JP3241690B2 - 同位相波面制御を備えた高平均パワー固体レーザーシステム - Google Patents

同位相波面制御を備えた高平均パワー固体レーザーシステム

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本願発明は、高平均パワーレ
ーザーシステムに関し、特に、モジュラー高平均パワー
レーザーシステム（すなわち、モジュール式の高平均パ
ワーレーザーシステム、換言すれば、組立ユニット式の
高平均パワーレーザーシステム）に関する。前記モジュ
ラー高平均パワーレーザーシステムは、並列に配置され
たパワー増幅器のフェーズドアレイ（整相列）と、適応
光学素子とを含む。前記パワー増幅器のフェーズドアレ
イは、変化するパワーレベルを有する合成ビームを合成
してつくるように、共通の主発振器に接続される。前記
適応光学素子は、大気収差を補償するように、レーザー
ビームの波面を共役位相で符号化する空間光変調器を含
む。
【０００２】
【従来の技術】高パワーレーザー武器システムは、一般
に当業者に知られている。そのような高パワーレーザー
システムの例は、本発明の承継人と同じ承継人に承継さ
れ、ここで参照することによって本願明細書にその内容
が含まれる、米国特許第５，１９８，６０７号に開示さ
れている。そのような高パワーレーザー武器システムは
通常、弾道ミサイル、巡航ミサイル、爆弾等の標的に高
パワーレーザーをロック（固定）させる、追随システム
を含む。このようなレーザー武器はこれら標的を破壊ま
たは「死滅」させるように用いられる。そのようなレー
ザー武器システムの威力は、標的におけるレーザーのパ
ワーを含めた多くの要因に左右される。多くの要因が、
標的におけるレーザーのパワーに影響することが知られ
ている。そのような要因の一つは熱焦点ぼけ（thermal
blooming：サーマルブルーミング）として知られ、米国
特許第５，１９８，６０７号に詳細に説明されている。
熱焦点ぼけ（サーマルブルーミング）を補償するため
に、例えばピーター Ｍ． リビングストン（Ｐｅｔｅ
ｒ Ｍ． Ｌｉｖｉｎｇｓｔｏｎ）による、ＬＡＳＥＲ
ＡＬＯＮＧ ＢＯＤＹ ＴＲＡＣＫＥＲ（物体追跡装置
を備えたレーザー）（ＳＡＢＯＴ）と題し、１９９６年
１０月１１日に出願され、本発明の承継人と同じ承継人
に承継された米国特許願第０８／７２９，１０８号に開
示されているように、一つの標的を死滅させるために複
数の高パワーレーザーを用いることが知られている。
【０００３】この他にも、高パワーレーザービームの波
面歪みを起こす大気収差を含めて、標的におけるレーザ
ーのパワーレベルに影響する要因が知られている。例え
ば大気収差等による、レーザービームの波面歪みを補正
するため、種々の適応光学システムが開発されている。
そのようなシステムの例は、米国特許第４，００５，９
３５；４，１４５，６７１；４，２３３，５７１；４，
３９９，３５６；４，５００，８５５；４，６７３，２
５７；４，７２５，１３８；４，７３４，９１１；４，
７３７，６２１；４，７９４，３４４；４，８１２，６
３９；４，８５４，６７７；４，９２１，３３５；４，
９９６，４１２；５，１６４，５７８；５，３４９，４
３２；５，３９６，３６４；５，５３５，０４９；及び
５，６２９，７６５号に開示されている。これら米国特
許は全てここで参照することにより、本願明細書にその
内容が含まれる。
【０００４】種々のレーザー波面補償技術が用いられて
きた。例えば、米国特許第４，００５，９３５；４，７
９４，３４４；及び５，５３５，０４９号では、歪みを
補償するため、レーザー波面の位相共役を発生させるよ
うに、ブリュアン散乱（Ｂｒｉｌｌｏｕｉｎ ｓｃａｔ
ｔｅｒｉｎｇ）技術が用いられている。他の技術として
は、空間光変調器の使用が挙げられる。空間光変調器
は、レーザービームを複数のサブアパーチャー（ｓｕｂ
ａｐｅｒｔｕｒｅｓ：副鏡）で分割して照射し、分割さ
れたレーザービームは、次に、位相面歪み（同位相波面
歪み）を検出する検出器の列（アレイ）に指向させら
れ、得られた検出値は、歪みの関数として同位相波面を
補償するように用いられる。空間光変調器を用いたシス
テムの例は、米国特許第４，３９９，３５６；４，８５
４，６７７；４，７２５，１３８；４，７３７，６２
１；及び５，１６４，５７８号に開示されている。これ
ら米国特許は全てここで参照することにより、本願明細
書にその内容が含まれる。
【０００５】上記のシステムにはいくつかの不利な点が
ある。そのひとつは、それらレーザーシステムが、ある
一定のレーザーパワー出力レベルのための固定された構
造を有しているという事実に関する。従って、そのよう
なレーザーシステムは一般に可変（ｓｃａｌａｂｌｅ：
スケーラブル）ではない。残念ながら、レーザー用途の
種類により必要なパワーレベルは異なっている。例え
ば、レーザー武器用途では、目標とされる標的の種類や
距離によって異なる出力パワーレベルが必要とされる。
そのようなレーザー武器用途では、各用途毎に別々のレ
ーザーシステムが必要とされるために、メインテナンス
に必要な交換部品の数が多くなるだけでなく、レーザー
武器システムのコストが高くなる。
【０００６】同位相波面補償を備えた周知のレーザーシ
ステムのもう一つの不利な点は、そのシステムを構成す
る種々の部品のパワーレベル能力が限られていることで
ある。例えばそのようなレーザー武器システムはレーザ
ー、通常、数キロワットのパワーレベルを有する高平均
パワー化学レーザーを用いていることが知られている。
そのような高パワー条件のために、空間光変調器はこれ
まで、上記した用途には不適当であった。そこで、その
ような高平均パワーレーザーの波面補償を行なう代替技
術が開発された。例えば、米国特許第４，３２１，５５
０号は位相共役補正を備えた高平均パワーレーザーシス
テムに関する。このシステムでは、ブリュアン散乱に基
づいて同位相波面の補正が行なわれる。米国特許第３，
８５７，３５６号は、テストビームで低いパワーレベル
を供給するように回折格子を利用した別のシステムを開
示している。'６３６号特許に開示されているシステム
もまた、同位相波面補償高平均パワーレーザーシステム
を供給するように、一つの脚部に設けられた位相シフト
装置を有する干渉計を含む。
【０００７】これらのシステムは高平均パワーレーザー
システムの同位相波面補償を行なうには適当であるが、
比較的嵩張り効率が低い。多くの用途において、特にレ
ーザー武器システム用に、より効率的でコンパクトなレ
ーザー武器の使用が望まれている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の一つの目的
は、従来技術における種々の問題点を解決することであ
る。
【０００９】本発明のもう一つの目的は、比較的高い平
均パワーレベルのレーザーシステムにおける位相歪みを
補償する波面補償システムを提供することである。本発
明の更に一つの目的は、比較的コンパクトで効率的な、
同位相波面（位相面）補償を備えたレーザーシステムを
提供することである。
【００１０】本発明の更に一つの目的は、レーザーシス
テムの構造が様々なパワーレベルの種々のレーザー用途
に用いられることができるように、可変出力パワーレベ
ルを供給する波面補償を備えたレーザーパワーシステム
を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】つまり、本発明は共通の
主発振器に結合される複数のパワー増幅器を含む可変高
パワーレーザーシステム（本願明細書で、可変とは、所
定の率で増減させる意味を含む）に関し、可変出力パワ
ーレベルを有するレーザーシステム、特に変化するパワ
ーレベル出力を必要とする用途に用いられるレーザー武
器システムに適したレーザーシステムを提供する。同位
相波面歪みを補償するために適応光学素子が設けられて
いる。それら適応光学素子は、パワー増幅器の入力側に
配置され、パワー増幅モジュールによる同位相波面歪み
を予め補償（換言すれば、前置補償）する。これら適応
光学素子はまた空間光変調器を含み、これら空間光変調
器は、大気収差による波面歪みを補償するように、共役
位相で波面を符号化する。
【００１２】本発明の上記及び他の目的は、以下の記載
と添付の図面を参照することにより容易に理解されるで
あろう。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明は、波面補償を備えた、比
較的高い平均パワーのレーザーシステムに関する。本発
明によるレーザーシステムは、比較的高い平均パワーの
用途での使用に適しているので、レーザー武器システム
での使用に適している。本発明の重要な特徴は、前記レ
ーザーシステムが、異なるパワーレベル用途のために出
力パワーレベルを変化（本願明細書で、変化とは、所定
の率で増減させる意味を含む）させることができる、並
列に配置された複数のパワー増幅器を含む可変構造を備
えていることである。上記したように、レーザー武器用
途のような種々のレーザー用途では、目標とされる標的
の種類及び距離によって異なるパワー出力レベルが必要
とされる。本発明によるレーザーシステムの可変構造
は、特にレーザー武器システムに適しており、また大気
収差によって起こるレーザービームの波面歪みを補償す
る、周知の空間光変調器のパワーレベル能力と両立させ
ることができる。
【００１４】図１と図４に、波面補償を備えた可変パワ
ー出力レベルを有するモジュラーレーザーシステムを示
し、そのシステム全体を参照符号２０で識別する。上記
したように、本発明の重要な特徴は、モジュラーレーザ
ーシステム２０が比較的高い平均パワーのレーザーシス
テムの波面補償に備えることができるので、高エネルギ
ーレーザー武器システムでの使用に適しているという事
実に関する。図１において、モジュラーレーザーシステ
ム２０は複数のモジュラー増幅アーム２２、２４、２６
を含み、これらモジュラー増幅アームは共通の主発振器
２８に接続されて、本発明による、波面補償を備えた可
変高平均パワー固体レーザーシステムを構成する。後に
より詳細に説明するように、モジュラーレーザーシステ
ム２０は、比較的限られたパワーレベル能力を有する適
応光学素子（すなわち、適応制御光学素子、さらに換言
すれば、適応制御光学装置）を利用しながらパワー出力
レベルを変化させることができる。より具体的には、各
モジュラー増幅アーム２２、２４、２６は、パワー増幅
器４０、４２、４４に加えて適応光学素子２８、３０、
３２と前置増幅器（すなわち、プリアンプ）３４、３
６、３８を含み、これらはすべて直列に結合されてい
る。モジュラーレーザーシステムのパワー出力は、主発
振器２８に接続される並列に配置されたモジュラー増幅
アーム２２、２４、２６の数によって変化させられる。
図１と図４には３つのモジュラー増幅アーム２２、２
４、２６を示すが、主発振器２８のパワー能力によって
は更にモジュラー増幅アームを追加することができる。
【００１５】図２と図３に示すように、モジュラー増幅
アーム２２、２４、２６に適応光学素子２８、３０、３
２を設けることによって、前記モジュラーレーザーシス
テムは、パワー能力が数キロワットに限られた空間光変
調器を含む、公知の適応光学素子を利用することができ
る。図２と図３は、（適応光学モジュールとしての）適
応光学素子２８、３０、３２を、（パワー増幅器として
の）モジュラー増幅アーム２２、２４、２６の下流側に
配置する場合と上流側に配置する場合との違いを示す。
図２に示すシステムと図３に示すシステムは共に波面補
償を行なう。より具体的には、まず図２において、平坦
な入力波面４６に対して、出力波面４８には、（増幅器
モジュールとしての）パワー増幅器４０、４２、４４に
より歪みが発生する。パワー増幅器（増幅器モジュー
ル）４０、４２、４４から出力された歪んだ出力波面４
８は、比較的平坦な出力波面４９を供給するように、適
応光学素子２８、３０、３２により補正される。しか
し、図２のようにパワー増幅器４０、４２、４４の下流
側に適応光学素子２８、３０、３２を配置すると、適応
光学素子２８、３０、３２に大きなパワー負荷がかか
る。残念なことに、図２に示すトポロジーでは、比較的
高い平均パワーのレーザーシステムの場合、空間光変調
器を含む種々の適応光学素子のパワー能力が超えられて
しまう。例えば、１２キロワット出力を有する図１に示
すようなモジュラーレーザーシステム２０の場合、各モ
ジュラー増幅アーム２２、２４、２６は、多くの既知の
空間光変調器のパワー能力を超える、４キロワットのパ
ワーを受けることになる。上記したように、既知の空間
光変調器のパワー能力はほんの数キロワットに過ぎな
い。そのため、図２に示すトポロジーは空間光変調器に
は不適当である。
【００１６】図３に示すトポロジーでは、モジュラーレ
ーザーシステム２０は波面補償を行なう既知の空間光変
調器を利用することができる。具体的には、図３に示す
態様において、適応光学素子２８、３０、３２はパワー
増幅器４０、４２、４４の上流側に配置されている。こ
のようなトポロジーでは、平坦な入力波面４６に対し
て、適応光学素子２８、３０、３２は位相共役波面５０
を発生させ、次にこの位相共役波面がパワー増幅器４
０、４２、４４に供給される。パワー増幅器４０、４
２、４４からは、平坦な波面５２が出力される。図３の
トポロジーでは、上記の例を用いて各パワー増幅器４
０、４２、４４の利得が３キロワットであると仮定する
と、適応光学素子２８、３０、３２は、既知の空間光変
調器の２キロワット範囲内に十分入る、わずか１キロワ
ットのパワーレベルを受ける。
【００１７】再び図１において、主発振器２８は、放射
線又は光のパルスをモジュラー増幅アーム２２、２４、
２６に供給する。主発振器２８は、ガスレーザー、色素
レーザー、固体レーザー等の従来のレーザーであってよ
い。主発振器２８は、複数のビームスプリッター５４、
５６、５８を介してモジュラー増幅アーム２２、２４、
２６に結合されている。ビームスプリッター５４、５
６、５８は通常のビームスプリッターであり、主発振器
２８から発生した光ビームの一部をモジュラー増幅アー
ム２２、２４、２６の各々に指向させるように用いられ
る。上記したような典型的な１２キロワット出力のレー
ザーシステムの場合、主発振器２８は、約３キロワット
程度の出力パワーを有するように選択される。
【００１８】ビームスプリッター５４、５６、５８から
供給される分散された光のパルスは適応光学素子２８、
３０、３２に供給され、これらの適応光学素子は、後に
より詳細に説明するように、大気収差によって起こる標
的での出力レーザービームの波面歪みの、光学的パラメ
ーターの歪みを補償する。前置増幅器３４、３６、３８
は、主発振器２８から供給される分散された光ビームの
パルスを増幅し、増幅された光ビームのパルスは、次に
パワー増幅器４０、４２、４４により更に増幅される。
パワー増幅器４０、４２、４４はコヒーレントな出力ビ
ームを供給するように用いられ、その出力ビームは、後
により詳細に説明するが、可変高平均パワーレベル出力
光ビームを供給するように、ビーム結合器によって結合
されることができる。
【００１９】適応光学素子２８、３０、３２について
は、後により詳細に説明する。典型的な前置増幅器３
４、３６、３８は、Ｎｄ：ＹＡＧスラブのような利得媒
質と、ダイオードレーザー列（ダイオードレーザーアレ
イ）のような光学的ポンピング手段とからなる低パワー
（１キロワットレベル）増幅モジュールであってよい。
上記の例では、前置増幅器３４、３６、３８は、約２０
程度の利得を有するように選択される。各パワー増幅器
４０、４２、４４は、３つの１キロワットモジュール利
得セクションからなり３キロワットの増幅を行なうよう
に選択されてよい。適当なパワー増幅器４０、４２、４
４はダイオードポンプ高パワーＮｄ：ＹＡＧスラブレー
ザーである。
【００２０】典型的な高平均パワー固体レーザーシステ
ム７０を図４に示す。図４に示す高平均パワー固体レー
ザーシステム７０は、例えば固体レーザー等の主発振器
７２を含み、この主発振器はそれ自身の、比較的平坦な
出力波面を供給する適応光学素子７４を含む。主発振器
７２の適応光学素子７４は、主発振器７２によって起こ
る波面位相歪みを補償する、低速空間光変調器であって
よい。典型的な主発振器７２は、ほぼ回折限界（ｄｉｆ
ｆｒａｃｔｉｏｎ−ｌｉｍｉｔｅｄ）にあるビーム品質
を有するＮｄ：ＹＡＧレーザーからなる。典型的な適応
光学素子７４は、位相プロファイルを調整する電子的手
段を備えた液晶位相変調器列である。このような主発振
器及び適応光学素子は当業者に知られている。
【００２１】主発振器７２はパルス化された光ビームを
発生させ、発生した光ビームは、複数のビームスプリッ
ター８２、８４、８６を介して分散（分配）され、並列
接続された複数のモジュラー増幅アーム７６、７８、８
０に入射する。分散され入射したパルス化光ビームは適
応光学素子８８、９０、９２に供給される。これら適応
光学素子は、後に詳細に説明するが、大気収差によるレ
ーザー波面の歪みに加えパワー増幅器によって起こる光
路歪みを補償し、これによって、比較的平坦な同位相波
面を有するコヒーレントな光ビームを供給することがで
きる。適応光学素子８８、９０、９２の出力は、前置増
幅器９４、９６、９８に供給され、これによって、主発
振器７２で発生し分散された光パルスが増幅される。前
置増幅器９４、９６、９８の出力は、イメージリレー
（ｉｍａｇｅ ｒｅｌａｙ）１００，１０２、１０４に
供給される。イメージリレー１００，１０２、１０４
は、パワー抽出を最適化し、回折によって起こるビーム
流出によるポテンシャルダメージを避けるために、一つ
の利得モジュールから次の利得モジュールまでの近距離
場ビームプロファイル（すなわち、近距離場ビーム輪
郭）を維持する。そのようなイメージリレーは当業者に
知られている。各イメージリレー１００、１０２、１０
４内に設けられた開口はまた、寄生振動（寄生発振）を
起こす虞のある、望ましくない光の利得セクションの通
過を妨げる。イメージリレー１００、１０２、１０４の
出力は、図示されるように３つの利得セクション１１
２、１１４、１１６を備えた複数のパワー増幅器１０
６、１０８、１１０に供給される。パワー増幅器１０
６、１０８、１１０はコヒーレントな増幅出力ビーム１
１２、１１４、１１６を供給し、これら増幅出力ビーム
は、ビーム結合器１１８に結合させて、これにより、高
平均パワー出力ビーム１２０を供給するようにしてもよ
い。上記したように、高平均パワー出力ビーム１２０の
パワーレベルは、高平均パワー固体レーザーシステム７
０に含まれるモジュラー増幅アーム７６、７８、８０の
数により変化させることができる。
【００２２】高平均パワー出力ビーム１２０の波面は波
面センサー１２１により検知されるが、この波面センサ
ーは、ホログラフィック位相共役を発生させるように、
即ち、大気収差による同位相波面の歪みを補償する位相
共役波で波面を符号化するように、適応光学素子８８、
９０、９２と共に閉じたループを形成するフィードバッ
クコントローラーを構成している。各適応光学素子８
８、９０、９２は、低速空間光変調器１２２と比較的高
速の空間光変調器１２４とを含んでいてもよい。低速空
間光変調器１２２は、パワー増幅器１０６、１０８、１
１０による光ビームの比較的低速の波の歪みを予め補償
（前置補償）する。比較的高速の空間光変調器１２４
は、大気収差による歪みを補償するように共役波による
波面の符号化に備えて、低速空間光変調器１２２と直列
に結合される。比較的高速の空間光変調器１２４の各々
は、個々にアドレス可能なピクセルの列からなっていて
もよい。波面センサー１２１の制御下においてこれらの
ピクセルは、共役位相波面を生成するように、高平均パ
ワー出力ビーム１２０の波面の関数として変調される。
【００２３】典型的な波面センサーは、マッハ−ツェン
ダー干渉計（Mach-Zehnder interferometer）からな
る。この干渉計では、図５に示すように、主発振器の出
力のうち少量の部分が参照波（基準波）を供給し、これ
によって、出力ビームの少量の部分をサンプリングする
（抽出する）ことにより増幅器の出力ビームの干渉図形
像（インターフェログラム・イメージ）を形成すること
ができる。干渉図形像（インターフェログラム・イメー
ジ）は、位相誤差を、電子フォトダイオード列又はＣＣ
Ｄカメラと、電子撮像装置（例えば、フレームグラッバ
ーと処理ソフトウェアとを有するコンピューター）によ
り観察、記録することができる輝度変化に変換する。サ
ンプリングされた（抽出された）ビームの各位置毎のイ
メージ輝度により示される、位相誤差の大きさについて
得られた情報は、波面データを含んでいる。適応光学素
子（ＡＯ）コントローラーは、このデータを用いて、各
増幅器路にあるＡＯの各ピクセル毎に波面の共役を発生
させる。
【００２４】ＡＯ素子は、ＡＯコントローラーにより別
々に駆動される低速部分と高速部分からなる。低速ＡＯ
は、比較的広いダイナミックレンジ（数ウェーブ）を有
するが反応の遅い（秒）位相シフターの列を有する、液
晶（ＬＣ）空間光変調器（ＳＬＭ）からなっていてもよ
い。高速ＡＯもまた、より狭いレンジ（１ウェーブま
で）用に最適化されているがずっと反応が速い（１００
０分の１秒未満、すなわち、ミリセカンド未満）、ＬＣ
−ＳＬＭ列を用いて構成されていてもよい。ＡＯコント
ローラーの各部分を駆動するように、波面データの低速
成分と高速成分とが処理装置（プロセッサー）で分離さ
れる。
【００２５】図４に示す高平均パワー固体レーザーシス
テム７０を用いて、波面補償を備えた高平均パワー固体
レーザーを形成するようにしてもよい。そのような高平
均パワー固体レーザーは、コンパクトで効率的であるの
に加えて、必要とされるパワーレベルが変化する用途に
おいて有用な可変パワー出力を供給する。レーザー武器
に使用される固体レーザーの破壊レベルを高めるため、
高平均パワー固体レーザーシステムは、大気収差を補償
するために同位相波面を位相共役波で符号化するのに加
えて光学部品による歪みを補償する、適応光学素子を提
供する。
【００２６】上記で教示される点を考慮して本発明の多
くの変更、変形が可能であることは明らかである。この
ように、請求の範囲内であれば、本発明は特に上記され
ている以外の態様でも実施してもよいことが理解されよ
う。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明による、可変パワー出力を有す
るレーザーシステムの概要を示すブロック図である。
【図２】図２は、図１のシステムの一部を示すブロック
図であるが、適応光学素子がパワー増幅器の下流側に配
置されている。
【図３】図３は、図２と同様の図であるが、適応光学素
子がパワー増幅器の上流側に配置されるように示されて
いる。
【図４】図４は、本発明による、可変パワー出力レベル
を有し、大気収差とパワー増幅器によって起こる歪みの
同位相波面補償を含むレーザーシステムのブロック図で
ある。
【図５】図５は、本発明による、典型的な波面センサー
のブロック図である。
【符号の説明】
２０ モジュラーレーザーシステム ２１ 共通
の主発振器 ２２、２４、２６ モジュラー増幅アーム ２８、３０、３２ 適応光学素子 ３４、３
６、３８ 前置増幅器 ４０、４２、４４ パワー増幅器 ４６ 平坦
な入力波面 ４８ 歪んだ出力波面 ４９ 比較
的平坦な出力波面 ５０ 位相共役波面 ５２ 平坦
な波面 ５４、５６、５８ ビームスプリッター ７０ 高平均パワー固体レーザーシステム ７２ 主発振器 ７４ 適応
光学素子 ７６、７８、８０ モジュラー増幅アーム ８２、８４、８６ ビームスプリッター ８８、９０、９２ 適応光学素子 ９４、９
６、９８ 前置増幅器 １００、１０２、１０４ イメージリレー １０６、１０８、１１０ パワー増幅器 １１２、１１４、１１６ 利得セクション １１８ ビーム結合器 １２０ 高
平均パワー出力ビーム １２１ 波面センサー １２２ 低
速空間光変調器 １２４ 比較的高速の空間光変調器 １３２、１３４、１３６ 増幅出力ビーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−132725（ＪＰ，Ａ) 特表 昭63−502526（ＪＰ，Ａ) 米国特許4798462（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01S 3/10 - 3/139 F41H 13/00

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 可変出力パワーレベルを有する高平均パ
    ワーレーザーシステムであって、前記レーザーシステム
    は、 主発振器と、 少なくとも一つのモジュラー増幅アームと、 少なくとも一つの第１適応光学素子と、 ビーム結合器とを備え、 前記主発振器は、パルス化された光ビームを発生させ、 前記少なくとも一つのモジュラー増幅アームは、出力光
    ビームを供給し、 各モジュラー増幅アームは、前記主発振器に光学的に結
    合されており、前記主発振器から発生した前記パルス化
    された光ビームを増幅し出力光ビームを形成するパワー
    増幅器を含み、 前記少なくとも一つの第１適応光学素子は、前記出力光
    ビームの波面を位相共役波で符号化することにより、大
    気収差による前記出力光ビームの波面歪みを補償し、 前記ビーム結合器は、前記モジュラー増幅アームからの
    前記出力光ビームを結合し可変合成出力ビームを供給
    し、前記可変合成出力ビームのパワーレベルは、前記レ
    ーザーシステムに接続されるモジュラー増幅アームの数
    の関数である、高平均パワーレーザーシステム。
  2. 【請求項２】 請求項１において、更に、前記モジュラ
    ー増幅アームのうちの少なくとも一つに設けられた第１
    適応光学素子を含む、高平均パワーレーザーシステム。
  3. 【請求項３】 請求項２において、前記可変合成出力ビ
    ームの前記パワーレベルが前記モジュラー増幅アームの
    各々のパワー能力を超えるように、前記レーザーシステ
    ムが構成されている、高平均パワーレーザーシステム。
  4. 【請求項４】 請求項３において、前記第１適応光学素
    子が第１空間光変調器を含む、高平均パワーレーザーシ
    ステム。
  5. 【請求項５】 請求項４において、前記第１空間光変調
    器が、ホログラフィック位相共役を発生させる比較的高
    速の空間光変調器である、高平均パワーレーザーシステ
    ム。
  6. 【請求項６】 請求項５において、更に第２適応光学素
    子を含む、高平均パワーレーザーシステム。
  7. 【請求項７】 請求項６において、前記第２適応光学素
    子が前記第１適応光学素子に直列に結合されている、高
    平均パワーレーザーシステム。
  8. 【請求項８】 請求項７において、前記第２適応光学素
    子が第２空間光変調器を含む、高平均パワーレーザーシ
    ステム。
  9. 【請求項９】 請求項８において、前記第２空間光変調
    器が、前記モジュラー増幅アームによる波面歪みを補償
    する低速空間光変調器である、高平均パワーレーザーシ
    ステム。
  10. 【請求項１０】 請求項１において、前記レーザーシス
    テムが、前記パルス化された光ビームを前記主発振器か
    ら複数のモジュラー増幅アームへ分配する少なくとも一
    つのビームスプリッターを含む、高平均パワーレーザー
    システム。
  11. 【請求項１１】 請求項１において、各モジュラー増幅
    アームが、前記主発振器から発生した前記パルス化され
    た光ビームを増幅する前置増幅器を含む、高平均パワー
    レーザーシステム。
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