JP2866779B2 - Heat resistant adhesive sheet - Google Patents

Heat resistant adhesive sheet

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JP2866779B2
JP2866779B2 JP25993A JP25993A JP2866779B2 JP 2866779 B2 JP2866779 B2 JP 2866779B2 JP 25993 A JP25993 A JP 25993A JP 25993 A JP25993 A JP 25993A JP 2866779 B2 JP2866779 B2 JP 2866779B2
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JP
Japan
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polyimide
heat
adhesive sheet
adhesive layer
resistant
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憲治 阿部
悦夫 大川戸
守次 森田
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Mitsui Chemicals Inc
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Mitsui Chemicals Inc
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    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
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    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、フレキシブル配線板お
よびIC関連用の、高接着力と耐熱性に極めて優れた耐
熱性接着シートに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat-resistant adhesive sheet for flexible wiring boards and ICs, which has extremely high adhesive strength and excellent heat resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、既に回路形成されたフレキシ
ブル配線板に対し、1)半田付け部分ではソルダーレジ
ストの役割、2)屈曲部では耐折性、3)電気絶縁性の
確保および表面の保護を目的として、片側に接着層を有
するカバーレイフィルムをフレキシブル配線板に対し熱
・圧をかけてラミネートする方法が一般に行われてい
る。また、多層フレキシブル配線板やリジッド−フレキ
シブル配線板を製造する場合には、両面に接着層を有す
るボンドプライを間に挟んで熱・圧をかけて積層板を製
造している。この他比較的最近になって、IC関連にお
いてリードフレーム固定用テープ(片面接着層)やリー
ド・オン・チップ用接着テープ(両面接着層)が一部使
用され始めている。
2. Description of the Related Art Conventionally, 1) the role of a solder resist in a soldered portion, 2) bending resistance in a bent portion, 3) securing of electrical insulation and protection of the surface of a flexible wiring board on which a circuit has already been formed. For the purpose, a method of laminating a coverlay film having an adhesive layer on one side by applying heat and pressure to a flexible wiring board is generally performed. When manufacturing a multilayer flexible wiring board or a rigid-flexible wiring board, a laminated board is manufactured by applying heat and pressure with a bond ply having an adhesive layer on both sides interposed therebetween. In addition, relatively recently, a part of a tape for fixing a lead frame (one-sided adhesive layer) and a part of an adhesive tape for a lead-on-chip (double-sided adhesive layer) have begun to be used in ICs.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本願の接着シートは、
上記の4種類を包含するものであるが、従来の接着シー
トは、エポキシやアクリルの半硬化状態(B−ステー
ジ)の接着層を有し、熱・圧をかけてFPCに接着する
熱硬化タイプであるため、材料に起因する1)耐熱性の
不足、2)加湿時の電気絶縁性の劣化、3)B−ステー
ジであるためライフが短い、4)B−ステージの接着層
をプレス時に硬化させる必要があるため長時間を必要と
するという欠点がある。
The adhesive sheet of the present invention is:
Although the above four types are included, the conventional adhesive sheet has an adhesive layer in a semi-cured state (B-stage) of epoxy or acrylic, and is a thermosetting type that adheres to the FPC by applying heat and pressure. Therefore, 1) lack of heat resistance due to the material, 2) deterioration of electric insulation during humidification, 3) short life due to B-stage, 4) curing of the adhesive layer of B-stage at the time of pressing There is a drawback that a long time is required because it is necessary to make it work.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記欠点
を解決すべく鋭意検討した結果、ガラス転移温度が20
0℃以下で、かつ高温時のフロー性に優れた熱可塑性ポ
リイミドを接着層とする接着シートであれば、前記欠点
を解決できることに着目し、本発明を完成するに至っ
た。すなわち、本発明は、ポリマー分子末端が、 式
(1)、〔化4〕
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies in order to solve the above-mentioned drawbacks, and as a result, have found that the glass transition temperature is 20%.
The present invention has been completed by paying attention to the fact that the above-mentioned disadvantages can be solved by using an adhesive sheet having a thermoplastic polyimide film having an excellent flowability at a temperature of 0 ° C. or lower and having an excellent flow property at a high temperature. That is, in the present invention, the polymer molecule terminal is represented by the formula (1):

【0005】[0005]

【化4】 (式中、Zは単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基また
は芳香族基が直接または架橋員により相互に連結された
非縮合多環式芳香族基からなる群より選ばれた2価の基
を示す)で表されるジカルボン酸無水物で封止され、式
(2)、〔化5〕
Embedded image (Wherein, Z is selected from the group consisting of a monocyclic aromatic group, a condensed polycyclic aromatic group, or a non-condensed polycyclic aromatic group in which aromatic groups are connected to each other directly or by a bridge member. (Showing a divalent group) with a dicarboxylic anhydride represented by the formula (2):

【0006】[0006]

【化5】 (式中、Yは、式(3)、〔化6〕であり、Xは直接結
合、−CO−または−O−を示す)
Embedded image (Wherein, Y is the formula (3) or [Formula 6], and X represents a direct bond, -CO- or -O-)

【0007】[0007]

【化6】 で表される繰り返し単位を有する重合体よりなる熱可塑
性ポリイミド接着層を、ポリイミド支持基材の片側ある
いは両側に形成してなる耐熱性接着シート、であり、好
ましくは、式(1)で表されるジカルボン酸無水物が、
無水フタル酸である耐熱性接着シート、であり、また、
そのガラス転移温度が200℃以下であるポリイミドを
接着層とし、230℃の熱プレス時において被着体に融
着させる事により接着可能なものである耐熱性接着シー
ト、であり、また、230℃の熱プレスによるラミネー
トにおいて、銅箔光沢面との接着強度が0.7kg/c
m以上である請求項1記載の耐熱性接着シート、であ
り、また、230℃における弾性率が103 ダイン/cm
2 以下であるポリイミドを接着層とする耐熱性接着シー
ト、であり、また、ポリイミド支持基材の厚みが5〜2
00ミクロンで、接着層の厚みが1〜50ミクロンであ
る耐熱性接着シート、である。
Embedded image Is a heat-resistant adhesive sheet formed by forming a thermoplastic polyimide adhesive layer comprising a polymer having a repeating unit represented by the formula (1) on one or both sides of a polyimide support substrate, and is preferably represented by the formula (1). Dicarboxylic anhydride is
A heat-resistant adhesive sheet, which is phthalic anhydride; and
A heat-resistant adhesive sheet which can be bonded by bonding a polyimide having an glass transition temperature of 200 ° C. or less to an adherend at the time of hot pressing at 230 ° C. as an adhesive layer; In the hot press lamination, the bond strength with the copper foil glossy surface is 0.7kg / c
2. The heat-resistant adhesive sheet according to claim 1, which has an elastic modulus at 230 ° C. of 10 3 dynes / cm.
2 is a heat-resistant adhesive sheet having a polyimide as an adhesive layer having a thickness of 2 or less, and the thickness of the polyimide support base material is 5 to 2
A heat-resistant adhesive sheet having a thickness of 1 to 50 microns and a thickness of 00 microns.

【0008】また、本発明は、ポリマー分子末端がジカ
ルボン酸無水物で封止された重合体たるポリイミドを、
ポリイミド粉として取り出した後、これを溶解する溶媒
に溶解含有させてなるポリイミドワニスを、ポリイミド
支持基材に流延塗布後乾燥して接着層を形成する上記耐
熱性接着シートの製造方法、であり、好ましくは、ポリ
アミド酸の末端封止およびそれにつづく熱イミド化を行
い得られた反応混合物からなるワニスを、直接ポリイミ
ド支持基材に流延塗布後乾燥して接着層を形成する耐熱
性接着シートの製造方法、であり、また、イミド化を完
結させずポリアミド酸が0.1〜10%の範囲で残存す
る反応混合物を直接ポリイミド支持基材に流延塗布後乾
燥して接着層を形成する耐熱性接着シートの製造方法、
であり、また、ここでワニスをポリイミド支持基材の両
面に流延塗布後乾燥して接着層を形成する耐熱性両面接
着シートの製造方法、であり、また、コータードライヤ
ーにて第一面側に流延塗布および初期乾燥後、同様の方
法にて第二面側に流延塗布し初期乾燥を行い、その後本
ドライヤーにて両面同時に最終乾燥を行う耐熱性両面接
着シートの製造方法、であり、また、第二面側に流延塗
布し初期乾燥する際、第一面側の接着層がコータードラ
イヤー内のロールにタックする事を防ぐため、(1)第
一面側の乾燥を高温で長時間かけ残溶媒を充分に低下さ
せた後、第二面側の流延塗布および初期乾燥に移行し、
かつ第二面側の乾燥を比較的低温短時間で行うか、ある
いは(2)第二面側に流延塗布後、両面とも非接触にて
連続乾燥する耐熱性両面接着シートの製造方法、であ
り、また、本ドライヤーにて両面同時に最終乾燥を行う
際、両面とも非接触にて連続乾燥する方法による耐熱性
両面接着シートの製造方法、である。
Further, the present invention provides a polyimide as a polymer having a polymer molecule terminal capped with a dicarboxylic anhydride.
After taking out as a polyimide powder, a method for producing the heat-resistant adhesive sheet, wherein a polyimide varnish dissolved and contained in a solvent for dissolving the same is cast on a polyimide support substrate and then dried to form an adhesive layer. Preferably, a varnish consisting of a reaction mixture obtained by performing end capping of polyamic acid and subsequent thermal imidization, directly cast and applied to a polyimide support substrate and then dried to form a heat-resistant adhesive sheet that forms an adhesive layer In addition, the reaction mixture in which the imidization is not completed and the polyamic acid remains in the range of 0.1 to 10% is directly cast on a polyimide support substrate and then dried to form an adhesive layer. Manufacturing method of heat-resistant adhesive sheet,
Also, here is a method for producing a heat-resistant double-sided adhesive sheet in which a varnish is cast and applied to both sides of a polyimide support substrate and then dried to form an adhesive layer. A method for producing a heat-resistant double-sided adhesive sheet, in which after casting and initial drying, the same method is applied to the second side for casting and initial drying. In addition, when casting and drying on the second surface side and initial drying, to prevent the adhesive layer on the first surface side from sticking to the rolls in the coater dryer, (1) drying the first surface side at a high temperature After sufficiently reducing the residual solvent over a long period of time, transfer to the casting application and initial drying on the second side,
And drying the second surface side at a relatively low temperature for a short time, or (2) a method for producing a heat-resistant double-sided adhesive sheet in which both surfaces are continuously dried in a non-contact manner after casting and application on the second surface side. And a method for producing a heat-resistant double-sided adhesive sheet by a method of continuously drying both surfaces in a non-contact manner when performing final drying on both surfaces simultaneously with the present dryer.

【0009】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
耐熱性接着シートの接着層を形成するポリイミドは、基
本的に、ジアミンとして1,3−ビス(3−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン(以下、APBと略記する)を用い、
一方テトラカルボン酸二無水物として3,3´,4,4
´−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物(以
下、ODPAと略記する)、3,3´,4,4´−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(以下、BTDA
と略記する)および3、3’、4、4’−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物(以下、BPDAと略記する)
からなる群から選ばれる少なくとも一つのテトラカルボ
ン酸二無水物とを重縮合させて得られるポリイミドであ
り、かつポリマー分子末端がジカルボン酸無水物で封止
された熱可塑性ポリイミドを接着層として有する耐熱性
接着シートであり、このものは従来の接着シートの前記
問題点を解決しているものである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The polyimide forming the adhesive layer of the heat-resistant adhesive sheet of the present invention basically uses 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene (hereinafter abbreviated as APB) as a diamine,
On the other hand, 3,3 ', 4,4 as tetracarboxylic dianhydride
'-Diphenylethertetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as ODPA), 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (hereinafter BTDA)
And 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as BPDA)
Polyimide obtained by polycondensation with at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of, and heat-resistant having as a bonding layer a thermoplastic polyimide in which polymer molecular ends are sealed with dicarboxylic anhydride The adhesive sheet solves the above-mentioned problems of the conventional adhesive sheet.

【0010】APBをジアミン成分として用いるポリイ
ミドとしては以下の様なものがすでに知られている。例
えば、(1)APB、BTDAおよび3−アミノフェニル
アセチレンから製造される末端アセチレン基を有するポ
リイミドオリゴマー(N、Bilowら、USP3,8
45,018および、USP3,879,349)、
(2)APBと無水ピロメリット酸からなる重縮合形ポリ
イミド(T.P.Gannettら、USP4,48
5,140)、(3)APBと各種テトラカルボン酸二無
水物とからなる耐熱性ポリイミド(特開昭61−143
477および特開昭61−291670)等である。
The following are already known as polyimides using APB as a diamine component. For example, (1) polyimide oligomer having a terminal acetylene group produced from APB, BTDA and 3-aminophenylacetylene (N, Bilow et al., US Pat.
45,018 and USP 3,879,349),
(2) Polycondensation type polyimide composed of APB and pyromellitic anhydride (TP Gannett et al., USP 4,48)
5,140), and (3) a heat-resistant polyimide comprising APB and various tetracarboxylic dianhydrides (JP-A-61-143).
477 and JP-A-61-291670).

【0011】しかしながら、これらポリイミドの(1)
は、オリゴマー末端が3−アミノフェニルアセチレンで
封止されているものの、これら末端アセチレン基が加熱
処理により架橋反応が進行する付加型の熱硬化性ポリイ
ミドであり、本発明における縮合型の熱可塑性ポリイミ
ドからなる耐熱性ポリイミドとは、全く異なる範ちゅう
に属するものである。また(2)はAPBを原料モノマー
として用いる縮合型ポリイミドであるが、テトラカルボ
ン酸二無水物成分にピロメリット酸二無水物を用いるこ
とを特徴としており、本願における耐熱性ポリイミドと
は全く構造を異にするものである。また(3)は、APB
と各種テトラカルボン酸二無水物からなる耐熱性ポリイ
ミドであるが、ポリマー分子末端の反応性の末端基が残
存しており、本願における耐熱性ポリイミドに比較し
て、高温、高圧の接着条件が要求されるものである。
However, these polyimides (1)
Is an addition-type thermosetting polyimide in which the oligomer terminals are sealed with 3-aminophenylacetylene, but these terminal acetylene groups undergo a crosslinking reaction by heat treatment, and the condensation-type thermoplastic polyimide of the present invention. The heat-resistant polyimide consisting of belongs to a completely different category. Further, (2) is a condensation type polyimide using APB as a raw material monomer, characterized in that pyromellitic dianhydride is used as a tetracarboxylic dianhydride component, and has a completely different structure from the heat-resistant polyimide in the present application. It is different. (3) is APB
And various tetracarboxylic dianhydrides, but a reactive end group at the polymer molecule end remains, and high-temperature, high-pressure bonding conditions are required compared to the heat-resistant polyimide in the present application. Is what is done.

【0012】本発明に係わるポリイミドは、上記の芳香
族ジアミン成分と芳香族テトラカルボン酸二無水物を主
たる成分とするものであるが、本発明における耐熱性接
着シートの特性を損なわない範囲で式(4)、〔化7〕
The polyimide according to the present invention contains the above-mentioned aromatic diamine component and aromatic tetracarboxylic dianhydride as main components, but the formula is within a range that does not impair the properties of the heat-resistant adhesive sheet of the present invention. (4), [Chemical formula 7]

【0013】[0013]

【化7】 (式中、Rは炭素数2以上の脂肪族基、環式脂肪族基、
単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、芳香族基が直接
又は架橋員により相互に連結された非縮合多環式芳香族
基からなる群より選ばれた4価の基を示す)で表される
テトラカルボン酸類の二無水物を、該芳香族テトラカル
ボン酸二無水物の代替として0〜30%の範囲で含んで
いても全く問題はない。
Embedded image (Wherein, R represents an aliphatic group having 2 or more carbon atoms, a cycloaliphatic group,
A tetravalent group selected from the group consisting of a monocyclic aromatic group, a condensed polycyclic aromatic group, and a non-condensed polycyclic aromatic group in which the aromatic groups are connected to each other directly or by a crosslinking member; There is no problem if the tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (1) is contained in the range of 0 to 30% as an alternative to the aromatic tetracarboxylic dianhydride.

【0014】即ち、一部代替されうるテトラカルボン酸
二無水物の例としては、例えば、エチレンテトラカルボ
ン酸二無水物、シクロペンタンカルボン酸二無水物、ピ
ロメリット酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’
−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、
2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン二無水物、2,2’−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)スルホン二無水物、1,1−ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,
3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、
2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、1、2、5、6−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、1,2,3,4−ベンゼンテトラカルボン酸二
無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸
二無水物、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボ
ン酸二無水物、1,2,7,8−フェナントレンテトラ
カルボン酸二無水物等が挙げられる。
That is, examples of tetracarboxylic dianhydrides that can be partially substituted include, for example, ethylene tetracarboxylic dianhydride, cyclopentanecarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 2,2 ′ , 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'
-Biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride,
2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone Dianhydride, 1,1-bis (2,3
-Dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,
3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride,
2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1, 2,3,4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,2 7,8-phenanthrenetetracarboxylic dianhydride and the like can be mentioned.

【0015】また、本発明に係わるポリイミドは、耐熱
性接着シートの特性を損なわない範囲で他の芳香族ジア
ミンを0〜30%の範囲で含んでいても全く問題ない。
一部代替しうるジアミンとしては、例えば、m−フェニ
レンジアミン、o−フェニレンジアミン、p−フェニレ
ンジアミン、m−アミノベンジルアミン、p−アミノベ
ンジルアミン、ビス(3−アミノフェニル)スルフィ
ド、(3−アミノフェニル)(4−アミノフェニル)ス
ルフィド、ビス(4−アミノフェニル)スルフィド、ビ
ス(3−アミノフェニル)スルホキシド、(3−アミノ
フェニル)(4−アミノフェニル)スルホキシド、ビス
(3−アミノフェニル)スルホン、(3−アミノフェニ
ル)(4−アミノフェニル)スルホン、ビス(4−アミ
ノフェニル)スルホン、3、3'−ジアミノベンゾフェノ
ン、3、4'−ジアミノベンゾフェノン、4、4'−ジアミノベ
ンゾフェノン、3、3'−ジアミノジフェニルメタン、3、4'
−ジアミノジフェニルメタン、4、4'−ジアミノジフェニ
ルメタン、4、4'−ジアミノジフェニルエーテル、3、3'−
ジアミノジフェニルエーテル、3、4'−ジアミノジフェニ
ルエーテル、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕メタン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕メタン、1、1-ビス〔4−(3−アミノフェノキ
シ)フェニル〕エタン、1、1-ビス〔4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル〕エタン、1、2-ビス〔4−(3−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕エタン、1、2-ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エタン、2、2−ビ
ス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニルプロパン、
2、2-ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プ
ロパン、2、2-ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕ブタン、2、2-ビス〔3−(3−アミノフェノキ
シ)フェニル〕−1、1、1、3、3、3-ヘキサフルオロプロパ
ン、2、2-ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕−1、1、1、3、3、3-ヘキサフルオロプロパン、1、3-ビス
(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1、4-ビス(3−ア
ミノフェノキシ)ベンゼン、1、4-ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン、4、4'-ビス(3−アミノフェノキ
シ)ビフェニル、4、4'-ビス(4−アミノフェノキシ)
ビフェニル、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕ケトン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕ケトン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)
フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(3−アミノ
フェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4−(ア
ミノフェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4−
(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、
ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕エーテ
ル、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エ
ーテル、1、4-ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)ベン
ゾイル〕ベンゼン、1、3-ビス〔4−(3−アミノフェノ
キシ)ベンゾイル〕ベンゼン、4、4-ビス〔3−(4−ア
ミノフェノキシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテル、4、
4-ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ジ
フェニルエーテル、4、4'-ビス〔4−(4−アミノ−
α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ〕ベンゾフェノ
ン、4、4'-ビス〔4−(4−アミノ−α,α−ジメチル
ベンジル)フェノキシ〕ジフェニルスルホン、ビス〔4
−{4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ}フェニ
ル〕スルホン、1、4-ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1、3-ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベ
ンジル〕ベンゼン等が挙げられる。
The polyimide according to the present invention has no problem even if it contains another aromatic diamine in the range of 0 to 30% as long as the properties of the heat-resistant adhesive sheet are not impaired.
Examples of diamines that can be partially substituted include, for example, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, p-phenylenediamine, m-aminobenzylamine, p-aminobenzylamine, bis (3-aminophenyl) sulfide, (3- Aminophenyl) (4-aminophenyl) sulfide, bis (4-aminophenyl) sulfide, bis (3-aminophenyl) sulfoxide, (3-aminophenyl) (4-aminophenyl) sulfoxide, bis (3-aminophenyl) Sulfone, (3-aminophenyl) (4-aminophenyl) sulfone, bis (4-aminophenyl) sulfone, 3,3′-diaminobenzophenone, 3,4′-diaminobenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, 3 , 3'-diaminodiphenylmethane, 3,4 '
-Diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylether, 3,3'-
Diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 1,1-bis [4- (3- Aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4 −
(4-aminophenoxy) phenyl] ethane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenylpropane,
2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) Phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoro Propane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (3- Aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (4-aminophenoxy)
Biphenyl, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy)
Phenyl] sulfide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4-
(3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone,
Bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3- Bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 4,4-bis [3- (4-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether, 4,
4-bis [3- (3-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [4- (4-amino-
α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] benzophenone, 4,4′-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenylsulfone, bis [4
-{4- (4-aminophenoxy) phenoxy} phenyl] sulfone, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4 -Aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene and the like.

【0016】さらに、本発明においては、低温/低圧下
での接着が可能な耐熱性接着剤シートを形成するポリイ
ミドを得るために、反応性ポリマー末端の封止を目的と
して、下式(1)、〔化8〕
Further, in the present invention, in order to obtain a polyimide which forms a heat-resistant adhesive sheet capable of bonding at low temperature / low pressure, the following formula (1) , [Chemical Formula 8]

【0017】[0017]

【化8】 (式中、Zは、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、
芳香族基が直接または架橋員により相互に連結された非
縮合多環式芳香族基からなる群より選ばれた2価の基を
示す)で表されるジカルボン酸無水物を使用する。
Embedded image (Wherein, Z is a monocyclic aromatic group, a condensed polycyclic aromatic group,
A dicarboxylic acid anhydride represented by a divalent group selected from the group consisting of non-fused polycyclic aromatic groups in which aromatic groups are connected to each other directly or by a bridging member) is used.

【0018】末端封止剤として使用されるジカルボン酸
無水物としては、無水フタル酸、2,3−ベンゾフェノ
ンジカルボン酸無水物、3,4−ベンゾフェノンジカル
ボン酸無水物、2,3−ジカルボキシフェニルフェニル
エーテル無水物、3,4−ジカルボキシフェニルフェニ
ルエーテル無水物、2,3−ビフェニルジカルボン酸無
水物、3,4−ビフェニルジカルボン酸無水物、2,3
−ジカルボキフェニルフェニルスルホン無水物、3,4
−ジカルボキフェニルフェニルスルホン無水物、2,3
−ジカルボキシフェニルフェニルスルフィド無水物、
1,2−ナフタレンジカルボン酸無水物、1,8−ナフ
タレンジカルボン酸無水物、1,2−アントラセンジカ
ルボン酸無水物、2,3−アントラセンジカルボン酸無
水物、1,9−アントラセンジカルボン酸無水物が挙げ
られる。これらのジカルボン酸無水物はアミンまたはジ
カルボン酸無水物と反応性を有しない基で置換されてい
ても差し支えない。
Examples of the dicarboxylic anhydride used as a terminal blocking agent include phthalic anhydride, 2,3-benzophenone dicarboxylic anhydride, 3,4-benzophenone dicarboxylic anhydride, and 2,3-dicarboxyphenylphenyl. Ether anhydride, 3,4-dicarboxyphenylphenyl ether anhydride, 2,3-biphenyldicarboxylic anhydride, 3,4-biphenyldicarboxylic anhydride, 2,3
-Dicarboxyphenylphenylsulfone anhydride, 3,4
-Dicarboxyphenylphenylsulfone anhydride, 2,3
-Dicarboxyphenylphenyl sulfide anhydride,
1,2-naphthalenedicarboxylic anhydride, 1,8-naphthalenedicarboxylic anhydride, 1,2-anthracenedicarboxylic anhydride, 2,3-anthracenedicarboxylic anhydride, and 1,9-anthracenedicarboxylic anhydride No. These dicarboxylic anhydrides may be substituted with a group having no reactivity with amine or dicarboxylic anhydride.

【0019】本発明に係わるポリイミド( またはポリイ
ミドワニス )の生成反応は、通常、有機溶媒中で実施す
る。この反応に用いる有機溶媒としては、例えば、N−
メチル−2−ピロリドン、N,N−ジルメチルアセトア
ミド、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチ
ル−2−イミダゾリジノン、N,N−ジエチルアセトア
ミド、N,N−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサ
メチルホスホルアミド、テトラメチル尿素、N−メチル
カプロラクタム、プチロラクタム、テトラヒドロフラ
ン、m−ジオキサン、p−ジオキサン、1,2−ジメト
キシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、
1,2−ビス(2−メトキシエトキシ)エタン、ビス2
−(2−メトシエトキシ)エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、
ピリジン、ピコリン、ジメチルスルホキシド、ジメチル
スルホン、O−クレゾール、m−クレゾール、p−クレ
ゾール、クレゾール酸、p−クロロフェノール、アニソ
ール等が挙げられる。
The production reaction of the polyimide (or polyimide varnish) according to the present invention is usually carried out in an organic solvent. As the organic solvent used in this reaction, for example, N-
Methyl-2-pyrrolidone, N, N-dylmethylacetamide, N, N-dimethylformamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N, N-diethylacetamide, N, N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide , Pyridine, dimethyl sulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylurea, N-methylcaprolactam, ptyrrolactam, tetrahydrofuran, m-dioxane, p-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, bis (2-methoxyethyl) ether,
1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane, bis 2
-(2-methoxyethoxy) ethyl ether, tetrahydrofuran, 1,3-dioxane, 1,4-dioxane,
Examples include pyridine, picoline, dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfone, O-cresol, m-cresol, p-cresol, cresylic acid, p-chlorophenol, anisole and the like.

【0020】本発明の耐熱性接着シートは、以下の方法
にてポリイミドワニスを合成した後、ポリイミド支持基
材の片側あるいは両側にコーティング及び乾燥する事に
よって得る事ができる。コーティング用ポリイミドワニ
スは下記のように製造される。 (1)ポリアミド酸合成後、ジカルボン酸無水物にてポ
リマー分子末端を封止し、イミド化剤により化学イミド
化を行う。得られた反応混合物をメタノール等の貧溶媒
に強力な撹拌下に排出し、析出物を乾燥する。このポリ
イミドを溶解する溶媒に溶解させてコーティング用ポリ
イミドワニスとする方法 (2)ポリアミド酸合成後、ジカルボン酸無水物にてポ
リマー分子末端を封止し、加熱により熱イミド化を行
う。得られた反応混合物をメタノール等の貧溶媒に強力
な撹拌下に排出し、析出物を乾燥する。このポリイミド
を溶解する溶媒に溶解させてコーティング用ポリイミド
ワニスとする方法 (3)ポリアミド酸合成後、ジカルボン酸無水物にてポ
リマー分子末端を封止し、加熱により熱イミド化を行
う。得られた反応混合物を直接コーティング用ポリイミ
ドワニスとする方法 さらに、上記の(3)は次の方法をとる事ができる。 (イ)ポリアミド酸合成後、ジカルボン酸無水物にてポ
リマー分子末端を封止し、閉環触媒を投入後熱イミド化
を行い、イミド化によって生じる生成水を窒素気流によ
りN−メチル−2−ピロリドン等の反応溶媒と共に留去
する。 (ロ)ポリアミド酸合成後、ジカルボン酸無水物にてポ
リマー分子末端を封止し、閉環触媒とキシレン等の共沸
溶媒を投入してから、加熱昇温し熱イミド化を行う。イ
ミド化によって生じる生成水は、キシレン等との共沸留
去および窒素気流により留去する。 (ハ)ジアミンおよびテトラカルボン酸二無水物を一括
投入し短時間撹拌後、ジカルボン酸無水物、閉環触媒、
共沸溶媒を投入し、加熱昇温を開始する。ポリアミド酸
の合成、ポリマー分子末端の封止および生成水の共沸留
去を同時に進行させながら、熱イミド化を行う。
The heat-resistant adhesive sheet of the present invention can be obtained by synthesizing a polyimide varnish by the following method, and then coating and drying one or both sides of the polyimide support substrate. The polyimide varnish for coating is manufactured as follows. (1) After synthesizing the polyamic acid, the terminal of the polymer molecule is sealed with a dicarboxylic anhydride and chemically imidized with an imidizing agent. The obtained reaction mixture is discharged into a poor solvent such as methanol under strong stirring, and the precipitate is dried. Method for dissolving this polyimide in a solvent that dissolves it to obtain a polyimide varnish for coating (2) After synthesizing the polyamic acid, the polymer molecule ends are sealed with dicarboxylic anhydride, and thermal imidization is performed by heating. The obtained reaction mixture is discharged into a poor solvent such as methanol under strong stirring, and the precipitate is dried. Method of dissolving this polyimide in a solvent that dissolves it to obtain a polyimide varnish for coating. (3) After synthesizing the polyamic acid, the polymer molecule ends are sealed with dicarboxylic anhydride, and thermal imidization is performed by heating. Method of Directly Using the Obtained Reaction Mixture as a Polyimide Varnish for Coating Further, the above method (3) can be carried out by the following method. (A) After the synthesis of the polyamic acid, the polymer molecule ends are sealed with a dicarboxylic anhydride, a ring-closing catalyst is charged, thermal imidization is performed, and the water generated by the imidization is converted into N-methyl-2-pyrrolidone by a nitrogen stream. And the reaction solvent. (Ii) After the synthesis of the polyamic acid, the polymer molecule ends are sealed with dicarboxylic anhydride, a ring-closing catalyst and an azeotropic solvent such as xylene are charged, and then heated to heat to perform thermal imidization. The water produced by the imidization is distilled off azeotropically with xylene and the like and by a nitrogen stream. (C) Diamine and tetracarboxylic dianhydride are added at once and stirred for a short time, then dicarboxylic anhydride, ring closing catalyst,
An azeotropic solvent is charged, and heating and heating are started. Thermal imidization is carried out while simultaneously proceeding with synthesis of polyamic acid, sealing of polymer molecule terminals and azeotropic distillation of produced water.

【0021】芳香族テトラカルボン酸二無水物の使用量
は、APB1モル当り0.8〜0.999モル用い、芳
香族ジカルボン酸無水物の使用量は、APBとテトラカ
ルボン酸二無水物のモル数差をaとしたとき、2a以上
8a以下のモル数を用いるのが好ましい。
The amount of the aromatic tetracarboxylic dianhydride used is 0.8 to 0.999 mol per mole of APB, and the amount of the aromatic dicarboxylic anhydride used is the mole of APB and tetracarboxylic dianhydride. Assuming that the number difference is a, it is preferable to use a mole number of 2a or more and 8a or less.

【0022】芳香族テトラカルボン酸二無水物の使用モ
ル数が、APB1モルに対して0.8モル未満では重合
体の重合度が充分でなく、耐熱性がそこなわれ、また
0.999モル越えると、重合体末端の封止が困難とな
り、低温/低圧での接着が不可能となる。また、芳香族
ジカルボン酸無水物の使用量が前記の2aモル未満で
は、重合体の末端封止が充分に行えず低温/低圧で接着
が困難となり、また8aモルを越えると耐熱性が損なわ
れる。
When the number of moles of the aromatic tetracarboxylic dianhydride used is less than 0.8 mol per 1 mol of APB, the degree of polymerization of the polymer is not sufficient, heat resistance is impaired, and 0.999 mol If it exceeds, it becomes difficult to seal the terminal of the polymer, and bonding at low temperature / low pressure becomes impossible. If the amount of the aromatic dicarboxylic acid anhydride is less than 2 mol, the terminal end of the polymer cannot be sufficiently sealed, making it difficult to adhere at low temperature / low pressure, and if it exceeds 8 mol, the heat resistance is impaired. .

【0023】特に好ましくは、芳香族テトラカルボン酸
二無水物の使用量は、APB1モルあたり,0.9〜
0.997モルであり、また芳香族ジカルボン酸無水物
の使用量は、APBと芳香族テトラカルボン酸二無水物
の使用モル数差をaとしたとき3a〜6aモルである。
また、ポリアミド酸合成時の濃度は、通常15〜35%
の範囲で行う。特に好ましくは20〜30%である。
Particularly preferably, the amount of the aromatic tetracarboxylic dianhydride used is 0.9 to 0.9 mol per mole of APB.
0.997 mol, and the amount of the aromatic dicarboxylic anhydride used is 3a to 6a mol when the difference in the number of moles between the APB and the aromatic tetracarboxylic dianhydride is a.
The concentration during the synthesis of polyamic acid is usually 15 to 35%.
Perform within the range. Particularly preferably, it is 20 to 30%.

【0024】ポリアミド酸の合成を完了せしめてから反
応器中でのアミド化に移行する場合に於ては、ポリアミ
ド酸を製造する際の反応温度は、通常60℃以下、好ま
しくは30℃以上50℃以下である。また反応圧力は特
に限定されず、常圧で充分実施できる。反応時間は使用
するテトラカルボン酸二無水物の種類、溶剤の種類及び
反応温度等により異なり、通常ポリアミド酸の生成が完
了するに充分な時間反応させる。通常、2〜24時間の
反応を行う。かくして対数粘度(測定はN−メチル−2
−ピロリドン中、0.5%濃度、35℃)が0.3〜
1.5dl/gのポリアミド酸が得られる。
In the case of shifting to amidation in a reactor after completing the synthesis of the polyamic acid, the reaction temperature for producing the polyamic acid is usually 60 ° C. or lower, preferably 30 ° C. to 50 ° C. It is below ° C. The reaction pressure is not particularly limited, and the reaction can be carried out at normal pressure. The reaction time varies depending on the type of tetracarboxylic dianhydride to be used, the type of solvent, the reaction temperature and the like, and the reaction is usually carried out for a time sufficient to complete the formation of the polyamic acid. Usually, the reaction is carried out for 2 to 24 hours. The logarithmic viscosity (measured by N-methyl-2
-0.5% concentration in pyrrolidone, 35 ° C) 0.3 to
1.5 dl / g of polyamic acid is obtained.

【0025】得られたポリアミド酸に対し化学イミド化
を行う場合、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香
酸等の酸無水物を化学イミド化剤として用いる。この場
合のイミド化反応においては、必要に応じてピリジン、
γ−ピコリン、イミダゾール、トリエチルアミン等の第
3級アミン類を塩基触媒として加えても問題無い。化学
的にイミド化を行う場合の反応温度は通常、室温から2
00℃以下であるが、好ましくは室温より100℃以下
であり、反応時間は0.5時間から24時間で充分であ
る。
When the obtained polyamic acid is chemically imidized, an acid anhydride such as acetic anhydride, propionic anhydride or benzoic anhydride is used as a chemical imidizing agent. In the imidation reaction in this case, if necessary, pyridine,
There is no problem even if tertiary amines such as γ-picoline, imidazole and triethylamine are added as a base catalyst. The reaction temperature when chemically imidizing is usually from room temperature to 2
The temperature is not higher than 00 ° C., preferably not higher than room temperature and not higher than 100 ° C., and a reaction time of 0.5 to 24 hours is sufficient.

【0026】一方得られたポリアミド酸に対し熱イミド
化を行う場合、通常必須成分として、ピリジン、γ−ピ
コリン、イミダゾール、トリエチルアミン等の第3級ア
ミン類を閉環触媒として加える。またこの熱イミド化に
よって生じる生成水は、トルエン、キシレン等の共沸溶
媒を反応系に加えて共沸による系外除去を行うか、N−
メチル−2−ピロリドン等の反応溶媒と共に窒素気流に
より系外に除去する方法のどちらを採っても問題無い。
この場合の反応温度は、80℃からその時に使用する溶
媒の還流温度までで行えるが、好ましくは100℃から
200℃が良い。特に好ましい反応温度は150℃から
195℃である。また反応時間については、1時間から
24時間の範囲で良い。特に好ましくは3時間から10
時間である。
On the other hand, when the obtained polyamic acid is subjected to thermal imidization, a tertiary amine such as pyridine, γ-picoline, imidazole, triethylamine or the like is usually added as an essential component as a ring closing catalyst. The water produced by this thermal imidization is removed from the system by azeotropic removal by adding an azeotropic solvent such as toluene or xylene to the reaction system, or
It does not matter which of the two methods is employed to remove the reaction solvent such as methyl-2-pyrrolidone out of the system together with a nitrogen gas stream.
The reaction temperature in this case can be from 80 ° C. to the reflux temperature of the solvent used at that time, but is preferably from 100 ° C. to 200 ° C. Particularly preferred reaction temperatures are from 150 ° C to 195 ° C. The reaction time may be in the range of 1 hour to 24 hours. Particularly preferably 3 hours to 10 hours
Time.

【0027】上記はポリアミド酸の合成を行った後イミ
ド化に移行する事を前提とした方法であるが、前記
(ハ)に示したように、ジアミンおよびテトラカルボン
酸二無水物を反応溶媒中に懸濁または溶解させた後、ポ
リアミド酸の合成が充分に進行していない段階でジカル
ボン酸無水物、閉環触媒および共沸溶媒を全て投入し、
加熱昇温を開始する方法を採ってもなんら問題無い。こ
の場合の反応温度や反応時間は上記同様150〜195
℃、3〜10時間が好ましい。この方法の場合には、ポ
リアミド酸の合成、ポリマー分子末端の封止および生成
水の共沸留去が同時に進行する。
The above method is based on the premise that the polyamic acid is synthesized and then the process proceeds to imidization. However, as shown in (c) above, diamine and tetracarboxylic dianhydride are reacted in a reaction solvent. After suspending or dissolving in, at the stage where the synthesis of polyamic acid has not sufficiently proceeded, all the dicarboxylic anhydride, ring-closing catalyst and azeotropic solvent are charged,
There is no problem even if the method of starting heating and heating is adopted. The reaction temperature and reaction time in this case are 150 to 195 as described above.
C. for 3 to 10 hours is preferred. In the case of this method, synthesis of polyamic acid, capping of polymer molecule terminals, and azeotropic distillation of produced water proceed simultaneously.

【0028】なお、反応器中にて化学イミド化もしくは
熱イミド化を行う際、イミド化を完結させずポリアミド
酸を0.1〜10%の範囲で残す方法を採ってもなんら
差し支えない。残存するポリアミド酸は、ポリイミド支
持基材にコーティング後の乾燥工程において安定なポリ
イミドに変化するためである。ポリアミド酸を少量残す
事によって、銅箔との密着性やポリイミドワニスの保存
安定性(耐析出性)を増す事が可能である。また耐析出
性を増す方法としてテトラカルボン酸二無水物を2種類
あるいは数種類用いる事による共重合の方法を採る事が
有効である。
When chemical imidization or thermal imidization is carried out in a reactor, a method may be employed in which imidization is not completed and polyamic acid is left in a range of 0.1 to 10%. This is because the remaining polyamic acid changes into a stable polyimide in a drying step after coating the polyimide supporting substrate. By leaving a small amount of polyamic acid, it is possible to increase the adhesion to the copper foil and the storage stability (precipitation resistance) of the polyimide varnish. As a method for increasing the precipitation resistance, it is effective to employ a copolymerization method using two or several kinds of tetracarboxylic dianhydrides.

【0029】かくして得られたポリイミドワニスを、ポ
リイミド支持基材へ片側もしくは両側にコーティングし
乾燥する事により耐熱性接着シートを製造する。接着層
が片側の片面接着シートの場合にはカバーレイフィルム
およびリードフレーム固定用テープに用いる事ができ、
一方接着層が両面の両面接着シートの場合には多層フレ
キシブル基板やリジッドフレキ用のボンドプライおよび
リード・オン・チップ用接着テープに用いる事ができ
る。ポリイミド支持基材としては、カプトン(東レ・デ
ュポン社)、アピカル(鐘淵化学)およびユーピレック
ス(宇部興産)等の市販のもののいずれを用いても差し
支えない。ポリイミド支持基材の厚みは、通常5〜20
0ミクロンの物を使用する。5ミクロン未満ではフィル
ムが切れやすいため取扱いにくく、一方耐折性を要求さ
れるカバーレイフィルム用途には200ミクロンを越え
るフィルムは適さない。特に好ましくは10〜50ミク
ロンである。また、乾燥後の接着層との接着性を増すた
め、ポリイミド支持基材に対するマット処理等の物理処
理やプラズマあるいはコロナ等の電気処理を施してあっ
てもなんら差し支えない。
The polyimide varnish thus obtained is coated on one or both sides of a polyimide support substrate and dried to produce a heat-resistant adhesive sheet. When the adhesive layer is a single-sided adhesive sheet on one side, it can be used for coverlay film and lead frame fixing tape,
On the other hand, when the adhesive layer is a double-sided adhesive sheet on both sides, it can be used for a multilayer flexible substrate, a bond ply for rigid flex and an adhesive tape for lead-on-chip. As the polyimide support substrate, any of commercially available polyimides such as Kapton (Dupont Toray), Apical (Kanebuchi Chemical), and Upilex (Ube Industries) may be used. The thickness of the polyimide support substrate is usually 5 to 20.
Use a 0 micron object. If the thickness is less than 5 microns, the film is liable to be cut and is difficult to handle. On the other hand, a film exceeding 200 microns is not suitable for a coverlay film requiring folding resistance. Particularly preferably, it is 10 to 50 microns. Further, in order to increase the adhesiveness with the adhesive layer after drying, a physical treatment such as a mat treatment or an electric treatment such as plasma or corona may be applied to the polyimide support substrate.

【0030】ポリイミドワニスのコーティングおよび乾
燥は、通常のコータードライヤーによるコーティングお
よび初期乾燥とその後の本ドライヤーによる乾燥を組み
合わせて行う。コータードライヤーとしては、一般的に
用いられるコンマコーター、ダイコーター、三本リバー
ス、ワイヤバーのどれを用いても差し支えない。コーテ
ィング方式にもよるが、最終的な接着層の厚みを1〜5
0ミクロンとするため、コータードライヤーにて樹脂分
が15〜30%のポリイミドワニスを10〜400ミク
ロンの厚みでコーティングし、90〜180℃の温度範
囲で段階的に乾燥温度を上げて3〜15分の時間をかけ
て初期乾燥を行い、接着層の残溶媒を25%以下にして
巻取時のタックがない状態まで乾燥しながら巻取る。。
The coating and drying of the polyimide varnish is performed by a combination of coating and initial drying with a usual coater drier and subsequent drying with the present drier. As the coater dryer, any of a commonly used comma coater, die coater, three-reverse, and wire bar may be used. Depending on the coating method, the final thickness of the adhesive layer should be 1 to 5
In order to obtain 0 micron, a polyimide varnish having a resin content of 15 to 30% is coated with a thickness of 10 to 400 micron by a coater drier, and the drying temperature is gradually increased within a temperature range of 90 to 180 ° C. to 3 to 15 μm. The initial drying is performed over a period of minutes, the remaining solvent in the adhesive layer is reduced to 25% or less, and the film is wound while drying until there is no tack at the time of winding. .

【0031】次に本ドライヤーにて段階的に温度を上げ
て、接着層を形成するポリイミドのガラス転移温度以上
の温度にて最終的に乾燥を行い、接着層の残溶媒を1.
0%以下とする。本願の接着シートの接着層を形成する
ポリイミドのガラス転移温度は175〜200℃である
ため、最終温度として240℃程度の乾燥温度をとる事
もできるが、乾燥効率を上げるため通常は最終温度が2
50〜400℃となるように乾燥する。この場合、補助
的に遠赤外ヒーターを用いてもなんら性能的に問題な
い。
Next, the temperature is gradually increased by the present dryer, and finally drying is performed at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature of the polyimide forming the adhesive layer.
0% or less. Since the glass transition temperature of the polyimide forming the adhesive layer of the adhesive sheet of the present application is 175 to 200 ° C., a final drying temperature of about 240 ° C. can be used. 2
Dry to 50 to 400 ° C. In this case, there is no problem in performance even if the far-infrared heater is additionally used.

【0032】両面接着シートを製造する場合は、コータ
ードライヤーにて第一面側にコーティングおよび初期乾
燥後、同様の方法にて第二面側にコーティングし初期乾
燥を行い、本ドライヤーにて高温下両面同時に最終乾燥
を行う。第二面側にコーティング後これを初期乾燥して
ゆく際、溶媒が10〜30%程度残っておりタックしや
すい性質を有する第一面側の接着層が、コータードライ
ヤー内のロールに必然的に接触するので、ロールにくっ
ついてしまうという問題が生じやすい。特に、第一面側
の接着層の残溶媒が多く、かつ第二面側の乾燥を高温で
長時間行う場合にこの問題が生じやすいことを本発明者
らは見いだした。これに対する対策として、1)第一面
側コーティング後の乾燥を充分に行う事、および2)第
二面側コーティング後の乾燥を、残溶媒が25%以下と
なる範囲で比較的低温短時間で行う。このタックによる
トラブルに対するもう一つの対策として、第二面側コー
ティング後、両面ともロールに非接触にて連続乾燥する
方法をとる事ができる。すなわち一つの方法は、第二面
側にコーティング後、フローティングドライヤーにて上
下からの風量をバランスさせ、コーティングされたポリ
イミド支持基材を浮かした状態で搬送しながら90〜1
80℃の温度範囲で連続乾燥する方法であり、もう一つ
は、巻出巻取装置を3〜5mの間隔で設置し、この間に
乾燥炉を設置した乾燥装置を準備し、巻出装置に付属し
ているコーター部により第二面側にコーティング後、フ
ィルムがたるまないようテンションをかけながら連続的
に巻き取り、90〜180℃の温度範囲で連続乾燥する
方法である。
When a double-sided adhesive sheet is produced, the first side is coated with a coater drier and dried initially, then the second side is coated and dried in the same manner as described above, and then dried at a high temperature with this drier. Final drying is performed on both sides simultaneously. When the coating is dried on the second side after the initial drying, the adhesive layer on the first side, which has the property that the solvent remains about 10 to 30% and is easy to tack, is inevitably formed on the roll in the coater dryer. Because of the contact, the problem of sticking to the roll is likely to occur. In particular, the present inventors have found that this problem is likely to occur when a large amount of solvent remains in the adhesive layer on the first surface side and the drying on the second surface side is performed at a high temperature for a long time. As countermeasures against this, 1) sufficiently dry after coating on the first side, and 2) dry after coating on the second side at a relatively low temperature for a short time as long as the residual solvent is 25% or less. Do. As another countermeasure against the problem caused by the tack, a method can be adopted in which after coating on the second side, both sides are continuously dried without contacting the roll. That is, in one method, after coating on the second surface side, the air flow from above and below is balanced by a floating dryer, and 90 to 1
This is a method of continuous drying at a temperature range of 80 ° C. Another method is to set up an unwinding winding device at an interval of 3 to 5 m, prepare a drying device in which a drying furnace is installed during this time, and install the unwinding device in the unwinding device. After coating on the second surface side with an attached coater, the film is continuously wound up while applying tension so as not to sag, and is continuously dried in a temperature range of 90 to 180 ° C.

【0033】次に本ドライヤーについては、片面接着層
タイプの製品の製造にあたっては、ロールにポリイミド
支持基材側を接触させながら搬送する通常の乾燥炉を用
いる事ができ、250〜400℃の温度範囲で乾燥す
る。一方、両面接着層タイプの製品の製造にあたって
は、上記タックの問題から前記2タイプの両面非接触乾
燥炉を用い250〜400℃の温度範囲で乾燥すること
が好ましい。
For the production of the single-sided adhesive layer type product, a conventional drying furnace that conveys the roll while contacting the polyimide support base material side with the roll can be used at a temperature of 250 to 400 ° C. Dry in range. On the other hand, in the production of a double-sided adhesive layer type product, it is preferable to dry at a temperature in the range of 250 to 400 ° C. using the two types of double-sided non-contact drying furnace in view of the tack problem described above.

【0034】本発明においては、ポリマー分子末端が封
止されかつ既にイミド化されたポリイミドワニスをコー
ティング用ワニスとして用いるが、従来一般的には、ポ
リアミド酸ワニスをポリイミド支持基材上にコーティン
グし乾燥時にイミド化を行う方法である。この二つの方
法の最終製品にした際の性能の大きな差異について以下
に述べる。
In the present invention, a polyimide varnish in which the polymer molecular ends are capped and imidized is used as a coating varnish. Conventionally, a polyamide acid varnish is generally coated on a polyimide support substrate and dried. This is a method of sometimes imidizing. The major differences in performance between the two methods in the final product are described below.

【0035】ポリアミド酸ワニスをコーティング用ワニ
スとする場合、コーティング後、ポリイミド支持基材上
で乾燥を行いながらイミド化および溶媒の除去を行う
が、通常の閉環によるイミド化反応の他に若干の架橋が
起こり、製品をフレキシブル配線板に熱プレスする際の
接着層のフロー性が充分でなくなり、その結果接着強度
が不十分になることを我々は見いだした。また、ポリイ
ミド支持基材上でイミド化を行う際に、イミド化によっ
て生じる生成水のため発泡しやすく表面欠陥が発生しや
すい。その結果、ラミネート後の半田耐熱が不十分とな
りやすいことを見いだした。
When a polyamic acid varnish is used as a coating varnish, after coating, imidization and solvent removal are carried out while drying on a polyimide support substrate. We have found that when the product is hot pressed onto a flexible wiring board, the flowability of the adhesive layer is not sufficient, resulting in insufficient adhesive strength. In addition, when imidization is performed on a polyimide supporting substrate, water is easily generated due to the water generated by the imidization, and surface defects are likely to occur. As a result, they have found that the solder heat resistance after lamination tends to be insufficient.

【0036】一方本発明の、ポリマー分子末端が封止さ
れかつ既にイミド化されたポリイミドワニスをコーティ
ング用ワニスとして用いる場合には、単に溶媒を除去す
るだけの単純な工程となり、前記のポリアミド酸ワニス
の場合にみられる架橋や表面欠陥の問題が無いため、フ
レキシブル配線板への接着力やラミネート後の半田耐熱
が極めて良好である。
On the other hand, when the polyimide varnish of the present invention, in which the polymer molecular terminals are sealed and imidized, is used as a coating varnish, a simple step of simply removing the solvent is required, and the above-mentioned polyamic acid varnish is used. In this case, there is no problem of cross-linking or surface defects, so that the adhesive strength to the flexible wiring board and the solder heat resistance after lamination are extremely good.

【0037】本発明による耐熱性接着シートは、通常の
電熱プレスを用いてフレキシブル配線板とラミネート
し、銅箔光沢面との接着強度として0.7kg/cm以
上の接着力を得る事ができる。この0.7kg/cmと
云う値自体、従来の方法ではなかなか得ることが困難と
されていた値であるが、本発明に従えば、0.7kg/
cmが容易に得られるどころか、後記実施例に示すよう
に、0.9kg/cm、場合によっては1.1kg/c
mと云う驚くべき高い接着強度をも得ることが可能なの
である。
The heat-resistant adhesive sheet according to the present invention can be laminated with a flexible wiring board by using a usual electric heat press, and can obtain an adhesive strength of 0.7 kg / cm or more as a bonding strength with a copper foil glossy surface. The value of 0.7 kg / cm itself is a value that has been difficult to obtain by the conventional method, but according to the present invention, it is 0.7 kg / cm.
In addition to the fact that cm is easily obtained, as shown in the examples below, 0.9 kg / cm and sometimes 1.1 kg / c
It is possible to obtain a surprisingly high adhesive strength of m.

【0038】プレス温度は、接着層を形成する熱可塑性
ポリイミドのガラス転移温度が175〜200℃と低い
ため、210〜230℃で十分なのである。なお、23
0℃以上でもラミネート後の製品は性能的に問題無い
が、性能的に優れているため、フレキシブル配線板にカ
バーレイフィルムをラミネートする際よく用いられるシ
リコンクッション材の繰り返し使用最高温度が230℃
であるため、プレス最高温度を230℃としている(2
30℃を越える温度でプレスを行うと、その寿命が極端
に低下する)。本発明による耐熱性接着シートはこの汎
用シリコンクッション材の繰り返し使用可能な温度範囲
でラミネートできる点で優れているのである。
The pressing temperature is sufficient at 210 to 230 ° C. since the glass transition temperature of the thermoplastic polyimide forming the adhesive layer is as low as 175 to 200 ° C. Note that 23
Although the product after lamination has no problem in performance even at 0 ° C or more, since the performance is excellent, the maximum repeated use temperature of the silicone cushion material often used when laminating a coverlay film on a flexible wiring board is 230 ° C.
Therefore, the maximum press temperature is set to 230 ° C. (2
Pressing at a temperature exceeding 30 ° C. significantly shortens the service life). The heat-resistant adhesive sheet according to the present invention is excellent in that it can be laminated in a temperature range in which the general-purpose silicone cushion material can be repeatedly used.

【0039】プレス圧力は20〜75kg/cm2の範
囲で通常行う。20kg/cm2未満では接着力の発現
が遅くなったり、埋め込み性が悪くなる。一方、75k
g/cm2を越える圧力ではシリコンクッション材の寿
命が短くなる。プレスは210〜230℃の所定温度到
達後2〜60分で行う。通常は、5〜20分で十分な接
着力を得る事ができる。市販の熱硬化タイプのカバーレ
イフィルムの場合には、B−ステージの接着層をプレス
時に硬化させる必要があるため比較的長時間(一時間以
上)を要するが、本発明による熱可塑性の接着層を有す
るカバーレイフィルムを含む接着シートの場合には、本
質的に融着に足る時間のみが必要であり、上記5〜20
分程度の短時間のプレスですむため生産性に優れてい
る。なお、本発明で接着層を構成するポリイミドは23
0℃における弾性率が十分小さく、例えば103 ダイン
/cm2 以下である。従って、230℃で銅箔と熱プレス
してラミネートする時、十分フローするので十分な接着
強度を得ることが出来るのである。
The pressing is usually performed at a pressure in the range of 20 to 75 kg / cm 2 . If it is less than 20 kg / cm 2 , the expression of adhesive force will be slow or the embedding property will be poor. On the other hand, 75k
At a pressure exceeding g / cm 2 , the life of the silicone cushion material is shortened. Pressing is performed 2 to 60 minutes after reaching a predetermined temperature of 210 to 230 ° C. Usually, sufficient adhesive strength can be obtained in 5 to 20 minutes. In the case of a commercially available thermosetting type coverlay film, it is necessary to cure the B-stage adhesive layer at the time of pressing, so that it takes a relatively long time (one hour or more). In the case of an adhesive sheet containing a coverlay film having the following properties, essentially only a time sufficient for fusion is required,
Excellent productivity because only a short press of about a minute is required. Incidentally, the polyimide constituting the adhesive layer in the present invention is 23
The elastic modulus at 0 ° C. is sufficiently small, for example, 10 3 dynes / cm 2 or less. Therefore, when laminating by hot pressing with a copper foil at 230 ° C., a sufficient flow can be obtained because of sufficient flow.

【0040】カバーレイフィルムをフレキシブル配線板
にラミネートする際のセット構成として、ステンレス
板、シリコンクッション材、ポリイミド離型フィルム、
カバーレイフィルム、フレキシブル配線板、ポリイミド
離型フィルム、シリコンクッション材、ステンレス板の
順にレイアップする方法が、接着強度およびラミネート
によるフレキブル配線板の寸法変化の点で優れている。
As a set configuration for laminating the coverlay film on the flexible wiring board, a stainless steel plate, a silicone cushion material, a polyimide release film,
The method of laying up a coverlay film, a flexible wiring board, a polyimide release film, a silicon cushion material, and a stainless steel plate in this order is superior in terms of adhesive strength and dimensional change of the flexible wiring board due to lamination.

【0041】ポリイミドは一般に吸湿しやすく、本願の
接着シートの接着層も同様である。本発明者らによる検
討結果では、接着シートを予備乾燥し接着層の含水量を
減ずる事により銅箔への高い接着力が発現している。そ
のため、カバーレイフィルムを前もって100〜150
℃の温度範囲で0.5〜5時間の予備乾燥した後ラミネ
ートに移行するのが好ましい。通常は120〜130
℃、0.5時間程度の乾燥で充分である。
Polyimide generally absorbs moisture easily, and so does the adhesive layer of the adhesive sheet of the present application. According to the results of studies by the present inventors, a high adhesive strength to a copper foil is exhibited by pre-drying the adhesive sheet and reducing the water content of the adhesive layer. Therefore, the coverlay film must be 100 to 150 in advance.
It is preferable to transfer to a laminate after pre-drying for 0.5 to 5 hours in a temperature range of ° C. Usually 120-130
Drying at about 0.5 ° C. for about 0.5 hour is sufficient.

【0042】[0042]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。 実施例1 撹拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器にA
PB292.2g(1.0モル)とN−メチル−2−ピ
ロリドン1802.9gを装入し、室温で窒素雰囲気下
で撹拌し溶解した。これに撹拌下ODPA308.5g
(0.995モル)を分割して加え、50℃に昇温し1
時間撹拌した。その後、無水フタル酸4.434g
(0.03モル)を加えた後、50℃でさらに2時間撹
拌をつづけた。かくして得られたポリアミド酸の対数粘
度は0.69dl/gであった(測定はN−メチル−2−
ピロリドン中、0.5%濃度、35℃で行った)。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. Example 1 A container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube was charged with A
292.2 g (1.0 mol) of PB and 1802.9 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and dissolved by stirring at room temperature under a nitrogen atmosphere. 308.5 g of ODPA under stirring
(0.995 mol) was added in portions.
Stirred for hours. Then, 4.434 g of phthalic anhydride
(0.03 mol), and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 2 hours. The logarithmic viscosity of the polyamic acid thus obtained was 0.69 dl / g (measured by N-methyl-2-
0.5% concentration in pyrrolidone at 35 ° C.).

【0043】上記のポリアミド酸溶液に、無水酢酸40
8g(4.0モル)とγ−ピコリン186.2g(2.
0モル)を滴下挿入し室温で10時間撹拌を続けた。得
られた反応混合物を10kgのメタノールに強力な撹拌
下に排出し、析出物を炉別分取した。得られた粉末状析
出物を更にメタノールで洗浄した後150℃で12時間
乾燥してポリイミド粉を556.4gを得た(収率9
8.5%)。この得られたポリイミド粉のガラス転移温
度は177℃であった(DSCによる測定)。かくして
得られたポリイミド粉500gをN−メチル−2−ピロ
リドン1500g(濃度25%)に溶解させ、コーティ
ング用ポリイミドワニスを得た。
Acetic anhydride 40 was added to the above polyamic acid solution.
8 g (4.0 mol) and 186.2 g of γ-picoline (2.
(0 mol) was added dropwise and stirring was continued at room temperature for 10 hours. The obtained reaction mixture was discharged into 10 kg of methanol under vigorous stirring, and the precipitate was separated by furnace. The obtained powdery precipitate was further washed with methanol and then dried at 150 ° C. for 12 hours to obtain 556.4 g of a polyimide powder (yield 9).
8.5%). The glass transition temperature of the obtained polyimide powder was 177 ° C. (measured by DSC). 500 g of the polyimide powder thus obtained was dissolved in 1500 g (25% concentration) of N-methyl-2-pyrrolidone to obtain a polyimide varnish for coating.

【0044】ポリイミド支持基材として、片面マット処
理された25ミクロン厚みのアピカル(鐘淵化学製)を
用い、通常のコータードライヤーにて上記のポリイミド
ワニスを連続的に約100ミクロンの厚みでコーティン
グし、段階的に温度を高くしながら乾燥を行った。90
〜140℃に約5分の滞留時間となるように乾燥させた
結果、接着層の残溶媒は約20%となった。更にこれを
本ドライヤーにて約300℃にて乾燥を行ったところ、
残溶剤は0.3%、接着層の厚みは25ミクロンであっ
た。
Using a 25-micron thick apical (manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) with a matte treatment on one side as a polyimide support substrate, the above-mentioned polyimide varnish was continuously coated to a thickness of about 100 microns with a usual coater drier. Drying was performed while increasing the temperature stepwise. 90
As a result of drying at 140140 ° C. for a residence time of about 5 minutes, the residual solvent in the adhesive layer was about 20%. Further drying this at about 300 ℃ with this dryer,
The residual solvent was 0.3%, and the thickness of the adhesive layer was 25 microns.

【0045】かくして得られたカバーレイフィルムを、
130℃にて30分乾燥後、BHY−13−T,1 Oz
銅箔(日鉱共石製)の光沢面に対しラミネートした。ラ
ミネートは、通常の電熱プレス機を用い、常温にてプレ
ス機にセット後、50kg/cm2 の圧力をかけ、設定
温度230℃にて昇温を開始し、所定温度に到達後20
分間プレスを行った。このラミネート品を評価したとこ
ろ、銅箔光沢面への接着強度は0.9kg/cm(3m
m幅、90度ピール)と極めて高いものであった。また
288℃、10秒の半田フロートテストに合格した(テ
スト方法はIPC−TM−650、2.4.13)。
The cover lay film thus obtained is
After drying at 130 ° C. for 30 minutes, BHY-13-T, 1 Oz
Laminated on the glossy surface of copper foil (manufactured by Nikko Kyoishi). Lamination is performed by using a normal electric heating press, setting the press at room temperature at normal temperature, applying a pressure of 50 kg / cm 2 , starting the temperature rise at a set temperature of 230 ° C., and after reaching a predetermined temperature, 20 minutes.
Pressed for minutes. When this laminate was evaluated, the adhesive strength to the copper foil glossy surface was 0.9 kg / cm (3 m
m width, 90 degree peel). It also passed the solder float test at 288 ° C. for 10 seconds (test method was IPC-TM-650, 2.4.13).

【0046】実施例2 撹拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器にA
PB292.2g(1.0モル)とN−メチル−2−ピ
ロリドン1802.9gを装入し、室温で窒素雰囲気下
で撹拌し溶解した。これに撹拌下ODPA308.5g
(0.995モル)を分割して加え、50℃に昇温し1
時間撹拌した。その後、無水フタル酸4.434g
(0.03モル)を加えた後、50℃でさらに2時間撹
拌をつづけた。かくして得られたポリアミド酸溶液にγ
−ピコリンを93.1g(0.1モル)装入し、窒素気
流下撹拌しながら加熱昇温した。昇温中、イミド化反応
に伴う生成水を系外に除去した。180℃昇温後5時間
熱イミド化を行い、その間も生成水および窒素気流によ
り運ばれる反応溶媒を一部系外に除去した。熱イミド化
を5時間行った後加熱を止め、撹拌下約2時間にて室温
まで冷却し、その後10時間撹拌を続けた。
Example 2 A container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube was charged with A
292.2 g (1.0 mol) of PB and 1802.9 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and dissolved by stirring at room temperature under a nitrogen atmosphere. 308.5 g of ODPA under stirring
(0.995 mol) was added in portions.
Stirred for hours. Then, 4.434 g of phthalic anhydride
(0.03 mol), and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 2 hours. Γ is added to the polyamic acid solution thus obtained.
-93.1 g (0.1 mol) of picoline was charged, and the mixture was heated and heated while stirring under a nitrogen stream. During the heating, water produced by the imidization reaction was removed from the system. After the temperature was raised to 180 ° C., thermal imidization was carried out for 5 hours, and during that time, the produced water and the reaction solvent carried by the nitrogen stream were partially removed from the system. After the thermal imidization was performed for 5 hours, the heating was stopped, the mixture was cooled to room temperature in about 2 hours with stirring, and then stirring was continued for 10 hours.

【0047】得られたポリイミドワニスの粘度は100
ポイズであった(E型粘度計、25℃)。対数粘度は
0.55dl/gであった(測定は、ポリイミドワニス
の一部をN−メチル−2−ピロリドンで希釈し、0.5
%濃度、35℃にて行った。)。またDSCによるガラ
ス転移温度は175℃であった。本実施例で得られた反
応混合物のポリイミドワニスを直接コーティング用ワニ
スとして、実施例1と同様の方法にてカバーレイフィル
ムを製造し、電熱プレス機にて銅箔光沢面と230℃で
ラミネートした。 実施例1と同様の方法にて評価を行
ったところ、接着強度は1.1kg/cmであり、半田
フロートテストにも合格した。
The viscosity of the obtained polyimide varnish is 100
Poise (E-type viscometer, 25 ° C.). The logarithmic viscosity was 0.55 dl / g (measurement was performed by diluting a part of the polyimide varnish with N-methyl-2-pyrrolidone,
% At 35 ° C. ). The glass transition temperature by DSC was 175 ° C. Using the polyimide varnish of the reaction mixture obtained in this example as a varnish for direct coating, a coverlay film was produced in the same manner as in Example 1, and laminated with a copper foil glossy surface at 230 ° C. with an electric heating press. . When evaluated by the same method as in Example 1, the adhesive strength was 1.1 kg / cm, and the solder float test was passed.

【0048】実施例3 実施例2と同様の方法にてポリマー末端を封止したポリ
アミド酸ワニスを合成した後、γ−ピコリンを93.1
g(0.1モル)およびキシレン601gを装入し、窒
素気流下撹拌しながら加熱昇温した。昇温中、イミド化
反応に伴う生成水をキシレンとの共沸物として系外に除
去した。180℃に昇温後5時間熱イミド化を行い、そ
の間に留出する生成水、キシレンおよびN−メチル−2
−ピロリドンの共沸物を系外に除去した。
Example 3 After a polyamic acid varnish having a polymer end capped was synthesized in the same manner as in Example 2, 93.1 γ-picoline was added.
g (0.1 mol) and 601 g of xylene were heated and heated while stirring under a nitrogen stream. During the temperature rise, water produced by the imidization reaction was removed from the system as an azeotrope with xylene. After the temperature was raised to 180 ° C., thermal imidization was carried out for 5 hours, during which the water distilled off, xylene and N-methyl-2 were distilled off.
-The azeotrope of pyrrolidone was removed out of the system.

【0049】本実施例で得られた反応混合物のポリイミ
ドワニスを直接コーティング用ワニスとして、実施例1
と同様の方法にてカバーレイフィルムを製造し、電熱プ
レス機にて銅箔光沢面と230℃でラミネートした。
実施例1と同様の方法にて評価を行ったところ、接着強
度は1.0kg/cmであり、半田フロートテストにも
合格した。
The polyimide varnish of the reaction mixture obtained in this example was used as a varnish for direct coating in Example 1.
A coverlay film was produced in the same manner as described above, and laminated with a copper foil glossy surface at 230 ° C. using an electric heating press.
Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the adhesive strength was 1.0 kg / cm, and passed the solder float test.

【0050】実施例4 撹拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器にA
PB292.2g(1.0モル)とN−メチル−2−ピ
ロリドン1802.9gを装入し、室温で窒素雰囲気下
で撹拌し溶解した。これに撹拌下ODPA308.5g
(0.995モル)を一括で装入し、その後30分間撹
拌した。得られた懸濁液に無水フタル酸4.434g
(0.03モル)、γ−ピコリン93.1g(0.1モ
ル)およびキシレン601gをすべて装入し、窒素気流
下撹拌しながら加熱昇温した。昇温中、イミド化反応に
伴う生成水をキシレンと共沸させながら系外に除去し
た。180℃昇温後5時間熱イミド化を行い、その間も
生成水、キシレンおよび窒素気流により運ばれる反応溶
媒を一部系外に除去した。熱イミド化を5時間行った後
加熱を止め、撹拌下約2時間にて室温まで冷却し、その
後10時間撹拌を続けた。
Example 4 A container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet was charged with A
292.2 g (1.0 mol) of PB and 1802.9 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and dissolved by stirring at room temperature under a nitrogen atmosphere. 308.5 g of ODPA under stirring
(0.995 mol) was charged all at once, followed by stirring for 30 minutes. 4.434 g of phthalic anhydride were added to the obtained suspension.
(0.03 mol), 93.1 g (0.1 mol) of γ-picoline and 601 g of xylene were all charged, and heated and heated while stirring under a nitrogen stream. During the temperature rise, water produced by the imidization reaction was removed from the system while azeotropically coexisting with xylene. After the temperature was raised to 180 ° C., thermal imidization was carried out for 5 hours, and during that time, generated water, xylene and a part of the reaction solvent carried by a nitrogen gas stream were partially removed from the system. After the thermal imidization was performed for 5 hours, the heating was stopped, the mixture was cooled to room temperature in about 2 hours with stirring, and then stirring was continued for 10 hours.

【0051】本実施例で得られた反応混合物のポリイミ
ドワニスを直接コーティング用ワニスとして、実施例1
と同様の方法にてカバーレイフィルムを製造し、電熱プ
レス機にて銅箔光沢面と230℃でラミネートした。
実施例1と同様の方法にて評価を行ったところ、接着強
度は0.9kg/cmであり、半田フロートテストにも
合格した。
The polyimide varnish of the reaction mixture obtained in this example was directly used as a coating varnish in Example 1.
A coverlay film was produced in the same manner as described above, and laminated with a copper foil glossy surface at 230 ° C. using an electric heating press.
The evaluation was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the adhesive strength was 0.9 kg / cm, and passed the solder float test.

【0052】比較例1 撹拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器にA
PB292.2g(1.0モル)とN−メチル−2−ピ
ロリドン1802.9gを装入し、室温で窒素雰囲気下
で撹拌し溶解した。これに撹拌下ODPA308.5g
(0.995モル)を分割して加え、50℃に昇温し1
時間撹拌した。その後、無水フタル酸4.434g
(0.03モル)を加えた後、50℃でさらに4時間撹
拌をつづけた。かくして得られたポリアミド酸の対数粘
度は0.69dl/gであった(測定はN−メチル−2−
ピロリドン中、0.5%濃度、35℃で行った)。この
ようにイミド化されていないワニス、すなわち、得られ
たポリアミド酸をコーティング用ワニスとして、実施例
1と同様の方法にてカバーレイフィルムを製造し、電熱
プレス機にて銅箔光沢面と230℃でラミネートした。
実施例1と同様の方法にて評価を行ったところ、半田フ
ロートテストには合格したが、接着強度は0.6kg/
cmにすぎなかった。
Comparative Example 1 A was placed in a vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube.
292.2 g (1.0 mol) of PB and 1802.9 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and dissolved by stirring at room temperature under a nitrogen atmosphere. 308.5 g of ODPA under stirring
(0.995 mol) was added in portions.
Stirred for hours. Then, 4.434 g of phthalic anhydride
(0.03 mol), and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 4 hours. The logarithmic viscosity of the polyamic acid thus obtained was 0.69 dl / g (measured by N-methyl-2-
0.5% concentration in pyrrolidone at 35 ° C.). Using the varnish not imidized in this way, that is, the obtained polyamic acid as a coating varnish, a coverlay film was produced in the same manner as in Example 1, and the copper foil glossy surface and 230 var. Laminated at ℃.
When evaluated by the same method as in Example 1, the solder float test was passed, but the adhesive strength was 0.6 kg /
cm.

【0053】比較例2 撹拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器にA
PB292.2g(1.0モル)とN−メチル−2−ピ
ロリドン1802.9gを装入し、室温で窒素雰囲気下
で撹拌し溶解した。これに撹拌下ODPA308.5g
(0.995モル)を分割して加え、50℃に昇温し4
時間撹拌した。かくして得られたポリアミド酸の対数粘
度は0.68dl/gであった(測定はN−メチル−2−
ピロリドン中、0.5%濃度、35℃で行った)。
Comparative Example 2 A was placed in a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube.
292.2 g (1.0 mol) of PB and 1802.9 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and dissolved by stirring at room temperature under a nitrogen atmosphere. 308.5 g of ODPA under stirring
(0.995 mol) was added in portions.
Stirred for hours. The logarithmic viscosity of the polyamic acid thus obtained was 0.68 dl / g (measured by N-methyl-2-
0.5% concentration in pyrrolidone at 35 ° C.).

【0054】このようにイミド化されていないワニス、
すなわち、得られたポリアミド酸をコーティング用ワニ
スとして、実施例1と同様の方法にてカバーレイフィル
ムを製造した。乾燥後、接着層の表面に発泡による表面
欠陥が見られた。電熱プレス機にて銅箔光沢面と230
℃でラミネートした。実施例1と同様の方法にて評価を
行ったところ、接着強度は0.45kg/cmと低いも
のであり、半田フロートテストにおいて膨れが生じた。
Varnish not imidized in this way,
That is, a coverlay film was produced in the same manner as in Example 1 using the obtained polyamic acid as a coating varnish. After drying, surface defects due to foaming were observed on the surface of the adhesive layer. Copper foil glossy surface with electric heating press machine and 230
Laminated at ℃. When evaluated by the same method as in Example 1, the adhesive strength was as low as 0.45 kg / cm, and swelling occurred in the solder float test.

【0055】実施例5 撹拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器にA
PB292.2g(1.0モル)とN−メチル−2−ピ
ロリドン1838.4gを装入し、室温で窒素雰囲気下
で撹拌し溶解した。これに撹拌下BTDA320.59
g(0.995モル)を分割して加え、50℃に昇温し
1時間撹拌した。その後、無水フタル酸4.434g
(0.03モル)を加えた後、50℃でさらに2時間撹
拌をつづけた。 かくして得られたポリアミド酸溶液に
γ−ピコリンを93.1g(0.1モル)装入し、窒素
気流下撹拌しながら加熱昇温した。昇温中、イミド化反
応に伴う生成水を系外に除去した。180℃昇温後5時
間熱イミド化を行い、その間も生成水および窒素気流に
より運ばれる反応溶媒を一部系外に除去した。熱イミド
化を5時間行った後加熱を止め、撹拌下約2時間にて室
温まで冷却し、その後10時間撹拌を続けた。得られた
ポリイミドワニスの粘度は60ポイズであった(E型粘
度計、25℃)。対数粘度は0.55dl/gであった
(測定は、ポリイミドワニスの一部をN−メチル−2−
ピロリドンで希釈し、0.5%濃度、35℃にて行っ
た。)。またDSCによるガラス転移温度は190℃で
あった。
Example 5 A container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet was charged with A
292.2 g (1.0 mol) of PB and 1838.4 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and dissolved by stirring at room temperature under a nitrogen atmosphere. BTDA 320.59 was added to this with stirring.
g (0.995 mol) was added in portions, the temperature was raised to 50 ° C., and the mixture was stirred for 1 hour. Then, 4.434 g of phthalic anhydride
(0.03 mol), and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 2 hours. 93.1 g (0.1 mol) of γ-picoline was charged into the polyamic acid solution thus obtained, and the mixture was heated and heated while stirring under a nitrogen stream. During the heating, water produced by the imidization reaction was removed from the system. After the temperature was raised to 180 ° C., thermal imidization was carried out for 5 hours, and during that time, the produced water and the reaction solvent carried by the nitrogen stream were partially removed from the system. After the thermal imidization was performed for 5 hours, the heating was stopped, the mixture was cooled to room temperature in about 2 hours with stirring, and then stirring was continued for 10 hours. The viscosity of the obtained polyimide varnish was 60 poise (E-type viscometer, 25 ° C.). The logarithmic viscosity was 0.55 dl / g (measurement was performed using N-methyl-2-
Dilution with pyrrolidone was carried out at 35% at a concentration of 0.5%. ). The glass transition temperature by DSC was 190 ° C.

【0056】本実施例で得られた反応混合物のポリイミ
ドワニスを直接コーティング用ワニスとして、実施例1
と同様の方法にてカバーレイフィルムを製造し、電熱プ
レス機にて銅箔光沢面と230℃でラミネートした。
実施例1と同様の方法にて評価を行ったところ、接着強
度は1.0kg/cmであり、半田フロートテストにも
合格した。
The polyimide varnish of the reaction mixture obtained in this example was directly used as a coating varnish in Example 1.
A coverlay film was produced in the same manner as described above, and laminated with a copper foil glossy surface at 230 ° C. using an electric heating press.
Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the adhesive strength was 1.0 kg / cm, and passed the solder float test.

【0057】比較例3 撹拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器にA
PB292.2g(1.0モル)とN−メチル−2−ピ
ロリドン1838.4gを装入し、室温で窒素雰囲気下
で撹拌し溶解した。これに撹拌下BTDA320.59
g(0.995モル)を分割して加え、50℃に昇温し
4時間撹拌した。得られたポリアミド酸をコーティング
用ワニスとして、実施例1と同様の方法にてカバーレイ
フィルムを製造し、電熱プレス機にて銅箔光沢面と23
0℃でラミネートした。実施例1と同様の方法にて評価
を行ったところ、半田フロートテストには合格したが、
接着強度は0.4kg/cmにすぎなかった。
Comparative Example 3 A was placed in a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube.
292.2 g (1.0 mol) of PB and 1838.4 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and dissolved by stirring at room temperature under a nitrogen atmosphere. BTDA 320.59 was added to this with stirring.
g (0.995 mol) was added in portions, the temperature was raised to 50 ° C., and the mixture was stirred for 4 hours. Using the obtained polyamic acid as a coating varnish, a coverlay film was produced in the same manner as in Example 1, and a copper foil glossy surface was produced using an electric heating press.
Laminated at 0 ° C. When evaluated by the same method as in Example 1, the solder float test was passed.
The bond strength was only 0.4 kg / cm.

【0058】実施例6 実施例2と同様の方法にてポリイミドワニスを合成し、
その反応混合物を直接コーティング用ワニスとして下記
の両面接着テープ(ボンドプライ)を製造した。すなわ
ち、両面マット処理された25ミクロンのアピカル(鐘
淵化学製)を用い、通常コータードライヤーにて第一面
側に約100ミクロンの厚みでコーティングし、段階的
に温度を高くしながら90〜130℃の温度範囲で約1
5分の滞留時間となるよう乾燥させた後、第二面側に同
じく約100ミクロンの厚みでコーティングし60〜1
20℃の温度範囲で滞留時間が約6分となるよう乾燥し
た。 更に、フローティングドライヤー中にて両面非接
触の状況下、160〜270℃の温度範囲で滞留時間が
約20分となるよう乾燥した。
Example 6 A polyimide varnish was synthesized in the same manner as in Example 2,
The reaction mixture was directly used as a coating varnish to produce the following double-sided adhesive tape (bond ply). That is, using a 25-micron apical (manufactured by Kanegafuchi Chemical Co., Ltd.) treated with a double-sided mat, usually coats the first surface side with a coater dryer to a thickness of about 100 microns, and gradually increases the temperature by 90-130. About 1 in the temperature range of ℃
After drying so as to have a residence time of 5 minutes, the second surface side is similarly coated with a thickness of about 100 μm, and
Drying was carried out in a temperature range of 20 ° C. so that the residence time was about 6 minutes. Furthermore, it dried so that residence time might be about 20 minutes in the temperature range of 160-270 degreeC under the situation of both sides non-contact in a floating dryer.

【0059】得られたボンドプライの接着層の残溶媒は
平均0.5%であった。また、接着層の厚みはそれぞれ
25ミクロンであった。かくして得られたボンドプライ
を、130℃にて30分乾燥後、ボンドプライの上下に
BHY−13−T,1 Oz 銅箔(日鉱共石製)をセット
し、銅箔の光沢面に対しラミネートした。ラミネートは
通常の電熱プレス機を用い、常温にてプレス機にセット
後50kg/cm2の圧力をかけ、設定温度230℃に
て昇温を開始し、所定温度に到達後20分間プレスを行
った。このラミネート品を評価したところ、銅箔光沢面
への接着強度は第一面側が1.0kg/cm、第二面側
が0.9kg/cmであった。
The residual solvent in the adhesive layer of the obtained bond ply was 0.5% on average. The thickness of each of the adhesive layers was 25 microns. The thus obtained bond ply is dried at 130 ° C. for 30 minutes, and BHY-13-T, 1 Oz copper foil (manufactured by Nikko Kyoishi) is set on the upper and lower sides of the bond ply, and laminated on the glossy surface of the copper foil. did. Lamination was performed using a normal electrothermal press machine, and after setting in the press machine at room temperature, a pressure of 50 kg / cm 2 was applied, the temperature was raised at a set temperature of 230 ° C, and pressing was performed for 20 minutes after reaching the predetermined temperature. . When this laminate was evaluated, the adhesive strength to the copper foil glossy surface was 1.0 kg / cm on the first surface side and 0.9 kg / cm on the second surface side.

【0060】実施例7 実施例5と同様の方法によりポリイミドワニスを合成
し、その反応混合物を直接コーティング用ワニスとし
て、実施例6と同様の方法にて両面接着テープ(ボンド
プライ)を製造した。 得られたボンドプライの接着層
の残溶媒は平均0.6%であった。また、接着層の厚み
はそれぞれ24ミクロンであった。かくして得られたボ
ンドプライを実施例6と同様の方法にてプレスを行い評
価したところ、銅箔光沢面への接着強度は第一面側、第
二面側ともに0.9kg/cmであった。
Example 7 A polyimide varnish was synthesized in the same manner as in Example 5, and the reaction mixture was directly used as a coating varnish to produce a double-sided adhesive tape (bond ply) in the same manner as in Example 6. The residual solvent in the adhesive layer of the obtained bond ply was 0.6% on average. The thickness of each of the adhesive layers was 24 microns. When the bond ply thus obtained was pressed and evaluated in the same manner as in Example 6, the adhesive strength to the glossy side of the copper foil was 0.9 kg / cm on both the first side and the second side. .

【0061】[0061]

【発明の効果】本発明の耐熱性接着シートは、熱可塑性
ポリイミド接着層とポリイミド支持基材とからなるオー
ルポリイミド耐熱性接着シートであり、接着層のガラス
転移温度が200℃以下で、かつ高温時のフロー性に特
に優れているため、低温、短時間で被着物への接着が可
能である。また、熱硬化タイプのようなB−ステージに
よるライフの問題が無く、取扱いやすい点が優れてい
る。
The heat-resistant adhesive sheet of the present invention is an all-polyimide heat-resistant adhesive sheet comprising a thermoplastic polyimide adhesive layer and a polyimide support substrate, and has a glass transition temperature of 200 ° C. or less and a high temperature. Since it is particularly excellent in flowability at the time, it can be adhered to an adherend at a low temperature in a short time. In addition, there is no problem in life due to the B-stage as in the thermosetting type, and it is excellent in that it is easy to handle.

【0062】本発明による耐熱性接着シートは、接着層
が片側の場合にはカバーレイフィルムおよびリードフレ
ーム固定用テープに、一方接着層が両面の場合には多層
フレキシブル基板やリジッドフレキ用のボンドプライお
よびリード・オン・チップ用接着テープとして極めて有
用である。
The heat-resistant adhesive sheet according to the present invention can be used for a coverlay film and a lead frame fixing tape when the adhesive layer is on one side, and for a multi-layer flexible substrate or a rigid flexible bond ply when the adhesive layer is on both sides. And it is extremely useful as an adhesive tape for lead-on-chip.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−112761(JP,A) 特開 平5−105850(JP,A) 特開 平2−272077(JP,A) 特開 昭61−291670(JP,A) 特開 昭61−143477(JP,A) 特開 平5−320339(JP,A) 特開 平5−5033(JP,A) 特開 昭57−94016(JP,A) 特開 平4−279662(JP,A) 特開 平4−198320(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C09J 7/00 - 7/04 C09J 179/08 H05K 3/28 C08G 73/10────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-5-112761 (JP, A) JP-A-5-105850 (JP, A) JP-A-2-27,077 (JP, A) JP-A-61- 291670 (JP, A) JP-A-61-143477 (JP, A) JP-A-5-320339 (JP, A) JP-A-5-5033 (JP, A) JP-A-57-94016 (JP, A) JP-A-4-279662 (JP, A) JP-A-4-198320 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C09J 7/00-7/04 C09J 179/08 H05K 3/28 C08G 73/10

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ポリマー分子末端が、 式(1)、〔化
1〕 【化1】 (式中、Zは単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基また
は芳香族基が直接または架橋員により相互に連結された
非縮合多環式芳香族基からなる群より選ばれた2価の基
を示す)で表されるジカルボン酸無水物で封止され、式
(2)、〔化2〕 【化2】 (式中、Yは、式(3)、〔化3〕であり、Xは直接結
合、−CO−または−O−を示す) 【化3】 で表される繰り返し単位を有する重合体よりなる熱可塑
性ポリイミド接着層を、ポリイミド支持基材の片側ある
いは両側に形成してなる耐熱性接着シート。
1. A polymer molecule having a terminal represented by the formula (1): (Wherein, Z is selected from the group consisting of a monocyclic aromatic group, a condensed polycyclic aromatic group, or a non-condensed polycyclic aromatic group in which aromatic groups are connected to each other directly or by a bridge member. Embedded image with a dicarboxylic anhydride represented by the following formula (2): (Wherein, Y represents the formula (3) or [Formula 3], and X represents a direct bond, -CO- or -O-). A heat-resistant adhesive sheet formed by forming a thermoplastic polyimide adhesive layer comprising a polymer having a repeating unit represented by the formula on one or both sides of a polyimide support base material.
【請求項2】 式(1)で表されるジカルボン酸無水物
が、無水フタル酸である請求項1記載の耐熱性接着シー
ト。
2. The heat-resistant adhesive sheet according to claim 1, wherein the dicarboxylic anhydride represented by the formula (1) is phthalic anhydride.
【請求項3】 そのガラス転移温度が200℃以下であ
るポリイミドを接着層とし、230℃の熱プレス時にお
いて被着体に融着させる事により接着可能なものである
請求項1記載の耐熱性接着シート。
3. The heat resistance according to claim 1, wherein polyimide having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower is used as an adhesive layer, and can be bonded by fusing to an adherend during hot pressing at 230 ° C. Adhesive sheet.
【請求項4】 230℃の熱プレスによるラミネートに
おいて、銅箔光沢面との接着強度が0.7kg/cm以
上である請求項1記載の耐熱性接着シート。
4. The heat-resistant adhesive sheet according to claim 1, wherein the adhesive strength to the glossy surface of the copper foil is 0.7 kg / cm or more in lamination by hot pressing at 230 ° C.
【請求項5】 230℃における弾性率が103 ダイン
/cm2 以下であるポリイミドを接着層とする請求項1記
載の耐熱性接着シート。
5. The heat-resistant adhesive sheet according to claim 1, wherein a polyimide having an elastic modulus at 230 ° C. of 10 3 dynes / cm 2 or less is used as the adhesive layer.
【請求項6】 ポリイミド支持基材の厚みが5〜200
ミクロンで、接着層の厚みが1〜50ミクロンである請
求項1記載の耐熱性接着シート。
6. The polyimide supporting substrate has a thickness of 5 to 200.
The heat-resistant adhesive sheet according to claim 1, wherein the adhesive layer has a thickness of 1 to 50 microns.
【請求項7】 ポリマー分子末端がジカルボン酸無水物
で封止された重合体たるポリイミドを、ポリイミド粉と
して取り出した後、これを溶解する溶媒に溶解含有させ
てなるポリイミドワニスを、ポリイミド支持基材に流延
塗布後乾燥して接着層を形成する請求項1記載の耐熱性
接着シートの製造方法。
7. A polyimide support substrate comprising a polyimide varnish obtained by taking out a polyimide as a polymer, in which the polymer molecular end is sealed with a dicarboxylic anhydride, as a polyimide powder, and then dissolving the polyimide powder in a solvent for dissolving the polyimide powder. The method for producing a heat-resistant adhesive sheet according to claim 1, wherein the adhesive layer is formed by coating and drying the composition.
【請求項8】 ポリアミド酸の末端封止およびそれにつ
づく熱イミド化を行い得られた反応混合物からなるワニ
スを、直接ポリイミド支持基材に流延塗布後乾燥して接
着層を形成する請求項1記載の耐熱性接着シートの製造
方法。
8. A varnish comprising a reaction mixture obtained by end-blocking polyamic acid and subsequently imidizing the polyamic acid, is directly applied to a polyimide support substrate, and then dried to form an adhesive layer. A method for producing the heat-resistant adhesive sheet according to the above.
【請求項9】 イミド化を完結させずポリアミド酸が
0.1〜10%の範囲で残存する反応混合物を直接ポリ
イミド支持基材に流延塗布後乾燥して接着層を形成する
請求項8記載の耐熱性接着シートの製造方法。
9. The method according to claim 8, wherein the reaction mixture in which the imidization is not completed and the polyamic acid remains in the range of 0.1 to 10% is directly cast on a polyimide support substrate and then dried to form an adhesive layer. Production method of heat-resistant adhesive sheet.
【請求項10】 ワニスをポリイミド支持基材の両面に
流延塗布後乾燥して接着層を形成する請求項7乃至9の
いずれかに記載の耐熱性両面接着シートの製造方法。
10. The method for producing a heat-resistant double-sided adhesive sheet according to claim 7, wherein a varnish is cast on both sides of the polyimide support substrate and dried to form an adhesive layer.
【請求項11】 コータードライヤーにて第一面側に流
延塗布および初期乾燥後、同様の方法にて第二面側に流
延塗布し初期乾燥を行い、その後本ドライヤーにて両面
同時に最終乾燥を行う請求項10記載の耐熱性両面接着
シートの製造方法。
11. After coating and initial drying on the first side with a coater drier, cast and apply on the second side in the same manner to perform initial drying, and then final dry both sides simultaneously with this dryer. The method for producing a heat-resistant double-sided adhesive sheet according to claim 10, wherein
【請求項12】 第二面側に流延塗布し初期乾燥する
際、第一面側の接着層がコータードライヤー内のロール
にタックする事を防ぐため、(1)第一面側の乾燥を高
温で長時間かけ残溶媒を充分に低下させた後、第二面側
の流延塗布および初期乾燥に移行し、かつ第二面側の乾
燥を比較的低温短時間で行うか、あるいは(2)第二面
側に流延塗布後、両面とも非接触にて連続乾燥する請求
項11記載の耐熱性両面接着シートの製造方法。
12. To prevent the adhesive layer on the first side from sticking to the rolls in the coater dryer when casting and drying on the second side and initial drying, (1) the first side is dried. After sufficiently reducing the residual solvent over a long period of time at a high temperature, the process proceeds to the casting and the initial drying on the second surface side, and the drying on the second surface is performed at a relatively low temperature in a short time, or (2) 12. The method for producing a heat-resistant double-sided adhesive sheet according to claim 11, wherein, after casting and application on the second side, both sides are continuously dried without contact.
【請求項13】 本ドライヤーにて両面同時に最終乾燥
を行う際、両面とも非接触にて連続乾燥する方法による
請求項11記載の耐熱性両面接着シートの製造方法。
13. The method for producing a heat-resistant double-sided adhesive sheet according to claim 11, wherein when the final drying is carried out simultaneously on both sides by the present dryer, both sides are continuously dried without contact.
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