JP3294246B2 - 共焦点顕微鏡 - Google Patents
共焦点顕微鏡Info
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- JP3294246B2 JP3294246B2 JP02531893A JP2531893A JP3294246B2 JP 3294246 B2 JP3294246 B2 JP 3294246B2 JP 02531893 A JP02531893 A JP 02531893A JP 2531893 A JP2531893 A JP 2531893A JP 3294246 B2 JP3294246 B2 JP 3294246B2
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- light
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- objective lens
- confocal microscope
- confocal
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光軸方向の分解能を向
上した共焦点顕微鏡に関するものである。
上した共焦点顕微鏡に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、加工技術の向上と共にミクロな３
次元構造の計測へのニーズが高まってきている。また、
バイオテクノロジの分野でも分子の持つ３次元構造が注
目されてきた。これらに応えるものとして、干渉顕微鏡
や共焦点顕微鏡などがある。
次元構造の計測へのニーズが高まってきている。また、
バイオテクノロジの分野でも分子の持つ３次元構造が注
目されてきた。これらに応えるものとして、干渉顕微鏡
や共焦点顕微鏡などがある。
【０００３】まず、白色光源を用いた干渉顕微鏡は、例
えば、対物レンズ内にミラウ干渉計が組み込まれてい
る。ここに光源からの白色光を照射すると、試料の表面
反射により干渉縞が発生する。これをディテクタアレイ
（カメラ）で受光する。この干渉縞が試料の表面形状に
対応しているため、演算により試料表面の３次元形状を
測定できる。また、ミラウ干渉計をＰＺＴで動かし、光
の波長（約５００ｎｍ）を越えたｎｍレベルの光軸方向
の精度を持つ。
えば、対物レンズ内にミラウ干渉計が組み込まれてい
る。ここに光源からの白色光を照射すると、試料の表面
反射により干渉縞が発生する。これをディテクタアレイ
（カメラ）で受光する。この干渉縞が試料の表面形状に
対応しているため、演算により試料表面の３次元形状を
測定できる。また、ミラウ干渉計をＰＺＴで動かし、光
の波長（約５００ｎｍ）を越えたｎｍレベルの光軸方向
の精度を持つ。
【０００４】次に、共焦点顕微鏡では、ピンポイントで
照明するために、レーザ光または非レーザ光とピンホー
ルの組み合わせを用いる。これによって測定点以外から
の散乱光を防いでいる。また、測定点以外からの光をカ
ットするために、受光器の前に空間フィルタとしてピン
ホールを設置している。測定点と同一面内にあるノイズ
光はピンホールの横に結像する。したがって、ピンホー
ルに受光されない。理論的に面内（ＸＹ）方向は通常の
光学顕微鏡に比べて１．４倍の解像度を持つ。また、光
軸方向にずれた点の光は、対物レンズによって、ピンホ
ールの前で広がる。したがって、受光される光は激減さ
れる。このように共焦点顕微鏡では、３次元空間中の１
点だけを測定できる。これによって、光軸方向に分解能
を持つことも知られている。これは、光軸上で焦点の合
った時のみ光量が増大し、ピントの外れた点では光量が
ほぼゼロとなるものであり、この時の半値全幅は約０．
５μｍである。この時、２次元走査を行えば、３次元空
間中の０．５μｍのスライス像を測定できることにな
る。また、焦点位置で光量がピークになるため、半導体
など表面を持つ試料では、光量が最大の光軸位置が試料
の表面と考えられる。したがって、複数枚のスライス像
の中で光軸方向に最大光量を与える位置を画素ごとにピ
ークサーチすることで３次元の表面形状がわかる。
照明するために、レーザ光または非レーザ光とピンホー
ルの組み合わせを用いる。これによって測定点以外から
の散乱光を防いでいる。また、測定点以外からの光をカ
ットするために、受光器の前に空間フィルタとしてピン
ホールを設置している。測定点と同一面内にあるノイズ
光はピンホールの横に結像する。したがって、ピンホー
ルに受光されない。理論的に面内（ＸＹ）方向は通常の
光学顕微鏡に比べて１．４倍の解像度を持つ。また、光
軸方向にずれた点の光は、対物レンズによって、ピンホ
ールの前で広がる。したがって、受光される光は激減さ
れる。このように共焦点顕微鏡では、３次元空間中の１
点だけを測定できる。これによって、光軸方向に分解能
を持つことも知られている。これは、光軸上で焦点の合
った時のみ光量が増大し、ピントの外れた点では光量が
ほぼゼロとなるものであり、この時の半値全幅は約０．
５μｍである。この時、２次元走査を行えば、３次元空
間中の０．５μｍのスライス像を測定できることにな
る。また、焦点位置で光量がピークになるため、半導体
など表面を持つ試料では、光量が最大の光軸位置が試料
の表面と考えられる。したがって、複数枚のスライス像
の中で光軸方向に最大光量を与える位置を画素ごとにピ
ークサーチすることで３次元の表面形状がわかる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ここで、半導体プロセ
スのパターンの微細化に伴い、レジスト厚などを測定す
るには以下のような条件が必要である。 （１）光軸方向（Ｚ）精度：ｎｍレベルの測定精度およ
び分解能。 （２）光軸方向（Ｚ）スパン：パターンの高さとして、
数μｍ以上のストローク。 （３）面内（ＸＹ）方向も高分解能が必要である。
スのパターンの微細化に伴い、レジスト厚などを測定す
るには以下のような条件が必要である。 （１）光軸方向（Ｚ）精度：ｎｍレベルの測定精度およ
び分解能。 （２）光軸方向（Ｚ）スパン：パターンの高さとして、
数μｍ以上のストローク。 （３）面内（ＸＹ）方向も高分解能が必要である。
【０００６】しかしながら、従来の共焦点顕微鏡では、
光軸方向の精度を得ることは困難である。また、干渉顕
微鏡では、光軸方向の分解能は十分であるが、面内方向
は従来の光学顕微鏡と同等であり、かつ光軸方向のスパ
ンがλ／４（λ＝６００ｎｍとして１５０ｎｍ）程度し
か得られない。
光軸方向の精度を得ることは困難である。また、干渉顕
微鏡では、光軸方向の分解能は十分であるが、面内方向
は従来の光学顕微鏡と同等であり、かつ光軸方向のスパ
ンがλ／４（λ＝６００ｎｍとして１５０ｎｍ）程度し
か得られない。
【０００７】本発明は、上記従来技術の課題を踏まえて
成されたものであり、簡単な構成で、光軸方向にｎｍレ
ベルのＺ分解能と数μｍ以上のスパンが得られ、かつ面
内方向には共焦点レベルの面内分解能を持つ共焦点顕微
鏡を提供することを目的としたものである。
成されたものであり、簡単な構成で、光軸方向にｎｍレ
ベルのＺ分解能と数μｍ以上のスパンが得られ、かつ面
内方向には共焦点レベルの面内分解能を持つ共焦点顕微
鏡を提供することを目的としたものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の構成は、ピンホール基板を回転させ、このピ
ンホール基板を通過した照射光を対物レンズを介して試
料に対して走査する共焦点用光スキャナを用いた共焦点
顕微鏡において、前記ピンホール基板と対物レンズとの
間に、前記対物レンズが前記試料に合焦の場合に前記試
料への照射光と前記試料からの反射光により干渉を生じ
る干渉計を備えた構成としたことを特徴とする。また、
前記干渉計は、前記対物レンズの平行光部分に挿入され
たビームスプリッタと反射ミラーで構成したマイケルソ
ン形干渉計、または前記対物レンズの平行光部分に挿入
された平板ミラー若しくはウェッジミラーで構成したフ
ィゾー形干渉計、または前記対物レンズの共焦点側の光
路に挿入されたビームスプリッタと第２の対物レンズお
よび反射ミラーで構成したリニック形干渉計としたこと
を特徴とする。また、前記試料と対物レンズ間の距離を
変えて得られる光軸方向の一連のデータから、最大光量
の光軸方向の位置を試料の表面とする演算を行う手段を
備えた構成としたことを特徴とする。また、最大光量の
位置の前後数点のデータからフィルタまたは回帰計算に
より、真の最大光量位置を求める演算を行う手段を備え
た構成としたことを特徴とする。
の本発明の構成は、ピンホール基板を回転させ、このピ
ンホール基板を通過した照射光を対物レンズを介して試
料に対して走査する共焦点用光スキャナを用いた共焦点
顕微鏡において、前記ピンホール基板と対物レンズとの
間に、前記対物レンズが前記試料に合焦の場合に前記試
料への照射光と前記試料からの反射光により干渉を生じ
る干渉計を備えた構成としたことを特徴とする。また、
前記干渉計は、前記対物レンズの平行光部分に挿入され
たビームスプリッタと反射ミラーで構成したマイケルソ
ン形干渉計、または前記対物レンズの平行光部分に挿入
された平板ミラー若しくはウェッジミラーで構成したフ
ィゾー形干渉計、または前記対物レンズの共焦点側の光
路に挿入されたビームスプリッタと第２の対物レンズお
よび反射ミラーで構成したリニック形干渉計としたこと
を特徴とする。また、前記試料と対物レンズ間の距離を
変えて得られる光軸方向の一連のデータから、最大光量
の光軸方向の位置を試料の表面とする演算を行う手段を
備えた構成としたことを特徴とする。また、最大光量の
位置の前後数点のデータからフィルタまたは回帰計算に
より、真の最大光量位置を求める演算を行う手段を備え
た構成としたことを特徴とする。
【０００９】
【作用】本発明によれば、共焦点系に干渉計を組み合わ
せるという簡単な構成により、共焦点顕微鏡および干渉
顕微鏡の両方の利点を兼ね備えた構成としている。
せるという簡単な構成により、共焦点顕微鏡および干渉
顕微鏡の両方の利点を兼ね備えた構成としている。
【００１０】
【実施例】以下、本発明を図面に基づいて説明する。図
１は本発明の共焦点顕微鏡の第１の実施例を示す構成図
である。図１において、１は共焦点用光スキャナであ
り、この共焦点用光スキャナ１は、例えば、ガラス基板
の片面に形成された複数のフレネルレンズが、焦点位置
を一画面分づつ半径方向に順次ずらされて形成された集
光ディスク１１１と、基板に形成された複数のピンホ−
ルが、半径方向に順次ずらされて形成されたピンホ−ル
ディスク１１２と、集光ディスク１１１とピンホ−ルデ
ィスク１１２をフレネルレンズの焦点位置にそれぞれピ
ンホ−ルが配置されるように連結するドラム１１３から
成るピンホ−ル基板１１と、集光ディスク１１１とピン
ホ−ルディスク１１２の間に設置されたビ−ムスプリッ
タ１２と、ピンホ−ル基板１１を一定速度で回転するモ
−タ１３で構成される。２はチューブレンズであり、ピ
ンホ−ルからの出射光を平行光にする。３はビームスプ
リッタであり、入射光を参照ミラー４への光と対物レン
ズ５を介して試料６への光に分離する。７は共焦点用光
スキャナ１の側方に、ピンホ−ルの像をカメラ８上に結
像できる位置と焦点距離に設置された集光レンズであ
る。
１は本発明の共焦点顕微鏡の第１の実施例を示す構成図
である。図１において、１は共焦点用光スキャナであ
り、この共焦点用光スキャナ１は、例えば、ガラス基板
の片面に形成された複数のフレネルレンズが、焦点位置
を一画面分づつ半径方向に順次ずらされて形成された集
光ディスク１１１と、基板に形成された複数のピンホ−
ルが、半径方向に順次ずらされて形成されたピンホ−ル
ディスク１１２と、集光ディスク１１１とピンホ−ルデ
ィスク１１２をフレネルレンズの焦点位置にそれぞれピ
ンホ−ルが配置されるように連結するドラム１１３から
成るピンホ−ル基板１１と、集光ディスク１１１とピン
ホ−ルディスク１１２の間に設置されたビ−ムスプリッ
タ１２と、ピンホ−ル基板１１を一定速度で回転するモ
−タ１３で構成される。２はチューブレンズであり、ピ
ンホ−ルからの出射光を平行光にする。３はビームスプ
リッタであり、入射光を参照ミラー４への光と対物レン
ズ５を介して試料６への光に分離する。７は共焦点用光
スキャナ１の側方に、ピンホ−ルの像をカメラ８上に結
像できる位置と焦点距離に設置された集光レンズであ
る。
【００１１】このような構成において、図示しないレ−
ザ光源からの出射光（レ−ザ光だけでなく白色光などで
も良い）は、共焦点用光スキャナ１に入射される。共焦
点用光スキャナ１に入射された光は、ピンホ−ル基板１
１の集光ディスク１１１上に形成されたフレネルレンズ
により集光され、ビ−ムスプリッタ１２を透過して、ピ
ンホ−ルディスク１１２上に形成されたピンホ−ルに集
光する。ピンホ−ルを通った光は、チューブレンズ２に
より平行光にされ、ビームスプリッタ３に入射され、分
岐される。一方は参照ミラー４に入射され、反射された
後、ビームスプリッタ３に戻る。他方は無限系対物レン
ズ５により、試料６上に照射される。試料６からの戻り
光は、再び無限系対物レンズ５を介して、ビームスプリ
ッタ３に入射され、参照ミラー４からの光と重ね合わさ
れ、チューブレンズ２，ピンホ−ルデイスク１１２を通
って、ビ−ムスプリッタ１２で反射され、集光レンズ７
を介して、カメラ８に試料６の像が結像される。この実
施例では、ピンホ−ル基板１１がモ−タ１３により一定
速度で回転しており、ピンホ−ル基板１１の回転によ
り、ピンホ−ルの像が試料６上を走査している。また、
ピンホ−ルディスク１１２上のピンホ−ルと試料６上の
光スポット（ピンホ−ルの像）が共焦点関係にあり、図
示しないレ−ザ光源からの入射光と試料６からの戻り光
共に、ピンホ−ルを通過するため、共焦点効果による高
い分解能を得られると共に、試料６からの戻り光は、集
光ディスク１１１を通過しないため、ピンホ−ルの径に
よって得られる共焦点の分解能を保持でき、戻り光は全
光量を受光することができる。なお、上記実施例におい
て、カメラ８は接眼レンズを付けて肉眼による観察も可
能である。
ザ光源からの出射光（レ−ザ光だけでなく白色光などで
も良い）は、共焦点用光スキャナ１に入射される。共焦
点用光スキャナ１に入射された光は、ピンホ−ル基板１
１の集光ディスク１１１上に形成されたフレネルレンズ
により集光され、ビ−ムスプリッタ１２を透過して、ピ
ンホ−ルディスク１１２上に形成されたピンホ−ルに集
光する。ピンホ−ルを通った光は、チューブレンズ２に
より平行光にされ、ビームスプリッタ３に入射され、分
岐される。一方は参照ミラー４に入射され、反射された
後、ビームスプリッタ３に戻る。他方は無限系対物レン
ズ５により、試料６上に照射される。試料６からの戻り
光は、再び無限系対物レンズ５を介して、ビームスプリ
ッタ３に入射され、参照ミラー４からの光と重ね合わさ
れ、チューブレンズ２，ピンホ−ルデイスク１１２を通
って、ビ−ムスプリッタ１２で反射され、集光レンズ７
を介して、カメラ８に試料６の像が結像される。この実
施例では、ピンホ−ル基板１１がモ−タ１３により一定
速度で回転しており、ピンホ−ル基板１１の回転によ
り、ピンホ−ルの像が試料６上を走査している。また、
ピンホ−ルディスク１１２上のピンホ−ルと試料６上の
光スポット（ピンホ−ルの像）が共焦点関係にあり、図
示しないレ−ザ光源からの入射光と試料６からの戻り光
共に、ピンホ−ルを通過するため、共焦点効果による高
い分解能を得られると共に、試料６からの戻り光は、集
光ディスク１１１を通過しないため、ピンホ−ルの径に
よって得られる共焦点の分解能を保持でき、戻り光は全
光量を受光することができる。なお、上記実施例におい
て、カメラ８は接眼レンズを付けて肉眼による観察も可
能である。
【００１２】ここで、参照ミラー４の反射率が試料６の
反射率より低い場合は、通常の共焦点系として動作す
る。また、参照ミラー４と試料６からの戻り光量が近
く、かつ試料６からの戻り光が平行光の場合は、干渉が
生じる。対物レンズ５からの戻り光が平行光となるの
は、対物レンズ５が試料６に合焦の場合のみである。つ
まり、この系では試料６にピントが合った時のみ干渉が
生じる。この時の光量を図２に示す。（ａ）図は共焦点
のみの場合で、光量のピークが試料６の表面と対応して
いる。（ｂ）図は干渉計のみの場合で、ピッチλ／４の
綺麗な波形をしているが、レーザの可干渉距離が長いた
め、表面位置はわからない。（ｃ）図は本発明によるも
ので、（ａ）図と（ｂ）図を組み合わせた形になる。こ
の場合、（ａ）図と同じように、光量のピークが試料６
の表面と対応しており、かつ先端がより微細になってい
る。したがって、光軸方向の分解能が（ａ）図より向上
する。
反射率より低い場合は、通常の共焦点系として動作す
る。また、参照ミラー４と試料６からの戻り光量が近
く、かつ試料６からの戻り光が平行光の場合は、干渉が
生じる。対物レンズ５からの戻り光が平行光となるの
は、対物レンズ５が試料６に合焦の場合のみである。つ
まり、この系では試料６にピントが合った時のみ干渉が
生じる。この時の光量を図２に示す。（ａ）図は共焦点
のみの場合で、光量のピークが試料６の表面と対応して
いる。（ｂ）図は干渉計のみの場合で、ピッチλ／４の
綺麗な波形をしているが、レーザの可干渉距離が長いた
め、表面位置はわからない。（ｃ）図は本発明によるも
ので、（ａ）図と（ｂ）図を組み合わせた形になる。こ
の場合、（ａ）図と同じように、光量のピークが試料６
の表面と対応しており、かつ先端がより微細になってい
る。したがって、光軸方向の分解能が（ａ）図より向上
する。
【００１３】また、試料の３次元形状などの３次元デー
タを得るためには、まずＺステージなどで、試料６と対
物レンズ５間の距離を変えながら、スキャナを動作さ
せ、複数の画像を得る。次に、この複数の画像の画素ご
とに光軸方向のピークサーチを行えば、最大光量位置が
その画素の表面位置を表すことになる。したがって、Ｚ
ステージのスキャン間隔の情報と最大光量位置が何枚目
の画像から得られたか、という結果から表面の凸凹の高
さを画素ごとに決めることができる。
タを得るためには、まずＺステージなどで、試料６と対
物レンズ５間の距離を変えながら、スキャナを動作さ
せ、複数の画像を得る。次に、この複数の画像の画素ご
とに光軸方向のピークサーチを行えば、最大光量位置が
その画素の表面位置を表すことになる。したがって、Ｚ
ステージのスキャン間隔の情報と最大光量位置が何枚目
の画像から得られたか、という結果から表面の凸凹の高
さを画素ごとに決めることができる。
【００１４】なお、上記実施例において、干渉形はマイ
ケルソン形だけでなく、フィゾー形やリニック形でも可
能であり、同様の効果を得られる。また、マイケルソン
形やフィゾー形において、参照ミラーとして平板ミラー
を使用する場合、くさび形の断面を持ったウェッジタイ
プの方がミラーの内部干渉を減少できる。
ケルソン形だけでなく、フィゾー形やリニック形でも可
能であり、同様の効果を得られる。また、マイケルソン
形やフィゾー形において、参照ミラーとして平板ミラー
を使用する場合、くさび形の断面を持ったウェッジタイ
プの方がミラーの内部干渉を減少できる。
【００１５】また、上記実施例においては、ビームスプ
リッタ１２−ビームスプリッタ３を用いて、直線偏光で
干渉させていたが、偏光ビームスプリッタ−λ／４板−
ビームスプリッタ３を用いた構成として、円偏光で干渉
させる構成としても良い。
リッタ１２−ビームスプリッタ３を用いて、直線偏光で
干渉させていたが、偏光ビームスプリッタ−λ／４板−
ビームスプリッタ３を用いた構成として、円偏光で干渉
させる構成としても良い。
【００１６】また、上記実施例において、表面位置を決
めるには、単純な光軸方向のピークサーチだけでなく、
その近傍の数点のデータから回帰計算をすれば、より正
確な表面位置を計算できる。なお、回帰としてはｎ次回
帰やｓｉｎ回帰が有効である。また、測定データ中にノ
イズが重なると、ピーク位置に誤差が含まれることにな
る。この場合も、ピークサーチだけでなく、デジタルフ
ィルタによるローパスフィルタ演算を行うことにより、
精度を向上できる。
めるには、単純な光軸方向のピークサーチだけでなく、
その近傍の数点のデータから回帰計算をすれば、より正
確な表面位置を計算できる。なお、回帰としてはｎ次回
帰やｓｉｎ回帰が有効である。また、測定データ中にノ
イズが重なると、ピーク位置に誤差が含まれることにな
る。この場合も、ピークサーチだけでなく、デジタルフ
ィルタによるローパスフィルタ演算を行うことにより、
精度を向上できる。
【００１７】
【発明の効果】以上、実施例と共に具体的に説明したよ
うに、本発明によれば、共焦点系に干渉計を組み合わせ
るという簡単な構成で、別途干渉の状態を調整すること
なくＸＹＺの３次元とも高分解能な共焦点顕微鏡を実現
できる。
うに、本発明によれば、共焦点系に干渉計を組み合わせ
るという簡単な構成で、別途干渉の状態を調整すること
なくＸＹＺの３次元とも高分解能な共焦点顕微鏡を実現
できる。
【図１】本発明の共焦点顕微鏡の一実施例を示す構成図
である。
である。
【図２】光軸位置と光量の関係を示す図である。
１ 共焦点用光スキャナ ３ ビームスプリッタ ４ 参照ミラー ５ 対物レンズ ６ 試料
Claims (4)
- 【請求項１】ピンホール基板を回転させ、このピンホー
ル基板を通過した照射光を対物レンズを介して試料に対
して走査する共焦点用光スキャナを用いた共焦点顕微鏡
において、 前記ピンホール基板と対物レンズとの間に、前記対物レ
ンズが前記試料に合焦の場合に前記試料への照射光と前
記試料からの反射光により干渉を生じる干渉計を備えた
構成としたことを特徴とする共焦点顕微鏡。 - 【請求項２】請求項１記載の共焦点顕微鏡において、 前記干渉計は、前記対物レンズの平行光部分に挿入され
たビームスプリッタと反射ミラーで構成したマイケルソ
ン形干渉計、または前記対物レンズの平行光部分に挿入
された平板ミラー若しくはウェッジミラーで構成したフ
ィゾー形干渉計、または前記対物レンズの共焦点側の光
路に挿入されたビームスプリッタと第２の対物レンズお
よび反射ミラーで構成したリニック形干渉計としたこと
を特徴とする共焦点顕微鏡。 - 【請求項３】請求項１記載の共焦点顕微鏡において、 前記試料と対物レンズ間の距離を変えて得られる光軸方
向の一連のデータから、最大光量の光軸方向の位置を試
料の表面とする演算を行う手段を備えた構成としたこと
を特徴とする共焦点顕微鏡。 - 【請求項４】請求項３記載の共焦点顕微鏡において、 最大光量の位置の前後数点のデータからフィルタまたは
回帰計算により、真の最大光量位置を求める演算を行う
手段を備えた構成としたことを特徴とする共焦点顕微
鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02531893A JP3294246B2 (ja) | 1993-02-15 | 1993-02-15 | 共焦点顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02531893A JP3294246B2 (ja) | 1993-02-15 | 1993-02-15 | 共焦点顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06242380A JPH06242380A (ja) | 1994-09-02 |
| JP3294246B2 true JP3294246B2 (ja) | 2002-06-24 |
Family
ID=12162646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02531893A Expired - Lifetime JP3294246B2 (ja) | 1993-02-15 | 1993-02-15 | 共焦点顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3294246B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2919776B2 (ja) * | 1995-08-28 | 1999-07-19 | 横河電機株式会社 | 共焦点顕微鏡 |
| WO2003107064A1 (ja) * | 2002-06-01 | 2003-12-24 | オリンパス光学工業株式会社 | 共焦点顕微鏡及び、この共焦点顕微鏡による測定方法 |
| JP2009008393A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Kowa Co | 光画像計測装置 |
| US8275226B2 (en) | 2008-12-09 | 2012-09-25 | Spectral Applied Research Ltd. | Multi-mode fiber optically coupling a radiation source module to a multi-focal confocal microscope |
| US7973940B2 (en) * | 2008-12-11 | 2011-07-05 | Kowa Company Ltd. | Optical object measurement apparatus |
| US8670178B2 (en) | 2009-12-08 | 2014-03-11 | Spectral Applied Research Inc. | Imaging distal end of multimode fiber |
-
1993
- 1993-02-15 JP JP02531893A patent/JP3294246B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06242380A (ja) | 1994-09-02 |
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