JP3225922B2 - 光導波路型グレーティングアレイ - Google Patents

光導波路型グレーティングアレイ

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JP3225922B2 JP16123498A JP16123498A JP3225922B2 JP 3225922 B2 JP3225922 B2 JP 3225922B2 JP 16123498 A JP16123498 A JP 16123498A JP 16123498 A JP16123498 A JP 16123498A JP 3225922 B2 JP3225922 B2 JP 3225922B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光導波路型グレーテ
ィングアレイに関し、特に光波をその波長によって合波
・分波する多チャンネル動作可能な光導波路型グレーテ
ィングアレイに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、光通信の大容量化に向けて、複数
の波長の光信号を同一の線路を使って伝送する波長多重
伝送システムの研究開発が進んでいる。なかでも、波長
間隔1.6nmや0.8nm(周波数間隔各々200G
Hz,100GHz)で高密度に多重された光信号を合
波・分波するために、光ファイバあるいは石英系光導波
路にグレーティングを形成した狭帯域波長フィルタの利
用が検討されている。
【0003】このグレーティングは、ゲルマニウム(G
e)が添加された石英ガラスに紫外光を照射することに
より、ガラスの屈折率が高くなる光誘起屈折率変化に基
づいている。石英ガラスの屈折率を変化させるための紫
外光として、KrFやArFのエキシマレーザ(波長各
々248nm,193nm)、あるいはアルゴンレーザ
の2倍高調波(波長244nm)等が用いられる。
【0004】図5は従来から一般的に行なわれているグ
レーティング作製法の一例を示す図であり、例えば、ア
プライド・フィジックス・レターズ、1993年、第6
2巻、第1035〜1037頁(Applied Physics Lett
ers, vol.62, pp.1035-1037,1993 )で報告されている
ものである。
【0005】図5において、紫外域で透明な石英ガラス
製の位相マスク51を通して、前記の紫外レーザ53か
らの光55をシリコン(Si)基板41上の光ファイバ
あるいは石英系光導波路コア43にミラー54を経て照
射する。位相マスク51は1μm程度のピッチで周期的
微細溝が彫り込まれた回折格子であり、入射レーザ光5
5を0次、±1次、±2次、…の回折光56へと回折さ
せる。各回折光は導波路上で干渉して干渉縞を形成し、
縞の明暗に応じて石英ガラス中に屈折率の周期的パター
ン、すなわちグレーティング52が形成される。尚、4
2は下層クラッド、44は上層クラッドである。
【0006】通常、位相マスクによる±1次の回折光が
利用され、位相マスクピッチΛとグレーティングピッチ
ΛG はΛ=2ΛG の関係がある。屈折率の周期的パター
ンであるグレーティングは、光導波路を伝搬するブラッ
グ波長の光波を反射する波長フィルタとして機能する。
ブラッグ波長λB は、グレーティングのピッチΛG と光
導波路の等価屈折率neff から、 λB =2neff ・ΛG =neff ・Λ ……(1) により与えられる。
【0007】光誘起屈折率変化に基づくグレーティング
を波長フィルタに適用する構成として、マッハツェンダ
ー干渉計型光導波路のアーム部に同一のグレーティング
を形成したマッハツェンダー型の構成、方向性結合器型
光導波路の結合導波路部にグレーティングを形成した方
向性結合器型の構成、直線光導波路に作製したグレーテ
ィングを光サーキュレータと併用する構成などがある。
それぞれの構成に対し、光導波路として光ファイバ及び
シリコン等の基板上に形成した石英系光導波路を用いる
ことができる。
【0008】図6(a)は、例えば、アイ・イー・イー
・イー・フォトニクス・テクノロジー・レターズ、19
95年、第7巻、第388〜390頁(IEEE Photonics
Technology Letters, vol.7, pp.388-390, 1995)で報
告されているマッハツェンダー型の光導波路型グレーテ
ィングの平面図である。図6(a)において、2つの3
dBカプラ62と2つのアーム部63からなるマッハツ
ェンダー干渉計型光導波路61と、その両アーム部63
に作製された2つの同一のグレーティング16から構成
される。
【0009】入力ポート64に入力された波長多重光信
号のうち、式(1)で表されるブラッグ波長の光信号は
グレーティングによって反射されてドロップポート65
から出力され、光信号の引き抜き(ドロップ動作)が行
なわれる。ブラッグ波長以外の光信号はグレーティング
の影響を受けずにスルーポート66から出力される。ま
た、アッドポート67からブラッグ波長の光信号を入力
すると、この光波はグレーティングによって反射されて
スルーポート66から出力され、入力ポート64からの
光信号との足し合わせ(アッド動作)が行なわれる。
【0010】図6(b)は、例えば、アイ・イー・イー
・イー・フォトニクス・テクノロジー・レターズ、19
96年、第8巻、第1331〜1333頁(IEEE Photo
nicsTechnology Letters, vol. 8, pp. 1331-1333, 199
6)で報告されている方向性結合器型の光導波路型グレ
ーティングの平面図である。図6(b)において、方向
性結合器型光導波路68及びその結合導波路部69に作
製されたグレーティング16から構成される。
【0011】入力ポート64に入力された波長多重光信
号のうち、式(1)で表されるブラッグ波長の光信号は
グレーティングによって反射されてドロップポート65
から出力され、光信号の引き抜き(ドロップ動作)が行
なわれる。ブラッグ波長以外の光信号はグレーティング
の影響を受けずにスルーポート66から出力される。ま
たアッドポート67からブラッグ波長の光信号を入力す
ると、この光波はグレーティングによって反射されてス
ルーポート66から出力され、入力ポート64からの光
信号との足し合わせ(アッド動作)が行なわれる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】波長多重光信号のすべ
てのチャンネルについてアッド及びドロップ動作可能な
波長フィルタを実現するためには、ブラッグ波長の異な
る複数のグレーティングを各チャンネルに対応させて用
意する必要がある。式(1)によれば、ブラッグ波長を
変化させるためには、等価屈折率またはグレーティング
ピッチを変化させればよい。従って、ブラッグ波長の異
なるグレーティングを作製する手段として、(A)ピッ
チの異なる位相マスクを用いる方法、(B)導波路のコ
アとクラッドの比屈折率差及びコアサイズを制御し等価
屈折率を変える方法、(C)グレーティング作製後に位
相マスクなしの状態で紫外光一様照射により等価屈折率
を変化させる方法、などが考えられる。
【0013】図7は上記方法(A)によりブラッグ波長
の異なる2つのグレーティングを作製する工程を示した
図である。まず、基板15上の第一の光導波路21にピ
ッチΛ(1) の位相マスク71を用いて第一のグレーティ
ング73を作製し、次に第二の光導波路22にピッチΛ
(2)の位相マスク72を用いて第二のグレーティング7
4を作製する。作製されたグレーティングのブラッグ波
長は、式(1)に従って、 λB(1)=neff ・Λ(1) ……(2) λB(2)=neff ・Λ(2) ……(3) により夫々与えられる。
【0014】この方法の問題点は、位相マスクが複数必
要であること及び位相マスクを介した紫外光照射を複数
回行なわなければならないことである。また、複数の光
導波路を基板上に高密度に配置した場合、複数回紫外光
照射の位置制御が難しい。よつて、グレーティング作製
のコストは上昇し、生産性は低下する。
【0015】図8は方法(B)によりブラッグ波長の異
なる2つのグレーティングを作製する工程を示した図で
ある。コア屈折率を変えた別工程で光導波路を形成する
ことにより、等価屈折率neff (1) の光導波路21及び
等価屈折率neff(2)の光導波路22を用意し、ピッチΛ
の位相マスク81を用いてそれぞれにグレーティング7
3、74を作製する。作製されたグレーティングのブラ
ッグ波長は式(1)に従って、 λB(1)=neff ・Λ……(4) λB(2)=neff ・Λ……(5) にて夫々与えられる。
【0016】この方法の問題点は、光導波路形成の工程
が複雑になること、位相マスクを介した紫外光照射を複
数回行なわなければならないことである。よって、グレ
ーティング作製の生産性は低い。
【0017】また、導波路コアの屈折率は変えずにコア
の幅を変えることでも方法(B)を実施可能であるが、
ブラッグ波長を変化させ得る波長幅が小さいことが問題
である。方法(C)をとった場合、グレーティング作製
時の位相マスクによる紫外光照射は一度で済むが、グレ
ーティング作製後の紫外光一様照射が複数回必要である
こと、及びグレーティング作製後にさらに変化させ得る
屈折率量には限界があってブラッグ波長を大きく変える
のが難しいこと、が問題である。
【0018】本発明の目的は、上述した問題点を解決し
低コストかつ生産性の高い高密度多チャンネル動作可能
な光導波路型グレーティングを提供することである。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明の光導波路型グレ
ーティングアレイは、基板上に複数の光導波路が並列に
配置された構造を有する。各光導波路はグレーティング
に対してそれぞれある角度で傾きを持って配置されてい
る。各光導波路には、同一の格子ベクトルを持つグレー
ティングが紫外光の一括照射によって形成されている。
各光導波路上のグレーティングは、各光導波路との傾き
角がそれぞれ異なっているためにそのピッチがそれぞれ
異なり、従ってそのブラッグ波長はそれぞれ異なったも
のとなる。
【0020】以上の結果、本発明の構造を有した光導波
路型グレーティングアレイは多チャンネル動作が可能で
ある。光導波路を高密度に配置することにより、チャン
ネルの高密度化を図ることも可能である。また、本発明
の光導波路型グレーティングアレイは、導波路形成工程
もグレーティング作製工程も1度で済むため、低コスト
かつ高い生産性で実現可能である。
【0021】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図1は本発明による光導波
路型グレーティングアレイの第一の実施形態を示した平
面構成図である。基板15上に第1の直線光導波路1
1、第2の直線光導波路12、第3の直線光導波路1
3、……、第8の直線光導波路14が、基板上において
互いに平行ではなくある傾き角を持って夫々配置されて
いる。
【0022】各光導波路には、同一の格子ベクトルを持
つグレーティングが紫外光の一括照射によって形成され
ている。第i(i=1〜8)番目の直線光導波路とグレ
ーティングの格子ベクトルとのなす角をθi と定義す
る。
【0023】図2は本発明による光導波路型グレーティ
ングアレイの作用を説明した図である。グレーティング
の格子ベクトルに対して傾き角θi を持つ第iの直線光
導波路21において、そのグレーティングピッチは傾き
がないときの1/cosθiとなり、ブラッグ波長は、 λB(i)=2neff ・ΛG /cosθi ……(6) の様になる。従って、図1の8つのグレーティングは合
わせて8つの異なるブラッグ波長を持つことになり、8
チャンネル動作可能な光導波路型グレーティングが実現
される。
【0024】ここでは8チャンネル動作可能な光導波路
型グレーティングアレイの例を示したが、本発明によっ
て実現可能な動作チャンネル数は後に述べる範囲内で任
意に設計でき、また動作波長を1.3μm帯に設計する
ことも1.5μm帯に設計することもできる。また、各
光導波路は、紫外光誘起屈折率効果が存在すれば、光フ
ァイバから構成されていてもよいし、Si等の基板上に
形成された石英系光導波路から構成されていてもよい。
【0025】本発明の光導波路型グレーティングアレイ
で一括作製できるチャンネル数は、位相マスクの幅によ
ってのみ制限される。すなわち、基板上に並列配置した
光導波路群の幅が位相マスクの幅を超えない範囲でチャ
ンネル数は任意に設計できる。
【0026】図3は本発明による光導波路型グレーティ
ングアレイの第二の実施形態である方向性結合器並列型
の光導波路型グレーティングアレイを示した平面構成図
である。8つの方向性結合器は基板15上に並列に配置
されており、図中点線で示した領域16の各結合導波路
部には、同一の格子ベクトルを持つグレーティングが紫
外光の一括照射によって形成されている。i番目の方向
性結合器の結合導波路部はグレーティングの格子ベクト
ルと傾き角θi を持つように設定されている。両端面の
ポートには反射ミラー39が装着されている。
【0027】次に、本発明による光導波路型グレーティ
ングアレイの動作方法について、第二の実施の形態を例
に図3を用いて説明する。第一の方向性結合器31に設
けられた入力ポート35から、波長λ1 〜λ8 の8チャ
ンネル光信号を入射する。入射光のうち波長λ1 の光波
のみ結合導波路部33に作製されたグレーティングによ
って反射され、ドロップポート36から出射される。
【0028】波長λ2 〜λ8 の光波は結合導波路33を
透過してスルーポート37へ向かい、基板端面に装着さ
れた反射ミラー39によって反射された後結合導波路3
4に導入される。結合導波路34において、波長λ2 の
光波のみグレーティングによって反射され、ドロップポ
ート38から出射される。以下同様の動作が繰り返さ
れ、各波長λ1 〜λ8 は各ドロップポートへと振り分け
られる。
【0029】
【実施例】次に、本発明の具体的な実施例について説明
する。図4は図2の光導波路を破線に沿って切断したと
きの断面図である。Si基板41上に下層クラッド4
2、コア43、上層クラッド44からなる光導波路が形
成されている。上層、下層クラッドの組成は石英であ
り、コアの組成はGe添加石英である。コアとクラッド
の比屈折率差は0.4%である。下層クラッドと上層ク
ラッドの膜厚はそれぞれ15μm、12μmであり、コ
アの断面大きさは6μm×6μmである。
【0030】上記のような光導波路で方向性結合器を構
成し、図3のように並列に8つ配置する。方向性結合器
の結合導波路部(図6(b)の69)において、導波路
間のギャップは8μmであり、長さは完全結合長10.
3mmに設定されている。図5に示した方法にしたが
い、ピッチ1.073μmの位相マスクを介して紫外光
として例えばArFエキシマレーザ光(波長193n
m)を照射して、8つの方向性結合器に一括してグレー
ティングを作製する。グレーティングの長さは4mmで
ある。
【0031】図2を参照して、第i番目の方向性結合器
の結合導波路部がグレーティングの格子ベクトルと傾き
角θi を持っているとしたとき、本実施例におけるθi
とブラッグ波長λB (1) を図10に示す。
【0032】作製された光導波路型グレーティングアレ
イの各チャンネルの特性は、消光比−20dB、帯域幅
0.6nm、サイドローブ−30dB、挿入損失3dB
である。光導波路として光ファイバを用いるときには、
第i番目の光ファイバを石英基板に傾き角θi で固定
し、位相マスクを介して紫外光を一括照射すればよい。
【0033】本発明の光導波路型グレーティングアレイ
は、グレーティングが光導波路上に設けられた周期的な
レリーフ構造によるものであっても構成できる。図9は
この場合の光導波路の構造を示す光の伝搬方向に平行な
断面図である。図1及び図3のグレーティング作製領域
16に、周期ΛGで光導波路上にエッチングを施すこと
によりレリーフ構造91が一括して形成され、上記の実
施例と同様の光導波路型グレーティングアレイが作製で
きる。
【0034】また、図6(a)に示した様に、光導波路
素子がマッハツェンダー型光導波路であり、夫々の両ア
ーム部にグレーティングが形成された構造でも良い。
【0035】
【発明の効果】本発明によれば、多チャンネル動作可能
な光導波路型グレーティングアレイが低コストかつ高い
生産性で実現可能である。また、光導波路を高密度に配
置することによりチャンネルの高密度化を図ることが可
能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光導波路型グレーティングアレイの第
一の実施形態を示す平面図である。
【図2】本発明の原理を説明する図である。
【図3】本発明の光導波路型グレーティングアレイの第
二の実施形態を示す平面図である。
【図4】図2の破線で切断した断面図である。
【図5】本発明及び従来例におけるグレーティング作製
法を示す図である。
【図6】(a)は従来の光導波路型グレーティングの一
例とその動作を示す図、(b)は従来の光導波路型グレ
ーティングの他の一例とその動作を示す図である。
【図7】従来の光導波路型グレーティングの作製方法を
示す工程図である。
【図8】従来の光導波路型グレーティングの他の作製方
法を示す工程図である。
【図9】本発明及び従来例におけるグレーティングの構
造の一例を示す断面図である。
【図10】図2に示すθi とブラッグ波長λB(i)との関
係を示す図である。
【符号の説明】 11 第1の直線光導波路 12 第2の直線光導波路 13 第3の直線光導波路 14 第8の直線光導波路 15 基板 16 グレーティング作製領域 21 第iの直線光導波路 22 第i+1の直線光導波路 31 第一の方向性結合器 32 第二の方向性結合器 33 第一の方向性結合器の結合導波路部 34 第二の方向性結合器の結合導波路部 35 入射ポート 36 第一のブラッグ波長のドロップポート 37 スルーポート 38 第二のブラッグ波長のドロップポート 39 反射ミラー 41 Si基板 42 下層クラッド 43 光導波路コア 44 上層クラッド 51 位相マスク 52 グレーティング 53 紫外レーザ光源 54 ミラー 55 紫外レーザ光 56 紫外レーザの回折光 61 マッハツェンダー型光導波路 62 3dBカプラ 63 アーム 64 入射ポート 65 ドロップポート 66 スルーポート 67 アッドポート 68 方向性結合器型光導波路 69 結合導波路部 71 ピッチΛ(1) の位相マスク 72 ピッチΛ(2) の位相マスク 73 第一のグレーティング 74 第二のグレーティング 81 ピッチΛの位相マスク 91 レリーフ構造

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に並列配置された複数の光導波路
    素子と、前記各光導波路素子に形成されたグレーティン
    グとからなり、前記光導波路素子の各々とグレーティン
    グの格子ベクトルとのなす角度が互いに異なる角度に設
    定されており、前記光導波路素子が方向性結合器型光導
    波路であり、それぞれの結合導波路部分に前記グレーテ
    ィングが形成されていることを特徴とする光導波路型グ
    レーティングアレイ。
  2. 【請求項2】 前記光導波路素子が、前記方向性結合器
    型光導波路に代えてマッハツェンダー型光導波路であ
    り、これ等マッハツェンダー型光導波路それぞれの両ア
    ーム部分に前記グレーティングが形成されていることを
    特徴とする請求項1記載の光導波路型グレーティングア
    レイ。
  3. 【請求項3】 前記光導波路素子がシリコンまたは石英
    基板上に形成された平板状石英光導波路であることを特
    徴とする請求項1〜3いずれか記載の光導波路型グレー
    ティングアレイ。
  4. 【請求項4】 前記光導波路素子が石英基板からなる基
    板上に固着された光ファイバであることを特徴とする請
    求項1〜3いずれか記載の光導波路型グレーティングア
    レイ。
  5. 【請求項5】 前記光導波路素子が半導体基板上に形成
    された平板状半導体光導波路であることを特徴とする請
    求項1〜3いずれか記載の光導波路型グレーティングア
    レイ。
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