が異なる
ため、ある1つの方向から観察するとモチーフAが認識
でき(図21(a) のようなパターンが認識できる)、別
な方向から観察するとモチーフBが認識できる(図21
(b) のようなパターンが認識できる)ようになってい
る。このような手法を用いれば、画素が重複する複数の
モチーフについても、同一平面上に重複して表現するこ
とが可能になる。なお、図15に示した2つのモチーフ
A,Bは、いずれも解像度の低い画像であるため、図2
1(a) ,(b) に示すパターンは、もとのモチーフに比べ
てかなり歪んだものとなっているが、実際には、より解
像度の高い画像をモチーフとして用いるため、観察され
る画像の歪みはほとんど問題にはならない。
In the pattern shown in FIG. 22, the motif A and the motif B are redundantly expressed. Moreover, since the sub-pixel expressing the motif A and the sub-pixel expressing the motif B have different grid line formation angles, the motif A can be recognized when observed from one direction (see FIG. 21 (a)). Pattern can be recognized), and motif B can be recognized when observed from another direction (Fig. 21).
(A pattern like (b) can be recognized). By using such a method, it is possible to represent a plurality of motifs with overlapping pixels on the same plane in an overlapping manner. Since the two motifs A and B shown in FIG. 15 are both low-resolution images,
The patterns shown in 1 (a) and (b) are considerably distorted compared to the original motif, but in reality, since the image with higher resolution is used as the motif, Distortion is hardly a problem.

【0040】なお、この手法では、3つ以上のモチーフ
についての重複表現も可能である。たとえば、図23
(a) に示すような副画素構成情報を定義すれば、4つの
モチーフA,B,C,Dを同一平面上に重複表現するこ
とができる。また、図23(b)に示すような副画素構成
情報を定義すれば、3つのモチーフA,B,Cを同一平
面上に重複表現することができる。ただし、この場合、
3つのモチーフA,B,Cは対等ではなく、モチーフC
の濃度がモチーフA,Bの濃度の2倍になる。変則的な
例としては、図23(c) に示すような副画素構成情報を
定義することも可能である。ここで、「A+C」なる表
示は、AまたはCのいずれか一方の画素がここに表示さ
れるという意味であり、モチーフAとモチーフCとが相
補的なパターン(たとえば、図9に示すようなモチーフ
A,Bのように、画素値「1」をもった画素位置が重な
ることがないようなパターン)である場合を前提とした
定義の仕方である。なお、3つのモチーフA,B,Cを
対等に重複表現する場合には、図24(a) または(b) に
示すような副画素構成情報を定義するとよい。この場
合、「単位副画素配列」は3行3列の配列になる。
In this method, it is possible to represent three or more motifs in duplicate. For example, in FIG.
By defining the sub-pixel configuration information as shown in (a), the four motifs A, B, C and D can be expressed in duplicate on the same plane. Further, if the sub-pixel configuration information as shown in FIG. 23 (b) is defined, the three motifs A, B, and C can be expressed in duplicate on the same plane. However, in this case,
The three motifs A, B and C are not equal, but motif C
Is twice as high as that of motifs A and B. As an irregular example, it is also possible to define sub-pixel configuration information as shown in FIG. 23 (c). Here, the display “A + C” means that either one of the pixels A or C is displayed here, and the motif A and the motif C are complementary patterns (for example, as shown in FIG. 9). The definition method is based on the premise that patterns such as motifs A and B are such that pixel positions having a pixel value “1” do not overlap). When the three motifs A, B, and C are equally expressed in duplicate, the sub-pixel configuration information as shown in FIG. 24 (a) or (b) may be defined. In this case, the “unit subpixel array” is an array of 3 rows and 3 columns.

【0041】ここで、まとめの意味で、上述した手法を
用いた場合における個々の画素と個々の副画素との一般
的な対応関係を述べておく。いま、図25に示すよう
に、モチーフAがM行N列の画素配列で表現されてお
り、個々の画素には、A11,A12,…と名前が付さ
れており、同様に、図26に示すように、モチーフBが
M行N列の画素配列で表現されており、個々の画素に
は、B11,B12,…と名前が付されている場合を考
える。この場合、図27に示すように、M行N列の「単
位副画素配列」が定義でき、これは(m×M)行(n×
N)列の副画素配列ともいうことができる。このとき、
図25および図26に示す個々の画素と、図27に示す
個々の副画素との対応関係は、図示したようになる(個
々の画素に付された名前を参照)。ここで、1つの「単
位副画素配列」についての左上副画素と右下副画素には
全く同じ画素が対応し、左下副画素と右上副画素にも全
く同じ画素が対応することになる(たとえば、図27に
おける1行1列目の「単位副画素配列」に着目すると、
左上副画素と右下副画素には全く同じ画素A11が対応
し、左下副画素と右上副画素にも全く同じ画素B11が
対応している)。
Here, for the purpose of summary, a general correspondence relationship between individual pixels and individual sub-pixels when the above-described method is used will be described. Now, as shown in FIG. 25, the motif A is expressed by a pixel array of M rows and N columns, and individual pixels are named A11, A12, ... As shown, consider a case where the motif B is represented by a pixel array of M rows and N columns, and individual pixels are named B11, B12, .... In this case, as shown in FIG. 27, a “unit sub-pixel array” of M rows and N columns can be defined, which is (m × M) rows (n ×
It can also be referred to as a subpixel array of N) columns. At this time,
The correspondence between the individual pixels shown in FIGS. 25 and 26 and the individual sub-pixels shown in FIG. 27 is as shown in the figure (see the names given to the individual pixels). Here, the upper left subpixel and the lower right subpixel in one "unit subpixel array" correspond to exactly the same pixel, and the lower left subpixel and the upper right subpixel also correspond to exactly the same pixel (for example, , Paying attention to the "unit sub-pixel array" in the first row and first column in FIG.
The same pixel A11 corresponds to the upper left subpixel and the lower right subpixel, and the same pixel B11 corresponds to the lower left subpixel and the upper right subpixel).

【0042】これに対して、次に述べる変形例は、各副
画素のそれぞれに全く異なる画素を配置する方法を示す
ものである。この変形例では、図27に示す「単位副画
素配列」の代わりに、図28に示す「単位副画素配列」
が用いられる。いずれも実線で示した領域が「単位副画
素配列」であるが、両者では大きさが異なる。すなわ
ち、図27の例では、モチーフの1画素と同じ大きさを
もった「単位副画素配列」が定義されているため、副画
素はモチーフの1画素の1/4の大きさになるのに対
し、図28の例では、モチーフの4画素分の大きさをも
った「単位副画素配列」が定義されているため、副画素
はモチーフの1画素と同じ大きさになる。結局、図28
の例では、モチーフ全体を示すためには、「単位副画素
配列」自身を(M/m)行(N/n)列に配置した「単
位副画素配列」の配列を定義することになる。この配列
は、副画素の配列としてみれば、M行N列の配列にな
る。
On the other hand, the modification described below shows a method of arranging completely different pixels in each of the sub-pixels. In this modification, instead of the "unit subpixel array" shown in FIG. 27, the "unit subpixel array" shown in FIG.
Is used. In each case, the area shown by the solid line is the "unit sub-pixel array", but the sizes are different in both areas. That is, in the example of FIG. 27, since the “unit subpixel array” having the same size as one pixel of the motif is defined, the subpixel has a size of ¼ of one pixel of the motif. On the other hand, in the example of FIG. 28, since the “unit subpixel array” having the size of four pixels of the motif is defined, the subpixel has the same size as one pixel of the motif. After all, FIG.
In the above example, in order to show the entire motif, an array of “unit subpixel array” in which the “unit subpixel array” itself is arranged in (M / m) rows (N / n) columns is defined. When viewed as an array of sub-pixels, this array is an array of M rows and N columns.

【0043】ここで、図28における1行1列目の「単
位副画素配列Z(周囲をハッチングして示してある)」
内には、どのような画素パターンの貼り込み処理が行わ
れるかを考えてみる。モチーフAに関しては、図25を
参照すればわかるように、画素A11,A12,A2
1,A22に対応した画素パターンが貼り込み候補とし
て抽出される。一方、モチーフBに関しては、図26を
参照すればわかるように、画素B11,B12,B2
1,B22に対応した画素パターンが貼り込み候補とし
て抽出される。そこで、図28の下方に示した副画素構
成情報に基づいて、抽出された画素パターンのうちの一
部のみを選択して、これを所定の副画素位置に配置する
のである。具体的には、モチーフAに関しては、抽出さ
れた画素A11,A12,A21,A22のうちの左上
および右下位置にある画素A11,A22だけが選択さ
れ、モチーフBに関しては、抽出された画素B11,B
12,B21,B22のうちの左下および右上位置にあ
る画素B12,B21だけが選択されることになる。こ
うして、図28の「単位副画素配列Z」に示されている
ように、この中には、画素A11,B12,B21,A
22の4つについての画素パターンが貼り込まれること
になる。ここで、図28に示す「単位副画素配列」の配
列全体を観察すればわかるように、もとのモチーフAお
よびモチーフBを構成する画素のうちの2つに1つは間
引かれている。実際に用いるモチーフはかなり解像度の
高い画像であるため、このような間引きを行っても特に
問題はない。
Here, "unit sub-pixel array Z (periphery is shown by hatching)" in the first row and first column in FIG.
Let us consider what kind of pixel pattern is to be embedded. Regarding the motif A, as can be seen by referring to FIG. 25, pixels A11, A12, A2
A pixel pattern corresponding to 1, A22 is extracted as a paste candidate. On the other hand, regarding the motif B, as can be seen by referring to FIG. 26, the pixels B11, B12, B2
A pixel pattern corresponding to 1, B22 is extracted as a paste candidate. Therefore, based on the sub-pixel configuration information shown in the lower part of FIG. 28, only a part of the extracted pixel pattern is selected and arranged at a predetermined sub-pixel position. Specifically, for the motif A, only the pixels A11, A22 at the upper left and lower right positions of the extracted pixels A11, A12, A21, A22 are selected, and for the motif B, the extracted pixel B11 is selected. , B
Only the pixels B12 and B21 at the lower left and upper right positions of 12, B21 and B22 are selected. Thus, as shown in the "unit sub-pixel array Z" of FIG. 28, the pixels A11, B12, B21, A
Pixel patterns for four of 22 will be pasted. Here, as can be seen by observing the entire arrangement of the “unit subpixel arrangement” shown in FIG. 28, one of two pixels forming the original motif A and motif B is thinned out. . Since the motif actually used is an image with a fairly high resolution, there is no particular problem even if such thinning is performed.

【0044】図27に示す手法では、画素は間引かれる
ことはないが、副画素の大きさがモチーフの画素の大き
さよりも細かくなってしまうのに対し、図28に示す手
法では、副画素の大きさはモチーフの画素の大きさと同
じであるが、画素は間引かれてしまうことになり、いず
れも一長一短がある。したがって、実際に用いるモチー
フの絵柄や解像度などを考慮して、いずれか適した手法
を採用すればよい。
In the method shown in FIG. 27, the pixels are not thinned out, but the size of the sub-pixel becomes smaller than the size of the pixel of the motif, whereas in the method shown in FIG. The size of is the same as the size of the pixel of the motif, but the pixels are thinned out, and both have advantages and disadvantages. Therefore, any suitable method may be adopted in consideration of the pattern and resolution of the motif actually used.

【0045】なお、画素や副画素の形状として、これま
での実施例では長方形のものを用いているが、図29
(a) に示すような正方形のもの(たとえば、50μm×
50μmの大きさ)や、図29(b) に示すような円形の
ものを用いてもかまわない。ただ、回折格子の形成密度
を高める意味では、円形の画素よりも矩形の画素(長方
形や正方形)を用いる方が好ましい。
The shape of the pixel or sub-pixel is rectangular in the above embodiments, but FIG.
Square shape as shown in (a) (for example, 50 μm ×
A size of 50 μm) or a circular shape as shown in FIG. 29 (b) may be used. However, in terms of increasing the formation density of the diffraction grating, it is preferable to use rectangular pixels (rectangular or square) rather than circular pixels.

【0046】<<<§5. 階調をもったモチーフを表
現する実施例>>>これまでの説明は、基本的に階調を
もたない二値画像としてモチーフが与えられた場合の処
理についてのものであったが、本発明は階調をもったモ
チーフについても適用可能である。階調をもったモチー
フを表現する場合には、たとえば、図30に示すような
複数の画素パターンを用意しておけばよい。ここで、実
線で示す領域は画素としての全占有領域Vであり、破線
で示す領域は、全占有領域Vの中で格子線を配置する対
象となった閉領域Wである。図30に示す5つの画素パ
ターンは、全占有領域Vに対する閉領域Wの面積比が、
それぞれ100%,50%,30%,10%,5%のも
のであり、それぞれ濃度値の異なる画素パターンという
ことができる。もとになったモチーフを構成する各画素
の画素値(濃度値)に応じて、これら濃度値の異なる画
素パターンを使い分けるようにすれば、階調をもったモ
チーフの表現が可能になる。
<<<< §5. Example of expressing a motif having a gradation >> The description so far has been about processing when a motif is given as a binary image having no gradation. The invention can be applied to motifs having gradation. When expressing a motif having gradation, for example, a plurality of pixel patterns as shown in FIG. 30 may be prepared. Here, the area shown by the solid line is the entire occupied area V as a pixel, and the area shown by the broken line is the closed area W in which the grid lines are arranged in the occupied area V. In the five pixel patterns shown in FIG. 30, the area ratio of the closed region W to the entire occupied region V is
The pixel patterns are 100%, 50%, 30%, 10%, and 5%, respectively, and can be referred to as pixel patterns having different density values. If the pixel patterns (density values) of the respective pixels forming the original motif are used properly, it is possible to express the motif with gradation.

【0047】<<<§6. 具体的な装置構成例>>>
最後に、上述したホログラム記録媒体の作成方法を実施
するための具体的な装置構成例を図31に示しておく。
この装置の基本的な構成要素は、ワークステーション1
0、データフォーマット変換装置20、電子ビーム描画
装置30、プレス装置40である。ワークステーション
10は、上述した種々の演算処理を行うためのプログラ
ムを搭載したコンピュータであり、キーボードやマウス
などの入力機器、ディスプレイやプリンタなどの出力機
器、フロッピディスクドライブ装置やハードディスクド
ライブ装置などの外部記憶装置、などを有する。ここで
は、3つのモチーフA,B,Cについてのモチーフ画素
情報ファイルをそれぞれフロッピディスク1,2,3で
ワークステーション10に供給している状態が示されて
いる。このように、モチーフ画素情報(ラスター画像デ
ータ)は、他の作画装置などで作成したものをワークス
テーション10に入力するようにしてもよいし、紙面上
に描かれたデザイン画をスキャナ装置でワークステーシ
ョン10に入力するようにしてもよいし、ワークステー
ション10に搭載した作画ソフトウエアを用いて、ワー
クステーション10自身で作成するようにしてもよい。
<<<< §6. Specific device configuration example >>>
Finally, FIG. 31 shows an example of a specific device configuration for carrying out the method for producing the hologram recording medium described above.
The basic components of this device are the workstation 1
0, a data format conversion device 20, an electron beam drawing device 30, and a pressing device 40. The workstation 10 is a computer equipped with a program for performing the above-described various arithmetic processes, and has input devices such as a keyboard and a mouse, output devices such as a display and a printer, and external devices such as a floppy disk drive device and a hard disk drive device. It has a memory device and the like. Here, a state is shown in which motif pixel information files for three motifs A, B, and C are supplied to the workstation 10 by the floppy disks 1, 2, and 3, respectively. As described above, the motif pixel information (raster image data) may be created by another drawing device or the like and input to the workstation 10. Alternatively, the design image drawn on the paper may be processed by the scanner device. The data may be input to the station 10, or may be created by the workstation 10 itself by using the drawing software installed in the workstation 10.

【0048】続いて、ワークステーション10を用い
て、入力したモチーフ画素情報に基づいた対応関係情報
を作成し、これを対応関係情報ファイル11として保存
する。また、副画素構成情報を定義して、これを副画素
構成情報ファイル12として保存し、更に、必要な画素
パターンを必要な種類だけ作成し、これを画素パターン
ファイル13として保存する。オペレータはワークステ
ーション10に対して対話式に指示を入力することによ
り、これらのファイルを用意することができる。これら
のファイルが用意できたら、ワークステーション10
は、対応関係情報ファイル11および副画素構成情報フ
ァイル12を検索しながら、画素パターンファイル13
内の所定の画素パターンを、所定の画素位置に貼り込む
処理を行い、ホログラムパターンデータを出力する。
Subsequently, the workstation 10 is used to create correspondence information based on the input motif pixel information, and this is stored as a correspondence information file 11. Further, the sub-pixel configuration information is defined, this is stored as the sub-pixel configuration information file 12, further, necessary pixel patterns are created in the required types, and this is stored as the pixel pattern file 13. An operator can prepare these files by interactively entering instructions into the workstation 10. Once you have these files, workstation 10
While searching the correspondence relationship information file 11 and the sub-pixel configuration information file 12, the pixel pattern file 13
A predetermined pixel pattern therein is pasted at a predetermined pixel position, and hologram pattern data is output.

【0049】このホログラムパターンデータは、データ
フォーマット変換装置20に与えられる。このデータフ
ォーマット変換装置20は、ワークステーション10が
出力したホログラムパターンデータを、電子ビーム描画
装置30の要求するフォーマットに変換する機能をもっ
た装置である。フォーマット変換されたデータは、電子
ビーム描画装置30に与えられ、ホログラムパターンが
ホログラム原版4上に物理的なパターンとして出力され
る。プレス装置40は、このホログラム原版4を用い
て、フィルム上にホログラムパターンをプレスする装置
であり、ホログラムシール5が大量生産されることにな
る。
This hologram pattern data is given to the data format conversion device 20. The data format conversion device 20 is a device having a function of converting the hologram pattern data output from the workstation 10 into a format required by the electron beam drawing device 30. The format-converted data is given to the electron beam drawing device 30, and the hologram pattern is output as a physical pattern on the hologram master 4. The pressing device 40 is a device that presses a hologram pattern on a film using the hologram original plate 4, and the hologram seal 5 is mass-produced.

【0050】なお、図2に示す画素パターンにおいて、
各格子線Lは任意の四角形の形状をしたものであるが、
電子ビーム描画装置30として、フォトマスク作成用に
市販されている一般的な装置を用いるのであれば、対向
する辺がX軸またはY軸に平行な平行四辺形の形状をし
た格子線Lを用いるのが好ましい。たとえば、格子線L
の配置角度θが、−45°≦θ≦45°の場合には、図
32に示すように、短辺がY軸に平行な平行四辺形の格
子線Lを用い、格子線Lの配置角度θが、θ>45°ま
たは、θ<−45°の場合には、図33に示すように、
短辺がX軸に平行な平行四辺形の格子線Lを用いるとよ
い。このように、対向する辺がX軸またはY軸に平行な
平行四辺形を用いると、フォトマスク作成用の電子ビー
ム描画装置における描画効率が向上する。
In the pixel pattern shown in FIG. 2,
Each grid line L has an arbitrary square shape,
If a general device commercially available for photomask production is used as the electron beam drawing device 30, a parallelogrammatic lattice line L whose opposite sides are parallel to the X axis or the Y axis is used. Is preferred. For example, the grid line L
When the arrangement angle θ is −45 ° ≦ θ ≦ 45 °, a parallelogrammatic grid line L whose short side is parallel to the Y axis is used and the arrangement angle of the grid line L is as shown in FIG. When θ is θ> 45 ° or θ <−45 °, as shown in FIG.
It is preferable to use parallelogrammatic grid lines L whose short sides are parallel to the X axis. As described above, when the parallelogram whose opposite sides are parallel to the X axis or the Y axis is used, the drawing efficiency in the electron beam drawing apparatus for making a photomask is improved.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上のとおり本発明に係るホログラム記
媒体によれば、回折格子が形成された画素を平面的に
配置することにより、ホログラムパターンを記録するよ
うにしたため、鮮明で再現性の良いホログラム像が得ら
れるようになる。
As described above, according to the hologram recording medium of the present invention, the hologram pattern is recorded by arranging the pixels on which the diffraction grating is formed in a plane, so that the hologram pattern is clear and has good reproducibility. A hologram image can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るホログラム記録媒体のモチーフと
して用いられているパターンおよび画素情報の一例を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram showing an example of pattern and pixel information used as a motif of a hologram recording medium according to the present invention.

【図2】本発明に係るホログラム記録媒体に用いられる
画素パターンの一例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a pixel pattern used in the hologram recording medium according to the present invention.

【図3】図1に示すモチーフと図2に示す画素パターン
とを用いて作成されたホログラム記録媒体を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing a hologram recording medium created using the motif shown in FIG. 1 and the pixel pattern shown in FIG.

【図4】図3に示すホログラム記録媒体を作成するため
の貼り込み処理の概念を示す図である。
4 is a diagram showing a concept of a pasting process for producing the hologram recording medium shown in FIG.

【図5】本発明に係るホログラム記録媒体に用いられる
複数の画素パターンの一例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an example of a plurality of pixel patterns used in the hologram recording medium according to the present invention.

【図6】図1に示すモチーフと図5に示す画素パターン
との対応関係を定義する対応関係情報を示す図である。
6 is a diagram showing correspondence relationship information that defines a correspondence relationship between the motif shown in FIG. 1 and the pixel pattern shown in FIG.

【図7】図6に示す対応関係情報を作成する一実施例を
示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing an example of creating the correspondence information shown in FIG. 6;

【図8】階調をもったモチーフについての画素情報の一
例を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing an example of pixel information about a motif having gradation.

【図9】本発明に係るホログラム記録媒体に重複して記
録される2つのモチーフの例を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing an example of two motifs that are redundantly recorded on the hologram recording medium according to the present invention.

【図10】図9に示す2つのモチーフについてそれぞれ
用いられる画素パターンの一例を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing an example of a pixel pattern used for each of the two motifs shown in FIG.

【図11】図9に示す2つのモチーフと、図10に示す
2つの画素パターンとの対応関係を定義する対応関係情
報を示す図である。
11 is a diagram showing correspondence relationship information defining a correspondence relationship between the two motifs shown in FIG. 9 and the two pixel patterns shown in FIG.

【図12】図9に示す2つのモチーフと、図10に示す
2つの画素パターンと、図11に示す対応関係情報と、
を用いて作成されたホログラム記録媒体を示す図であ
る。
12 is a diagram showing two motifs shown in FIG. 9, two pixel patterns shown in FIG. 10, and correspondence information shown in FIG.
It is a figure which shows the hologram recording medium created using.

【図13】図9に示す2つのモチーフについてそれぞれ
用いられる2つのグループに所属した画素パターンの一
例を示す図である。
13 is a diagram showing an example of pixel patterns belonging to two groups used respectively for the two motifs shown in FIG.

【図14】図9に示す2つのモチーフと、図13に示す
2つの画素パターンとの対応関係を定義する対応関係情
報を示す図である。
14 is a diagram showing correspondence relationship information defining a correspondence relationship between the two motifs shown in FIG. 9 and the two pixel patterns shown in FIG. 13.

【図15】本発明に係るホログラム記録媒体に重複して
記録される2つのモチーフの別な例を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing another example of two motifs that are redundantly recorded in the hologram recording medium according to the present invention.

【図16】図15に示す2つのモチーフと、図10に示
す2つの画素パターンとの対応関係を定義する対応関係
情報を示す図である。
16 is a diagram showing correspondence relationship information defining a correspondence relationship between the two motifs shown in FIG. 15 and the two pixel patterns shown in FIG.

【図17】本発明において用いる「単位副画素配列」の
概念を説明する図である。
FIG. 17 is a diagram illustrating the concept of a “unit subpixel array” used in the present invention.

【図18】図17に示す「単位副画素配列」について定
義された副画素構成情報の一例を示す図である。
18 is a diagram showing an example of sub-pixel configuration information defined for the "unit sub-pixel array" shown in FIG.

【図19】図17に示す「単位副画素配列」についての
配列およびこの配列に対応する副画素配列を示す図であ
る。
FIG. 19 is a diagram showing an array regarding the “unit subpixel array” shown in FIG. 17 and a subpixel array corresponding to this array.

【図20】図19に示す「単位副画素配列」の配列の各
要素について抽出された画素パターンを示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing a pixel pattern extracted for each element of the array of “unit subpixel array” shown in FIG. 19;

【図21】図20に示されている画素パターンを、各副
画素へ配置した状態を示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing a state in which the pixel pattern shown in FIG. 20 is arranged in each sub-pixel.

【図22】図21に示す配置により作成されるホログラ
ム記録媒体を示す図である。
22 is a diagram showing a hologram recording medium created by the arrangement shown in FIG.

【図23】本発明に利用される副画素構成情報の別な構
成例を示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing another configuration example of sub-pixel configuration information used in the present invention.

【図24】3つのモチーフを重複表現する場合に適した
副画素構成情報の構成例を示す図である。
[Fig. 24] Fig. 24 is a diagram illustrating a configuration example of sub-pixel configuration information suitable for the case where three motifs are redundantly expressed.

【図25】モチーフAについての画素配置を示す図であ
る。
25 is a diagram showing a pixel arrangement for motif A. FIG.

【図26】モチーフBについての画素配置を示す図であ
る。
26 is a diagram showing a pixel arrangement for motif B. FIG.

【図27】図25に示すモチーフAと図26に示すモチ
ーフBとを、副画素を用いて重複表現した例を示す図で
ある。
FIG. 27 is a diagram showing an example in which the motif A shown in FIG. 25 and the motif B shown in FIG. 26 are overlappingly expressed by using subpixels.

【図28】図25に示すモチーフAと図26に示すモチ
ーフBとを、副画素を用いて重複表現した別な例を示す
図である。
FIG. 28 is a diagram showing another example in which the motif A shown in FIG. 25 and the motif B shown in FIG. 26 are overlappingly expressed using subpixels.

【図29】本発明に係るホログラム記録媒体に利用でき
る画素の種々の形状を示す図である。
FIG. 29 is a diagram showing various shapes of pixels that can be used in the hologram recording medium according to the present invention.

【図30】本発明により階調をもったモチーフの表現を
行う場合に用いる画素パターンを示す図である。
FIG. 30 is a diagram showing a pixel pattern used when expressing a motif having gradation according to the present invention.

【図31】本発明に係るホログラム記録媒体の作成方法
を実施するための装置構成例を示すブロック図である。
FIG. 31 is a block diagram showing an example of an apparatus configuration for carrying out the method for producing a hologram recording medium according to the present invention.

【図32】電子ビーム描画装置を用いて格子線を描画す
る場合に適した画素パターンの第1の例を示す図であ
る。
FIG. 32 is a diagram showing a first example of a pixel pattern suitable for drawing a lattice line using an electron beam drawing device.

【図33】電子ビーム描画装置を用いて格子線を描画す
る場合に適した画素パターンの第2の例を示す図であ
る。
FIG. 33 is a diagram showing a second example of a pixel pattern suitable for drawing a lattice line using an electron beam drawing device.

【符号の説明】 1,2,3…フロッピディスク 4…ホログラム原版 5…ホログラムシール 10…ワークステーション 11…対応関係情報ファイル 12…副画素構成情報ファイル 13…画素パターンファイル 20…データフォーマット変換装置 30…電子ビーム描画装置 40…プレス装置 A,B…モチーフ L…格子線 P1〜P5,P11〜P23…画素パターン R1,R2…対応関係情報 V…格子線を配置する閉領域 W…画素としての全占有領域 X,Y…座標軸 Z…単位副画素配列 d…格子線の線幅 p…格子線のピッチ θ…格子線の配置角度[Explanation of symbols] 1, 2, 3 ... Floppy disk 4 ... Hologram original 5 ... Hologram sticker 10 ... workstation 11 ... Correspondence information file 12 ... Sub-pixel configuration information file 13 ... Pixel pattern file 20 ... Data format conversion device 30 ... Electron beam drawing device 40 ... Press machine A, B ... Motif L ... Lattice line P1 to P5, P11 to P23 ... Pixel pattern R1, R2 ... Correspondence information V: Closed area where grid lines are placed W: Total occupied area as pixels X, Y ... Coordinate axes Z ... Unit sub-pixel array d ... Line width of grid line p ... Pitch of grid lines θ: Arrangement angle of grid lines

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回折格子により所定のモチーフが表現さ
れたホログラム記録媒体であって、 所定線幅の格子線を所定ピッチおよび所定角度で所定の
閉領域内に配置した画素パターンを、線幅、ピッチ、角
度という3つのパラメータのうちの少なくとも1つを変
えることにより複数定義し、これら複数の画素パターン
を並べることにより所定のモチーフを表現したことを特
徴とするホログラム記録媒体。
1. A hologram recording medium in which a predetermined motif is expressed by a diffraction grating, wherein a pixel pattern in which a grid line having a predetermined line width is arranged in a predetermined closed area at a predetermined pitch and a predetermined angle, A hologram recording medium characterized in that a plurality of pixels are defined by changing at least one of three parameters of pitch and angle, and a predetermined motif is expressed by arranging a plurality of pixel patterns.
【請求項2】 請求項1に記載のホログラム記録媒体に
おいて、 各モチーフごとに異なる画素パターンを用いることによ
り、複数のモチーフを同一平面上に重複させて表現した
ことを特徴とするホログラム記録媒体。
2. The hologram recording medium according to claim 1, wherein a plurality of motifs are overlapped and expressed on the same plane by using different pixel patterns for each motif.
【請求項3】 請求項1に記載のホログラム記録媒体に
おいて、 互いに近似したパラメータをもつ複数の画素パターンを
1グループとして、複数グループの画素パターンを定義
し、各モチーフごとに異なるグループに属する画素パタ
ーンを用いることにより、複数のモチーフを同一平面上
に重複させて表現したことを特徴とするホログラム記録
媒体。
3. The hologram recording medium according to claim 1, wherein a plurality of pixel patterns having mutually similar parameters are defined as one group, and pixel patterns of a plurality of groups are defined, and pixel patterns belonging to different groups for each motif. A hologram recording medium characterized in that a plurality of motifs are expressed by overlapping on the same plane by using.
【請求項4】 請求項2または3に記載のホログラム記
録媒体において、 2行2列に配列された副画素から構成される単位副画素
配列を縦横に並べ、各単位副画素配列における左上の副
画素および右下の副画素には、第1のモチーフを表現す
るための画素パターンを配置し、各単位副画素配列にお
ける左下の副画素および右上の副画素には、第2のモチ
ーフを表現するための画素パターンを配置し、2つのモ
チーフを同一平面上に重複させて表現したことを特徴と
するホログラム記録媒体。
4. The hologram recording medium according to claim 2, wherein a unit subpixel array composed of subpixels arranged in 2 rows and 2 columns is arranged vertically and horizontally, and an upper left subpixel in each unit subpixel array is arranged. A pixel pattern for expressing the first motif is arranged in the pixel and the lower right subpixel, and a second motif is expressed in the lower left subpixel and the upper right subpixel in each unit subpixel array. A holographic recording medium, in which a pixel pattern for the above is arranged, and two motifs are represented by overlapping on the same plane.
【請求項5】 請求項2または3に記載のホログラム記
録媒体において、 2行2列に配列された副画素から構成される単位副画素
配列を縦横に並べ、各単位副画素配列における左上の副
画素には第1のモチーフを表現するための画素パターン
を配置し、各単位副画素配列における右上の副画素には
第2のモチーフを表現するための画素パターンを配置
し、各単位副画素配列における左下の副画素には第3の
モチーフを表現するための画素パターンを配置し、各単
位副画素配列における右下の副画素には第4のモチーフ
を表現するための画素パターンを配置し、4つのモチー
フを同一平面上に重複させて表現したことを特徴とする
ホログラム記録媒体。
5. The hologram recording medium according to claim 2, wherein a unit subpixel array composed of subpixels arranged in 2 rows and 2 columns is arranged vertically and horizontally, and an upper left subpixel in each unit subpixel array is arranged. A pixel pattern for expressing the first motif is arranged in the pixel, and a pixel pattern for expressing the second motif is arranged in the upper right subpixel in each unit subpixel array, and each unit subpixel array is arranged. A pixel pattern for expressing the third motif is arranged in the lower left sub-pixel in, and a pixel pattern for expressing the fourth motif is arranged in the lower right sub-pixel in each unit sub-pixel array, A hologram recording medium characterized in that four motifs are represented by overlapping on the same plane.
【請求項6】 請求項2または3に記載のホログラム記
録媒体において、 3行3列に配列された副画素から構成される単位副画素
配列を縦横に並べ、各単位副画素配列における上段左側
の副画素、中段中央の副画素、下段右側の副画素には第
1のモチーフを表現するための画素パターンを配置し、
各単位副画素配列における上段中央の副画素、中段右側
の副画素、下段左側の副画素には第2のモチーフを表現
するための画素パターンを配置し、各単位副画素配列に
おける上段右側の副画素、中段左側の副画素、下段中央
の副画素には第3のモチーフを表現するための画素パタ
ーンを配置し、3つのモチーフを同一平面上に重複させ
て表現したことを特徴とするホログラム記録媒体。
6. The hologram recording medium according to claim 2, wherein a unit subpixel array composed of subpixels arranged in 3 rows and 3 columns is arranged vertically and horizontally, and the upper left side of each unit subpixel array is arranged. A pixel pattern for expressing the first motif is arranged in the sub-pixel, the middle sub-pixel, and the lower right sub-pixel.
A pixel pattern for expressing the second motif is arranged in the upper center subpixel, the middle right subpixel, and the lower left subpixel in each unit subpixel array, and the upper right subpixel in each unit subpixel array is arranged. Hologram recording characterized in that a pixel pattern for expressing a third motif is arranged in a pixel, a sub-pixel on the left side of the middle row, and a sub-pixel in the center of the lower row, and the three motifs are expressed by overlapping on the same plane. Medium.
【請求項7】 請求項2または3に記載のホログラム記
録媒体において、 3行3列に配列された副画素から構成される単位副画素
配列を縦横に並べ、各単位副画素配列における上段左側
の副画素、中段右側の副画素、下段中央の副画素には第
1のモチーフを表現するための画素パターンを配置し、
各単位副画素配列における上段中央の副画素、中段左側
の副画素、下段右側の副画素には第2のモチーフを表現
するための画素パターンを配置し、各単位副画素配列に
おける上段右側の副画素、中段中央の副画素、下段左側
の副画素には第3のモチーフを表現するための画素パタ
ーンを配置し、3つのモチーフを同一平面上に重複させ
て表現したことを特徴とするホログラム記録媒体。
7. The hologram recording medium according to claim 2, wherein a unit sub-pixel array composed of sub-pixels arranged in 3 rows and 3 columns is arranged vertically and horizontally, and the unit sub-pixel array on the upper left side of each unit sub-pixel array is arranged. A pixel pattern for expressing the first motif is arranged in the sub-pixel, the middle right sub-pixel, and the lower center sub-pixel,
A pixel pattern for expressing the second motif is arranged in the upper center subpixel, the middle left subpixel, and the lower right subpixel in each unit subpixel array, and the upper right subpixel in each unit subpixel array is arranged. Hologram recording characterized in that a pixel pattern for expressing a third motif is arranged in a pixel, a subpixel in the center of the middle row, and a subpixel on the left side of the lower row, and three motifs are expressed by overlapping on the same plane. Medium.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれかに記載のホログ
ラム記録媒体において、 画素としての全占有領域と、この全占有領域の中で格子
線を配置する対象となった閉領域と、の面積比がそれぞ
れ異なる複数の画素パターンを用意し、平面上にこれら
の画素パターンを並べることにより階調をもったモチー
フを表現したことを特徴とするホログラム記録媒体。
8. The hologram recording medium according to claim 1, further comprising: an entire occupied area as a pixel, and a closed area in which a lattice line is arranged in the entire occupied area. A hologram recording medium characterized in that a plurality of pixel patterns having different area ratios are prepared, and a motif having gradation is expressed by arranging these pixel patterns on a plane.
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