JP3239004B2 - Semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents

Semiconductor device and manufacturing method thereof

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JP3239004B2
JP3239004B2 JP1372394A JP1372394A JP3239004B2 JP 3239004 B2 JP3239004 B2 JP 3239004B2 JP 1372394 A JP1372394 A JP 1372394A JP 1372394 A JP1372394 A JP 1372394A JP 3239004 B2 JP3239004 B2 JP 3239004B2
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lead
layer
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resin layer
anisotropic conductive
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  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置及びその製造
方法に係り、特に、多ピンのICパッケージ及びその製
造方法に関する。
The present invention relates to a semiconductor device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a multi-pin IC package and a method of manufacturing the same.

【0002】近年、LSI等の半導体装置では、高集積
化、高速化、高パワー化が要求されているが、高周波に
おけるデバイスの誤動作等が問題になっている。そこ
で、高周波における電気特性のよいICパッケージが必
要とされている。
In recent years, semiconductor devices such as LSIs have been required to have higher integration, higher speed, and higher power. However, malfunction of devices at high frequencies has become a problem. Therefore, there is a need for an IC package having good electrical characteristics at high frequencies.

【0003】[0003]

【従来の技術】図11は、従来の一例のTAB(Tap
e Automated Bonding)方式のIC
パッケージの断面図を示す。タブテープでは、樹脂製の
テープ部材13に、接着材12により銅箔製のリード9
が接合されている。ICチップ15上には、電極部分に
バンプ14が形成されており、ICチップ15の電極
は、このバンプ14を介して、リード9のインナリード
部9aに接続されている。リード9のアウタリード部9
bは、樹脂封止後に、ICパッケージの外に突出する。
2. Description of the Related Art FIG. 11 shows an example of a conventional TAB (Tap).
e Automated Bonding) IC
1 shows a cross-sectional view of a package. In the tab tape, a lead 9 made of copper foil is attached to a tape member 13 made of resin by an adhesive 12.
Are joined. A bump 14 is formed on an electrode portion on the IC chip 15, and an electrode of the IC chip 15 is connected to the inner lead portion 9 a of the lead 9 via the bump 14. Outer lead portion 9 of lead 9
b projects out of the IC package after resin sealing.

【0004】タブテープ13上には、所定のピッチで、
多数のリード9が配設され、各リード9のインナリード
部9aがICチップ15の電極に接続されている。リー
ド9の中には、信号用リード、電源用リード、及びグラ
ンド用リードがある。
On the tab tape 13, at a predetermined pitch,
A large number of leads 9 are provided, and inner leads 9 a of each lead 9 are connected to electrodes of the IC chip 15. The leads 9 include a signal lead, a power supply lead, and a ground lead.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】図11に示す従来のI
Cパッケージでは、導電層が幅の狭いリード9のみの単
層であり、広い面積のグランド層、電源層を設けること
ができない。このため、高周波においては、グランド線
と電源線のインダクタンス及び抵抗が大きく、電気特性
が良くない。高速なICでは、この高周波における電気
特性が良くないことに起因して誤動作するという問題が
ある。
The conventional I shown in FIG.
In the C package, the conductive layer is a single layer including only the narrow lead 9, and a ground layer and a power supply layer having a large area cannot be provided. Therefore, at high frequencies, the inductance and resistance of the ground line and the power line are large, and the electrical characteristics are not good. There is a problem that a high-speed IC malfunctions due to poor electrical characteristics at high frequencies.

【0006】そこで、最近では、樹脂層を介して導電層
を多層に設けた、多層タブテープを用いることが検討さ
れている。多層タブテープでは、高周波における電気特
性を改善することができる。しかし、多層タブテープで
は、導電層間を接続するスルーホールが必要となり、製
造が難しく、コスト高、信頼性の問題がある。
Therefore, recently, use of a multilayer tab tape in which conductive layers are provided in multiple layers via a resin layer has been studied. In the multilayer tab tape, electrical characteristics at high frequencies can be improved. However, the multilayer tab tape requires through holes for connecting the conductive layers, and is difficult to manufacture, and has problems of high cost and reliability.

【0007】本発明は、上記の点に鑑みてなされたもの
で、高周波における電気特性が良く、かつ、低コストな
半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above points, and has as its object to provide a low-cost semiconductor device having good electric characteristics at high frequencies and a method of manufacturing the same.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題は、請求項1の
発明では、複数のリード部材の各内部リード部に半導体
チップの電極が接続されており、前記リード部材の外部
リード部が突出した状態で樹脂封止された半導体装置に
おいて、上記リード部材に重ねて接合された異方性導電
樹脂層と、上記異方性導電樹脂層を介して上記リード部
材と対向するように上記異方性導電樹脂層に接合されて
おり、かつ、上記異方性導電樹脂層を介して所定の上記
リード部材と電気的に接続されているグランド層又は電
源層としての導電層とを設けた構成により解決される。
According to a first aspect of the present invention, an electrode of a semiconductor chip is connected to each internal lead of a plurality of lead members, and the external lead of the lead member protrudes. In a semiconductor device resin-sealed in a state, the anisotropic conductive resin layer overlapped and bonded to the lead member and the anisotropic conductive resin layer facing the lead member via the anisotropic conductive resin layer. A solution is provided by a configuration in which a ground layer or a conductive layer as a power supply layer, which is joined to the conductive resin layer and is electrically connected to the predetermined lead member via the anisotropic conductive resin layer, is provided. Is done.

【0009】請求項2の発明では、前記リード部材の前
記異方性導電樹脂層との接合面上、又は前記導電層の上
記異方性導電樹脂層との接合面上、或いは上記リード部
材の上記異方性導電樹脂層との接合面上及び上記導電層
の上記異方性導電樹脂層との接合面上の両接合面上の対
向する位置に、上記リード部材と上記導電層とを電気的
に接続するための突起を有し、上記突起で上記異方性導
電樹脂層が圧縮されて上記リード部材と上記導電層とが
電気的に導通している構成とする。
According to the second aspect of the present invention, on the joint surface of the lead member with the anisotropic conductive resin layer, on the joint surface of the conductive layer with the anisotropic conductive resin layer, or on the lead member. The lead member and the conductive layer are electrically connected at opposing positions on the joint surface with the anisotropic conductive resin layer and on the joint surface of the conductive layer with the anisotropic conductive resin layer. And a protrusion for electrically connecting the lead member to the conductive layer by compressing the anisotropic conductive resin layer with the protrusion.

【0010】請求項7の発明では、前記導電層が、前記
異方性導電樹脂層を介して積層されている構成とする。
In the invention according to claim 7, the conductive layer is laminated via the anisotropic conductive resin layer.

【0011】請求項8の発明では、前記導電層は、前記
リード部材中の所定のリード部材毎に分割して配設され
ている構成とする。
In the invention according to claim 8, the conductive layer is divided and provided for each predetermined lead member in the lead member.

【0012】請求項9の発明では、前記リード部材は、
テープ部材上に形成された所定パターンの金属箔リード
である構成とする。
According to the ninth aspect of the present invention, the lead member is
It is configured to be a metal foil lead of a predetermined pattern formed on a tape member.

【0013】[0013]

【作用】請求項1の発明では、リード部材に異方性導電
樹脂層を介して積層した導電層を持つ多層構造を実現す
ることができる。このため、広い面積の電源層又はグラ
ンド層を設けることができ、従来の単層構造の半導体装
置に比べて、高周波における電気特性を大幅に改善する
ことを可能とする。
According to the first aspect of the present invention, a multilayer structure having a conductive layer laminated on a lead member via an anisotropic conductive resin layer can be realized. For this reason, a power supply layer or a ground layer having a large area can be provided, and electric characteristics at high frequencies can be significantly improved as compared with a conventional semiconductor device having a single-layer structure.

【0014】また、リード部材、異方性導電樹脂層及び
上記導電層を接合し、異方性導電樹脂層の所定部分を介
して所定のリード部材と導電層とを電気的に接続するこ
とで多層化ができる。このため、スルーホールを形成す
る必要が無く、低コストでかつ信頼性の高い多層構造を
実現することを可能とする。
Further, the lead member, the anisotropic conductive resin layer and the conductive layer are joined, and a predetermined lead member and the conductive layer are electrically connected via a predetermined portion of the anisotropic conductive resin layer. Multi-layering is possible. For this reason, it is not necessary to form a through hole, and a low-cost and highly reliable multilayer structure can be realized.

【0015】請求項2の発明では、リード部材と導電層
で異方性導電樹脂層を挟んで、リード部材、導電層及び
異方性導電樹脂層を圧着するだけで、突起部分でリード
部材と導電層とを電気的に導通させることができる。こ
のため、更に容易に多層化を行うことを可能とする。
According to the second aspect of the present invention, the lead member, the conductive layer and the anisotropic conductive resin layer are simply press-bonded with the anisotropic conductive resin layer interposed between the lead member and the conductive layer. The conductive layer can be electrically connected to the conductive layer. For this reason, it is possible to more easily perform multilayering.

【0016】請求項7の発明では、複数の種類の異なる
導電層を設けることができるため、複数種類の電源、グ
ランドを有する場合でも、広い面積の電源層、グランド
層を設けて、高周波における電気特性を改善することを
可能とする。
According to the seventh aspect of the present invention, a plurality of types of different conductive layers can be provided. Therefore, even when a plurality of types of power supply and ground are provided, a power supply layer and a ground layer having a large area are provided so that electric power at a high frequency can be provided. It is possible to improve characteristics.

【0017】請求項8の発明では、所望の電気特性に合
わせて、所定のリード部材毎に分割した導電層を設ける
ことを可能とする。
According to the invention of claim 8, it is possible to provide a conductive layer divided for each predetermined lead member in accordance with desired electric characteristics.

【0018】請求項9の発明では、テープ部材上に形成
された金属箔リードに半導体チップの電極を接続する方
式の半導体装置において、高周波における電気特性の優
れており、かつ、低コストで信頼性の高い多層構造を実
現することを可能とする。
According to a ninth aspect of the present invention, in a semiconductor device of a type in which an electrode of a semiconductor chip is connected to a metal foil lead formed on a tape member, the electrical characteristics at high frequencies are excellent, the cost is low, and the reliability is low. It is possible to realize a multi-layer structure having a high density.

【0019】[0019]

【実施例】図1は本発明の第1実施例のTAB方式のI
Cパッケージの断面図を示す。同図中、図11と同一構
成部分には、同一符号を付す。タブテープを構成するポ
リイミド樹脂等の樹脂製のテープ部材13に、接着材1
2により銅箔製のリード111 が接合されている。IC
チップ15の電極は、電極上に形成されたバンプ14を
介して、リード111 のインナリード部111aに接続さ
れている。リード111 のアウタリード部111bは、樹
脂封止後に、ICパッケージの外に突出する。
1 is a block diagram showing a first embodiment of the TAB system according to the present invention.
1 shows a cross-sectional view of a C package. In the figure, the same components as those in FIG. 11 are denoted by the same reference numerals. An adhesive 1 is applied to a tape member 13 made of a resin such as a polyimide resin constituting the tab tape.
Copper foil made of lead 11 1 is joined by two. IC
Electrode of the chip 15, via the bumps 14 formed on the electrode, is connected to the inner lead portion 11 1a of the lead 11 1. The outer lead portions 11 1b of the lead 11 1, after resin sealing, projecting out of the IC package.

【0020】テープ部材13上には、所定のピッチで、
略帯状のリード111 が多数配設され、各リード111
のインナリード部111aがICチップ15の電極に接続
されている。リード111 の中には、信号用リード、電
源用リード、及びグランド用リードがある。
On the tape member 13, at a predetermined pitch,
A large number of substantially strip-shaped leads 11 1 are provided, and each lead 11 1
The inner lead portions 11 1a is connected to the electrode of the IC chip 15. Some leads 11 1, signal leads, power lead, and a ground lead.

【0021】電源用又はグランド用のリード111 の上
面には、突起18が形成されている。この突起18は、
リード111 の上面のエッチング、プロセスバンプ又は
ボールバンプによるバンプの形成、金型による加工等に
より形成される。
[0021] power supply or the upper surface of the lead 11 1 for ground, the projection 18 is formed. This projection 18
Lead 11 1 of the upper surface of the etching, the formation of bumps by a process bump or ball bumps are formed by machining or the like with a die.

【0022】リード111 の上面には、異方性導電樹脂
フィルム(ACF)16が接合されている。ACFは、
弾性を有する樹脂内に、金属粒子が分散して含まれてい
る薄いフィルムで、圧縮された部分では、金属粒子同士
が密接して導通状態となり、それ以外の部分では導通が
無い。
[0022] upper surface of the lead 11 1, anisotropic conductive resin film (ACF) 16 is bonded. The ACF
In a thin film in which metal particles are dispersed and contained in a resin having elasticity, the metal particles are in close contact with each other in a compressed portion and become conductive, and there is no conductivity in other portions.

【0023】ACF16の上面には、極薄い金属板17
1 が接合されている。金属板171は、電源層又はグラ
ンド層としての導電層である。
On the upper surface of the ACF 16, an extremely thin metal plate 17 is provided.
One is joined. Metal plate 17 1 is a conductive layer as a power supply layer or a ground layer.

【0024】上記接合の際に、突起18の部分では、A
CF16が圧縮されており、突起18と突起18に対向
する金属板171 とが電気的に接続されている。
At the time of the joining, the protrusion 18
CF16 are compressed, and the metal plate 17 1 facing the projection 18 and the projection 18 are electrically connected.

【0025】リード111 、ACF16及び金属板17
1 を接合するには、例えば、ACF16をリード111
の上面に接着した後、金属板171 を重ね、リード11
1 と金属板171 でACF16を挟んだ状態で、熱圧着
する。この熱圧着の際に、突起18と突起18に対向す
る金属板171 との間のACF16が圧縮されて、突起
18と突起18に対向する金属板171 とが電気的に接
続される。これにより、電源用又はグランド用リード1
1 と金属板171 とが電気的に接続される。突起18
以外の部分では、ACF16は僅かしか圧縮されないた
め、非導通状態である。
Lead 11 1 , ACF 16 and metal plate 17
To join 1 , for example, the ACF 16 is connected to the lead 11 1.
After bonded to the upper surface, overlapped metal plates 17 1, lead 11
1 and the metal plate 17 1 in a state sandwiching the ACF16, thermocompression bonding. At the time of thermocompression bonding, ACF16 between the metal plate 17 1 facing the protrusion 18 and the protrusion 18 is compressed, and the metal plate 17 1 facing the projection 18 and the projection 18 are electrically connected. Thereby, the lead 1 for power supply or ground 1
1 1 and the metal plate 17 1 is electrically connected. Protrusion 18
In other parts, the ACF 16 is not compressed because it is slightly compressed.

【0026】なお、先に金属板171 にACF16を接
着しておき、この後、リード111と金属板171 でA
CF16を挟んだ状態で、熱圧着してもよい。
It should be noted in advance by bonding a metal plate 17 1 in ACF16 earlier, thereafter, A lead 11 1 and the metal plate 17 1
The thermocompression bonding may be performed with the CF 16 interposed therebetween.

【0027】金属板171 は、略同一平面に配設された
複数のリード111 とACF16を介して対向するよう
に配設されており、1本のリード111 の面積に比べ
て、大幅に広い面積を持たせてある。
The metal plate 17 1 is disposed so as to be opposed to the plurality of leads 11 1 disposed substantially on the same plane via the ACF 16, and is significantly larger than the area of one lead 11 1. Has a large area.

【0028】上記のように、本実施例では、リード11
1 以外に導電層である金属板171を持つ多層構造とす
ることができ、広い面積の電源層、又はグランド層を設
けることができる。このため、従来の単層のICパッケ
ージに比べて、グランド線と電源線のインダクタンス及
び抵抗を小さくすることができ、高周波における電気特
性を大幅に改善することができる。この電気特性の改善
により、ノイズを低減して、ICチップ15上に形成さ
れたデバイスの誤動作を解消することができる。
As described above, in this embodiment, the lead 11
It can be a multi-layer structure having a metal plate 17 1 is a conductive layer other than 1 can be provided with a wide supply layer of the area, or a ground layer. Therefore, the inductance and resistance of the ground line and the power supply line can be reduced as compared with the conventional single-layer IC package, and the electrical characteristics at high frequencies can be greatly improved. With the improvement of the electrical characteristics, noise can be reduced and malfunction of a device formed on the IC chip 15 can be eliminated.

【0029】また、多層化するには、リード111 と金
属板171 でACF16を挟んで、熱圧着するだけでよ
く、従来の多層タブテープと異なり、製造が困難なスル
ーホールを形成する必要がない。このため、従来の多層
タブテープに比べて大幅に低コストで信頼性が高い多層
構造のICパッケージを実現することができる。
Further, in order to form a multilayer structure, it is only necessary to sandwich the ACF 16 between the lead 11 1 and the metal plate 17 1 and thermocompression-bond. Unlike the conventional multilayer tab tape, it is necessary to form a through hole which is difficult to manufacture. Absent. Therefore, a highly reliable IC package having a multilayer structure can be realized at a significantly lower cost than conventional multilayer tab tapes.

【0030】また、接合した金属板171 により強度が
増すため、ICチップ15を接続するILB(インナ・
リード・ボンディング)時に問題となるテープ部材13
の撓みを防止することができる。また、金属板171
設けることにより、放熱性を向上させることができる。
Further, the strength is increased by the metal plate 17 1 the joined, ILB to connect the IC chip 15 (inner-
Tape member 13 which is problematic during lead bonding)
Can be prevented from being bent. Further, by providing the metal plate 17 1, it is possible to improve heat dissipation.

【0031】図2は本発明の第2実施例のTAB方式の
ICパッケージの断面図を示す。同図中、図1と同一構
成部分には、同一符号を付し、適宜説明を省略する。I
Cチップ15の電極は、バンプ14を介して、リード1
2 のインナリード部112aに接続されている。アウタ
リード部112bは、樹脂封止後に、ICパッケージの外
に突出する。リード112 の中には、信号用リード、電
源用リード、及びグランド用リードがある。
FIG. 2 is a sectional view of a TAB type IC package according to a second embodiment of the present invention. In the figure, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description will be appropriately omitted. I
The electrode of the C chip 15 is connected to the lead 1 via the bump 14.
It is connected to one 2 of the inner lead portions 11 2a. Outer lead portions 11 2b, after resin sealing, projecting out of the IC package. Some leads 11 2, signal leads, power lead, and a ground lead.

【0032】リード112 の上面には、ACF16が接
合されている。ACF16の上面には、金属板172
接合されている。金属板172 は、電源層又はグランド
層としての導電層である。
[0032] upper surface of the lead 11 2, ACF16 are joined. The upper surface of ACF16 the metal plate 17 2 is bonded. The metal plate 17 2 is a conductive layer as a power supply layer or a ground layer.

【0033】金属板172 下面(ACF16との接合
面)には、突起19が形成されている。この突起19
は、金属板172 下面のエッチング、プロセスバンプ又
はボールバンプによるバンプの形成、金型による加工等
により形成される。
[0033] the metal plate 17 2 lower surface (junction surface between ACF16), the projection 19 is formed. This projection 19
The metal plate 17 2 the lower surface of the etch, the formation of bumps by a process bump or ball bumps are formed by machining or the like with a die.

【0034】リード112 、ACF16及び金属板17
2 の接合は、リード112 と金属板172 でACF16
を挟んで、熱圧着することにより行われる。この熱圧着
の際に、突起19と突起19に対向するリード112
の間のACF16が圧縮されて、突起19と突起19に
対向するリード112 とが電気的に接続される。これに
より、電源用又はグランド用リード112 と金属板17
2 とが電気的に接続される。突起19以外の部分では、
ACF16は僅かしか圧縮されないため、非導通状態で
ある。
Lead 11 2 , ACF 16 and metal plate 17
The ACF 16 is connected to the lead 11 2 and the metal plate 17 2
And by thermocompression bonding. At the time of thermocompression bonding, ACF16 is compressed between the leads 11 2 opposed to the protrusion 19 and the protrusion 19, and leads 11 2 opposed to the protrusion 19 and the protrusion 19 are electrically connected. Thus, power supply or ground lead 11 2 and the metal plate 17
2 are electrically connected. In portions other than the protrusion 19,
Since the ACF 16 is slightly compressed, it is in a non-conductive state.

【0035】金属板172 は、略同一平面に配設された
複数のリード112 とACF16を介して対向するよう
に配設されており、1本のリード112 の面積に比べ
て、大幅に広い面積を持たせてある。
The metal plate 17 2 is disposed so as to face each other with a disposed substantially in the same plane a plurality of leads 11 2 ACF16, compared to one area of the leads 11 2, significantly Has a large area.

【0036】上記のように、第2実施例では、第1実施
例同様に、導電層である金属板17 2 を持つ多層構造と
することができ、広い面積の電源層、又はグランド層を
設けることができる。このため、従来の単層のICパッ
ケージに比べて、高周波における電気特性を大幅に改善
することができる。
As described above, in the second embodiment, the first embodiment
Similarly, the metal plate 17 as the conductive layer TwoWith a multilayer structure and
Large area power supply layer or ground layer
Can be provided. For this reason, conventional single-layer IC packages
Significantly improved electrical characteristics at high frequencies compared to cages
can do.

【0037】また、多層化するには、リード112 と金
属板172 でACF16を挟んで、熱圧着するだけでよ
く、スルーホールを形成する従来の多層タブテープに比
べて大幅に低コストで信頼性が高い多層構造のICパッ
ケージを実現することができる。
Further, in a multilayer structure is across the lead 11 2 and the metal plate 17 2 ACF16, it is only necessary to thermocompression bonding reliability at a significantly lower cost than conventional multilayer tab tape to form a through hole It is possible to realize a multi-layered IC package having high reliability.

【0038】図3は本発明の第3実施例のTAB方式の
ICパッケージの断面図を示す。同図中、図1、図2と
同一構成部分には、同一符号を付し、適宜説明を省略す
る。ICチップ15の電極は、バンプ14を介して、リ
ード113 のインナリード部113aに接続されている。
アウタリード部113bは、樹脂封止後に、ICパッケー
ジの外に突出する。リード113 の中には、信号用リー
ド、電源用リード、及びグランド用リードがある。
FIG. 3 is a sectional view of a TAB type IC package according to a third embodiment of the present invention. In the figure, the same components as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and the description will be appropriately omitted. Electrodes of the IC chip 15 through a bump 14, and is connected to the inner lead portion 11 3a of the lead 11 3.
Outer lead portions 11 3b, after resin sealing, projecting out of the IC package. Some leads 11 3, signal leads, power lead, and a ground lead.

【0039】電源用又はグランド用のリード113 の上
面には、突起18が形成されている。リード113 の上
面には、ACF16が接合されている。ACF16の上
面には、金属板173 が接合されている。金属板173
は、電源層又はグランド層としての導電層である。
[0039] power supply or the upper surface of the lead 11 3 for grounding, the projection 18 is formed. The upper surface of the lead 11 3, ACF16 are joined. The upper surface of ACF16 the metal plate 17 3 are joined. Metal plate 17 3
Is a conductive layer as a power supply layer or a ground layer.

【0040】金属板173 下面(ACF16との接合
面)には、突起18と対向する位置に、突起19が形成
されている。
On the lower surface of the metal plate 173 (the joint surface with the ACF 16), a projection 19 is formed at a position facing the projection 18.

【0041】リード113 、ACF16及び金属板17
3 の接合は、リード113 と金属板173 でACF16
を挟んで、熱圧着することにより行われる。この熱圧着
の際に、突起18と突起18に対向する突起19との間
のACF16が圧縮されて、突起18と対向する突起1
9とが電気的に接続される。これにより、電源用又はグ
ランド用リード113 と金属板173 とが電気的に接続
される。突起18、19以外の部分では、ACF16は
僅かしか圧縮されないため、非導通状態である。
Lead 11 3 , ACF 16 and metal plate 17
The ACF 16 is joined with the lead 11 3 and the metal plate 17 3 .
And by thermocompression bonding. During this thermocompression bonding, the ACF 16 between the protrusion 18 and the protrusion 19 facing the protrusion 18 is compressed, and the protrusion 1 facing the protrusion 18 is compressed.
9 are electrically connected. Thus, the power supply or ground lead 11 3 and the metal plate 17 3 are electrically connected. At the portions other than the projections 18 and 19, the ACF 16 is slightly compressed, and thus is in a non-conductive state.

【0042】金属板173 は、略同一平面に配設された
複数のリード113 とACF16を介して対向するよう
に配設されており、1本のリード113 の面積に比べ
て、大幅に広い面積を持たせてある。
The metal plate 17 3 is disposed so as to face each other with a plurality of leads 11 3 ACF16 disposed substantially coplanar, than the area of one lead 11 3, greatly Has a large area.

【0043】上記のように、第3実施例では、第1,第
2実施例同様に、導電層である金属板173 を持つ多層
構造とすることができ、広い面積の電源層、又はグラン
ド層を設けることができる。このため、従来の単層のI
Cパッケージに比べて、高周波における電気特性を大幅
に改善することができる。
[0043] As described above, in the third embodiment, first, similarly to the second embodiment, can be a multi-layer structure having a metal plate 17 3 is a conductive layer, a large area power layer or the ground Layers can be provided. For this reason, the conventional single-layer I
Electrical characteristics at high frequencies can be significantly improved as compared with the C package.

【0044】また、多層化するには、リード113 と金
属板173 でACF16を挟んで、熱圧着するだけでよ
く、スルーホールを形成する従来の多層タブテープに比
べて大幅に低コストで信頼性が高い多層構造のICパッ
ケージを実現することができる。また、リード113
金属板173 の両方に突起18,19を設けるため、リ
ード113 と金属板173 の電気的接続をより確実にす
ることができる。
[0044] Further, in a multilayer structure is across the lead 11 3 and the metal plate 17 3 ACF16, it is only necessary to thermocompression bonding reliability at a significantly lower cost than conventional multilayer tab tape to form a through hole It is possible to realize a multi-layered IC package having high reliability. Further, for providing a projection 18, 19 on both the lead 11 3 and the metal plate 17 3, it is possible to secure the electrical connection of the lead 11 3 and the metal plate 17 3.

【0045】図4は本発明の第4実施例のTAB方式の
ICパッケージの断面図を示す。同図中、図1、図2と
同一構成部分には、同一符号を付し、適宜説明を省略す
る。ICチップ15の電極は、バンプ14を介して、リ
ード114 のインナリード部114aに接続されている。
リード114 のアウタリード部114bは、樹脂封止後
に、ICパッケージの外に突出する。リード114 の中
には、信号用リード、電源用リード、及びグランド用リ
ードがある。
FIG. 4 is a sectional view of a TAB type IC package according to a fourth embodiment of the present invention. In the figure, the same components as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and the description will be appropriately omitted. Electrodes of the IC chip 15 through a bump 14, and is connected to the inner lead portions 11 4a of the leads 11 4.
The outer lead portions 11 4b of the leads 11 4, after resin sealing, projecting out of the IC package. Some lead 11 4, signal leads, power lead, and a ground lead.

【0046】電源用又はグランド用のリード114 のう
ち、後述する第2の金属板21に接続されるリード11
4 の上面には、突起18が形成されている。また、電源
用又はグランド用のリード114 のうち、後述する第1
の金属板174 に接続されるリード114 の上面には、
突起18よりも長い突起25が形成されている。
[0046] Among the power supply or lead 11 4 for ground lead is connected to the second metal plate 21 to be described later 11
A projection 18 is formed on the upper surface of 4 . Further, of the lead 11 4 for power supply or ground, first to be described later
The upper surface of the lead 11 4 connected to the metal plate 17 4,
A projection 25 longer than the projection 18 is formed.

【0047】リード114 の上面には、ACF16が接
合されている。ACF16の上面には、第2の金属板2
1が接合されている。金属板21の上面には、ACF2
2が接合されている。ACF22の上面には、第1の金
属板174 が接合されている。金属板21、174 は、
電源層又はグランド層としての導電層である。
[0047] the upper surface of the lead 11 4, ACF16 are joined. The second metal plate 2 is provided on the upper surface of the ACF 16.
1 are joined. ACF2 on the upper surface of the metal plate 21
2 are joined. The upper surface of ACF22 the first metal plate 17 4 is bonded. Metal plate 21,17 4,
It is a conductive layer as a power supply layer or a ground layer.

【0048】金属板174 の下面(ACF22との接合
面)には、突起25と対向する位置に、突起26が形成
されている。
On the lower surface of the metal plate 174 (the joint surface with the ACF 22), a projection 26 is formed at a position facing the projection 25.

【0049】図5は、突起25,26付近を拡大した斜
視図を示す。金属板21には、略円柱状の突起25,2
6が嵌入する穴23が形成されている。穴23の径は、
突起25,26の径より十分大きく、突起25,26
は、金属板21に接触しない。
FIG. 5 is an enlarged perspective view of the vicinity of the projections 25 and 26. The metal plate 21 has substantially cylindrical projections 25 and 2.
A hole 23 into which 6 is fitted is formed. The diameter of the hole 23 is
The diameter of the projections 25, 26 is sufficiently larger than the diameter of the projections 25, 26.
Does not contact the metal plate 21.

【0050】リード114 、ACF16、金属板21、
ACF22及び金属板174 の接合は、リード114
ACF16、金属板21、ACF22及び金属板174
を重ねて熱圧着することにより行われる。
The lead 11 4, ACF16, metal plate 21,
The ACF 22 and the metal plate 17 4 are joined by the leads 11 4 ,
ACF 16, metal plate 21, ACF 22, and metal plate 17 4
And by thermocompression bonding.

【0051】この熱圧着の際に、突起18と突起18に
対向する突起19との間のACF16が圧縮されて、突
起18と対向する突起19とが電気的に接続される。こ
れにより、突起18を設けた電源用又はグランド用リー
ド114 と金属板21とが電気的に接続される。
During this thermocompression bonding, the ACF 16 between the projection 18 and the projection 19 facing the projection 18 is compressed, and the projection 18 and the projection 19 facing the projection 18 are electrically connected. Thus, the metal plate 21 a power supply or ground lead 11 4 provided with projections 18 are electrically connected.

【0052】また、同時に、突起25と突起25に対向
する突起26との間のACF16,22が圧縮されて、
突起25と対向する突起26とが穴23付近で電気的に
接続される。この際、穴23と突起25,26とは電気
的に接続されない。これにより、突起25を設けた電源
用又はグランド用リード114 と金属板174 とが電気
的に接続される。
At the same time, the ACFs 16 and 22 between the projection 25 and the projection 26 facing the projection 25 are compressed,
The protrusion 25 and the opposing protrusion 26 are electrically connected in the vicinity of the hole 23. At this time, the hole 23 and the projections 25 and 26 are not electrically connected. Thus, the power supply or for ground lead 11 4 provided projections 25 and the metal plate 17 4 are electrically connected.

【0053】突起18,19、25,26以外の部分で
は、ACF16,22は僅かしか圧縮されないため、非
導通状態である。
At portions other than the projections 18, 19, 25, and 26, the ACFs 16, 22 are slightly compressed, and thus are non-conductive.

【0054】上記のように、第4実施例では、電気的に
接続されていない複数種類の金属板21,174 (電源
層、又はグランド層)を設け、電源用又はグランド用リ
ード114 を金属板21,174 のいずれかに接続する
ことができる。
[0054] As described above, in the fourth embodiment, a plurality of types of metal plates 21,17 4 (power supply layer or ground layer) that is not electrically connected to provided a power supply or ground leads 11 4 it can be connected to one of the metal plates 21,17 4.

【0055】金属板21は、略同一平面に配設された複
数のリード114 とACF16を介して対向するように
配設されており、1本のリード114 の面積に比べて、
大幅に広い面積を持たせてある。同様に、金属板174
は、金属板21とACF22を介して対向するように配
設されており、1本のリード114 の面積に比べて、大
幅に広い面積を持たせてある。
[0055] the metal plate 21 is disposed so as to face each other with a plurality of leads 11 4 disposed in substantially the same plane as the ACF16, than the area of one lead 11 4,
It has a much larger area. Similarly, the metal plate 17 4
Is disposed so as to face each other through the metal plate 21 and ACF 22, than the area of one lead 11 4, it is to have a significantly large area.

【0056】上記のように、第4本実施例では、電気的
に接続されていない複数種類の金属板21,174 (導
電層)を設けた多層構造とすることができ、複数種類の
電源、グランドに対して、広い面積の電源層、又はグラ
ンド層を設けることができる。このため、複数種類の電
源、グランドを持つ場合でも、従来の単層のICパッケ
ージに比べて、高周波における電気特性を大幅に改善す
ることができる。
As described above, in the fourth embodiment, a multilayer structure having a plurality of types of metal plates 21 and 17 4 (conductive layers) that are not electrically connected can be provided. The power supply layer or the ground layer having a large area can be provided for the ground. Therefore, even when a plurality of types of power sources and grounds are provided, electrical characteristics at high frequencies can be significantly improved as compared with a conventional single-layer IC package.

【0057】また、多層化するには、リード114 に、
ACF16、金属板21、ACF22、及び金属板17
4 を重ねて、熱圧着するだけでよく、スルーホールを形
成する従来の多層タブテープに比べて大幅に低コストで
信頼性が高い多層構造のICパッケージを実現すること
ができる。
[0057] In addition, in a multilayer structure is, to lead 11 4,
ACF 16, metal plate 21, ACF 22, and metal plate 17
It is only necessary to superimpose the layers 4 and thermocompression bonding, and it is possible to realize a highly reliable multi-layer IC package at a significantly lower cost than a conventional multi-layer tab tape forming through holes.

【0058】なお、同様の方法で、必要に応じて、更
に、金属板とACFの積層数を増やすことができる。
In the same manner, if necessary, the number of stacked metal plates and ACFs can be further increased.

【0059】図6は本発明の第5実施例のTAB方式の
ICパッケージの断面図を示す。同図中、図1、図2と
同一構成部分には、同一符号を付し、適宜説明を省略す
る。ICチップ15の電極は、バンプ14を介して、リ
ード115 のインナリード部115aに接続されている。
アウタリード部115bは、樹脂封止後に、ICパッケー
ジの外に突出する。リード115 の中には、信号用リー
ド、電源用リード、及びグランド用リードがある。
FIG. 6 is a sectional view of a TAB type IC package according to a fifth embodiment of the present invention. In the figure, the same components as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and the description will be appropriately omitted. Electrodes of the IC chip 15 through a bump 14, and is connected to the inner lead portion 11 5a of the lead 11 5.
Outer lead portions 11 5b, after resin sealing, projecting out of the IC package. Some lead 11 5 signal leads, power lead, and a ground lead.

【0060】電源用又はグランド用のリード115 のう
ち、後述する第2の金属板31に接続されるリード11
5 の上面には、突起18が形成されている。また、電源
用又はグランド用のリード115 のうち、後述する第1
の金属板175 に接続されるリード115 の上面には、
突起18は形成されていない。
[0060] Among the leads 11 5 of the power supply or ground, lead is connected to the second metal plate 31 to be described later 11
The protrusion 18 is formed on the upper surface of the fifth . Further, of the lead 11 5 of the power supply or ground, first to be described later
The upper surface of the lead 11 5 connected to the metal plate 17 5,
The projection 18 is not formed.

【0061】電源用又はグランド用のリード115 の上
面には、ACF16が接合されている。ACF16の上
面には、第2の金属板31が接合されている。金属板3
1の上面には、ACF22が接合されている。ACF2
2の上面には、第1の金属板175 が接合されている。
金属板31、175 は、電源層又はグランド層としての
導電層である。
[0061] the power supply or the upper surface of the lead 11 5 for ground, ACF16 are joined. A second metal plate 31 is joined to the upper surface of the ACF 16. Metal plate 3
The ACF 22 is joined to the upper surface of the first ACF 1. ACF2
The second upper surface, the first metal plate 17 5 is bonded.
Metal plate 31,17 5 is a conductive layer as a power supply layer or a ground layer.

【0062】金属板31には、穴28が形成されてお
り、穴28を貫通する略円柱状の突起27が配設されて
いる。突起27は、他の部材と分離されている。
A hole 28 is formed in the metal plate 31, and a substantially cylindrical projection 27 penetrating the hole 28 is provided. The protrusion 27 is separated from other members.

【0063】リード115 、ACF16、金属板31、
ACF22及び金属板175 の接合は、リード115
ACF16、金属板31、ACF22及び金属板175
を重ねて熱圧着することにより行われる。
The lead 11 5 , the ACF 16, the metal plate 31,
The ACF 22 and the metal plate 17 5 are joined by the leads 11 5 ,
ACF 16, metal plate 31, ACF 22, and metal plate 17 5
And by thermocompression bonding.

【0064】この熱圧着の際に、突起27の下端と突起
27に対向するリード115 との間のACF16が圧縮
されて、突起27と対向するリード115 とが電気的に
接続される。かつ、突起27の上端と突起27に対向す
る金属板175 との間のACF22が圧縮されて、突起
27と対向する金属板175 とが電気的に接続される。
この際、突起27と穴28とは、電気的に接続されな
い。これにより、電源用又はグランド用リード115
金属板175 とが電気的に接続される。
[0064] During the thermocompression bonding, ACF16 between the leads 11 5 facing the lower end and the protrusion 27 of the protrusion 27 is compressed, and the lead 11 5 facing the projections 27 are electrically connected. And, ACF 22 between the metal plate 17 5 facing the upper end and the protrusion 27 of the protrusion 27 is compressed, and the metal plate 17 5 facing the projections 27 are electrically connected.
At this time, the projection 27 and the hole 28 are not electrically connected. Thus, the metal plate 17 5 power supply or ground leads 11 5 are electrically connected.

【0065】またこの際、同時に、突起18と突起18
に対向する金属板31との間のACF16が圧縮され
て、突起18と対向する金属板31とが電気的に接続さ
れる。これにより、突起18を設けた電源用又はグラン
ド用リード115 と金属板31とが電気的に接続され
る。
At this time, simultaneously, the projection 18 and the projection 18
The ACF 16 between the metal plate 31 and the opposing metal plate 31 is compressed, and the protrusion 18 is electrically connected to the metal plate 31 opposing the metal plate 31. Accordingly, and the power supply or ground lead 11 5 provided with projections 18 the metal plate 31 are electrically connected.

【0066】図7は、突起27の形成手順の説明図を示
す。図7(A)に示すように、先ず、突起27aが形成
されている金属板31aの下面にACF16を接合す
る。この後、図7(B)に示すように、突起27aの回
りの金属部材をエッチングにより削除して、円柱状の突
起27を、金属板31から分離する。
FIG. 7 is an explanatory view of a procedure for forming the projection 27. As shown in FIG. 7A, first, the ACF 16 is joined to the lower surface of the metal plate 31a on which the protrusion 27a is formed. Thereafter, as shown in FIG. 7B, the metal member around the protrusion 27a is removed by etching, and the columnar protrusion 27 is separated from the metal plate 31.

【0067】このようにしてできた金属板31とACF
16を接合した部材を、リード11 5 上面に接合し、更
に、金属板31の上にACF22を接合し、ACF22
の上に金属板175 を接合する。この熱圧着による接合
の際に、突起27がリード115 と金属板175 とに電
気的に接続される。
The metal plate 31 thus formed and the ACF
16 is joined to the lead 11 FiveJoin the top surface and
Then, the ACF 22 is joined onto the metal plate 31 and the ACF 22
Metal plate 17 onFiveTo join. Joining by this thermocompression bonding
At this time, the protrusion 27FiveAnd metal plate 17FiveToni Den
It is connected pneumatically.

【0068】突起27以外の部分では、ACF16,2
2は僅かしか圧縮されないため、非導通状態である。
In portions other than the protrusion 27, the ACFs 16, 2
2 is non-conductive because it is only slightly compressed.

【0069】上記のように、第5本実施例では、第4実
施例同様に、複数種類の金属板31,175 を設けた多
層構造とすることができ、複数種類の電源、グランドに
対して、広い面積の電源層、又はグランド層を設けるこ
とができる。このため、複数種類の電源、グランドを持
つ場合でも、従来の単層のICパッケージに比べて、高
周波における電気特性を大幅に改善することができる。
[0069] As described above, in the fifth present embodiment, similarly to the fourth embodiment, can be a multi-layer structure in which a plurality of types of metal plates 31,17 5, a plurality of types of power supply, to ground Thus, a power supply layer or a ground layer having a large area can be provided. Therefore, even when a plurality of types of power sources and grounds are provided, electrical characteristics at high frequencies can be significantly improved as compared with a conventional single-layer IC package.

【0070】また、多層化するには、リード115 に、
ACF16、金属板31、ACF22、及び金属板17
5 を重ねて、熱圧着するだけでよく、スルーホールを形
成する従来の多層タブテープに比べて大幅に低コストで
信頼性が高い多層構造のICパッケージを実現すること
ができる。
[0070] In addition, in a multilayer structure is, to lead 11 5,
ACF 16, metal plate 31, ACF 22, and metal plate 17
It is only necessary to superimpose the layers 5 and thermocompression bonding, and it is possible to realize an IC package having a multi-layer structure with much lower cost and higher reliability than the conventional multi-layer tab tape forming through holes.

【0071】なお、同様の方法で、必要に応じて、更
に、金属板とACFの積層数を増やすことができる。
In the same manner, if necessary, the number of metal plates and ACFs can be further increased.

【0072】図8は、本発明の第6実施例のTAB方式
のICパッケージの断面図を示す。同図中、図2と同一
構成部分には、同一符号を付し、適宜説明を省略する。
ICチップ15の電極は、バンプ14を介して、リード
116 のインナリード部11 6aに接続されている。アウ
タリード部116bは、樹脂封止後に、ICパッケージの
外に突出する。リード116 の中には、信号用リード、
電源用リード、及びグランド用リードがある。
FIG. 8 shows a TAB system according to a sixth embodiment of the present invention.
1 shows a cross-sectional view of the IC package of FIG. In the figure, the same as FIG.
The same reference numerals are given to the components, and the description will be appropriately omitted.
The electrodes of the IC chip 15 are connected to the leads via the bumps 14.
116Inner lead part 11 6aIt is connected to the. Au
Talead part 116bOf the IC package after resin sealing
Project outside. Lead 116Inside are signal leads,
There are power supply leads and ground leads.

【0073】リード116 の上面には、ACF16が接
合されている。ACF16の上面には、金属板176
接合されている。金属板176 は、電源層又はグランド
層としての導電層である。金属板176 下面(ACF1
6との接合面)には、突起19が形成されている。
[0073] the upper surface of the lead 11 6, ACF16 are joined. The upper surface of ACF16, the metal plate 17 6 are joined. The metal plate 17 6 is a conductive layer as a power supply layer or a ground layer. Metal plate 17 6 Lower surface (ACF1
A projection 19 is formed on the surface (joining surface with the surface 6).

【0074】リード116 、ACF16及び金属板17
6 の接合は、リード116 と金属板176 でACF16
を挟んで、熱圧着することにより行われる。この熱圧着
の際に、突起19と突起19に対向するリード116
が電気的に接続される。これにより、電源用又はグラン
ド用リード116 と金属板176 とが電気的に接続され
る。
The lead 11 6 , the ACF 16 and the metal plate 17
Joining 6 is a lead 11 6 and the metal plate 17 6 ACF16
And by thermocompression bonding. During this thermocompression bonding, the lead 11 6 facing the projection 19 and the projection 19 are electrically connected. Thus, the metal plate 17 6 power supply or ground lead 11 6 are electrically connected.

【0075】また、テープ部材13の下面には、銅箔製
の導電層32が形成されており、スルーホール33を介
して、リード116 と電気的に接続されている。
[0075] Further, on the lower surface of the tape member 13, a copper foil made of conductive layer 32 is formed, via through holes 33, and is electrically connected to the lead 11 6.

【0076】このように、従来方法で形成された多層構
造のタブテープに対しても、本発明のACFを介して金
属板を接合する方法により、多層化を行うことができ
る。
As described above, the tab tape having a multi-layer structure formed by the conventional method can be multi-layered by the method of joining the metal plates via the ACF of the present invention.

【0077】図9,図10は、金属板の形状例を示すI
Cパッケージの平面図である。なお、ここでは、第1実
施例の場合で示すが、他の実施例においても同様であ
る。図9の例では、ICチップ15の各電極に接続され
ている多数のリード111 の全体にACF16を介して
重なるように、枠状の金属板171Aを配設している。電
源用又はグランド用のリード111 は、リード111
設けた突起18部分で、金属板171Aに電気的に接続さ
れている。
FIGS. 9 and 10 show an example of the shape of a metal plate.
It is a top view of C package. Here, the case of the first embodiment is shown, but the same applies to other embodiments. In the example of FIG. 9, so as to overlap through ACF16 the overall number of leads 11 1 connected to the electrodes of the IC chip 15 is arranged a frame-like metal plate 17 1A. Lead 11 1 of power supply or ground is a protrusion 18 part provided on the lead 11 1, and is electrically connected to the metal plate 17 1A.

【0078】なお、タブテープ41のテープ部材13に
は、アウタリードホール42、リード111 のアウタリ
ード部111bに接続されている試験用パッド43が形成
されている。
[0078] Note that the tape member 13 of the tab tape 41, outer lead holes 42, the lead 11 1 of the test pad 43 connected to the outer lead portions 11 1b is formed.

【0079】図10の例では、所定のリード111 にA
CF16を介して重なる金属板17 1B,171C,1
1D,171Eを分離して配設している。各金属板1
1B,171C,171D,171Eは、夫々異なる電源層又
はグランド層として使用することができる。
In the example shown in FIG.1A
Metal plate 17 overlapping via CF 16 1B, 171C, 1
71D, 171EAre arranged separately. Each metal plate 1
71B, 171C, 171D, 171EAre different power supply layers or
Can be used as a ground layer.

【0080】なお、金属板171A、171B,171C,1
1D,171Eが、チップ15の上面に設けた絶縁層を介
してチップ15の上面全体を覆う形状とすることもでき
る。
The metal plates 17 1A , 17 1B , 17 1C , 1
7 1D and 17 1E may be formed so as to cover the entire upper surface of the chip 15 via an insulating layer provided on the upper surface of the chip 15.

【0081】上記のように、金属板の形状については制
限が無く、ICチップ15の特性に応じて、適宜設定す
ることができる。
As described above, the shape of the metal plate is not limited, and can be set appropriately according to the characteristics of the IC chip 15.

【0082】なお、本発明は、TAB方式のICパッケ
ージに限られず、リードフレーム方式のICパッケージ
においても、ACFを介して金属板を接合することで、
多層化を行うことができる。
The present invention is not limited to the TAB type IC package, but is also applicable to a lead frame type IC package by bonding a metal plate via an ACF.
Multi-layering can be performed.

【0083】また、リードを配設したプリント基板、セ
ラミック基板、フレキシブル基板等の基板を用いる方式
のICパッケージにおいても、ACFを介して金属板を
接合することで、同様にして多層化を行うことができ
る。
Also, in the case of an IC package using a substrate such as a printed board, a ceramic board, or a flexible board on which leads are provided, it is possible to similarly perform multi-layering by bonding a metal plate via an ACF. Can be.

【0084】[0084]

【発明の効果】上述の如く、請求項1の発明によれば、
リード部材に異方性導電樹脂層を介して積層した導電層
を持つ多層構造により、広い面積の電源層又はグランド
層を設けることができ、従来の単層構造の半導体装置に
比べて、高周波における電気特性を大幅に改善すること
ができ、また、リード部材、異方性導電樹脂層及び上記
導電層を接合し、異方性導電樹脂層を介して所定のリー
ド部材と導電層とを電気的に接続することで多層化がで
きるため、スルーホールを形成する必要が無く、低コス
トでかつ信頼性の高い多層構造を実現することができる
等の特長を有する。
As described above, according to the first aspect of the present invention,
With a multilayer structure having a conductive layer laminated on a lead member via an anisotropic conductive resin layer, a power supply layer or a ground layer having a large area can be provided. Electrical characteristics can be greatly improved, and a lead member, an anisotropic conductive resin layer and the above conductive layer are joined, and a predetermined lead member and the conductive layer are electrically connected via the anisotropic conductive resin layer. Since it is possible to form a multilayer by connecting to a substrate, there is no need to form a through-hole, and it is possible to realize a low-cost and highly reliable multilayer structure.

【0085】請求項2の発明によれば、リード部材と導
電層で異方性導電樹脂層を挟んで、リード部材、導電層
及び異方性導電樹脂層を圧着するだけで、突起部分でリ
ード部材と導電層とを電気的に導通させることができる
ため、更に容易に多層化を行うことができる。
According to the second aspect of the present invention, the lead member, the conductive layer and the anisotropic conductive resin layer are simply press-bonded with the anisotropic conductive resin layer interposed between the lead member and the conductive layer. Since the member and the conductive layer can be electrically conducted, multilayering can be performed more easily.

【0086】請求項7の発明によれば、複数の種類の異
なる導電層を設けることができるため、複数種類の電
源、グランドを有する場合でも、広い面積の電源層、グ
ランド層を設けて、高周波における電気特性を改善する
ことができる。
According to the seventh aspect of the present invention, since a plurality of types of different conductive layers can be provided, even when a plurality of types of power supply and ground are provided, a power supply layer and a ground layer having a wide area are provided and a high frequency Can be improved in electrical characteristics.

【0087】請求項8の発明によれば、所望の電気特性
に合わせて、所定のリード部材毎に分割した導電層を設
けることができる。
According to the invention of claim 8, it is possible to provide a conductive layer divided for each predetermined lead member in accordance with desired electric characteristics.

【0088】請求項9の発明によれば、テープ部材上に
形成された金属箔リードに半導体チップの電極を接続す
る方式の半導体装置において、高周波における電気特性
の優れており、かつ、低コストで信頼性の高い多層構造
を実現することができる。
According to the ninth aspect of the present invention, in a semiconductor device of a type in which an electrode of a semiconductor chip is connected to a metal foil lead formed on a tape member, the electrical characteristics at high frequencies are excellent and the cost is low. A highly reliable multilayer structure can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例のICパッケージの断面図
である。
FIG. 1 is a sectional view of an IC package according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施例のICパッケージの断面図
である。
FIG. 2 is a sectional view of an IC package according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3実施例のICパッケージの断面図
である。
FIG. 3 is a sectional view of an IC package according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4実施例のICパッケージの断面図
である。
FIG. 4 is a sectional view of an IC package according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】図4の突起付近を拡大した斜視図である。FIG. 5 is an enlarged perspective view of the vicinity of a protrusion in FIG. 4;

【図6】本発明の第5実施例のICパッケージの断面図
である。
FIG. 6 is a sectional view of an IC package according to a fifth embodiment of the present invention.

【図7】図6における突起の形成手順の説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of a procedure for forming a projection in FIG. 6;

【図8】本発明の第6実施例のICパッケージの断面図
である。
FIG. 8 is a sectional view of an IC package according to a sixth embodiment of the present invention.

【図9】金属板の形状例を示すICパッケージの平面図
である。
FIG. 9 is a plan view of an IC package showing an example of a shape of a metal plate.

【図10】金属板の形状例を示すICパッケージの平面
図である。
FIG. 10 is a plan view of an IC package showing a shape example of a metal plate.

【図11】従来の一例のICパッケージの断面図であ
る。
FIG. 11 is a cross-sectional view of a conventional IC package.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

111 〜116 リード 12 接着材 13 テープ部材 14 バンプ 15 ICチップ 16,22 ACF 171 〜176 、171A〜171E 金属板 18,19 突起 21,31 金属板 23 穴 25,26 突起 27 突起 28 穴 32 導電層 33 スルーホール 41 タブテープ 42 アウタリードホール 43 試験用パッド11 1 to 11 6 Lead 12 Adhesive 13 Tape member 14 Bump 15 IC chip 16, 22 ACF 17 1 to 17 6 , 17 1A to 17 1E Metal plate 18, 19 Projection 21, 31 Metal plate 23 Hole 25, 26 Projection 27 Projection 28 Hole 32 Conductive Layer 33 Through Hole 41 Tab Tape 42 Outer Lead Hole 43 Test Pad

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−84689(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-64-84689 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/60

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数のリード部材(111 〜116 )の
各内部リード部(111a〜116a)に半導体チップ(1
5)の電極が接続されており、前記リード部材(111
〜116 )の外部リード部(111b〜116b)が突出し
た状態で樹脂封止された半導体装置において、 上記リード部材(111 〜116 )に重ねて接合された
異方性導電樹脂層(16)と、 上記異方性導電樹脂層(16)を介して上記リード部材
(111 〜116 )と対向するように上記異方性導電樹
脂層(16)に接合されており、かつ、上記異方性導電
樹脂層(16)を介して所定の上記リード部材(111
〜116 )と電気的に接続されているグランド層又は電
源層としての導電層(171 〜173 ,21,31,1
6 )とを設けたことを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor chip (1 in the internal leads of the plurality of lead members (11 1 ~11 6) (11 1a ~11 6a)
5) is connected to the lead member (11 1).
To 11 in the semiconductor device outer lead portions (11 1b to 11 6b) is sealed with a resin so as to protrude in 6), the lead member (11 1 to 11 6) are overlapped and joined to the anisotropic conductive resin a layer (16) is joined to the anisotropic conductive resin layer so as to face with the lead member (11 1 to 11 6) via the anisotropic conductive resin layer (16) (16), The predetermined lead member (11 1 ) is interposed via the anisotropic conductive resin layer (16).
To 11 6) and the conductive layer serving as a ground layer or power layer is electrically connected (17 1 to 17 3, 21,31,1
7 6) and the semiconductor device, wherein a is provided.
【請求項2】 前記リード部材(111 〜116 )の前
記異方性導電樹脂層(16)との接合面上、又は前記導
電層(171 〜173 ,21,31,176)の上記異
方性導電樹脂層(16)との接合面上、或いは上記リー
ド部材(11 1 〜116 )の上記異方性導電樹脂層(1
6)との接合面上及び上記導電層(171 〜173 ,2
1,31,176 )の上記異方性導電樹脂層(16)と
の接合面上の両接合面上の対向する位置に、上記リード
部材(111 〜116 )と上記導電層(171 〜1
3 ,21,31,176 )とを電気的に接続するため
の突起(18,19)を有し、 上記突起(18,19)で上記異方性導電樹脂層(1
6)が圧縮されて上記リード部材(111 〜116 )と
上記導電層(171 〜173 ,21,31,17 6 )と
が電気的に導通していることを特徴とする請求項1記載
の半導体装置。
2. The lead member (11)1~ 116)Before
On the bonding surface with the anisotropic conductive resin layer (16) or
Electric layer (171~ 17Three, 21,31,176Above)
On the bonding surface with the isotropic conductive resin layer (16) or
Member (11 1~ 116)) Of the anisotropic conductive resin layer (1)
6) and the conductive layer (17).1~ 17Three, 2
1,31,176The above anisotropic conductive resin layer (16)
At the opposite position on both bonding surfaces on the bonding surface of
Member (111~ 116) And the conductive layer (17)1~ 1
7Three, 21,31,176) To electrically connect
Projections (18, 19), and the anisotropic conductive resin layer (1) is formed by the projections (18, 19).
6) is compressed and the lead member (11) is compressed.1~ 116)When
The conductive layer (171~ 17Three, 21,31,17 6)When
2. The device according to claim 1, wherein said device is electrically conductive.
Semiconductor device.
【請求項3】 前記突起(18,19)は、前記リード
部材(111 〜11 6 )又は前記導電層(171 〜17
3 ,21,31,176 )の接合面のエッチングにより
形成されたことを特徴とする請求項2記載の半導体装
置。
3. The lead (18, 19) is provided on the lead.
Member (111~ 11 6) Or the conductive layer (17)1~ 17
Three, 21,31,176) By etching the joint surface
3. The semiconductor device according to claim 2, wherein the semiconductor device is formed.
Place.
【請求項4】 前記突起(18,19)は、前記リード
部材(111 〜11 6 )又は前記導電層(171 〜17
3 ,21,31,176 )の接合面上にプロセスバンプ
メッキにより形成されたバンプであることを特徴とする
請求項2記載の半導体装置。
4. The projection (18, 19) is provided on the lead.
Member (111~ 11 6) Or the conductive layer (17)1~ 17
Three, 21,31,176) Process bump on the joint surface
It is characterized by being a bump formed by plating
The semiconductor device according to claim 2.
【請求項5】 前記突起(18,19)は、前記リード
部材(111 〜11 6 )又は前記導電層(171 〜17
3 ,21,31,176 )の接合面上にボールバンプに
より形成されたバンプであることを特徴とする請求項2
記載の半導体装置。
5. The lead (18, 19) is provided on the lead.
Member (111~ 11 6) Or the conductive layer (17)1~ 17
Three, 21,31,176) To the ball bump on the joint surface
3. The bump according to claim 2, wherein:
13. The semiconductor device according to claim 1.
【請求項6】 前記突起(18,19)は、前記リード
部材(111 〜11 6 )又は前記導電層(171 〜17
3 ,21,31,176 )の接合面上に金型による加工
により形成されたことを特徴とする請求項2記載の半導
体装置。
6. The lead (18, 19) is provided on the lead.
Member (111~ 11 6) Or the conductive layer (17)1~ 17
Three, 21,31,176Molding on the joint surface
3. The semiconductor according to claim 2, wherein the semiconductor is formed by:
Body device.
【請求項7】 前記導電層(21,174 ;31,17
5 )が、前記異方性導電樹脂層(16,22)を介して
積層されていることを特徴とする請求項1又は請求項2
記載の半導体装置。
7. The conductive layer (21, 17 4 ; 31, 17)
3. The method according to claim 1, wherein the step ( 5 ) is laminated via the anisotropic conductive resin layer (16, 22).
13. The semiconductor device according to claim 1.
【請求項8】 前記導電層(171B〜171E)は、前記
リード部材(111)中の所定のリード部材(111
毎に分割して配設されていることを特徴とする請求項1
又は請求項2記載の半導体装置。
8. The conductive layer (17 1B to 17 1E ) includes a predetermined lead member (11 1 ) in the lead member (11 1 ).
2. The device according to claim 1, wherein the device is divided and provided for each.
Alternatively, the semiconductor device according to claim 2.
【請求項9】 前記リード部材(111 〜116 )は、
テープ部材(13)上に形成された所定パターンの金属
箔リードであることを特徴とする請求項1又は請求項2
記載の半導体装置。
9. The lead member (11 1 to 11 6 )
3. A metal foil lead having a predetermined pattern formed on a tape member (13).
13. The semiconductor device according to claim 1.
【請求項10】 前記リード部材は、所定形状を保持す
るリードが複数配設されたリードフレームのリードであ
ることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の半導体
装置。
10. The semiconductor device according to claim 1, wherein said lead member is a lead of a lead frame provided with a plurality of leads holding a predetermined shape.
【請求項11】 前記リード部材は、所定形状のリード
が複数配設された基板のリードであることを特徴とする
請求項1又は請求項2記載の半導体装置。
11. The semiconductor device according to claim 1, wherein the lead member is a lead of a substrate on which a plurality of leads of a predetermined shape are provided.
【請求項12】 複数のリード部材(111 〜116
の各内部リード部(111a〜116a)に半導体チップ
(15)の電極を接続した後、上記リード部材(111
〜116 )の外部リード部(111b〜116b)が突出し
た状態で樹脂封止する半導体装置の製造方法において、 グランド層又は電源層としての導電層(171 〜1
3 ,21,31,176)が異方性導電樹脂層(1
6)を介して上記リード部材(111 〜116 )と対向
するように、上記リード部材(111 〜116 )、上記
異方性導電樹脂層(16)及び上記導電層(171 〜1
3 ,21,31,176 )を接合し、 上記異方性導電樹脂層(16)を介して所定の上記リー
ド部材(111 〜11 6 )と上記導電層(171 〜17
3 ,21,31,176 )とを電気的に接続することを
特徴とする半導体装置の製造方法。
12. A plurality of lead members (11).1~ 116)
Of each internal lead (111a~ 116a) To semiconductor chip
After connecting the electrode of (15), the lead member (11)1
~ 116) External leads (11)1b~ 116b) Protrudes
In a method of manufacturing a semiconductor device in which a semiconductor device is sealed with a resin in a closed state, a conductive layer (171~ 1
7Three, 21,31,176) Is an anisotropic conductive resin layer (1).
6) via the lead member (11)1~ 116) And opposite
As shown in FIG.1~ 116),the above
Anisotropic conductive resin layer (16) and conductive layer (17)1~ 1
7Three, 21,31,176), And the above-mentioned predetermined lead is interposed via the anisotropic conductive resin layer (16).
Member (111~ 11 6) And the conductive layer (17)1~ 17
Three, 21,31,176) And electrically connect
A method for manufacturing a semiconductor device.
【請求項13】 前記リード部材(111 〜116 )の
上記異方性導電樹脂層(16)との接合面上、又は前記
導電層(171 〜173 ,21,31,17 6 )の上記
異方性導電樹脂層(16)との接合面上、或いは上記リ
ード部材(111 〜116 )の上記異方性導電樹脂層
(16)との接合面上及び上記導電層(171 〜1
3 ,21,31,176 )の上記異方性導電樹脂層
(16)との接合面上の両接合面上の対向する位置に、
上記リード部材(111 〜116 )と上記導電層(17
1 〜173 ,21,31,176 )とを電気的に接続す
るための突起(18,19)を設け、 上記リード部材(111 〜116 )と導電層(171
173 ,21,31,176 )で上記異方性導電樹脂層
(16)を挟んで、上記リード部材(111 〜1
6 )、上記導電層(171 〜173 ,21,31,1
6 )及び上記異方性導電樹脂層(16)を圧着し、上
記突起(18,19)で上記異方性導電樹脂層(16)
を圧縮させて、上記リード部材(111 〜116 )と上
記導電層(17 1 〜173 ,21,31,176 )とを
電気的に導通させることを特徴とする請求項12記載の
半導体装置の製造方法。
13. The lead member (11)1~ 116)of
On the bonding surface with the anisotropic conductive resin layer (16) or
Conductive layer (171~ 17Three, 21,31,17 6Above)
On the joint surface with the anisotropic conductive resin layer (16) or
(11)1~ 116)) The above anisotropic conductive resin layer
(16) and the conductive layer (17)1~ 1
7Three, 21,31,176)) The anisotropic conductive resin layer
(16) at opposite positions on both joint surfaces on the joint surface,
The lead member (11)1~ 116) And the conductive layer (17)
1~ 17Three, 21,31,176) And electrically connect
Projections (18, 19) for the lead member (111~ 116) And conductive layer (17)1~
17Three, 21,31,176) In the anisotropic conductive resin layer
(16), the lead member (11)1~ 1
16), The conductive layer (17)1~ 17Three, 21,31,1
76) And said anisotropic conductive resin layer (16)
The anisotropic conductive resin layer (16) is formed by the projections (18, 19).
Of the lead member (11)1~ 116) And above
The conductive layer (17 1~ 17Three, 21,31,176) And
13. The electrical connection according to claim 12, wherein the electrical connection is established.
A method for manufacturing a semiconductor device.
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