JP3374114B2 - X-ray fluorescence analyzer - Google Patents

X-ray fluorescence analyzer

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JP3374114B2
JP3374114B2 JP2000056659A JP2000056659A JP3374114B2 JP 3374114 B2 JP3374114 B2 JP 3374114B2 JP 2000056659 A JP2000056659 A JP 2000056659A JP 2000056659 A JP2000056659 A JP 2000056659A JP 3374114 B2 JP3374114 B2 JP 3374114B2
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fluorescent
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淳二 藤森
幸雄 迫
秀一 加藤
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理学電機工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、試料の蛍光X線分
析を行う蛍光X線分析装置に関し、特にX線管の立上り
特性の改善に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an X-ray fluorescence analyzer for performing X-ray fluorescence analysis of a sample, and more particularly to improving the rising characteristics of an X-ray tube.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、蛍光X線分析装置は、X線管の
ターゲットに高電圧を印加して発生させた1次X線を試
料に照射し、試料から発生した蛍光X線の強度を検出器
で測定して試料を分析する。この装置において、1次X
線を発生させるためにターゲットに高電圧印加がONさ
れると、その大部分の電力は熱に変換されてターゲット
が蓄熱し、ターゲットがファン等で冷却されるものの、
ターゲットは熱膨張により伸長して、ターゲットと試料
との距離が短くなり、その距離の2乗に反比例して、試
料が受ける単位面積当りのX線強度が増大する。このた
め、測定を開始するX線管の立上り時に、ターゲットの
熱膨張が安定状態になるまで、蛍光X線強度の測定を長
時間(例えば、40分)待機する必要があった。また、
試料交換等の時に、一旦高電圧印加がOFFされると、
ターゲットが冷却されてそれまでの熱膨張が収縮し、再
度ONされた時に、同様にターゲットの熱膨張が安定状
態になるまで待機する必要があった。
2. Description of the Related Art Generally, a fluorescent X-ray analyzer irradiates a sample with a primary X-ray generated by applying a high voltage to a target of an X-ray tube and detects the intensity of the fluorescent X-ray generated from the sample. Analyze the sample by measuring with the instrument. In this device, the primary X
When high voltage application is turned on to generate a line, most of the electric power is converted to heat and the target stores heat, and the target is cooled by a fan or the like.
The target expands due to thermal expansion, the distance between the target and the sample becomes shorter, and the X-ray intensity per unit area received by the sample increases in inverse proportion to the square of the distance. Therefore, it is necessary to wait for a long time (for example, 40 minutes) to measure the fluorescent X-ray intensity until the thermal expansion of the target becomes stable at the start-up of the X-ray tube for starting the measurement. Also,
Once high voltage application is turned off during sample replacement,
When the target was cooled and the thermal expansion up to that point was contracted and turned on again, it was necessary to wait until the thermal expansion of the target reached a stable state in the same manner.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のよう
に、ターゲットの熱膨張が安定状態になるまで測定を待
機するのでは、測定開始までの時間の短縮化は困難であ
る。したがって、ターゲットへの高電圧印加ONから直
ちに測定が可能な装置が要請されている。
However, it is difficult to shorten the time until the start of measurement by waiting for the measurement until the thermal expansion of the target reaches a stable state as in the conventional case. Therefore, there is a demand for a device that can immediately perform measurement after the high voltage is applied to the target.

【0004】本発明は、上記の問題点を解決して、ター
ゲットへの高電圧印加のON時に、測定開始までの時間
の短縮化を実現できる蛍光X線分析装置を提供すること
を目的としている。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide an X-ray fluorescence analyzer capable of shortening the time until the start of measurement when a high voltage is applied to a target. .

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1に係る蛍光X線分析装置は、X線管のター
ゲットに高電圧を印加して発生させた1次X線を試料に
照射し、試料から発生した蛍光X線の強度を検出器で測
定して試料を分析するものであって、ターゲットの熱膨
張による伸縮量に対応したターゲットと試料間の距離の
変化に応じて蛍光X線の強度が前記熱膨張の基準状態で
の蛍光X線の強度に対して変化するのに対応させて、前
記検出器で測定された時点の蛍光X線の強度を前記基準
状態の時の蛍光X線強度に合致するように補正する第1
補正手段と、前記高電圧の印加ONからの時間に対する
前記検出器で測定される蛍光X線の強度の変化、および
高電圧の印加OFFからの時間に対する前記検出器で測
定される蛍光X線の強度の変化に基づいて求めた時間−
X線強度補正曲線を記憶する記憶手段とを備え、前記第
1補正手段は、前記記憶手段に記憶された時間−X線強
度補正曲線に基づいて、前記検出器で測定された時点の
蛍光X線強度を補正するものである。
In order to achieve the above object, an X-ray fluorescence analyzer according to claim 1 uses a sample of primary X-rays generated by applying a high voltage to a target of an X-ray tube. The intensity of fluorescent X-rays emitted from the sample is measured by a detector to analyze the sample, and the distance between the target and the sample corresponding to the expansion and contraction amount of the target due to thermal expansion is measured.
The intensity of the fluorescent X-ray changes according to the change in the standard state of the thermal expansion.
Fluorescence in correspondence to change in relative intensity of X-ray intensity of the reference of the fluorescent X-rays at the time of the measured at detector
Correction to match the fluorescent X-ray intensity at the time of the first condition
Correction means for changing the intensity of the fluorescent X-rays measured by the detector with respect to the time from the application of the high voltage, and of the fluorescent X-rays measured with the detector with respect to the time from the application of the high voltage OFF. Time obtained based on changes in intensity −
Storage means for storing an X-ray intensity correction curve, wherein the first correction means is based on the time-X-ray intensity correction curve stored in the storage means, and stores a time point measured by the detector. The X-ray fluorescence intensity is corrected.

【0006】上記構成によれば、X線管のターゲットの
熱膨張による伸縮量に対応したターゲットと試料間の距
離の変化に応じて、時間−X線強度補正曲線に基づき、
前記検出器で測定された時点の蛍光X線の強度を、ター
ゲットの熱膨張が基準状態の時の蛍光X線強度に補正す
るので、ターゲットへの高電圧の印加ONから測定時点
において直ちに当該基準状態での蛍光X線強度が得られ
According to the above structure, the distance between the target and the sample corresponding to the expansion and contraction amount of the target of the X-ray tube due to the thermal expansion.
Depending on the change in separation , based on the time-X-ray intensity correction curve,
Since the intensity of the fluorescent X-ray measured at the detector is corrected to the intensity of the fluorescent X-ray when the thermal expansion of the target is in the standard state, the measuring time from when the high voltage is applied to the target is ON.
At that time, the fluorescent X-ray intensity in the reference state was immediately obtained.
It

【0007】[0007]

【0008】請求項2に係る蛍光X線分析装置は、X線
管のターゲットに高電圧を印加して発生させた1次X線
を試料に照射し、試料から発生した蛍光X線の強度を検
出器で測定して試料を分析するものであって、ターゲッ
トの熱膨張による伸縮量に対応したターゲットと試料間
の距離の変化に応じて、試料に対してX線管を移動させ
て測定時点でのターゲットと試料との距離をターゲット
の熱膨張の基準状態の時と同一に保つように補正する第
2補正手段を備えている。
An X-ray fluorescence analyzer according to a second aspect of the present invention irradiates a sample with primary X-rays generated by applying a high voltage to a target of an X-ray tube to measure the intensity of the fluorescent X-rays generated from the sample. This is to measure the sample with a detector and analyze the sample, and between the target and sample corresponding to the amount of expansion and contraction due to thermal expansion of the target.
Move the X-ray tube with respect to the sample according to the change in the
Target distance between the target and the sample at the measurement time Te
The second correction means is provided to perform correction so as to keep the same as in the reference state of thermal expansion .

【0009】上記構成によれば、X線管のターゲットの
熱膨張による伸縮量に対応したターゲットと試料間の距
離の変化に応じて、試料に対してX線管を移動させて
定時点でのターゲットと試料との距離をターゲットの熱
膨張の基準状態の時と同一に保つように補正するから、
ターゲットへの高電圧の印加ONから測定時点において
直ちに当該基準状態での蛍光X線強度が得られる
According to the above construction, the distance between the target and the sample corresponding to the expansion and contraction amount of the target of the X-ray tube due to the thermal expansion.
In accordance with a change in distance, measured by moving the X-ray tube to the sample
The distance between the target and the sample at a constant time of the target heat
Since it is corrected so that it is kept the same as in the standard state of expansion ,
At the time of measurement from application of high voltage to the target ON
Immediately, the fluorescent X-ray intensity in the reference state is obtained .

【0010】請求項3に係る蛍光X線分析装置は、請求
項1または2において、前記ターゲットの熱膨張による
伸縮量を、ターゲットの熱膨張に関係するパラメータか
ら推定する推定手段を備えている。したがって、実測困
難なターゲットの伸縮量を推定することができる。上記
パラメータには、ターゲットに印加された高電圧の電
力、高電圧の印加時間および休止時間、冷却媒体への熱
伝導率、冷却媒体の温度、ターゲットの熱膨張係数、タ
ーゲットの機械的保持機構の寸法および熱伝導係数、タ
ーゲットと試料との距離の初期値等が含まれる。
[0010] X-ray fluorescence analyzer according to claim 3, wherein
Item 1 or 2 further includes an estimation unit that estimates the expansion / contraction amount of the target due to thermal expansion from a parameter related to the thermal expansion of the target. Therefore, it is possible to estimate the expansion / contraction amount of the target, which is difficult to measure. The above parameters include high voltage power applied to the target, high voltage application time and dwell time, thermal conductivity to the cooling medium, temperature of the cooling medium, thermal expansion coefficient of the target, mechanical holding mechanism of the target. It includes dimensions and thermal conductivity, the initial value of the distance between the target and the sample, and so on.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係
る蛍光X線分析装置の構成図を示す。本装置は、1次X
線B1を発生させるX線管2、1次X線B1が照射され
た試料3から発生した蛍光X線B2の強度を測定する検
出器4、検出器4からの検出信号に基づいてX線スペク
トルを得る多重波高分析器5を備え、試料3の蛍光X線
分析を行うものである。上記X線管2と検出器4の一
部、試料3は真空容器6内に配置される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a block diagram of an X-ray fluorescence analyzer according to the first embodiment of the present invention. This device is a primary X
X-ray tube 2 for generating X-ray B1, detector 4 for measuring the intensity of fluorescent X-ray B2 generated from sample 3 irradiated with primary X-ray B1, X-ray spectrum based on the detection signal from detector 4. The multi-wave height analyzer 5 for obtaining the above is provided, and the fluorescent X-ray analysis of the sample 3 is performed. The X-ray tube 2, a part of the detector 4, and the sample 3 are placed in a vacuum container 6.

【0012】X線管2は、試料面に相対向するように配
置されるターゲット材11、真空容器6の内壁13に取
り付けられ、上記ターゲット材11を支持するターゲッ
ト支持棒12、およびターゲット面の周りに設けられた
電子源となるフィラメント15を備えている。ターゲッ
ト材11とターゲット支持棒12によりターゲット10
が構成される。ターゲット10は絶縁壁21を貫通して
外部に引き出されている。ターゲット10に高電圧が印
加され、フィラメント15が点灯すると、フィラメント
15から発生した熱電子がターゲット面に衝突する。こ
の衝突によって1次X線B1が発生する。この場合、大
部分の電力は熱に変わり、この熱はターゲット支持棒1
2および電気絶縁物14を介して外部に放散される。タ
ーゲット支持棒12および電気絶縁物14はファン19
により空冷される。
The X-ray tube 2 includes a target material 11 arranged so as to face the sample surface, a target support rod 12 attached to the inner wall 13 of the vacuum container 6 for supporting the target material 11, and a target surface. It is provided with a filament 15 which is provided around and serves as an electron source. The target 10 with the target material 11 and the target support rod 12
Is configured. The target 10 penetrates the insulating wall 21 and is drawn to the outside. When a high voltage is applied to the target 10 and the filament 15 is turned on, thermoelectrons generated from the filament 15 collide with the target surface. The primary X-ray B1 is generated by this collision. In this case, most of the electric power is converted to heat, and this heat is applied to the target support rod 1.
2 and the electrical insulator 14 to the outside. The target support rod 12 and the electrical insulator 14 are the fan 19
It is cooled by air.

【0013】本装置は、高電圧の印加ONからの時間に
対する検出器4で測定される蛍光X線B2の強度の変
化、および高電圧の印加OFFからの時間に対する検出
器4で測定される蛍光X線B2の強度の変化に基づいて
求めた時間−X線強度補正曲線を記憶する記憶手段24
と、この記憶手段24に記憶された時間−X線強度補正
曲線に基づいて、ターゲット10(主にターゲット支持
棒12)の熱膨張による伸縮量に応じて、検出器4で測
定される蛍光X線B2の強度を、基準状態例えばターゲ
ット10の熱膨張が安定した状態のX線強度に補正する
第1補正手段22を備えている。
This apparatus is characterized in that the change in the intensity of the fluorescent X-ray B2 measured by the detector 4 with respect to the time from the application of the high voltage and the fluorescence measured with the detector 4 with respect to the time from the application of the high voltage to OFF. Storage means 24 for storing the time-X-ray intensity correction curve obtained based on the change in the intensity of X-ray B2.
Then, based on the time-X-ray intensity correction curve stored in the storage means 24, the fluorescence X measured by the detector 4 according to the expansion / contraction amount of the target 10 (mainly the target support rod 12) due to thermal expansion. The first correction means 22 is provided to correct the intensity of the line B2 to the reference state, for example, the X-ray intensity in a state where the thermal expansion of the target 10 is stable.

【0014】図2は、例えば銅メタルのような一般的な
金属試料を使用して、高電圧の印加ONからの時間に対
する検出器4で測定される蛍光X線B2の強度の変化に
基づいて、予め実験により求めた時間−X線強度補正曲
線C1の一例を示す。図3は、同様に求めた高電圧の印
加OFFからの時間−X線強度補正曲線C2の一例を示
す。横軸は時間(分)、縦軸は蛍光X線強度の変化率
(%)である。図2、3において、変化率0%は温度上
昇が飽和に達して蛍光X線強度が飽和値(Ist)の状態
を示す。これらの時間−X線強度補正曲線は、上記の記
憶手段24に記憶されている。この補正曲線は元素の含
有率の大小にかかわらず、一定である。
FIG. 2 shows a typical metal such as copper metal .
An example of a time-X-ray intensity correction curve C1 obtained by an experiment in advance based on a change in the intensity of the fluorescent X-ray B2 measured by the detector 4 with respect to the time from application of the high voltage to ON using a metal sample Indicates. FIG. 3 shows an example of the time-X-ray intensity correction curve C2 obtained from the high voltage application OFF obtained in the same manner. The horizontal axis represents time (minutes), and the vertical axis represents the rate of change (%) in fluorescent X-ray intensity. 2 and 3, the rate of change of 0% indicates that the temperature rise reaches saturation and the fluorescent X-ray intensity reaches the saturation value (Ist). These time-X-ray intensity correction curves are described above.
It is stored in the storage means 24. This correction curve is
It is constant regardless of the size of the rate.

【0015】本発明は、ターゲット10が十分に冷却さ
れた状態でONしてからの時間経過のみでなく、十分冷
却される前に再度ONした場合にも適用できる。図4は
そのような場合の、ターゲット10への高電圧印加をO
N、OFFさせた時の蛍光X線強度の変化を示すモデル
図の一例である。この例では、ターゲット10が十分に
冷却された状態から、X線管2の立上り時に高電圧印加
ONでta時間加熱される。a時点(この時の蛍光X線
強度はIa )で高電圧印加が例えば試料交換のために
FFされて、tb時間冷却される。b時点(この時の
X線強度はIb )で再び高電圧印加がONされて、t
c時間加熱され、c時点(この時の蛍光X線強度はIc
)に至る。この場合、ta時間には図2の蛍光X線強
度I0 からIa までの曲線C1が使用され、tb時間に
は、図3の蛍光X線強度Ia からIb までの曲線C2が
使用される。tc時間には、図2の蛍光X線強度Ib か
らIc の曲線C1が使用される。この曲線に基づいて、
例えばc時点で検出器4で測定される蛍光X線強度Ic
ターゲット10の熱膨張が安定した状態、つまり飽
和値の蛍光X線強度Ist(0%)に合致させるように
Icに比率Ist/Icを乗ずることにより補正する。これ
により、ターゲット10への高電圧の印加ONから、タ
ーゲット10の熱膨張が安定するまで測定を待機するこ
となく、当該測定されたc時点において直ちに基準状態
での蛍光X線強度が得られる
According to the present invention, the target 10 is sufficiently cooled.
Not only the time has passed since it was turned on in the
It can also be applied when it is turned on again before it is rejected. Figure 4
In such a case , the high voltage application to the target 10 is
It is an example of a model diagram showing a change in fluorescent X-ray intensity when the light is turned off and on. In this example, the target 10 is sufficiently cooled and then heated for a ta time by applying a high voltage when the X-ray tube 2 rises. At time point a (the fluorescent X-ray intensity at this time is Ia), a high voltage is applied, for example, to replace the sample for O.
It is FF'd and cooled for tb hours. Point b ( Firefly at this time
The optical X-ray intensity is Ib) and the high voltage application is turned on again, and
It is heated for c hours, and at time point c (the fluorescent X-ray intensity at this time is Ic
). In this case, the curve C1 from the fluorescent X-ray intensities I0 to Ia in FIG. 2 is used for ta time, and the curve C2 from the fluorescent X-ray intensities Ia to Ib in FIG. 3 is used at tb time. The curve C1 of the fluorescent X-ray intensities Ib to Ic in FIG. 2 is used for tc time. Based on this curve,
For example, the fluorescent X-ray intensity Ic measured by the detector 4 at time c
In such a manner that the thermal expansion of the target 10 is stable, that is, the fluorescent X-ray intensity Ist (0%) at the saturation value,
It is corrected by multiplying Ic by the ratio Ist / Ic. With this , immediately after the high voltage is applied to the target 10, the reference state is immediately obtained at the time point c measured without waiting for the measurement until the thermal expansion of the target 10 becomes stable.
The fluorescent X-ray intensity at is obtained .

【0016】なお、第1実施形態では、記憶手段24に
より記憶された時間−X線強度補正曲線に基づいて、蛍
光X線強度に補正しているが、後述する推定手段34に
より推定されたターゲット10の伸縮量から蛍光X線強
度を補正するようにしてもよい。
In the first embodiment, the fluorescent X-ray intensity is corrected based on the time-X-ray intensity correction curve stored in the storage means 24. However, the target estimated by the estimating means 34 described later is used. The fluorescent X-ray intensity may be corrected based on the expansion / contraction amount of 10.

【0017】図5は、本発明の第2実施形態に係る蛍光
X線分析装置の構成図を示す。本装置は、1次X線B1
を発生させるX線管2、1次X線B1が照射された試料
3から発生した蛍光X線B2の強度を測定する検出器
4、検出器4からの検出信号に基づいてX線スペクトル
を得る多重波高分析器5を備え、試料3の蛍光X線分析
を行うものである。第1実施形態と同様に、上記X線管
2と検出器4の一部、試料3は真空容器6内に配置され
る。
FIG. 5 is a block diagram of an X-ray fluorescence analyzer according to the second embodiment of the present invention. This device is a primary X-ray B1.
X-ray tube 2 for generating X-ray, detector 4 for measuring the intensity of fluorescent X-ray B2 emitted from sample 3 irradiated with primary X-ray B1, and X-ray spectrum is obtained based on the detection signal from detector 4. The multi-wave height analyzer 5 is provided and the fluorescent X-ray analysis of the sample 3 is performed. Similar to the first embodiment, the X-ray tube 2, a part of the detector 4, and the sample 3 are placed in the vacuum container 6.

【0018】本装置は、第1実施形態と同様に構成され
るX線管2を固定する固定台16と真空容器6の内壁1
3間に、試料3に対するX線管2の距離を変化させる例
えばピエゾ素子のような移動手段18と、真空シール用
のベローズ17が設けられている。
In this apparatus, the fixing base 16 for fixing the X-ray tube 2 and the inner wall 1 of the vacuum vessel 6 which are constructed in the same manner as in the first embodiment.
A moving means 18 such as a piezo element for changing the distance of the X-ray tube 2 to the sample 3 and a bellows 17 for vacuum sealing are provided between the three.

【0019】また、本装置は、ターゲット10の熱膨張
による伸縮量を推定する推定手段34と、推定されたタ
ーゲット10の伸縮量に基づいて、例えば上記ピエゾ素
子18に所定電圧を与えることによりその歪み量を制御
する制御手段36とを備えている。上記移動手段18と
制御手段36により第2補正手段32を構成する。ピエ
ゾ素子18が伸びると、試料3に対してX線管2の位置
が後退する。ピエゾ素子18が縮むと、試料3に対して
X線管2の位置が前進する。第2補正手段32は、ター
ゲット10の熱膨張による伸縮量に応じて、ターゲット
10と試料3との距離を一定に保つように補正する。
Further, the present apparatus uses the estimating means 34 for estimating the amount of expansion and contraction of the target 10 due to thermal expansion, and, for example, applying a predetermined voltage to the piezo element 18 based on the estimated amount of expansion and contraction of the target 10. And a control means 36 for controlling the amount of distortion. The moving means 18 and the control means 36 constitute the second correcting means 32. When the piezo element 18 extends, the position of the X-ray tube 2 withdraws with respect to the sample 3. When the piezo element 18 contracts, the position of the X-ray tube 2 advances with respect to the sample 3. The second correction unit 32 corrects the distance between the target 10 and the sample 3 so as to be constant according to the amount of expansion and contraction of the target 10 due to thermal expansion.

【0020】例えば、X線管2の立上り時でターゲット
10(主にターゲット支持棒)の熱膨張が安定する前
に、推定されたターゲット10の伸び量に応じて、ター
ゲット10と試料3の距離が一定値、例えば熱膨張が飽
和した状態の値mとなるように、X線管2を移動させ
る。これにより、試料3に照射される1次X線B1の強
度、ひいては検出器4で測定される蛍光X線の強度がタ
ーゲット10の熱膨張が安定した状態、つまり飽和値に
補正される。したがって、ターゲット10の熱膨張が安
定する前に、ターゲット10に高電圧の印加ONから、
ターゲット10の熱膨張が安定するまで測定を待機する
ことなく、直ちにX線強度を測定することができる。
For example, before the thermal expansion of the target 10 (mainly the target support rod) stabilizes when the X-ray tube 2 rises, the distance between the target 10 and the sample 3 is increased according to the estimated expansion amount of the target 10. The X-ray tube 2 is moved so that is a constant value, for example, the value m in a state where the thermal expansion is saturated. As a result, the intensity of the primary X-ray B1 with which the sample 3 is irradiated, and thus the intensity of the fluorescent X-ray measured by the detector 4, is corrected to a state where the thermal expansion of the target 10 is stable, that is, a saturation value. Therefore, before the thermal expansion of the target 10 is stabilized, the high voltage is applied to the target 10 from ON,
The X-ray intensity can be measured immediately without waiting for the measurement until the thermal expansion of the target 10 becomes stable.

【0021】また、上記推定手段34は、前記ターゲッ
ト10の伸縮量△Lを、ターゲット10の熱膨張に関係
するパラメータから推定する。このパラメータには、例
えば、ターゲット10に印加された高電圧の電力、高電
圧の印加時間および休止時間、冷却媒体(例えば電気絶
縁物)への熱伝導率、冷却媒体の温度、ターゲット10
(主にターゲット支持棒)の熱膨張係数、ターゲット1
0の機械的保持機構の寸法および熱伝導係数、ターゲッ
ト10と試料3との距離の初期値等が含まれる。したが
って、ターゲット10に印加した高電圧を一旦OFFし
て再度ONした場合や、印加する高電圧の電力を変化さ
せた場合にも、ターゲット10の伸縮量△Lを推定でき
る。
The estimating means 34 estimates the expansion amount ΔL of the target 10 from the parameters related to the thermal expansion of the target 10. The parameters include, for example, high voltage power applied to the target 10, high voltage application time and dwell time, thermal conductivity to a cooling medium (eg, an electrical insulator), temperature of the cooling medium, target 10
Thermal expansion coefficient (mainly target support rod), target 1
The dimensions of the mechanical holding mechanism of 0 and the thermal conductivity, the initial value of the distance between the target 10 and the sample 3, and the like are included. Therefore, the expansion / contraction amount ΔL of the target 10 can be estimated even when the high voltage applied to the target 10 is once turned off and then turned on again, or when the power of the applied high voltage is changed.

【0022】以下、上記推定手段34の動作を説明す
る。図6は、印加高電圧の電力変化によるターゲット1
0の温度変化を示すモデル図である。ここで、I は、完
全に冷却された状態からQ1の電力が印加されている状
態で温度上昇の飽和値はTq1である。IIは、I の状態
がt1時間続いた後の温度T1からQ2の電力に切り換
えた状態での温度上昇の飽和値はTq2である。III
は、IIの状態がt2時間続いた後の温度T2からQ3の
電力に切り換えた状態での温度上昇の飽和値はTq3で
ある。IVは、III の状態がt3時間続いた後の温度T3
からQ4の電力に切り換えた状態での温度上昇の飽和値
はTq4である。
The operation of the estimating means 34 will be described below. FIG. 6 shows the target 1 due to the change in power of the applied high voltage.
It is a model figure which shows the temperature change of 0. Here, the saturation value of the temperature rise of I is Tq1 when the power of Q1 is applied from the completely cooled state. Regarding II, the saturation value of the temperature rise is Tq2 in the state where the temperature is switched from the temperature T1 to the electric power of Q2 after the state of I continues for t1 hours. III
Indicates that the saturation value of the temperature rise in the state where the temperature is switched from the temperature T2 to the electric power of Q3 after the state of II continues for t2 hours is Tq3. IV is the temperature T3 after the state of III continues for t3 hours.
The saturation value of the temperature rise when the power is switched from Q4 to Q4 is Tq4.

【0023】それぞれ状態が変化した時からの時間を
t、温度変化の時定数をτr とし、各状態での温度Tを
求めると、 I :T=Tq1−Tq1・Exp(−t/τr ) II :T=Tq2−(Tq2−T1)・Exp(−t/
τr ) III :T=Tq3−(Tq3−T2)・Exp(−t/
τr ) IV :T=Tq4−(Tq4−T3)・Exp(−t/
τr ) 時定数τr は、冷却媒体への熱伝導、冷却媒体の温度、
ターゲット10の機械的保持機構の寸法および熱伝導係
数等により設定される。
Letting t be the time from the change of each state and τr the time constant of the temperature change, the temperature T in each state is calculated as follows: I: T = Tq1-Tq1 · Exp (-t / τr) II : T = Tq2- (Tq2-T1) * Exp (-t /
τr) III: T = Tq3- (Tq3-T2) .Exp (-t /
τr) IV: T = Tq4− (Tq4−T3) · Exp (−t /
τr) The time constant τr is the heat conduction to the cooling medium, the temperature of the cooling medium,
It is set by the dimensions of the mechanical holding mechanism of the target 10 and the coefficient of thermal conductivity.

【0024】一般式を推定すると、 T=Tst−(Tst−Te )・Exp(−t/τr ) (1) ただし、Tstは所定状態での飽和温度、Te は所定状態
が始まった時の温度、ただし完全に冷却された状態では
0とする。Tstは供給電力Qに比例すると考えられるか
らpをその比例定数として、 Tst=pQ (2) したがって、 T=pQ−(pQ−Te )・Exp(−t/τr )
Estimating the general formula, T = Tst- (Tst-Te) .Exp (-t / .tau.r) (1) where Tst is the saturation temperature in a predetermined state and Te is the temperature at the start of the predetermined state. However, it is set to 0 in the completely cooled state. Since Tst is considered to be proportional to the supplied power Q, p is taken as its proportional constant, and Tst = pQ (2) Therefore, T = pQ- (pQ-Te) * Exp (-t / τr)

【0025】いま、固定点からターゲット面までの距離
をL(図1参照)、高電圧による温度上昇、すなわち熱
膨張によってのターゲットの伸び量を△L、飽和伸び量
を△Lst、所定状態が始まった時の伸び量を△Le とす
ると、これらとT、Tst、Te との間には次の関係が存
在する。 △L=k・L・T、△Lst=k・L・Tst、△Le =k
・L・Te ただし、kはターゲット支持棒の熱膨張係数である。
Now, the distance from the fixed point to the target surface is L (see FIG. 1), the temperature rise due to high voltage, that is, the expansion amount of the target due to thermal expansion is ΔL, the saturation expansion amount is ΔLst, and the predetermined state is Letting ΔLe be the amount of elongation at the beginning, the following relationships exist between these and T, Tst, and Te. ΔL = k · L · T, ΔLst = k · L · Tst, ΔLe = k
・ L ・ Te where k is the coefficient of thermal expansion of the target support rod.

【0026】したがって、(1)式から、 △L=kL・(Tst−(Tst−Te )・Exp(−t/τr )) =△Lst−(△Lst−△Le )・Exp(−t/τr ) また、(2)式から、 △L=kLpQ−(kLpQ−kLTe )・Exp(−t/τr ) (3)Therefore, from equation (1),   ΔL = kL · (Tst− (Tst−Te) · Exp (−t / τr))       = ΔLst− (ΔLst−ΔLe) · Exp (−t / τr) Also, from equation (2),   ΔL = kLpQ- (kLpQ-kLTe) · Exp (-t / τr) (3)

【0027】ターゲット10と試料間の距離をm0 (完
全に冷却された状態での初期値)とすると(図1参
照)、試料3におけるX線管2からの1次X線強度Ir
は、 Ir =I0 (m0 /(m0 −△L))2 ≒I0 (1+2△L/m0 ) I0 は△L=0、即ち温度上昇がないときの1次X線強
度である。したがって、 Ir /I0 =1+(2/m)・(△Lst−(△Lst−△Le ) ・Exp(−t/τr )) =1+A・(hQ−(hQ−△Le )・Exp(−t/τr )) (4) △L=hQ−(hQ−△Le )・Exp(−t/τr ) (5) ただし、kLp=hとおく。ここで、比例定数h、定数
Aは、次のように求めることができる。十分に冷却され
た状態から供給電力Qを与えて、飽和状態に達した時の
X線強度の変化量を△V、次にこの変化量に対応してX
線管2を微小距離移動させた時の移動量を△Uとする
と、 h=△U/Q、およびA=△V/△U 上記定数h、A、および所定状態時の温度変化の時定数
τr は、実験から求めることができる。また、所定状態
が始まった時の伸び量△Le の初期値は0である。した
がって、供給電力Q、所定状態が始まった時からの時間
tから、上記(5)式を用いて、△Lを推定することが
できる。
Assuming that the distance between the target 10 and the sample is m 0 (initial value in a completely cooled state) (see FIG. 1), the primary X-ray intensity Ir from the X-ray tube 2 in the sample 3 is
Is, Ir = I0 (m0 / ( m0 - △ L)) is 2 ≒ I0 (1 + 2 △ L / m0) I0 is the primary X-ray intensity in the absence of △ L = 0, that is, the temperature rise. Therefore, Ir / I0 = 1 + (2 / m) * ([Delta] Lst-([Delta] Lst- [Delta] Le) * Exp (-t / [tau] r)) = 1 + A * (hQ- (hQ- [Delta] Le) * Exp (-t) / Τr)) (4) ΔL = hQ- (hQ-ΔLe) · Exp (-t / τr) (5) where kLp = h. Here, the proportional constant h and the constant A can be obtained as follows. When the supply power Q is applied from a sufficiently cooled state and the amount of change in the X-ray intensity when reaching the saturated state is ΔV, then X is corresponding to this amount of change.
Letting ΔU be the amount of movement when the wire tube 2 is moved by a minute distance, h = ΔU / Q and A = ΔV / ΔU The constants h and A above and the time constant of the temperature change in a predetermined state. τr can be obtained from experiments. Further, the initial value of the elongation amount ΔLe when the predetermined state starts is 0. Therefore, ΔL can be estimated from the supplied power Q and the time t from the start of the predetermined state by using the above equation (5).

【0028】次に、W=△L/hのパラメータで考える
と、(4)式は、次のように変形される。 Ir/I0 =1+B・(Q−(Q−We )・Exp(−t/τr ))(6) W=Q−(Q−We )・Exp(−t/τr ) (7) 定数BはB=△V/Q(=Ah)であり、上記と同様に
実験により求めることができる。上記Wは、ターゲット
10に蓄積された熱量に比例する変数と考えることがで
きる。
Next, considering the parameter of W = ΔL / h, the equation (4) is transformed as follows. Ir / I0 = 1 + B. (Q- (Q-We) .Exp (-t / .tau.r)) (6) W = Q- (Q-We) .Exp (-t / .tau.r) (7) Constant B is B = ΔV / Q (= Ah), which can be obtained by an experiment similar to the above. The W can be considered as a variable proportional to the amount of heat accumulated in the target 10.

【0029】(6)式は、X線強度がWの変数として管
理できることを示すもので、定数B、所定状態時の温度
変化の時定数τr を予め測定しておくことによって、供
給電力Qの立上り(Qが大きい方に変化した時)または
立下り(Qが小さい方に変化した時)状態におけるX線
強度をも推定できることを示す。すなわち、前述したよ
うに、第1実施形態の装置の記憶手段24(図1)に代
えて、この推定手段34を用いることができる。
The equation (6) shows that the X-ray intensity can be managed as a variable of W, and the constant B and the time constant τr of the temperature change in a predetermined state are measured in advance to determine the supply power Q. It is shown that the X-ray intensity in the rising (when Q changes to the larger side) or the falling (when Q changes to the smaller side) state can also be estimated. That is, as described above, the estimating unit 34 can be used instead of the storing unit 24 (FIG. 1) of the device according to the first embodiment.

【0030】なお、上記各実施形態では、ターゲットの
熱膨張の飽和時を基準状態として、この時のX線強度に
補正しているが、ターゲットの熱膨張がない時を基準状
態として補正するようにしてもよい。
In each of the above-described embodiments, when the thermal expansion of the target is saturated is used as the reference state, and the X-ray intensity at this time is corrected. However, when the target does not have thermal expansion, the reference state is used for correction. You may

【0031】なお、本発明は、ターゲット10に発生し
た熱をそのターゲット支持棒12および電気絶縁物14
を通して放散する間接冷却型装置に使用しているが、タ
ーゲット材11直下に冷却媒体(例えば冷却水)を導入
する直接冷却型装置に使用してもよい。
In the present invention, the heat generated in the target 10 is transferred to the target support rod 12 and the electric insulator 14.
Although it is used for the indirect cooling type device which diffuses through the through, it may be used for the direct cooling type device which introduces the cooling medium (for example, cooling water) directly under the target material 11.

【0032】本発明は、上記各実施形態において、試料
から発生する蛍光X線を検出器によって直接検出し、多
重波高分析器によってスペクトル分離する方式、いわゆ
るエネルギー分散型蛍光X線分析装置に適用している
が、試料から発生する蛍光X線をゴニオメータを用い
て、分光結晶によって分光し、検出器によって検出す
る、いわゆる波長分散型蛍光X線分析装置に適用しても
よい。
The present invention is applied to the so-called energy dispersive X-ray fluorescence analyzer in which the fluorescent X-rays generated from the sample are directly detected by the detector and the spectrum is separated by the multiple wave height analyzer in each of the above embodiments. However, it may be applied to a so-called wavelength dispersive X-ray fluorescence analyzer in which fluorescent X-rays generated from a sample are dispersed by a dispersive crystal using a goniometer and detected by a detector.

【0033】上記エネルギー分散型蛍光X線分析装置に
おいて、X線管からの1次X線を分光結晶により分光し
て単色化する場合もある。この場合には、X線強度を補
正する第1実施形態では、X線管のターゲット移動によ
る分光特性の劣化による影響が大きく、補正量を推定す
ることが困難であるので、X線管を移動させてターゲッ
ト位置を安定に保つ第2実施形態が適用される。
In the above energy dispersive X-ray fluorescence analyzer, the primary X-rays from the X-ray tube may be dispersed by a dispersive crystal to be monochromatic. In this case, in the first embodiment for correcting the X-ray intensity, the movement of the target of the X-ray tube has a large effect on the deterioration of the spectral characteristics, and it is difficult to estimate the correction amount. The second embodiment is applied in which the target position is kept stable.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上のように、本発明の一構成によれ
ば、X線管のターゲットの熱膨張による伸縮量に対応し
たターゲットと試料間の距離の変化に応じて、時間−X
線強度補正曲線に基づき、検出器で測定された時点の
光X線の強度を、ターゲットの熱膨張が基準状態の時の
蛍光X線強度に補正するので、ターゲットへの高電圧の
印加ONから測定時点において直ちに当該基準状態での
蛍光X線強度が得られる
As described above, according to one configuration of the present invention, the expansion and contraction amount of the target of the X-ray tube due to the thermal expansion can be dealt with.
Depending on the change in the distance between the target and the sample , time-X
Based on the line strength correction curve, the intensity of the fluorescent <br/> light X-ray at the time measured by the detector, the thermal expansion of the target is corrected to the fluorescent X-ray intensity at the reference state, the high to the target Immediately after the voltage application is turned on , the reference condition
The fluorescent X-ray intensity is obtained .

【0035】また、本発明の他の構成によれば、X線管
のターゲットの熱膨張による伸縮量に対応したターゲッ
トと試料間の距離の変化に応じて、試料に対してX線管
を移動させて測定時点でのターゲットと試料との距離を
ターゲットの熱膨張の基準状態の時と同一に保つように
補正するから、ターゲットへの高電圧の印加ONから
定時点において直ちに当該基準状態での蛍光X線強度が
得られる
According to another structure of the present invention, the target corresponding to the expansion and contraction amount of the target of the X-ray tube due to the thermal expansion.
The X-ray tube is moved with respect to the sample according to the change in the distance between the target and the sample, and the distance between the target and the sample at the time of measurement is measured.
Since corrected so as to maintain the same as for the standard state of the thermal expansion of the target, measuring the applied ON the high voltage to the target
Immediately at a fixed time, the fluorescent X-ray intensity in the reference state
Is obtained .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施形態に係る蛍光X線分析装置
を示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a fluorescent X-ray analysis apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】高電圧印加ONからの時間−X線強度補正曲線
の一例を示す特性図である。
FIG. 2 is a characteristic diagram showing an example of a time-X-ray intensity correction curve from high voltage application ON.

【図3】高電圧印加OFFからの時間−X線強度補正曲
線の一例を示す特性図である。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing an example of a time-X-ray intensity correction curve from high voltage application OFF.

【図4】高電圧印加のON、OFFによるX線強度の変
化を示すモデル図である。
FIG. 4 is a model diagram showing changes in X-ray intensity due to ON and OFF of high voltage application.

【図5】本発明の第2実施形態に係る蛍光X線分析装置
を示す構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram showing a fluorescent X-ray analysis apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図6】印加高電圧の電力変化によるターゲットの温度
変化を示すモデル図である。
FIG. 6 is a model diagram showing a temperature change of a target due to a power change of an applied high voltage.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…X線管、3…試料、4…検出器、5…多重波高分析
器、10…ターゲット、11…ターゲット材、12…タ
ーゲット支持棒、18…移動手段、22…第1補正手
段、24…記憶手段、32…第2補正手段、34…推定
手段、36…制御手段。
2 ... X-ray tube, 3 ... Sample, 4 ... Detector, 5 ... Multiwave height analyzer, 10 ... Target, 11 ... Target material, 12 ... Target support rod, 18 ... Moving means, 22 ... First correcting means, 24 ... storage means, 32 ... second correction means, 34 ... estimation means, 36 ... control means.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平11−174007(JP,A) 特開 平10−185844(JP,A) 特開 平7−286977(JP,A) 特開 平8−255695(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 23/223 H05G 1/02 H05G 1/26 Continuation of front page (56) Reference JP-A-11-174007 (JP, A) JP-A-10-185844 (JP, A) JP-A-7-286977 (JP, A) JP-A-8-255695 (JP , A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G01N 23/223 H05G 1/02 H05G 1/26

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 X線管のターゲットに高電圧を印加して
発生させた1次X線を試料に照射し、試料から発生した
蛍光X線の強度を検出器で測定して試料を分析する蛍光
X線分析装置であって、 ターゲットの熱膨張による伸縮量に対応したターゲット
と試料間の距離の変化に応じて蛍光X線の強度が前記熱
膨張の基準状態での蛍光X線の強度に対して変化するの
に対応させて、前記検出器で測定された時点の蛍光X線
の強度を前記基準状態の時の蛍光X線強度に合致するよ
うに補正する第1補正手段と、 前記高電圧の印加ONからの時間に対する前記検出器で
測定される蛍光X線の強度の変化、および高電圧の印加
OFFからの時間に対する前記検出器で測定される蛍光
X線の強度の変化に基づいて求めた時間−X線強度補正
曲線を記憶する記憶手段とを備え、 前記第1補正手段は、前記記憶手段に記憶された時間−
X線強度補正曲線に基づいて、前記検出器で測定され
時点の蛍光X線強度を補正する蛍光X線分析装置。
1. A sample is analyzed by irradiating a sample with primary X-rays generated by applying a high voltage to a target of an X-ray tube and measuring the intensity of fluorescent X-rays generated from the sample with a detector. A fluorescent X-ray analyzer, the target corresponding to the amount of expansion and contraction due to thermal expansion of the target
And the intensity of the fluorescent X-ray changes depending on the change in the distance between the sample and the sample.
It changes with the intensity of fluorescent X-rays in the standard state of expansion
Corresponding to the above, the intensity of the fluorescent X-ray measured at the detector should be matched with the fluorescent X-ray intensity at the reference state.
A first correction means for correcting as described above, a change in the intensity of the fluorescent X-ray measured by the detector with respect to the time from ON of application of the high voltage, and a change with the detector with respect to the time from OFF of application of the high voltage. And a storage unit that stores an X-ray intensity correction curve, wherein the first correction unit stores the time stored in the storage unit.
Based on the X-ray intensity correction curve, measured at the detector
An X-ray fluorescence analyzer that corrects the X-ray fluorescence intensity at the time point .
【請求項2】 X線管のターゲットに高電圧を印加して
発生させた1次X線を試料に照射し、試料から発生した
蛍光X線の強度を検出器で測定して試料を分析する蛍光
X線分析装置であって、 ターゲットの熱膨張による伸縮量に対応したターゲット
と試料間の距離の変化に応じて、試料に対してX線管を
移動させて測定時点でのターゲットと試料との距離を
ーゲットの熱膨張の基準状態の時と同一に保つように補
正する第2補正手段を備えた蛍光X線分析装置。
2. A sample is analyzed by irradiating a sample with primary X-rays generated by applying a high voltage to a target of an X-ray tube and measuring the intensity of fluorescent X-rays generated from the sample with a detector. A fluorescent X-ray analyzer, the target corresponding to the amount of expansion and contraction due to thermal expansion of the target
The X-ray tube to the sample according to the change in the distance between the sample and
Move it to set the distance between the target and sample at the time of measurement .
An X-ray fluorescence analyzer provided with a second correction means for correcting the thermal expansion of the target so as to keep the same as in the standard state .
【請求項3】 請求項1または2において、 前記ターゲットの熱膨張による伸縮量を、ターゲットの
熱膨張に関係するパラメータから推定する推定手段を備
えた蛍光X線分析装置。
3. The X-ray fluorescence analyzer according to claim 1 , further comprising an estimation unit that estimates the expansion / contraction amount of the target due to thermal expansion from a parameter related to the thermal expansion of the target.
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