JP3223152U - Atomic layer deposition transfer coating equipment - Google Patents
Atomic layer deposition transfer coating equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP3223152U JP3223152U JP2019002522U JP2019002522U JP3223152U JP 3223152 U JP3223152 U JP 3223152U JP 2019002522 U JP2019002522 U JP 2019002522U JP 2019002522 U JP2019002522 U JP 2019002522U JP 3223152 U JP3223152 U JP 3223152U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- atomic layer
- layer deposition
- coating apparatus
- moving platform
- transfer coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 97
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 97
- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 20
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 8
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 6
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 claims description 4
- 239000010438 granite Substances 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 56
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 21
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 9
- 238000013461 design Methods 0.000 abstract description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 58
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 1
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- KSOCVFUBQIXVDC-FMQUCBEESA-N p-azophenyltrimethylammonium Chemical compound C1=CC([N+](C)(C)C)=CC=C1\N=N\C1=CC=C([N+](C)(C)C)C=C1 KSOCVFUBQIXVDC-FMQUCBEESA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【課題】大面積の基板をコーティングする原子層堆積移載コーティング装置を提供する。【解決手段】原子層堆積移載コーティング装置１はサポート台１１、移載モジュール１２、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３、コントロールモジュール１４を有する。原子層堆積移載コーティング装置１は、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３によるハードウェア設計により、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３を効果的に制御することで、間歇的なオン及びオフを行い、或いは基板を搭載する移動プラットホーム１２１によりコーティング移動の距離を短縮し、原子層コーティングの層積加工の作業時間を確実に短縮し、及び加工効率を倍増させられ、しかも基板伝送距離を短縮して震動による移動を減らし、加工の歩留まりを向上させられる。【選択図】図１An atomic layer deposition transfer coating apparatus for coating a large-area substrate is provided. An atomic layer deposition transfer coating apparatus includes a support base, a transfer module, a plurality of slit gas coating machine units, and a control module. The atomic layer deposition transfer coating apparatus 1 performs intermittent on and off by effectively controlling the plurality of slit gas coating machine units 13 by the hardware design by the plurality of slit gas coating machine units 13. Alternatively, the distance of the coating movement can be shortened by the moving platform 121 on which the substrate is mounted, the work time of the layer processing of the atomic layer coating can be surely shortened, the processing efficiency can be doubled, and the substrate transmission distance can be shortened and the vibration can be reduced. It is possible to improve the processing yield by reducing the movement due to. [Selection] Figure 1
Description
本考案は原子層堆積移載コーティング装置に関し、特に大面積の基板コーティングに適用される原子層堆積移載コーティング装置に関する。 The present invention relates to an atomic layer deposition transfer coating apparatus, and more particularly to an atomic layer deposition transfer coating apparatus applied to a large area substrate coating.
原子層堆積（Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）は、一種の薄膜堆積の方法である。
堆積される原子層の厚さは、ナノ（ｎａｎｏｍｅｔｅｒ，ｎｍ）レベルの薄膜である。
一般的に、原子層の堆積方法は、２種以上のガス前駆体を使用し、しかも各ガス前駆体を交替に重複して基板上に加え反応させて形成する。
その製造工程では、基板の一表面をガス前駆体下方に暴露し、堆積循環を行う。
その内、各堆積循環は、一層の薄膜或いは一部分の単層薄膜を形成する。
原子層堆積中において、薄膜生成は、化学反応により、層間累積を行い、ガス前駆体分子は、化学結合の方式で基板表面に結合される。
ガス前駆体と化学結合する基板のすべての表面位置が覆われると、化学吸着は自然に停止する。
続いて、基板を第二ガス前駆体に暴露し、すべての第一ガス前駆体が反応するまで、第二ガス前駆体とすでに固体薄膜を形成した化学吸着前の第一ガス前駆体とを化学反応させ、基板は、自己制限的な方式により、一層の化学吸着第二ガス前駆体に覆われる。
よって、原子層堆積は、自己制限的に逐層堆積され、高いコンフォーマルコーティング及び優良な厚さ制御を提供することができる。
これら特性により、注目の方法となっており、半導体、太陽電池或いは有機発光ダイオード等のパーツの封入作業等にしばしば応用されている。
例えば、有機発光ダイオード或いは太陽電池では、堆積酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）薄膜の封入に用いられ、酸素或いは水分を隔絶し、その厚さを１-１０ｎｍにすることができる。
現在、関連パーツのニーズの拡大に伴い、原子層堆積コーティング設備の量産能力へのニーズも高まっている。
Atomic layer deposition is a kind of thin film deposition method.
The thickness of the deposited atomic layer is a nanometer (nm) level thin film.
In general, the atomic layer deposition method uses two or more kinds of gas precursors, and each gas precursor is alternately overlapped on the substrate to be reacted.
In the manufacturing process, one surface of the substrate is exposed below the gas precursor, and deposition circulation is performed.
Among them, each deposition cycle forms one thin film or a part of a single-layer thin film.
During atomic layer deposition, thin film formation is performed by intercalation by a chemical reaction, and gas precursor molecules are bonded to the substrate surface in a chemical bond manner.
When all surface locations of the substrate that chemically bond with the gas precursor are covered, chemisorption stops spontaneously.
Subsequently, the substrate is exposed to the second gas precursor, and the second gas precursor is chemically reacted with the first gas precursor before chemisorption that has already formed a solid thin film until all the first gas precursors have reacted. Once reacted, the substrate is covered with a layer of chemisorbed second gas precursor in a self-limiting manner.
Thus, atomic layer deposition is deposited in a self-limiting manner and can provide high conformal coating and good thickness control.
These characteristics make it a method of attention, and are often applied to encapsulating parts such as semiconductors, solar cells or organic light emitting diodes.
For example, in an organic light emitting diode or a solar cell, it is used to enclose a deposited aluminum oxide (Al 2 O 3 ) thin film, and oxygen or moisture can be isolated and the thickness thereof can be set to 1 to 10 nm.
Currently, with the expansion of needs for related parts, the need for mass production capability of atomic layer deposition coating equipment is also increasing.
有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ-Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ，ＯＬＥＤ）或いは太陽電池量産化の趨勢、パーツの厚さと軟性ニーズ維持による薄型化の趨勢に鑑み、関連の原子層堆積の伝送において、現在では直接、基板或いはロール材を、複数のローラーにより直接駆動し、固定位置に伝送する。
ローラーは基板を直接支えて引き、基板或いはロール材は応力を生じ、しかも基板或いはロール材とロール軸の間は、有効な固定と密着ができないため、移載過程において容易に外力の影響を受け、ずれたり捲れあがったり、さらには変形して、加熱作業を行うなど論外な状態となりやすい。
この他、コーティング作業の安定性と正確性を高めるため、現行では、基板を作業台上に密着し、基板と気体スプレー機構との間で安定的でフラットな距離を保持し、移載或いは関連ガス前駆体料のスプレー作業を行なっている。
このため、関連作業の制限となり、数度の重複堆積を達成するためには、絶えず基板の移動行程を増やし堆積の回数を増やす必要があり、作業時間が長くなり量産性に悪影響を及ぼしている。
さらに、従来の作業台は、花崗岩により基板或いはロール材を伝送し、或いは基板或いはロール材をコンベアベルト上に置き、しかもローラーにより直接コンベアベルトを駆動して基板或いはロール材を伝送する。
しかし、コンベアベルト下方には対応するサポート物によるサポートがないため、基板はコンベアベルト上で有効な定位が得られず、加工時に安定的に伝送されず、基板の加工品質が不良となっている。
よって、新しいハードウェア設計を開発し、伝送時の、基板の過度な移動による震動を避けることが、原子層堆積コーティング等関連産業の開発業者と研究人員にとって喫緊の課題である。
In light of the trend of mass production of organic light emitting diodes (OLEDs) or solar cells, and the trend of thinning by maintaining the thickness and flexibility of parts, the related atomic layer deposition is currently being used directly in the substrate or The roll material is directly driven by a plurality of rollers and transmitted to a fixed position.
The roller directly supports and pulls the substrate, the substrate or roll material generates stress, and the substrate or roll material and the roll shaft cannot be effectively fixed and adhered to each other. , It is likely to be out of the question, such as being misaligned or twisted, or even deformed and heated.
In addition, in order to improve the stability and accuracy of the coating operation, the substrate is currently in close contact with the work table, and a stable and flat distance is maintained between the substrate and the gas spray mechanism. The gas precursor material is sprayed.
For this reason, it becomes a limitation of related work, and in order to achieve several times of overlapping deposition, it is necessary to constantly increase the number of times of deposition by increasing the number of times of substrate movement, which adversely affects mass productivity. .
Further, the conventional work table transmits the substrate or the roll material by granite, or places the substrate or the roll material on the conveyor belt, and drives the conveyor belt directly by the roller to transmit the substrate or the roll material.
However, since there is no support by the corresponding support material below the conveyor belt, the substrate cannot obtain an effective orientation on the conveyor belt, is not stably transmitted during processing, and the processing quality of the substrate is poor. .
Therefore, developing new hardware designs and avoiding vibrations due to excessive movement of the substrate during transmission is an urgent issue for developers and research personnel in related industries such as atomic layer deposition coating.
前記先行技術には、コンベアベルト下方にサポートがないため、コンベアベルト上で基板を定位できず、加工時に安定的に伝送されず、基板の加工品質が不良となる欠点がある。 In the prior art, since there is no support below the conveyor belt, the substrate cannot be localized on the conveyor belt, and is not stably transmitted during processing, resulting in a defect in processing quality of the substrate.
本考案は大面積の基板をコーティングする原子層堆積移載コーティング装置に適用され、複数のスリット気体コーティング機ユニットによるハードウェア設計で、複数のスリット気体コーティング機ユニットを効果的に制御することで、間歇的なオン及びオフを行い、原子層の堆積効果を達成し、基板伝送距離を短縮し震動が生じる移動を低下させて加工の歩留まりを向上させ、しかも基板を搭載する移動プラットホームは、コーティング移動の距離を効果的に短縮することで、加工の作業時間を確実に短縮し、及び加工効率を倍増させられる原子層堆積移載コーティング装置に関する。 The present invention is applied to an atomic layer deposition transfer coating apparatus that coats a large area substrate, and by hardware control by a plurality of slit gas coating machine units, by effectively controlling a plurality of slit gas coating machine units, By turning on and off intermittently, achieving the deposition effect of the atomic layer, shortening the substrate transmission distance and reducing the movement that generates vibrations, improving the processing yield, and the moving platform that mounts the substrate moves the coating It is related with the atomic layer deposition transfer coating apparatus which can shorten processing time reliably and can double processing efficiency by effectively shortening the distance.
本考案による原子層堆積移載コーティング装置は、少なくともサポート台、移載モジュール、複数のスリット気体コーティング機ユニット、及びコントロールモジュールを有する。
該移載モジュールは、サポート台上に設置され、移載モジュールは、移動プラットホーム、及び移動プラットホームに連接される駆動アセンブリを有する。
該複数のスリット気体コーティング機ユニットは、移載モジュール上に設置され、各スリット気体コーティング機ユニットは、少なくとも１個の固定枠フレーム、及び固定枠フレーム上に固定されるスリット気体スプレーアセンブリを有する。
該スリット気体コーティング機ユニット間は移動プラットホームに向かい並列延伸して組み付けられ、しかもスリット気体スプレーアセンブリは、複数の第一給気管、複数の第二給気管、複数の第三給気管、及び回收吸気管を有する。
該コントロールモジュールは、スリット気体スプレーアセンブリと駆動アセンブリにそれぞれ電気的に連接される。
The atomic layer deposition transfer coating apparatus according to the present invention includes at least a support base, a transfer module, a plurality of slit gas coating machine units, and a control module.
The transfer module is installed on a support table, and the transfer module has a moving platform and a drive assembly connected to the moving platform.
The plurality of slit gas coating machine units are installed on a transfer module, and each slit gas coating machine unit has at least one fixed frame frame and a slit gas spray assembly fixed on the fixed frame frame.
The slit gas coating unit is assembled in parallel extending toward the moving platform, and the slit gas spray assembly includes a plurality of first air supply pipes, a plurality of second air supply pipes, a plurality of third air supply pipes, and a collection air intake. Has a tube.
The control module is electrically connected to the slit gas spray assembly and the drive assembly, respectively.
本考案の一実施形態において、移動プラットホームは、花崗岩プラットホームである。 In one embodiment of the present invention, the mobile platform is a granite platform.
本考案の一実施形態において、移動プラットホームは、複数の穿孔を有するコンベアベルトで、穿孔は、スリット或いは円孔等の内の一種の形態である。 In an embodiment of the present invention, the moving platform is a conveyor belt having a plurality of perforations, and the perforations are a kind of a slit or a circular hole.
本考案の一実施形態において、駆動アセンブリは、該移動プラットホームの二端部にそれぞれ設置される２個のローラーアセンブリ、及びローラーアセンブリの一端部に設置される動力部材を有し、動力部材は、ローラーアセンブリの回転を連動し、こうして移動プラットホームの回転を連動する。 In one embodiment of the present invention, the drive assembly includes two roller assemblies respectively installed at two ends of the moving platform, and a power member installed at one end of the roller assembly, Interlock the rotation of the roller assembly, thus interlocking the rotation of the moving platform.
本考案の一実施形態において、固定枠フレームには、複数のボルトを対応して設置し、ボルトは、スリット気体スプレーアセンブリを固定し、固定枠フレームには、固定柱を連接し、固定柱は、サポート台上に固定される。 In one embodiment of the present invention, the fixed frame frame is provided with a plurality of bolts, the bolts fix the slit gas spray assembly, the fixed frame frame is connected to the fixed columns, and the fixed columns are Fixed on the support base.
本考案の一実施形態において、スリット気体スプレーアセンブリの延伸長さは、移動プラットホームの横方向長さより長い。 In one embodiment of the present invention, the stretch length of the slit gas spray assembly is longer than the lateral length of the moving platform.
本考案の一実施形態において、コントロールモジュールは、さらに出力ユニットを電気的に連接し、出力ユニットは、ディスプレー或いはタッチパネル等の内の一種の装置を有する。 In one embodiment of the present invention, the control module further electrically connects the output unit, and the output unit includes a kind of device such as a display or a touch panel.
本考案の一実施形態において、原子層堆積移載コーティング装置は、さらに移動プラットホーム下方に複数の加熱吸気ボックスを設置する。 In one embodiment of the present invention, the atomic layer deposition transfer coating apparatus further includes a plurality of heated air intake boxes below the moving platform.
本考案の一実施形態において、加熱吸気ボックスは、内部に収容設置空間を開設する箱体、収容設置空間に設置される複数の加熱管アセンブリを有し、しかも箱体の、移動プラットホームに近接する一表面には、複数の貫通孔を開設し、該加熱吸気ボックスには、真空吸気装置を連接する。 In one embodiment of the present invention, the heated air intake box has a box body that opens a housing installation space therein, a plurality of heating pipe assemblies installed in the housing installation space, and is close to the moving platform of the box body. A plurality of through holes are opened on one surface, and a vacuum suction device is connected to the heating and suction box.
本考案の一実施形態において、加熱吸気ボックスの両側部には、加熱吸気ボックスをサポートする複数のサポートフレームを設置する。 In one embodiment of the present invention, a plurality of support frames that support the heated intake box are installed on both sides of the heated intake box.
本考案の一実施形態において、貫通孔は、穿孔と同じくスリット或いは円孔等の内の一種の形態である。 In one embodiment of the present invention, the through hole is a kind of form such as a slit or a circular hole as in the case of the perforation.
本考案の一実施形態において、貫通孔の配置方向は、穿孔の方向と重なって設置される。 In one embodiment of the present invention, the arrangement direction of the through holes is installed so as to overlap with the direction of the perforations.
本考案の一実施形態において、加熱吸気ボックスは、さらに真空吸気装置を連接する。 In one embodiment of the present invention, the heated intake box further connects a vacuum intake apparatus.
本考案の原子層堆積移載コーティング装置は、複数のスリット気体コーティング機ユニットによるハードウェア設計で、複数のスリット気体コーティング機ユニットを効果的に制御することで、間歇的なオン及びオフを行い、原子層の層積効果を達成し、基板伝送距離を縮小して震動により生じる移動を減らし、加工の歩留まりを向上させ、しかも基板を搭載する移動プラットホームはコーティング移動の距離を効果的に短縮し、加工の作業時間を確実に短縮し、及び加工効率を倍増させられる。 The atomic layer deposition transfer coating apparatus of the present invention is a hardware design with a plurality of slit gas coating machine units, and by controlling the plurality of slit gas coating machine units effectively, intermittent on and off, Achieve the layer effect of atomic layer, reduce the transmission distance by reducing the substrate transmission distance, improve the processing yield, and the moving platform that carries the substrate effectively shortens the distance of coating movement, The working time of machining can be surely shortened and the machining efficiency can be doubled.
（一実施形態）
本考案は図に対応し、実施形態の形式で以下の通り詳細な説明を行う。
その内、使用する図は、表示と説明書の補助に用いるだけで、本考案実施後の実際の比率と正確な配置を示すものではない。
よって、図の比率と配置関係により、本考案の実際の実施における請求範囲を制限するものではない。
(One embodiment)
The present invention corresponds to the drawings and will be described in detail in the form of an embodiment as follows.
Of these, the figures used are only used to assist the display and instructions, and do not show the actual proportions and the exact layout after implementation of the present invention.
Therefore, the claims in the actual implementation of the present invention are not limited by the ratio and the arrangement relationship in the figure.
本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第一実施形態の装置全体の立体図、装置全体の断面図、及び基板設置の模式図である図１〜図３に合わせて示す通り、本考案の原子層堆積移載コーティング装置１は、少なくともサポート台１１、移載モジュール１２、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３、及びコントロールモジュール１４を有する。
本考案の原子層堆積移載コーティング装置１は、基板２上に、少なくとも１個の原子層を堆積する。
しかも本考案は、各スリット気体コーティング機ユニット１３のハードウェア設計により、各スリット気体コーティング機ユニット１３を効果的に制御し、間歇的なオン及びオフを行い、原子層の層積効果を達成し、
基板２の伝送距離を短縮し震動が生じる移動を低下させて加工の歩留まりを向上させ、しかも基板を搭載する移動プラットホームは、コーティング移動の距離を効果的に短縮することで、加工の作業時間を確実に短縮し、及び加工効率を倍増させられる。
基板２は、プラスチック基板、ウエハ、ガラス或いはシリコン等の内の一種である。
As shown in FIGS. 1 to 3 which are a three-dimensional view of the entire apparatus of the first embodiment of the atomic layer deposition transfer coating apparatus according to the present invention, a cross-sectional view of the entire apparatus, and a schematic view of the substrate installation, The atomic layer deposition
The atomic layer deposition
Moreover, according to the present invention, the slit gas
The transmission distance of the
The
サポート台１１は、本考案の原子層堆積移載コーティング装置１をサポートする。
サポート台１１は、デスク型を呈し、サポート台１１は、平面（図示なし）、及び平面をサポートする４個のサポート脚（図示なし）を有する。
The support table 11 supports the atomic layer deposition
The
移載モジュール１２は、サポート台１１の平面上に設置され、移載モジュール１２は、移動プラットホーム１２１、及び移動プラットホーム１２１に連接される駆動アセンブリ１２２を有する。
図４に合わせて示す通り、移動プラットホーム１２１は、複数の穿孔１２１１を有するコンベアベルトである。
穿孔１２１１は、スリット或いは円孔の内の一種である。
コンベアベルトは、ガラス繊維布、テフロン（登録商標）布或いはステンレス等の内の一種の材質により製造される。
この他、駆動アセンブリ１２２は、移動プラットホーム１２１の二端部にそれぞれ設置される２個のローラーアセンブリ１２２１、及びローラーアセンブリ１２２１の一端部に設置される動力部材１２２２を有する。
動力部材１２２２は、ローラーアセンブリ１２２１の回転を連動し、こうして移動プラットホーム１２１の回転を連動する。
動力部材１２２２は、モーターで、しかも基板２は、移動プラットホーム１２１のコンベアベルト上に設置される。
本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第二実施形態の装置全体の立体図、及び装置全体の断面図である図６に合わせて示す通り、移載モジュール１２の移動プラットホーム１２１は、花崗岩材質により製造されるプラットホームである。
The
As shown in FIG. 4, the moving
The
The conveyor belt is manufactured from a kind of material such as glass fiber cloth, Teflon (registered trademark) cloth, or stainless steel.
In addition, the
The
The
As shown in FIG. 6 which is a three-dimensional view of the entire apparatus of the second embodiment of the atomic layer deposition transfer coating apparatus according to the present invention and a sectional view of the entire apparatus, the
本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第一実施形態のスリット気体スプレーアセンブリ設置の模式図、スリット気体コーティング機ユニット設置の模式図、及びスリット気体コーティング機ユニットの作動模式図である図７〜図９に合わせて示す通り、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３は、移載モジュール１２上に設置される。
各スリット気体コーティング機ユニット１３は、少なくとも１個の固定枠フレーム１３１、固定枠フレーム１３１上に固定されるスリット気体スプレーアセンブリ１３２、及び固定枠フレーム１３１に対応して設置され、スリット気体スプレーアセンブリ１３２を固定する複数のボルト１３３を有する。
複数のスリット気体コーティング機ユニット１３間は移動プラットホーム１２１方向へと並列延伸し組み付けられ、しかもスリット気体スプレーアセンブリ１３２は、複数の第一給気管１３２１、複数の第二給気管１３２２、複数の第三給気管１３２３、及び回收吸気管１３２４を有する。
各第一給気管１３２１は、第一前駆体（図示なし）を供給する。
第一前駆体は、例えば水蒸気（Ｈ２Ｏ）だがこれに限定されない。
各第二給気管１３２２は、第二前駆体（図示なし）を供給する。
第二前駆体は、例えば、トリメチルアミン（Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ、ＴＭＡと略称）だがこれに限定されない。
各第三給気管１３２３は、窒素気体を供給し、各気体は、基板２上で反応し、少なくとも１層の原子層を形成する。
回收吸気管１３２４は、余分な気体を回収し、各気体のスプレー安定循環と反応を提供する。
この他、固定枠フレーム１３１には、固定柱１３１１を連接する。
固定柱１３１１は、サポート台１１上に固定される。
さらに、各スリット気体スプレーアセンブリ１３２の延伸長さは、移動プラットホーム１２１の横方向長さより長い。
FIG. 7 is a schematic diagram of the slit gas spray assembly installation, the schematic diagram of the slit gas coating machine unit installation, and the operation schematic diagram of the slit gas coating machine unit of the first embodiment of the atomic layer deposition transfer coating apparatus according to the present invention. As shown in FIG. 9, the plurality of slit gas
Each slit gas
The plurality of slit gas
Each
The first precursor is, for example, water vapor (H 2 O), but is not limited thereto.
Each second
The second precursor is, for example, trimethylamine (abbreviated as Trimethylamine, TMA), but is not limited thereto.
Each
A
In addition, a fixed
The fixed
Furthermore, the stretch length of each slit
コントロールモジュール１４は、スリット気体スプレーアセンブリ１３２と駆動アセンブリ１２２にそれぞれ電気的に連接される。
コントロールモジュール１４は、サポート台１１下方に設置され、各スリット気体コーティング機ユニット１３の気体供給流量及び回收吸気の流量を制御し、ローラーアセンブリ１２２１の回転メカニズム、往復頻度、及び移載速度を制御する。
コントロールモジュール１４は、出力ユニット１５を電気的に連接し、しかも出力ユニット１５は、ディスプレー或いはタッチパネル等の内の一種の装置を有する。
出力ユニット１５は、各種作業状態の表示データと入力を提供し、使用者の参考に供する。
The
The
The
The
図４に合わせて示す通り、原子層堆積移載コーティング装置１は、さらに移動プラットホーム１２１下方に、複数の加熱吸気ボックス１６を設置する。
加熱吸気ボックス１６は、内部に収容設置空間１６１１を開設する箱体１６１、収容設置空間１６１１に設置される複数の加熱管アセンブリ１６２を有し、しかも箱体１６１の、移動プラットホーム１２１に近接する表面には、各穿孔１２１１と対応する複数の貫通孔１６１２を開設する。
貫通孔１６１２は、穿孔１２１１と相同のスリット或いは円孔の内の一種である。
加熱吸気ボックス１６の両側部には、加熱吸気ボックス１６をサポートする複数のサポートフレーム１６３を設置する。
さらに、貫通孔１６１２の配置方向は、穿孔１２１１の方向と重なって設置し、貫通孔１６１２の幅は、０．５ｍｍから２ｍｍの間である。
各加熱吸気ボックス１６は、ローラーアセンブリ１２２１と移動プラットホーム１２１の間に設置され、箱体１６１の収容設置空間１６１１には、加熱管アセンブリ１６２を設置し、各気体反応に必要な熱源を提供し、温度制御を行う。
しかも、箱体１６１表面に設置するスリット形態の貫通孔１６１２は、同じくスリット形態の穿孔１２１１と対応し、加熱管アセンブリ１６２の制御可能温度を、貫通孔１６１２と穿孔１２１１を通して、基板２に伝える。
しかも、各加熱吸気ボックス１６は、移動プラットホーム１２１を上方へとサポートする効果も提供でき、基板２搭載の安定性を拡大する。
加熱吸気ボックス１６には、真空吸気装置１６４を連接する。
真空吸気装置１６４は、サポート台１１下方に設置され、真空吸気装置１６４は、負圧を生じ、貫通孔１６１２と穿孔１２１１を通して、基板２を搭載する吸引力を提供し、これにより基板２は、移動プラットホーム１２１上に密着し、コーティング作業の安定性と精度を高めることができる。
As shown in FIG. 4, the atomic layer deposition
The
The through
A plurality of support frames 163 that support the
Furthermore, the arrangement direction of the through
Each
Moreover, the slit-shaped through
In addition, each heating and
A
The
本考案の実施時における第一種作動方式は、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３により、基板２コーティング面積に対応する。
コーティング時には、基板２を搭載する移動プラットホーム１２１の移動作動を行わず、複数のスリット気体スプレーアセンブリ１３２を制御して、間歇性のオン及びオフを行わせることで、コーティング原子層堆積効果を達成できる。
しかも、基板２の伝送距離を縮小し震動を低下させ移動を生じ、加工の歩留まりを向上させることができる。
第二種作動方式は、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３を延伸して組み合わせる長さは、移動プラットホーム１２１の横方向長さより長い。
コーティング時には、各スリット気体コーティング機ユニット１３面積は、基板２コーティングの面積に対応し、移動プラットホーム１２１は、往復作動できる。
移動プラットホーム１２１の毎回の移動距離は、１個のスリット気体コーティング機ユニット１３の長さを一回の距離とする時、基板２は、一層のコーティングを重ねることができる。
こうして、基板２を搭載する移動プラットホーム１２１のコーティング移動の距離を短縮できるばかりか、加工の作業時間を短縮することもできる。
第三種作動方式は、移動プラットホーム１２１上に、複数の基板２を設置し、複数の基板２は、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３にそれぞれ対応する。
移動プラットホーム１２１は往復作動し、これにより複数のスリット気体コーティング機ユニット１３は、複数の基板２にコーティングできる。
移動プラットホーム１２１の往復作動により、複数の基板２コーティング層数を拡大でき、コーティング倍増の加工効率を達成でき、しかも複数の基板２が伝送中に震動により移動することを防止でき、こうして加工の歩留まりを高めることができる。
The first type operation method in the implementation of the present invention corresponds to the coating area of the
At the time of coating, the moving operation of the moving
In addition, the transmission distance of the
In the second type operation method, the length in which the plurality of slit gas
At the time of coating, each slit gas
As for the moving distance of the moving
In this way, not only can the coating movement distance of the moving
In the third type operation method, a plurality of
The moving
By the reciprocating operation of the moving
上述の実施説明により明らかなように、本考案は従来製品に比べ、以下の長所を備える。
本考案の原子層堆積移載コーティング装置は、複数のスリット気体コーティング機ユニットによるハードウェア設計で、複数のスリット気体コーティング機ユニットを効果的に制御することで、間歇的なオン及びオフを行い、原子層の層積効果を達成し、基板伝送距離を縮小し震動により生じる移動を減らし、加工の歩留まりを向上させ、しかも基板を搭載する移動プラットホームはコーティング移動の距離を効果的に短縮し、加工の作業時間を確実に短縮し、及び加工効率を倍増させられる。
As is apparent from the above description of the embodiment, the present invention has the following advantages over the conventional product.
The atomic layer deposition transfer coating apparatus of the present invention is a hardware design with a plurality of slit gas coating machine units, and by controlling the plurality of slit gas coating machine units effectively, intermittent on and off, Achieve the layer effect of atomic layer, reduce the substrate transmission distance and reduce the movement caused by vibration, improve the processing yield, and the moving platform equipped with the substrate effectively shortens the distance of coating movement and processing The working time can be surely shortened and the processing efficiency can be doubled.
上記を総合すると、本考案の原子層堆積移載コーティング装置は確かに上述の実施形態により、予期の使用効果を達成でき、しかも本考案は申請前に公開されておらず、特許法の規定と要求に完全に符合してため、法に基づき実用新案登録を申請する。
上述の図及び説明は、本考案の実施形態にすぎず、本考案の保護範囲を限定するものではなく、よって、本考案により保護される範囲は後述される実用新案登録請求の範囲を基準とする。
In summary, the atomic layer deposition transfer coating apparatus of the present invention can surely achieve the expected use effect according to the above-described embodiment, and the present invention has not been disclosed before the application, Apply for registration of a utility model in accordance with the law to fully meet the requirements.
The above-mentioned drawings and description are only embodiments of the present invention, and do not limit the protection scope of the present invention. Therefore, the scope protected by the present invention is based on the claims for utility model registration described later. To do.
１ 原子層堆積移載コーティング装置、
１１ サポート台、
１２ 移載モジュール、
１２１ 移動プラットホーム、
１２１１ 穿孔、
１２２ 駆動アセンブリ、
１２２１ ローラーアセンブリ、
１２２２ 動力部材、
１３ スリット気体コーティング機ユニット、
１３１ 固定枠フレーム、
１３１１ 固定柱、
１３２ スリット気体スプレーアセンブリ、
１３２１ 第一給気管、
１３２２ 第二給気管、
１３２３ 第三給気管、
１３２４ 回收吸気管、
１３３ ボルト、
１４ コントロールモジュール、
１５ 出力ユニット、
１６ 加熱吸気ボックス、
１６１ 箱体、
１６１１ 収容設置空間、
１６１２ 貫通孔、
１６２ 加熱管アセンブリ、
１６３ サポートフレーム、
１６４ 真空吸気装置、
２ 基板。
1 Atomic layer deposition transfer coating equipment,
11 Support stand,
12 Transfer module,
121 mobile platform,
1211 perforation,
122 drive assembly,
1221 roller assembly,
1222 power member,
13 Slit gas coating machine unit,
131 fixed frame,
1311 fixed column,
132 slit gas spray assembly,
1321 First air supply pipe,
1322 Second air supply pipe,
1323 Third air supply pipe,
1324 intake manifold,
133 volts
14 control module,
15 output units,
16 Heated intake box,
161 box,
1611 accommodation installation space,
1612 through-hole,
162 heating tube assembly,
163 support frame,
164 vacuum suction device,
2 substrate.
Claims (10)
前記移載モジュールは、前記サポート台上に設置され、前記移載モジュールは、移動プラットホーム、及び前記移動プラットホームに連接される駆動アセンブリを有し、
前記複数のスリット気体コーティング機ユニットは、前記移載モジュール上に設置され、前記各スリット気体コーティング機ユニットは、少なくとも１個の固定枠フレーム、及び前記固定枠フレーム上に固定されるスリット気体スプレーアセンブリを有し、
前記複数のスリット気体コーティング機ユニット間は前記移動プラットホーム方向へと並列延伸し組み付けられ、しかも前記スリット気体スプレーアセンブリは、複数の第一給気管、複数の第二給気管、複数の第三給気管、及び回收吸気管を有し、
前記コントロールモジュールは、前記スリット気体スプレーアセンブリと前記駆動アセンブリにそれぞれ電気的に連接する
ことを特徴とする
原子層堆積移載コーティング装置。 Atomic layer deposition transfer coating apparatus, comprising at least a support base, a transfer module, a plurality of slit gas coating machine units, a control module,
The transfer module is installed on the support table, and the transfer module includes a moving platform and a drive assembly connected to the moving platform.
The plurality of slit gas coating machine units are installed on the transfer module, and each of the slit gas coating machine units includes at least one fixed frame frame and a slit gas spray assembly fixed on the fixed frame frame. Have
The slit gas coating machine units are parallelly extended and assembled in the direction of the moving platform, and the slit gas spray assembly includes a plurality of first air supply pipes, a plurality of second air supply pipes, and a plurality of third air supply pipes. And a collecting intake pipe,
The atomic layer deposition transfer coating apparatus, wherein the control module is electrically connected to the slit gas spray assembly and the driving assembly, respectively.
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。 The atomic layer deposition transfer coating apparatus according to claim 1, wherein the moving platform is a granite platform.
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。 The atomic layer deposition transfer coating apparatus according to claim 1, wherein the moving platform is a conveyor belt having a plurality of perforations, and the perforations are either slits or circular holes.
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。 2. The atom of claim 1, wherein the drive assembly includes two roller assemblies respectively installed at two ends of the moving platform, and a power member installed at one end of the roller assembly. Layer deposition transfer coating equipment.
前記各ボルトは、前記スリット気体スプレーアセンブリを固定し、
前記固定枠フレームには、固定柱を連接し、
前記固定柱は、前記サポート台上に固定される
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。 In the fixed frame, a plurality of bolts are installed correspondingly,
Each bolt secures the slit gas spray assembly;
A fixed column is connected to the fixed frame,
The atomic layer deposition transfer coating apparatus according to claim 1, wherein the fixed column is fixed on the support table.
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。 The atomic layer deposition transfer coating apparatus according to claim 1, wherein an extension length of each of the slit gas spray assemblies is longer than a lateral length of the moving platform.
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。 The atomic layer deposition transfer coating apparatus according to claim 1, wherein the control module further electrically connects an output unit, and the output unit is either a display or a touch panel.
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。 2. The atomic layer deposition transfer coating apparatus according to claim 1, wherein the atomic layer deposition transfer coating apparatus further includes a plurality of heating and intake boxes disposed below the movement platform. 3.
ことを特徴とする
請求項８に記載の原子層堆積移載コーティング装置。 The heated intake box has a box body that opens an accommodation installation space therein, a plurality of heating pipe assemblies installed in the accommodation installation space, and a surface of the box body that is close to the moving platform, 9. The atomic layer deposition transfer coating apparatus according to claim 8, wherein a plurality of through holes are opened, and a vacuum suction device is connected to the heated suction box.
ことを特徴とする
請求項８に記載の原子層堆積移載コーティング装置。 The atomic layer deposition transfer coating apparatus according to claim 8, wherein a plurality of support frames that support the heated intake box are installed on both sides of the heated intake box.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW108206742U TWM583124U (en) | 2019-05-28 | 2019-05-28 | Atomic layer deposition transfer coating device |
| TW108206742 | 2019-05-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP3223152U true JP3223152U (en) | 2019-09-19 |
Family
ID=67982741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019002522U Active JP3223152U (en) | 2019-05-28 | 2019-07-10 | Atomic layer deposition transfer coating equipment |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3223152U (en) |
| TW (1) | TWM583124U (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114620764A (en) * | 2022-03-08 | 2022-06-14 | 仲恺农业工程学院 | Amorphous MgGaO film and preparation method and application thereof |
-
2019
- 2019-05-28 TW TW108206742U patent/TWM583124U/en unknown
- 2019-07-10 JP JP2019002522U patent/JP3223152U/en active Active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114620764A (en) * | 2022-03-08 | 2022-06-14 | 仲恺农业工程学院 | Amorphous MgGaO film and preparation method and application thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWM583124U (en) | 2019-09-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5372648A (en) | Plasma CVD system | |
| JP3223152U (en) | Atomic layer deposition transfer coating equipment | |
| TWI604553B (en) | A processing apparatus for processing devices, particularly devices including organic materials therein, and method for transferring an evaporation source from a processing vacuum chamber to a maintenance vacuum chamber or from the maintenance vacuum cha | |
| US20200040445A1 (en) | Vacuum system and method for depositing a plurality of materials on a substrate | |
| CN102312212B (en) | Scanning coating device and scan coating assembly | |
| CN101954358B (en) | Translation type substrate cleaning device | |
| CN109075114A (en) | For being vacuum-treated the equipment of substrate, the system for being vacuum-treated substrate and the method for transmitting substrate carrier and mask carrier in vacuum chamber | |
| JP2010086956A (en) | Apparatus and method for manufacturing organic el device, and apparatus and method for forming film | |
| JP3222682U (en) | Thin film formation equipment based on atomic layer deposition | |
| CN102183876A (en) | Substrate processing apparatus | |
| JP2013019053A (en) | Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for manufacturing organic light emitting display apparatus | |
| JP2019512042A (en) | Material deposition apparatus, vacuum deposition system and method therefor | |
| CN103866281A (en) | Plasma enhanced chemical vapor deposition equipment | |
| TWI678421B (en) | Apparatus and system for processing a substrate in a vacuum chamber, and method of transporting a carrier in a vacuum chamber | |
| CN211112206U (en) | Atomic layer deposition carrying coating device | |
| JP2013204152A (en) | Organic matter vapor deposition system | |
| KR102293219B1 (en) | carrier for supporting a substrate or mask | |
| CN210104074U (en) | Atomic layer deposition coating apparatus | |
| CN102043288A (en) | Substrate positioning apparatus and method for positioning substrate with the same | |
| CN209567414U (en) | Vacuum adsorption conveying carrier | |
| US11685996B2 (en) | Atomic layer deposition device | |
| JP2017115246A (en) | Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in vacuum chamber having evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material | |
| KR101920144B1 (en) | Flexible substrate for flexible electronic device, method of fabricating flexible electronic device using the same, and flexible electronic device fabriacated by the method | |
| KR101232089B1 (en) | Upright type deposition apparatus | |
| CN220907610U (en) | Film forming device with film thickness uniformity monitoring function |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3223152 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |