JP3218222B2 - Reflective liquid crystal display - Google Patents

Reflective liquid crystal display

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JP3218222B2
JP3218222B2 JP21929098A JP21929098A JP3218222B2 JP 3218222 B2 JP3218222 B2 JP 3218222B2 JP 21929098 A JP21929098 A JP 21929098A JP 21929098 A JP21929098 A JP 21929098A JP 3218222 B2 JP3218222 B2 JP 3218222B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射電極を有した
反射型液晶表示装置に関する
The present invention relates to a reflection type liquid crystal display device having a reflection electrode .

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の反射型液晶表示装置は、TNまた
はSTNのモードであり、透明電極を形成した2枚の基
板間に液晶を狭持した液晶セルと、この液晶セルを挟ん
で配置された一対の偏光板と、下側基板の偏光板の外側
に配置された反射板とからなっている。しかし、この構
成では、光が偏光板を4回通るため、表示が暗い。1枚
の偏光板の透過率はせいぜい45%程度であり、このと
き偏光板の吸収軸に平行な偏光の透過率はほぼ0%で、
垂直な偏光の透過率はほぼ90%である。従って、この
構成では、(0.9)4×50%=32.8%となり、
反射率は白黒パネルでも約33%で頭打ちとなる。とく
に、白黒パネルの構成でカラーフィルタを一方の基板上
に形成しているカラー液晶表示パネル表示は、カラーフ
ィルタの吸収のために白黒パネルより暗くなるため、反
射表示としての明るさを確保することが困難となる。
2. Description of the Related Art A conventional reflection type liquid crystal display device is of a TN mode or an STN mode, in which a liquid crystal cell sandwiching a liquid crystal between two substrates on which transparent electrodes are formed, and a liquid crystal cell interposed therebetween. And a reflector disposed on the lower substrate outside the polarizer. However, in this configuration, the display is dark because light passes through the polarizing plate four times. The transmittance of one polarizing plate is at most about 45%. At this time, the transmittance of polarized light parallel to the absorption axis of the polarizing plate is almost 0%.
The transmission of vertically polarized light is approximately 90%. Therefore, in this configuration, (0.9) 4 × 50% = 32.8%, and
The reflectance reaches a peak at about 33% even for a black and white panel. In particular, a color liquid crystal display panel display in which a color filter is formed on one substrate in a black and white panel configuration is darker than a black and white panel due to absorption of the color filter. Becomes difficult.

【0003】そこで、表示を明るくするために、偏光板
を液晶セルの上側の1枚だけにして、液晶セルを1枚の
偏光板と反射板で挟む構成がいくつか提案されている
(例えば、特開平07−146469、特開平07−8
4252)。この場合、偏光板を2回しか通らないの
で、白黒パネルの反射率は(0.9)2×50%=4
0.5%となり、偏光板2枚の構成に対して約23.5
%の反射率の向上が期待できる。
[0003] In order to make the display brighter, there have been proposed some arrangements in which only one polarizing plate is provided above the liquid crystal cell and the liquid crystal cell is sandwiched between one polarizing plate and a reflection plate (for example, see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-157572. JP-A-07-146469, JP-A-07-8
4252). In this case, since the light passes through the polarizing plate only twice, the reflectance of the monochrome panel is (0.9) 2 × 50% = 4.
0.5%, which is about 23.5 for the configuration of two polarizing plates.
% Reflectance can be expected to improve.

【0004】また、表示を明るくするために、偏光板を
用いない構成として、PCGHモードの反射型液晶表示
パネル(H.Seki:1996SID,P.614SID96DIGEST参照)など
も提案されている。白黒パネルとしてのこの構成の反射
率は、約66%であり、明るい表示が期待できる。
[0004] In addition, a PCGH mode reflection type liquid crystal display panel (see H. Seki: 1996SID, P.614SID96DIGEST) has been proposed as a configuration not using a polarizing plate in order to make the display brighter. The reflectance of this configuration as a monochrome panel is about 66%, and bright display can be expected.

【0005】以上のように提案されている偏光板を1枚
用いる構成または偏光板を用いない構成においては、反
射板と液晶の間の基板厚みによる視差などの問題を解決
するため、反射板と電極を兼用する金属反射電極を下側
基板に形成し、液晶セル内に反射板を配置した構成とし
ている。金属反射電極の材料としては、配線として抵抗
が低く、かつ、反射率の高い金属であるAl系、Ag系
の材料がある。そして、Ag系材料は高価であるが、A
l系材料は一般の半導体装置(すなわちSiウエハー上
に素子を形成する半導体装置)の集積回路の材料で使用
されているため、金属反射電極の材料としてはAl系材
料が実用的である。
In the configuration using one polarizing plate or no polarizing plate proposed as described above, in order to solve the problem such as parallax due to the thickness of the substrate between the reflecting plate and the liquid crystal, the reflecting plate is used. A metal reflective electrode also serving as an electrode is formed on the lower substrate, and a reflective plate is disposed in the liquid crystal cell. As the material of the metal reflective electrode, there are Al-based and Ag-based materials that are metals having low resistance and high reflectivity as wiring. Ag-based materials are expensive, but A
Since the l-based material is used as a material for an integrated circuit of a general semiconductor device (that is, a semiconductor device that forms an element on a Si wafer), an Al-based material is practical as a material for a metal reflective electrode.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、金属反射電極
としてのAl系材料では、純Alは抵抗が低いという点
では最もすぐれているが、ストレスマイグレーションや
エレクトロマイグレーションが生じるという問題点があ
る(ここでストレスマイグレーションとは応力に起因す
る薄膜のふくれ(ヒロック)および断線であって、主に
加熱により発生する。エレクトロマイグレーションとは
電気泳動に起因する薄膜状配線の断線であって主に通電
(とくに高温高湿度環境下の通電)により発生する)。
However, among Al-based materials used as metal reflective electrodes, pure Al is the best in terms of low resistance, but has the problem of causing stress migration and electromigration (here. The term “stress migration” refers to bulging and disconnection of a thin film caused by stress, which is mainly caused by heating, and the term “electromigration” refers to disconnection of thin film wiring caused by electrophoresis, which is mainly caused by electric current (especially It is generated by energization under high temperature and high humidity environment).

【0007】上記問題点を改善するAl系材料として、
各種Al合金が開発されているが、単純に合金化をする
だけでは、抵抗が高くなり、反射率も低下してしまうた
め、耐ストレスマイグレーション性、耐エレクトロマイ
グレーション性および耐食性が未だ充分でないという課
題を有していた。
As an Al-based material for improving the above problems,
Various Al alloys have been developed, but simply alloying increases the resistance and lowers the reflectivity. Therefore, the problem that the stress migration resistance, electromigration resistance, and corrosion resistance are still insufficient. Had.

【0008】本発明では、配線として抵抗が低く、表示
電極部の反射率が高く、かつ、耐ストレスマイグレーシ
ョン性、耐エレクトロマイグレーション性および耐食性
として信頼性が高い、金属反射電極を用いる反射型液晶
表示装置を提供することを目的とする。
According to the present invention, a reflective liquid crystal display using a metal reflective electrode has a low resistance as a wiring, a high reflectivity of a display electrode portion, and a high reliability in terms of stress migration resistance, electromigration resistance and corrosion resistance. It is intended to provide a device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の反射型液晶表示
装置は、透明電極により電極パターンを形成した上側基
板と、その上側基板に対向配置され、金属反射電極によ
り電極パターンを形成した下側基板と、前記透明電極の
電極パターン及び前記金属反射電極の電極パターン上に
それぞれ形成された配向膜と、前記上側基板の配向膜と
下側基板の配向膜との間に挟まれた液晶とを有する液晶
セルと、前記液晶セルに接続され、その液晶セルを駆動
する電子部品とを備え、 前記上側基板及び前記下側基板
は、SiO 2 膜を形成したソーダライムガラスであり、
前記透明電極の電極パターン及び前記金属反射電極の電
極パターンはそのSiO 2 膜上に形成され、 さらに前記
金属反射電極の電極パターンは、前記下側基板上に形成
されたTiと、Al合金との2層膜で、前記Al合金の
下層に前記Tiが設けられ、 そして前記Al合金が合金
成分としてZr、Ti、Taの中の少なくとも1種を含
有し、 さらに前記合金成分の含有量は0.1at%から
5at%であることを特徴とする
According to the present invention, there is provided a reflective liquid crystal display device comprising an upper substrate having an electrode pattern formed by transparent electrodes.
And a metal reflective electrode
A lower substrate on which an electrode pattern is formed, and the transparent electrode
On the electrode pattern and the electrode pattern of the metal reflective electrode
Each of the formed alignment films, and the alignment film of the upper substrate
Liquid crystal having a liquid crystal interposed between the lower substrate and an alignment film
Cell and connected to the liquid crystal cell to drive the liquid crystal cell
The upper substrate and the lower substrate
Is soda lime glass on which a SiO 2 film is formed,
The electrode pattern of the transparent electrode and the electrode of the metal reflective electrode
Electrode pattern is formed on the SiO 2 film, further wherein
The electrode pattern of the metal reflective electrode is formed on the lower substrate
A two-layer film of Ti and Al alloy,
The Ti is provided in a lower layer, and the Al alloy is an alloy.
Contains at least one of Zr, Ti, and Ta as a component.
And the content of the alloy component is from 0.1 at%
5 at% .

【0010】この構成によると、金属反射電極としてA
l合金の下層にTiを設けることにより、耐ストレスマ
イグレーション性、耐エレクトロマイグレーション性お
よび耐食性が向上した反射型液晶表示装置とすることが
できる。
[0010] According to this configuration, the metal reflective electrode is made of A
By providing Ti in the lower layer of the 1 alloy, a reflective liquid crystal display device having improved stress migration resistance, electromigration resistance, and corrosion resistance can be obtained.

【0011】そして、2枚の基板において、SiO2
を形成したソーダライムガラス上に、電極を形成したこ
とが好ましく、このような構成にすることで、安価なガ
ラス基板を使用することができる。
[0011] Then, in the two substrates, on a soda lime glass having an SiO 2 film is formed, it is preferable that the formation of the electrodes, with this configuration, it is possible to use an inexpensive glass substrate .

【0012】さらに、Al合金が合金成分としてZr、
Ti、Taの中の少なくとも1種を0.1at%から
at%含有することが好ましく、このような構成とする
ことで、金属反射電極のAl合金材料自体の耐ストレス
マイグレーション性、耐エレクトロマイグレーション性
および耐食性が向上し、かつ、配線として抵抗が低く、
表示電極部の反射率が高い、反射型液晶表示装置とする
ことができる。
Further , an Al alloy contains Zr as an alloy component.
0.1 at% to 5 at least one of Ti and Ta
It is preferable that the Al alloy material of the metal reflective electrode has improved stress migration resistance, electromigration resistance, and corrosion resistance, and has low resistance as a wiring.
A reflective liquid crystal display device having a high reflectance of the display electrode portion can be provided.

【0013】なお、本発明の上記構成の液晶セルの電極
において、前記電子部品を接続した電極部と表示部の電
極との間の電極の露出部を樹脂で被覆する。この構成の
被覆樹脂をアクリル系樹脂とすることが好ましい。この
ような構成とすることで、金属反射電極露出部の電極表
面や電極パターン間における耐エレクトロマイグレーシ
ョン性および耐食性が向上した反射型液晶表示装置とす
ることができる。
[0013] Incidentally, in the electrode of the liquid crystal cell having the above structure of the present invention, the exposed portion of the electrode between the electrodes of the display unit electronic part connecting the electrode portion is coated with a resin. It is preferable that the coating resin having this configuration is an acrylic resin. With such a configuration, it is possible to provide a reflective liquid crystal display device having improved electromigration resistance and corrosion resistance between the electrode surfaces of the exposed metal reflective electrode portions and between the electrode patterns.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図1〜図6を用いて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0015】(実施の形態1)図1は、第1の実施の形
態の反射型液晶表示装置の断面図である。10は偏光
板、11は高分子フィルム、12は散乱フィルム、13
は上側基板、14、15は配向膜、16は透明電極、1
7は液晶、18はシール、19は下側基板、20はAl
合金電極、21はTi電極、22はアクリル系樹脂、2
3は異方性導電接着剤、24はTABテープキャリア、
25はLSIチップ、26はプリント基板を示す。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view of a reflection type liquid crystal display device according to a first embodiment. 10 is a polarizing plate, 11 is a polymer film, 12 is a scattering film, 13
Is an upper substrate, 14 and 15 are alignment films, 16 is a transparent electrode, 1
7 is a liquid crystal, 18 is a seal, 19 is a lower substrate, 20 is Al
Alloy electrode, 21 is a Ti electrode, 22 is an acrylic resin, 2
3 is an anisotropic conductive adhesive, 24 is a TAB tape carrier,
25 denotes an LSI chip, and 26 denotes a printed circuit board.

【0016】図2は、図1の下側基板19上に、金属反
射電極であるAl合金電極20,Ti電極21を形成し
た状態の断面図である。28はソーダライムガラス基
板、27はSiO2膜を示す。ソーダライムガラス基板
28上にSiO2膜27を形成することは、液晶へのア
ルカリ溶出防止のためである。この下側基板19上に、
Ti膜21を500Å、Al合金膜20を2000Å順
次積層し、この2層膜にて同一電極パターンを形成し、
2層膜の鏡面反射タイプの金属反射電極とした。この下
側基板19の上には、トランジスタなどの薄膜能動素子
を形成していない。
FIG. 2 is a sectional view showing a state in which an Al alloy electrode 20 and a Ti electrode 21 which are metal reflective electrodes are formed on the lower substrate 19 of FIG. 28 is a soda lime glass substrate, and 27 is a SiO2 film. The formation of the SiO2 film 27 on the soda lime glass substrate 28 is for preventing alkali elution into the liquid crystal. On this lower substrate 19,
The Ti film 21 is sequentially laminated at 500 ° and the Al alloy film 20 at 2000 °, and the same electrode pattern is formed by the two layers.
A two-layer mirror-reflection type metal reflection electrode was used. On the lower substrate 19, no thin-film active element such as a transistor is formed.

【0017】そして、上側基板13には、下側基板19
と同じくソーダライムガラス基板上にSiO2膜を形成
した基板を用い、インジウム・スズ・オキサイドで透明
電極16を形成した。この上側基板13の上には、トラ
ンジスタなどの薄膜能動素子を形成していない。
[0017] Then, in the upper substrate 13, the lower substrate 19
A transparent electrode 16 was formed from indium tin oxide using a substrate in which a SiO 2 film was formed on a soda lime glass substrate in the same manner as described above. On the upper substrate 13, no thin film active element such as a transistor is formed.

【0018】上側基板13、下側基板19の電極を形成
した上に、ポリイミドのN−メチル−2−ピロリジノン
の5wt%溶液を印刷し、200℃で硬化したのち、2
50°ツイストのSTNモードの液晶を実現するように
レーヨン布を用いた回転ラビング法による配向処理を行
うことで配向膜14、15を形成した。
After the electrodes of the upper substrate 13 and the lower substrate 19 are formed, a 5 wt% solution of N-methyl-2-pyrrolidinone of polyimide is printed and cured at 200 ° C.
Alignment films 14 and 15 were formed by performing an alignment treatment by a rotational rubbing method using rayon cloth so as to realize a 50 ° twist STN mode liquid crystal.

【0019】そして、上側基板13上の周辺部には5.
5μmの径のガラスファイバーを1.0wt%混入した
熱硬化性シール樹脂18を印刷し、下側基板19上には
5.0μmの径の樹脂ビーズを200個/mm2の割合
で散布し、上側基板13と下側基板19とを互いに貼り
合わせ、150℃でシール樹脂18を硬化した後、△n
LC=0.16のエステル系ネマティック液晶に所定の量
のカイラル液晶を混ぜた液晶17を真空注入し、紫外線
硬化性樹脂で封口した後、紫外線光により硬化した。
In the peripheral portion on the upper substrate 13, 5.
A thermosetting sealing resin 18 mixed with glass fiber having a diameter of 5 μm of 1.0 wt% is printed, and resin beads having a diameter of 5.0 μm are sprayed on the lower substrate 19 at a rate of 200 beads / mm 2. After the substrate 13 and the lower substrate 19 are bonded together and the sealing resin 18 is cured at 150 ° C.,
A liquid crystal 17 obtained by mixing a predetermined amount of chiral liquid crystal with an ester nematic liquid crystal having an LC of 0.16 was injected in vacuum, sealed with an ultraviolet curable resin, and then cured with ultraviolet light.

【0020】こうして形成された液晶セルの上側基板1
3の上に、散乱フィルム12として、住友化学工業
(株)製の前方散乱フィルム(商品名ルミスティ)であ
って、散乱方向がフィルム法線から測って0°から50
°の散乱フィルムを、貼合した。その上に、高分子フィ
ルム11としてポリカーボネートを、貼付した。高分子
フィルムは11は、 遅相軸の異なる2枚の高分子フィ
ルムからなり、液晶セル側の高分子フィルムがレターデ
ーション0.3μmで遅相軸が上側基板13の配向方向
に対して90゜、上側の高分子フィルムがレターデーシ
ョン0.5μmで遅相軸が上側基板13の配向方向に対
して45゜、のものである。さらに、偏光板10として
ニュートラルグレーの偏光板(住友化学工業(株)製S
Q−1852AP)にアンチグレア(AG)処理を施し
たものを、吸収軸が高分子フィルム11の下側の遅相軸
に一致させるように貼付した。
The upper substrate 1 of the liquid crystal cell thus formed
3, a scattering film 12 is a forward scattering film (trade name: Lumisty) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., and the scattering direction is from 0 ° to 50 ° measured from the film normal.
° scattering film was laminated. Polycarbonate was adhered thereon as the polymer film 11. The polymer film 11 comprises two polymer films having different slow axes. The polymer film on the liquid crystal cell side has a retardation of 0.3 μm and the slow axis is 90 ° with respect to the orientation direction of the upper substrate 13. The upper polymer film has a retardation of 0.5 μm and a slow axis of 45 ° with respect to the orientation direction of the upper substrate 13. Further, as the polarizing plate 10, a neutral gray polarizing plate (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., S
Q-1852AP), which had been subjected to an antiglare (AG) treatment, was affixed so that the absorption axis thereof coincided with the lower slow axis of the polymer film 11.

【0021】さらに、液晶セルを駆動する電子部品とし
ては、電子部品を搭載したプリント基板26と、LSI
チップ25を搭載したTABテープキャリア24とを使
用し、プリント基板26とTABテープキャリア24を
接続した。さらに、液晶セルの電極20、21が延長さ
れて延長部100を構成し、その延長部100の先端部
100aが、TABテープキャリア24の端部と、異方
性導電接着剤23によって接続している。
Further, as the electronic components for driving the liquid crystal cell, a printed board 26 on which the electronic components are mounted and an LSI
Using the TAB tape carrier 24 on which the chip 25 was mounted, the printed circuit board 26 and the TAB tape carrier 24 were connected. Further, the electrodes 20, 21 of the liquid crystal cell are extended to form an extension 100, and the tip 100a of the extension 100 is connected to the end of the TAB tape carrier 24 by an anisotropic conductive adhesive 23. I have.

【0022】なお、その電極20、21の延長部100
が外部に露出しないように、アクリル系樹脂22をその
延長部100の一部100bに被覆した。すなわち、延
長部100の先端100aとシール18との間の部分1
00bを、日立化成工業(株)製のTUFFY(TF1
141)というアクリル系樹脂22で被覆した。
[0022] In addition, the extension of the electrodes 20, 21 100
The acrylic resin 22 was coated on a part 100b of the extension 100 so that the resin was not exposed to the outside. That is, the portion 1 between the tip 100a of the extension 100 and the seal 18
00b from TUFFY (TF1) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.
141).

【0023】この構成にて、1/240デューティ比の
単純マトリクス駆動で、反射率が低くて無彩色の黒表示
と、反射率が高くて無彩色の白表示と、黒から白まで無
彩色で変化する表示ができるノーマリーブラックモード
の反射型液晶表示装置が得られた。
With this configuration, the achromatic black display with a low reflectance, the achromatic white display with a high reflectance, and the achromatic color from black to white are obtained by simple matrix driving with a 1/240 duty ratio. A normally black mode reflective liquid crystal display device capable of changing display was obtained.

【0024】このような反射型液晶表示装置の金属反射
電極において、Al合金電極20の合金成分としてZ
r、Ti、Taの中の各1種を0at%から5at%を
越えた含有量まで変化させた場合について、金属反射電
極としての耐ストレスマイグレーション性、耐エレクト
ロマイグレーション性および耐食性、反射率、比抵抗に
ついて調べた。
In the metal reflective electrode of such a reflective liquid crystal display device, Z is used as an alloy component of the Al alloy electrode 20.
In the case where each of r, Ti, and Ta is changed from 0 at% to a content exceeding 5 at%, stress migration resistance, electromigration resistance and corrosion resistance as a metal reflective electrode, reflectance, ratio The resistance was checked.

【0025】(実施例1) Zr、Ti、Taの中の各1種を0at%から5at%
を越えた含有量までのAl合金ターゲットとTiターゲ
ットを用いて、DCマグネトロンスパッタリング法によ
り、SiO2膜を形成したソーダライムガラス基板上に
Ti膜を500Å、Al合金膜を2000Å順次積層
し、この2層膜にて同一電極パターンを形成し、2層膜
の鏡面反射タイプの金属反射電極とし、これを試料とし
た。
(Example 1) Each of Zr, Ti, and Ta was selected from 0 at% to 5 at%.
Using an Al alloy target and a Ti target up to the contents of over 500 nm, a Ti film is sequentially laminated on a soda lime glass substrate on which a SiO 2 film is formed by DC magnetron sputtering method at a thickness of 500Å and an Al alloy film at 2000Å. The same electrode pattern was formed with a two-layer film, and a two-layer film mirror-reflection type metal reflective electrode was used as a sample.

【0026】上記試料について、200℃で1時間空気
中で熱処理をした後、ストライプパターン表面に発生す
るヒロック数を測定し、ヒロック密度を求めた。その結
果を図3に示す。Zr、Ti、Taの0.1at%以上
の添加によりヒロック密度が大幅に減少し、耐ストレス
マイグレーション性が向上した。
After heat-treating the sample at 200 ° C. for 1 hour in the air, the number of hillocks generated on the surface of the stripe pattern was measured to determine the hillock density. The result is shown in FIG. By adding Zr, Ti, and Ta at 0.1 at% or more, the hillock density was significantly reduced, and the stress migration resistance was improved.

【0027】そして、上記試料について環境加速試験と
してPCT(Pressure Cooker Test:温度105℃、圧
力1.2atm、湿度100%RH)を行い、膜の耐食
性を評価した。PCT60時間後における表面観察で
は、合金の含有量が0at%すなわち純Alの金属反射
電極では、表面が変色したが、合金の含有量が0.1a
t%から5at%を越えたものでは、表面上の異常は観
察されなかった。この結果から、Zr、Ti、Taの
0.1at%以上の添加により、耐食性が向上した。
[0027] Then, PCT as an environmental acceleration test for the sample: perform (Pressure Cooker Test temperature 105 ° C., pressure 1.2 atm, humidity 100% RH), was evaluated the corrosion resistance of the film. In the surface observation after 60 hours of PCT, the discoloration of the surface occurred in the metal reflective electrode of 0 at% of the alloy content, that is, pure Al, but the content of the alloy was 0.1 a.
Above 5 at% from t%, no abnormalities on the surface were observed. From these results, the corrosion resistance was improved by adding 0.1 at% or more of Zr, Ti, and Ta.

【0028】さらに、上記金属反射電極を用いて、上記
の図1の反射型液晶表示装置の構成にて、温度60℃湿
度90%RHの環境下で、反射型液晶表示装置の通電試
験500hを行い、電極の耐エレクトロマイグレーショ
ン性を評価した。合金の含有量が0at%すなわち純A
lの金属反射電極では、断線が発生したが、合金の含有
量が0.1at%から5at%を越えたものでは、断線
などの異常もなく、表面上の異常も観察されなかった。
この結果から、Zr、Ti、Taの0.1at%以上の
添加により、耐エレクトロマイグレーション性が向上し
た。
Further , in the configuration of the reflection type liquid crystal display device shown in FIG. 1 described above, the energization test 500h of the reflection type liquid crystal display device was performed in an environment of a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% RH using the metal reflection electrode. Then, the electromigration resistance of the electrode was evaluated. The alloy content is 0 at%, that is, pure A
In the metal reflective electrode of No. 1, disconnection occurred, but when the content of the alloy exceeded 0.1 at% to 5 at%, there was no abnormality such as disconnection and no abnormality on the surface was observed.
From these results, the electromigration resistance was improved by adding 0.1 at% or more of Zr, Ti, and Ta.

【0029】以上の結果から、上記構成の金属電極にお
いて、Zr、Ti、Taの0.1at%から5at%を
越えた含有量でのAl合金では、耐ストレスマイグレー
ション性、耐エレクトロマイグレーション性および耐食
性が向上し、信頼性の高い反射型液晶表示装置とするこ
とができる。この効果は、Zr、Ti、Taの中の2種
以上を同時に含有しその総量が0.1at%から5at
%を越えた場合でも得られる。
From the above results, in the metal electrode having the above structure, in the Al alloy having a content of Zr, Ti, and Ta of 0.1 at% to more than 5 at%, the resistance to stress migration, the resistance to electromigration, and the corrosion resistance And a highly reliable reflective liquid crystal display device can be obtained. This effect is achieved by simultaneously containing two or more of Zr, Ti, and Ta, and having a total amount of 0.1 at% to 5 at%.
% Can be obtained.

【0030】(実施例2) 実施例1の場合と同様により形成した金属反射電極の試
料について、視感度の強い波長555nmに対する光の
反射率と、4探針法により比抵抗とを測定した。反射率
の結果を図4に、比抵抗の結果を図5に示す。
(Example 2) With respect to a sample of a metal reflective electrode formed in the same manner as in Example 1, the reflectance of light at a wavelength of 555 nm with high visibility and the specific resistance were measured by a four probe method. FIG. 4 shows the result of the reflectance, and FIG. 5 shows the result of the specific resistance.

【0031】Zr、Ti、Taの含有量の増大にともな
って、反射率が低下し、比抵抗は増大する。とくに、Z
r、Ti、Taの含有量5at%を越えると、反射率の
低下が急激になり、比抵抗は急激に増大する。このた
め、低抵抗でかつ抵抗バラツキの少ない配線であり、反
射率が高い表示電極部である、反射型液晶表示装置とす
るには、Zr、Ti、Taの含有量を5at%までがよ
いことがわかる。この効果は、Zr、Ti、Taの中の
2種以上を同時に含有しその総量が5at%までの場合
でも得られる。
As the contents of Zr, Ti and Ta increase, the reflectance decreases and the specific resistance increases. In particular, Z
If the content of r, Ti, and Ta exceeds 5 at%, the reflectance decreases sharply, and the specific resistance sharply increases. For this reason, in order to obtain a reflective liquid crystal display device which is a wiring having low resistance and low resistance variation and a display electrode portion having high reflectance, the content of Zr, Ti, and Ta should be up to 5 at%. I understand. This effect can be obtained even when two or more of Zr, Ti and Ta are simultaneously contained and the total amount thereof is up to 5 at%.

【0032】実施例1および実施例2から、Al合金が
合金成分としてZr、Ti、Taの中の少なくとも1種
を0.1at%〜5at%含有することが好ましく、こ
のような構成とすることで、金属反射電極のAl合金材
料自体の耐ストレスマイグレーション性、耐エレクトロ
マイグレーション性および耐食性が向上し、かつ、配線
として抵抗が低く、表示電極部の反射率が高い、反射型
液晶表示装置とすることができる。
According to Examples 1 and 2, it is preferable that the Al alloy contains at least one of Zr, Ti, and Ta as an alloy component in an amount of 0.1 at% to 5 at%. Thus, the reflection type liquid crystal display device has improved resistance to stress migration, resistance to electromigration, and corrosion resistance of the Al alloy material itself of the metal reflective electrode, low resistance as wiring, and high reflectance of the display electrode portion. be able to.

【0033】上記(実施の形態1)では、トランジスタ
などの薄膜能動素子を形成していない基板を用いたが、
下側基板の表示電極部20、21と、液晶セルを駆動す
る電子部品25を接続する電極部100aと、その間の
電極部100bとを、Ti、Al合金の2層膜とするこ
とにより、薄膜能動素子を形成した基板を用いることが
できる。
In the above (Embodiment 1), a substrate on which a thin film active element such as a transistor is not formed is used.
By forming the display electrode portions 20 and 21 of the lower substrate, the electrode portion 100a for connecting the electronic component 25 for driving the liquid crystal cell, and the electrode portion 100b therebetween as a two-layer film of Ti and Al alloy, a thin film is formed. A substrate on which an active element is formed can be used.

【0034】そして、上記(実施の形態1)では、Si
2膜を形成したソーダライムガラス基板を用いたが、
無アルカリガラス基板や液晶用フィルム基板を用いても
よい。
[0034] Then, in the (Embodiment 1), Si
Although a soda lime glass substrate with an O 2 film was used,
An alkali-free glass substrate or a liquid crystal film substrate may be used.

【0035】また、上記(実施の形態1)では、液晶セ
ルを駆動する電子部品を接続した電極部100aと表示
部電極20、21との間の電極100bの露出部をアク
リル系樹脂22で被覆したが、シリコン系樹脂などの他
の樹脂を用いて被覆してもよい。なお、被覆する樹脂と
しては、耐エレクトロマイグレーション性のより向上と
いう点で、水の浸透に対し抑止効果のあるアクリル系樹
脂が望ましい。
In the above (Embodiment 1), the acrylic resin 22 covers the exposed portion of the electrode 100b between the electrode portion 100a to which the electronic component for driving the liquid crystal cell is connected and the display electrodes 20 and 21. However, it may be covered with another resin such as a silicon-based resin. In addition , as the resin to be coated, an acrylic resin having an effect of suppressing permeation of water is preferable from the viewpoint of improving electromigration resistance.

【0036】また、上記(実施の形態1)では、金属反
射電極として鏡面タイプを用いかつ上側基板に散乱フィ
ルムを配置したが、金属反射電極を散乱タイプとしても
よい。
Further, in the above (Embodiment 1), the mirror type is used as the metal reflection electrode and the scattering film is arranged on the upper substrate, but the metal reflection electrode may be the scattering type.

【0037】また、上記(実施の形態1)では、白黒表
示の反射型液晶表示装置としたが、カラーフィルタを用
いるなどにより、カラー表示の反射型液晶表示装置とし
てもよい。
Further, in the above (Embodiment 1), the reflection type liquid crystal display device for displaying black and white is used. However, a reflection type liquid crystal display device for color display may be used by using a color filter or the like.

【0038】また、上記(実施の形態1)では、STN
モードの液晶を用いたが、TNモードやPCGHモード
などの他の液晶モードを用いて、偏光板や高分子フィル
ムなどを液晶モードにあわせた反射型液晶表示装置の構
成としてもよい。
In the above (Embodiment 1), the STN
Although the liquid crystal of the mode is used, a configuration of a reflection type liquid crystal display device in which a polarizing plate, a polymer film, or the like is adjusted to the liquid crystal mode using another liquid crystal mode such as a TN mode or a PCGH mode may be used.

【0039】以下、各実施の形態において上記実施の形
態1と同様の構成をなすものについては、同じ番号を用
いる。
In the following, in each embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals.

【0040】(実施の形態2) 図6は、第2の実施の形態の反射型液晶表示装置の断面
図である。実施の形態2における反射型液晶表示装置
は、上記実施の形態1における反射型液晶表示装置とほ
ぼ同様の構成であるが、液晶セルを駆動する電子部品2
5の実装方式として、第1の実施の形態のTAB実装方
式に対して、第2の実施の形態ではCOG実装方式とし
た点で異なる。
(Embodiment 2) FIG. 6 is a sectional view of a reflection type liquid crystal display device according to a second embodiment. The reflection type liquid crystal display device according to the second embodiment has substantially the same configuration as the reflection type liquid crystal display device according to the first embodiment.
The fifth mounting method is different from the TAB mounting method of the first embodiment in that the COG mounting method is used in the second embodiment.

【0041】すなわち、電子部品(図示省略)を搭載し
たプリント基板26と、フレキシブル基板29と、LS
Iチップ25とを使用し、プリント基板26とフレキシ
ブル基板29とを接続し、液晶セルの電極20,21と
フレキシブル基板29とを異方性導電接着剤23を介し
て接続し、さらに液晶セルの電極20,21とLSIチ
ップ25とを異方性導電接着剤23を介して接続した。
上記図示省略の電子部品とLSIチップ25によって液
晶セルを駆動する。そして、フレキシブル基板29が接
続された電極部200aと、表示部の電極との間の電極
部200b、200cを外部に露出しないようにアクリ
ル系樹脂22、22で被覆した。
That is, a printed board 26 on which electronic components (not shown) are mounted, a flexible board 29 and an LS
Using the I chip 25, the printed board 26 and the flexible board 29 are connected, the electrodes 20 and 21 of the liquid crystal cell and the flexible board 29 are connected via the anisotropic conductive adhesive 23, and The electrodes 20, 21 and the LSI chip 25 were connected via an anisotropic conductive adhesive 23.
The liquid crystal cell is driven by the electronic components (not shown) and the LSI chip 25. The electrode portions 200b and 200c between the electrode portion 200a to which the flexible substrate 29 was connected and the electrodes of the display portion were covered with acrylic resins 22 so as not to be exposed to the outside.

【0042】この実施の形態2の構成においても、1/
240デューティ比の単純マトリクス駆動で、反射率が
低くて無彩色の黒表示と、反射率が高くて無彩色の白表
示と、黒から白まで無彩色で変化する表示ができるノー
マリーブラックモードの反射型液晶表示装置が得られ
た。
Also in the configuration of the second embodiment, 1 /
A simple matrix drive with a duty ratio of 240, the achromatic black display with low reflectance, the achromatic white display with high reflectance, and the normally black mode that can display achromatically changing from black to white A reflection type liquid crystal display device was obtained.

【0043】そして、実施の形態1の実施例1および実
施例2で説明したが、このような実施の形態2の反射型
液晶表示装置の金属反射電極においても同様の効果が得
られ、Al合金が合金成分としてZr、Ti、Taの中
の少なくとも1種を0.1at%〜5at%含有するこ
とが好ましく、このような構成とすることで、金属反射
電極のAl合金材料自体の耐ストレスマイグレーション
性、耐エレクトロマイグレーション性および耐食性が向
上し、かつ、配線として抵抗が低く、表示電極部の反射
率が高い、反射型液晶表示装置とすることができる。
[0043] Then, was described in Examples 1 and 2 of the first embodiment, the same effect also in the metallic reflecting electrodes of the reflection type liquid crystal display device of Embodiment 2 is obtained, Al alloy Preferably contains 0.1 at% to 5 at% of at least one of Zr, Ti, and Ta as alloy components. With such a configuration, stress migration resistance of the Al alloy material itself of the metal reflective electrode is improved. Liquid crystal display device having improved resistance, electromigration resistance and corrosion resistance, low resistance as wiring, and high reflectance of the display electrode portion.

【0044】なお、上記(実施の形態2)では、トラン
ジスタなどの薄膜能動素子を形成していない基板を用い
たが、下側基板の表示電極部20、21と、液晶セルを
駆動する電子部品29を接続する電極部200aと、そ
の間の電極部200b、200cとが、Ti、Al合金
の2層膜であれば、薄膜能動素子を形成した基板を用い
てもよい。
In the above (Embodiment 2), a substrate on which a thin film active element such as a transistor is not formed is used. However, the display electrode portions 20 and 21 on the lower substrate and electronic components for driving the liquid crystal cell are used. If the electrode portion 200a connecting the second electrode 29 and the electrode portions 200b and 200c between them are two-layer films of Ti and Al alloys, a substrate on which a thin film active element is formed may be used.

【0045】また、上記(実施の形態2)では、SiO
2膜を形成したソーダライムガラス基板を用いたが、無
アルカリガラス基板や液晶用フィルム基板を用いてもよ
い。
In the above (Embodiment 2), SiO 2
Although a soda-lime glass substrate having two films is used, an alkali-free glass substrate or a liquid crystal film substrate may be used.

【0046】また、上記(実施の形態2)では、液晶セ
ルを駆動する電子部品を接続した電極部200aと表示
部の電極20,21との間の電極200b、200cの
露出部をアクリル系樹脂で被覆したが、シリコン系樹脂
などの他の樹脂を用いてもよい。なお、被覆する樹脂と
しては、耐エレクトロマイグレーション性のより向上と
いう点で、水の浸透に対し抑止効果のあるアクリル系樹
脂が望ましい。
In the above (Embodiment 2), the exposed portions of the electrodes 200b and 200c between the electrode portion 200a to which the electronic component for driving the liquid crystal cell is connected and the electrodes 20 and 21 of the display portion are made of acrylic resin. However, another resin such as a silicon-based resin may be used. In addition , as the resin to be coated, an acrylic resin having an effect of suppressing permeation of water is preferable from the viewpoint of improving electromigration resistance.

【0047】また、上記(実施の形態2)では、金属反
射電極として鏡面タイプを用いかつ上側基板に散乱フィ
ルムを配置したが、金属反射電極を散乱タイプとしても
よい。
Further, in the above (Embodiment 2), although the mirror type is used as the metal reflection electrode and the scattering film is arranged on the upper substrate, the metal reflection electrode may be of the scattering type.

【0048】また、上記(実施の形態2)では、白黒表
示の反射型液晶表示装置としたが、カラーフィルタを用
いるなどにより、カラー表示の反射型液晶表示装置とし
てもよい。
In the above (Embodiment 2), the reflection type liquid crystal display device for monochrome display is used. However, a reflection type liquid crystal display device for color display may be used by using a color filter or the like.

【0049】また、上記(実施の形態2)では、STN
モードの液晶を用いたが、TNモードやPCGHモード
などの他の液晶モードを用いて、偏光板や高分子フィル
ムなどを液晶モードにあわせた反射型液晶表示装置の構
成としてもよい。
In the above (Embodiment 2), the STN
Although the liquid crystal of the mode is used, a configuration of a reflection type liquid crystal display device in which a polarizing plate, a polymer film, or the like is adjusted to the liquid crystal mode using another liquid crystal mode such as a TN mode or a PCGH mode may be used.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上のように、本発明の反射型液晶表示
装置によれば、耐ストレスマイグレーション性、耐エレ
クトロマイグレーション性および耐食性が向上した反射
型液晶表示装置とすることができる。
As described above, according to the reflection type liquid crystal display device of the present invention, a reflection type liquid crystal display device having improved stress migration resistance, electromigration resistance and corrosion resistance can be obtained.

【0051】そして、2枚の基板において、SiO2
を形成したソーダライムガラス上に、電極を形成する場
合は、安価なガラス基板を使用することができ、コスト
アップを抑制することができる。
[0051] Then, in the two substrates, on a soda lime glass having an SiO 2 film is formed, when forming the electrode may be used an inexpensive glass substrate can be suppressed in cost.

【0052】さらに、Al合金が合金成分としてZr、
Ti、Taの中の少なくとも1種を0.1at%〜5a
t%含有する場合は、金属反射電極のAl合金材料自体
の耐ストレスマイグレーション性、耐エレクトロマイグ
レーション性および耐食性が向上し、かつ、配線として
抵抗が低く、表示電極部の反射率が高い、反射型液晶表
示装置とすることができる。
Further , the Al alloy contains Zr,
0.1 at% to 5 a of at least one of Ti and Ta
When t% is contained, the anti-stress migration property, electro-migration resistance, and corrosion resistance of the Al alloy material itself of the metal reflective electrode are improved, the resistance as a wiring is low, the reflectance of the display electrode portion is high, and the reflective type. A liquid crystal display device can be obtained.

【0053】なお、液晶セルの電極において、電子部品
を接続した電極部と、表示部の電極との間に存在する電
極の露出部を被覆する樹脂をアクリル系樹脂とする場合
は、金属反射電極の露出部の電極表面や電極パターン間
の耐エレクトロマイグレーション性および耐食性が向上
した反射型液晶表示装置とすることができる。
[0053] Incidentally, in the electrode of the liquid crystal cell, when the electrode portion connecting the electronic components, the resin covering the exposed portion of the electrode present between the electrodes of the display unit and the acrylic resin, a metal reflecting electrode A reflection type liquid crystal display device having improved electromigration resistance and corrosion resistance between the electrode surfaces and electrode patterns in the exposed portions of the present invention can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1におけるの反射型液晶表
示装置の断面図
FIG. 1 is a sectional view of a reflective liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1における下側基板上に金
属反射電極を形成した状態を示す断面図
FIG. 2 is a sectional view showing a state in which a metal reflective electrode is formed on a lower substrate according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例1のAl合金膜についてのZ
r、Ti、Taの含有量とヒロック密度との関係を示す
FIG. 3 shows the Z of the Al alloy film of Example 1 of the present invention.
The figure which shows the relationship between the content of r, Ti, Ta and hillock density.

【図4】本発明の実施例2のAl合金膜についてのZ
r、Ti、Taの含有量と反射率との関係を示す図
FIG. 4 shows the Z of the Al alloy film of Example 2 of the present invention.
The figure which shows the relationship between the content of r, Ti, and Ta, and a reflectance.

【図5】本発明の実施例2のAl合金膜についてのZ
r、Ti、Taの含有量と比抵抗との関係を示す図
FIG. 5 is a graph showing Z of an Al alloy film according to Example 2 of the present invention.
The figure which shows the relationship between content of r, Ti, Ta and specific resistance.

【図6】本発明の実施の形態2におけるの反射型液晶表
示装置の断面図
FIG. 6 is a sectional view of a reflective liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 偏光板 11 高分子フィルム 12 散乱フィルム 13 上側基板 14、15 配向膜 16 透明電極 17 液晶 18 シール 19 下側基板 20 Al合金電極 21 Ti電極 22 アクリル系樹脂 23 異方性導電接着剤 24 TABテープキャリア 25 LSIチップ 26 プリント基板 27 SiO2膜 28 ソーダライムガラス基板 29 フレキシブル基板 100 延長部 100a 延長部の先端 100b 延長部の一部 200a 電極部 200b 電極部 200c 電極部REFERENCE SIGNS LIST 10 polarizing plate 11 polymer film 12 scattering film 13 upper substrate 14, 15 alignment film 16 transparent electrode 17 liquid crystal 18 seal 19 lower substrate 20 Al alloy electrode 21 Ti electrode 22 acrylic resin 23 anisotropic conductive adhesive 24 TAB tape Carrier 25 LSI chip 26 Printed circuit board 27 SiO 2 film 28 Soda lime glass substrate 29 Flexible board 100 Extended section 100a Tip of extended section 100b Part of extended section 200a Electrode section 200b Electrode section 200c Electrode section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小川 鉄 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平9−171195(JP,A) 特開 平3−125443(JP,A) 特開 平5−224225(JP,A) 特開 平9−133929(JP,A) 特開 平9−138397(JP,A) 特開2000−47201(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1333 G02F 1/1335 G02F 1/1343 G02F 1/1345 G02F 1/136 G09F 9/00 - 9/46 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Ogawa Tetsudo 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) References JP-A-9-171195 (JP, A) JP-A-3-3 125443 (JP, A) JP-A-5-224225 (JP, A) JP-A-9-133929 (JP, A) JP-A 9-138397 (JP, A) JP-A-2000-47201 (JP, A) ( 58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1333 G02F 1/1335 G02F 1/1343 G02F 1/1345 G02F 1/136 G09F 9/00-9/46

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 透明電極により電極パターンを形成した
上側基板と、その上側基板に対向配置され、金属反射電
極により電極パターンを形成した下側基板と、前記透明
電極の電極パターン及び前記金属反射電極の電極パター
上にそれぞれ形成された配向膜と、前記上側基板の配
向膜と下側基板の配向膜との間に挟まれた液晶とを有す
る液晶セルと、前記液晶セルに接続され、その液晶セル
を駆動する電子部品と備え、前記上側基板及び前記下側基板は、SiO 2 膜を形成し
たソーダライムガラスであり、 前記透明電極の電極パターン及び前記金属反射電極の電
極パターンはそのSiO 2 膜上に形成され、 さらに前記金属反射電極の電極パターンは、前記下側基
板上に形成されたTiと、Al合金との2層膜で、前記
Al合金の下層に前記Tiが設けられ、 そして前記Al合金が合金成分としてZr、Ti、Ta
の中の少なくとも1種を含有し、 さらに前記合金成分の含有量は0.1at%から5at
であることを特徴とする反射型液晶表示装置。
1. A an upper substrate formed with an electrode pattern of a transparent electrode, is disposed opposite to the upper substrate, a lower substrate provided with the electrode pattern by the metal reflecting electrode, the transparent
Electrode pattern of electrode and electrode pattern of said metal reflective electrode
And alignment films formed respectively on the emission, distribution of the upper substrate
A liquid crystal cell having a liquid crystal sandwiched between the alignment film of the alignment film and the lower substrate is connected to the liquid crystal cell, and an electronic component for driving the liquid crystal cell, the upper substrate and the lower Substrate formed SiO 2 film
It was a soda lime glass, conductive electrode pattern and the metal reflection electrode of the transparent electrode
The electrode pattern is formed on the SiO 2 film, and the electrode pattern of the metal reflection electrode is formed on the lower substrate.
A two-layer film of Ti and Al alloy formed on a plate,
The Ti is provided below the Al alloy , and the Al alloy contains Zr, Ti, and Ta as alloy components.
And the content of the alloy component is from 0.1 at% to 5 at%.
% , A reflective liquid crystal display device.
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