JP3289736B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
Semiconductor integrated circuitInfo
- Publication number
- JP3289736B2 JP3289736B2 JP25073392A JP25073392A JP3289736B2 JP 3289736 B2 JP3289736 B2 JP 3289736B2 JP 25073392 A JP25073392 A JP 25073392A JP 25073392 A JP25073392 A JP 25073392A JP 3289736 B2 JP3289736 B2 JP 3289736B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- input
- block
- integrated circuit
- semiconductor integrated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 18
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 35
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 8
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 8
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000006386 memory function Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 210000002569 neuron Anatomy 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路に係
り、特に、ほとんど同一の回路パターンで様々な論理機
能を実現できる新しいカスタムLSIを提供するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a new custom LSI which can realize various logic functions with almost the same circuit pattern.
【0002】[0002]
【発明の背景】半導体集積回路は、トランジスタの微細
化の進展とともに年々集積度が向上している。集積度の
向上とともに1チップで実現できる論理LSIの機能が
飛躍的に大きくなっている。BACKGROUND OF THE INVENTION The degree of integration of semiconductor integrated circuits is improving year by year with the progress of miniaturization of transistors. With the improvement in the degree of integration, the function of a logic LSI that can be realized on one chip has been dramatically increased.
【0003】その結果、32ビットや64ビットのマイ
クロプロセッサが開発され、様々な産業機器や民生機器
に搭載され非常に高度な制御が行われている。しかしな
がら、マイクロプロセッサのような汎用のチップをそれ
ぞれの目的に応じてプログラムすることにより、所定の
制御を行う方法は、一般に処理速度が遅くなるという欠
点をもつ。As a result, 32-bit and 64-bit microprocessors have been developed, and are mounted on various industrial and consumer devices to perform very sophisticated control. However, a method of performing a predetermined control by programming a general-purpose chip such as a microprocessor according to each purpose has a disadvantage that the processing speed is generally slow.
【0004】そこで、それぞれの応用目的に合致した専
用のLSIチップを開発し、各システムに組み込むいわ
ゆるカスタムLSIが重要となるが、専用チップの開発
には多大の時間と費用がかかり、急速に進展する世の中
のニーズには十分には応じられていないのが現状であ
る。Therefore, it is important to develop a dedicated LSI chip suitable for each application purpose and to incorporate what is called a custom LSI chip into each system. However, the development of a dedicated chip requires a great deal of time and cost, and is rapidly progressing. At present, it is not fully responding to the needs of the world.
【0005】さらに、チップを生産する半導体工場で
は、多種多様のカスタムLSI生産のために数多くのL
SIパターンの原版(レチクルと呼ぶ)を保管し、必要
に応じてステッパー(パターンの投影転写装置)にセッ
トしてLSIの生産を行うことが要求され、特にこのレ
チクルの交換に時間を要するために生産の効率が著しく
低下する等の問題が生じている。Further, in a semiconductor factory that produces chips, a large number of L
It is necessary to store an original SI pattern (called a reticle) and set it on a stepper (pattern projection transfer device) as needed to produce an LSI. In particular, it takes time to replace this reticle. There have been problems such as a significant decrease in production efficiency.
【0006】従って、できるだけ同一のレチクルを用い
て様々なカスタムLSIを生産できる技術の開発が待望
されている。[0006] Therefore, development of a technology capable of producing various custom LSIs using the same reticle as much as possible has been desired.
【0007】このようなニーズに応じるものとして、ゲ
ートアレーがある。ゲートアレーは、NMOSとPMO
Sトランジスタを各2ケづつ1組にした同一の回路ブロ
ックを多数チップ上に配置することにより構成されてい
る。そして、このトランジスタを例えば、Al等の導電
性の配線パターンによって適宜接続することにより、必
要な論理関数を実現するものである。AND,NAN
D,OR,NORといった単純な回路は比較的簡単に構
成できるが、少し高度な機能を実現しようと思うならば
数多くのトランジスタが必要となり、非常に複雑な配線
パターンの形成が要求される。例えば、簡単な3入力の
Exclusive NORを実現するだけで、38個ものトラ
ンジスタが必要となる。There is a gate array that meets such needs. Gate array is NMOS and PMO
It is configured by arranging a large number of identical circuit blocks each having two S transistors as a set on each chip. Then, the necessary logic functions are realized by appropriately connecting the transistors with a conductive wiring pattern such as Al. AND, NAN
Simple circuits such as D, OR, and NOR can be configured relatively easily, but if a slightly advanced function is to be realized, a large number of transistors are required, and the formation of a very complicated wiring pattern is required. For example, a simple three-input
Just realizing Exclusive NOR requires as many as 38 transistors.
【0008】以上の理由から、様々な論理回路構成に対
応するには、柔軟性に欠け、また、機能の集積の点から
もカスタムLSIに劣るため、最近ではあまり用いられ
なくなっている。[0008] For the above reasons, in order to cope with various logic circuit configurations, they lack flexibility and are inferior to custom LSIs in terms of integration of functions.
【0009】しかし、特殊な用途で、小数のチップしか
必要としない応用にはゲートアレー以外に対応できるも
のがないため、まだ一部では用いられている。However, for applications that require only a small number of chips for special applications, there is nothing other than a gate array that can cope with them, so they are still partially used.
【0010】しかし、必要な論理機能を実現するための
設計に時間がかかり、さらなる技術改善が待たれている
ところである。簡単に設計が行えるものには、PLA
(Programmable Logic Array)といってブール代数で表
現された関数式をそのままヒューズ等を切断してチップ
上に実現できるものもあるが、これで実現できるのは、
小規模なものに限られている。また、回路の高速動作や
信頼性保証の面でも多くの問題を有している。[0010] However, it takes time to design to realize the necessary logic functions, and further technical improvements are expected. PLA can be easily designed.
(Programmable Logic Array) can be realized on a chip by cutting a fuse etc. as it is on a function expression expressed by Boolean algebra, but this can be realized by
Limited to small ones. There are also many problems in terms of high-speed operation and reliability assurance of the circuit.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、以
上の問題点を解決するためになされたものであり、非常
に高度なカスタムLSIを簡単に提供できる半導体集積
回路を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit which can easily provide a very sophisticated custom LSI. And
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
は、複数の入力端子と、少なくとも一つの出力端子とを
有し、かつ、同一の回路構成をもった回路ブロックを複
数個配置して構成された論理回路を少なくとも一部に含
む半導体集積回路において、前記回路ブロックが、MO
S型半導体装置により構成された少なくとも2段のイン
バータを有するとともに、各ブロック毎にはそれぞれ必
要に応じて異なったパターンを有する少なくとも一層の
配線パターンが設けられ、前記配線パターンにより前記
各ブロックの出力信号が入力信号の所定の関数となるよ
うに、その関数形が規定されていることを特徴とする。A semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises a plurality of circuit blocks having a plurality of input terminals and at least one output terminal and having the same circuit configuration. In a semiconductor integrated circuit including at least a part of a configured logic circuit, the circuit block may be an MO.
In addition to having at least two stages of inverters constituted by S-type semiconductor devices, each block is provided with at least one layer of wiring patterns having different patterns as necessary, and the output of each block is provided by the wiring pattern. The function form is defined so that the signal becomes a predetermined function of the input signal.
【0013】[0013]
【作用】本発明によれば、金属配線のマスク以外はすべ
て共通のマスクで、あらゆる論理回路を構成することが
可能であり、カスタムLSIの性能を飛躍的に向上させ
ることができるものである。According to the present invention, all logic circuits can be configured with a common mask except for the metal wiring mask, and the performance of the custom LSI can be greatly improved.
【0014】[0014]
【実施例】以下実施例を図面を用いて説明する。Embodiments will be described below with reference to the drawings.
【0015】図1(a)は本発明の第1の実施例を示す
回路図である。FIG. 1A is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.
【0016】同一の回路構成をもつ6つの回路ブロック
101a〜101fが例として示されており、ブロック
間の配線102も描かれている。配線102は、例え
ば、LSIの製造工程では最後のパターンであるアルミ
ニウム配線のパターンで形成されている。Y1,Y2、Y
3はこの論理回路の出力端子である。各ブロックは、す
べて配線パターン(本例ではアルミニウムの配線パター
ン)を除いて全く同様の構造を有しており、ブロックの
構造は例えば、図1(b)に示されている。図におい
て、103はNチャネルニューロンMOSトランジスタ
(νMOS)103a、とPチャネルνMOS(103
b)とで構成されたCMOSインバータで、メインイン
バータと呼ぶ。その入力ゲート103−1,103−
2,103−3,103−4,103−5とフローティ
ングゲート103−6との間の結合容量は、それぞれC
1:C2:C3:C4:C5=2:1:2:1:1となって
いる。104、105、106は同様のνMOSインバ
ータでそれぞれインバータA,B,C,と呼ぶ。As an example, six circuit blocks 101a to 101f having the same circuit configuration are shown, and a wiring 102 between the blocks is also drawn. The wiring 102 is formed of, for example, an aluminum wiring pattern which is the last pattern in an LSI manufacturing process. Y 1 , Y 2 , Y
3 is an output terminal of this logic circuit. Each block has the same structure except for the wiring pattern (a wiring pattern of aluminum in this example), and the structure of the block is shown in FIG. 1B, for example. In the figure, reference numeral 103 denotes an N-channel neuron MOS transistor (νMOS) 103a and a P-channel νMOS (103).
b) and is referred to as a main inverter. The input gates 103-1 and 103-
2, 103-3, 103-4, 103-5 and floating gate 103-6 have a coupling capacitance of C
1: C 2: C 3: C 4: C 5 = 2: 1: 2: 1: and 1 lead. Numerals 104, 105, and 106 denote similar νMOS inverters, and are called inverters A, B, and C, respectively.
【0017】インバータAでは入力ゲート104−1,
104−2,104−3,104−4,104−5,1
04−6とフローティングゲート104−7の間の結合
容量は、それぞれC1:C2:C3:C4:C5:C6:=
2:1:1:1:1:1となっており、これはインバー
タB,Cについても全く同様である。インバータA,
B,Cをメインインバータ103に信号を与えるものと
して、プレインバータと呼ぶ。In the inverter A, the input gates 104-1,
104-2, 104-3, 104-4, 104-5, 1
The coupling capacitance between the transistor 04-6 and the floating gate 104-7 is respectively C 1 : C 2 : C 3 : C 4 : C 5 : C 6 : =
2: 1: 1: 1: 1: 1, and the same applies to the inverters B and C. Inverter A,
B and C which provide signals to the main inverter 103 are called pre-inverters.
【0018】107は通常のCMOSインバータであ
り、メインインバータ103の出力Y’を反転して出力
信号Yを出している。Reference numeral 107 denotes a normal CMOS inverter, which outputs an output signal Y by inverting the output Y 'of the main inverter 103.
【0019】この回路ブロックは、2つの入力X1,X2
に対し、1つの信号Yを出力する回路となっている。Y
は、 Y=f(X1,X2) (1) として、2ビットのバイナリ入力X1,X2に対し特定の
ブール関数の演算を行った結果が出力される。ブール関
数の形は、プレインバータの入力信号A1〜A4,B1〜
B4,C1〜C4の各端子をVDDあるいはVSSにつなぐこ
とにより指定できる。つまり、これらの入力端子の接続
状況を決めるアルミニウムの配線パターンのみで関数形
が決められるのである。実際、図1(b)の回路では、
2入力の信号X1,X2に対する16種類すべてのブール
関数が実現できる。This circuit block has two inputs X 1 and X 2
In contrast, a circuit that outputs one signal Y is provided. Y
Y = f (X 1 , X 2 ) (1) As a result, a result obtained by performing a specific Boolean function operation on the 2-bit binary inputs X 1 and X 2 is output. The form of the Boolean function is based on the input signals A 1 to A 4 , B 1 to
It can be specified by connecting each terminal of B 4 and C 1 to C 4 to V DD or V SS . That is, the function form is determined only by the aluminum wiring pattern that determines the connection status of these input terminals. In fact, in the circuit of FIG.
All 16 types of Boolean functions for the two-input signals X 1 and X 2 can be realized.
【0020】図1(b)の回路の動作を説明するため
に、まず最初にνMOSの構造と動作原理について説明
する。図2(a)は4入力のNチャネルνMOSトラン
ジスタ(N−νMOS)の断面構造の一例を示したもの
であり、201は例えばP型のシリコン基板、202,
203はN+ 拡散層で形成されたソース及びドレイン、
204はソース・ドレイン間のチャネル領域205上に
設けられたゲート絶縁膜(例えばSiO2 膜)206は
電気的に絶縁され電位的にフローティングの状態にある
フローティングゲート電極、207は例えばSiO2 等
の絶縁膜、208a,208b,208c,208dは
入力ゲートで電極である。図2(b)はνMOS動作を
解析するためにさらに簡略化した図面である。各入力ゲ
ート電極とフローティングゲート間の容量結合係数を図
の様にC1 ,C2 ,C3 ,C4 ,フローティングゲート
とシリコン基板間の容量結合係数をC0 とすると、フロ
ーティングゲートの電位φF は次式で与えられる。 φF =(1/CTOT )(C1 V1 +C2 V2 +C3 V3 +C4 V4 ) 但し、CTOT ≡C0 +C1 +C2 +C3 +C4 V1 ,V2 ,V3 ,V4 はそれぞれ入力ゲート208
a,208b,208c,208dに印加されている電
圧であり、シリコン基板の電位は0V、すなわちアース
されているとした。In order to explain the operation of the circuit shown in FIG. 1B, first, the structure and operation principle of the νMOS will be described. FIG. 2A shows an example of a cross-sectional structure of a 4-input N-channel νMOS transistor (N-νMOS).
203 is a source and a drain formed of an N + diffusion layer,
204 denotes a gate insulating film provided on the channel region 205 between the source and drain (e.g. SiO 2 film) 206 is electrically insulated from the floating gate electrode in a state of potential floating, 207, for example of SiO 2 or the like The insulating films 208a, 208b, 208c and 208d are input gates and electrodes. FIG. 2B is a diagram further simplified for analyzing the νMOS operation. Assuming that the capacitance coupling coefficient between each input gate electrode and the floating gate is C 1 , C 2 , C 3 , C 4 as shown in the figure, and the capacitance coupling coefficient between the floating gate and the silicon substrate is C 0 , the potential φ of the floating gate F is given by the following equation. φ F = (1 / C TOT ) (C 1 V 1 + C 2 V 2 + C 3 V 3 + C 4 V 4 ) where C TOT ≡C 0 + C 1 + C 2 + C 3 + C 4 V 1 , V 2 , V 3 , V 4 are input gates 208 respectively.
a, 208b, 208c, 208d, and the potential of the silicon substrate is assumed to be 0 V, that is, grounded.
【0021】今、ソース202の電位を0Vとする。即
ちすべての電極の電位をソース基準として測定した値と
する。そうすれば、図2に示したνMOSは、フローテ
ィングゲート206を通常のゲート電極とみなせば通常
のNチャネルMOSトランジスタと同じであり、そのゲ
ート電位φF が閾値(VTH * )より大となるとソース2
02,ドレイン203間の領域205に電子のチャネル
(Nチャネル)が形成され、ソース・ドレイン間が電気
的に接続される。即ち、 (1/CTOT )(C1 V1 +C2 V2 +C3 V3 +C4 V4 )>VTH* の条件が満たされたときνMOSは導通(ON)するの
である。Now, the potential of the source 202 is set to 0V. That is, a value measured with the potentials of all the electrodes as a source reference is used. Then, the νMOS shown in FIG. 2 is the same as a normal N-channel MOS transistor if floating gate 206 is regarded as a normal gate electrode, and its gate potential φ F becomes larger than threshold value (V TH * ). Source 2
An electron channel (N-channel) is formed in a region 205 between the second and the drain 203, and the source and the drain are electrically connected. That is, when the condition of (1 / C TOT ) (C 1 V 1 + C 2 V 2 + C 3 V 3 + C 4 V 4 )> V TH * is satisfied, the νMOS conducts (ON).
【0022】以上はNチャネルνMOSトランジスタに
ついての説明であるが、図2(a)においてソース20
2,ドレイン203及び基板201をすべて反対導電型
にしたデバイスも存在する。即ち、基板はN型であり、
ソース・ドレインがP+ 拡散層で形成されたνMOSで
あり、これをPチャネルMOSトランジスタ(P−νM
OS)と呼ぶ。The above is the description of the N-channel νMOS transistor. In FIG.
2. There is also a device in which the drain 203 and the substrate 201 are all of the opposite conductivity type. That is, the substrate is N-type,
The source / drain is a νMOS formed of a P + diffusion layer, which is a P-channel MOS transistor (P-νM
OS).
【0023】図1(a)において、例えば、ブロック1
01dにおいては、ブロック内においてプレインバータ
の入力が図1(c)に示されるように配線されており、In FIG. 1A, for example, block 1
In the case of 01d, the input of the pre-inverter is wired in the block as shown in FIG.
【0024】[0024]
【数1】 すなわち、X1,X2の排他的論理和の否定(EXCLU
SIVE NOR)を計算する回路となっている。(Equation 1) That is, the exclusive OR of X 1 and X 2 is negated (EXCLU).
SIVE NOR).
【0025】次に、図1(c)の回路の動作について説
明する。今、プレインバータAのフローティングゲート
104−7の電位φFを計算すると、 φF =(C1X2+C2X1+C3A1+C4A2+C5A3+C6A4)/CTOT =(VDD/7)(2X2+X1+A1+A2+A3+A4) (3) となる。ただし、簡単のためC0《CTOTとしてC0は無
視した。Next, the operation of the circuit shown in FIG. 1C will be described. Now, when the potential φ F of the floating gate 104-7 of the pre-inverter A is calculated, φ F = (C 1 X 2 + C 2 X 1 + C 3 A 1 + C 4 A 2 + C 5 A 3 + C 6 A 4 ) / C TOT = (V DD / 7) (2X 2 + X 1 + A 1 + A 2 + A 3 + A 4 ) (3) However, for simplicity, C 0 was ignored because C 0 << C TOT .
【0026】A1=A2=A3=VDD, V4=0だから、
(3)式は、 となり、φFを(X1,X2)の組み合わせに対してプロ
ットすると図1(d)の直線の108の如くになる。図
において閾値ライン109はインバータの反転電圧を示
す線であり、すべてのインバータに対し(1/2)VDD
に設定してある。つまり、インバータAは、(X1,
X2)=(0,0)の入力に対しては反転せず、VDDを
出力するが、(0,1),(1,0),(1,1)の入
力に対しては反転して出力が0となる。そして、この出
力は、メインインバータの入力ゲート103−3に入力
されている。Since A 1 = A 2 = A 3 = V DD and V 4 = 0,
Equation (3) is When plotting φ F with respect to the combination of (X 1 , X 2 ), it becomes like a straight line 108 in FIG. 1D. In the figure, a threshold line 109 is a line indicating the inversion voltage of the inverter, and (1/2) V DD is applied to all the inverters.
Is set to That is, the inverter A has (X 1 ,
X 2 ) = (0,0) is not inverted and V DD is output, but is inverted for inputs (0,1), (1,0) and (1,1). And the output becomes 0. This output is input to the input gate 103-3 of the main inverter.
【0027】同様の考察をインバータB,Cについても
行い、メインインバータのフローティングゲート103
−6の電位φFを(X1,X2)の組み合わせに対して示
したのが、図1(e)であり、図にはインバータA,
B,Cの出力の影響が明示されている。この図より、メ
インインバータが反転するのは(X1,X2)=(0,
0)と(1,1)のときのみであり、このときY’=
0,Y=1となる。すなわち、同回路はXNORとなっ
ているのである。Similar considerations are made for the inverters B and C, and the floating gate 103 of the main inverter is
FIG. 1E shows the potential φ F of −6 for the combination of (X 1 , X 2 ), and FIG.
The effects of the outputs of B and C are clearly shown. According to this figure, the main inverter is inverted at (X 1 , X 2 ) = (0,
0) and (1, 1), and then Y ′ =
0, Y = 1. That is, the circuit is XNOR.
【0028】同様に、図1(b)の回路は、A1〜A4等
をVDDもしくはVSSに接続することにより、あらゆるブ
ール関数を実現することができる。例えば、AND,O
R,NAND,NOR,EXCLUSIVE NOR,
EXCLUSIVE OR,INHIBIT等の回路を
実現するための接続のやり方を表1に示す。Similarly, the circuit of FIG. 1B can realize any Boolean function by connecting A 1 to A 4 and the like to V DD or V SS . For example, AND, O
R, NAND, NOR, EXCLUSIVE NOR,
Table 1 shows connection methods for realizing circuits such as EXCLUSIVE OR and INHIBIT.
【0029】INHIBITとは、禁止ゲートと呼ばれ
る関数であり、X2=0では出力は常に0となり、X2=
1ならばX1に対しインバータとして働く回路である。
この回路を実現するためのメインインバータのφFの変
化を示したのが図1(f)である。INHIBIT is a function called an inhibit gate. When X 2 = 0, the output is always 0, and X 2 =
To 1, then X 1 is a circuit which acts as an inverter.
Shown changes in phi F of the main inverter for realizing this circuit is shown in FIG 1 (f).
【0030】図1(a)の各ブロックについて所定の結
線を行った一例を論理記号で示したのが図1(g)であ
る。各ブロック内の結線を変えるだけでいかなる論理関
数も表現できることは明かである。FIG. 1 (g) shows an example in which predetermined connections are made for each block in FIG. 1 (a) by using logical symbols. Obviously, any logical function can be expressed simply by changing the connections in each block.
【0031】本発明によれば、LSIはAl配線を行う
までは、全て同じマスク(レチクル)を用いて試作して
おき、Alパターンのみを特定の機能に対応したものを
用いればよいので、丁度ゲートアレーと同様に論理回路
が製作できる。しかしながら、ゲートアレーのように単
体のトランジスタを組み合わせるのではなく、図1
(b)の基本回路を用いているため、同一の構成ブロッ
クで、2入力X1,X2に対するあらゆるブール関数を実
現することができ、回路設計も極めて簡単になる。ま
た、それぞれのブロックに機能を指定する配線も、図1
(c)に示した如く例えばゲート電極104−3,10
4−4,104−5,104−6がポリシリコンででき
ているとすると、その各々のコンタクトをいくつVDDと
VSSにつなぐかを決めるだけでよく、非常に単純な一層
のAl配線で実現できる。もちろん、2層以上の金属配
線を用いてもよいことは言うまでもない。この場合は、
特に、ブロック間の配線102の自由度が増え、さらに
論理回路の構成がやりやすくなる。According to the present invention, all the LSIs are prototyped using the same mask (reticle) until Al wiring is performed, and only the Al pattern corresponding to a specific function may be used. A logic circuit can be manufactured similarly to the gate array. However, instead of combining single transistors as in a gate array, FIG.
Since the basic circuit of (b) is used, all the Boolean functions for the two inputs X 1 and X 2 can be realized with the same constituent blocks, and the circuit design becomes extremely simple. Also, the wiring for designating the function for each block is shown in FIG.
For example, as shown in FIG.
Assuming that 4-4, 104-5, 104-6 are made of polysilicon, it is only necessary to determine how many of the respective contacts are connected to V DD and V SS. realizable. Of course, it goes without saying that two or more layers of metal wiring may be used. in this case,
In particular, the degree of freedom of the wiring 102 between the blocks increases, and the configuration of the logic circuit becomes easier.
【0032】なお、図1(b)の回路では、通常のイン
バータ107を設けているが、これは必ずしも必要では
なく、省略してもよい。あるいはさらに、一段以上を追
加してもよい。こうすれば、必要に応じてファンアウト
を大きく取ることができる。あるいは図1(h)に示す
ように何段かのインバータ107’,107’’等をそ
れぞれ追加して、各々の出力を取り出せるようにしても
よい。このとき、107’,107’’の出力トランジ
スタを大きくしておけば大きなファンアウトが得られ、
必要に応じて出力線を選べばよい。また、正転あるいは
反転出力を任意に選ぶこともできて、論理設計の自由度
がさらに増大する。Although the normal inverter 107 is provided in the circuit shown in FIG. 1B, this is not always necessary and may be omitted. Alternatively, one or more stages may be added. In this way, a large fan-out can be obtained if necessary. Alternatively, as shown in FIG. 1 (h), several stages of inverters 107 ′, 107 ″ and the like may be added so as to extract the respective outputs. At this time, if the output transistors 107 'and 107''are made large, a large fan-out can be obtained.
The output line can be selected as needed. In addition, the forward output or the inverted output can be arbitrarily selected, and the degree of freedom in logic design is further increased.
【0033】また、出力段に例えば、図1(i)に示す
ようにフリップフロップをつけてもよいことはいうまで
もない。It goes without saying that the output stage may be provided with, for example, a flip-flop as shown in FIG.
【0034】インバータA,B,C等に関しても、さら
に一段以上の通常のインバータを介してからメインイン
バータに入力してやってもよい。Regarding the inverters A, B, C, etc., the signals may be input to the main inverter via one or more ordinary inverters.
【0035】また、フローティングゲートは常にフロー
ティングである必要はなく、スイッチを介して適宜VDD
またはVSS、あるいはその他の電位に接続してもよい。[0035] In addition, the floating gate need not be always floating, as appropriate V DD via a switch
Alternatively, it may be connected to V SS or another potential.
【0036】また、回路全体をクロックと同期して動作
させてもよいことはいうまでもない。It goes without saying that the whole circuit may be operated in synchronization with the clock.
【0037】また、A1〜A4の4個の入力ゲートは2個
の入力ゲートA1’,A2’に置き代え、それぞれの結合
容量C3’,C4’を、 C3’:C4’=1:2 と選んでもよい。ただし、このときはC3’+C4’=C
3+C4+C5+C6としておく。そうすれば、2つのコン
タクトホールをVSSまたはVDDにつなぐことにより同様
の結果を得ることができる。The four input gates A 1 to A 4 are replaced with two input gates A 1 ′ and A 2 ′, and the respective coupling capacitances C 3 ′ and C 4 ′ are represented by C 3 ′: C 4 '= 1: 2 may be selected. However, at this time, C 3 ′ + C 4 ′ = C
3 + C 4 + C 5 + C 6 . A similar result can be obtained by connecting the two contact holes to VSS or VDD .
【0038】本発明の第2の実施例を図3(a)に示
す。FIG. 3A shows a second embodiment of the present invention.
【0039】第1の実施例と異なるのは、基本ブロック
の入力がX1,X2,X3の3ビット入力となっている点
である。例えば、プレインバータAについて入力X1,
X2,X3,A1,A2,A3,A4とフローティングゲート
のあいだの結合容量をC1,C2,C3,C4,C5,C6,
C7とするとC1=C2=C3=C4=C5=C6=C7となっ
ている。The difference from the first embodiment is that the input of the basic block is a 3-bit input of X 1 , X 2 and X 3 . For example, input X 1 ,
The coupling capacitances between X 2 , X 3 , A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and the floating gate are represented by C 1 , C 2 , C 3 , C 4 , C 5 , C 6 ,
When C 7 has a C 1 = C 2 = C 3 = C 4 = C 5 = C 6 = C 7.
【0040】これは、その他のプレインバータB,Cに
ついても同様である。メインインバータについては、入
力ゲート容量は上から順に1:1:1:2:1:1とな
っている。The same applies to the other pre-inverters B and C. As for the main inverter, the input gate capacitance is 1: 1: 1: 2: 1: 1 from the top.
【0041】さて、図3(a)にしめしたようにA1〜
A4,B1〜B4,C1〜C4が接続されているとする。プ
レインバータAのφFとX1,X2,X3の関係を図3
(b)に示す。[0041] Now, A 1 ~ As shown in FIG. 3 (a)
And A 4, B 1 ~B 4, C 1 ~C 4 are connected. FIG. 3 shows the relationship between φ F of the pre-inverter A and X 1 , X 2 , and X 3 .
It is shown in (b).
【0042】X1,X2,X3の結合容量は全て同じだか
ら、φFの値はこの3つうち、1の入力がいくらあるか
だけで決まることになる。すなわち、プレインバータA
は、1の数が2以上になったとき反転して出力が0とな
る。同様の考察をすると、プレインバータBの出力は常
に1(VDD)、プレインバータCの出力は常に0であ
る。従って、メインインバータのφFは図3(c)のよ
うになり、入力中の1の数が1個もしくは3個のときの
みインバータが反転し、Y’=0、すなわち、Y=0と
なる。つまり、 Y=X1+X2+X3 すなわち、YはX1,X2,X3の3入力の排他的論理和
(EXCLUSIVEOR)となっている。Since the coupling capacitances of X 1 , X 2 , and X 3 are all the same, the value of φ F is determined only by the number of inputs of one of the three. That is, the pre-inverter A
Is inverted when the number of 1s becomes 2 or more, and the output becomes 0. In the same consideration, the output of the pre-inverter B is always 1 (V DD ), and the output of the pre-inverter C is always 0. Therefore, the φ F of the main inverter is as shown in FIG. 3C, and the inverter is inverted only when the number of 1s in the input is one or three, and Y ′ = 0, that is, Y = 0. . That is, Y = X 1 + X 2 + X 3, that is, Y is an exclusive logical sum (EXCLUSIVEOR) of three inputs X 1 , X 2 , and X 3 .
【0043】従来の回路では、40個のトランジスタが
必要だったが、10個で実現されている。つまり、従来
のゲートアレーで実現すれば極めて複雑な回路となるも
のが、非常に簡単に実現されているのである。これは本
発明の大きな利点である。In the conventional circuit, 40 transistors were required, but this is realized by 10 transistors. That is, an extremely complicated circuit realized by a conventional gate array is realized very easily. This is a great advantage of the present invention.
【0044】図3(a)の回路は3入力の信号に対し、
対称な全ての関数16を表現できる回路となっている。The circuit shown in FIG. 3A operates on three input signals.
This is a circuit that can express all symmetric functions 16.
【0045】また、図3(d)に示したように、
X1’,X2’,X3’の3入力に対し、入力信号をイン
バータを通して入力するか否かをやはりアルミニウムの
パターンで選択できるようにしてやると、同じ回路で対
称な関数が全ての他に、一部非対称な関数も含め、12
8関数が表現できる回路となり、更に自由度が増える。Also, as shown in FIG.
For the three inputs X 1 ′, X 2 ′, and X 3 ′, whether or not the input signal is input through an inverter can also be selected using an aluminum pattern. And 12 including some asymmetric functions
The circuit can express eight functions, and the degree of freedom is further increased.
【0046】また、図3(a)と同じ回路の入力を例え
ば、図3(e)のようにX1,X2には同じ信号X1’を
入力してやると、これは図1(b)と同じ2入力
X1’,X2’に関する全てのブール関数を実現できるこ
とになる。When the same circuit X 1 ′ is input to X 1 and X 2 as shown in FIG. 3E, for example, as shown in FIG. All Boolean functions for the two inputs X 1 ′ and X 2 ′ can be realized.
【0047】すなわち、図3(a)のブロックを用いれ
ば、3入力の全ての対称関数及び2入力のすべての関数
に対応できる極めてフレキシブルなブロックとなる。That is, if the block shown in FIG. 3A is used, it becomes a very flexible block which can support all symmetric functions of three inputs and all functions of two inputs.
【0048】以上の実施例は、3入力の場合であるが、
もっと多入力のブロックを用意してもよいことはいうま
でもない。The above embodiment is for the case of three inputs.
It goes without saying that a block with more inputs may be prepared.
【0049】例えば、8入力の対称関数512個全てを
表現できる回路は、プレインバータ9段とメインインバ
ータ1段の同様の回路で構成できる。この回路は、図3
(d)と同様に、入力段に入力の反転かどうかを選べる
ようにしてやれば、おない同じブロックで131,07
2個の関数が表現できる。For example, a circuit capable of expressing all 512 8-input symmetric functions can be constituted by a similar circuit having nine stages of pre-inverters and one stage of main inverter. This circuit is shown in FIG.
As in the case of (d), if the input stage is made to be able to select whether or not the input is inverted, 131,07 in the same block that does not exist.
Two functions can be expressed.
【0050】また、図3(e)と同様に、2入力と4入
力を束ねて、それぞれ1入力としてやれば、3入力の全
ての関数を表現できる回路としても使える。Also, as in FIG. 3E, if two inputs and four inputs are bundled and each of them is made one input, it can be used as a circuit capable of expressing all functions of three inputs.
【0051】本発明により、カスタムLSIが非常に簡
単に構成することが可能となり、論理回路の構成を飛躍
的に発展させることができた。According to the present invention, a custom LSI can be configured very easily, and the configuration of a logic circuit can be greatly improved.
【0052】本実施例では、ランダムロジック回路の構
成のみを述べたが、回路の一部において、出力を入力段
にフィードバックし、メモリ機能を持たせるような配線
を形成してもよいことは言うまでもない。In this embodiment, only the configuration of the random logic circuit has been described. However, it is needless to say that a part of the circuit may be formed with a wiring which feeds back an output to an input stage and has a memory function. No.
【0053】また、RAMのパターンを同じチップ上に
設けてメモリ機能を追加してもよいし、汎用のマイクロ
プロセッサを同一チップ上に集積してもよい。Further, a RAM pattern may be provided on the same chip to add a memory function, or a general-purpose microprocessor may be integrated on the same chip.
【0054】いくつかのブロックを未配線としておき、
機能テストの後、欠陥等で働かないブロックのスペアと
して置き代えてもよい。これは論理回路におけるRED
UNDANCYによるチップ救済の概念であり、これま
でメモリでしか実現できなかったものである。REDU
NDANCY救済が論理回路でも実現した画期的な発明
である。With some blocks left unwired,
After the function test, a block that does not work due to a defect or the like may be replaced as a spare. This is the RED in the logic circuit
This is a concept of chip rescue by UNDANCY, which has been realized only with a memory until now. REDU
This is an epoch-making invention in which NDANCY rescue is realized by a logic circuit.
【0055】また、図1(b)、図3(a)等の回路ブ
ロックは、全てが全く同じパターンで構成されている必
要はない。基本的な回路構成が共通しておればよいこと
はいうまでもない。必要に応じ出力段にはサイズの大き
なトランジスタで構成されたブロックを配置するなどし
てもよい。Further, the circuit blocks shown in FIGS. 1B and 3A do not need to be all formed in exactly the same pattern. It goes without saying that the basic circuit configuration should be common. If necessary, a block composed of large-sized transistors may be arranged in the output stage.
【0056】[0056]
【表1】 [Table 1]
【0057】[0057]
【発明の効果】本発明によれば、金属配線のマスク以外
はすべて共通のマスクで、あらゆる論理回路を構成する
ことが可能であり、カスタムLSIの性能を飛躍的に向
上させることができる。According to the present invention, all the logic circuits can be configured with a common mask except for the metal wiring mask, and the performance of the custom LSI can be remarkably improved.
【図1】図1(a)は本発明の第1の実施例を示す回路
図である。図1(b)はブロックの構造を示す図であ
る。図1(c)はプレインバータの入力を示す図であ
る。図1(c)、図1(d)はφFを(X1,X2)の組
み合わせに対してプロットした図である。図1(e)は
メインインバータのフローティングゲート103−6の
電位φFを(X1,X2)の組み合わせに対して示した図
である。図1(f)はメインインバータのφFの変化を
示した図である。図1(g)は図1(a)の各ブロック
について所定の結線を行った一例を論理記号で示した図
である。図1(h)及び図1(i)は出力に関する変形
例を示す図である。FIG. 1A is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention. FIG. 1B is a diagram showing the structure of a block. FIG. 1C is a diagram showing the input of the pre-inverter. FIGS. 1C and 1D are diagrams in which φ F is plotted with respect to the combination of (X 1 , X 2 ). FIG. 1E is a diagram showing the potential φ F of the floating gate 103-6 of the main inverter for the combination of (X 1 , X 2 ). And 1 (f) show the subimages is a view showing a change in phi F of the main inverter. FIG. 1G is a diagram showing an example in which predetermined connections are made for each block in FIG. FIG. 1H and FIG. 1I are diagrams showing modified examples relating to output.
【図2】図2(a)は4入力のNチャネルνMOSトラ
ンジスタ(N−νMOS)の断面構造の一例を示した図
である。図2(b)はνMOS動作を解析するために図
2(a)をさらに簡略化した図である。FIG. 2A is a diagram illustrating an example of a cross-sectional structure of a 4-input N-channel νMOS transistor (N-νMOS). FIG. 2B is a further simplified diagram of FIG. 2A for analyzing the νMOS operation.
【図3】図3(a)は本発明の第2の実施例を示す図で
ある。図3(b)はプレインバータAのφFとX1,
X2,X3の関係をに示す図である。図3(c)はメイン
インバータのφFの変化を示した図である。図3(d)
及び図3(e)は回路の入力例を示す図である。FIG. 3A is a diagram showing a second embodiment of the present invention. FIG. 3B shows φ F and X 1 of the pre-inverter A,
It is a graph showing the relationships of X 2, X 3. Figure 3 (c) is a view showing a change in phi F of the main inverter. FIG. 3 (d)
FIG. 3E is a diagram showing an input example of a circuit.
101a〜101f 回路ブロック、 102 ブロック間の配線、 103a NチャネルニューロンMOSトラ
ンジスタ(νMOS)、 103b PチャネルνMOS、 103 CMOSインバータ、 103−1,103−2,103−3,103−4,1
03−5 入力ゲート、 103−6 フローティングゲート、との間の
結合容量は、それぞれC1:C2:C3:C4:C5=2:
1:2:1:1となっている。 104,105,106 νMOSインバータ、 104−1,104−2,104−3,104−4,1
04−5,104−6入力ゲート、 104−7 フローティングゲート、 107 CMOSインバータ、 201 P型のシリコン基板、 202,203 N+ 拡散層で形成されたソース及
びドレイン、 204 ゲート絶縁膜(例えばSiO
2 膜)、 205 ソース・ドレイン間のチャネル領
域、 206 電気的に絶縁され電位的にフロー
ティングの状態、 207 SiO2 等の絶縁膜、101a to 101f circuit block, 102 wiring between blocks, 103a N-channel neuron MOS transistor (νMOS), 103b P-channel νMOS, 103 CMOS inverter, 103-1, 103-2, 103-3, 103-4, 1
The coupling capacitance between the 03-5 input gate and the 103-6 floating gate is C 1 : C 2 : C 3 : C 4 : C 5 = 2:
1: 2: 1: 1. 104, 105, 106 νMOS inverters, 104-1, 104-2, 104-3, 104-4, 1
04-5, 104-6 input gate, 104-7 floating gate, 107 CMOS inverter, 201 P type silicon substrate, 202, 203 source and drain formed by N + diffusion layer, 204 gate insulating film (for example, SiO
2 film), a channel region between 205 source and drain, 206 electrically insulated potentially floating state, 207 SiO 2 or the like of the insulating film,
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 27/118 H01L 29/78 371 29/788 29/792 H03K 19/173 101 (73)特許権者 598158521 アイ・アンド・エフ株式会社 東京都文京区本郷4丁目1番4号 コス モス本郷ビル (72)発明者 柴田 直 宮城県仙台市太白区日本平5番2号 (72)発明者 大見 忠弘 宮城県仙台市青葉区米ヶ袋2の1の17の 301 (56)参考文献 特開 平3−6679(JP,A) 特開 平2−113494(JP,A) 特開 平2−281759(JP,A) 特開 平2−224190(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 27/10 H01L 21/822 H01L 21/8247 H01L 27/04 H01L 27/115 H01L 27/118 H01L 29/788 H03K 19/173 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H01L 27/118 H01L 29/78 371 29/788 29/792 H03K 19/173 101 (73) Patentee 598158521 I & F Corporation Tokyo Cosmos Hongo Building, 1-4 1-4 Hongo, Bunkyo-ku, Tokyo (72) Inventor Naoshi Shibata 5-2 Nihondaira, Taihaku-ku, Sendai, Miyagi (72) Inventor Tadahiro Omi Yonegabukuro, Aoba-ku, Sendai, Miyagi JP-A-3-6679 (JP, A) JP-A-2-113494 (JP, A) JP-A-2-281759 (JP, A) JP-A-2- 224190 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 27/10 H01L 21/822 H01L 21/8247 H01L 27/04 H01L 27/115 H01L 27/118 H01L 29/788 H03K 19/173
Claims (5)
力端子とを有し、かつ、同一の回路構成をもった回路ブ
ロックを複数個配置して構成された論理回路を少なくと
も一部に含む半導体集積回路において、前記回路ブロッ
クが、MOS型半導体装置により構成された少なくとも
2段のインバータを有するとともに、各ブロック毎には
それぞれ必要に応じて異なったパターンを有する少なく
とも一層の配線パターンが設けられ、前記配線パターン
により前記各ブロックの出力信号が入力信号の所定の関
数となるように、その関数形が規定されていることを特
徴とする半導体集積回路。1. A semiconductor having a plurality of input terminals and at least one output terminal, and at least partially including a logic circuit configured by arranging a plurality of circuit blocks having the same circuit configuration. In the integrated circuit, the circuit block has at least two stages of inverters configured by MOS type semiconductor devices, and each block is provided with at least one wiring pattern having a different pattern as needed. A semiconductor integrated circuit, wherein a function form of the block is defined so that an output signal of each block becomes a predetermined function of an input signal by the wiring pattern.
この領域内に設けられた反対導電型のソース及びドレー
ン領域を有し、前記ソース及びドレーン領域を隔てる領
域に第1の絶縁膜を介して設けられた電位的にフローテ
ィング状態にあるフローティングゲート電極を有し、前
記フローティングゲート電極と第2の絶縁膜を介して容
量結合する複数の制御ゲート電極を有するニューロンM
OSトランジスタを前記MOS型半導体装置として用い
たことを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。2. A semiconductor device having a semiconductor region of one conductivity type on a substrate,
A source and drain region of opposite conductivity type provided in this region, and a floating gate electrode in a potential floating state provided via a first insulating film in a region separating the source and drain region. Having a plurality of control gate electrodes capacitively coupled to the floating gate electrode via a second insulating film
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein an OS transistor is used as said MOS semiconductor device.
号であり、前記関数形が前記入力信号に対するすべての
可能なブール関数のいずれの関数形でも表現できるよう
前記回路ブロックが構成されていることを特徴とする請
求項1または2に記載の半導体集積回路。3. The circuit block is configured such that the input signal is a binary signal of 1 or 0, and the function form can be represented by any of all possible Boolean functions for the input signal. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein:
号であり、前記関数形が、前記入力信号に対し対称なす
べての可能なブール関数のいずれの関数形でも表現でき
るよう前記回路ブロックが構成されていることを特徴と
する請求項1または2記載の半導体集積回路。4. The circuit block is configured such that the input signal is a binary signal of 1 or 0, and the function form can be represented by any of all possible Boolean functions symmetric with respect to the input signal. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein:
0または正の整数)個の入力端子に同一の信号が入力さ
れるよう構成されたことを特徴とする請求項4記載の半
導体集積回路。5. The apparatus according to claim 4, wherein the same signal is input to 2 n (n is 0 or a positive integer) input terminals of the plurality of input terminals. Semiconductor integrated circuit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25073392A JP3289736B2 (en) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25073392A JP3289736B2 (en) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0677427A JPH0677427A (en) | 1994-03-18 |
JP3289736B2 true JP3289736B2 (en) | 2002-06-10 |
Family
ID=17212234
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25073392A Expired - Fee Related JP3289736B2 (en) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | Semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3289736B2 (en) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10224224A (en) * | 1997-02-03 | 1998-08-21 | Sunao Shibata | Semiconductor arithmetic unit |
JPH10283793A (en) * | 1997-02-06 | 1998-10-23 | Sunao Shibata | Semiconductor circuit |
JPH10260817A (en) | 1997-03-15 | 1998-09-29 | Sunao Shibata | Semiconductor arithmetic circuit, and dta processor |
JPH10257352A (en) | 1997-03-15 | 1998-09-25 | Sunao Shibata | Semiconductor arithmetic circuit |
US6150851A (en) * | 1997-06-06 | 2000-11-21 | Tadahiro Ohmi | Charge transfer amplifier circuit, voltage comparator, and sense amplifier |
JPH1196276A (en) | 1997-09-22 | 1999-04-09 | Sunao Shibata | Semiconductor arithmetic circuit |
US6242767B1 (en) | 1997-11-10 | 2001-06-05 | Lightspeed Semiconductor Corp. | Asic routing architecture |
DE60138145D1 (en) | 2000-01-07 | 2009-05-07 | Nippon Telegraph & Telephone | A functionally reconfigurable semiconductor device and integrated circuit for configuring the semiconductor device |
US6885043B2 (en) | 2002-01-18 | 2005-04-26 | Lightspeed Semiconductor Corporation | ASIC routing architecture |
-
1992
- 1992-08-26 JP JP25073392A patent/JP3289736B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0677427A (en) | 1994-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100433025B1 (en) | Semiconductor device, semiconductor circuit device, flip-flop circuit, exclusive-or circuit, multiplexer, and adder | |
JPS6114734A (en) | Manufacture of semiconductor integrated circuit device | |
JP3289736B2 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
JP2001352047A (en) | Semiconductor integrated circuit | |
US4771327A (en) | Master-slice integrated circuit having an improved arrangement of transistor elements for simplified wirings | |
US4468574A (en) | Dual gate CMOS transistor circuits having reduced electrode capacitance | |
US4992845A (en) | Semiconductor integrated circuit device having input/output buffer cells each comprising a plurality of transistor regions arranged in a single line | |
JPH0677426A (en) | Semiconductor integrated circuit | |
EP0127100A2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US4627152A (en) | Automatic layout for cascode voltage switch logic | |
US5552618A (en) | Multi-voltage-lever master-slice integrated circuit | |
US4951111A (en) | Integrated circuit device | |
EP0657937A1 (en) | An improved gate array architecture and layout for deep space applications | |
JP3651944B2 (en) | CMOS cell | |
EP0092176A2 (en) | Basic cell for integrated-circuit gate arrays | |
JPS5843904B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
JPH0562469B2 (en) | ||
JPH0371789B2 (en) | ||
US11410987B2 (en) | Chip and method for manufacturing a chip | |
JPH05167048A (en) | Gate array | |
RU2025829C1 (en) | Integrated circuit on complementary mos transistors | |
JPH06311022A (en) | Semiconductor logic circuit device | |
JPH0834427B2 (en) | Logic circuit | |
JPS63252442A (en) | Integrated circuit | |
JPH07297290A (en) | Semiconductor integrated circuit device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |