JP3254421B2 - Liquid crystal display - Google Patents

Liquid crystal display

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JP3254421B2
JP3254421B2 JP12340298A JP12340298A JP3254421B2 JP 3254421 B2 JP3254421 B2 JP 3254421B2 JP 12340298 A JP12340298 A JP 12340298A JP 12340298 A JP12340298 A JP 12340298A JP 3254421 B2 JP3254421 B2 JP 3254421B2
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浩明 水野
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜能動素子を有
しない液晶表示装置に関する
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display having no thin film active element .

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の液晶表示装置には、電極が形成さ
れた2枚の基板間に液晶を狭持した液晶セルにおいて、
その液晶セルの各画素にTFT、MIMなどの薄膜能動
素子を有する液晶表示装置と、液晶セルの各画素に薄膜
能動素子を有さない液晶表示装置とがある。
2. Description of the Related Art In a conventional liquid crystal display device, a liquid crystal cell in which liquid crystal is sandwiched between two substrates on which electrodes are formed is provided.
There are a liquid crystal display device having a thin film active element such as a TFT and an MIM in each pixel of the liquid crystal cell, and a liquid crystal display device having no thin film active element in each pixel of the liquid crystal cell.

【0003】TFTやMIMなどの薄膜能動素子を有す
る液晶表示装置では、パターンの異なる多層配線を施
し、電極表面およびパターン間を保護膜によって被覆
し、また、TFTやMIMなどの薄膜能動素子はナトリ
ウムイオンなどの影響を受けて特性を劣化されやすいの
で、その影響を防ぐために無アルカリガラス基板を使用
する。このように、薄膜能動素子を有する液晶表示装置
は、薄膜能動素子を形成するプロセスが重要であり、ま
た、コストの高い中性ホウケイ酸ガラスや無アルカリガ
ラス基板を使用しなければならないので、コスト的に高
価である。
In a liquid crystal display device having thin-film active elements such as TFTs and MIMs, multi-layer wirings having different patterns are provided, electrode surfaces and between the patterns are covered with protective films, and thin-film active elements such as TFTs and MIMs are formed of sodium. Since the characteristics are easily deteriorated by the influence of ions and the like, a non-alkali glass substrate is used to prevent the influence. As described above, in a liquid crystal display device having a thin film active element, a process for forming the thin film active element is important, and a high-cost neutral borosilicate glass or non-alkali glass substrate must be used. Expensive.

【0004】一方、薄膜能動素子を有しない液晶表示装
置では、単純マトリクス駆動のSTNのモードなどがあ
るので、薄膜能動素子を形成するプロセスの必要がな
く、液晶へのアルカリイオン溶出防止のためにSiO2
膜が形成されたソーダライムガラス基板を使用すること
ができ、コスト的に安価である。
On the other hand, in a liquid crystal display device having no thin film active element, since there is an STN mode of simple matrix drive, there is no need for a process for forming a thin film active element, and in order to prevent elution of alkali ions into the liquid crystal. SiO 2
A soda-lime glass substrate on which a film is formed can be used, and the cost is low.

【0005】また、近年、表示部の大型化のために電極
の低抵抗化が要求されてきており、そのような電極とし
て、例えば、特許公開公報:平09−230806など
のAg系金属電極を有した電極が提案されている。
In recent years, it has been required to reduce the resistance of the electrodes in order to increase the size of the display unit. As such electrodes, for example, Ag-based metal electrodes such as Japanese Patent Laid-Open Publication No. 09-230806 are disclosed. An electrode having the same has been proposed.

【0006】さらに、携帯表示機器として、表示を明る
くするために、偏光板を1枚用いる構成または偏光板を
用いない反射型の液晶表示装置において、反射板と電極
とを兼用する金属電極を下側基板に形成した液晶セル内
に反射板を配置した構成のものが提案されている。その
金属電極の材料として、配線として抵抗が低く、かつ、
反射率の高い金属であるAl系、Ag系の材料がある
(例えば、特許公開公報:平07−134300、特許
公開公報:平08−179252)。
Further, as a portable display device, in order to brighten the display, in a configuration using one polarizing plate or a reflection type liquid crystal display device not using a polarizing plate, a metal electrode serving as both a reflecting plate and an electrode is placed below. A configuration in which a reflection plate is disposed in a liquid crystal cell formed on a side substrate has been proposed. As a material for the metal electrode, the wiring has a low resistance, and
There are Al-based and Ag-based materials which are metals having high reflectivity (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-134300, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-179252).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、電極部におい
て、同一基板上の隣接する電極パターン間でエレクトロ
マイグレーションが生じることがある。そのエレクトロ
マイグレーションとは、電気泳動に起因する薄膜状配線
の断線であって、主に通電(とくに高温高湿度環境下の
通電)により発生する現象である。すなわち、エレクト
ロマイグレーションは、隣接する電極パターン間に、電
圧差と、汚れなどによるイオンと、水分という3つのも
のが存在することにより発生する現象であるといえる。
液晶表示装置では、様々なものを表示をさせるために、
隣接する電極パターン間に電圧差を設ける必要があり、
また、液晶セルの電極の露出部に汚れが付着する場合が
ある。このため、エレクトロマイグレーションを抑制す
るためには、隣接する電極パターン間における水分の存
在を抑制することが必要である。
However, in the electrode portion, electromigration may occur between adjacent electrode patterns on the same substrate. The electromigration is a disconnection of the thin film wiring caused by electrophoresis, and is a phenomenon mainly caused by energization (especially energization in a high temperature and high humidity environment). That is, it can be said that electromigration is a phenomenon that occurs due to the presence of three things, that is, a voltage difference, ions due to dirt and the like, and moisture between adjacent electrode patterns.
In the liquid crystal display device, in order to display various things,
It is necessary to provide a voltage difference between adjacent electrode patterns,
Also, dirt may adhere to the exposed portions of the electrodes of the liquid crystal cell. For this reason, in order to suppress electromigration, it is necessary to suppress the presence of moisture between adjacent electrode patterns.

【0008】ところで、TFTやMIMなどの薄膜能動
素子を有する液晶表示装置では、電極パターン形成後に
電極パターン間に水分に対してバリア効果が大きいSi
Nなどの絶縁性保護膜を設けることにより、隣接する電
極パターン間における水分の存在を抑制し、エレクトロ
マイグレーションを抑制することができる。
In a liquid crystal display device having a thin-film active element such as a TFT or MIM, after the electrode pattern is formed, a barrier effect against moisture between the electrode patterns is large.
By providing an insulating protective film such as N, the presence of moisture between adjacent electrode patterns can be suppressed, and electromigration can be suppressed.

【0009】しかし、薄膜能動素子を有しない液晶表示
装置では、液晶へのアルカリイオン溶出防止のためにS
iO2膜が形成されたソーダライムガラス基板を使用し
ているので、隣接する電極パターン間にSiO2膜が露
出した構成であって、そのSiO2膜は水分を吸収しや
すいので、エレクトロマイグレーションが発生しやすい
という問題点がある。
However, in a liquid crystal display device having no thin film active element, an S electrode is required to prevent the elution of alkali ions into the liquid crystal.
Since the soda lime glass substrate on which the iO 2 film is formed is used, the SiO 2 film is exposed between the adjacent electrode patterns, and since the SiO 2 film easily absorbs water, electromigration is prevented. There is a problem that it easily occurs.

【0010】上記薄膜能動素子を有しない液晶表示装置
の問題点を改善するために、電極の露出部を樹脂で被覆
した構成したものがあるが、そのように樹脂で被覆する
だけでは、隙間から侵入した水分や樹脂から浸透した水
分に対して、耐エレクトロマイグレーション性が未だ充
分でないという課題を有していた。
In order to improve the problem of the liquid crystal display device having no thin-film active element, there is a configuration in which the exposed portions of the electrodes are covered with a resin. There is a problem that the electromigration resistance is still insufficient with respect to the infiltrated moisture or the moisture permeated from the resin.

【0011】本発明では、耐エレクトロマイグレーショ
ン性の信頼性が高い、基板上に薄膜能動素子を有しない
電極パターンを形成した液晶表示装置を提供することを
目的とする。
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having a highly reliable electromigration resistant electrode pattern formed on a substrate without a thin film active element.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、第の本発明(請求項対応)は、透明電極により
薄膜能動素子を有しない電極パターンが形成された上側
基板と、金属反射電極により薄膜能動素子を有しない電
極パターンが形成された下側基板と、前記上側基板およ
び前記下側基板それぞれの電極上に形成された配向膜が
対向して、前記上側基板と前記下側基板との間に液晶を
挟持した液晶セルと、その液晶セルを駆動する電子部品
と前記液晶セルとを接続する前記液晶セルの電極の露出
部を被覆する樹脂とを備え、前記上側基板および前記下
側基板のうち少なくとも下側基板の材質はソーダライ
ムガラスであり、かつその表面上にSiN膜が形成され
ており更に前記SiN膜上に前記電極パターンが形成
され、そして前記電極パターンの前記反射電極の材料が
Al合金であり、前記Al合金のAl以外の合金成分は
Zr、TiおよびTaの全部または一部であり、前記A
l以外の合金成分の含有率が0.1at%〜5at%で
あることを特徴とする液晶表示装置である。
In order to solve the above-mentioned problems, a first invention (corresponding to claim 1 ) comprises an upper substrate on which an electrode pattern having no thin-film active element is formed by a transparent electrode; The lower substrate on which an electrode pattern having no thin-film active element is formed by the reflective electrode, and the alignment films formed on the respective electrodes of the upper substrate and the lower substrate face each other, and the upper substrate and the lower substrate are opposed to each other. A liquid crystal cell having a liquid crystal sandwiched between the substrate and a resin covering an exposed part of an electrode of the liquid crystal cell connecting the electronic component for driving the liquid crystal cell and the liquid crystal cell; of the lower substrate, the material of at least the lower substrate Sodarai
Glass, and a SiN film is formed on its surface.
And the electrode pattern is formed on the SiN film.
And the material of the reflective electrode of the electrode pattern is
Al alloy, and alloy components other than Al of the Al alloy are
Zr, Ti and Ta, all or a part thereof;
When the content of alloy components other than l is 0.1 at% to 5 at%
There is provided a liquid crystal display device.

【0013】[0013]

【0014】第の本発明(請求項対応)は、第1
本発明液晶表示装置の樹脂はアクリル系樹脂であるこ
とを特徴とする液晶表示装置である。
[0014] The second of the present invention (Claim 2 corresponds), the resin of the first <br/> liquid crystal display device of the present invention is a liquid crystal display device, characterized in that an acrylic resin.

【0015】以上述べたような構成の本発明の液晶表示
装置は、水分に対してバリア効果が大きいSiN絶縁性
保護膜上に電極パターンが設けられることにより、隣接
する電極パターン間における水分の存在を抑制するの
で、耐エレクトロマイグレーションを向上することがで
きる。
In the liquid crystal display device of the present invention having the above-described structure, the presence of water between adjacent electrode patterns is achieved by providing the electrode pattern on the SiN insulating protective film having a large barrier effect against water. , The electromigration resistance can be improved.

【0016】さらに、本発明の液晶表示装置では、液晶
セルの電極の、電子部品と接続するための露出部が樹脂
で被覆されるので、電極露出部の電極表面や電極パター
ン間における耐エレクトロマイグレーション性はさらに
向上する。
Further, in the liquid crystal display device of the present invention, since the exposed portion of the electrode of the liquid crystal cell for connecting to the electronic component is covered with the resin, the electromigration resistance between the electrode surface and the electrode pattern of the exposed electrode portion is obtained. Sex is further improved.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態及び
参考例について、図1〜図6を用いて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention and
A reference example will be described with reference to FIGS.

【0018】(参考例) 図1は、参考例の液晶表示装置の断面図である。参考例
の液晶表示装置は透過型の液晶表示装置である。図1に
おいて、1は偏光板、2は高分子フィルム、3は上側基
板、14は配向膜、5は透明電極、17は液晶、18は
シール、6は下側基板、7はSiN膜、22はアクリル
系樹脂、23は異方性導電接着剤、24はTABテープ
キャリア、25はLSIチップ、26はプリント基板を
示す。
( Reference Example ) FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal display device of a reference example . The liquid crystal display device of the reference example is a transmission type liquid crystal display device. In FIG. 1, 1 is a polarizing plate, 2 is a polymer film, 3 is an upper substrate, 14 is an alignment film, 5 is a transparent electrode, 17 is a liquid crystal, 18 is a seal, 6 is a lower substrate, 7 is a SiN film, 22 Denotes an acrylic resin, 23 denotes an anisotropic conductive adhesive, 24 denotes a TAB tape carrier, 25 denotes an LSI chip, and 26 denotes a printed circuit board.

【0019】図2は、図1の上側基板3上に透明電極5
を形成した状態の断面図である。上側基板3の材質はソ
ーダライムガラスである。SiN膜7は、上側基板3上
に形成され、その上側基板3のソーダライムガラスから
のアルカリ物質の液晶への溶出を防止している。31は
ITO膜、32はAg合金膜、33はITO膜を示し、
それらITO膜31、Ag合金膜32およびITO膜3
3は、図2の透明電極5a〜5eに示すように、3層膜
の透明電極5を構成している。その3層膜の透明電極5
は、SiN膜7が形成された上側基板3上に、ITO
膜、Ag合金膜およびITO膜33が順に積層され、3
層構造の透明多層膜となった後、電極パターン化される
ことによって作成される。
FIG. 2 shows a transparent electrode 5 on the upper substrate 3 of FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view of a state where a is formed. The material of the upper substrate 3 is soda lime glass. The SiN film 7 is formed on the upper substrate 3 and prevents elution of the alkaline substance from the soda lime glass of the upper substrate 3 into the liquid crystal. 31 is an ITO film, 32 is an Ag alloy film, 33 is an ITO film,
These ITO film 31, Ag alloy film 32 and ITO film 3
Reference numeral 3 denotes a three-layer film transparent electrode 5 as shown in the transparent electrodes 5a to 5e in FIG. The three-layer transparent electrode 5
Is an ITO on the upper substrate 3 on which the SiN film 7 is formed.
A film, an Ag alloy film and an ITO film 33 are sequentially stacked,
After a transparent multilayer film having a layer structure is formed, it is formed by patterning an electrode.

【0020】また、図2を用いて説明した上側基板3と
同様にして、下側基板6は作成されている。
A lower substrate 6 is formed in the same manner as the upper substrate 3 described with reference to FIG.

【0021】このように、上側基板3、下側基板6それ
ぞれに透明電極5を形成した上に、ポリイミドのN−メ
チル−2−ピロリジノンの5wt%溶液を印刷し、20
0℃で硬化したのち、250°ツイストのSTNモード
の液晶を実現するようにレーヨン布を用いた回転ラビン
グ法による配向処理を行って配向膜14を形成した。
As described above, the transparent electrode 5 is formed on each of the upper substrate 3 and the lower substrate 6, and a 5 wt% solution of N-methyl-2-pyrrolidinone of polyimide is printed thereon.
After curing at 0 ° C., an alignment film 14 was formed by performing an alignment treatment by a rotary rubbing method using rayon cloth so as to realize a 250 ° twist STN mode liquid crystal.

【0022】そして、上側基板3上の周辺部には5.5
μmの径のガラスファイバーを1.0wt%混入した熱
硬化性シール樹脂を印刷し、下側基板6上には5.0μ
mの径の樹脂ビーズを200個/mm2の割合で散布
し、上側基板3と下側基板6とを互いに貼り合わせ、1
50℃でシール樹脂を硬化した後、△nLC=0.16の
エステル系ネマティック液晶に所定の量のカイラル液晶
を混ぜた液晶17を真空注入し、紫外線硬化性樹脂で封
口した後、紫外線光により硬化した。
The peripheral portion on the upper substrate 3 is 5.5
A thermosetting sealing resin mixed with 1.0 wt% of glass fiber having a diameter of μm is printed, and 5.0 μm is formed on the lower substrate 6.
m beads are sprayed at a rate of 200 beads / mm 2 , and the upper substrate 3 and the lower substrate 6 are bonded to each other.
After the sealing resin is cured at 50 ° C., a liquid crystal 17 in which a predetermined amount of chiral liquid crystal is mixed into an ester-based nematic liquid crystal of ΔnLC = 0.16 is vacuum-injected, sealed with an ultraviolet curable resin, and then irradiated with ultraviolet light. Cured.

【0023】こうして形成された液晶セルの上側基板3
の外側に、ポリカーボネートからなる高分子フィルム2
を貼付し、さらに偏光板1を貼付した。また、下側基板
6の外側に偏光板1を貼付した。
The upper substrate 3 of the liquid crystal cell thus formed
Outside, a polymer film 2 made of polycarbonate
Was pasted, and the polarizing plate 1 was further pasted. Further, the polarizing plate 1 was attached to the outside of the lower substrate 6.

【0024】次に、液晶セルを駆動する電子部品として
は、電子部品を搭載したプリント基板26と、LSIチ
ップ25を搭載したTABテープキャリア24とを使用
し、プリント基板26とTABテープキャリア24を接
続し、液晶セルの透明電極5とTABテープキャリア2
4とを異方性導電接着剤23を介して接続した。
Next, as the electronic components for driving the liquid crystal cell, a printed board 26 on which the electronic components are mounted and a TAB tape carrier 24 on which an LSI chip 25 is mounted are used. Connect the transparent electrode 5 of the liquid crystal cell and the TAB tape carrier 2
4 were connected via an anisotropic conductive adhesive 23.

【0025】さらに、液晶セルを駆動する電子部品を異
方性導電接着剤23を介して接続した透明電極5の露出
部を、日立化成学工業(株)製のTUFFY(TF11
41)のアクリル系樹脂22で被覆した。
Further, an exposed portion of the transparent electrode 5 to which an electronic component for driving the liquid crystal cell is connected via an anisotropic conductive adhesive 23 is connected to a TUFFY (TF11) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.
41) was coated with the acrylic resin 22.

【0026】このようにして、1/240デューティ比
の単純マトリクス駆動で、黒から白まで無彩色で変化す
るして表示することができる透過型液晶表示装置を得
た。
In this way, a transmissive liquid crystal display device capable of changing and displaying achromatic colors from black to white by a simple matrix drive with a duty ratio of 1/240 was obtained.

【0027】このような液晶表示装置の透明電極5の、
耐エレクトロマイグレーション性および耐食性について
調べるために、比較例として、上記実施の形態1の液晶
表示装置のSiN膜が形成された基板2枚を、SiO2
膜が形成されたソーダライムガラス基板に代えて液晶表
示装置を作成した。
The transparent electrode 5 of such a liquid crystal display device
In order to examine the electromigration resistance and the corrosion resistance, as a comparative example, two substrates on which the SiN film of the liquid crystal display device of the first embodiment was formed were made of SiO 2
A liquid crystal display device was prepared in place of the soda lime glass substrate on which the film was formed.

【0028】そして、参考例のSiN膜7上に透明電極
5を形成した液晶表示装置と、比較例のSiO2膜上に
透明電極を形成した液晶表示装置とについて、温度60
℃湿度90%RHの環境下で、液晶表示装置の通電試験
500hを行い、透明電極の耐エレクトロマイグレーシ
ョン性を評価した。つまり、例えば図2における透明電
極5aと透明電極5bとの間や、透明電極5cと透明電
極5dとの間の耐エレクトロマイグレーション性を評価
した。その結果、SiO2膜上に透明電極を形成した液
晶表示装置では、透明電極には断線が発生したが、Si
N膜上に透明電極5を形成した液晶表示装置では、透明
電極5には断線は発生せず、その他の異常も観察されな
かった。したがって、SiN膜7上の透明電極5は、S
iO2膜上の透明電極より、耐エレクトロマイグレーシ
ョン性が向上することがわかった。
The liquid crystal display device having the transparent electrode 5 formed on the SiN film 7 of the reference example and the liquid crystal display device having the transparent electrode formed on the SiO 2 film of the comparative example have a temperature of 60.
Under an environment of a temperature of 90 ° C. and a humidity of 90% RH, the liquid crystal display device was subjected to a power-on test of 500 h to evaluate the electromigration resistance of the transparent electrode. That is, for example, the electromigration resistance between the transparent electrode 5a and the transparent electrode 5b and between the transparent electrode 5c and the transparent electrode 5d in FIG. 2 was evaluated. As a result, in the liquid crystal display device in which the transparent electrode was formed on the SiO 2 film, the disconnection occurred in the transparent electrode.
In the liquid crystal display device in which the transparent electrode 5 was formed on the N film, no disconnection occurred in the transparent electrode 5, and no other abnormality was observed. Therefore, the transparent electrode 5 on the SiN film 7
It was found that the electromigration resistance was improved as compared with the transparent electrode on the iO 2 film.

【0029】なお、上記参考例では、透明電極5として
ITO膜31、Ag合金膜32、ITO膜33の3層構
造の透明多層膜を用いたが、透明電極5としてITOの
1層膜や、他の透明導電性膜を用いてもよい。
In the above-mentioned reference example , a transparent multilayer film having a three-layer structure of an ITO film 31, an Ag alloy film 32, and an ITO film 33 was used as the transparent electrode 5, but a single-layer ITO film, Other transparent conductive films may be used.

【0030】また、上記参考例では、上側基板3および
下側基板6はソーダライムガラスによって作成されると
したが、そのソーダライムガラスの代替として無アルカ
リガラスや液晶用フィルムを用いてもよい。
In the above embodiment , the upper substrate 3 and the lower substrate 6 are made of soda-lime glass, but non-alkali glass or a liquid crystal film may be used instead of the soda-lime glass.

【0031】また、上記参考例では、液晶セルを駆動す
る電子部品を接続した電極部と表示部との間の透明電極
5の露出部をアクリル系樹脂22で被覆するとしたが、
透明電極5の露出部をシリコン系樹脂などの他の樹脂を
用いて被覆するとしてもよい。しかし、被覆する樹脂と
しては、耐エレクトロマイグレーション性のより向上と
いう点で、水の浸透に対し抑止効果のあるアクリル系樹
脂が望ましい。
In the above-mentioned reference example , the exposed portion of the transparent electrode 5 between the electrode portion to which the electronic component for driving the liquid crystal cell is connected and the display portion is covered with the acrylic resin 22.
The exposed portion of the transparent electrode 5 may be covered with another resin such as a silicon resin. However, as a resin to be coated, an acrylic resin having an effect of suppressing water penetration is desirable from the viewpoint of improving electromigration resistance.

【0032】また、上記参考例では、液晶表示装置の一
例として白黒表示の反射型液晶表示装置を用いたが、液
晶表示装置として、カラーフィルタを用いるなどしたカ
ラー表示の反射型液晶表示装置を用いてもよい。また、
上記参考例では、STNモードの液晶を用いたが、その
STNモードの液晶の代替としてTNモードやPCGH
モードなどの他の液晶モードを用いて、偏光板や高分子
フィルムなどを液晶モードにあわせた構成の液晶表示装
置としてもよい。
Further, in the above reference example , a reflection type liquid crystal display device for monochrome display is used as an example of the liquid crystal display device. However, a reflection type liquid crystal display device for color display using a color filter is used as the liquid crystal display device. You may. Also,
In the above reference example , an STN mode liquid crystal was used. However, as a substitute for the STN mode liquid crystal, a TN mode or PCGH
A liquid crystal display device having a configuration in which a polarizing plate, a polymer film, or the like is adjusted to the liquid crystal mode using another liquid crystal mode such as a mode may be used.

【0033】さらに、以下の実施の形態2において上記
参考例と同様の構成をなすものについては、同じ番号を
用いることとする。
Further, in Embodiment 2 below,
The components having the same configuration as the reference example are denoted by the same reference numerals.

【0034】(実施の形態) 図3は、実施の形態の液晶表示装置の断面図である。
本実施の形態の液晶表示装置は反射型の液晶表示装置
である。図3において、10は偏光板、11は高分子フ
ィルム、12は散乱フィルム、13は上側基板、14は
配向膜、8はSiO2膜、7はSiN膜、15はカラー
フィルタ、21はアクリル系樹脂の平坦層、16は透明
電極、17は液晶、18はシール、19は下側基板、2
0はAl合金電極、22はアクリル系樹脂、23は異方
性導電接着剤、24はTABテープキャリア、25はL
SIチップ、26はプリント基板を示す。
Embodiment 1 FIG. 3 is a sectional view of a liquid crystal display device according to Embodiment 1 .
The liquid crystal display of the first embodiment is a reflection type liquid crystal display. In FIG. 3, 10 is a polarizing plate, 11 is a polymer film, 12 is a scattering film, 13 is an upper substrate, 14 is an alignment film, 8 is a SiO 2 film, 7 is a SiN film, 15 is a color filter, and 21 is an acrylic type. A flat layer of resin, 16 is a transparent electrode, 17 is a liquid crystal, 18 is a seal, 19 is a lower substrate, 2
0 is an Al alloy electrode, 22 is an acrylic resin, 23 is an anisotropic conductive adhesive, 24 is a TAB tape carrier, and 25 is L
The SI chip 26 indicates a printed circuit board.

【0035】図4は、図3の下側基板19上に金属反射
電極としてAl合金電極20を形成した状態の断面図で
ある。下側基板19の材質はソーダライムガラスであ
る。SiN膜7は、下側基板19上に形成され、その下
側基板19のソーダライムガラスからのアルカリ物質の
液晶への溶出を防止している。そして、下側基板19上
にAl合金膜を2000Å積層後電極パターンを形成
し、図4の20a〜20eに示すように、1層膜の鏡面
反射タイプの金属反射電極を得た。なお、この下側基板
19の上には、トランジスタなどの薄膜能動素子を形成
していない。
FIG. 4 is a sectional view showing a state in which an Al alloy electrode 20 is formed as a metal reflective electrode on the lower substrate 19 of FIG. The material of the lower substrate 19 is soda lime glass. The SiN film 7 is formed on the lower substrate 19 and prevents elution of the alkali substance from the soda lime glass of the lower substrate 19 into the liquid crystal. Then, an aluminum alloy film was laminated on the lower substrate 19 by 2000 ° to form an electrode pattern, and as shown in FIGS. 4A to 4E, a single-layer film mirror-reflection type metal reflective electrode was obtained. Note that no thin-film active elements such as transistors are formed on the lower substrate 19.

【0036】また、上側基板13はソーダライムガラス
によって作成されており、その上側基板13上にSiO
2膜、カラーフィルタ15、アクリル系樹脂22を積層
し、アクリル系樹脂の平坦層21上にインジウム・スズ
・オキサイド(ITO)を用いて透明電極16を形成し
た。なお、この上側基板13の上には、トランジスタな
どの薄膜能動素子を形成していない。
The upper substrate 13 is made of soda-lime glass.
The two films, the color filter 15 and the acrylic resin 22 were laminated, and the transparent electrode 16 was formed on the flat layer 21 of the acrylic resin using indium tin oxide (ITO). Note that no thin-film active elements such as transistors are formed on the upper substrate 13.

【0037】このように、上側基板13、下側基板19
に電極を形成した上に、ポリイミドのN−メチル−2−
ピロリジノンの5wt%溶液を印刷し、200℃で硬化
したのち、250°ツイストのSTNモードの液晶を実
現するようにレーヨン布を用いた回転ラビング法による
配向処理を行って配向膜14を形成した。そして、上側
基板13上の周辺部には6.0μmの径のガラスファイ
バーを1.0wt%混入した熱硬化性シール樹脂を印刷
し、下側基板19上には5.0μmの径の樹脂ビーズを
200個/mm2の割合で散布し、上側基板13と下側
基板19とを互いに貼り合わせ、150℃でシール樹脂
を硬化した後、△nLC=0.16のエステル系ネマティ
ック液晶に所定の量のカイラル液晶を混ぜた液晶17を
真空注入し、紫外線硬化性樹脂で封口した後、紫外線光
により硬化した。
As described above, the upper substrate 13 and the lower substrate 19
And N-methyl-2-polyimide
After printing a 5 wt% solution of pyrrolidinone and curing it at 200 ° C., an orientation film 14 was formed by performing an orientation treatment by a rotary rubbing method using rayon cloth so as to realize a 250 ° twist STN mode liquid crystal. Then, a thermosetting sealing resin containing 1.0 wt% of glass fiber having a diameter of 6.0 μm is printed on a peripheral portion of the upper substrate 13, and resin beads having a diameter of 5.0 μm are printed on the lower substrate 19. Are sprayed at a rate of 200 / mm 2 , the upper substrate 13 and the lower substrate 19 are adhered to each other, the sealing resin is cured at 150 ° C., and then a predetermined amount is applied to an ester-based nematic liquid crystal having ΔnLC = 0.16. Liquid crystal 17 mixed with an amount of chiral liquid crystal was vacuum injected, sealed with an ultraviolet curable resin, and then cured with ultraviolet light.

【0038】こうして形成された液晶セルの上側基板1
3の上に、住友化学工業(株)製の前方散乱フィルム
(商品名ルミスティ)という、散乱方向がフィルム法線
から測って0°から50°の散乱フィルム12を貼合し
た。その上に、高分子フィルム11としてポリカーボネ
ートを貼付した。その高分子フィルムは11は、遅相軸
の異なる2枚の高分子フィルムからなり、液晶セル側の
高分子フィルムはレターデーション0.3μmで、遅相
軸が上側基板13の配向方向に対して90゜のものであ
り、上側の高分子フィルムはレターデーション0.5μ
mで、遅相軸が上側基板13の配向方向に対して45゜
のものである。さらに、偏光板10としてニュートラル
グレーの偏光板(住友化学工業(株)製SQ−1852
AP)にアンチグレア(AG)処理を施したものを、吸
収軸が高分子フィルム11の下側の遅相軸に一致させる
ように貼付した。
The upper substrate 1 of the liquid crystal cell thus formed
On top of 3, No. 3, a scattering film 12 having a scattering direction of 0 ° to 50 ° as measured from the film normal was bonded, which is a forward scattering film (trade name: Lumisty) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. Polycarbonate was adhered thereon as the polymer film 11. The polymer film 11 is composed of two polymer films having different slow axes, the polymer film on the liquid crystal cell side has a retardation of 0.3 μm, and the slow axis is oriented with respect to the orientation direction of the upper substrate 13. 90 °, and the upper polymer film has a retardation of 0.5μ.
m, the slow axis is at 45 ° to the orientation direction of the upper substrate 13. Further, a neutral gray polarizing plate (SQ-1852 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) is used as the polarizing plate 10.
AP) that had been subjected to anti-glare (AG) treatment was attached such that the absorption axis coincided with the lower slow axis of the polymer film 11.

【0039】次に、液晶セルを駆動する電子部品として
は、電子部品を搭載したプリント基板26と、LSIチ
ップ25を搭載したTABテープキャリア24とを使用
し、プリント基板26とTABテープキャリア24を接
続し、液晶セルの電極とTABテープキャリア24とを
異方性導電接着剤23を介して接続した。
Next, as the electronic components for driving the liquid crystal cell, a printed board 26 on which the electronic components are mounted and a TAB tape carrier 24 on which an LSI chip 25 is mounted are used. The electrodes of the liquid crystal cell were connected to the TAB tape carrier 24 via the anisotropic conductive adhesive 23.

【0040】さらに、液晶セルを駆動する電子部品を異
方性導電接着剤23を介して接続した電極部と表示部と
の間の電極の露出部を、日立化成学工業(株)製のTU
FFY(TF1141)のアクリル系樹脂22で被覆し
た。
Further, the exposed part of the electrode between the electrode part and the display part where the electronic parts for driving the liquid crystal cell are connected via the anisotropic conductive adhesive 23 is made by a TU manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.
It was coated with FFY (TF1141) acrylic resin 22.

【0041】このようにして、1/240デューティ比
の単純マトリクス駆動で、反射率が低くて無彩色の黒表
示と、反射率が高くて無彩色の白表示と、黒から白まで
無彩色で変化して表示することがができるノーマリーブ
ラックモードで、カラーの反射型液晶表示装置を得た。
As described above, in the simple matrix drive with a duty ratio of 1/240, an achromatic black display with a low reflectance, an achromatic white display with a high reflectance, and an achromatic black display from black to white. A color reflective liquid crystal display device in a normally black mode capable of changing display was obtained.

【0042】このような液晶表示装置の金属反射電極と
してのAl合金電極20の、耐エレクトロマイグレーシ
ョン性および耐食性について調べるために、比較例とし
て、上記実施の形態2の液晶表示装置のSiN膜7が形
成された下側基板19のかわりにSiO2膜が形成され
たソーダライムガラス基板を用いて液晶表示装置を作成
した。
In order to examine the electromigration resistance and corrosion resistance of the Al alloy electrode 20 as the metal reflective electrode of such a liquid crystal display device, as a comparative example, the SiN film 7 of the liquid crystal display device of the second embodiment was used. A liquid crystal display device was prepared using a soda lime glass substrate on which an SiO 2 film was formed instead of the formed lower substrate 19.

【0043】そして、本実施の形態のSiN膜7上にA
l合金電極20を形成した反射型液晶表示装置と、比較
例のSiO2膜上にAl合金膜電極を形成した反射型液
晶表示装置とについて、温度60℃湿度90%RHの環
境下で、反射型液晶表示装置の通電試験500hを行
い、Al合金電極の耐エレクトロマイグレーション性を
評価した。つまり、例えば図4におけるAl合金電極2
0aとAl合金電極20bとの間や、Al合金電極20
dとAl合金電極20eとの間の耐エレクトロマイグレ
ーション性を評価した。その結果、SiO2膜上にAl
合金電極を形成した反射型液晶表示装置では、Al合金
電極には断線が発生したが、SiN膜7上にAl合金電
極20を形成した反射型液晶表示装置では、Al合金電
極20には断線は発生せず、その他の異常も観察されな
かった。したがって、SiN膜7上のAl合金電極20
は、SiO2膜上のAl合金電極より、耐エレクトロマ
イグレーション性が向上することがわかった。
Then, A is formed on the SiN film 7 of this embodiment.
The reflection type liquid crystal display device having the l-alloy electrode 20 formed thereon and the reflection type liquid crystal display device having the Al alloy film electrode formed on the SiO 2 film of the comparative example were subjected to reflection at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% RH. An electric conduction test of the liquid crystal display device was performed for 500 hours, and the electromigration resistance of the Al alloy electrode was evaluated. That is, for example, the Al alloy electrode 2 shown in FIG.
0a and the Al alloy electrode 20b,
The electromigration resistance between d and the Al alloy electrode 20e was evaluated. As a result, Al on the SiO 2 film
In the reflective liquid crystal display device in which the alloy electrode was formed, disconnection occurred in the Al alloy electrode. However, in the reflective liquid crystal display device in which the Al alloy electrode 20 was formed on the SiN film 7, the disconnection occurred in the Al alloy electrode 20. No occurrence and no other abnormalities were observed. Therefore, the Al alloy electrode 20 on the SiN film 7
Was found to have improved electromigration resistance over the Al alloy electrode on the SiO 2 film.

【0044】次に、本発明の実施の形態の反射型液晶
表示装置の金属反射電極のAl以外の成分として、Z
r、Ti、Taの中の各1種を0at%から5at%を
越えた含有量までのものを含有したAl合金について、
金属反射電極としての耐エレクトロマイグレーション性
および耐食性、反射率、比抵抗について調べた。
Next, as components other than Al of the metal reflective electrode of the reflective liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention, Z
For an Al alloy containing one of each of r, Ti, and Ta from 0 at% to a content exceeding 5 at%,
Electromigration resistance and corrosion resistance as metal reflective electrodes, reflectance, and specific resistance were examined.

【0045】そのようなAl合金の金属反射電極は、0
at%から5at%を越えたZr、Ti、Taの中の各
1種を含有するAl合金ターゲットを、DCマグネトロ
ンスパッタリング法により、SiN膜7を形成したソー
ダライムガラス基板上にAl合金膜を2000Å積層し
て、電極パターンを形成することによって作成した。こ
のようにして作成したものを、Al単層膜の鏡面反射タ
イプの金属反射電極の試料とした。そして、作成した試
料について環境加速試験としてPCT(Pressure Cooke
r Test:温度105℃、圧力1.2atm、湿度100
%RH)を行い、膜の耐食性を評価した。その結果、P
CT60時間後における表面観察では、Al以外の合金
の含有量が0at%すなわち純Alの金属反射電極では
表面が変色したが、Al以外の合金の含有量が0.1a
t%から5at%を越えたものでは、表面上の異常は観
察されなかった。したがって、AlにZr、Ti、Ta
を0.1at%以上添加することによって作成した金属
反射電極は、耐食性が向上することがわかった。
The metal reflective electrode of such an Al alloy has 0
An Al alloy target containing at least one of Zr, Ti, and Ta from at% to more than 5 at% was applied to a soda lime glass substrate on which a SiN film 7 was formed by DC magnetron sputtering to form an Al alloy film at a thickness of 2000 mm. It was created by stacking and forming an electrode pattern. The sample thus prepared was used as a sample of a metal reflection electrode of a specular reflection type of an Al single layer film. Then, PCT (Pressure Cooke
r Test: temperature 105 ° C, pressure 1.2atm, humidity 100
% RH) to evaluate the corrosion resistance of the film. As a result, P
In the surface observation after 60 hours of CT, the content of the alloy other than Al was 0 at%, that is, the surface of the metal reflective electrode made of pure Al was discolored, but the content of the alloy other than Al was 0.1 a.
Above 5 at% from t%, no abnormalities on the surface were observed. Therefore, Zr, Ti, Ta
It has been found that the metal reflective electrode prepared by adding 0.1 at% or more has improved corrosion resistance.

【0046】また、上記金属反射電極を用いて、上記の
図3の反射型液晶表示装置の構成にて、温度60℃湿度
90%RHの環境下で、反射型液晶表示装置の通電試験
500hを行い、金属反射電極の耐エレクトロマイグレ
ーション性を評価した。その結果、合金の含有量が0a
t%すなわち純Alの金属反射電極では、その金属反射
電極に断線が発生したが、合金の含有量が0.1at%
から5at%を越えたものでは、金属反射電極には断線
は発生せず、その他の異常も観察されなかった。したが
って、AlにZr、Ti、Taを0.1at%以上添加
することによって作成した金属反射電極は、耐エレクト
ロマイグレーション性が向上することがわかった。
Further, in the configuration of the reflection type liquid crystal display device shown in FIG. 3 using the above-mentioned metal reflection electrode, an energization test 500 h of the reflection type liquid crystal display device was carried out in an environment of a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% RH. Then, the electromigration resistance of the metal reflective electrode was evaluated. As a result, the alloy content is 0a
In the case of the metal reflective electrode of t%, that is, pure Al, the metal reflective electrode was disconnected, but the content of the alloy was 0.1 at%.
In cases where the ratio exceeds 5 at%, no disconnection occurred in the metal reflective electrode, and no other abnormalities were observed. Therefore, it was found that a metal reflective electrode formed by adding Zr, Ti, and Ta to Al at 0.1 at% or more has improved electromigration resistance.

【0047】以上説明したように、AlにZr、Ti、
Taを0.1at%以上添加することによって作成した
金属反射電極は、耐エレクトロマイグレーション性およ
び耐食性を向上させるので、そのような金属反射電極を
備えた反射射型液晶表示装置は、信頼性の高いものとな
る。このような耐エレクトロマイグレーション性および
耐食性を向上させるという効果は、AlにZr、Ti、
Taの中の2種以上を同時に添加しその総量が0.1a
t%から5at%を越えたものを用いることによって作
成した金属反射電極の場合でも得られる。
As described above, Zr, Ti,
A metal reflective electrode formed by adding 0.1 at% or more of Ta improves electromigration resistance and corrosion resistance. Therefore, a reflective liquid crystal display device including such a metal reflective electrode has high reliability. It will be. The effect of improving the electromigration resistance and corrosion resistance is such that Zr, Ti,
Two or more of Ta are added simultaneously, and the total amount is 0.1a.
It can be obtained even in the case of a metal reflective electrode made by using a material exceeding 5 at% from t%.

【0048】次に、上述した金属反射電極の上記試料に
ついて、視感度の強い波長555nmに対する光の反射
率と、4探針法により比抵抗とを測定した。反射率の測
定結果を図5に、比抵抗の測定結果を図6に示す。
Next, with respect to the above-mentioned sample of the above-mentioned metal reflective electrode, the reflectance of light at a wavelength of 555 nm with high visibility and the specific resistance were measured by a four-probe method. FIG. 5 shows the measurement result of the reflectance, and FIG. 6 shows the measurement result of the specific resistance.

【0049】図5に示すように、Zr、Ti、Taの含
有量の増大にともなって、反射率は低下し、また、図6
に示すように、Zr、Ti、Taの含有量の増大にとも
なって、比抵抗は増大することがわかった。特に、Z
r、Ti、Taの含有量が5at%を越えると、反射率
の低下は急激になり、比抵抗は急激に増大することがわ
かった。このため、低抵抗でかつ抵抗バラツキの少ない
配線を有し、かつ、反射率が高い金属反射電極(表示電
極部)を備えた反射型液晶表示装置を得るには、Zr、
Ti、Taの含有量は5at%までがよいことがわか
る。この効果は、Zr、Ti、Taの中の2種以上を同
時に含有しその総量が5at%までの場合でも得られ
る。
As shown in FIG. 5, as the content of Zr, Ti, and Ta increases, the reflectance decreases.
As shown in the figure, it was found that the specific resistance increased with an increase in the content of Zr, Ti, and Ta. In particular, Z
It was found that when the content of r, Ti, and Ta exceeded 5 at%, the reflectance decreased sharply and the specific resistance increased sharply. Therefore, in order to obtain a reflective liquid crystal display device having a metal reflective electrode (display electrode portion) having a low resistance and a small resistance variation and having a high reflectance, Zr,
It is understood that the content of Ti and Ta is preferably up to 5 at%. This effect can be obtained even when two or more of Zr, Ti and Ta are simultaneously contained and the total amount thereof is up to 5 at%.

【0050】したがって、以上説明した結果から、Al
合金は合金成分としてZr、TiおよびTaのうちの少
なくとも1種を0.1at%〜5at%含有することが
好ましく、このような合金によって作成される金属反射
電極を備えた反射型液晶表示装置は、耐エレクトロマイ
グレーション性および耐食性を向上させ、かつ、配線と
して抵抗が低く、金属反射電極(表示電極部)の反射率
が高いものとなる。
Therefore, from the results described above, it can be seen that Al
The alloy preferably contains at least one of Zr, Ti and Ta as an alloy component in an amount of 0.1 at% to 5 at%. A reflection type liquid crystal display device provided with a metal reflective electrode made of such an alloy is In addition, the electromigration resistance and the corrosion resistance are improved, the resistance as a wiring is low, and the reflectance of the metal reflective electrode (display electrode portion) is high.

【0051】なお、上記実施の形態では、金属反射電
極としてAl合金の1層膜を用いたが、Ag合金膜な
ど、多層膜からなる金属反射電極を用いてもよい。
In the first embodiment, a single-layer film made of an Al alloy is used as the metal reflective electrode. However, a metal reflective electrode made of a multilayer film such as an Ag alloy film may be used.

【0052】また、上記実施の形態では、上側基板1
3の透明電極16として、アクリル系樹脂の平坦層21
上にインジウム・スズ・オキサイドのITO膜を形成し
て用いたが、透明電極の代替としてアクリル系樹脂の平
坦層21上にSiN膜を形成し、さらにその上に透明導
電性膜を形成したものを用いてもよい。
In the first embodiment, the upper substrate 1
3 as the transparent electrode 16, a flat layer 21 of an acrylic resin
An indium-tin-oxide ITO film was formed on the upper layer, but an SiN film was formed on an acrylic resin flat layer 21 instead of a transparent electrode, and a transparent conductive film was further formed thereon. May be used.

【0053】また、上記実施の形態では、下側基板1
9にのみSiN膜7を形成した場合について説明した
が、上側基板13と下側基板19の2枚ともSiN膜が
形成されたものを用いてもよい。その場合、そのSiN
膜の上に電極パターンを形成することになる。
In the first embodiment, the lower substrate 1
Although the case where the SiN film 7 is formed only on the substrate 9 has been described, both the upper substrate 13 and the lower substrate 19 on which the SiN film is formed may be used. In that case, the SiN
An electrode pattern will be formed on the film.

【0054】また、上記実施の形態では、上側基板1
3および下側基板19はソーダライムガラスによって作
成されるとしたが、そのソーダライムガラスの代替とし
て無アルカリガラスや液晶用フィルムを用いてもよい。
In the first embodiment, the upper substrate 1
Although the third substrate 19 and the lower substrate 19 are made of soda-lime glass, non-alkali glass or a liquid crystal film may be used instead of the soda-lime glass.

【0055】また、上記実施の形態では、液晶セルを
駆動する電子部品を接続した電極部と表示部との間の電
極の露出部をアクリル系樹脂22で被覆するとしたが、
電極の露出部をシリコン系樹脂などの他の樹脂で被覆す
るとしてもよい。しかし、被覆する樹脂としては、耐エ
レクトロマイグレーション性のより向上という点で、水
の浸透に対し抑止効果のあるアクリル系樹脂が望まし
い。
In the first embodiment, the acrylic resin 22 covers the exposed portion of the electrode between the electrode portion to which the electronic component for driving the liquid crystal cell is connected and the display portion.
The exposed portion of the electrode may be covered with another resin such as a silicon-based resin. However, as a resin to be coated, an acrylic resin having an effect of suppressing water penetration is desirable from the viewpoint of improving electromigration resistance.

【0056】また、上記実施の形態では、カラー表示
の反射型液晶表示装置を用いたが、白黒表示の反射型液
晶表示装置を用いてもよい。
In the first embodiment, the reflection type liquid crystal display device for color display is used. However, a reflection type liquid crystal display device for monochrome display may be used.

【0057】さらに、上記実施の形態1の液晶表示装置
は、STNモードの液晶を用いても、TNモードやPC
GHモードなどの他の液晶モードを用いてもよく、偏光
板や高分子フィルムなどを液晶モードにあわせた構成と
してもよい。
Further, the liquid crystal display device of the first embodiment can use the TN mode or the PC even if the STN mode liquid crystal is used.
Other liquid crystal modes such as a GH mode may be used, and a structure in which a polarizing plate, a polymer film, or the like is adjusted to the liquid crystal mode may be employed.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上説明したところから明らかなよう
に、本発明の液晶表示装置によれば、水分に対してバリ
ア効果が大きいSiN絶縁性保護膜上に電極パターンを
設けることにより、隣接する電極パターン間における水
分の存在を抑制するすることができ、耐エレクトロマイ
グレーションを向上させることができる。
As is apparent from the above description, according to the liquid crystal display device of the present invention, by providing an electrode pattern on a SiN insulating protective film having a large barrier effect against moisture, an adjacent electrode is provided. The presence of moisture between the patterns can be suppressed, and the electromigration resistance can be improved.

【0059】また、本発明の上記構成の液晶セルの電極
において、前記電子部品を接続した電極の露出部を樹脂
で被覆する構成とすることで、電極露出部の電極表面や
電極パターン間における耐エレクトロマイグレーション
性を向上させた液晶表示装置を得ることができる。その
ような電子部品を接続した電極の露出部を被覆する樹脂
としてアクリル系樹脂を用いることが好ましい。
Further, in the electrode of the liquid crystal cell having the above-mentioned structure according to the present invention, the exposed portion of the electrode to which the electronic component is connected is covered with a resin, so that the exposed surface of the electrode exposed portion and the resistance between the electrode patterns can be improved. A liquid crystal display device with improved electromigration properties can be obtained. It is preferable to use an acrylic resin as a resin for covering the exposed portions of the electrodes to which such electronic components are connected.

【0060】また、反射型液晶表示装置の金属反射電極
としては、Al合金の1層膜が好ましく、合金成分とし
てZr、Ti、Taの中の少なくとも1種を0.1at
%〜5at%含有することで、金属反射電極のAl合金
材料自体の耐エレクトロマイグレーション性および耐食
性は向上し、かつ、配線として抵抗が低く、表示電極部
の反射率が高い反射型液晶表示装置を得ることができ
る。
The metal reflective electrode of the reflective liquid crystal display device is preferably an Al alloy single-layer film, and at least one of Zr, Ti, and Ta is used as an alloy component at 0.1 at.
% To 5 at%, the electro-migration resistance and corrosion resistance of the Al alloy material itself of the metal reflective electrode are improved, and a reflective liquid crystal display device having a low resistance as a wiring and a high reflectance of a display electrode portion is provided. Obtainable.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】参考例の液晶表示装置の断面図FIG. 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device of a reference example .

【図2】参考例の液晶表示装置の上側基板上に透明電極
を形成した状態の断面図
FIG. 2 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device of a reference example in a state where a transparent electrode is formed on an upper substrate.

【図3】実施の形態の液晶表示装置の断面図FIG. 3 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of Embodiment 1 .

【図4】実施の形態の液晶表示装置の下側基板上に金
属反射電極を形成した状態の断面図
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state where a metal reflective electrode is formed on a lower substrate of the liquid crystal display device of Embodiment 1 .

【図5】実施の形態に用いる金属反射電極のAl合金
に含まれるZr、Ti、Taの含有量と反射率との関係
を示す図
FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the content of Zr, Ti, and Ta contained in the Al alloy of the metal reflective electrode used in the first embodiment and the reflectance.

【図6】実施の形態に用いる金属反射電極のAl合金
に含まれるZr、Ti、Taの含有量と比抵抗との関係
を示す図
FIG. 6 is a view showing the relationship between the specific resistance and the contents of Zr, Ti, and Ta contained in the Al alloy of the metal reflective electrode used in the first embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、10 偏光板 2、11 高分子フィルム 3、13 上側基板 5、5a〜5e、16 透明電極 6、19 下側基板 7 SiN膜 8 SiO2膜 12 散乱フィルム 14 配向膜 15 カラーフィルタ 17 液晶 18 シール 20、20a〜20e Al合金電極 21 アクリル系樹脂の平坦層 22 アクリル系樹脂 23 異方性導電接着剤 24 TABテープキャリア 25 LSIチップ 26 プリント基板 31、33 ITO膜 32 Ag合金膜1, 10 Polarizing plate 2, 11 Polymer film 3, 13 Upper substrate 5, 5a to 5e, 16 Transparent electrode 6, 19 Lower substrate 7 SiN film 8 SiO 2 film 12 Scattering film 14 Alignment film 15 Color filter 17 Liquid crystal 18 Seal 20, 20a-20e Al alloy electrode 21 Flat layer of acrylic resin 22 Acrylic resin 23 Anisotropic conductive adhesive 24 TAB tape carrier 25 LSI chip 26 Printed circuit board 31, 33 ITO film 32 Ag alloy film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−146080(JP,A) 特開 平7−261186(JP,A) 特開 昭54−143246(JP,A) 特開 平8−304843(JP,A) 特開 平1−267517(JP,A) 国際公開96/8746(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1333 G02F 1/1343 G02F 1/1345 G02F 1/1335 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-9-146080 (JP, A) JP-A-7-261186 (JP, A) JP-A-54-143246 (JP, A) JP-A 8- 304843 (JP, A) JP-A-1-267517 (JP, A) International Publication 96/8746 (WO, A1) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/1333 G02F 1 / 1343 G02F 1/1345 G02F 1/1335

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 透明電極により薄膜能動素子を有しない
電極パターンが形成された上側基板と、金属反射電極に
より薄膜能動素子を有しない電極パターンが形成された
下側基板と、前記上側基板および前記下側基板それぞれ
の電極上に形成された配向膜が対向して、前記上側基板
と前記下側基板との間に液晶を挟持した液晶セルと、そ
の液晶セルを駆動する電子部品と前記液晶セルとを接続
する前記液晶セルの電極の露出部を被覆する樹脂とを備
え、 前記上側基板および前記下側基板のうち少なくとも下
側基板の材質はソーダライムガラスであり、かつその表
面上にSiN膜が形成されており更に前記SiN膜上に 前記電極パターン形成され、そ
して前記電極パターンの前記反射電極の材料がAl合金
であり、前記Al合金のAl以外の合金成分はZr、T
iおよびTaの全部または一部であり、前記Al以外の
合金成分の含有率が0.1at%〜5at%であること
を特徴とする液晶表示装置。
An upper substrate on which an electrode pattern having no thin-film active element is formed by a transparent electrode; a lower substrate on which an electrode pattern having no thin-film active element is formed by a metal reflective electrode; A liquid crystal cell in which liquid crystal is sandwiched between the upper substrate and the lower substrate, with an alignment film formed on each electrode of the lower substrate facing each other, an electronic component for driving the liquid crystal cell, and the liquid crystal cell wherein a resin for covering the exposed portion of the electrode of the liquid crystal cell, one of the upper substrate and the lower substrate, the material of at least the lower substrate is a soda lime glass, and SiN on its surface to connect the door film is formed, and further the electrode pattern formed on the SiN film, its
The material of the reflective electrode of the electrode pattern is an Al alloy
And alloy components other than Al of the Al alloy are Zr, T
i or Ta in whole or in part, other than Al
A liquid crystal display device, wherein the content of the alloy component is 0.1 at% to 5 at% .
【請求項2】 前記樹脂はアクリル系樹脂であることを
特徴とする請求項1載の液晶表示装置。
Wherein said resin is a liquid crystal display device according to claim 1 Symbol mounting, characterized in that an acrylic resin.
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