JP3381577B2 - Accelerator and its operation method - Google Patents

Accelerator and its operation method

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JP3381577B2
JP3381577B2 JP27081997A JP27081997A JP3381577B2 JP 3381577 B2 JP3381577 B2 JP 3381577B2 JP 27081997 A JP27081997 A JP 27081997A JP 27081997 A JP27081997 A JP 27081997A JP 3381577 B2 JP3381577 B2 JP 3381577B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、荷電粒子ビームを
周回させる加速器とその運転方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an accelerator for orbiting a charged particle beam and a method for operating the accelerator.

【0002】[0002]

【従来の技術】周回型加速器を周回する荷電粒子ビーム
のチューン(荷電粒子ビームの周回軌道一周あたりのベ
ータトロン振動の振動数)が0.5 あるいは0に近づく
と、荷電粒子ビームのベータトロン振動に共鳴が発生す
る。すると、荷電粒子ビームのベータトロン振動の振幅
は増加し、荷電粒子ビームは、真空ダクトに衝突して失
われる。チューンは、収束用4極電磁石および発散用4
極電磁石で発生する磁場勾配を制御することにより、す
なわち、収束用4極電磁石および発散用4極電磁石の励
磁電流を制御することにより調整される。
2. Description of the Related Art When the tune of a charged particle beam orbiting an orbiting type accelerator (frequency of betatron oscillation per orbit of charged particle beam) approaches 0.5 or 0, betatron oscillation of charged particle beam Resonance occurs. Then, the amplitude of the betatron oscillation of the charged particle beam increases, and the charged particle beam collides with the vacuum duct and is lost. The tune is a four-pole electromagnet for focusing and four for diverging.
It is adjusted by controlling the magnetic field gradient generated by the pole electromagnet, that is, by controlling the exciting currents of the focusing quadrupole electromagnet and the diverging quadrupole electromagnet.

【0003】また、入射された荷電粒子ビームのビーム
電流が大きくなると、図8に示すように、ビーム中心領
域の電流密度が増加し、荷電粒子ビーム自身の空間電荷
効果による反発力が増加する。この反発力は、発散用4
極電磁石で荷電粒子に作用する力を同様の影響を持つの
で、チューンが変化する。空間電荷効果によるチューン
の変化については、「月刊フィジクス 加速器物理学
(3)」(p.12 海洋出版株式会社 1985年発
行)に記載されている。
Further, when the beam current of the incident charged particle beam becomes large, as shown in FIG. 8, the current density in the beam central region increases, and the repulsive force due to the space charge effect of the charged particle beam itself increases. This repulsive force is for divergence 4
The tune changes because the force acting on the charged particles in the polar electromagnet has a similar effect. The change in tune due to the space charge effect is described in "Monthly Physics Accelerator Physics (3)" (p.12 Kaiyodo Publishing Co., Ltd., 1985).

【0004】電流密度が大きい程チューンは大きく減少
する。図9に示すように、ビーム周辺領域よりも中心領
域でチューンは大きく減少する。
The larger the current density, the more the tune decreases. As shown in FIG. 9, the tune is greatly reduced in the central region rather than the beam peripheral region.

【0005】従来技術においては、ビームを安定に周回
させるために、荷電粒子ビーム自身の空間電荷効果によ
ってチューンが減少しても、チューンの小数部が0.5
及び0にならないように、収束用4極電磁石5,発散用
4極電磁石6の電流を設定していた。
In the prior art, in order to stably orbit the beam, even if the tune is reduced by the space charge effect of the charged particle beam itself, the fractional part of the tune is 0.5.
The currents of the converging quadrupole electromagnet 5 and the diverging quadrupole electromagnet 6 are set so as not to be 0 and 0.

【0006】また、特開平8−148298 号公報は、チュー
ンが減少して共鳴が発生しても、8極電磁石を用いて、
荷電粒子に振動の中心に向かう力を作用させて荷電粒子
のチューンを増加し、共鳴を停止させることを記載す
る。
Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 8-148298, even if the tune decreases and resonance occurs, an 8-pole electromagnet is used.
It is described that the charged particles are subjected to a force toward the center of vibration to increase the tune of the charged particles and stop the resonance.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術では、
次のような問題点があった。
SUMMARY OF THE INVENTION In the above prior art,
There were the following problems.

【0008】大電流の荷電粒子ビームを加速器で加速・
蓄積する場合、空間電荷効果によるチューンの減少が非
常に大きい。このときに、収束用4極電磁石および発散
用4極電磁石の制御だけでは、チューンの小数部が0あ
るいは0.5 になって、共鳴が生じる。その結果、荷電
粒子ビームのベータトロン振動の振幅が増大し、荷電粒
子ビームが損失する。
Accelerating a large current charged particle beam with an accelerator
When accumulating, the tune reduction due to space charge effect is very large. At this time, only by controlling the converging quadrupole electromagnet and the diverging quadrupole electromagnet, the fractional part of the tune becomes 0 or 0.5 and resonance occurs. As a result, the amplitude of the betatron oscillation of the charged particle beam increases and the charged particle beam is lost.

【0009】また、特開平8−148298 号公報に記載され
る従来技術では、チューンを増加させるために8極電磁
石を強くすると、加速器を周回する荷電粒子ビームに不
安定性が生じ、荷電粒子ビームは真空ダクトに衝突して
失われる問題があった。
Further, in the prior art disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-148298, if the octupole electromagnet is strengthened in order to increase the tune, instability occurs in the charged particle beam orbiting the accelerator, and the charged particle beam is There was a problem of colliding with the vacuum duct and being lost.

【0010】本発明の目的は、周回する荷電粒子ビーム
のビーム損失を低減して、大電流の荷電粒子ビームでも
安定に入射,加速および蓄積できる加速器およびその運
転方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an accelerator capable of reducing the beam loss of a circulating charged particle beam and stably injecting, accelerating and accumulating even a large current charged particle beam, and an operating method thereof.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の特徴は、荷電粒子ビームの入射開始時,入射中,加
速中または蓄積中に、高周波印加装置が、前記荷電粒子
ビームのベータトロン振動の共鳴を発生させない前記チ
ューンの値であって予め設定されたチューンの値に基づ
いて定められた周波数を含む高周波電界または高周波磁
界を、周回軌道を周回中の荷電粒子ビームに印加し、荷
電粒子ビームに含まれる複数の荷電粒子のうち、設定さ
れた値のチューンを有する荷電粒子のベータトロン振動
の振幅を増加させることにある。
Feature of the present invention to achieve the above object, according to an aspect of the time of incidence start of the charged particle beam, in the incident, or during storage acceleration, high-frequency applying device, the charged particles
The channel that does not generate the resonance of the betatron oscillation of the beam
The high-frequency electric field or a high-frequency magnetic field comprises a frequency defined based on the value of tune that is set in advance to a value of Yun, is applied to the charged particle beam orbiting orbit, a plurality included in the charged particle beam Among the charged particles, it is to increase the amplitude of betatron oscillation of the charged particles having a set value of tune.

【0012】この特徴によれば、荷電粒子ビームに含ま
れる複数の荷電粒子のうち、荷電粒子ビームのベータト
ロン振動の共鳴を発生させない値のチューンであって
め設定された値のチューンを有する荷電粒子のベータト
ロン振動が、予め設定されたその値に基づいて定められ
た周波数を含む高周波電界または高周波磁界と同期す
る。その荷電粒子は、その高周波電界または高周波磁界
からエネルギーを与えられ、ベータトロン振動の振幅が
増加される。振幅が増加した荷電粒子の振動の範囲はビ
ームの径方向外側へ広がるので、予め設定された値のチ
ューンを有する荷電粒子が振動していた範囲において荷
電粒子の密度は小さくなる。従って、荷電粒子の密度は
小さくなった範囲において、空間電荷効果によるチュー
ンの変化を防止できるので、共鳴の発生を抑え、ビーム
損失を防止しながら、安定にビームを入射,加速または
蓄積することができる。特に、ビームの中心部に集まっ
ている荷電粒子のベータトロン振動の振幅を増加すれ
ば、これらの荷電粒子の振動の範囲は、ビームの中心部
から外周部へ広がる。ビームの中心部の荷電粒子は少な
くなり、その分外周部で増えるので、荷電粒子密度の分
布は平坦になる。従って、ビームの中心部において、空
間電荷効果によるチューンの変化を防止できるので、共
鳴の発生を抑え、ビーム損失を防止しながら、安定にビ
ームを入射,加速または蓄積することができる。
According to this feature, among the plurality of charged particles included in the charged particle beam, the betato of the charged particle beam is used.
A betatron oscillation of a charged particle having a tune of a value that does not cause resonance of the Ron oscillation and has a preset tune includes a frequency determined based on the preset value. Synchronize with high frequency electric field or high frequency magnetic field. The charged particles are energized by the high frequency electric field or the high frequency magnetic field, and the amplitude of the betatron oscillation is increased. Since the range of vibration of the charged particles having the increased amplitude spreads outward in the radial direction of the beam, the density of the charged particles becomes small in the range where the charged particles having a tune of a preset value were vibrating. Therefore, in the range where the density of the charged particles is reduced, the change of the tune due to the space charge effect can be prevented, so that the occurrence of resonance can be suppressed and the beam loss can be prevented, and the beam can be stably incident, accelerated or accumulated. it can. In particular, if the amplitude of the betatron oscillation of the charged particles gathering in the central portion of the beam is increased, the range of oscillation of these charged particles extends from the central portion of the beam to the outer peripheral portion. The number of charged particles in the central portion of the beam decreases, and the number of charged particles increases in the outer peripheral portion, so that the distribution of the charged particle density becomes flat. Therefore, it is possible to prevent the tune from changing due to the space charge effect in the central portion of the beam, so that it is possible to stably enter, accelerate, or accumulate the beam while suppressing the occurrence of resonance and preventing the beam loss.

【0013】また、入射開始時から、予め設定された値
のチューンを有する荷電粒子のベータトロン振動の振幅
を増加すれば、入射時のビームのエネルギーが低くて
も、空間電荷効果によるチューンの変化を防止して、安
定に荷電粒子を加速器に入射できる。また、入射エネル
ギーを低減できるので、前段加速器や入射器などを小型
化できる。
Further, if the amplitude of the betatron oscillation of the charged particle having a tune of a preset value is increased from the start of the incident, the tune changes due to the space charge effect even if the beam energy at the incident is low. Therefore, charged particles can be stably injected into the accelerator. Further, since the incident energy can be reduced, the pre-stage accelerator and the injector can be downsized.

【0014】[0014]

【0015】[0015]

【0016】特に、ビームの中心部に集まっている荷電
粒子がもつチューンの値に基づいて定められた周波数を
含む高周波電界または高周波磁界を、荷電粒子ビームに
印加すれば、これらの荷電粒子のベータトロン振動の範
囲は、ビーム中心付近から垂直方向外側に広がる。ビー
ム中心付近の荷電粒子は少なくなり、その分外周部で増
えるので、荷電粒子密度の分布は平坦になる。従って、
ビームの中心部において、空間電荷効果によるチューン
の変化を防止できるので、共鳴の発生を抑え、ビーム損
失を防止しながら、安定にビームを入射,加速または蓄
積することができる。
Particularly, if a high frequency electric field or a high frequency magnetic field containing a frequency determined based on the tune value of the charged particles gathering at the center of the beam is applied to the charged particle beam, the beta of these charged particles is obtained. The range of tron oscillation extends from the vicinity of the center of the beam to the outside in the vertical direction. The number of charged particles near the center of the beam decreases, and the number of charged particles increases in the outer peripheral portion, so that the distribution of the charged particle density becomes flat. Therefore,
At the center of the beam, changes in the tune due to the space charge effect can be prevented, so that it is possible to stably enter, accelerate, or accumulate the beam while suppressing the occurrence of resonance and preventing the beam loss.

【0017】また、入射開始時から、予め設定されたチ
ューンの値に基づいて定められた周波数を含む高周波電
界または高周波磁界を、荷電粒子ビームに印加すれば、
入射時のビームのエネルギーが低くても、空間電荷効果
によるチューンの変化を防止して、安定に荷電粒子を加
速器に入射できる。また、入射エネルギーを低減できる
ので、前段加速器や入射器などを小型化できる。
If a high-frequency electric field or a high-frequency magnetic field containing a frequency determined based on a preset tune value is applied to the charged particle beam from the start of incidence,
Even if the energy of the beam at the time of incidence is low, changes in tune due to the space charge effect can be prevented, and charged particles can be stably incident on the accelerator. Further, since the incident energy can be reduced, the pre-stage accelerator and the injector can be downsized.

【0018】また、荷電粒子ビームに印加する高周波電
界または高周波磁界の周波数は、予め設定されたチュー
ンの値および荷電粒子ビームの周回周波数とに基づいて
定めてもよい。
Further, the frequency of the high frequency electric field or the high frequency magnetic field applied to the charged particle beam may be determined based on a preset tune value and the orbiting frequency of the charged particle beam.

【0019】また、予め設定された第1のチューンの値
に基づいて定められた第1の周波数から、予め設定され
た第2のチューンの値に基づいて定められた第2の周波
数にわたる周波数の幅をもつ高周波電界または高周波磁
界を、荷電粒子ビームに印加してもよい。このとき、荷
電粒子ビームに含まれる複数の荷電粒子のうち、第1の
チューンから第2のチューンまでチューンを有する荷電
粒子のベータトロン振動が、高周波電界または高周波磁
界と同期する。従って、第1のチューンから第2のチュ
ーンまでのチューンを有する荷電粒子がベータトロン振
動していた範囲において、空間電荷効果によるチューン
の変化を防止できるので、共鳴の発生を抑え、ビーム損
失を防止しながら、安定にビームを入射,加速または蓄
積することができる。
In addition, a frequency range from a first frequency determined based on the preset first tune value to a second frequency determined based on the preset second tune value is set. A high frequency electric field or a high frequency magnetic field having a width may be applied to the charged particle beam. At this time, among the plurality of charged particles included in the charged particle beam, the betatron vibration of the charged particles having tunes from the first tune to the second tune is synchronized with the high frequency electric field or the high frequency magnetic field. Therefore, in the range where the charged particles having the tune from the first tune to the second tune are in the betatron oscillation, it is possible to prevent the change of the tune due to the space charge effect, so that the occurrence of resonance is suppressed and the beam loss is prevented. However, the beam can be stably incident, accelerated, or accumulated.

【0020】特に、第1のチューンから第2のチューン
までの範囲に、ビームの中心部に集まっている荷電粒子
がもつチューンの範囲を含むようにすれば、ビーム中心
付近の荷電粒子は少なくなり、荷電粒子密度の分布は平
坦になる。従って、ビームの中心部において、空間電荷
効果によるチューンの変化を防止できるので、共鳴の発
生を抑え、ビーム損失を防止しながら、安定にビームを
入射,加速または蓄積することができる。
In particular, if the range from the first tune to the second tune includes the range of tunes possessed by the charged particles gathering at the center of the beam, the number of charged particles near the center of the beam will decrease. , The distribution of charged particle density becomes flat. Therefore, it is possible to prevent the tune from changing due to the space charge effect in the central portion of the beam, so that it is possible to stably enter, accelerate, or accumulate the beam while suppressing the occurrence of resonance and preventing the beam loss.

【0021】また、予め設定された第1のチューンの値
に基づいて定められた第1の周波数から、予め設定され
た第2のチューンの値に基づいて定められた第2の周波
数にわたる範囲で、周波数を変化した高周波電界または
高周波磁界を印加してもよい。
Further, in a range from the first frequency determined based on the preset first tune value to the second frequency determined based on the preset second tune value. Alternatively, a high frequency electric field or a high frequency magnetic field having a changed frequency may be applied.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

(実施例1)本発明の第1の実施例である周回型の加速
器111を図1を用いて説明する。本実施例の加速器1
11は、前段加速器16から供給された荷電粒子ビーム
(以下、単にビームと称する)を、周回させながら蓄積
した後、加速し、実験室に出射するものである。
(Embodiment 1) An orbiting accelerator 111 according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Accelerator 1 of this embodiment
Reference numeral 11 is for accumulating a charged particle beam (hereinafter, simply referred to as a beam) supplied from the pre-accelerator 16 while orbiting, accelerating, and emitting the same to a laboratory.

【0023】本実施例の加速器111は、前段加速器1
6から供給されたビームを真空ダクト10内に入射させ
る入射器15,入射したビームの軌道を設計軌道1に近
づけるパルス電磁石9,ビームの軌道を曲げる偏向電磁
石2,ビームのメータトロン振動を調整する収束用4極
電磁石5及び発散用4極電磁石6,加速のためにビーム
にエネルギーを与える高周波加速空胴8,出射させるた
めにビームの軌道を設計軌道1から離す出射用パルス電
磁石20,ビームを実験室へ出射させる出射器4,ビー
ムの電流量を測定するビーム電流測定装置11、およ
び、設計軌道1の回りのビームの荷電粒子密度を変化さ
せる高周波印加装置3を有する。
The accelerator 111 of this embodiment is the same as the pre-stage accelerator 1.
An injector 15 for injecting the beam supplied from 6 into the vacuum duct 10, a pulse electromagnet 9 for bringing the orbit of the incident beam close to the design orbit 1, a deflection electromagnet 2 for bending the orbit of the beam 2, and a metertron oscillation of the beam are adjusted. Focusing quadrupole electromagnet 5 and divergence quadrupole electromagnet 6, high-frequency acceleration cavity 8 that imparts energy to the beam for acceleration, output pulse electromagnet 20 that separates the trajectory of the beam from design trajectory 1 for extraction, and the beam It has an emitter 4 for emitting light to the laboratory, a beam current measuring device 11 for measuring the amount of current of the beam, and a high frequency applying device 3 for changing the charged particle density of the beam around the designed orbit 1.

【0024】図2に、高周波印加装置3を示す。高周波
印加装置3は、真空ダクト10内に設置された平行平板
電極112,高周波信号を発生する高周波発生装置11
3,高周波発生装置113で発生した高周波信号を増幅
して平行平板電極112に印加する増幅器114、およ
び、高周波信号の周波数と増幅率を制御する制御装置1
15を有する。制御装置115が、周波数faからfb
にわたる周波数スペクトルを有する高周波信号を発生す
るように、高周波発生装置113を制御すると、平行平
板電極112の間には、周波数faからfbにわたる周
波数スペクトルを有する垂直方向の電界が発生する。高
周波電界の大きさは予め計算で求めておくか、ビーム電
流測定装置11を使って最大電流を入射できるように実
験的に定めておき、制御装置115で増幅器114の増
幅率を制御して、適当な大きさの高周波電界を発生させ
る。
FIG. 2 shows the high frequency applying device 3. The high frequency applying device 3 includes a parallel plate electrode 112 installed in the vacuum duct 10 and a high frequency generating device 11 for generating a high frequency signal.
3, an amplifier 114 that amplifies the high frequency signal generated by the high frequency generator 113 and applies it to the parallel plate electrode 112, and a controller 1 that controls the frequency and the amplification factor of the high frequency signal.
Have 15. The controller 115 controls the frequencies fa to fb.
When the high-frequency generator 113 is controlled so as to generate a high-frequency signal having a frequency spectrum ranging from 0 to 1, a vertical electric field having a frequency spectrum ranging from frequencies fa to fb is generated between the parallel plate electrodes 112. The magnitude of the high-frequency electric field is calculated in advance, or is experimentally determined by using the beam current measuring device 11 so that the maximum current can be injected, and the control device 115 controls the amplification factor of the amplifier 114. A high-frequency electric field of appropriate magnitude is generated.

【0025】本実施例のビームにこの電界が印加される
と、ビーム中の荷電粒子密度の分布とチューンの分布が
変化する。本実施例における荷電粒子密度の分布とチュ
ーンの分布の変化を以下に説明する。
When this electric field is applied to the beam of this embodiment, the distribution of charged particle density and the distribution of tune in the beam change. Changes in the charged particle density distribution and the tune distribution in this embodiment will be described below.

【0026】まず、加速器111にビームを入射した
後、高周波印加装置3でビームに高周波電界を印加する
前の、ビーム中心回りの電流密度の分布とチューンの分
布を説明する。
First, the distribution of the current density around the beam center and the distribution of the tune after the beam is incident on the accelerator 111 and before the high-frequency electric field is applied to the beam by the high-frequency applying device 3 will be described.

【0027】図3に、ビームの電流密度の分布を示す。
図3(a)は水平方向(ビームの周回面に平行かつビー
ムの進行方向に垂直な方向)の電流密度の分布、図3
(b)は垂直方向(ビームの周回面に平行かつビームの
進行方向に垂直な方向)の電流密度の分布である。
FIG. 3 shows the distribution of the current density of the beam.
FIG. 3A is a current density distribution in the horizontal direction (direction parallel to the orbiting surface of the beam and perpendicular to the traveling direction of the beam).
(B) is a current density distribution in the vertical direction (direction parallel to the orbiting surface of the beam and perpendicular to the beam traveling direction).

【0028】入射されたビームの軌道を設計軌道1に近
づけるために、水平方向に軌道を徐々に移動させていく
と、水平方向のビーム径は垂直方向のビーム径より大き
くなり、水平方向のビームの電流密度(荷電粒子密度)
は垂直方向の電流密度よりも平坦になる。
When the orbit of the incident beam is gradually moved in the horizontal direction in order to bring it closer to the design orbit 1, the beam diameter in the horizontal direction becomes larger than the beam diameter in the vertical direction. Current density (charged particle density)
Is flatter than the current density in the vertical direction.

【0029】垂直方向には水平方向のような軌道の移動
は行われないので、ビーム中心部に荷電粒子が集まり、
ビーム中心部の電流密度がビーム周辺部よりも大きい分
布になっている。
Since the orbit does not move in the vertical direction like in the horizontal direction, charged particles gather at the center of the beam,
The current density in the central part of the beam is larger than that in the peripheral part of the beam.

【0030】空間電荷効果によるチューンの変化Δν
は、負の値で、その絶対値は、電流値が小さいほど、ビ
ームサイズが大きいほど、また、粒子数分布が平坦なほ
ど小さい。従って、垂直方向のビームのチューンの変化
(絶対値)は水平方向のチューンの変化よりも相対的に
大きい。
Change in tune due to space charge effect Δν
Is a negative value, and its absolute value is smaller as the current value is smaller, the beam size is larger, and the particle number distribution is flat. Therefore, the change (absolute value) in the tune of the beam in the vertical direction is relatively larger than the change in the tune in the horizontal direction.

【0031】図4に、垂直方向についてのνの分布を示
す。ビーム内の位置によって荷電粒子密度が異なるか
ら、チューンの値もビーム内の位置によって異なる。電
流密度が大きいほど(荷電粒子密度が大きいほど)、チ
ューンの変化Δνが大きいので、ビームの周辺部よりも
ビームの中心部でチューンが大きく減少している。
FIG. 4 shows the distribution of ν in the vertical direction. Since the charged particle density varies depending on the position in the beam, the tune value also varies depending on the position in the beam. The larger the current density (the larger the charged particle density), the larger the change Δν in tune, so that the tune is greatly reduced in the central portion of the beam rather than the peripheral portion of the beam.

【0032】また、ビームのエネルギーが低いほどチュ
ーンは大きく変化するので、周回するビームのエネルギ
ーが低い入射時は、特にチューンが大きく減少する。入
射開始直後の空間電荷効果が無い場合のチューンの小数
部をνns、空間電荷効果が現れたときのチューンの最小
値をνmin、最大値をνmaxとする。
Further, the lower the energy of the beam, the larger the tune changes, so that the tune decreases greatly especially when the orbiting beam has a low energy. The fractional part of the tune when there is no space charge effect immediately after the start of injection is νns, the minimum value of the tune when the space charge effect appears is νmin, and the maximum value is νmax.

【0033】次に、高周波印加装置3でビームに高周波
電界を印加したときのビーム中心回りの荷電粒子密度の
分布とチューンの分布を説明する。
Next, the charged particle density distribution and the tune distribution around the beam center when a high frequency electric field is applied to the beam by the high frequency applying device 3 will be described.

【0034】高周波発生装置113が発生する高周波信
号の周波数は、以下のように決定される。νa をνmin
より小さい値(ただし、0または0.5よりは大きくす
る)に、νbを所望するチューンνの小数部の最低値
(νmaxより小さく、0または0.5よりは十分に大きくす
る)にする。周波数fb は、νb にビームの周回周波数
frevを乗じた値の周波数である。周波数faは、νaに
周回周波数frevを乗じた値の周波数である。
The frequency of the high frequency signal generated by the high frequency generator 113 is determined as follows. ν a to ν min
To a smaller value (but greater than 0 or 0.5), ν b is set to the lowest value of the fractional part of the desired tune ν (less than ν max and well greater than 0 or 0.5). The frequency fb is a frequency obtained by multiplying νb by the orbiting frequency frev of the beam. The frequency fa is a frequency of a value obtained by multiplying νa by the circulation frequency frev.

【0035】高周波印加装置3によって、周波数faか
らfbにわたる周波数スペクトルを有する垂直方向の高
周波電界がビームに印加されると、ビーム中のνa〜νb
のチューンを持つ荷電粒子のベータトロン振動は、垂直
方向の高周波電界と同期する。νa〜νbのチューンを持
つ荷電粒子は、高周波電界からエネルギーを与えられ、
垂直方向のベータトロン振動の振幅が増幅される。すな
わち、νa〜νbのチューンを持つ荷電粒子のベータトロ
ン振動の範囲は、ビーム中心付近から垂直方向外側に広
がる。したがって、図5に示すように、ビーム中心付近
の荷電粒子は少なくなり、その分外周部で増えるので、
荷電粒子密度の分布は平坦になる。
When a high-frequency electric field in the vertical direction having a frequency spectrum ranging from frequencies fa to fb is applied to the beam by the high-frequency applying device 3, νa to νb in the beam are applied.
The betatron oscillation of a charged particle with a tune of is synchronized with the vertical high frequency electric field. A charged particle with a tune of νa to νb is given energy from a high frequency electric field,
The amplitude of the betatron oscillations in the vertical direction is amplified. That is, the range of betatron oscillation of charged particles having a tune of νa to νb extends from the vicinity of the beam center to the outside in the vertical direction. Therefore, as shown in FIG. 5, the number of charged particles near the center of the beam decreases, and the number of charged particles increases in the outer peripheral portion.
The distribution of charged particle density becomes flat.

【0036】図4に、このときのチューンの分布を示
す。荷電粒子密度の分布が平坦になったので、ビーム中
心部のチューンが増加している。チューンがνb より大
きくなった粒子は、高周波印加装置3で印加される高周
波電界の周波数と同期しなくなるので、ベータトロン振
動の振幅は増加しなくなる。
FIG. 4 shows the distribution of the tunes at this time. Since the distribution of the charged particle density has become flat, the tune at the center of the beam is increasing. The particles whose tune is larger than ν b are not synchronized with the frequency of the high frequency electric field applied by the high frequency applying device 3, so that the amplitude of the betatron oscillation does not increase.

【0037】さらに、ビームが加速器111に入射され
て、荷電粒子密度が大きくなり、空間電荷効果によって
チューンがνb 以下になっても、高周波印加装置3から
印加される高周波電界により、荷電粒子密度の分布は平
坦になる。
Further, even if the beam is incident on the accelerator 111 and the charged particle density is increased and the tune becomes νb or less due to the space charge effect, the charged particle density of the charged particle density is increased by the high frequency electric field applied from the high frequency applying device 3. The distribution becomes flat.

【0038】従って、本実施例の加速器111によれ
ば、空間電荷効果によるチューンの変化を防止して共鳴
の発生を抑え、ビーム損失を防止しながら、ビームを加
速・蓄積することができる。
Therefore, according to the accelerator 111 of the present embodiment, it is possible to accelerate and accumulate the beam while preventing the tune from changing due to the space charge effect, suppressing the occurrence of resonance, and preventing the beam loss.

【0039】以上では、ビームを加速器111に入射し
た後に、荷電粒子密度の分布を変える場合について説明
したが、大電流のビームが急速に加速器111へ入射さ
れて、チューンが急速に減少する場合には、入射開始時
から高周波印加装置3で上述した高周波電界を印加して
おけばよい。ビームの電流量が増加していっても、平坦
な荷電粒子密度の分布が保たれるので、入射時のビーム
の損失が低減できる。入射開始時から高周波印加装置3
で上述した高周波電界を印加すれば、入射時のビームの
エネルギーが低くてもチューンの減少を防止して、安定
に荷電粒子を加速器に入射できる。また、入射エネルギ
ーを低減できるので、前段加速器や入射器などを小型化
できる。
In the above description, the case where the distribution of the charged particle density is changed after the beam is incident on the accelerator 111 has been described. However, when the high current beam is rapidly incident on the accelerator 111 and the tune is rapidly reduced. The above-mentioned high-frequency electric field may be applied by the high-frequency applying device 3 from the start of incidence. Even if the amount of current of the beam is increased, the flat charged particle density distribution is maintained, so that the beam loss at the time of incidence can be reduced. High-frequency applying device 3 from the start of injection
By applying the above-mentioned high frequency electric field, even if the energy of the beam at the time of incidence is low, the decrease in tune can be prevented and the charged particles can be stably incident on the accelerator. Further, since the incident energy can be reduced, the pre-stage accelerator and the injector can be downsized.

【0040】加速時にも、高周波印加装置3で上述した
高周波電界を印加すれば、平坦な荷電粒子密度の分布を
保ちながら安定に加速を行うことができる。
Even during acceleration, if the high-frequency electric field is applied by the high-frequency applying device 3, it is possible to perform stable acceleration while maintaining a flat distribution of charged particle density.

【0041】図6に、入射時および加速時に高周波印加
装置3を印加する、本実施例の加速器111の運転方法
を示す。
FIG. 6 shows a method of operating the accelerator 111 of this embodiment in which the high frequency applying device 3 is applied at the time of incidence and acceleration.

【0042】入射開始前に予め、高周波印加装置3で上
述した高周波電界を印加しておく(1)。前段加速器1
6からビームを入射し始める(2)。ビームの入射が終
了したら(3)、ビームの加速を開始する(4)。高周
波加速空胴8からビームにエネルギーを与えるととも
に、偏向電磁石2,4極電磁石5,6の磁場強度を増加
させる。この時、ビームが加速器を周回する周波数fre
v が増加していくので、これに応じて、制御装置115
で高周波発生装置113が発生する高周波信号の周波数
fb及びfaも増加させていく。加速に伴い空間電荷効果
は減少していくので、ビームエネルギーが予め定められ
た値に達したら、高周波印加装置3での高周波電界の印
加を停止する(6)。目標エネルギーまで加速したら加
速を終了し、ビームを出射する(7)。
Before the start of incidence, the high frequency electric field is applied in advance by the high frequency applying device 3 (1). Front-stage accelerator 1
Beam injection starts from 6 (2). When the beam incidence is completed (3), the beam acceleration is started (4). Energy is applied to the beam from the high-frequency acceleration cavity 8 and the magnetic field strength of the deflection electromagnet 2, the quadrupole electromagnets 5 and 6 is increased. At this time, the frequency fre at which the beam goes around the accelerator
As v increases, the controller 115 is correspondingly increased.
Then, the frequencies fb and fa of the high frequency signal generated by the high frequency generator 113 are also increased. Since the space charge effect decreases with acceleration, when the beam energy reaches a predetermined value, the application of the high frequency electric field by the high frequency applying device 3 is stopped (6). When the energy reaches the target energy, the acceleration is terminated and the beam is emitted (7).

【0043】(5)では、周回周波数の増加に伴い、高
周波印加装置3で印加する高周波電界の周波数を増加さ
せているが、加速されると急激に空間電荷効果が減少す
る場合は、周波数は一定でよい。また、加速に伴い急激
に周回周波数が変化し、かつ、空間電荷効果が減少する
場合は、高周波印加装置3で印加する高周波電界の周波
数は一定でよく、印加の停止を行わなくてもよい。
In (5), the frequency of the high-frequency electric field applied by the high-frequency applying device 3 is increased in accordance with the increase of the circulating frequency. However, if the space charge effect sharply decreases when accelerated, the frequency becomes high. It may be constant. In addition, when the orbital frequency rapidly changes with acceleration and the space charge effect decreases, the frequency of the high-frequency electric field applied by the high-frequency applying device 3 may be constant, and the application need not be stopped.

【0044】また、以上では、高周波印加装置3で印加
する高周波電界を周波数faからfbに渡るものにした
が、単一の波数の高周波電界を印加し、単一の周波数を
fa からfb まで走査するようにしてもよい。
Further, in the above description, the high frequency electric field applied by the high frequency applying device 3 is applied from the frequency fa to fb. However, the high frequency electric field having a single wave number is applied and the single frequency is scanned from fa to fb. You may do it.

【0045】また、本実施例では、垂直方向の高周波電
界をビームに印加する場合を説明したが、水平方向の高
周波磁界を印加しても、本実施例と同様の作用効果が得
られる。
In this embodiment, the case where a high frequency electric field in the vertical direction is applied to the beam has been described. However, even if a high frequency magnetic field in the horizontal direction is applied, the same effect as the present embodiment can be obtained.

【0046】(実施例2)次に、本発明の第2の実施例
である加速器111を説明する。本実施例の加速器11
1は、第1の実施例で説明したものと高周波印加装置3
のみが異なる。
(Second Embodiment) Next, an accelerator 111 according to a second embodiment of the present invention will be described. Accelerator 11 of this embodiment
1 is the same as that described in the first embodiment and the high frequency applying device 3
Only different.

【0047】本実施例の加速器111では、ビームが加
速器111を1回周する時間内で、入射用パルス電磁石
9の磁場強度を変化させて、1周分のビームを入射す
る。入射されたビームは、水平方向と垂直方向のビーム
サイズが同程度であり、水平方向および垂直方向におい
て同程度のチューンの変化が生じる。
In the accelerator 111 of the present embodiment, the magnetic field intensity of the pulse electromagnet 9 for injection is changed within the time in which the beam makes one revolution around the accelerator 111, and the beam for one revolution is incident. The incident beam has the same beam size in the horizontal direction and the vertical direction, and the tune changes in the horizontal direction and the vertical direction are almost the same.

【0048】本実施例の加速器111は、水平方向およ
び垂直方向において生じるチューンの減少を抑制しよう
とするものである。
The accelerator 111 of this embodiment is intended to suppress a decrease in tune that occurs in the horizontal and vertical directions.

【0049】図7に、高周波印加装置3を示す。高周波
印加装置3は、水平方向のビームのチューンの減少を抑
えるために、平行平板電極112h,高周波発生装置11
3hおよび増幅器114hを、垂直方向のビームのチュ
ーンの減少を抑えるために、平行平板電極112v,高
周波発生装置113vおよび増幅器114vを有し、高
周波信号の周波数と増幅率を制御する制御装置115を
有する。水平方向の高周波発生装置113h,垂直方向
の高周波発生装置113vとも、単一の周波数を発生す
る。
FIG. 7 shows the high frequency applying device 3. The high frequency applying device 3 includes a parallel plate electrode 112h and a high frequency generating device 11 in order to suppress a decrease in the horizontal beam tune.
3h and an amplifier 114h are provided with a parallel plate electrode 112v, a high frequency generator 113v and an amplifier 114v in order to suppress the decrease of the vertical beam tune, and a controller 115 for controlling the frequency and the amplification factor of the high frequency signal. . Both the horizontal high frequency generator 113h and the vertical high frequency generator 113v generate a single frequency.

【0050】第1の実施例と同様に、高周波発生装置1
13hはビームの水平方向のチューンνbhに対応する周
波数fbhの高周波信号を発生し、高周波発生装置113
vも同様にビームの垂直方向のチューンνbvに対応する
周波数fbvの高周波信号を発生する。
High-frequency generator 1 as in the first embodiment.
13h generates a high frequency signal of frequency fbh corresponding to the horizontal tune νbh of the beam, and the high frequency generator 113
Similarly, v also generates a high frequency signal of frequency fbv corresponding to the vertical tune νbv of the beam.

【0051】増幅器114h,114vで高周波電力を
十分に増幅すれば、単一の周波数の高周波電界をビーム
に印加しても、ベータトロン振動が増加させて荷電粒子
密度の分布を平坦にすることができ、チューンはνbh、
νbvより小さくならない。
If the high frequency power is sufficiently amplified by the amplifiers 114h and 114v, even if a high frequency electric field of a single frequency is applied to the beam, the betatron oscillation can be increased and the distribution of the charged particle density can be made flat. Yes, the tune is νbh,
It does not become smaller than νbv.

【0052】従って、本実施例の加速器111によれ
ば、空間電荷効果によるチューンの変化を防止して共鳴
の発生を抑え、ビーム損失を防止しながら、ビームを加
速・蓄積することができる。
Therefore, according to the accelerator 111 of the present embodiment, it is possible to accelerate and store the beam while preventing the tune from changing due to the space charge effect, suppressing the occurrence of resonance, and preventing the beam loss.

【0053】第1の実施例および第2の実施例の加速器
111は、ビームが電子,正イオン,負イオンにかかわ
らず、すべての荷電粒子ビームに適用できる。
The accelerator 111 of the first and second embodiments can be applied to all charged particle beams regardless of whether the beam is electrons, positive ions or negative ions.

【0054】[0054]

【発明の効果】本発明によれば、荷電粒子ビームのベー
タトロン振動の共鳴を発生させない値のチューンであっ
予め設定された値のチューンを有する荷電粒子が振動
していた範囲において、空間電荷効果によるチューンの
変化を防止できるので、共鳴の発生を抑え、ビーム損失
を防止しながら、安定にビームを入射,加速または蓄積
することができる。
According to the present invention, the beam of a charged particle beam is
It is a tune with a value that does not generate resonance of tatron oscillation.
In the range where charged particles having a tune of a preset value are vibrating, changes in the tune due to the space charge effect can be prevented, so that resonance is suppressed and beam loss is prevented while stable beam incidence , Can be accelerated or accumulated.

【0055】また、入射時のビームのエネルギーが低く
ても、空間電荷効果によるチューンの変化を防止して、
安定に荷電粒子を加速器に入射できる。また、入射エネ
ルギーを低減できるので、前段加速器や入射器などを小
型化できる。
Further, even if the energy of the beam at the time of incidence is low, the change of the tune due to the space charge effect is prevented,
Charged particles can be stably injected into the accelerator. Further, since the incident energy can be reduced, the pre-stage accelerator and the injector can be downsized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例の加速器を示す図。FIG. 1 is a diagram showing an accelerator according to an embodiment of the present invention.

【図2】第1の実施例の高周波印加装置3を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a high frequency applying device 3 according to a first embodiment.

【図3】加速器111を周回するビームの電流密度の分
布を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing a current density distribution of a beam that orbits an accelerator 111.

【図4】高周波印加装置3で高周波電界を印加したとき
のビームのチューン分布の変化を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing changes in the tune distribution of a beam when a high-frequency electric field is applied by the high-frequency applying device 3.

【図5】高周波印加装置3で高周波電界を印加したとき
のビームの荷電粒子密度の分布の変化を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing changes in distribution of charged particle density of a beam when a high frequency electric field is applied by the high frequency applying device 3.

【図6】第1の実施例の加速器111の運転方法を示す
図。
FIG. 6 is a diagram showing a method of operating the accelerator 111 according to the first embodiment.

【図7】第2の実施例の高周波印加装置3を示す図。FIG. 7 is a diagram showing a high frequency applying device 3 of a second embodiment.

【図8】従来の加速器におけるビームの電流密度の分布
を示す図。
FIG. 8 is a diagram showing a distribution of a current density of a beam in a conventional accelerator.

【図9】従来の加速器におけるビームのチューンの分布
を示す図。
FIG. 9 is a view showing a distribution of beam tunes in a conventional accelerator.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…設計軌道、2…偏向電磁石、3…高周波印加装置、
4…出射器、5…収束用4極電磁石、6…発散用4極電
磁石、8…高周波加速空胴、9…入射用パルス電磁石、
10…真空ダクト、11…ビーム電流測定装置、12…
磁極、15…入射器、16…前段加速器、17…入射ビ
ーム輸送系、20…出射用パルス電磁石、111…加速
器、112…平行平板電極、113…高周波発生装置、
114…増幅器、115…制御装置。
1 ... Design trajectory, 2 ... Bending electromagnet, 3 ... High frequency applying device,
4 ... Ejector, 5 ... Focusing 4-pole electromagnet, 6 ... Divergence 4-pole electromagnet, 8 ... High-frequency acceleration cavity, 9 ... Incident pulse electromagnet,
10 ... Vacuum duct, 11 ... Beam current measuring device, 12 ...
Magnetic pole, 15 ... Injector, 16 ... Pre-accelerator, 17 ... Incident beam transport system, 20 ... Pulse electromagnet for emission, 111 ... Accelerator, 112 ... Parallel plate electrode, 113 ... High frequency generator,
114 ... Amplifier, 115 ... Control device.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−263800(JP,A) 特開 平9−115700(JP,A) 特開 平9−330800(JP,A) 特開 平11−329799(JP,A) 特開 平10−64699(JP,A) 特開 平7−263200(JP,A) 特開 平7−111199(JP,A) 特開 平6−36894(JP,A) 特開 平5−198397(JP,A) 特開 昭63−307700(JP,A) 特開 平8−148298(JP,A) 特開 平5−258900(JP,A) 特開 平9−45499(JP,A) 特開 平9−35899(JP,A) 特開 平8−64400(JP,A) 特開 平8−203700(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05H 13/04 Continuation of front page (56) Reference JP-A-3-263800 (JP, A) JP-A-9-115700 (JP, A) JP-A-9-330800 (JP, A) JP-A-11-329799 (JP , A) JP 10-64699 (JP, A) JP 7-263200 (JP, A) JP 7-111199 (JP, A) JP 6-36894 (JP, A) JP 5-198397 (JP, A) JP 63-307700 (JP, A) JP 8-148298 (JP, A) JP 5-258900 (JP, A) JP 9-45499 (JP, A) JP-A-9-35899 (JP, A) JP-A-8-64400 (JP, A) JP-A-8-203700 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) ) H05H 13/04

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】外部から入射された荷電粒子ビームを周回
軌道に沿って加速または蓄積する周回型の加速器におい
て、 前記荷電粒子ビームの入射開始時,入射中,加速中また
は蓄積中に、前記荷電粒子ビームのベータトロン振動の
共鳴を発生させないチューンの値であって予め設定され
前記チューンの値に基づいて定められた周波数を含む
高周波電界または高周波磁界を、前記軌道を周回中の前
記荷電粒子ビームに印加し、前記荷電粒子ビームに含ま
れる複数の荷電粒子のうち、前記設定された値のチュー
ンを有する前記荷電粒子のベータトロン振動の振幅を増
加させる高周波印加装置を備えることを特徴とする加速
器。
1. A ring-type accelerator for a charged particle beam incident from the outside to accelerate or accumulate along the orbit, incident at the start of the charged particle beam, in the incident, or during storage acceleration, the charged Of the betatron oscillation of the particle beam
A high-frequency electric field or a high-frequency magnetic field containing a frequency that is a tune value that does not generate resonance and is determined based on the preset tune value is applied to the charged particle beam that is orbiting the orbit, and the charging is performed. An accelerator comprising: a high-frequency applying device for increasing the amplitude of betatron oscillation of the charged particles having a tune of the set value among a plurality of charged particles included in the particle beam.
【請求項2】前記周回軌道を構成し内部を前記荷電粒子
が周回する真空ダクトを有し、前記高周波印加装置は、
前記真空ダクト内に設置され、相互間に電界を発生させ
る一対の電極を有する請求項1の加速器。
2. A high-frequency applying device, comprising a vacuum duct that forms the circular orbit and in which the charged particles circulate.
The accelerator according to claim 1, further comprising a pair of electrodes installed in the vacuum duct to generate an electric field therebetween.
【請求項3】前記周波数は、予め設定されたチューンの
値および前記周回軌道を周回する前記荷電粒子ビームの
周回周波数とに基づいて定められたことを特徴とする請
求項1の加速器。
3. The accelerator according to claim 1, wherein the frequency is determined based on a preset tune value and an orbital frequency of the charged particle beam that orbits the orbit.
【請求項4】前記高周波電界または高周波磁界は、予め
設定された第1の前記チューンの値に基づいて定められ
た第1の周波数から、予め設定された第2の前記チュー
ンの値に基づいて定められた第2の周波数にわたる周波
数範囲の高周波電界または高周波磁界であることを特徴
とする請求項1の加速器。
Wherein said high frequency electric field or a high frequency magnetic field, the second of the chew <br/> emissions from the first frequency which is determined based on the value of the first of the tune that is set in advance, is set in advance The accelerator according to claim 1, wherein the accelerator is a high-frequency electric field or a high-frequency magnetic field in a frequency range extending over a second frequency determined based on the value of.
【請求項5】前記高周波電界または高周波磁界は、予め
設定された第1の前記チューンの値に基づいて定められ
た第1の周波数から、予め設定された第2の前記チュー
ンの値に基づいて定められた第2の周波数にわたる範囲
で、周波数が変化する高周波電界または高周波磁界であ
ることを特徴とする請求項1の加速器。
Wherein said high frequency electric field or a high frequency magnetic field, the second of the chew <br/> emissions from the first frequency which is determined based on the value of the first of the tune that is set in advance, is set in advance The accelerator according to claim 1, wherein the accelerator is a high frequency electric field or a high frequency magnetic field whose frequency changes in a range over the second frequency determined based on the value of.
【請求項6】外部から周回型加速器に荷電粒子ビームを
入射し、前記荷電粒子ビームを周回軌道に沿って周回さ
せながら加速または蓄積する周回型の加速器の運転方法
において、 前記荷電粒子ビームの入射開始時,入射中,加速中また
は蓄積中に、前記荷電粒子ビームのベータトロン振動の
共鳴を発生させない前記チューンの値であって予め設定
されたチューンの値に基づいて定められた周波数を含む
高周波電界または高周波磁界を、前記軌道を周回中の前
記荷電粒子ビームに印加し、前記荷電粒子ビームに含ま
れる複数の荷電粒子のうち、前記設定された値のチュー
ンを有する前記荷電粒子のベータトロン振動の振幅を増
加させることを特徴とする加速器の運転方法。
6. A method for operating an orbiting accelerator in which a charged particle beam is incident from the outside into an orbiting accelerator and is accelerated or accumulated while orbiting the charged particle beam along an orbit, the injection of the charged particle beam. Of the betatron oscillations of the charged particle beam during initiation, injection, acceleration or accumulation
A high-frequency electric field or a high-frequency magnetic field containing a frequency that is a value of the tune that does not generate resonance and is determined based on a value of the tune that is preset is applied to the charged particle beam that is orbiting the orbit, and the charging is performed. Among the plurality of charged particles included in the particle beam, an amplitude of betatron oscillation of the charged particles having a tune of the set value is increased, and an accelerator operating method.
【請求項7】前記周波数は、予め設定された前記チュー
ンの値および前記周回軌道を周回する前記荷電粒子ビー
ムの周回周波数とに基づいて定められたことを特徴とす
る請求項6の加速器の運転方法。
Wherein said frequency claims, characterized in that defined on the basis of the revolution frequency of the charged particle beam circulating values and the orbit preset the Chu <br/> down 6 Accelerator operation method.
【請求項8】前記高周波電界または高周波磁界は、予め
設定された第1の前記チューンの値に基づいて定められ
た第1の周波数から、予め設定された第2の前記チュー
ンの値に基づいて定められた第2の周波数にわたる周波
数範囲の高周波電界または高周波磁界であることを特徴
とする請求項6の加速器の運転方法。
Wherein said high frequency electric field or a high frequency magnetic field, the second of the chew <br/> emissions from the first frequency which is determined based on the value of the first of the tune that is set in advance, is set in advance 7. The method of operating an accelerator according to claim 6, wherein the high frequency electric field or the high frequency magnetic field is in a frequency range over the second frequency determined based on the value of.
【請求項9】前記高周波電界または高周波磁界は、予め
設定された第1の前記チューンの値に基づいて定められ
た第1の周波数から、予め設定された第2の前記チュー
ンの値に基づいて定められた第2の周波数にわたる範囲
で、周波数が変化する高周波電界または高周波磁界であ
ることを特徴とする請求項6の加速器の運転方法。
Wherein said high frequency electric field or a high frequency magnetic field, the second of the chew <br/> emissions from the first frequency which is determined based on the value of the first of the tune that is set in advance, is set in advance The method of operating an accelerator according to claim 6, wherein the frequency is a high frequency electric field or a high frequency magnetic field in a range over the second frequency determined based on the value of.
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