JP3334952B2 - Ｅ，ｚ−ブテンジアール−ビス−ジアルキルアセタールの製造方法 - Google Patents
Ｅ，ｚ−ブテンジアール−ビス−ジアルキルアセタールの製造方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/48—Preparation of compounds having groups
- C07C41/50—Preparation of compounds having groups by reactions producing groups
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、相応する２，５−アジ
アルコキシ−２，５−ジヒドロフランから出発する、一
般式Ｉ：
アルコキシ−２，５−ジヒドロフランから出発する、一
般式Ｉ：
【０００２】
【化３】
【０００３】［式中、Ｒは−ＣＨ3、−Ｃ2Ｈ5又は−Ｃ3
Ｈ7を表す］で示されるＥ，Ｚ−ブテンジアール−ビス
−ジアルキルアセタールの改良された製造方法に関す
る。
Ｈ7を表す］で示されるＥ，Ｚ−ブテンジアール−ビス
−ジアルキルアセタールの改良された製造方法に関す
る。
【０００４】
【従来の技術】電子富有アルケン、例えば、しばしばテ
トラアルコキシ−２−ブテンとも称されるブテンジアー
ル−ビス−ジアルキルアセタールは、多数の親電子反応
体との付加及び環化付加反応において重要な特性を示
す。
トラアルコキシ−２−ブテンとも称されるブテンジアー
ル−ビス−ジアルキルアセタールは、多数の親電子反応
体との付加及び環化付加反応において重要な特性を示
す。
【０００５】例えば、Ｚ−ブテンジアール−ビス−ジエ
チルアセタールは、スイス国特許第３２１１０６号明細
書によれば、１−プロペニル−エチルエーテルとの二重
エノールエーテル縮合及び引続く加水分解により良好な
収率で２，７−ジメチル−オクタ−２，４，６−トリエ
ン−１，８−ジアールに転化される。該Ｃ10−ジアルデ
ヒドは、カロチノイド合成のための望ましい中間生成物
である（ドイツ国特許第２８０１９０８号明細書参
照）。
チルアセタールは、スイス国特許第３２１１０６号明細
書によれば、１−プロペニル−エチルエーテルとの二重
エノールエーテル縮合及び引続く加水分解により良好な
収率で２，７−ジメチル−オクタ−２，４，６−トリエ
ン−１，８−ジアールに転化される。該Ｃ10−ジアルデ
ヒドは、カロチノイド合成のための望ましい中間生成物
である（ドイツ国特許第２８０１９０８号明細書参
照）。
【０００６】従来公知の１，１，４，４−テトラアルコ
キシ−２−ブテンの製造方法は、工業的製造には適さな
い。従って、例えば英国特許第７４７２８１号明細書か
ら、フランを水不含の条件下で−２５℃未満の温度で臭
素とアルカノールを用いて１，１，４，４−テトラアル
コキシ−２−ブテンに転化することによる方法が公知で
ある。しかしながら、該方法は技術的及びエネルギー的
に費用がかかり、しかも公害となる。
キシ−２−ブテンの製造方法は、工業的製造には適さな
い。従って、例えば英国特許第７４７２８１号明細書か
ら、フランを水不含の条件下で−２５℃未満の温度で臭
素とアルカノールを用いて１，１，４，４−テトラアル
コキシ−２−ブテンに転化することによる方法が公知で
ある。しかしながら、該方法は技術的及びエネルギー的
に費用がかかり、しかも公害となる。
【０００７】更に、 Recueil,J.of the Royal Netherla
nds Chem. Soc.94/8(1975)196-98には、シス−１，１，
４，４−テトラメトキシ−２−ブテンの製造方法が記載
されている。該方法では、メタノール中の２，５−ジメ
トキシ−２，５−ジヒドロフランをＨＣＯＯＨと共に、
８時間還流下で沸騰するまで加熱する。該方法の欠点
は、長い反応時間であるにも関わらず、達成された収率
は、理論値の約４５％にすぎないという点である。
nds Chem. Soc.94/8(1975)196-98には、シス−１，１，
４，４−テトラメトキシ−２−ブテンの製造方法が記載
されている。該方法では、メタノール中の２，５−ジメ
トキシ−２，５−ジヒドロフランをＨＣＯＯＨと共に、
８時間還流下で沸騰するまで加熱する。該方法の欠点
は、長い反応時間であるにも関わらず、達成された収率
は、理論値の約４５％にすぎないという点である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、従来技術の欠点を有しない、すなわち所望の化合物
を簡単にかつ無公害で良好な収率で得られるような、
１，１，４，４−テトラアルコキシ−２−ブテンの製法
方法を提供することであった。
は、従来技術の欠点を有しない、すなわち所望の化合物
を簡単にかつ無公害で良好な収率で得られるような、
１，１，４，４−テトラアルコキシ−２−ブテンの製法
方法を提供することであった。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題は、一般式Ｉ：
【００１０】
【化４】
【００１１】［式中、Ｒは−ＣＨ3、−Ｃ2Ｈ5又は−Ｃ3
Ｈ7を表す］のＥ，Ｚ−ブテンジアール−ビス−ジアル
キルアセタールを、一般式ＩＩ：
Ｈ7を表す］のＥ，Ｚ−ブテンジアール−ビス−ジアル
キルアセタールを、一般式ＩＩ：
【００１２】
【化５】
【００１３】［式中、Ｒは上記のものを表す］の２，５
−ジアルコキシ−２，５−ジヒドロフランと式ＩＩＩ： Ｒ ＯＨ （ＩＩＩ） ［式中、Ｒは上記のものを表す］の相応するアルカノー
ルとを、酸の存在下で高温で反応させることにより製造
する方法において、該反応を相応する式ＩＶ： ＨＣ（ＯＲ）3 （ＩＶ） ［式中、Ｒは上記のものを表す］のギ酸−ｏ−アルキル
エステル当量モル、すなわち一般式ＩＩのフラン１モル
当たり約０．９〜１．５モルの存在下で、及び触媒とし
て、反応体に他の作用をしない、触媒量の鉱酸又は強有
機酸の存在下で行うことにより解決される。
−ジアルコキシ−２，５−ジヒドロフランと式ＩＩＩ： Ｒ ＯＨ （ＩＩＩ） ［式中、Ｒは上記のものを表す］の相応するアルカノー
ルとを、酸の存在下で高温で反応させることにより製造
する方法において、該反応を相応する式ＩＶ： ＨＣ（ＯＲ）3 （ＩＶ） ［式中、Ｒは上記のものを表す］のギ酸−ｏ−アルキル
エステル当量モル、すなわち一般式ＩＩのフラン１モル
当たり約０．９〜１．５モルの存在下で、及び触媒とし
て、反応体に他の作用をしない、触媒量の鉱酸又は強有
機酸の存在下で行うことにより解決される。
【００１４】本発明による方法は、触媒として、有機ス
ルホン酸の存在下で、特にｐ−トルエンスルホン酸の存
在下で行う場合に、特に有利に達成される。
ルホン酸の存在下で、特にｐ−トルエンスルホン酸の存
在下で行う場合に、特に有利に達成される。
【００１５】出発化合物として使用される式ＩＩの２，
５−ジアルコキシ−２，５−ジヒドロキシフランは、殺
菌剤のサクシンアルデヒドを製造するための中間生成物
として工業的に良好に使用することができ、技術的にも
簡単な方法で、例えばフランを電気化学的にアルカノー
ル中で酸化させることにより入手可能である。
５−ジアルコキシ−２，５−ジヒドロキシフランは、殺
菌剤のサクシンアルデヒドを製造するための中間生成物
として工業的に良好に使用することができ、技術的にも
簡単な方法で、例えばフランを電気化学的にアルカノー
ル中で酸化させることにより入手可能である。
【００１６】式ＩＶのギ酸−ｏ−アルキルエステルとし
ては、ギ酸−ｏ−エチルエステルを用いるのが有利であ
るが、しかしながらギ酸−ｏ−エチルエステル又は更に
ギ酸−ｏ−プロピルエステルを使用することもできる。
ては、ギ酸−ｏ−エチルエステルを用いるのが有利であ
るが、しかしながらギ酸−ｏ−エチルエステル又は更に
ギ酸−ｏ−プロピルエステルを使用することもできる。
【００１７】ギ酸エステルは脱水剤として使用する、従
ってほぼモル量、すなわち一般式ＩＩのフラン１モル当
たり約０．９〜１．５、有利には１．０〜１．２モルの
量で使用する。
ってほぼモル量、すなわち一般式ＩＩのフラン１モル当
たり約０．９〜１．５、有利には１．０〜１．２モルの
量で使用する。
【００１８】式ＩＩＩのアルカノールとしては、使用さ
れる式ＩＩのフランと同じアルキル基を有するアルカノ
ールを使用するのが有利である。しかも任意のアルカノ
ールも使用するができるが、そうすると定義された生成
物ではなく、分子中に種々のアルキル置換基を有するブ
テンジアール−ビス−ジアルキル−アセタールが得られ
る。
れる式ＩＩのフランと同じアルキル基を有するアルカノ
ールを使用するのが有利である。しかも任意のアルカノ
ールも使用するができるが、そうすると定義された生成
物ではなく、分子中に種々のアルキル置換基を有するブ
テンジアール−ビス−ジアルキル−アセタールが得られ
る。
【００１９】本発明による方法は、式ＩのＥ，Ｚ−ブテ
ンジアール−ビス−ジメチルアセタールを製造するため
に、式ＩＩの２，５−ジメトキシ−２，５−ジヒドロフ
ランをギ酸−ｏ−メチルエステルの存在下でメタノール
と反応させた場合に特に有利である。
ンジアール−ビス−ジメチルアセタールを製造するため
に、式ＩＩの２，５−ジメトキシ−２，５−ジヒドロフ
ランをギ酸−ｏ−メチルエステルの存在下でメタノール
と反応させた場合に特に有利である。
【００２０】式ＩＩＩのアルカノールは、一般に式ＩＩ
のフラン１モル当たりアルカノール２〜１０、有利には
３〜６モルの量を使用する。
のフラン１モル当たりアルカノール２〜１０、有利には
３〜６モルの量を使用する。
【００２１】本発明による方法に適した触媒としては、
反応体に反応条件下では他に作用しない、約−９〜＋
３．７７の酸性指数（ｐＫｓ値）を有する鉱酸又は有機
酸である。酸性指数ないしはｐＫｓ値の定義に関して
は、 Ullmanns Encyklopaedie der techinischen Chemi
e, １５巻、２頁を参照されたい。鉱酸、例えば濃硫酸
（ｐＫｓ＝−３）、好ましくは９０〜９８重量％の硫
酸、ｏ−燐酸（ｐＫｓ＝２．０９）、好ましくは８５〜
９０重量％の燐酸、濃塩酸（ｐＫｓ＝−６）、過塩素酸
（ｐＫｓ＝−９）並びに強有機酸、例えばトリクロル酢
酸（ｐＫｓ＝０．９２）、ギ酸（ｐＫｓ値＝３．７
７）、シュウ酸（ｐＫｓ＝１．４６）、及び有機スルホ
ン酸が適している。適したスルホン酸としては、脂肪族
スルホン酸、特に低級アルカンスルホン酸、例えばメタ
ンスルホン酸、エタンスルホン酸、１−プロパンスルホ
ン酸、２−プロパン−スルホン酸及びトリフルオルメタ
ンスルホン酸、脂環式スルホン酸、例えば樟脳スルホン
酸及び芳香族スルホン酸、例えばトルエンスルホン酸、
特にｐ−トルエンスルホン酸、ナフタリンスルホン酸、
特にナフチル−１−スルホン酸及びナフチル−２−スル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸並びにスルホン酸基を含有
する酸性のイオン交換体が挙げられる。記載の強酸の中
から、特に本発明では、特に比較的廉価な強無機酸、例
えば硫酸及び燐酸、並びに比較的腐食性の低い強有機
酸、例えばｐ−トルエンスルホン酸が有利である。
反応体に反応条件下では他に作用しない、約−９〜＋
３．７７の酸性指数（ｐＫｓ値）を有する鉱酸又は有機
酸である。酸性指数ないしはｐＫｓ値の定義に関して
は、 Ullmanns Encyklopaedie der techinischen Chemi
e, １５巻、２頁を参照されたい。鉱酸、例えば濃硫酸
（ｐＫｓ＝−３）、好ましくは９０〜９８重量％の硫
酸、ｏ−燐酸（ｐＫｓ＝２．０９）、好ましくは８５〜
９０重量％の燐酸、濃塩酸（ｐＫｓ＝−６）、過塩素酸
（ｐＫｓ＝−９）並びに強有機酸、例えばトリクロル酢
酸（ｐＫｓ＝０．９２）、ギ酸（ｐＫｓ値＝３．７
７）、シュウ酸（ｐＫｓ＝１．４６）、及び有機スルホ
ン酸が適している。適したスルホン酸としては、脂肪族
スルホン酸、特に低級アルカンスルホン酸、例えばメタ
ンスルホン酸、エタンスルホン酸、１−プロパンスルホ
ン酸、２−プロパン−スルホン酸及びトリフルオルメタ
ンスルホン酸、脂環式スルホン酸、例えば樟脳スルホン
酸及び芳香族スルホン酸、例えばトルエンスルホン酸、
特にｐ−トルエンスルホン酸、ナフタリンスルホン酸、
特にナフチル−１−スルホン酸及びナフチル−２−スル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸並びにスルホン酸基を含有
する酸性のイオン交換体が挙げられる。記載の強酸の中
から、特に本発明では、特に比較的廉価な強無機酸、例
えば硫酸及び燐酸、並びに比較的腐食性の低い強有機
酸、例えばｐ−トルエンスルホン酸が有利である。
【００２２】酸性触媒を、一般的には２，５−ジメトキ
シ−２，５−ジヒドロフラン１モル当たり、無機酸の場
合には約１０-5〜５・１０-2、有利には１０-4〜１０-2
モルの量で、有機酸の場合には約１０-5〜１０-1、有利
には１０-4〜１０-2モルの量で使用する。
シ−２，５−ジヒドロフラン１モル当たり、無機酸の場
合には約１０-5〜５・１０-2、有利には１０-4〜１０-2
モルの量で、有機酸の場合には約１０-5〜１０-1、有利
には１０-4〜１０-2モルの量で使用する。
【００２３】該反応を実施するために、一般的には反応
体Ｉ〜ＩＶの溶液に酸性触媒を加え、該反応混合物を還
流下で沸騰するまで加熱する。
体Ｉ〜ＩＶの溶液に酸性触媒を加え、該反応混合物を還
流下で沸騰するまで加熱する。
【００２４】反応時間は、一般に１〜１０、有利には２
〜６時間である。反応の進行は、ガスクロマトグラフィ
ー分析により追跡することができる。
〜６時間である。反応の進行は、ガスクロマトグラフィ
ー分析により追跡することができる。
【００２５】本発明による方法を用いて、カロチノイド
合成のための中間生成物として望ましい、一般式Ｉの
Ｅ，Ｚ−ブテンジアール−ビス−ジアルキルアセタール
を、簡単な方法で良好な収率で得ることができる。
合成のための中間生成物として望ましい、一般式Ｉの
Ｅ，Ｚ−ブテンジアール−ビス−ジアルキルアセタール
を、簡単な方法で良好な収率で得ることができる。
【００２６】
【実施例】次に、本発明により以下の実施例につき詳細
に説明する。
に説明する。
【００２７】例１
【００２８】
【化６】
【００２９】２，５−ジメトキシ−２，５−ジヒドロフ
ラン（ＩＩａ）２６５．３ｇ（２モル）、メタノール
（ＩＩＩａ）３８４ｇ（１２モル）及びｏ−ギ酸トリメ
チルエステル（ＩＶａ）２１４．４ｇ（２モル）の溶液
に、２リットルのガラス反応器中で、ｐ−トルエンスル
ホン酸０．２ｇを加え、次いで６５℃で２０分間加熱
し、引続き２時間還流下で沸騰するまで加熱した。該反
応をガスクロマトグラフィー（面積％）で追跡した。以
下の表に、Ｅ，Ｚ−ブテンジアール−ビス−ジメチルア
セタール（Ｉａ）及び１，１，２，４，４−ペンタメト
キシ−ブタン（Ｖａ）の形成下での反応経過を示す。
ラン（ＩＩａ）２６５．３ｇ（２モル）、メタノール
（ＩＩＩａ）３８４ｇ（１２モル）及びｏ−ギ酸トリメ
チルエステル（ＩＶａ）２１４．４ｇ（２モル）の溶液
に、２リットルのガラス反応器中で、ｐ−トルエンスル
ホン酸０．２ｇを加え、次いで６５℃で２０分間加熱
し、引続き２時間還流下で沸騰するまで加熱した。該反
応をガスクロマトグラフィー（面積％）で追跡した。以
下の表に、Ｅ，Ｚ−ブテンジアール−ビス−ジメチルア
セタール（Ｉａ）及び１，１，２，４，４−ペンタメト
キシ−ブタン（Ｖａ）の形成下での反応経過を示す。
【００３０】 反応時間 ＨＣ（ＯＣＨ3）3 ＩＩａ Ｉａ Ｖａ ［分］ ［面積％］ ［面積％］ ［面積％］ ［面積％］ ０ ２９．５ ５９ ９．４ ３０ １８．２ ３３ ４７ ０．６ ６０ １４．０ ２６ ５７ １．０ ９０ １１．０ ２１ ６５ １．８ １２０ ７．７ １５ ７２ ２．９ 引続き、メタノール中のＣＨ3ＯＮａの３０％溶液１．
９ｇを添加することにより反応を停止し、過剰のメタノ
ールを標準圧でブリッジを介して留去し、残留物を、３
０ｃｍの充填カラム内で著しい減圧下で蒸留することに
より分別した。得られたフラクションは、ガスクロマト
グラフィー分析（ＧＣ）により以下の組成を有してい
た。
９ｇを添加することにより反応を停止し、過剰のメタノ
ールを標準圧でブリッジを介して留去し、残留物を、３
０ｃｍの充填カラム内で著しい減圧下で蒸留することに
より分別した。得られたフラクションは、ガスクロマト
グラフィー分析（ＧＣ）により以下の組成を有してい
た。
【００３１】
【表１】
【００３２】フラクション４及び５から、合計で貴重な
生成物Ｅ，Ｚ−ブタンジアール−ビス−ジメチルアセタ
ール２５７．６ｇ（理論値の７３％に相当）が得られ
た。フラクション１〜３は、工程中に戻すことができる
エダクト２，５−ジメトキシ−２，５−ジヒドロフラン
（ＩＩａ）３４．６ｇを含有していた。従って、該反応
の選択性は理論値の８５％であった。
生成物Ｅ，Ｚ−ブタンジアール−ビス−ジメチルアセタ
ール２５７．６ｇ（理論値の７３％に相当）が得られ
た。フラクション１〜３は、工程中に戻すことができる
エダクト２，５−ジメトキシ−２，５−ジヒドロフラン
（ＩＩａ）３４．６ｇを含有していた。従って、該反応
の選択性は理論値の８５％であった。
【００３３】例２ メタノール２８８ｇ（９モル）とｏ−ギ酸トリメチルエ
ステル１９１ｇ（１．８モル）からなる混合物中の２，
５−ジメトキシ−２，５−ジヒドロフラン１９８ｇ
（１．５モル）の溶液に、濃Ｈ2ＳＯ4０．１ｇを加え
た。その後、該反応混合物を４時間還流下で（６９℃）
沸騰するまで加熱した。該反応を、メタノール中のＣＨ
3ＯＮａの３０％溶液１．５ｇを添加することにより中
止した。引続き、標準圧でメタノール及びギ酸メチルを
留去した。残留する残留物を約３０ミリバールで分留し
た（９６〜１０３℃）。９８％のブタンジアールビスジ
メチルアセタール１９８ｇ（収率、理論値の７４％に相
当）が得られた。未反応の２，５−ジメトキシ−２，５
−ジヒドロフランは、前留出物として単離し、新たに反
応に使用することができる。
ステル１９１ｇ（１．８モル）からなる混合物中の２，
５−ジメトキシ−２，５−ジヒドロフラン１９８ｇ
（１．５モル）の溶液に、濃Ｈ2ＳＯ4０．１ｇを加え
た。その後、該反応混合物を４時間還流下で（６９℃）
沸騰するまで加熱した。該反応を、メタノール中のＣＨ
3ＯＮａの３０％溶液１．５ｇを添加することにより中
止した。引続き、標準圧でメタノール及びギ酸メチルを
留去した。残留する残留物を約３０ミリバールで分留し
た（９６〜１０３℃）。９８％のブタンジアールビスジ
メチルアセタール１９８ｇ（収率、理論値の７４％に相
当）が得られた。未反応の２，５−ジメトキシ−２，５
−ジヒドロフランは、前留出物として単離し、新たに反
応に使用することができる。
【００３４】例３〜９ それぞれ表２から明らかな量の２，５−ジメトキシ−
２，５−ジヒドロフラン（ＩＩａ）、メタノール、ｏ−
ギ酸トリメチルエステル及び酸性触媒を一緒に２リット
ルのガラス反応器中で、まず６５℃で２０分間加熱し、
次いで表に記載した反応時間で還流下で沸騰するまで加
熱した。それぞれ得られたＥ，Ｚ−ブテンジアール−ビ
ス−ジメチルアセタールの収率を、表２の最後の欄に示
す。約９０％の反応率で反応が行われるので、従って理
論値の約８０〜８５％の選択性が生じる。
２，５−ジヒドロフラン（ＩＩａ）、メタノール、ｏ−
ギ酸トリメチルエステル及び酸性触媒を一緒に２リット
ルのガラス反応器中で、まず６５℃で２０分間加熱し、
次いで表に記載した反応時間で還流下で沸騰するまで加
熱した。それぞれ得られたＥ，Ｚ−ブテンジアール−ビ
ス−ジメチルアセタールの収率を、表２の最後の欄に示
す。約９０％の反応率で反応が行われるので、従って理
論値の約８０〜８５％の選択性が生じる。
【００３５】 表２ 例 ＩＩａ HC（CH3O）3 CH3OH 酸性触媒 反応時間 収率 ［モル］ ［モル］ ［モル］ ［ｇ］ ［ｈ］ ［％ ］ ３ ２ ２ ６ 濃H2SO4 0.1g ４ 74- 78 ４ ２ ２ ９ 濃HCL 4g ５ 72 ５ ２ ２ ６ 濃H3PO4 1g ６ 72 ６ ２ ２ ６〜１２ p-Tos-OH 0.2g ２ 75 ７ ２ ２ ６ CF3-SO3H 0.2g ２ 74 ８ ２ ２ ６ CH3-SO3H 0.2g ２ 73 ９ ２ ２ ６〜１２ “Sicapent” 1g ６ 70 （SiO2上P2O5） 比較例 メタノール１９２ｇ（６モル）中の２，５−ジメトキシ
−２，５−ジヒドロフラン２６５．３ｇ溶液にｐ−トル
エンスルホン酸０．２ｇを加え、その後、１時間還流下
で沸騰するまで加熱した。引続き、１．５時間以内で１
０ｃｍのビグローカラム（Vigreux- Kolonne）を介して
メタノールを留去し、この蒸留の間に新たにメタノール
６モルを緩慢に加えた（水の分離）。合計で８時間の反
応時間の後にメタノールを完全に留去し、残留物を上記
のビグローカラムを介して蒸留により分離した。その
際、使用した２，５−ジメトキシ−２，５−ジヒドロフ
ランの６０％が未反応で回収された。所望のブテンジア
ールビスジメチルアセタールの収率は理論値の約３５％
にすぎなかった。
−２，５−ジヒドロフラン２６５．３ｇ溶液にｐ−トル
エンスルホン酸０．２ｇを加え、その後、１時間還流下
で沸騰するまで加熱した。引続き、１．５時間以内で１
０ｃｍのビグローカラム（Vigreux- Kolonne）を介して
メタノールを留去し、この蒸留の間に新たにメタノール
６モルを緩慢に加えた（水の分離）。合計で８時間の反
応時間の後にメタノールを完全に留去し、残留物を上記
のビグローカラムを介して蒸留により分離した。その
際、使用した２，５−ジメトキシ−２，５−ジヒドロフ
ランの６０％が未反応で回収された。所望のブテンジア
ールビスジメチルアセタールの収率は理論値の約３５％
にすぎなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−204830（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 41/50 C07C 43/303
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式Ｉ： 【化１】 ［式中、Ｒは−ＣＨ3、−Ｃ2Ｈ5又は−Ｃ3Ｈ7を表す］
のＥ，Ｚ−ブテンジアール−ビス−ジアルキルアセター
ルを、一般式ＩＩ： 【化２】 ［式中、Ｒは上記のものを表す］の２，５−ジアルコキ
シ−２，５−ジヒドロフランと式ＩＩＩ： Ｒ ＯＨ （ＩＩＩ） ［式中、Ｒは上記のものを表す］の相応するアルカノー
ルとを、酸の存在下で高温で反応させることにより製造
する方法において、該反応を、相応する式ＩＶ： ＨＣ（ＯＲ）3 （ＩＶ） ［式中、Ｒは上記のものを表す］のギ酸−ｏ−アルキル
エステル、上記一般式ＩＩのフラン１モル当たり０．９
〜１．５モルの存在下で、及び触媒として、反応体に他
の作用をしない、触媒量の鉱酸又は強有機酸の存在下で
行うことを特徴とする、Ｅ，Ｚ−ブテンジアール−ビス
−ジアルキルアセタールの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
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