JP3285683B2 - Disk substrate cleaning equipment - Google Patents

Disk substrate cleaning equipment

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JP3285683B2
JP3285683B2 JP29881593A JP29881593A JP3285683B2 JP 3285683 B2 JP3285683 B2 JP 3285683B2 JP 29881593 A JP29881593 A JP 29881593A JP 29881593 A JP29881593 A JP 29881593A JP 3285683 B2 JP3285683 B2 JP 3285683B2
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solvent
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tank
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義明 佐藤
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスクなどのディ
スク基板表面の汚れを落とすためのディスク基板の洗浄
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for cleaning a disk substrate such as a magnetic disk for cleaning the surface of the disk substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に記録媒体として用いられる磁気デ
ィスクのようなディスク基板に対しては種々の加工がお
こなわれるが、その加工工程後に洗浄する工程が付随す
る。
2. Description of the Related Art Generally, various processes are performed on a disk substrate such as a magnetic disk used as a recording medium, and a cleaning process is added after the processing.

【0003】ところでディスク基板の洗浄として2つの
方法が知られている。1つの方法はディスク基板をいれ
たカセットケースからディスク基板のみ抜き取り、ディ
スク基板の洗浄を行なう方法である。
There are two known methods for cleaning a disk substrate. One method is to remove only the disk substrate from the cassette case in which the disk substrate is placed and to clean the disk substrate.

【0004】他の方法はディスク基板をカセットケース
に入れたまま洗浄を行なう洗浄方法である。従来のディ
スク基板の洗浄方法について後者の洗浄装置の構成を図
3および図4を参照しながら説明する。
Another method is a cleaning method in which the disk substrate is cleaned while the disk substrate is kept in a cassette case. A conventional method of cleaning a disk substrate will be described with reference to FIGS.

【0005】大きく分けて搬入コンベア1、搬出コンベ
ア2と浸漬槽3、蒸気乾燥槽4、廃液槽5、溶剤12が
入ったキャニスター缶6、ディスク基板7を入れたカセ
ットケース8を移載する搬送ハンガー9に分類構成され
る。なお、前記溶剤12にはたとえばイソプロピルアル
コール(IPA)を使用している。
[0005] There are roughly two types of conveyors: a carry-in conveyor 1, a carry-out conveyor 2, an immersion tank 3, a steam drying tank 4, a waste liquid tank 5, a canister 6 containing a solvent 12, and a cassette case 8 containing a disk substrate 7. The hanger 9 is classified and configured. The solvent 12 is, for example, isopropyl alcohol (IPA).

【0006】まず運転準備としてイソプロピルアルコー
ル(IPA)の溶剤12が入ったキャニスター缶6へ、
エアーパイプ22からエアーを通し圧送して溶剤供給パ
イプ17、フィルター14b,cを通して溶剤12を浸
漬槽3、蒸気乾燥槽4へ水位高レベルセンサー25a,
bまで注入する。
First, as a preparation for operation, a canister 6 containing a solvent 12 of isopropyl alcohol (IPA)
Air is sent through the air pipe 22 under pressure and the solvent 12 is passed through the solvent supply pipe 17 and the filters 14 b and 14 c to the immersion tank 3 and the steam drying tank 4, and the water level high level sensor 25 a,
Inject up to b.

【0007】次に底面ヒータ18と側面ヒータ19の電
源を入れ、溶剤12を加熱する。イソプロピルアルコー
ルの溶剤12は84℃が沸点であるため、底面ヒータ1
8と側面ヒータ19の温度設定を100℃〜130℃内
で行なう。溶剤12が沸騰しだしたら準備完了である。
Next, the power of the bottom heater 18 and the side heater 19 is turned on, and the solvent 12 is heated. Since the solvent 12 of isopropyl alcohol has a boiling point of 84 ° C., the bottom heater 1
8 and the side heater 19 are set within a temperature range of 100 ° C. to 130 ° C. When the solvent 12 starts boiling, the preparation is completed.

【0008】次に各槽の機能を説明する。浸漬槽3は超
音波発振子10により、ディスク基板7の汚れなどの付
着物を洗い落す。溶剤12は循環ポンプ11の動作によ
り、溶剤12の汚れを取り除くため、循環パイプ13か
らフィルター14aを通して不純物などを除去し、再び
浸漬槽3へ送り出す。運転中はその繰返しを行なう。溶
剤12の量が運転中低下すると水位低レベルセンサー2
6aが反応する。キャニスター缶6の溶剤12を自動バ
ルブ16cが開になりエアーパイプ22よりエアーを圧
送、そして自動バルブ16aが開になりフィルター14
bを通り溶剤供給パイプ17から浸漬槽3へ供給する。
水位高レベルセンサー25aが反応するまで溶剤12を
供給する。このように浸漬槽3の溶剤12の量を常に一
定に保つことができる。
Next, the function of each tank will be described. In the immersion tank 3, the ultrasonic oscillator 10 is used to wash off deposits such as dirt on the disk substrate 7. The solvent 12 is removed by the operation of the circulation pump 11 so as to remove impurities and the like from the circulation pipe 13 through the filter 14 a in order to remove dirt from the solvent 12, and is sent out to the immersion tank 3 again. The operation is repeated during operation. When the amount of the solvent 12 decreases during operation, the water level low level sensor 2
6a reacts. When the automatic valve 16c opens the solvent 12 in the canister 6 and air is supplied from the air pipe 22, the automatic valve 16a opens and the filter 14 is opened.
b, and is supplied from the solvent supply pipe 17 to the immersion tank 3.
The solvent 12 is supplied until the water level high level sensor 25a reacts. Thus, the amount of the solvent 12 in the immersion tank 3 can be always kept constant.

【0009】蒸気乾燥槽4は底面ヒータ18と側面ヒー
タ19により、溶剤12を常に蒸気炊き上げを行なって
いる。蒸気乾燥槽4の上部囲りに10℃以下の水を通し
た冷却コイル15により、凝集され液体となる。蒸気乾
燥槽4囲りに溶剤受皿20aがあり、一たん液体となっ
た溶剤12をため、溶剤注入パイプ21を通して、蒸気
乾燥槽4の底面まで送り出す。このように蒸気となった
溶剤12を冷却により、液体として溶剤12を補給す
る。しかし、溶剤12が減って水位低レベルセンサー2
6bまで低下すると、自動バルブ16cが開になり、エ
アーパイプ22によりエアーを圧送し、自動バルブ16
bが開になり、キャニスター缶6の溶剤12をフィルタ
ー14cを通り、溶剤供給パイプ17により蒸気乾燥槽
4へ送り込む。水位高レベルセンサー25bが反応する
まで供給し、常に蒸気乾燥槽4の溶剤12を一定に保つ
ことができる。
In the steam drying tank 4, the solvent 12 is always steam cooked by the bottom heater 18 and the side heater 19. The liquid is agglomerated by the cooling coil 15 in which water of 10 ° C. or less is passed around the upper part of the steam drying tank 4 to become a liquid. A solvent receiving tray 20 a is provided around the steam drying tank 4, and the solvent 12, which has become a liquid, is collected and sent out to the bottom of the steam drying tank 4 through a solvent injection pipe 21. By cooling the solvent 12 which has become a vapor as described above, the solvent 12 is supplied as a liquid. However, the solvent 12 is reduced and the water level low level sensor 2
6b, the automatic valve 16c is opened, and air is fed through the air pipe 22 to the automatic valve 16c.
When b is opened, the solvent 12 in the canister 6 passes through the filter 14c and is sent to the steam drying tank 4 through the solvent supply pipe 17. The water is supplied until the water level high level sensor 25b reacts, and the solvent 12 in the steam drying tank 4 can always be kept constant.

【0010】ディスク基板7を蒸気乾燥槽4内で蒸気リ
ンスした溶剤12は、溶剤受皿20bにためられ、自動
バルブ16eを開にして廃液パイプ23aを通して廃液
槽5にたまる。廃液になった溶剤12が水位高レベルセ
ンサー25cまでたまると、廃液搬出ポンプ24が働
き、自動バルブ16fが開になり外部へ搬出する。水位
低レベルセンサー26cが反応すると、廃液搬出ポンプ
24は停止し、自動バルブ16fは閉になる。
The solvent 12 obtained by steam-rinsing the disk substrate 7 in the steam drying tank 4 is accumulated in the solvent receiving tray 20b, and the automatic valve 16e is opened to collect in the waste liquid tank 5 through the waste liquid pipe 23a. When the waste liquid solvent 12 accumulates at the high water level sensor 25c, the waste liquid discharge pump 24 operates, the automatic valve 16f is opened, and the waste liquid is discharged to the outside. When the low water level sensor 26c reacts, the waste liquid discharge pump 24 stops and the automatic valve 16f closes.

【0011】また、槽の清掃時で、液を抜くときは、浸
漬槽3は自動バルブ16dを開にして、廃液槽5へ送り
出すか、手動バルブ33aを開にして排出パイプ32a
を通して外部へ出す。蒸気洗浄槽4は、手動バルブ33
bを開にして排出パイプ32bを通して外部へ出す。図
中27a〜cは水位レベルパイプである。
To drain the liquid during cleaning of the tank, the immersion tank 3 opens the automatic valve 16d and sends it to the waste liquid tank 5, or opens the manual valve 33a and discharges the discharge pipe 32a.
To the outside through The steam cleaning tank 4 includes a manual valve 33.
b is opened and discharged outside through the discharge pipe 32b. In the figure, 27a to 27c are water level pipes.

【0012】洗浄の手順としてディスク基板7を入れた
カセットケース8が搬入コンベア1で送られてくる。搬
送ハンガー9により搬入コンベア1にセットされたカセ
ットケース8を第1槽の浸漬槽3へ移載する。この浸漬
槽3の溶剤12の中へカセットケース8を沈め、溶剤1
2中で上下運動を繰り返す。浸漬槽3の底部に設けた超
音波発振子10の動作により、ディスク基板7に付着し
ている汚れ、ごみ、ちりなどを洗い落す。
As a cleaning procedure, a cassette case 8 containing a disk substrate 7 is sent by the carry-in conveyor 1. The cassette case 8 set on the carry-in conveyor 1 by the transport hanger 9 is transferred to the first immersion tank 3. The cassette case 8 is immersed in the solvent 12 of the immersion tank 3,
Repeat up and down movements in 2. By the operation of the ultrasonic oscillator 10 provided at the bottom of the immersion tank 3, dirt, dust, dust, and the like adhering to the disk substrate 7 are washed away.

【0013】前記浸漬槽3での洗浄が終わるとディスク
基板7とそのカセットケース8は第2槽の蒸気洗浄槽4
へ搬送コンベア9により移載し、底面ヒータ18と側面
ヒータ19で加熱することにより、槽内部の溶剤12を
炊き上げ、蒸気を発生させる。その蒸気の雰囲気内にカ
セットケース8を搬送ハンガー9で下降し、蒸気による
リンス洗浄を行なう。
When the cleaning in the immersion tank 3 is completed, the disk substrate 7 and its cassette case 8 are removed from the second tank 4 by the steam cleaning tank 4.
The substrate 12 is transferred by a conveyor 9 and heated by a bottom heater 18 and a side heater 19 to heat up the solvent 12 in the tank and generate steam. The cassette case 8 is lowered by the transport hanger 9 into the atmosphere of the steam, and the rinse is performed by the steam.

【0014】蒸気洗浄が終わると搬送ハンガー9が上昇
し、蒸気乾燥槽4の上部上で停止し、ディスク基板7の
乾燥を始める。乾燥終了後、搬出コンベア2へ移載し、
ディスク基板7の洗浄工程は終わり、外部へ搬出する。
When the steam cleaning is completed, the transport hanger 9 rises, stops on the upper portion of the steam drying tank 4, and starts drying the disk substrate 7. After drying is completed, it is transferred to unloading conveyor 2,
The washing process of the disk substrate 7 is completed, and the disk substrate 7 is carried out.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のディスク基板の洗浄装置ではディスク基板7
とカセットケース8が常に接触している箇所があり、接
触部に洗浄残りが発生し、シミの要因となる問題点があ
った。
However, in such a conventional apparatus for cleaning a disk substrate, the disk substrate 7 is not provided.
And the cassette case 8 are always in contact with each other, so that there is a problem that washing remains at the contact portion and causes stains.

【0016】そこで本発明はディスク基板の表面をより
確実に洗い落せることができ、シミの要因をなくしたデ
ィスク基板の洗浄装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a disk substrate cleaning apparatus which can more reliably wash the surface of a disk substrate and eliminates the cause of stains.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のディスク基板の洗浄装置は、蒸気乾燥槽内
に、ディスク基板入りカセットケースの下降手段と、前
記ディスク基板入りカセットケースの下降停止手前でデ
ィスク基板の外周部の下部に接触してディスク基板を固
定するディスクホルダーと、カセットケースのみを下降
しかつ停止する手段を設けた構成とする。
In order to achieve this object, a disk substrate cleaning apparatus according to the present invention comprises a means for lowering a cassette case containing a disk substrate and a method for lowering the cassette case containing a disk substrate in a steam drying tank. A structure is provided in which a disk holder for fixing the disk substrate by contacting the lower portion of the outer periphery of the disk substrate just before the stop and a means for lowering and stopping only the cassette case are provided.

【0018】[0018]

【作用】上記構成において、上記乾燥槽内で溶剤をヒー
タにより加熱して炊き上げ蒸気をつくり、その蒸気でデ
ィスクをリンスする際、ディスク基板とカセットケース
との接触部分を、ディスク基板の外周部の下部をディス
クホルダーにより固定し、前記ディスク基板をカセット
ケースに対し非接触にする。このためディスク基板の蒸
気乾燥がカセットケースに邪魔されることなく行なわ
れ、ディスク基板におけるシミとなる要因が解消され、
ディスクの特性上の問題が解決することとなる。
In the above construction, when the solvent is heated by the heater in the drying tank to produce cooked steam, and the disc is rinsed with the steam, the contact portion between the disc substrate and the cassette case is moved to the outer peripheral portion of the disc substrate. Is fixed by a disk holder, and the disk substrate is kept out of contact with the cassette case. For this reason, the steam drying of the disk substrate is performed without being disturbed by the cassette case, and the cause of the stain on the disk substrate is eliminated,
This solves the problem in the characteristics of the disk.

【0019】[0019]

【実施例】以下本発明の一実施例を図面を参照しながら
詳細に説明する。図1はディスク基板の洗浄装置の全体
図である。なお、蒸気乾燥槽4内の装置を除いては前述
の従来例と同じ構成であり、したがって、その同一の構
成部には同符号を付し、その説明は省略する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is an overall view of a disk substrate cleaning apparatus. Except for the device in the steam drying tank 4, the configuration is the same as that of the above-described conventional example. Therefore, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0020】本実施例の特徴とするところは、蒸気乾燥
槽4内の装置の構成にある。すなわち図2に示すように
溶剤受皿20bの上部にディスクホルダーベース28を
ベース固定ボルト31により固定している。このディス
クホルダーベース28はステンレス鋼材であり、廃液パ
イプへ通じるように開孔口をもうけている。ディスク基
板7の外周部の下を支えるために、ディスクホルダーベ
ース28の両側面に上方に延びたホルダー板29をボル
ト30で固定している。ホルダー板29は耐熱性、耐薬
品にすぐれたテフロン材を使用する。ホルダー板29の
先端は45°前後の鋭角にして、ディスク基板7の外周
部に接触面を小さくして、2枚のホルダー板29でディ
スク基板7、25枚を支え固定できる構成となってい
る。
The feature of the present embodiment lies in the configuration of the device in the steam drying tank 4. That is, as shown in FIG. 2, the disk holder base 28 is fixed to the upper portion of the solvent receiving tray 20b by the base fixing bolt 31. The disk holder base 28 is made of stainless steel and has an opening so as to communicate with the waste liquid pipe. In order to support the lower part of the outer periphery of the disk substrate 7, holder plates 29 extending upward are fixed to both side surfaces of the disk holder base 28 with bolts 30. The holder plate 29 uses a Teflon material excellent in heat resistance and chemical resistance. The tip of the holder plate 29 has an acute angle of about 45 ° so that the contact surface is small on the outer peripheral portion of the disk substrate 7 so that the two disk holders 29 can support and fix the disk substrates 7 and 25. .

【0021】以下本発明の実施例の装置の運転における
洗浄機能を説明する。ディスク基板7を入れたカセット
ケース8が搬入コンベア1で送られてくる。このカセッ
トケースには25枚のディスク基板7が25枚セットで
きる。搬送ハンガー9により搬入コンベア1にセットさ
れたカセットケース8を第1槽の浸漬槽3へ移載する。
溶剤12の中へカセットケース8を沈め溶剤12中で上
下運動を繰り返す。超音波発振子10の動作によりディ
スク基板7に付着している汚れ、ごみなどを洗い落す。
浸漬槽3での洗浄が終わると、ディスク基板入りのカセ
ットケース8は蒸気乾燥槽4へ搬送ハンガー9により移
載される。溶剤12の炊上げにより蒸気となった雰囲気
中までカセットケース8を降す。ここでディスク基板7
と蒸気に炊上げられた溶剤12が接すると、常温であっ
たディスク基板7が急速に温度が上昇する。また蒸気に
炊上げられた溶剤12が一瞬に温度が低下する。凝集作
用が起こり、ディスク基板7がリンスされる状態にな
る。
The cleaning function in the operation of the apparatus according to the embodiment of the present invention will be described below. The cassette case 8 containing the disk substrate 7 is sent by the carry-in conveyor 1. In this cassette case, 25 disk substrates 7 can be set. The cassette case 8 set on the carry-in conveyor 1 by the transport hanger 9 is transferred to the first immersion tank 3.
The cassette case 8 is immersed in the solvent 12, and the vertical movement is repeated in the solvent 12. The operation of the ultrasonic oscillator 10 removes dirt, dust and the like adhering to the disk substrate 7.
When the washing in the immersion tank 3 is completed, the cassette case 8 containing the disk substrate is transferred to the steam drying tank 4 by the transfer hanger 9. The cassette case 8 is lowered to the atmosphere where the solvent 12 is turned into steam by heating. Here, the disk substrate 7
When the solvent 12 heated to steam comes into contact with the disk substrate 7, the temperature of the disk substrate 7, which was at room temperature, rapidly rises. Further, the temperature of the solvent 12 cooked into steam instantaneously decreases. Aggregation occurs and the disk substrate 7 is rinsed.

【0022】ここで本実施例の特徴的動作を説明する。
カセットケース8にディスク基板7を接触させないため
には、まず蒸気乾燥槽4へ搬送ハンガー9によりカセッ
トケース8を下降する。前記下降中にディスク基板7が
ホルダー板29に接してディスク基板7が支えられ、か
つ固定される。搬送ハンガー9はこれより下降し、カセ
ットケース8のみ下降して定位置で停止する。この時点
で、ディスク基板7とカセットケース8との接触は無く
なる。この状態で蒸気によるリンス洗浄が行なわれる。
終了すると搬送ハンガー9が上昇し、同時にカセットケ
ース8も上昇する。ホルダー板29で支え固定されたデ
ィスク基板7もカセットケース8の上昇にともない、デ
ィスク基板7はカセットケース8におさまり、上昇して
蒸気洗浄槽4の上部囲りにある冷却コイル15付近で一
たん停止し、ディスク基板7の乾燥を行なう。乾燥が終
了後、搬出コンベア2まで搬送ハンガー9によりカセッ
トケース8を移載する。搬出コンベア2により外部へ搬
出して洗浄は終了する。
Here, the characteristic operation of this embodiment will be described.
To prevent the disk substrate 7 from contacting the cassette case 8, the cassette case 8 is first lowered to the steam drying tank 4 by the transport hanger 9. During the lowering, the disk substrate 7 comes into contact with the holder plate 29, and the disk substrate 7 is supported and fixed. The transport hanger 9 descends from this, only the cassette case 8 descends and stops at a fixed position. At this time, the contact between the disk substrate 7 and the cassette case 8 disappears. In this state, rinsing with steam is performed.
Upon completion, the transport hanger 9 rises, and at the same time, the cassette case 8 also rises. The disk substrate 7 supported and fixed by the holder plate 29 also fits in the cassette case 8 as the cassette case 8 rises, and the disk substrate 7 ascends and rises once near the cooling coil 15 near the upper part of the steam cleaning tank 4. After stopping, the disk substrate 7 is dried. After the drying is completed, the cassette case 8 is transferred to the unloading conveyor 2 by the transport hanger 9. It is carried out by the carry-out conveyor 2 and the washing is completed.

【0023】上記動作において、ディスクホルダーベー
ス28の両側面に取り付けたホルダー板29の鋭角にな
った先端部でディスク基板7を支え固定することによ
り、ディスク基板7と接触面を小さくすることができ、
また、カセットケース8と分離することができる。この
ような状態で蒸気洗浄することで、ディスク基板7とカ
セットケース8の接触によるシミの発生が無くなる。
In the above operation, the disk substrate 7 is supported and fixed by the sharpened end portions of the holder plate 29 attached to both side surfaces of the disk holder base 28, so that the contact surface with the disk substrate 7 can be reduced. ,
Further, it can be separated from the cassette case 8. By performing the steam cleaning in such a state, the occurrence of the stain due to the contact between the disk substrate 7 and the cassette case 8 is eliminated.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上の実施例の説明より明らかなよう
に、本発明によれば蒸気乾燥槽内での蒸気洗浄では、ホ
ルダー板でディスク基板を支え固定することでディスク
基板とカセットケースの接触をなくすことができる。よ
って洗浄残りが無く、シミの要因となる磁気ディスクの
特性上の問題も発生しない。また、他方式のディスク基
板のみ洗浄する方法は、カセットケースとの分離、ディ
スク基板の搬送機構に高い費用が発生する。
As is apparent from the above description of the embodiment, according to the present invention, in the steam cleaning in the steam drying tank, the disk substrate is supported and fixed by the holder plate to make contact between the disk substrate and the cassette case. Can be eliminated. Therefore, there is no residual cleaning, and there is no problem in the characteristics of the magnetic disk that causes stains. In addition, the method of cleaning only the disk substrate of another type requires a high cost for the separation from the cassette case and the transport mechanism of the disk substrate.

【0025】本発明による洗浄装置はカセットケースご
と搬送するため、構造が簡単であり、かつ安価でコスト
メリットもある。
Since the cleaning apparatus according to the present invention transports the entire cassette case, it has a simple structure, is inexpensive and has cost advantages.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例のディスク基板の洗浄装置の
全体を示す構成図
FIG. 1 is a configuration diagram showing an entire disk substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】同ディスク基板の洗浄装置の蒸気乾燥槽内の要
部断面図
FIG. 2 is a sectional view of a main part in a steam drying tank of the disk substrate cleaning apparatus.

【図3】従来のディスク基板の洗浄装置の全体を示す構
成図
FIG. 3 is a configuration diagram showing an entire conventional disk substrate cleaning apparatus.

【図4】従来のディスク基板の洗浄装置における蒸気乾
燥槽部内の要部断面図
FIG. 4 is a sectional view of a main part in a steam drying tank in a conventional disk substrate cleaning apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 搬入コンベア 2 搬出コンベア 3 浸漬槽 4 蒸気乾燥槽 5 廃液槽 6 キャニスター缶 7 ディスク基板 8 カセットケース 9 搬送ハンガー 12 溶剤 20b 溶剤受皿 28 ディスクホルダーベース 29 ホルダー板 30 ボルト 31 ベース固定ボルト Reference Signs List 1 carry-in conveyor 2 carry-out conveyor 3 immersion tank 4 steam drying tank 5 waste liquid tank 6 canister can 7 disk substrate 8 cassette case 9 transport hanger 12 solvent 20b solvent tray 28 disk holder base 29 holder plate 30 bolt 31 base fixing bolt

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/84 - 5/858 C04B 33/30 F26B 13/10 F16F 15/36 Continued on the front page (58) Fields surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G11B 5/84-5/858 C04B 33/30 F26B 13/10 F16F 15/36

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 蒸気乾燥槽内に、ディスク基板入りカセ
ットケースの下降手段と、前記ディスク入りカセットケ
ースの下降時に、ディスク基板のみを下降を停止させて
支え固定するディスクホルダーを設け、カセットケース
をディスク基板より分離させるようにしたことを特徴と
するディスク基板の洗浄装置。
An apparatus for lowering a cassette case containing a disk substrate, and a disk holder for stopping and lowering the disk substrate only when the cassette case containing a disk is lowered is provided in a steam drying tank. An apparatus for cleaning a disk substrate, wherein the apparatus is separated from the disk substrate.
JP29881593A 1993-11-30 1993-11-30 Disk substrate cleaning equipment Expired - Lifetime JP3285683B2 (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8003350B2 (en) 2005-09-06 2011-08-23 Bioenex Inc. Mutant firefly luciferase, gene, recombinant vector, transformant, and method for production of mutant firefly luciferase

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