JP3320524B2 - Polyimide film / metal foil laminate and method for producing the same - Google Patents

Polyimide film / metal foil laminate and method for producing the same

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JP3320524B2
JP3320524B2 JP27153993A JP27153993A JP3320524B2 JP 3320524 B2 JP3320524 B2 JP 3320524B2 JP 27153993 A JP27153993 A JP 27153993A JP 27153993 A JP27153993 A JP 27153993A JP 3320524 B2 JP3320524 B2 JP 3320524B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子工業分野で普及し
始めているエポキシ系等の接着剤層を含まないポリイミ
ドフィルム・金属箔積層体の新規な積層体およびその製
造法に関する。詳しくは、フィルムの伸び率、強度等の
物性に優れ、しかも、寸法安定性の良好なポリイミドフ
ィルム、金属箔積層体の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel laminate of a polyimide film / metal foil laminate which does not contain an adhesive layer such as an epoxy resin, which has begun to spread in the electronics industry, and a method for producing the laminate. More specifically, the present invention relates to a method for producing a polyimide film and a metal foil laminate having excellent physical properties such as elongation and strength of the film and good dimensional stability.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリイミドフィルム・金属箔積層体の大
きな用途としてプリント回路基板、面状発熱体などがあ
り、種々の積層体が開発されている。このような目的の
ポリイミドフィルムは適度な柔軟性と剛性を持つことが
要求され、また、その金属箔積層体は高度な寸法安定性
が要求されている。これらの要求を満足させるべく種々
のポリアミック酸を混合したり、コポリイミドを合成し
たり、特定条件で乾燥イミド化することが行われている
が、いずれも充分満足できるものではない。
2. Description of the Related Art A large application of a polyimide film / metal foil laminate includes a printed circuit board, a sheet heating element and the like, and various laminates have been developed. The polyimide film for such purpose is required to have appropriate flexibility and rigidity, and the metal foil laminate is required to have high dimensional stability. In order to satisfy these demands, various kinds of polyamic acids are mixed, copolyimides are synthesized, and dry imidization is performed under specific conditions, but none of them is satisfactory.

【0003】すなわち、例えば、特開昭58−1900
93ではその全ての実施例で示される様に、ワニスを銅
箔に塗布後、80℃で2時間乾燥後、より高温での乾燥
に移しポリイミド・銅箔積層体(以下FCLと略す)の
特性を改良することを試みているが製造時間が長く問題
がある。特開昭59ー162044では100〜200
℃で実質的に全ての溶剤を除去させてFCLの特性を改
良しようと試みているが200℃以下で行うことから製
造時間が長くなることは明かである。特開昭60−15
7286、特にその実施例ではアミンとしてp−フェニ
レンジアミンとビスアミノフェニルエーテルの2種を用
いて熱膨張率をコントロールしており、寸法安定性的に
は満足しているが手半田性が低下すること、弾性率が高
く柔軟性に欠けるという問題点がある。特開昭63−8
4089では酸無水物としてピロメリット酸二無水物と
3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ジア
ミンとしてp−フェニレンジアミンとビスアミノフェノ
ールを必須成分としたコポリアミック 酸およびコポリ
アミック酸ワニスを銅箔に塗布した後の乾燥方法として
100〜300℃まで連続的に、あるいは段階的に0.
5時間以上かけて昇温させ、さらに300〜350℃ま
で0.5時間以上かけて昇温または保持加熱することを
提案しているがポリイミドフィルムの伸び率は実施例で
は21〜30%、強度も16〜21kg/mm2とFCLとし
ては必ずしも十分とは言えない。
That is, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-1900
In 93, as shown in all the examples, after applying a varnish to a copper foil, drying at 80 ° C. for 2 hours, and then drying at a higher temperature, the characteristics of the polyimide / copper foil laminate (hereinafter abbreviated as FCL) were obtained. But there is a problem that the production time is long. Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-162044 discloses 100-200.
Attempts have been made to improve the properties of the FCL by removing substantially all of the solvent at <RTIgt; JP-A-60-15
7286, in particular, in the examples, two kinds of amines, p-phenylenediamine and bisaminophenyl ether, are used to control the coefficient of thermal expansion, and the dimensional stability is satisfied, but the hand solderability is reduced. In addition, there is a problem that the elastic modulus is high and the flexibility is lacking. JP-A-63-8
In 4089, pyromellitic dianhydride was used as the acid anhydride.
3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, copolyamic acid containing p-phenylenediamine and bisaminophenol as diamines as essential components and varnish of copolyamic acid are applied to copper foil and dried. The method is to continuously or stepwise increase the temperature to 100 to 300 ° C.
It has been proposed that the temperature is raised over 5 hours or more, and then the temperature is raised or maintained and heated to 300 to 350 ° C. over 0.5 hour or more. However, the FCL of 16 to 21 kg / mm 2 is not always sufficient.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】2種以上のアミック酸
を合成し混合してイミド化する方法は、得られるポリイ
ミドフィルムの物性という点では優れているが、製法が
煩雑であるという問題がある。これに対して始めからコ
ポリアミック酸を合成することが考えられるが、通常の
合成方法では物性的に十分ではないという問題があっ
た。また、乾燥イミド化を150℃以下で残溶剤を33
%以下にする方法(特開平1−245587)等が行わ
れているが、ポリイミドフィルムの物性、寸法安定性の
バランスが必ずしも十分ではないという問題や、生産ス
ピードの点で経済性が十分では無いと言う問題点があっ
た。
The method of synthesizing and mixing two or more kinds of amic acids and imidizing them is excellent in the physical properties of the obtained polyimide film, but has a problem that the production method is complicated. . On the other hand, it is conceivable to synthesize a copolyamic acid from the beginning, but there is a problem that physical properties are not sufficient in a usual synthesis method. Further, the dry imidization is carried out at 150 ° C. or less and the residual solvent is 33
% Or less (Japanese Unexamined Patent Publication No. 1-245587), but there is a problem that the balance between physical properties and dimensional stability of the polyimide film is not always sufficient, and economical efficiency is not sufficient in terms of production speed. There was a problem that said.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、コポリアミッ
ク酸の組成および合成方法、金属箔に塗布した後の乾燥
イミド化方法につき鋭意検討した結果、優れたフィルム
物性と寸法安定性を持ち、しかも、生産性に優れた新規
なポリイミドフィルム・金属箔積層体およびその製造方
法を完成した。すなわち、本発明は、少なくともピロメ
リット酸二無水物20〜80モル%および3,3',4,4'-ビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物80〜20モル%の2種の酸
無水物と、p−フェニレンジアミン50〜80モル%および
下記式(式1)、〔化3〕で表されるジアミン50〜20モ
ル%の、2種類のアミンを溶媒中で反応して得られるポ
リアミック酸を金属箔に塗布し、次いで加熱して乾燥イ
ミド化してなることを特徴とするポリイミドフィルム・
金属箔積層体であり、また、
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made as a result of intensive studies on the composition and synthesis method of copolyamic acid and the method of dry imidization after being applied to a metal foil, and has excellent film physical properties and dimensional stability. In addition, a novel polyimide film / metal foil laminate excellent in productivity and a method for producing the same have been completed. That is, the present invention comprises at least two acid anhydrides of pyromellitic dianhydride 20-80 mol% and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride 80-20 mol%, Polyamic acid obtained by reacting 50 to 80 mol% of p-phenylenediamine and 50 to 20 mol% of diamine represented by the following formula (Formula 1) and [Chemical Formula 3] in a solvent is used as a metal. A polyimide film characterized by being applied to a foil and then heated to be dried and imidized.
A metal foil laminate,

【0006】[0006]

【化3】 ( 式中:Xは直結、炭素数1〜10の炭化水素基、6フ
ッ素化イソプロピリデン、カルボニル基、チオ基または
スルホニル基を表す。 )上記ポリイミドフィルム・金属
箔積層体を製造するための方法にして、予め該アミンを
溶解した溶液に、まず少なくとも一部の3,3',4,4'-ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物を添加して反応せしめ
た後に、ピロメリット酸二無水物を反応させたポリアミ
ック酸を金属箔に塗布することを特徴とするポリイミド
フィルム・金属箔積層体の製造方法であり、また、上記
ポリイミドフィルム・金属箔積層体を製造するための方
法にして、ポリイミドフィルム・金属箔積層体の製造過
程で、ポリアミック酸を乾燥イミド化するのに用いる熱
風の温度を、220℃以下、風速を3m/分以上、溶剤
濃度を1%以下にして生成するフィルムの残溶剤を50
%以下とした後、さらに300℃以上の温度で残溶剤を
0.5%以下とすることを特徴とするポリイミドフィル
ム・金属箔積層体の製造方法であり、また、予め該アミ
ンを溶解した溶液に、まず少なくとも一部の3,3',4,4'-
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を添加して反応せ
しめた後に、ピロメリット酸二無水物を反応させたポリ
アミック酸を金属箔に塗布するポリイミドフィルム・金
属箔積層体の製造方法であり、また、アミンとして、p
−フェニレンジアミン50〜80モル%、下記式(式1)、
〔化4〕で表されるジアミン30〜 5モル%、およびビス
アミノフェニルエーテル20〜15モル%を用いるポリイミ
ドフィルム・金属箔積層体であり、また、
Embedded image (Wherein, X represents a direct bond, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a 6-fluorinated isopropylidene, a carbonyl group, a thio group or a sulfonyl group.) A method for producing the above polyimide film / metal foil laminate First, at least a portion of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride was added to a solution in which the amine was previously dissolved, and reacted, and then pyromellitic dianhydride was added. A method for producing a polyimide film-metal foil laminate, characterized in that the reacted polyamic acid is applied to a metal foil, and a method for producing the polyimide film-metal foil laminate, wherein the polyimide film -In the production process of the metal foil laminate, the temperature of the hot air used for drying and imidizing the polyamic acid is 220 ° C. or less, the wind speed is 3 m / min or more, and the solvent concentration is 1% or less. The residual solvents in the film to be formed 50
% Or less, and the residual solvent is further reduced to 0.5% or less at a temperature of 300 ° C. or more, and a solution in which the amine is previously dissolved. First, at least some 3,3 ', 4,4'-
After adding and reacting biphenyltetracarboxylic dianhydride, a method for producing a polyimide film / metal foil laminate in which a polyamic acid reacted with pyromellitic dianhydride is applied to a metal foil, As p
-Phenylenediamine 50-80 mol%, the following formula (Formula 1),
A polyimide film / metal foil laminate using 30 to 5 mol% of a diamine represented by [Chemical Formula 4] and 20 to 15 mol% of bisaminophenyl ether,

【0007】[0007]

【化4】 (式中:Xは直結、炭素数1〜10の炭化水素残基、6フ
ッ素化イソプロピリデン、カルボニル基、チオ基または
スルホニル基を表す。)上記ポリイミドフィルム・金属
箔積層体を製造するための方法にして、予め該アミンを
溶解した溶液に、まず少なくとも一部の3,3',4,4'-ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物を添加して反応せしめ
た後に、ピロメリット酸二無水物を反応させたポリアミ
ック酸を金属箔に塗布する事を特徴とするポリイミドフ
ィルム・金属箔積層体の製造方法であり、また、上記ポ
リイミドフィルム・金属箔積層体を製造するための方法
にして、ポリイミドフィルム・金属箔積層体の製造過程
で、ポリアミック酸を乾燥イミド化するのに用いる熱風
の温度を220℃以下、風速を3m/分以上、溶剤濃度
を1%以下にして生成するフィルムの残溶剤を50%以
下とした後、300℃以上の温度で残溶剤を0.5%以
下とすることを特徴とするポリイミドフィルム・金属箔
積層体の製造方法であり、また、予め該アミンを溶解し
た溶液に少なくとも一部の3,3',4,4'-ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物を添加して反応せしめた後にピロメ
リット酸二無水物を反応させたポリアミック酸を金属箔
に塗布するポリイミドフィルム・金属箔積層体の製造方
法である。
Embedded image (Wherein, X represents a direct bond, a hydrocarbon residue having 1 to 10 carbon atoms, a hexafluorinated isopropylidene, a carbonyl group, a thio group or a sulfonyl group.) For producing the above polyimide film / metal foil laminate. In a method, to a solution in which the amine was previously dissolved, at least a portion of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride was added and reacted, and then pyromellitic dianhydride was obtained. A method for producing a polyimide film / metal foil laminate, characterized by applying a polyamic acid reacted with a metal foil, and a method for producing the polyimide film / metal foil laminate, wherein the polyimide In the production process of the film / metal foil laminate, it is produced by setting the temperature of hot air used for drying and imidizing polyamic acid to 220 ° C. or less, the wind speed to 3 m / min or more, and the solvent concentration to 1% or less. The residual solvent of the film to be 50% or less, and then the residual solvent is reduced to 0.5% or less at a temperature of 300 ° C. or more. At least a portion of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride was added to the solution in which the amine was dissolved and reacted, and then the polyamic acid reacted with pyromellitic dianhydride was treated with metal. This is a method for producing a polyimide film / metal foil laminate to be applied to a foil.

【0008】なお、本発明においては、フイルムの物性
を適度な剛性と適度な柔軟性を有するものにするために
は、少なくとも酸無水物として、ピロメリット酸二無水
物20〜80モル%と3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物80〜20モル%の2種の酸無水物を併用するこ
とが好ましい。またジアミン成分としては、p−フェニ
レンジアミン50〜80モル%および下記一般式(式1)、
〔化5〕(以下四核体と略称する。)で表されるジアミ
ン50〜20モル%の2種類のアミンを併用することが好ま
しい。かかる、四核体を共重合することにより、後の実
施例で示される様に、生成するポリイミドフィルムの破
断強度、伸び率が高い値を示し、FCLとして望ましい
フィルムの強靭性が得られるのである。
In the present invention, in order to make the physical properties of the film have appropriate rigidity and appropriate flexibility, at least 20 to 80 mol% of pyromellitic dianhydride is used as an acid anhydride. It is preferred to use 80% to 20% by mole of two acid anhydrides of 2,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride. As the diamine component, p-phenylenediamine 50 to 80 mol% and the following general formula (formula 1):
It is preferable to use two amines of 50 to 20 mol% of a diamine represented by the following formula (hereinafter abbreviated as tetranuclear). By copolymerizing such tetranuclear bodies, as shown in Examples below, the resulting polyimide film exhibits high values of the breaking strength and the elongation, and the desired toughness of the film as FCL can be obtained. .

【0009】[0009]

【化5】 本発明においては、さらにアミン成分として、ジアミノ
ビフェニル、ビスアミノフェニルエーテル、ビスアミノ
フェニルスルフォン、、ビスアミノフェニルスルフィ
ド、ビスアミノフェニルスルフォキシド、ジアミノベン
ゾフェノン、ビスアミノフェニルメタン、ビスアミノフ
ェニルエタン、ビスアミノフェニルプロパン、ビスアミ
ノフェニルヘキサフルオロプロパンなどの、ベンゼン環
が二つのもの(以下二核体と略称する。)を併用するこ
とが好ましく、なかでもビスアミノフェニルエーテルを
併用するのがさらに好ましい。
Embedded image In the present invention, as amine components, diaminobiphenyl, bisaminophenyl ether, bisaminophenylsulfone, bisaminophenylsulfide, bisaminophenylsulfoxide, diaminobenzophenone, bisaminophenylmethane, bisaminophenylethane, bisaminophenyl It is preferable to use two benzene rings (hereinafter abbreviated as binuclear) such as aminophenylpropane and bisaminophenylhexafluoropropane in combination, and it is more preferable to use bisaminophenyl ether in particular.

【0010】本発明においては、ピロメリット酸二無水
物と3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の
モル比率として、20:80〜80:20程度とするのが好まし
く、この範囲をあまり外れると物性バランスが好ましい
ものとならない。酸無水物としては上記の2種を使用す
ることが必須であるが、他の酸無水物を柔軟性を上げる
等のために混合して用いる事もできる。その混合量とし
ては全体の酸無水物の30モル%程度以下、特には、15モ
ル%程度以下が好ましい。他の酸無水物の例としては、
エチレンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカル
ボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無
水物などの脂肪族のテトラカルボン酸二無水物、1,1-ビ
ス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-
ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビ
ス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス
(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2-ビ
ス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,
2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水
物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,
3,3- ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2-ビス(3,4
-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,3,3- ヘキサフルオ
ロプロパン二無水物、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、2,2',3,3'-ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、2,2',3,3'-ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エ
ーテル二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エ
ーテル二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ス
ルフォン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)
スルフォン二無水物、4,4'- (p-フェニレンジオキシ)
ジフタル酸二無水物、4,4'- (m-フェニレンジオキシ)
ジフタル酸二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボ
ン酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、1,2,3,4-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、
3,4,9,10- ペリレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,
8-フェナントレンテトラカルボン酸二無水物などある。
In the present invention, the molar ratio of pyromellitic dianhydride to 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride is preferably about 20:80 to 80:20. If the value is out of this range, the balance of physical properties is not preferable. As the acid anhydride, it is essential to use the above two kinds, but other acid anhydrides may be mixed and used for increasing flexibility. The mixing amount is preferably about 30 mol% or less, particularly about 15 mol% or less of the whole acid anhydride. Examples of other acid anhydrides include:
Aliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as ethylene tetracarboxylic dianhydride, butane tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane tetracarboxylic dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) Ethane dianhydride, 1,1-
Bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,
2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,
3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis (3,4
-Dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3, 3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,3- Dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl)
Sulfone dianhydride, 4,4'- (p-phenylenedioxy)
Diphthalic dianhydride, 4,4 '-(m-phenylenedioxy)
Diphthalic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic acid Dianhydride,
3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,7,
8-phenanthrenetetracarboxylic dianhydride and the like.

【0011】また、本発明においては、フェニレンジア
ミンと二核体と四核体の量比としてはフェニレンジアミ
ンが少なくとも50〜80モル%、二核体が20〜15モル%、
四核体が30〜 5モル%であるのが好ましい。四核体とし
ては具体にはXが直結した、真ん中がビフェニル基、3-
メチルビフェニル基、3,3'- ジメチルビフェニル基、3,
5-ジメチルビフェニル基、3,3',5,5'-テトラメチルビフ
ェニル基、3,3'- ジクロロビフェニル基、3,5-ジクロロ
ビフェニル基、3,3',5,5'-テトラクロロビフェニル基、
3,3'- ジブロモビフェニル基、3,5-ジブロモビフェニル
基、3,3',5,5'-テトラブロモビフェニル基であるもの、
Xがケトンであるベンゾフェノン基あるはそれに上記ビ
フェニル基と同様に置換基のついたもの、あるいはXが
スルフィドであるジフェニルスルフィド基あるいは3,5-
ジメトキシフェニルフェニルスルフィド基、ビス( 3,5,
- ジメトキシフェニル) スルフィド基、あるいはX がス
ルフォンであるジフェニルスルフォン基などであるジア
ミンが例示でき、これらが単独であるいは二種以上混合
して用いられる。
In the present invention, the phenylenediamine, the binuclear and the tetranuclear are in a quantitative ratio of at least 50 to 80 mol% for the phenylenediamine, 20 to 15 mol% for the binuclear,
Preferably, the tetranuclear is 30-5 mol%. As a tetranuclear substance, specifically, X is directly connected, the middle is a biphenyl group,
Methylbiphenyl group, 3,3'-dimethylbiphenyl group, 3,
5-dimethylbiphenyl group, 3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl group, 3,3'-dichlorobiphenyl group, 3,5-dichlorobiphenyl group, 3,3', 5,5'-tetrachloro Biphenyl group,
3,3′-dibromobiphenyl group, 3,5-dibromobiphenyl group, 3,3 ′, 5,5′-tetrabromobiphenyl group,
A benzophenone group in which X is a ketone, or a substituent thereof in the same manner as the above biphenyl group, or a diphenyl sulfide group in which X is a sulfide or 3,5-
Dimethoxyphenylphenyl sulfide group, bis (3,5,
-Dimethoxyphenyl) sulfide group or diamine wherein di is a diphenyl sulfone group wherein X is a sulfone, and these can be used alone or as a mixture of two or more.

【0012】ポリアミック酸を製造する際に用いる溶剤
としては通常、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチ
ルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジメ
チルメトキシアセトアミド、N-メチル-2- ピロリドン、
1,3-ジメチル-2- イミダゾリジノン、N-メチルカプロラ
クタム、1,2-ジメトキシエタン、ビス(2-メトキシエチ
ル)エーテル、1,2-ビス(2-メトキシエトキシ)エタ
ン、ビス〔2-(2-メトキシエトキシ)エチル〕エーテ
ル、テトラヒドロフラン、1,3-ジオキサン、1,4-ジオキ
サン、ピリジン、ピコリン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルスルホン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホス
ホルトリアミド、フェノール、m-クレゾール、p-クレゾ
ール、p-クロロフェノール、アニソールなどが利用され
る。
Solvents used for producing the polyamic acid are usually N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N, N-dimethylmethoxyacetamide, N-methyl-2. -Pyrrolidone,
1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N-methylcaprolactam, 1,2-dimethoxyethane, bis (2-methoxyethyl) ether, 1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane, bis [2- (2-methoxyethoxy) ethyl] ether, tetrahydrofuran, 1,3-dioxane, 1,4-dioxane, pyridine, picoline, dimethylsulfoxide, dimethylsulfone, tetramethylurea, hexamethylphosphortriamide, phenol, m-cresol, p-Cresol, p-chlorophenol, anisole and the like are used.

【0013】本発明において重要なのは、アミンを溶剤
に溶解した後に添加するテトラカルボン酸二無水物の添
加の仕方であって、まず少なくとも一部の3,3',4,4'-ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物を予め添加して反応
せしめることにある。この予め添加する3,3',4,4'-ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物としては、溶解してい
るジアミンの0.1 モル倍以上であることが好ましい。こ
の予め添加する量がこれよりあまり少ないと、得られる
アミック酸からフイルムを形成したとき良好なフイルム
が得られない。なお、ジアミンを分割して仕込む場合に
は、この量は、溶解しているジアミンの0.1 モル倍以上
であれば良く、全ジアミンに対して0.1モル倍以上であ
る必要はない。要するに反応溶液中でピロメリット酸二
無水物が添加される前に、少なくとも溶液中に存在する
全ジアミンの特定量以上、好ましくは、0.1 モル倍以上
の3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を反
応せしめることが肝要なのである。
What is important in the present invention is the manner in which the tetracarboxylic dianhydride is added after the amine is dissolved in the solvent, and at least a part of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid is added. An acid dianhydride is added in advance to cause a reaction. The 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride to be added in advance is preferably at least 0.1 mole times the dissolved diamine. If the amount to be added in advance is too small, a good film cannot be obtained when a film is formed from the obtained amic acid. When the diamine is divided and charged, this amount may be 0.1 mol times or more of the dissolved diamine, and need not be 0.1 mol times or more of all the diamines. In short, before the addition of pyromellitic dianhydride in the reaction solution, at least a specific amount of all diamines present in the solution, preferably 0.1 mol times or more of 3,3 ', 4,4'-biphenyl It is important to react tetracarboxylic dianhydride.

【0014】ポリアミック酸を合成する際の温度として
は-70 ℃〜100 ℃、通常0℃〜80℃であるのが一般的で
ある。反応温度があまり低すぎると反応が進行せず、ま
た高過ぎるとイミド化が進行しすぎて好ましくない。ま
た反応溶液の濃度としては1〜50wt%とするのが一般的
であり、この範囲をあまり外れるとフイルムを形成する
のが困難である。また全酸二無水物と全ジアミンの量比
としては通常1:0.8〜0.8 :1程度、特に1:0.9 〜
0.9:1である。得られたポリアミック酸を金属箔に塗布
する際、その塗布する方法には特に限定はないが、コン
マコータ、ナイフコータ、ロールコータ、リバースコー
タ、ダイコータ等公知の塗布装置を使用することができ
る。そのワニスを塗布した金属箔はワニスの乾燥イミド
化のため加熱されるが、その加熱方法には熱空気、熱窒
素、遠赤外線、高周波等公知の方法を使用することがで
きる。ポリアミック酸を乾燥イミド化する場合一般的に
は、所望時間、100〜220℃で大部分の溶剤を除去
する。更に、220〜450℃に加熱し溶媒の十分な除
去とイミド化を行わせる。好ましくは熱風の温度を22
0℃以下、風速を3m/分以上、溶剤濃度を1%以下に
して生成するフィルム中の残溶剤を50%以下、更に好
ましくは残溶剤を30%以下、特に好ましくは10%以
下とした後、さらに300〜450℃の温度で残溶剤を
0.5%以下とする事が生成するポリイミドフィルム物
性、特に伸び率の上で好ましい。ここで、残溶剤は次の
式で表される値である。
The temperature for synthesizing the polyamic acid is generally from -70 ° C to 100 ° C, usually from 0 ° C to 80 ° C. If the reaction temperature is too low, the reaction does not proceed, while if it is too high, imidization proceeds too much, which is not preferable. The concentration of the reaction solution is generally 1 to 50% by weight, and if the concentration is outside this range, it is difficult to form a film. The ratio of the total acid dianhydride to the total diamine is usually about 1: 0.8 to 0.8: 1, especially about 1: 0.9 to 0.8: 1.
0.9: 1. When applying the obtained polyamic acid to a metal foil, the method for applying the same is not particularly limited, and a known coating device such as a comma coater, a knife coater, a roll coater, a reverse coater, and a die coater can be used. The varnish-coated metal foil is heated for drying and imidizing the varnish, and a known method such as hot air, hot nitrogen, far-infrared ray, or high frequency can be used as the heating method. When the polyamic acid is imidized by drying, generally, most of the solvent is removed at 100 to 220 ° C. for a desired time. Further, the mixture is heated to 220 to 450 ° C. to sufficiently remove the solvent and perform imidization. Preferably the hot air temperature is 22
0 ° C. or lower, the wind speed is 3 m / min or higher, and the solvent concentration is 1% or lower. After reducing the residual solvent in the formed film to 50% or lower, more preferably 30% or lower, particularly preferably 10% or lower. Further, it is preferable to reduce the residual solvent to 0.5% or less at a temperature of 300 to 450 ° C. in view of the physical properties of the resulting polyimide film, particularly in terms of elongation. Here, the residual solvent is a value represented by the following equation.

【0015】なお本発明において金属箔上に形成される
ポリイミドフィルムは、二層以上のポリイミドフィルム
から構成されてもよい。たとえば、金属箔上に第一層目
のポリイミド前駆体(十分にポリイミド化する前のポリ
アミック酸、ポリイミド混合系あるいはポリアミック酸
を意味する)のフィルムを形成させた後、第一層目のポ
リイミド前駆体フィルムとは異なる組成の第二層目のポ
リイミド前駆体フィルムを形成させた後、イミド化を行
い二層のポリイミドフィルムとしてもよいのである。こ
のような場合にも、ポリアミック酸の塗布方法、加熱方
法には特に限定はなく、上述のような公知の装置を使用
することができる。金属箔上に形成されるポリイミドフ
ィルムの厚さは特に限定は無いが、通常3〜100μm
の範囲内であり、より一般的には5〜60μmの範囲内
のものである。金属箔の厚さは任意に選択可能である
が、通常9〜150μmの範囲内であり、より一般的に
は9〜50μmの範囲内のものである。また、金属箔に
直接接している耐熱性重合体と金属箔との接着力を大き
くさせるために金属箔上に金属単体やその酸化物、合
金、たとえば金属箔が銅箔の場合には銅単体をはじめ酸
化銅、ニッケル−銅合金、亜鉛−銅合金等の無機物を形
成させることも好ましい。また、無機物以外にもアミノ
シラン、エポキシシラン、メルカプトシラン等のカップ
リング剤を金属箔上に形成したり、耐熱性重合体または
その前駆体溶液中に上記カップリング剤を混合すること
により耐熱性重合体と金属箔との接着力を向上すること
も可能である。また、接着性に優れた熱可塑性ポリイミ
ド(三井東圧化学株式会社製LARC−TPI等)が、
いわゆるアンカーコート層として存在しても良い。以
下、実施例により本発明の実施の態様の一例を説明す
る。
In the present invention, the polyimide film formed on the metal foil may be composed of two or more polyimide films. For example, after forming a film of the first layer of polyimide precursor (meaning polyamic acid, polyimide mixed system or polyamic acid before sufficiently polyimide) on a metal foil, the first layer of polyimide precursor After forming a second layer of polyimide precursor film having a composition different from that of the body film, imidation may be performed to form a two-layer polyimide film. Also in such a case, there is no particular limitation on the method of applying the polyamic acid and the method of heating, and the above-mentioned known device can be used. The thickness of the polyimide film formed on the metal foil is not particularly limited, but usually 3 to 100 μm
And more generally in the range of 5 to 60 μm. Although the thickness of the metal foil can be arbitrarily selected, it is usually in the range of 9 to 150 μm, and more generally in the range of 9 to 50 μm. In addition, in order to increase the adhesive strength between the heat-resistant polymer and the metal foil which are in direct contact with the metal foil, a simple metal or an oxide or alloy thereof on the metal foil, for example, a simple copper when the metal foil is a copper foil It is also preferable to form an inorganic substance such as copper oxide, a nickel-copper alloy, and a zinc-copper alloy. Further, in addition to inorganic substances, a coupling agent such as aminosilane, epoxysilane, mercaptosilane or the like is formed on a metal foil, or a heat-resistant polymer or a precursor solution thereof is mixed with the above-mentioned coupling agent to form a heat-resistant polymer. It is also possible to improve the adhesive strength between the coalesced and the metal foil. In addition, thermoplastic polyimide with excellent adhesive properties (such as LARC-TPI manufactured by Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.)
It may be present as a so-called anchor coat layer. Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described with reference to examples.

【0016】[0016]

【実施例】以下に実施例を示し本発明についてさらに説
明する。実施例中の回転粘度はE型粘度計を用い25℃
で測定した値であり、固有粘度はN−メチル−2−ピロ
リドン中、0.5%濃度、35℃で測定した。FCLの
寸法安定性はIPC−FC−241Aに準じて行った。
ポリイミドフィルムの特性はASTM MD−882に
準じて行った。耐手半田性は、半田ゴテの先端の曲率半
径が0.5mm、コテ先部の角度が30°である半田ゴ
テを、先端部への荷重が100grになるように調節し
た。先端部の温度が325℃±25℃になるように調節
し、ポリイミドだけからなる厚さ25μmのフィルム上
に半田ゴテを垂直になるように立てる。半田ゴテを立て
てから5秒より長くフィルムが破れなかった場合を○と
し、5秒以内に破れた場合を×とした。なお、化合物は
次のように略称した。式(1)においてXが直結である
ジアミンをm−BP、p−フェニレンジアミンをPP
D、ビスアミノフェニルエーテルをODA、3,3',4,4'-
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物をBPDA、ピロ
メリット酸二無水物をPMDA−メチル−2−ピロリド
ンをNMPとした。
The present invention will be further described with reference to the following examples. Rotational viscosity in the examples was measured at 25 ° C. using an E-type viscometer.
The intrinsic viscosity was measured in N-methyl-2-pyrrolidone at a concentration of 0.5% at 35 ° C. The dimensional stability of FCL was performed according to IPC-FC-241A.
The properties of the polyimide film were determined according to ASTM MD-882. The soldering iron resistance was adjusted such that the tip of the soldering iron had a radius of curvature of 0.5 mm and the angle of the tip of the iron was 30 ° so that the load on the tip became 100 gr. The temperature at the tip is adjusted to 325 ° C. ± 25 ° C., and a soldering iron is set upright on a 25 μm thick film made of polyimide alone. The case where the film was not broken for more than 5 seconds after setting the soldering iron was evaluated as ○, and the case where the film was broken within 5 seconds was evaluated as ×. The compounds were abbreviated as follows. In formula (1), the diamine to which X is directly connected is m-BP, and p-phenylenediamine is PP.
D, bisaminophenyl ether is converted to ODA, 3,3 ', 4,4'-
Biphenyltetracarboxylic dianhydride was BPDA and pyromellitic dianhydride was PMDA-methyl-2-pyrrolidone NMP.

【0017】実施例1 m−BPを47.1グラム(全ジアミンの25モル%)、
PPDを40.8グラム(全ジアミンの75モル%)、N
MP860グラム中に60℃で攪拌しながら溶解した
後、BPDAを37.7グラム(全ジアミンの0.25モル
倍、全酸無水物の26モル% )添加し60℃に保ちなが
ら30分反応させた。次ぎに、PMDAを51.7グラ
ム(全酸無水物の48モル%)添加し60℃に保ちながら
60分反応させた。その後、BPDAを37.7グラム
添加し60℃にたもちなが120分反応させポリアミッ
ク酸ワニスを合成した。得られたワニスの回転粘度は17
000CPS、固有粘度ηは1.13であった。得られたワニスを
アプリケータにて厚さ18μmの圧延銅箔(日鉱共石(
株 )製、BHY-13T)にコートし130℃の空気(風速5
m/分、溶剤濃度0.2%)で約3分かけて残溶剤を5
5%迄乾燥し、さらに、160℃の空気(風速5m/
分、溶剤濃度0.2%)で約5分かけて残溶剤を13%
まで乾燥させた。その後、窒素雰囲気中で300℃から
390℃まで5分かけて昇温し残溶剤が0.02%迄乾
燥させると同時にイミド化を完結させた。この様にして
得られたFCLの厚みは43μmであった。このFCL
の寸法安定性、銅箔エッチング後のポリイミドイルムの
特性は表1の通りであり、優れた特性であった。
Example 1 47.1 grams of m-BP (25 mole% of total diamines)
40.8 grams of PPD (75 mole% of total diamine), N
After dissolving in 860 g of MP with stirring at 60 ° C., 37.7 g of BPDA (0.25 mol times of total diamine, 26 mol% of total acid anhydride) was added and reacted at 60 ° C. for 30 minutes. Next, 51.7 g (48 mol% of the total anhydride) of PMDA was added and reacted at 60 ° C. for 60 minutes. Thereafter, 37.7 g of BPDA was added and reacted at 60 ° C. for 120 minutes to synthesize a polyamic acid varnish. The rotational viscosity of the obtained varnish was 17
The 000 CPS and the intrinsic viscosity η were 1.13. The obtained varnish was rolled with an applicator using a rolled copper foil having a thickness of 18 μm (Nikko Kyoishi (
Co., Ltd., BHY-13T) and air at 130 ° C (wind speed 5
m / min, solvent concentration 0.2%) to remove 5
After drying to 5%, air at 160 ° C (wind speed 5m /
Min, solvent concentration 0.2%) over 13 minutes
Allowed to dry. Thereafter, the temperature was raised from 300 ° C. to 390 ° C. in a nitrogen atmosphere over 5 minutes to dry the residual solvent to 0.02%, and at the same time, the imidization was completed. The thickness of the FCL thus obtained was 43 μm. This FCL
Table 1 shows the dimensional stability of the polyimide film and the characteristics of the polyimide film after copper foil etching.

【0018】実施例2 ODAを18.0グラム(全ジアミンの18モル%)、m
−BPを14.1グラム、(全ジアミンの 8モル%)、
PPDを40.8グラム(全ジアミンの74モル%)、N
MP800グラム中に60℃で攪拌しながら溶解した
後、BPDAを37.7グラム(全ジアミンの0.25
モル倍、全酸無水物の26モル%)添加し60℃に保ちな
がら30分反応させた。次ぎに、PMDAを51.7グ
ラム(全酸無水物の48モル%)添加し60℃に保ちなが
ら60分反応させた。その後、BPDAを37.7グラ
ム添加し60℃に保ちながら120分反応させ、ポリア
ミック酸ワニスを合成した。得られたワニスの回転粘度
は15000CPS、固有粘度ηは1.10であった。得られたワニ
スをアプリケータにて厚さ18μmの圧延銅箔(日鉱共
石( 株 )製、BHY-13T)にコートし、130℃の空気
(風速5m/分、溶剤濃度0.2%)で約3分かけて残
溶剤を60%迄乾燥し、さらに、160℃の空気(風速
5m/分、溶剤濃度0.2%)で約5分かけて残溶剤を
15%まで乾燥させた。その後、窒素雰囲気中で300
℃から390℃まで5分かけて昇温し残溶剤が0.02
%迄乾燥させると同時にイミド化を完結させた。この様
にして得られたFCLの厚みは43μmであった。この
FCLの寸法安定性、銅箔エッチング後のポリイミドイ
ルムの特性は表1の通りであり、優れた特性であった。
Example 2 18.0 grams of ODA (18 mole% of total diamine), m
14.1 grams of BP (8 mol% of total diamines),
40.8 grams of PPD (74 mole percent of total diamine), N
After dissolving in 800 grams of MP at 60 ° C. with stirring, 37.7 grams of BPDA (0.25% of total diamine)
The reaction was continued for 30 minutes while maintaining the temperature at 60 ° C. Next, 51.7 g (48 mol% of the total anhydride) of PMDA was added and reacted at 60 ° C. for 60 minutes. Thereafter, 37.7 g of BPDA was added and reacted for 120 minutes while maintaining the temperature at 60 ° C. to synthesize a polyamic acid varnish. The rotational viscosity of the obtained varnish was 15,000 CPS, and the intrinsic viscosity η was 1.10. The obtained varnish was coated on an 18 μm-thick rolled copper foil (manufactured by Nikko Kyoishi Co., Ltd., BHY-13T) with an applicator, and air at 130 ° C. (wind speed 5 m / min, solvent concentration 0.2%) The remaining solvent was dried to 60% in about 3 minutes, and further dried to 15% in 160 ° C. air (air velocity 5 m / min, solvent concentration 0.2%) for about 5 minutes. Then, in a nitrogen atmosphere,
Temperature from 390 ° C to 390 ° C over 5 minutes to reduce residual solvent to 0.02
%, And the imidization was completed at the same time. The thickness of the FCL thus obtained was 43 μm. The dimensional stability of the FCL and the characteristics of the polyimide film after the etching of the copper foil were as shown in Table 1, and were excellent characteristics.

【0019】実施例3 実施例2で得られたポリアミック酸ワニスをアプリケー
タにて厚さ18μmの圧延銅箔(日鉱共石( 株) 製、BH
Y-13T)にコートし、130℃の空気(風速10m/
分、溶剤濃度0.1%)で約2分かけて残溶剤を70%
迄乾燥し、さらに、210℃の空気(風速10m/分、
溶剤濃度0.1%)で約4分かけて残溶剤を10%迄乾
燥させた。その後、窒素雰囲気中で300℃から430
℃まで徐々に昇温し残溶剤が0.01%以下迄乾燥させ
ると同時にイミド化を完結させた。この様にして得られ
たFCLの厚みは43μmであった。このFCLの寸法
安定性、銅箔エッチング後のポリイミドフィルムの特性
は表1の通りであり、優れた特性であった。
Example 3 The polyamic acid varnish obtained in Example 2 was rolled with an applicator to a rolled copper foil having a thickness of 18 μm (manufactured by Nikko Kyoishi Co., Ltd., BH
Y-13T) and air at 130 ° C (wind speed 10m /
Min., Solvent concentration 0.1%) to reduce residual solvent to 70% over about 2 minutes.
And dried at 210 ° C (wind speed 10m / min,
(Solvent concentration: 0.1%) and the residual solvent was dried to 10% over about 4 minutes. Thereafter, the temperature is reduced from 300 ° C. to 430 in a nitrogen atmosphere.
C., and the imidization was completed at the same time as drying to 0.01% or less of the residual solvent. The thickness of the FCL thus obtained was 43 μm. The dimensional stability of this FCL and the characteristics of the polyimide film after copper foil etching were as shown in Table 1, and were excellent characteristics.

【0020】実施例4 実施例2で得られたポリアミック酸ワニスをアプリケー
タにて厚さ30μmのステンレス箔(日新製鋼 (株)
製、SUS304)にコートし、130℃の空気(風速
10m/分、溶剤濃度0.1%)で約4分かけて残溶
剤を55%迄乾燥し、さらに、170℃の空気(風速1
0m/分、溶剤濃度0.1%)で約5分かけて残溶剤を
12%迄乾燥させた。その後、窒素雰囲気中で300℃
から430℃まで徐々に昇温し残溶剤が0.01%以下
迄乾燥させると同時にイミド化を完結させた。この様に
して得られたポリイミド・ステンレス箔積層板の厚みは
55μmであった。この積層板にステンレスの回路を描
き通電させステンレス面状発熱体としたところ長期に2
50℃に耐えられる事が判った。この積層板の寸法安定
性、ステンレスエッチング後のポリイミドフィルムの特
性は表1の通りであり、面状発熱体用として優れたもの
であった。
Example 4 The polyamic acid varnish obtained in Example 2 was coated with a stainless steel foil having a thickness of 30 μm (Nissin Steel Co., Ltd.) using an applicator.
Co., Ltd., SUS304), dried with a 130 ° C. air (wind speed 10 m / min, solvent concentration 0.1%) to 55% of residual solvent over about 4 minutes, and further dried at 170 ° C. air (air speed 1%).
(0 m / min, solvent concentration: 0.1%) and the residual solvent was dried to 12% over about 5 minutes. Then, at 300 ° C in a nitrogen atmosphere
To 430 ° C. to dry the residual solvent to 0.01% or less, and at the same time complete the imidization. The thickness of the thus obtained polyimide / stainless-foil laminate was 55 μm. When a stainless steel circuit was drawn on this laminate and energized to form a stainless sheet heating element,
It turned out that it can withstand 50 degreeC. The dimensional stability of this laminate and the properties of the polyimide film after stainless steel etching were as shown in Table 1, and were excellent for a sheet heating element.

【0021】比較例1 ODAを18.0グラム、m−BPを14.1グラム、
PPDを40.8グラム、NMP800グラム中に60
℃で攪拌しながら溶解した後、、PMDAを51.7グ
ラム添加し60℃に保ちながら60分反応させた。その
後、BPDAを75.4グラム添加し60℃に保ちなが
ら120分反応させポリアミック酸ワニスを合成した。
得られたワニスの回転粘度は13000CPS、固有粘度ηは1.
03であった。得られたワニスをアプリケータにて厚さ1
8μmの圧延銅箔(日鉱共石 (株) 製、BHY-13T)にコ
ートし130℃の空気(風速5m/分、溶剤濃度0.2
%)で約4分かけて残溶剤を60%迄乾燥し、さらに、
160℃の空気(風速5m/分、溶剤濃度0.2%)で
約5分かけて残溶剤を15%まで乾燥させた。その後、
窒素雰囲気中で300℃から390℃まで5分かけて昇
温し残溶剤が0.02%迄乾燥させると同時にイミド化
を完結させた。この様にして得られたFCLの厚みは4
3μmであった。このFCLの寸法安定性、銅箔エッチ
ング後のポリイミドイルムの特性は表−1の通りであ
り、寸法安定性は実施例2と差が少ないが、ポリイミド
フィルムの伸び率、破断強度が低下しFCLのフィルム
としては全く好ましく無い特性を有することがわかる。
Comparative Example 1 18.0 g of ODA, 14.1 g of m-BP,
40.8 grams of PPD, 60 in 800 grams of NMP
After dissolving with stirring at a temperature of 5 ° C., 51.7 g of PMDA was added and reacted at 60 ° C. for 60 minutes. Thereafter, 75.4 g of BPDA was added, and the mixture was reacted for 120 minutes while maintaining the temperature at 60 ° C. to synthesize a polyamic acid varnish.
The rotational viscosity of the obtained varnish is 13000 CPS, the intrinsic viscosity η is 1.
03. The obtained varnish is applied with an applicator to a thickness of 1
8 μm rolled copper foil (Nikko Kyoishi Co., Ltd., BHY-13T) is coated and air at 130 ° C. (wind speed 5 m / min, solvent concentration 0.2
%) In about 4 minutes to dry the residual solvent to 60%.
The residual solvent was dried to 15% with air at 160 ° C. (wind speed 5 m / min, solvent concentration 0.2%) for about 5 minutes. afterwards,
In a nitrogen atmosphere, the temperature was raised from 300 ° C. to 390 ° C. over 5 minutes to dry the residual solvent to 0.02%, and at the same time the imidization was completed. The thickness of the FCL thus obtained is 4
It was 3 μm. The dimensional stability of this FCL and the characteristics of the polyimide film after copper foil etching are as shown in Table 1. Although the dimensional stability is little different from that of Example 2, the elongation and breaking strength of the polyimide film are reduced and the FCL is reduced. It can be seen that the film has completely unfavorable characteristics.

【0022】比較例2 実施例2で得られたワニスをアプリケータで厚さ18μ
mの圧延銅箔(BHY-13T)にコートし、165℃の空気
(風速2m/分、溶剤濃度5%)で約12分かけて残溶
剤を18%まで乾燥させた。その後、窒素雰囲気中で3
00℃から390℃まで徐々に5分かけて昇温し残溶剤
を0.05%迄乾燥させると同時にイミド化を完結させ
た。この様にして得られたFCLの厚みは43μmであ
った。このFCLの寸法安定性、銅箔エッチング後のポ
リイミドイルムの特性は表−1の通りであり、フィルム
特性としては優れている。しかし、FCLの寸法安定性
は実施例2に比べ大きく低下して仕舞った。
Comparative Example 2 The varnish obtained in Example 2 was applied with an applicator to a thickness of 18 μm.
m of rolled copper foil (BHY-13T), and dried at 165 ° C. in air (wind speed 2 m / min, solvent concentration 5%) for about 12 minutes to 18% of residual solvent. Then, in a nitrogen atmosphere,
The temperature was gradually raised from 00 ° C to 390 ° C over 5 minutes to dry the residual solvent to 0.05%, and at the same time, the imidization was completed. The thickness of the FCL thus obtained was 43 μm. The dimensional stability of this FCL and the characteristics of the polyimide film after copper foil etching are as shown in Table 1, and the film characteristics are excellent. However, the dimensional stability of FCL was greatly reduced as compared with Example 2 and the operation was finished.

【0023】比較例3 実施例2で得られたワニスをアプリケータで厚さ18μ
mの圧延銅箔(BHY-13T)にコートし、130℃の空気
(風速5m/分、溶剤濃度0.1%)で約2分かけて残
溶剤を90%まで乾燥しさらに240℃の空気(風速5
m/分、溶剤濃度0.1%)で約4分かけて残溶剤を1
0%まで乾燥させた。その後、窒素雰囲気中で300℃
から390℃まで徐々に5分かけて昇温し残溶剤が0.
05%迄乾燥させると同時にイミド化を完結させた。こ
の様にして得られたFCLの厚みは43μmであった。
このFCLの寸法安定性、銅箔エッチング後のポリイミ
ドイルムの特性は表1の通りであり、フィルム特性とし
ては優れている。しかしながら、FCLの寸法安定性は
実施例2に比べ大きく低下して仕舞った。
Comparative Example 3 The varnish obtained in Example 2 was applied with an applicator to a thickness of 18 μm.
m of rolled copper foil (BHY-13T), dry the remaining solvent to 90% with 130 ° C air (wind speed 5m / min, solvent concentration 0.1%) for about 2 minutes, and further air at 240 ° C. (Wind speed 5
m / min, solvent concentration 0.1%) over 1
Dried to 0%. Then, at 300 ° C in a nitrogen atmosphere
To 390 ° C. over 5 minutes to reduce residual solvent to 0.1.
Imidization was completed at the same time as drying to 05%. The thickness of the FCL thus obtained was 43 μm.
The dimensional stability of the FCL and the characteristics of the polyimide film after copper foil etching are as shown in Table 1, and the film characteristics are excellent. However, the dimensional stability of the FCL was greatly reduced as compared with Example 2, and the operation was finished.

【0024】比較例4 m−BPを16.6グラム(全ジアミンの 9モル%)、
PPDを49.8グラム(全ジアミンの91モル%)、N
MP774グラム中に60℃で攪拌しながら溶解した
後、BPDAを 37.7グラム(全ジアミンの0.2
5モル倍)添加し60℃に保ちながら30分反応させ
た。次ぎに、PMDAを51.7グラム添加し60℃に
保ちながら60分反応させた。その後、BPDAを3
7.7グラム添加し60℃に保ちながら120分反応さ
せポリアミック酸ワニスを合成した。得られたワニスの
回転粘度は16000CPS、固有粘度ηは1.12であった。得ら
れたワニスをアプリケータにて厚さ18μmの圧延銅箔
(日鉱共石 (株) 製、BHY-13T)にコートし130℃の
空気(風速5m/分、溶剤濃度0.2%)で約4分かけ
て残溶剤が60%迄乾燥し、さらに、160℃の空気
(風速5m/分、溶剤濃度0.2%)で約5分かけて残
溶剤を16%まで乾燥させた。その後、窒素雰囲気中で
300℃から390℃まで徐々に5分かけて昇温し残溶
剤が0.02%迄乾燥させると同時にイミド化を完結さ
せた。この様にして得られたポリイミド・銅箔積層品
(以下FCLと略す)の厚みは44μmであった。この
FCLの寸法安定性、銅箔エッチング後のポリイミドイ
ルムの特性は表1の通りであり、FCLの寸法安定性は
実施例1と同様に優れているが、フィルム特性は柔軟性
に欠けている。
COMPARATIVE EXAMPLE 4 16.6 g of m-BP (9 mol% of all diamines)
49.8 grams of PPD (91 mole% of total diamine), N
After dissolving in 774 grams of MP with stirring at 60 ° C., 37.7 grams of BPDA (0.2% of total diamine)
(5 mol times) and reacted at 30 ° C. for 30 minutes. Next, 51.7 grams of PMDA was added and reacted at 60 ° C. for 60 minutes. After that, 3 BPDA
7.7 g was added and reacted for 120 minutes while maintaining at 60 ° C. to synthesize a polyamic acid varnish. The rotation viscosity of the obtained varnish was 16000 CPS, and the intrinsic viscosity η was 1.12. The obtained varnish is coated on an 18 μm-thick rolled copper foil (manufactured by Nikko Kyoishi Co., Ltd., BHY-13T) using an applicator, and air is applied at 130 ° C. (wind speed 5 m / min, solvent concentration 0.2%). The residual solvent was dried to 60% in about 4 minutes, and further dried to 16% in 160 ° C. air (wind velocity 5 m / min, solvent concentration 0.2%) in about 5 minutes. Thereafter, the temperature was gradually raised from 300 ° C. to 390 ° C. in a nitrogen atmosphere over 5 minutes to dry the residual solvent to 0.02%, and at the same time complete the imidization. The thickness of the polyimide / copper foil laminate (hereinafter abbreviated as FCL) thus obtained was 44 μm. The dimensional stability of the FCL and the characteristics of the polyimide film after copper foil etching are as shown in Table 1. The dimensional stability of the FCL is excellent as in Example 1, but the film characteristics lack flexibility. .

【0025】比較例5 m−BPを47.1グラム(全ジアミンの25モル%)、
PPDを40.8グラム(全ジアミンの75モル%)、N
MP908グラム中に60℃で攪拌しながら溶解した
後、BPDAを122.6グラム(全酸無水物の0.8
5モル倍)添加し60℃に保ちながら90分反応させ
た。次ぎに、PMDAを16.4グラム添加し60℃に
保ちながら90分反応させポリアミック酸ワニスを合成
した。得られたワニスの回転粘度は12500CPS、固有粘度
ηは1.03であった。得られたワニスをアプリケータにて
厚さ18μmの圧延銅箔(日鉱共石 (株) 製、BHY-13
T)にコートし130℃の空気(風速5m/分、溶剤濃
度0.2%)で約4分かけて残溶剤を55%迄乾燥し、
さらに、160℃の空気(風速5m/分、溶剤濃度0.
2%)で約5分かけて残溶剤を13%まで乾燥させた。
その後、窒素雰囲気中で300℃から390℃まで徐々
に5分かけて昇温し残溶剤を0.02%迄乾燥させると
同時にイミド化を完結させた。この様にして得られたポ
リイミド・銅箔積層品の厚みは43μmであった。この
FCLの寸法安定性、銅箔エッチング後のポリイミドイ
ルムの特性は表1の通りである。耐手半田性が悪くFC
Lとしては好ましいフィルムでは無かった。
Comparative Example 5 47.1 grams of m-BP (25 mole% of total diamine)
40.8 grams of PPD (75 mole% of total diamine), N
After dissolving in 908 grams of MP at 60 ° C. with stirring, 122.6 grams of BPDA (0.8% of total anhydride)
(5 mol times) and reacted at 90 ° C. for 90 minutes. Next, 16.4 g of PMDA was added and reacted for 90 minutes while maintaining the temperature at 60 ° C. to synthesize a polyamic acid varnish. The rotational viscosity of the obtained varnish was 12,500 CPS, and the intrinsic viscosity η was 1.03. The obtained varnish was rolled with an applicator using an 18 μm-thick rolled copper foil (manufactured by Nikko Kyoishi Co., Ltd., BHY-13).
T) and dried with air at 130 ° C. (wind speed 5 m / min, solvent concentration 0.2%) to 55% of residual solvent over about 4 minutes,
Furthermore, air of 160 ° C. (wind speed 5 m / min, solvent concentration of 0.
2%) to dry the residual solvent to 13% over about 5 minutes.
Thereafter, the temperature was gradually raised from 300 ° C. to 390 ° C. in a nitrogen atmosphere over 5 minutes to dry the residual solvent to 0.02%, and at the same time complete the imidization. The thickness of the polyimide / copper foil laminate thus obtained was 43 μm. Table 1 shows the dimensional stability of the FCL and the characteristics of the polyimide film after etching the copper foil. FC with poor hand soldering resistance
L was not a preferable film.

【0026】比較例6 m−BPを47.1グラム、PPDを40.8グラム、
NMP806グラム中に60℃で攪拌しながら溶解した
後、BPDAを21.9グラム(全ジアミンの0.15
モル倍、全酸無水物の15モル%)添加し60℃に保ちな
がら90分反応させた。次ぎに、PMDAを91.6グ
ラム(全酸無水物の85モル%)添加し60℃に保ちなが
ら90分反応させポリアミック酸ワニスを合成した。得
られたワニスの回転粘度は17500CPS、固有粘度ηは1.17
であった。得られたワニスをアプリケータにて厚さ18
μmの圧延銅箔(日鉱共石 (株) 製、BHY-13T)にコー
トし130℃の空気(風速5m/分、溶剤濃度0.2
%)で約4分かけて残溶剤を55%迄乾燥し、さらに、
160℃の空気(風速5m/分、溶剤濃度0.2%)で
約5分かけて残溶剤を16%まで乾燥させた。その後、
窒素雰囲気中で300℃から390℃まで徐々に5分か
けて昇温し残溶剤を0.04%迄乾燥させると同時にイ
ミド化を完結させた。この様にして得られたFCLの厚
みは44μmであった。このFCLの寸法安定性、銅箔
エッチング後のポリイミドイルムの特性は表1の通りで
ある。フィルムの伸び率が低くFCLとしては好ましい
フィルムでは無かった。
Comparative Example 6 m-BP: 47.1 grams, PPD: 40.8 grams,
After dissolving in 806 grams of NMP at 60 ° C. with stirring, 21.9 grams of BPDA (0.15 grams of total diamine)
The reaction was continued for 90 minutes while maintaining the temperature at 60 ° C. Next, 91.6 g (85 mol% of the total acid anhydride) of PMDA was added, and the mixture was reacted for 90 minutes while maintaining the temperature at 60 ° C. to synthesize a polyamic acid varnish. The rotational viscosity of the obtained varnish was 17,500 CPS, and the intrinsic viscosity η was 1.17.
Met. The obtained varnish is applied with an applicator to a thickness of 18
μm rolled copper foil (manufactured by Nippon Kyoishi Co., Ltd., BHY-13T) and air at 130 ° C. (wind speed 5 m / min, solvent concentration 0.2
%) In about 4 minutes to dry the residual solvent to 55%.
The residual solvent was dried to 16% with air at 160 ° C. (wind speed 5 m / min, solvent concentration 0.2%) over about 5 minutes. afterwards,
In a nitrogen atmosphere, the temperature was gradually raised from 300 ° C. to 390 ° C. over 5 minutes to dry the residual solvent to 0.04%, and at the same time the imidization was completed. The thickness of the FCL thus obtained was 44 μm. Table 1 shows the dimensional stability of the FCL and the characteristics of the polyimide film after etching the copper foil. The film had a low elongation and was not a preferable film as FCL.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明は、特定の組成を持ったコポリア
ミック酸ワニスについての新規な合成方法と、金属箔に
そのワニスを塗布して乾燥、イミド化する際の新規な方
法を提供するものである。
The present invention provides a novel method for synthesizing a copolyamic acid varnish having a specific composition, and a novel method for applying the varnish to a metal foil, followed by drying and imidization. It is.

【0029】本発明によって優れた寸法安定性とフィル
ム特性を兼ね備えたポリイミドフィルム・金属箔積層体
を製造することができ、プリント回路基板、面状発熱体
等の電子、電気工業分野に極めて有用であると云わざる
を得ない。
According to the present invention, a polyimide film / metal foil laminate having both excellent dimensional stability and film characteristics can be manufactured, and is extremely useful in the fields of electronics and electric industry such as printed circuit boards and sheet heating elements. I have to say that there is.

フロントページの続き (72)発明者 及川 英明 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三 井東圧化学株式会社内 審査官 小石 真弓 (56)参考文献 特開 平6−212142(JP,A) 特開 平4−334089(JP,A) 特開 平4−153224(JP,A) 特開 平4−50279(JP,A) 特開 昭60−203638(JP,A) 特開 平6−192639(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B32B 15/08 C08G 73/10 - 73/16 Continuation of Front Page (72) Inventor Hideaki Oikawa 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Examiner, Mitsui Toatsu Chemicals Co., Ltd. Mayumi Koishi (56) References JP-A-6-212142 (JP, A) JP-A Heihei JP-A-4-334089 (JP, A) JP-A-4-153224 (JP, A) JP-A-4-50279 (JP, A) JP-A-60-203638 (JP, A) JP-A-6-192639 (JP, A) A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B32B 15/08 C08G 73/10-73/16

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 少なくともピロメリット酸二無水物20〜8
0モル%および3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物80〜20モル%からなる酸無水物と、p−フェニ
レンジアミン50〜80モル%および下記式(式1)、〔化
1〕で表されるジアミン50〜20モル%からなるジアミン
を、溶媒中で反応して得られるポリアミック酸を金属箔
に塗布し、次いで加熱して乾燥イミド化してなることを
特徴とするポリイミドフィルム・金属箔積層体。 【化1】 ( 式中:Xは直結、炭素数1〜10の炭化水素基、6フ
ッ素化イソプロピリデン、カルボニル基、チオ基または
スルホニル基を表す。 )
1. At least pyromellitic dianhydride 20 to 8
An acid anhydride consisting of 0 mol% and 80 to 20 mol% of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 50 to 80 mol% of p-phenylenediamine and the following formula (formula 1): di amine consisting of diamine 50 to 20 mole% represented by the chemical formula 1], the polyamic acid obtained by reacting in a solvent is coated on a metal foil, then a characterized by being heated to dry imidized Polyimide film / metal foil laminate. Embedded image (Wherein, X represents a direct bond, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a hexafluorinated isopropylidene, a carbonyl group, a thio group or a sulfonyl group.)
【請求項2】 請求項1記載のポリイミドフィルム・金
属箔積層体を製造するための方法にして、予め該アミン
を溶解した溶液に、まず少なくとも一部の3,3',4,4'-ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物を添加して反応せし
めた後に、ピロメリット酸二無水物を反応させたポリア
ミック酸を金属箔に塗布することを特徴とするポリイミ
ドフィルム・金属箔積層体の製造方法。
2. The method for producing a polyimide film / metal foil laminate according to claim 1, wherein at least a part of 3,3 ′, 4,4′- A method for producing a polyimide film / metal foil laminate, characterized in that after adding and reacting biphenyltetracarboxylic dianhydride, a polyamic acid reacted with pyromellitic dianhydride is applied to a metal foil.
【請求項3】 請求項1記載のポリイミドフィルム・金
属箔積層体を製造するための方法にして、ポリイミドフ
ィルム・金属箔積層体の製造過程で、ポリアミック酸を
乾燥イミド化するのに用いる熱風の温度を、220℃以
下、風速を3m/分以上、溶剤濃度を1%以下にして、
生成するフィルムの残溶剤を50%以下とした後、さら
に300℃以上の温度で残溶剤を0.5%以下とするこ
とを特徴とするポリイミドフィルム・金属箔積層体の製
造方法。
3. A method for producing a polyimide film / metal foil laminate according to claim 1, wherein a hot air used to dry imidize polyamic acid in the process of producing the polyimide film / metal foil laminate. The temperature is 220 ° C. or less, the wind speed is 3 m / min or more, and the solvent concentration is 1% or less.
A method for producing a laminate of a polyimide film and a metal foil, comprising: reducing the residual solvent of a film to be formed to 50% or less, and further reducing the residual solvent to 0.5% or less at a temperature of 300 ° C. or higher.
【請求項4】 予め該アミンを溶解した溶液に、まず少
なくとも一部の3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物を添加して反応せしめた後に、ピロメリット酸
二無水物を反応させたポリアミック酸を金属箔に塗布す
る請求項3記載のポリイミドフィルム・金属箔積層体の
製造方法。
4. A reaction in which at least a part of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride is first added to a solution in which the amine is dissolved in advance, and the mixture is reacted. The method for producing a polyimide film / metal foil laminate according to claim 3, wherein the polyamic acid reacted with the substance is applied to the metal foil.
【請求項5】 p−フェニレンジアミン50〜80モル%、
下記式(式1)、〔化2〕で表されるジアミン30〜 5モ
ル%、およびビスアミノフェニルエーテル20〜15モル%
からなるジアミンを用いる請求項1項記載のポリイミド
フィルム・金属箔積層体。 【化2】 (式中:Xは直結、炭素数1〜10の炭化水素残基、6フ
ッ素化イソプロピリデン、カルボニル基、チオ基または
スルホニル基を表す。)
5. 50-80 mol% of p-phenylenediamine,
30 to 5 mol% of a diamine represented by the following formula (Formula 1) and [Chemical Formula 2], and 20 to 15 mol% of bisaminophenyl ether
The polyimide film / metal foil laminate according to claim 1, wherein a diamine comprising: Embedded image (In the formula, X represents a direct bond, a hydrocarbon residue having 1 to 10 carbon atoms, a hexafluorinated isopropylidene, a carbonyl group, a thio group or a sulfonyl group.)
【請求項6】 請求項5記載のポリイミドフィルム・金
属箔積層体を製造するための方法にして、予め該アミン
を溶解した溶液に、まず少なくとも一部の3,3',4,4'-ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物を添加して反応せし
めた後に、ピロメリット酸二無水物を反応させたポリア
ミック酸を金属箔に塗布する事を特徴とするポリイミド
フィルム・金属箔積層体の製造方法。
6. The method for producing a polyimide film / metal foil laminate according to claim 5, wherein at least a part of 3,3 ′, 4,4′- A method for producing a polyimide film / metal foil laminate, characterized in that after adding and reacting biphenyltetracarboxylic dianhydride, a polyamic acid reacted with pyromellitic dianhydride is applied to a metal foil.
【請求項7】 請求項5記載のポリイミドフィルム・金
属箔積層体を製造するための方法にして、ポリイミドフ
ィルム・金属箔積層体の製造過程で、ポリアミック酸を
乾燥イミド化するのに用いる熱風の温度を、220℃以
下、風速を3m/分以上、溶剤濃度を1%以下にして、
生成するフィルムの残溶剤を50%以下とした後、さら
に300℃以上の温度で残溶剤を0.5%以下とするこ
とを特徴とするポリイミドフィルム・金属箔積層体の製
造方法。
7. A method for producing a polyimide film / metal foil laminate according to claim 5, wherein in the process of producing the polyimide film / metal foil laminate, hot air used for drying and imidizing polyamic acid is used. The temperature is 220 ° C. or less, the wind speed is 3 m / min or more, and the solvent concentration is 1% or less.
A method for producing a laminate of a polyimide film and a metal foil, comprising: reducing the residual solvent of a film to be formed to 50% or less, and further reducing the residual solvent to 0.5% or less at a temperature of 300 ° C. or higher.
【請求項8】 予め該アミンを溶解した溶液に、まず少
なくとも一部の3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物を添加して反応せしめた後に、ピロメリット酸
二無水物を反応させたポリアミック酸を金属箔に塗布す
る請求項7記載のポリイミドフィルム・金属箔積層体の
製造方法。
8. A solution in which said amine has been previously dissolved, and at least a portion of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride is added thereto and reacted, and then pyromellitic dianhydride is added. The method for producing a polyimide film / metal foil laminate according to claim 7, wherein the polyamic acid reacted with the substance is applied to the metal foil.
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