JP3365600B2 - Method of determining operating temperature of filament in electron gun and electron beam apparatus - Google Patents
Method of determining operating temperature of filament in electron gun and electron beam apparatusInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、フィラメントを備える
電子銃を用いる電子顕微鏡、電子プローブマイクロアナ
ライザ（ＥＰＭＡ）等の電子線装置において、電子銃の
フィラメントの動作温度を決定するための方法、及びそ
の電子線装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for determining the operating temperature of the filament of an electron gun in an electron beam apparatus such as an electron microscope using an electron gun equipped with a filament and an electron probe microanalyzer (EPMA). It relates to the electron beam apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】フィラメントを用いた電子銃は概略図４
に示す構成を備えている。図中、１はフィラメント、２
はウェーネルト、３はアノード、４はフィラメント加熱
装置、５は加速電圧発生装置を示す。2. Description of the Related Art An electron gun using a filament is shown in FIG.
It has the configuration shown in. In the figure, 1 is a filament, 2
Is Wehnelt, 3 is an anode, 4 is a filament heating device, and 5 is an accelerating voltage generator.
【０００３】図４において、フィラメント加熱装置４は
加速電圧発生装置５から供給された加速電圧をウェーネ
ルト２に印加すると共に、フィラメント１に対して加熱
するための電流を供給する。In FIG. 4, a filament heating device 4 applies the acceleration voltage supplied from the acceleration voltage generator 5 to the Wehnelt 2 and supplies a current for heating the filament 1.
【０００４】これにより、フィラメント１は所定の温度
（以下、これを動作温度と称す）に加熱されるのである
が、この動作温度は図５の点Ｐで示す温度に設定される
のが通常である。As a result, the filament 1 is heated to a predetermined temperature (hereinafter referred to as an operating temperature), which operating temperature is normally set to a temperature indicated by a point P in FIG. is there.
【０００５】即ち、フィラメント１に供給する電流を増
加し、フィラメント１の温度（以下、これをフィラメン
ト温度と称す）を上げていくと、電子銃からの電子の放
出電流、即ちエミッション電流Ｉe は、はじめは図５の
Ａで示す範囲のようにフィラメント温度Ｔf に依存して
増大していくが、次第に、図５のＢで示す範囲のように
フィラメント温度Ｔf に依存せず、略一定値を保つよう
になる。That is, when the current supplied to the filament 1 is increased to raise the temperature of the filament 1 (hereinafter referred to as the filament temperature), the electron emission current from the electron gun, that is, the emission current I e At first, it increases depending on the filament temperature T f as in the range indicated by A in FIG. 5, but gradually does not depend on the filament temperature T f as in the range indicated by B in FIG. 5 and is substantially constant. It will keep the value.
【０００６】ここで、図５のＡで示す範囲のようにエミ
ッション電流Ｉe がフィラメント温度Ｔf に依存して増
大していく範囲を温度制限領域、図５のＢで示す範囲の
ようにエミッション電流Ｉe がフィラメント温度Ｔf に
依存しない範囲を空間電荷制限領域と呼ぶが、フィラメ
ント１の動作温度は温度制限領域から空間電荷制限領域
に移行するところに設定するのである。そして、図５の
点Ｐで示す動作温度は通常飽和点Ｔf0と称されている。Here, the range in which the emission current I e increases depending on the filament temperature T f as in the range shown by A in FIG. 5 is a temperature limitation region, and the emission is as shown by B in FIG. A range in which the current I e does not depend on the filament temperature T f is called a space charge limiting region, and the operating temperature of the filament 1 is set so as to shift from the temperature limiting region to the space charge limiting region. The operating temperature indicated by point P in FIG. 5 is normally called the saturation point Tf0 .
【０００７】このようにフィラメント１の動作温度を飽
和点に設定することの妥当性は明らかである。即ち、フ
ィラメント１の動作温度を温度制限領域内に設定した場
合には、フィラメント温度が多少でも変化するとそれに
伴ってエミッション電流Ｉeが大きく変動してしまうの
で望ましいものではないことは明らかである。これに対
して、フィラメント１の動作温度を空間電荷制限領域の
高い方に設定するとフィラメント温度が変化してもエミ
ッション電流Ｉe は殆ど変化しないので望ましいのであ
るが、フィラメント温度を高くするとフィラメント１の
寿命が短くなるという問題が生じる。The validity of setting the operating temperature of the filament 1 at the saturation point in this way is clear. That is, when the operating temperature of the filament 1 is set within the temperature limit region, it is obviously not desirable because even if the filament temperature is changed to some extent, the emission current I e is greatly changed accordingly. On the other hand, if the operating temperature of the filament 1 is set higher in the space charge limiting region, the emission current I e hardly changes even if the filament temperature changes, which is desirable. There is a problem that the life is shortened.
【０００８】そこで、エミッション電流Ｉe が実用上安
定しており、しかもフィラメント１の寿命が短くなるこ
とがない動作温度を設定することが望まれるのであり、
このような動作温度が飽和点なのである。Therefore, it is desired to set an operating temperature at which the emission current I e is practically stable and which does not shorten the life of the filament 1.
This operating temperature is the saturation point.
【０００９】以上のように、フィラメントの動作温度が
飽和点Ｔf0になるようにフィラメント加熱装置４からフ
ィラメント１に供給する電流を決定するのであるが、そ
のための手法としては、フィラメント１に供給する電流
を変化させながら適宜な方法によりプローブ電流Ｉp を
検出し、その検出したプローブ電流Ｉp の変化に基づい
てフィラメント温度が飽和点Ｔf0となる電流を決定する
方法（以下、この方法を第１の方法と称す）、あるいは
フィラメント１に供給する電流を変化させながらエミッ
ション電流Ｉe を適宜な方法で検出し、その検出したエ
ミッション電流Ｉe の１次の導関数または２次の導関数
を求め、その極値に基づいてフィラメント温度が飽和点
Ｔf0となる電流を決定する方法（以下、この方法を第２
の方法と称す）が知られている。As described above, the current supplied from the filament heating device 4 to the filament 1 is determined so that the operating temperature of the filament becomes the saturation point T f0 . As a method therefor, the filament 1 is supplied to the filament 1. A method of detecting the probe current I p by an appropriate method while changing the current, and determining a current at which the filament temperature reaches the saturation point T f0 based on the change of the detected probe current I p (hereinafter, this method will be referred to as 1)), or the emission current I e is detected by an appropriate method while changing the current supplied to the filament 1, and the first derivative or the second derivative of the detected emission current I e is detected. A method for obtaining and determining a current at which the filament temperature reaches the saturation point T f0 based on the extreme value (hereinafter, this method is referred to as the
Method) is known.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
第１の方法では次のような問題がある。プローブ電流Ｉ
p はフィラメント温度に対して概略図６に示すように変
化する。なお、図６においてＡで示す範囲はフィラメン
ト温度が変化してもプローブ電流Ｉp が殆ど変化しない
領域であり、この領域を過飽和領域と称す。However, the above first method has the following problems. Probe current I
p changes with filament temperature as shown in the schematic FIG. The range indicated by A in FIG. 6 is a region where the probe current I p hardly changes even when the filament temperature changes, and this region is called a supersaturation region.
【００１１】さて、図５と図６を比較すれば容易に理解
できるように、プローブ電流Ｉp はエミッション電流Ｉ
e よりもダイナミックに変化する。このことは、エミッ
ション電流Ｉe を検出するよりもプローブ電流Ｉp を検
出した方が飽和点Ｔf0の探索がより容易に行えることを
意味している。As can be easily understood by comparing FIG. 5 and FIG. 6, the probe current I p is the emission current I p.
It changes more dynamically than e . This means that it is easier to search for the saturation point T f0 by detecting the probe current I p than by detecting the emission current I e .
【００１２】しかし、プローブ電流Ｉp を正しく検出す
るためには電子銃の軸合わせが正しく行われていなけれ
ばならない。なぜなら、プローブ電流Ｉp は試料に到達
する電子線量であるので、電子銃の軸が狂っている場合
にはプローブ電流Ｉp を正しく検出することができない
からである。However, in order to correctly detect the probe current I p , the electron gun must be properly aligned. This is because the probe current I p is the electron dose that reaches the sample, and therefore the probe current I p cannot be correctly detected when the axis of the electron gun is misaligned.
【００１３】そこで、従来においてはこの第１の方法
は、例えば特開平１−１８３０４５号公報に開示されて
いるように、予めほぼ飽和点に達するような仮のフィラ
メント加熱をしておいて、電子銃の傾斜軸調整を行うプ
ロセスが必要であった。Therefore, in the prior art, the first method is, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-183045, provisional filament heating is performed in advance so that the saturation point is almost reached, and the The process of adjusting the tilt axis of the gun was necessary.
【００１４】次に、上記の第２の方法に関しては次のよ
うな問題がある。上述したようにフィラメント温度に対
するエミッション電流Ｉe の変化は、プローブ電流Ｉp
の変化よりも少なく、しかも、空間電荷制限領域ではフ
ィラメント温度が変化しても略一定値を保つとはいえ、
徐々にではあるがエミッション電流Ｉe は増加するの
で、エミッション電流Ｉe の変化を強調するという意味
においては検出したエミッション電流Ｉe の１次または
２次の導関数を用いるのは有効な方法ではあるが、エミ
ッション電流Ｉe の１次または２次の導関数の極値と飽
和点との関係については物理的な因果関係は必ずしも明
確にはなされておらず、従って第２の方法で求めた飽和
点は、実際にはエミッション電流Ｉe が温度制限領域か
ら空間電荷制限領域に移行する点に一致しない場合があ
るという問題があるのである。Next, the second method described above has the following problems. As described above, the change in the emission current I e with respect to the filament temperature changes according to the probe current I p.
However, even though the filament temperature changes in the space charge limited region, it remains approximately constant.
Because though gradually increases the emission current I e, in the effective way to use a primary or secondary derivative of the emission current I e was detected in the sense that emphasize changes in emission current I e However, the physical causal relationship between the extremal value of the first-order or second-order derivative of the emission current I e and the saturation point is not always clear, and thus the second method was used. There is a problem that the saturation point may not coincide with the point where the emission current I e actually shifts from the temperature limited region to the space charge limited region.
【００１５】本発明は、上記の課題を解決するものであ
って、エミッション電流Ｉe を検出することによってフ
ィラメント温度の動作温度を自動的に飽和点Ｔf0に設定
することができる電子銃におけるフィラメントの動作温
度決定方法を提供することを目的とするものである。The present invention is to solve the above-mentioned problems, and the filament in an electron gun capable of automatically setting the operating temperature of the filament temperature to the saturation point T f0 by detecting the emission current I e. It is an object of the present invention to provide a method for determining the operating temperature of.
【００１６】また、本発明は、エミッション電流Ｉe を
検出することによってフィラメント温度の動作温度を自
動的に飽和点Ｔf0に設定することができる電子線装置を
提供することを目的とするものである。It is another object of the present invention to provide an electron beam apparatus capable of automatically setting the operating temperature of the filament temperature to the saturation point T f0 by detecting the emission current I e. is there.
【００１７】また、本発明は、フィラメント及びフィラ
メントを加熱するための電流を発生する電源装置を含む
系統の異常の有無を判定することができる電子線装置を
提供することを目的とするものである。Another object of the present invention is to provide an electron beam apparatus capable of determining the presence / absence of abnormality in a system including a filament and a power supply device for generating a current for heating the filament. .
【００１８】更に、本発明は、エミッション電流のゆら
ぎの有無を判定することができる電子線装置を提供する
ことを目的とするものである。A further object of the present invention is to provide an electron beam apparatus capable of determining the presence or absence of fluctuations in emission current.
【００１９】[0019]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１記載の電子銃におけるフィラメントの動
作温度決定方法は、フィラメント電流を所定のステップ
で変化させ、各ステップ毎に、今回のステップで得たエ
ミッション電流と前回のステップで得たエミッション電
流との差分をエミッション電流で正規化し、そのエミッ
ション電流で正規化した差分のステップ間での比に基づ
いてフィラメントの動作温度を決定することを特徴とす
る。In order to achieve the above object, in the method for determining the operating temperature of a filament in an electron gun according to claim 1, the filament current is changed at a predetermined step, and each time, this step is performed. The difference between the emission current obtained in the step and the emission current obtained in the previous step is normalized by the emission current, and the operating temperature of the filament is determined based on the ratio between the steps of the difference normalized by the emission current. It is characterized by
【００２０】請求項２記載の電子銃におけるフィラメン
トの動作温度決定方法は、フィラメント電流を所定のス
テップで変化させ、各ステップ毎に、今回のステップで
得たエミッション電流と前回のステップで得たエミッシ
ョン電流との差分をエミッション電流で正規化し、その
エミッション電流で正規化した差分のステップ間での比
と、エミッション電流で正規化した差分の値とに基づい
てフィラメントの動作温度を決定することを特徴とす
る。A method for determining the operating temperature of a filament in an electron gun according to a second aspect is such that the filament current is changed in a predetermined step, and in each step, the emission current obtained in the current step and the emission current obtained in the previous step. The difference between the current and the emission current is normalized, and the operating temperature of the filament is determined based on the ratio between the steps of the difference normalized by the emission current and the value of the difference normalized by the emission current. And
【００２１】請求項３記載の電子線装置は、フィラメン
トと、フィラメントに加熱のための電流を供給する電源
装置と、エミッション電流を検出する検出手段と、制御
手段とを備える電子線装置において、制御手段は、電源
装置に対して所定のステップでフィラメントを加熱する
ための電流を発生させると共に、検出手段からそのとき
のエミッション電流を取り込み、今回のステップで得た
エミッション電流と前回のステップで得たエミッション
電流との差分をエミッション電流で正規化し、そのエミ
ッション電流で正規化した差分のステップ間での比に基
づいてフィラメントの動作温度を決定することを特徴と
する。An electron beam apparatus according to a third aspect of the present invention is an electron beam apparatus including a filament, a power supply device that supplies a current for heating the filament, a detection unit that detects an emission current, and a control unit. The means generates a current for heating the filament in a predetermined step with respect to the power supply device, takes in the emission current at that time from the detecting means, and obtains the emission current obtained in this step and the emission current obtained in the previous step. The difference from the emission current is normalized by the emission current, and the operating temperature of the filament is determined based on the ratio between the steps of the difference normalized by the emission current.
【００２２】請求項４記載の電子線装置は、フィラメン
トと、フィラメントに加熱のための電流を供給する電源
装置と、エミッション電流を検出する検出手段と、制御
手段とを備える電子線装置において、制御手段は、電源
装置に対して所定のステップでフィラメントを加熱する
ための電流を発生させると共に、検出手段からそのとき
のエミッション電流を取り込み、各ステップ毎に、今回
のステップで得たエミッション電流と前回のステップで
得たエミッション電流との差分をエミッション電流で正
規化し、そのエミッション電流で正規化した差分のステ
ップ間での比と、エミッション電流で正規化した差分の
値とに基づいてフィラメントの動作温度を決定すること
を特徴とする。An electron beam apparatus according to a fourth aspect of the present invention is an electron beam apparatus including a filament, a power supply device that supplies a current for heating the filament, a detection unit that detects an emission current, and a control unit. The means generates a current for heating the filament in a predetermined step with respect to the power supply device, takes in the emission current at that time from the detection means, and for each step, the emission current obtained in this step and the previous time. The difference between the emission current obtained in the step and the emission current is normalized by the emission current, and the filament operating temperature is calculated based on the ratio between the steps of the difference normalized by the emission current and the difference value normalized by the emission current. It is characterized by determining.
【００２３】請求項５記載の電子線装置は、請求項３記
載の電子線装置において、フィラメント電流を検出する
検出手段を更に備え、前記制御手段は、前記フィラメン
ト電流を検出する検出手段からそのときのフィラメント
電流を取り込み、その取り込んだフィラメント電流に基
づいてフィラメント及び電源装置を含む系統の異常の有
無を判定することを特徴とする。請求項６記載の電子線
装置は、請求項３記載の電子線装置において、加速電圧
発生装置を更に備え、前記制御手段は、前記加速電圧発
生装置に加速電圧の発生を指示してから所定の時間内に
前記検出手段からエミッション電流を取り込み、その取
り込んだエミッション電流の変動幅に基づいてエミッシ
ョン電流のゆらぎの有無を判定することを特徴とする。The electron beam apparatus according to claim 5 is the same as claim 3.
Detects filament current in the on-board electron beam device
Further comprising a detection means, wherein the control means is the filament
The present invention is characterized in that the filament current at that time is taken in from the detecting means for detecting the current, and whether or not there is an abnormality in the system including the filament and the power supply device is judged based on the taken filament current. The electron beam apparatus according to claim 6 is the electron beam apparatus according to claim 3, wherein the acceleration voltage is
Further comprising a generator, wherein, in said accelerating voltage generator to the acceleration voltage a predetermined time after the instruction generation of
Said detecting means takes in the emission current from, and judging the presence or absence of fluctuation of the emission current on the basis of the variation width of the captured emission current.
【００２４】請求項７記載の電子線装置は、請求項４記
載の電子線装置において、フィラメント電流を検出する
検出手段を更に備え、前記制御手段は、前記電源装置に
対して所定のステップでフィラメントを加熱するための
電流を発生させたときに前記フィラメント電流を検出す
る検出手段からそのときのフィラメント電流を取り込
み、その取り込んだフィラメント電流に基づいてフィラ
メント及び電源装置を含む系統の異常の有無を判定する
ことを特徴とする。請求項８記載の電子線装置は、請求
項４記載の電子線装置において、加速電圧発生装置を更
に備え、前記制御手段は、前記加速電圧発生装置に加速
電圧の発生を指示してから所定の時間内に前記検出手段
からエミッション電流を取り込み、その取り込んだエミ
ッション電流の変動幅に基づいてエミッション電流のゆ
らぎの有無を判定することを特徴とする。The electron beam apparatus according to claim 7 is the same as claim 4.
Detects filament current in the on-board electron beam device
Further comprising a detection means, said control means, to detect the filament current when that caused the current for heating the filament in a predetermined steps for the power supply device
It is characterized in that the filament current at that time is taken in from the detecting means and the presence or absence of abnormality of the system including the filament and the power supply device is judged based on the taken filament current. The electron beam apparatus according to claim 8 claims
In the electron beam apparatus according to Item 4, the accelerating voltage generator is further updated.
To wherein the control means, the accelerating voltage takes in emission current from said detecting means after the instruction generation of accelerating voltage within a predetermined time generator, the emission current on the basis of the variation width of the captured emission current It is characterized by determining the presence or absence of fluctuation of the.
【００２５】[0025]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ実施の形
態について説明する。まず、最初にフィラメントの動作
温度決定方法について説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments will be described below with reference to the drawings. First, a method of determining the operating temperature of the filament will be described.
【００２６】フィラメントの動作温度を決定するに際し
ては、まず、フィラメントに供給するフィラメント電流
をステップ状に変化させ、その度毎にそのときのエミッ
ション電流Ｉe を取り込む。In determining the operating temperature of the filament, first, the filament current supplied to the filament is changed stepwise, and the emission current I e at that time is taken in each time.
【００２７】いま、第ｎ回目のステップのときのエミッ
ション電流値をＩe（ｎ） 、次の第（ｎ＋１）回目のス
テップのときのエミッション電流値をＩe（ｎ＋１） と
すると、次式によってエミッション電流値の差分△Ｉe
（ｎ） が得られる。Assuming that the emission current value at the nth step is I e (n) and the emission current value at the next (n + 1) th step is I e (n + 1), Emission current difference ΔI e
(N) is obtained.
【００２８】
△Ｉe（ｎ） ＝Ｉe（ｎ＋１）−Ｉe（ｎ） …（１）
しかし、このエミッション電流値の差分△Ｉｅ（ｎ）
の値だけから飽和点を決定することはできない。即ち、
エミッション電流Ｉe が比較的大きい場合の飽和点にお
ける△Ｉe（ｎ） の値と、エミッション電流Ｉe が比較
的小さい場合の飽和点における△Ｉe（ｎ） の値は一致
せず、従って、この差分△Ｉe（ｎ）に基づいて飽和点
を決定することができないのである。ΔI e (n) = I e (n + 1) −I e (n) (1) However, the difference ΔE e (n) between the emission current values
The saturation point cannot be determined solely from the value of. That is,
The value of ΔI e (n) at the saturation point when the emission current I e is relatively large does not match the value of ΔI e (n) at the saturation point when the emission current I e is relatively small, and therefore , The saturation point cannot be determined based on this difference ΔI e (n).
【００２９】そこで、この△Ｉe（ｎ） を、第ｎ回目の
ステップでのエミッション電流値Ｉe（ｎ）と第（ｎ＋
１）回目のステップでのエミッション電流Ｉe（ｎ＋
１）の平均値で規格化した差分（以下、規格化差分と称
す）ｄＩe（ｎ） を考える。Therefore, this ΔI e (n) is compared with the emission current value I e (n) in the nth step and the (n +) th step.
1) Emission current I e (n +
Consider a difference (hereinafter referred to as a standardized difference) dI e (n) standardized by the average value of 1).
【００３０】この規格化差分ｄＩe（ｎ） は次式で与え
られる。
ｄＩe（ｎ）＝△Ｉe（ｎ）／［｛Ｉe（ｎ＋１）＋Ｉe（ｎ）｝／2］ …(2)
しかし、この規格化差分ｄＩe（ｎ） だけからは飽和点
を決定することはできない。なぜなら、飽和点における
規格化差分ｄＩe（ｎ） の値は、加速電圧やエミッショ
ン電流Ｉe の値によって異なる値をとり、一定値にはな
らないからである。This normalized difference dI e (n) is given by the following equation. dI e (n) = ΔI e (n) / [{I e (n + 1) + I e (n)} / 2] (2) However, the saturation point is determined only from this normalized difference dI e (n). I can't decide. This is because the value of the normalized difference dI e (n) at the saturation point varies depending on the values of the acceleration voltage and the emission current I e and does not become a constant value.
【００３１】実際、本発明者の実験によれば、エミッシ
ョン電流Ｉe が比較的大きい場合のフィラメント温度Ｔ
f と規格化差分ｄＩe（ｎ） との関係は図２のＡで示す
ようであり、飽和点はＰで示すような位置にあったが、
エミッション電流Ｉe が比較的小さい場合のフィラメン
ト温度Ｔf と規格化差分ｄＩe（ｎ） との関係は図２の
Ｂで示すようであり、飽和点はＱで示すような位置にあ
り、このことから規格化差分ｄＩe（ｎ） の値だけから
は飽和点を決定することができないことが確認された。
なお、図２のグラフＡのＰで示す飽和点の位置、及びグ
ラフＢでＱで示す飽和点の位置は他の方法により求めた
ものである。In fact, according to the experiments by the present inventor, the filament temperature T when the emission current I e is relatively large.
The relationship between f and the normalized difference dI e (n) is as shown by A in FIG. 2, and the saturation point was at the position shown by P,
The relationship between the filament temperature T f and the normalized difference dI e (n) when the emission current I e is relatively small is as shown by B in FIG. 2, and the saturation point is at the position shown by Q. Therefore, it was confirmed that the saturation point cannot be determined only from the value of the normalized difference dI e (n).
The position of the saturation point indicated by P in the graph A in FIG. 2 and the position of the saturation point indicated by Q in the graph B are obtained by another method.
【００３２】そこで、次に、次式で定義される規格化差
分ｄＩe（ｎ） の増加比ｋ（ｎ）（以下、単に増加比と
称す）を導入する。Therefore, next, an increase ratio k (n) (hereinafter simply referred to as an increase ratio) of the standardized difference dI e (n) defined by the following equation is introduced.
【００３３】
ｋ（ｎ）＝ｄＩe（ｎ）／ｄＩe（ｎ＋１） …(3)
この増加比ｋ（ｎ）の下限値は理論的には 1になるが、
実際本発明者の実験によれば図３に示すような結果が得
られ、増加比ｋ（ｎ）の値はフィラメント電流の増加に
伴って 1に漸近していることが実証された。なお、図３
中のＡで示すグラフはエミッション電流Ｉe が比較的大
きい場合のフィラメント温度Ｔf と増加比ｋ（ｎ）の関
係を示すものであり、Ｂで示すグラフはエミッション電
流Ｉe が比較的小さい場合のフィラメント温度Ｔf と増
加比ｋ（ｎ）の関係を示すものである。K (n) = dI e (n) / dI e (n + 1) (3) The lower limit value of the increase ratio k (n) is theoretically 1, but
In fact, according to the experiments by the present inventor, the results shown in FIG. 3 were obtained, and it was proved that the value of the increase ratio k (n) was gradually approaching 1 as the filament current increased. Note that FIG.
The graph shown by A in the figure shows the relationship between the filament temperature T f and the increase ratio k (n) when the emission current I e is relatively large, and the graph by B shows the case where the emission current I e is relatively small. 2 shows the relationship between the filament temperature T f and the increase ratio k (n).
【００３４】そして、図３のＡの場合とＢの場合におい
て他の方法によって飽和点の位置を求めると、いずれの
場合においても飽和点は増加比ｋ（ｎ）の値がある範囲
内にあることが確認された。Then, when the position of the saturation point is obtained by another method in the cases of A and B of FIG. 3, the saturation point is in a certain range in any case in the value of the increase ratio k (n). It was confirmed.
【００３５】そこで、閾値ｋ0 を設定し、各ステップに
おいて増加比ｋ（ｎ）を求めると、その求めた増加比ｋ
（ｎ）と閾値ｋ0 とを比較する。そして、ｋ（ｎ）≦ｋ
0 であれば、第ｎ回目のステップではエミッション電流
Ｉe は既に空間電荷制限領域に入っているものとし、第
（ｎ−１）回目のステップでのフィラメント電流値が飽
和点を与えるもとして決定する。Therefore, when the threshold value k 0 is set and the increase ratio k (n) is calculated in each step, the calculated increase ratio k
(N) is compared with the threshold value k 0 . And k (n) ≦ k
If it is 0, it is assumed that the emission current I e has already entered the space charge limiting region in the nth step, and the filament current value in the (n−1) th step gives a saturation point. To do.
【００３６】ここで、閾値ｋ0 の値は加速電圧、フィラ
メント電流のステップ等を考慮して定めればよいが、1.
5 〜 1の範囲に設定すれば実用上問題ないことが確認さ
れている。Here, the value of the threshold value k 0 may be determined in consideration of the acceleration voltage, the step of the filament current, etc., but 1.
It has been confirmed that there is no practical problem if it is set within the range of 5 to 1.
【００３７】以上のようであるので、本発明の電子銃に
おけるフィラメントの動作温度決定方法によれば、増加
比ｋ（ｎ）という事項を導入したので、自動的に、且つ
従来よりも確実に飽和点を決定することができる。ま
た、エミッション電流値Ｉe を検出して飽和点を決定す
るのでプローブ電流Ｉp を検出して飽和点を決定する場
合のように電子銃の軸合わせを考慮する必要はない。As described above, according to the method for determining the operating temperature of the filament in the electron gun of the present invention, since the matter of the increase ratio k (n) is introduced, the saturation is automatically performed more reliably than before. The point can be determined. Further, since the emission current value I e is detected to determine the saturation point, it is not necessary to consider the axis alignment of the electron gun as in the case of detecting the probe current I p to determine the saturation point.
【００３８】なお、以上においては増加比ｋ（ｎ）の値
のみに基づいて飽和点を決定したが、増加比ｋ（ｎ）が
閾値以下で、且つ規格化差分ｄＩe（ｎ） の値が所定の
閾値以下という条件にしてもよい。これによれば、より
正確に飽和点を決定することができることが判明した。In the above, the saturation point is determined based only on the value of the increase ratio k (n), but the increase ratio k (n) is less than or equal to the threshold and the value of the normalized difference dI e (n) is The condition may be a predetermined threshold value or less. According to this, it has been found that the saturation point can be determined more accurately.
【００３９】以上、本発明に係る電子銃におけるフィラ
メントの動作温度決定方法について説明したが、次に本
発明に係る電子線装置について説明する。The method for determining the operating temperature of the filament in the electron gun according to the present invention has been described above. Next, the electron beam apparatus according to the present invention will be described.
【００４０】図１は本発明に係る電子線装置の一実施形
態を示す図であり、図中、６は制御装置、７は操作装
置、８は表示装置を示す。なお、図４に示すものと同等
な構成要素については同一の符号を付す。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of an electron beam apparatus according to the present invention. In the figure, 6 is a control device, 7 is an operating device, and 8 is a display device. The same components as those shown in FIG. 4 are designated by the same reference numerals.
【００４１】制御装置６は、プロセッサ及びその周辺回
路で構成されるものであり、その動作については後述す
る。操作装置７は種々の操作ボタン、キーボード等で構
成される。表示装置８はＣＲＴ等の適宜な表示装置で構
成される。The control device 6 is composed of a processor and its peripheral circuits, and its operation will be described later. The operation device 7 includes various operation buttons, a keyboard, and the like. The display device 8 is composed of an appropriate display device such as a CRT.
【００４２】次に、図１に示す構成の動作について説明
する。操作装置７によりフィラメント１の動作温度設定
の処理が指示されると、制御装置６は操作装置７で設定
された加速電圧ＶA を加速電圧発生装置５に通知すると
共に、フィラメント加熱装置４に対して加熱コードＦc
（ｎ） を所定の値Ｆcmから所定のステップ△Ｆc 毎に
段階的に通知する。Next, the operation of the configuration shown in FIG. 1 will be described. When the operating device 7 gives an instruction to set the operating temperature of the filament 1, the control device 6 notifies the accelerating voltage V A set by the operating device 7 to the accelerating voltage generating device 5 and also to the filament heating device 4. Heating code F c
(N) is notified stepwise from a predetermined value F cm for each predetermined step ΔF c .
【００４３】この加熱コードＦc（ｎ） は、フィラメン
ト１に供給するフィラメント電流を定めるためのもので
あり、どのような形式とするかは任意であるが、ここで
は、制御装置６からはフィラメント電流値を符号化した
コードを所定のステップ△Ｆc で増加させるようにす
る。これに対してフィラメント加熱装置４は、制御装置
６から通知された加熱コードＦc（ｎ） を解読して当該
加熱コードＦc（ｎ） に対応するフィラメント電流値を
発生し、フィラメント１に供給する。The heating code F c (n) is used to determine the filament current supplied to the filament 1, and the type of the heating code F c (n) is arbitrary. The code obtained by coding the current value is increased at a predetermined step ΔF c . On the other hand, the filament heating device 4 decodes the heating code F c (n) notified from the control device 6, generates a filament current value corresponding to the heating code F c (n), and supplies the filament current value to the filament 1. To do.
【００４４】制御装置６は、加熱コードＦc（ｎ） をフ
ィラメント加熱装置４に与える度毎に、加速電圧発生装
置５からそのときのエミッション電流値Ｉe を取り込
み、またフィラメント加熱装置４からはそのときの実際
のフィラメント電流値Ｉf を取り込む。Every time the control device 6 gives the heating code F c (n) to the filament heating device 4, the control device 6 takes in the emission current value I e at that time from the accelerating voltage generator 5, and the filament heating device 4 receives it. The actual filament current value If at that time is taken in.
【００４５】なお、エミッション電流値Ｉe の検出につ
いては、周知のように、加速電圧発生装置５の中のエミ
ッション電流Ｉe が流れる抵抗の両端の電位差から求め
るようにすればよい。フィラメント電流Ｉf の検出につ
いてはフィラメント加熱装置４の中のフィラメント電流
Ｉf に比例する電流が流れる回路抵抗の両端の電位差か
ら求めるようにすればよい。As is well known, the emission current value I e may be detected from the potential difference across the resistance of the acceleration voltage generator 5 through which the emission current I e flows. The filament current I f may be detected from the potential difference between both ends of the circuit resistance in the filament heating device 4 in which a current proportional to the filament current I f flows.
【００４６】そして、制御装置６は、各ステップにおい
て加速電圧発生装置５からエミッション電流Ｉe を取り
込むと、上記(1) 、(2) 、(3) 式の演算を行って増加比
ｋ（ｎ）の値を求め、その増加比ｋ（ｎ）の値を閾値ｋ
0 と比較する。When the control device 6 takes in the emission current I e from the accelerating voltage generator 5 in each step, the controller 6 performs the calculations of the above equations (1), (2) and (3) to increase the increase ratio k (n ) Is obtained, and the value of the increase ratio k (n) is set to the threshold value k.
Compare with 0 .
【００４７】そして、加熱コードがＦc（ｎ0）であると
きに増加比ｋ（ｎ）の値が閾値ｋ0以下になったとする
と、制御装置６は加熱コードＦc（ｎ0 −１） を求める
飽和点を与えるための加熱コードであると判断する。If the value of the increase ratio k (n) becomes less than or equal to the threshold value k 0 when the heating code is F c (n 0 ), the control device 6 causes the heating code F c (n 0 -1). Is determined as a heating code for giving a saturation point.
【００４８】制御装置６はこのようにして飽和点を与え
るための加熱コードを決定するとフィラメント加熱装置
４に対してこの加熱コードを通知すると共に、表示装置
８に対してフィラメントの動作温度を決定するための処
理が終了したこと、及び決定したフィラメント電流の値
を表示して処理を終了する。When the control device 6 determines the heating code for giving the saturation point in this way, it notifies the filament heating device 4 of this heating code and determines the operating temperature of the filament to the display device 8. Processing is ended, and the value of the determined filament current is displayed, and the processing is ended.
【００４９】以上の動作により、フィラメント１にはフ
ィラメント加熱装置４から飽和点となるフィラメント電
流が自動的に供給されて処理が終了する。By the above operation, the filament current which is the saturation point is automatically supplied from the filament heating device 4 to the filament 1 and the processing is completed.
【００５０】以上のようであるので、本発明によれば、
自動的に、且つ確実に飽和点が決定されるので、操作性
を大幅に向上させることができる。As described above, according to the present invention,
Since the saturation point is automatically and surely determined, the operability can be greatly improved.
【００５１】なお、以上では制御装置６は増加比ｋ
（ｎ）のみに基づいて飽和点を決定するようになされて
いるが、上述したところから明らかなように、増加比ｋ
（ｎ）が閾値以下で、且つ規格化差分ｄＩe（ｎ） の値
が所定の閾値以下である場合に当該ステップでのエミッ
ション電流Ｉe が空間電荷制限領域に入っていると判断
させるようにしてもよい。In the above, the control device 6 controls the increase ratio k.
Although the saturation point is determined based only on (n), as is clear from the above, the increase ratio k
When (n) is less than or equal to the threshold value and the value of the normalized difference dI e (n) is less than or equal to the predetermined threshold value, it is determined that the emission current I e in the step is in the space charge limited region. May be.
【００５２】以上、飽和点を決定してそれをフィラメン
トの動作温度として決定する場合の動作について述べた
が、図１の構成によれば、フィラメント１を含むフィラ
メント加熱装置４の系統の異常や、エミッション電流Ｉ
e のゆらぎを検出することもできる。図１においてフィ
ラメント加熱装置４からフィラメント電流Ｉf を取り込
んでいるのはそのためである。The operation in the case of determining the saturation point and determining it as the operating temperature of the filament has been described above. However, according to the configuration of FIG. 1, there is an abnormality in the system of the filament heating device 4 including the filament 1, Emission current I
It is also possible to detect fluctuations in e . This is why the filament current I f is taken from the filament heating device 4 in FIG. 1.
【００５３】フィラメント１を含むフィラメント加熱装
置４の系統の異常検出の動作は次のようである。The operation for detecting an abnormality in the system of the filament heating device 4 including the filament 1 is as follows.
【００５４】制御装置６は各ステップにおいて加熱コー
ドをフィラメント加熱装置４に与えたときにフィラメン
ト加熱装置４からそのときのフィラメント電流Ｉf を取
り込み、その取り込んだフィラメント電流Ｉf が当該ス
テップにおける加熱コードに対応するフィラメント電流
を中心とする所定の範囲内にあるか否かを判断し、取り
込んだフィラメント電流Ｉf がこの範囲内にない場合に
はフィラメント１またはフィラメント加熱装置４に何等
かの異常が生じていると判断し、表示装置８にフィラメ
ント１を含むフィラメント加熱装置４の系統に異常があ
ることを表示する。[0054] The control device 6 heat codes in filament current I f the uptake, filament current I f is the step taken that at that time the heating cord from filament heating device 4 when given to the filament heater 4 at each step It is determined whether or not it is within a predetermined range centered on the filament current corresponding to, and if the fetched filament current If is not within this range, there is some abnormality in the filament 1 or the filament heating device 4. When it is determined that there is an abnormality, the display device 8 displays that there is an abnormality in the system of the filament heating device 4 including the filament 1.
【００５５】これによれば、フィラメント１を含むフィ
ラメント加熱装置４の系統の異常を早急に検出でき、こ
の異常に対して即座に異常回復の措置をとることが可能
となる。According to this, an abnormality of the system of the filament heating device 4 including the filament 1 can be promptly detected, and it becomes possible to immediately take an abnormality recovery measure against the abnormality.
【００５６】なお、操作装置７に当該異常検出のための
メニューを設け、メニュー操作によって操作装置７から
独立にフィラメント１を含むフィラメント加熱装置４の
系統の異常を検出するための動作を行わせるようにする
ことも可能である。It should be noted that the operating device 7 is provided with a menu for detecting the abnormality, and an operation for detecting an abnormality in the system of the filament heating device 4 including the filament 1 is performed independently from the operating device 7 by the menu operation. It is also possible to
【００５７】次に、エミッション電流Ｉe のゆらぎの検
出については次のようである。電子銃においてはフィラ
メント１の蒸発等によってウェーネルト２の内壁が汚れ
たり、フィラメント１にウィスカーが成長したりするこ
とがあるが、このようなウェーネルト２の内壁の汚れや
フィラメント１に成長したウィスカーは加速電圧を印加
すると微小な放電を発生させ、その結果プローブ電流Ｉ
p の安定度を悪化させる原因になる場合があり、この微
小放電は、エミッション電流Ｉe のゆらぎとして観測す
ることができる。また、フィラメント１の加熱を行う前
でも加速電圧を印加しただけでエミッション電流Ｉe の
ゆらぎが検出される場合がある。Next, the detection of the fluctuation of the emission current I e is as follows. In an electron gun, the inner wall of the Wehnelt 2 may become dirty or whiskers may grow on the filament 1 due to evaporation of the filament 1, but such dirt on the inner wall of the Wehnelt 2 and whiskers growing on the filament 1 are accelerated. When a voltage is applied, a minute discharge is generated and, as a result, the probe current I
This may cause deterioration of the stability of p , and this minute discharge can be observed as fluctuation of the emission current I e . Even before heating the filament 1, the fluctuation of the emission current I e may be detected only by applying the acceleration voltage.
【００５８】そこで、制御装置６は、上記のフィラメン
ト１の動作温度を決定する処理を行う際に加速電圧発生
装置５に対して加速電圧ＶA を通知してからフィラメン
ト加熱装置４に加熱コードを与えるまでの所定の時間内
に加速電圧発生装置５からエミッション電流Ｉe を取り
込み、その変動を検出する。Therefore, the control device 6 notifies the accelerating voltage V A to the accelerating voltage generator 5 when performing the process for determining the operating temperature of the filament 1 and then sends the heating code to the filament heating device 4. The emission current I e is taken in from the accelerating voltage generator 5 within a predetermined time until it is given, and its variation is detected.
【００５９】そして、エミッション電流Ｉe の変動幅が
予め設定された範囲を越えている場合にはエミッション
電流Ｉe にゆらぎが生じていると判断して、表示装置８
にその旨を表示する。[0059] Then, it is determined that the fluctuation in emission current I e if the variation width of the emission current I e exceeds a preset range occurs, the display device 8
Is displayed to that effect.
【００６０】以上により、電子銃が不安定な状態のまま
で当該電子線装置を使用することを防止することができ
るばかりでなく、飽和点を誤って決定することを防止す
ることができる。As described above, it is possible not only to prevent the electron beam apparatus from being used while the electron gun remains unstable, but also to prevent the saturation point from being erroneously determined.
【００６１】なお、操作装置７に当該エミッション電流
Ｉe のゆらぎ検出のためのメニューを設け、メニュー操
作によって操作装置７から独立にエミッション電流Ｉe
のゆらぎを検出するための動作を行わせるようにするこ
とも可能である。[0061] Incidentally, the operation device 7 is provided a menu for the fluctuation detection of the emission current I e, the emission current independently of the operating device 7 by menu operation I e
It is also possible to perform an operation for detecting the fluctuation of the.
【００６２】また、エミッション電流Ｉe はプローブ電
流Ｉp の設定や検出とは独立して検出することができる
ので、当該電子線装置を使用している場合において定期
的にエミッション電流Ｉe を検出し、その変動幅を判断
するようにすることも可能である。[0062] Further, since the emission current I e can be detected independently of the configuration and detection of the probe current I p, periodically detecting emission current I e in the case of using the electron beam apparatus However, it is also possible to judge the fluctuation range.
【００６３】また、エミッション電流Ｉe（ｎ） の測定
や増加比ｋ（ｎ）に対してフィルタをかけて測定誤差や
ノイズ等の影響を減少することができる。つまり、エミ
ッション電流Ｉe（ｎ） のサンプリングは高速で行うこ
とができるため、次のステップ（ｎ＋１）までの間に所
定のｍ回の測定を行い、Further, it is possible to measure the emission current I e (n) and filter the increase ratio k (n) to reduce the influence of measurement error, noise and the like. That is, since the emission current I e (n) can be sampled at high speed, a predetermined m times of measurement is performed until the next step (n + 1).
【００６４】[0064]
【数１】 [Equation 1]
【００６５】のように重み付けした平均処理を行うこと
もできる。ここで、Ｃi は重み付けの係数であり、全て
のＣi の合計は 1であり、単純平均ではＣi ＝1／ｍ と
なる。It is also possible to perform weighted averaging as described above. Here, C i is a weighting coefficient, the sum of all C i is 1, and the simple average is C i = 1 / m.
【００６６】また、増加比ｋ（ｎ）については、各ｋ
（ｎ）を測定後、ｋ（ｎ）を中心としてAs for the increase ratio k (n), k
After measuring (n), centering on k (n)
【００６７】[0067]
【数２】 [Equation 2]
【００６８】のように（ｎ1＋ｎ2＋１）個の重み付け平
均値ｋ′（ｎ）をｋ（ｎ）の代わりに用いることもでき
る。なお、上記の式においては
ｎ−ｎ1 ≦ｉ≦ｎ＋ｎ2
である。また、As described above, (n 1 + n 2 +1) weighted average values k ′ (n) can be used instead of k (n). In the above formula, n−n 1 ≦ i ≦ n + n 2 . Also,
【００６９】[0069]
【数３】 [Equation 3]
【００７０】である。単純平均では Ｃi ＝１／（ｎ1＋ｎ2＋１） となる。It is The simple average is C i = 1 / (n 1 + n 2 +1).
【００７１】このようにすれば、サンプリングに伴う測
定誤差やノイズの影響を軽減することができる。By doing so, it is possible to reduce the influence of measurement error and noise due to sampling.
【図１】 本発明に係る電子線装置の一実施形態を示す
図である。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of an electron beam apparatus according to the present invention.
【図２】 フィラメント温度と規格化差分との関係を示
す図である。FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a filament temperature and a normalized difference.
【図３】 フィラメント温度と増加比との関係を示す図
である。FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a filament temperature and an increase ratio.
【図４】 フィラメントを用いた電子銃の従来の構成例
を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a conventional configuration example of an electron gun using a filament.
【図５】 フィラメント温度とエミッション電流との関
係を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing the relationship between filament temperature and emission current.
【図６】 フィラメント温度とプローブ電流との関係を
示す図である。FIG. 6 is a diagram showing the relationship between filament temperature and probe current.
１…フィラメント、２…ウェーネルト、３…アノード、
４…フィラメント加熱装置、５…加速電圧発生装置、６
…制御装置、７…操作装置、８…表示装置。1 ... Filament, 2 ... Wehnelt, 3 ... Anode,
4 ... Filament heating device, 5 ... Accelerating voltage generator, 6
... control device, 7 ... operating device, 8 ... display device.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 37/248 H01J 37/06 - 37/07 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01J 37/248 H01J 37/06-37/07
Claims (8)
させ、各ステップ毎に、今回のステップで得たエミッシ
ョン電流と前回のステップで得たエミッション電流との
差分をエミッション電流で正規化し、そのエミッション
電流で正規化した差分のステップ間での比に基づいてフ
ィラメントの動作温度を決定することを特徴とする電子
銃におけるフィラメントの動作温度決定方法。1. A filament current is changed in a predetermined step, and for each step, the difference between the emission current obtained in the present step and the emission current obtained in the previous step is normalized by the emission current, and the emission current is normalized. A method for determining an operating temperature of a filament in an electron gun, comprising: determining an operating temperature of the filament based on a ratio between the steps of the difference normalized by.
させ、各ステップ毎に、今回のステップで得たエミッシ
ョン電流と前回のステップで得たエミッション電流との
差分をエミッション電流で正規化し、そのエミッション
電流で正規化した差分のステップ間での比と、エミッシ
ョン電流で正規化した差分の値とに基づいてフィラメン
トの動作温度を決定することを特徴とする電子銃におけ
るフィラメントの動作温度決定方法。2. A filament current is changed in predetermined steps, and for each step, the difference between the emission current obtained in the present step and the emission current obtained in the previous step is normalized by the emission current, and the emission current is normalized. A method for determining the operating temperature of a filament in an electron gun, wherein the operating temperature of the filament is determined based on the ratio between the steps of the difference normalized by 1. and the value of the difference normalized by the emission current.
と、 エミッション電流を検出する検出手段と、 制御手段とを備える電子線装置において、 制御手段は、 電源装置に対して所定のステップでフィラメントを加熱
するための電流を発生させると共に、検出手段からその
ときのエミッション電流を取り込み、今回のステップで
得たエミッション電流と前回のステップで得たエミッシ
ョン電流との差分をエミッション電流で正規化し、その
エミッション電流で正規化した差分のステップ間での比
に基づいてフィラメントの動作温度を決定することを特
徴とする電子線装置。3. An electron beam apparatus comprising: a filament, a power supply device for supplying a current for heating the filament, a detection means for detecting an emission current, and a control means. A current for heating the filament is generated in a predetermined step, and the emission current at that time is taken in from the detection means, and the difference between the emission current obtained in this step and the emission current obtained in the previous step is calculated as the emission current. The electron beam apparatus is characterized in that the operating temperature of the filament is determined based on the ratio between the steps of the difference normalized by the emission current.
と、 エミッション電流を検出する検出手段と、 制御手段とを備える電子線装置において、 制御手段は、 電源装置に対して所定のステップでフィラメントを加熱
するための電流を発生させると共に、検出手段からその
ときのエミッション電流を取り込み、各ステップ毎に、
今回のステップで得たエミッション電流と前回のステッ
プで得たエミッション電流との差分をエミッション電流
で正規化し、そのエミッション電流で正規化した差分の
ステップ間での比と、エミッション電流で正規化した差
分の値とに基づいてフィラメントの動作温度を決定する
ことを特徴とする電子線装置。4. An electron beam apparatus comprising a filament, a power supply device for supplying a current for heating the filament, a detection means for detecting an emission current, and a control means, wherein the control means is a power supply device. In addition to generating a current for heating the filament in a predetermined step, the emission current at that time is taken in from the detection means, and at each step,
The difference between the emission current obtained in this step and the emission current obtained in the previous step is normalized by the emission current, and the ratio between the steps of the difference normalized by that emission current and the difference normalized by the emission current An electron beam device characterized in that the operating temperature of the filament is determined based on the value of and.
ラメント電流を検出する検出手段を更に備え、 前記 制御手段は、前記フィラメント電流を検出する検出
手段からそのときのフィラメント電流を取り込み、その
取り込んだフィラメント電流に基づいてフィラメント及
び電源装置を含む系統の異常の有無を判定することを特
徴とする電子線装置。5. The electron beam apparatus according to claim 3, wherein
Further comprising detection means for detecting the Lament current, said control means, said capture the filament current at that time from the detection means for detecting a filament current, the abnormality of the system including a filament and a power supply on the basis of the captured filament current An electron beam apparatus characterized by determining the presence or absence of.
電圧発生装置を更に備え、 前記 制御手段は、前記加速電圧発生装置に加速電圧の発
生を指示してから所定の時間内に前記検出手段からエミ
ッション電流を取り込み、その取り込んだエミッション
電流の変動幅に基づいてエミッション電流のゆらぎの有
無を判定することを特徴とする電子線装置。6. The electron beam apparatus according to claim 3, wherein acceleration is performed.
Further comprising a voltage generator, said control means, said accelerating voltage takes in emission current from said detecting means after the instruction within a predetermined period of time the occurrence of generator acceleration voltage, the variation width of the captured emission current An electron beam apparatus, characterized in that the presence or absence of fluctuations in the emission current is determined based on this.
ラメント電流を検出する検出手段を更に備え、 前記 制御手段は、前記電源装置に対して所定のステップ
でフィラメントを加熱するための電流を発生させたとき
に前記フィラメント電流を検出する検出手段からそのと
きのフィラメント電流を取り込み、その取り込んだフィ
ラメント電流に基づいてフィラメント及び電源装置を含
む系統の異常の有無を判定することを特徴とする電子線
装置。 7. The electron beam apparatus according to claim 4, wherein
Further comprising detection means for detecting the Lament current, wherein, when that caused the current for heating the filament in a predetermined steps for the power supply device
An electron beam apparatus , wherein the filament current at that time is taken in from the detecting means for detecting the filament current, and whether or not there is an abnormality in the system including the filament and the power supply device is determined based on the taken filament current.
電圧発生装置を更に備え、 前記 制御手段は、前記加速電圧発生装置に加速電圧の発
生を指示してから所定の時間内に前記検出手段からエミ
ッション電流を取り込み、その取り込んだエミッション
電流の変動幅に基づいてエミッション電流のゆらぎの有
無を判定することを特徴とする電子線装置。8. The electron beam apparatus according to claim 4, wherein acceleration is performed.
Further comprising a voltage generator, said control means, said accelerating voltage takes in emission current from said detecting means after the instruction within a predetermined period of time the occurrence of generator acceleration voltage, the variation width of the captured emission current An electron beam apparatus, characterized in that the presence or absence of fluctuations in the emission current is determined based on this.
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|---|---|---|---|
| JP03164196A JP3365600B2 (en) | 1996-02-20 | 1996-02-20 | Method of determining operating temperature of filament in electron gun and electron beam apparatus |
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