JP3220716B2 - Control system for manufacturing processing equipment - Google Patents

Control system for manufacturing processing equipment

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JP3220716B2
JP3220716B2 JP12485091A JP12485091A JP3220716B2 JP 3220716 B2 JP3220716 B2 JP 3220716B2 JP 12485091 A JP12485091 A JP 12485091A JP 12485091 A JP12485091 A JP 12485091A JP 3220716 B2 JP3220716 B2 JP 3220716B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、蒸着装置等の製造処理
装置と主制御装置とをオンライン接続した製造処理装置
の制御システムに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a control system for a production processing apparatus in which a production processing apparatus such as a vapor deposition apparatus and a main controller are connected online.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の製造処理装置の制御システムを図
4に示す概略構成図により説明する。図では、製造処理
装置の一例として、複数の処理室を有する蒸着装置41
を示す。蒸着装置41は、搬送室42と、この搬送室4
2に接続した第1処理室43ないし第4処理室46とに
よりなる。蒸着装置41には制御端末機47を設ける。
そして蒸着装置41と制御端末機47とを一組にしたも
のを複数組設ける。さらに各制御端末機47を主制御装
置48に接続する。
2. Description of the Related Art A conventional control system for a manufacturing processing apparatus will be described with reference to a schematic diagram shown in FIG. In the figure, as an example of a manufacturing processing apparatus, a vapor deposition apparatus 41 having a plurality of processing chambers
Is shown. The vapor deposition device 41 includes a transfer chamber 42 and the transfer chamber 4
2 to a first processing chamber 43 to a fourth processing chamber 46. The vapor deposition device 41 is provided with a control terminal 47.
Then, a plurality of sets each including the vapor deposition device 41 and the control terminal 47 are provided. Further, each control terminal 47 is connected to a main controller 48.

【0003】次に上記蒸着装置41におけるロットの処
理方法を図5の流れ図により説明する。まず、作業者は
処理を行う蒸着装置の制御端末機に処理を行うロット番
号を入力する。続いて、制御端末機は入力されたロット
番号と蒸着装置の認識データとを主制御装置に通知し、
それらに基付いてロット番号,工程名,ウエハの枚数,
プロセスプログラム等のロット処理情報を問い合わせ
る。
Next, a lot processing method in the vapor deposition apparatus 41 will be described with reference to a flowchart of FIG. First, an operator inputs a lot number to be processed into a control terminal of a vapor deposition apparatus to be processed. Subsequently, the control terminal notifies the main controller of the input lot number and the recognition data of the vapor deposition apparatus,
The lot number, process name, number of wafers,
Inquire about lot processing information such as a process program.

【0004】そして主制御装置は制御端末機に入力した
ロット番号のロットを該当する蒸着装置で処理すること
が可能か否かを判別する。この判別の結果、制御端末機
に入力したロット番号のロットを該当する蒸着装置で処
理することが可能な場合には、入力されたロット番号と
蒸着装置の認識データとに該当するロット処理情報を制
御端末機にロードして、ロードしたロット処理情報を制
御端末機の画面に表示する。上記判別の結果、制御端末
機に入力したロット番号のロットを該当する蒸着装置で
処理することが不可能な場合には、ロット処理情報を呼
び出さないで、該当するロット処理情報がないことのみ
を制御端末機の画面に表示する。
The main controller determines whether the lot having the lot number input to the control terminal can be processed by the corresponding vapor deposition apparatus. As a result of this determination, if the lot of the lot number input to the control terminal can be processed by the corresponding vapor deposition apparatus, the lot processing information corresponding to the input lot number and the recognition data of the vapor deposition apparatus is used. The lot processing information is loaded on the control terminal, and the loaded lot processing information is displayed on the screen of the control terminal. As a result of the above determination, when it is impossible to process the lot of the lot number input to the control terminal by the corresponding vapor deposition apparatus, the lot processing information is not called, and only the absence of the corresponding lot processing information is determined. Display on the control terminal screen.

【0005】次に作業者は制御端末機の画面の表示を確
認する。そして該当するロット処理情報が表示されてな
い場合には終了する。次いで入力したロット番号を取り
消して、再び制御端末機に処理を行うロット番号を入力
し、上記過程を再び行う。該当するロット処理情報が表
示されている場合には、作業者は表示されたロット処理
情報の正誤を確認する。そしてロット情報に誤りがある
場合には終了する。次いで入力したロット番号を取り消
して、再び制御端末機に処理を行うロット番号を入力
し、上記過程を再び行う。ロット処理情報に誤りがない
場合には、制御端末機にロードされたプロセスプログラ
ムにしたがって蒸着装置の処理条件,処理雰囲気等を設
定して、処理が行える状態にする。このとき、作業者は
ロット番号を入力したロットを該当する蒸着装置に仕掛
ける。
Next, the operator checks the display on the screen of the control terminal. If the corresponding lot processing information is not displayed, the process ends. Next, the entered lot number is canceled, the lot number to be processed is again input to the control terminal, and the above process is performed again. If the corresponding lot processing information is displayed, the operator checks whether the displayed lot processing information is correct or not. If there is an error in the lot information, the process ends. Next, the entered lot number is canceled, the lot number to be processed is again input to the control terminal, and the above process is performed again. If there is no error in the lot processing information, the processing conditions, processing atmosphere, and the like of the vapor deposition apparatus are set according to the process program loaded in the control terminal, so that the processing can be performed. At this time, the operator sets the lot in which the lot number has been input on the corresponding vapor deposition apparatus.

【0006】その後蒸着装置においてロットの処理が可
能になってから、作業者は制御端末機より蒸着装置に処
理開始を指令する。処理開始の指令を受けた蒸着装置は
プロセスプログラムに基付いてプロセス処理を開始す
る。
After that, after the lot can be processed in the vapor deposition apparatus, the operator instructs the vapor deposition apparatus to start processing from the control terminal. The vapor deposition device that has received the processing start command starts the process processing based on the process program.

【0007】上記プロセス処理の開始とともに、制御端
末機より主制御装置に処理を開始したことを通知する。
主制御装置では、通知されたロット番号と処理内容に基
づいてロットの進行状況を記憶するとともにロットの処
理を行っている蒸着装置に他のロットが仕掛からないよ
うにロットの進捗状況や装置の稼働状況等の管理情報
(以下ステータスと称する)の変更を行う。
At the same time as the start of the above process, the control terminal notifies the main controller of the start of the process.
The main control unit stores the progress of the lot based on the notified lot number and the processing content, and also checks the progress of the lot and the status of the equipment so that another lot is not in process in the vapor deposition equipment that is processing the lot. The management information (hereinafter, referred to as status) such as operation status is changed.

【0008】その後、蒸着装置におけるプロセス処理が
終了した場合には、プロセス処理が終了したことを制御
端末機の画面に表示する。作業者は画面によりプロセス
処理終了の表示を確認した後、プロセス処理データとプ
ロセス処理が終了したことを主制御装置に通知する。主
制御装置では、通知されたプロセス処理データを収集す
る。それとともに、プロセス処理を行っていた蒸着装置
が次のロットの処理を行えるように、蒸着装置がロット
待ちの状態になるように主制御装置のステータスの変更
を行う。
Thereafter, when the process in the vapor deposition apparatus is completed, the fact that the process is completed is displayed on the screen of the control terminal. After confirming the display of the end of the process on the screen, the operator notifies the main control device of the process data and the end of the process. The main control device collects the notified process processing data. At the same time, the status of the main control device is changed so that the vapor deposition apparatus is in a lot waiting state so that the vapor deposition apparatus that has been performing the process processing can process the next lot.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成のロットを処理するプログラムでは、プロセスプログ
ラムがロットの進行状況によって一議的に決定される。
すなわち上記従来の技術で説明した蒸着装置は四つの処
理室を有している。このため、同一のプロセス処理を行
う場合でも第1処理室ないし第4処理室の組合せによっ
て、主制御装置に複数のプロセスプログラムを組むこと
ができる。
However, in a program for processing a lot having the above configuration, the process program is determined in a unified manner depending on the progress of the lot.
That is, the vapor deposition apparatus described in the above conventional technique has four processing chambers. For this reason, even when the same process is performed, a plurality of process programs can be set in the main controller by a combination of the first to fourth process chambers.

【0010】次に複数のプログラム例を説明する。まず
通常使用するプロセスプログラムの一例を図6に示す流
れ図により説明する。第1工程では、ローダより搬送室
にカセットを搬送するカセット搬入工程を行う。次に第
2工程では、搬送室に搬送したカセットよりウエハを取
り出し、そのウエハを第1処理室に搬送して加熱処理す
る加熱処理工程を行う。続いて第3工程では、第1処理
室より第2処理室にウエハを搬送して第1の蒸着工程を
行う。次いで第4工程では、第2処理室より第3処理室
にウエハを搬送して第2の蒸着工程を行う。その後第5
工程では、第3処理室より第4処理室にウエハを搬送
し、蒸着によって加熱されたウエハを冷却する放熱処理
工程を行う。そして第6工程では、第4処理室よりウエ
ハを取り出して搬送室のカセットに収納し、そのカセッ
トをアンローダに搬出するカセット搬出工程を行う。
Next, a plurality of example programs will be described. First, an example of a normally used process program will be described with reference to a flowchart shown in FIG. In the first step, a cassette loading step of transporting the cassette from the loader to the transport chamber is performed. Next, in the second step, a wafer is taken out of the cassette transferred to the transfer chamber, and the wafer is transferred to the first processing chamber and subjected to a heat treatment step of performing a heat treatment. Subsequently, in a third step, the wafer is transferred from the first processing chamber to the second processing chamber to perform a first vapor deposition step. Next, in a fourth step, the wafer is transferred from the second processing chamber to the third processing chamber to perform a second vapor deposition step. Then the fifth
In the process, a heat radiation process is performed in which the wafer is transferred from the third processing chamber to the fourth processing chamber, and the wafer heated by vapor deposition is cooled. In the sixth step, a cassette unloading step of taking out the wafer from the fourth processing chamber, storing it in a cassette in the transfer chamber, and unloading the cassette to the unloader is performed.

【0011】次に、図4に示した蒸着装置41の処理室
のうち例えば第2処理室44がある要因によって放熱処
理しか行えない場合には、第2処理室44で放熱処理を
行って、他の処理室で他の処理を行う別のプロセスプロ
グラムを組む。この別のプロセスプログラムの一例を図
7に示す流れ図により説明する。第1工程では、上記同
様のカセット搬入工程を行う。次に第2工程では、上記
同様にして第1処理室で加熱処理工程を行う。続いて第
3工程では、第1処理室より第4処理室にウエハを搬送
して第1の蒸着をする第1蒸着工程を行う。次いで第4
工程では、第4処理室より第3処理室にウエハを搬送し
て第2の蒸着をする第2蒸着工程を行う。その後第5工
程では、第4処理室より第2処理室にウエハを搬送し、
蒸着によって加熱されたウエハを冷却する放熱処理工程
を行う。そして第6工程では、第2処理室よりウエハを
取り出して搬送室のカセットに収納し、そのカセットを
アンローダに搬出するカセット搬出工程を行う。
Next, when, for example, the second processing chamber 44 of the processing chamber of the vapor deposition apparatus 41 shown in FIG. Create another process program to perform other processing in another processing room. An example of this other process program will be described with reference to the flowchart shown in FIG. In the first step, a cassette loading step similar to the above is performed. Next, in the second step, a heat treatment step is performed in the first treatment chamber in the same manner as described above. Subsequently, in a third step, a first vapor deposition step of carrying a wafer from the first processing chamber to the fourth processing chamber to perform first vapor deposition is performed. Then the fourth
In the step, a second vapor deposition step of carrying the wafer from the fourth processing chamber to the third processing chamber and performing the second vapor deposition is performed. Thereafter, in a fifth step, the wafer is transferred from the fourth processing chamber to the second processing chamber,
A heat radiation process for cooling the wafer heated by the vapor deposition is performed. In the sixth step, a cassette unloading step of taking out the wafer from the second processing chamber, storing the wafer in a cassette in the transfer chamber, and unloading the cassette to the unloader is performed.

【0012】例えばある蒸着装置で第2処理室が放熱処
理工程しかできなくなった場合には、上記図6で説明し
た通常使用するプロセスプログラムに代えて上記図7で
説明した別のプロセスプログラムを使用しなければなら
ない。この場合には、主制御装置より別のプロセスプロ
グラムが全蒸着装置にロードされるために、別のプロセ
スプログラムに代えた蒸着装置以外の他の蒸着装置も上
記別のプロセスプログラムを使用しなければならない。
このとき、他の蒸着装置で上記別のプロセスプログラム
を使用することができる場合には問題は生じないが、他
の蒸着装置で上記別のプロセスプログラムを使用するこ
とができない場合には通常使用しているプロセスプログ
ラムを変更することはできない。このようにプロセスプ
ログラムの変更ができない場合には、専門のオペレータ
がプロセスプログラムを変更する必要がある蒸着装置の
みをオフラインに切り換えて、オペレータによって該当
する蒸着装置にロードされたプロセスプログラムのみを
変更する。このため、プロセスプログラムをオンライン
状態で変更できないので、プロセスプログラムの変更に
手間が掛かり作業性が低下する。またプロセスプログラ
ムを変更する際にデータを間違えて入力する等のプログ
ラムミスが生じる。
For example, when the second processing chamber can perform only the heat radiation process in a certain vapor deposition apparatus, another process program described in FIG. 7 is used in place of the normally used process program described in FIG. Must. In this case, since another process program is loaded from the main controller to all the vapor deposition devices, other vapor deposition devices other than the vapor deposition device replaced with another process program must also use the above another process program. No.
At this time, there is no problem when the above another process program can be used in another vapor deposition apparatus, but when the above another process program cannot be used in another vapor deposition apparatus, it is usually used. You cannot change the running process program. When the process program cannot be changed in this way, a specialized operator switches only the vapor deposition apparatus that needs to change the process program to offline, and changes only the process program loaded into the corresponding vapor deposition apparatus by the operator. . For this reason, since the process program cannot be changed in the online state, it takes time and effort to change the process program, thereby reducing workability. In addition, when changing the process program, a program error such as incorrect input of data occurs.

【0013】本発明は、オンライン化に優れた製造処理
装置の制御システムを提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a control system of a manufacturing processing apparatus which is excellent in online operation.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされた製造処理装置の制御システムであ
り、複数の製造処理装置と、前記複数の製造処理装置に
対して共通の処理情報を供給する主制御装置と、前記複
数の製造処理装置それぞれに対応して設けられ、主制御
装置から供給された処理情報がそれぞれの対応する製造
処理装置で実行可能か否かを判定する複数の情報判定装
置と、前記複数の製造処理装置それぞれに対応して設け
られ、前記情報判定装置によって前記主制御装置から供
給された処理情報が対応する製造処理装置で実行不可能
と判定された場合、処理情報をその製造処理装置で実行
可能な別の処理情報に変換する複数の情報変換装置とを
含むものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a control system for a manufacturing processing apparatus which has been made to achieve the above-mentioned object, and comprises a plurality of manufacturing processing apparatuses and a processing system common to the plurality of manufacturing processing apparatuses. A main control device for supplying information; and a plurality of main control devices provided for each of the plurality of manufacturing processing devices to determine whether the processing information supplied from the main control device can be executed by the corresponding manufacturing processing device. And the information determining device is provided for each of the plurality of manufacturing processing devices, and when the information determining device determines that the processing information supplied from the main control device cannot be executed by the corresponding manufacturing processing device. And a plurality of information conversion devices for converting the processing information into another processing information executable by the manufacturing processing apparatus.

【0015】[0015]

【作用】上記構成の製造処理装置の制御システムでは、
複数の製造処理装置それぞれに対応して情報判定装置と
情報変換装置とが設けられ、その情報判定装置により、
主制御装置から供給された共通の処理情報がそれぞれの
対応する製造処理装置で実行可能か否かが判定され、情
報判定装置によって主制御装置から供給された処理情報
が対応する製造処理装置で実行不可能と判定された場
合、情報変換装置によって、処理情報をその製造処理装
置で実行可能な別の処理情報に変換される。このため、
特定の製造処理装置で主制御装置からの処理情報に基づ
く処理が実行不可能な場合でも、それぞれの製造処理装
置単位で実効可能な状態に処理情報の変換が行われる。
すなわち、処理情報を変換した製造処理装置では変更し
た処理情報に基づいた処理が行われ、処理情報を変換し
ない他の製造処理装置では主制御装置からの共通の処理
情報に基づく処理が行われる。よって、どの製造処理装
置でも処理が継続して実行される。
According to the control system of the manufacturing processing apparatus having the above configuration,
An information determination device and an information conversion device are provided corresponding to each of the plurality of manufacturing processing devices, and the information determination device
It is determined whether or not the common processing information supplied from the main control device can be executed by the corresponding manufacturing processing device, and the processing information supplied from the main control device is executed by the corresponding manufacturing processing device by the information determination device. When it is determined that the processing is impossible, the information conversion device converts the processing information into another processing information executable by the manufacturing processing device. For this reason,
Even when processing based on the processing information from the main control device cannot be executed in a specific manufacturing processing apparatus, the processing information is converted into an executable state for each manufacturing processing apparatus.
That is, the manufacturing processing apparatus that has converted the processing information performs the processing based on the changed processing information, and the other manufacturing processing apparatus that does not convert the processing information performs the processing based on the common processing information from the main control device. Therefore, the process is continuously executed in any manufacturing processing apparatus.

【0016】[0016]

【実施例】本発明の実施例を図1に示す制御システムの
概略構成図により説明する。図では、製造処理装置の一
例として、蒸着装置11を示す。まず図に示すように、
蒸着装置11は搬送室12と搬送室12に接続して設け
た第1処理室13ないし第4処理室16とによりなる。
この蒸着装置11にはそれぞれに制御端末機17が設け
られている。この制御端末機17は、入力した例えばロ
ット番号等のロットの情報と蒸着装置11の情報として
例えば当該制御端末機17に接続する蒸着装置11の認
識データとを後述する主制御装置18に問い合わせる。
そして一つの蒸着装置11と一つの制御端末機17とを
一組としてそれらは複数組設けられる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to a schematic configuration diagram of a control system shown in FIG. In the drawing, a vapor deposition apparatus 11 is shown as an example of a manufacturing processing apparatus. First, as shown in the figure,
The vapor deposition apparatus 11 includes a transfer chamber 12 and first to fourth processing chambers 13 to 16 connected to the transfer chamber 12.
Each of the vapor deposition devices 11 is provided with a control terminal 17. The control terminal 17 inquires a main controller 18 described later of the input lot information such as a lot number and the recognition data of the vapor deposition apparatus 11 connected to the control terminal 17 as information of the vapor deposition apparatus 11.
And one set of one vapor deposition device 11 and one control terminal 17 is provided.

【0017】各制御端末機17はロットの進捗状況や蒸
着装置11の認識データ等を把握する主制御装置18に
接続されている。また主制御装置18には、各制御端末
機17に対応した数の情報判定装置19が接続されてい
る。各情報判定装置19は、主制御装置18よりロード
されたロット処理情報のうちのプロセスプログラムが先
に主制御装置18に問い合わせた蒸着装置11で使用で
きるか否かを判定し、使用できる場合には制御端末機1
7にそのロット処理情報を送り、使用できない場合には
ロードしたロット処理情報を後述する情報変換装置20
に送る。各情報判定装置19には情報変換装置20が接
続されている。各情報変換装置20は、プロセスプログ
ラムを変換する必要がある場合にプロセスプログラムの
変換を行う。さらに各情報変換装置20は対応する制御
端末機17に接続されている。そして情報変換装置20
で変更したプロセス処理情報を含むロット処理情報を制
御端末機17に送る。
Each control terminal 17 is connected to a main control device 18 for grasping the progress of the lot, the recognition data of the vapor deposition device 11, and the like. The main control device 18 is connected to a number of information determination devices 19 corresponding to each control terminal 17. Each information judging device 19 judges whether or not the process program in the lot processing information loaded from the main controller 18 can be used by the vapor deposition device 11 that inquires the main controller 18 first. Is the control terminal 1
7, the lot processing information is sent to the information conversion device 20 described later.
Send to An information conversion device 20 is connected to each information determination device 19. Each information conversion device 20 converts a process program when it is necessary to convert the process program. Further, each information conversion device 20 is connected to a corresponding control terminal 17. And the information conversion device 20
The lot processing information including the processing information changed in the step is sent to the control terminal 17.

【0018】上記制御システム1では、ある蒸着装置1
1のある処理室で通常のロット処理情報が使用できない
場合でも、制御端末機17に送られるロット処理情報は
情報変換装置20によって当該蒸着装置11で使用でき
る別のロット処理情報に変換される。このため、ロット
処理情報を変換した蒸着装置11では変更したロット処
理情報で処理を行い、ロット処理情報を変換しない他の
蒸着装置11では通常のロット処理情報で処理を行う。
この結果、各蒸着装置11と主制御装置18とはオンラ
イン状態でロット処理情報が変換される。
In the control system 1, a certain vapor deposition apparatus 1
Even when normal lot processing information cannot be used in a certain processing room, the lot processing information sent to the control terminal 17 is converted by the information conversion device 20 into another lot processing information that can be used in the vapor deposition device 11. For this reason, the vapor deposition apparatus 11 that has converted the lot processing information performs processing using the changed lot processing information, and the other vapor deposition apparatuses 11 that do not convert the lot processing information perform processing using normal lot processing information.
As a result, the lot processing information is converted in each of the vapor deposition apparatuses 11 and the main controller 18 in an online state.

【0019】次に上記制御システム1によるロットの処
理方法の一例を図2により詳細に説明する。以下の説明
文中の蒸着装置,制御端末機,主制御装置,情報判定装
置,情報変換装置に付した番号は図1に示した制御シス
テム1中の主制御装置と1点鎖線で囲んだ蒸着装置,制
御端末機,情報判定装置および情報変換装置とに付した
番号と同一の番号である。まず、作業者は処理を行う蒸
着装置11の制御端末機17にロットの情報として処理
を行うロット番号を入力する。制御端末機17は入力さ
れたロット番号と蒸着装置11の認識データとを主制御
装置18に通知して、ロット番号,工程名,ウエハの枚
数,プロセスプログラム等のロット処理情報を問い合わ
せる。
Next, an example of a lot processing method by the control system 1 will be described in detail with reference to FIG. In the following description, the numbers assigned to the vapor deposition device, the control terminal, the main control device, the information determination device, and the information conversion device are the main control device in the control system 1 shown in FIG. , The control terminal, the information determination device, and the information conversion device. First, the operator inputs the lot number to be processed as the lot information to the control terminal 17 of the vapor deposition apparatus 11 for performing the processing. The control terminal 17 notifies the main controller 18 of the input lot number and the recognition data of the vapor deposition apparatus 11, and inquires about lot processing information such as a lot number, a process name, the number of wafers, and a process program.

【0020】主制御装置18は制御端末機17に入力し
たロット番号のロットを蒸着装置11で処理することが
可能か否かを判別する。この判別の結果、該当する蒸着
装置11で入力したロット番号のロットの処理が不可能
な場合には、主制御装置18よりロット処理情報を呼び
出さない。そして、該当するロット処理情報がないこと
のみを制御端末機17の画面に表示する。他方判別の結
果、蒸着装置11で入力したロット番号のロットの処理
が可能な場合には、入力したロット番号と蒸着装置11
の認識データとに該当するロット処理情報として例えば
ロット番号,工程名,処理するウエハ数,プロセスプロ
グラム等を情報判定装置19にロードする。
Main controller 18 determines whether or not the lot having the lot number input to control terminal 17 can be processed by vapor deposition apparatus 11. As a result of this determination, if the lot with the input lot number cannot be processed by the corresponding vapor deposition apparatus 11, the lot control information is not called from the main controller 18. Then, only that there is no corresponding lot processing information is displayed on the screen of the control terminal 17. On the other hand, as a result of the determination, if the lot with the input lot number can be processed by the vapor deposition device 11,
For example, a lot number, a process name, the number of wafers to be processed, a process program, and the like are loaded into the information judging device 19 as lot processing information corresponding to the recognition data.

【0021】情報判定装置19ではロードしたロット処
理情報のうちのプロセスプログラムが該当する蒸着装置
11で使用できるプロセスプログラムと一致するか否か
を判別する。一致した場合には、そのままロット処理情
報を情報判定装置19より制御端末機17にロードし、
制御端末機17の画面にロット処理情報を表示する。一
致しない場合には、ロット処理情報を情報変換装置20
に送る。情報変換装置20にはロードされてきたプロセ
スプログラムを蒸着装置11で使用できるプロセスプロ
グラムに自動的に変換するプログラム(以下このプログ
ラムを変換プログラムと記す)が登録されている。この
ため、ロードされてきたプロセスプログラムは登録され
ている変換プログラムによって蒸着装置11で使用でき
るプロセスプログラムに自動的に変換される。そして情
報変換装置20より制御端末機17に上記変更したプロ
セスプログラムを含むロット処理情報をロードする。そ
して、制御端末機17の画面にロードしたロット処理情
報を表示する。このとき、プロセスプログラムを変更し
たことも表示する。
The information judging device 19 judges whether or not the process program in the loaded lot processing information matches the process program usable in the corresponding vapor deposition device 11. If they match, the lot processing information is loaded as it is from the information determination device 19 to the control terminal 17, and
The lot processing information is displayed on the screen of the control terminal 17. If they do not match, the lot processing information is
Send to In the information conversion device 20, a program for automatically converting the loaded process program into a process program usable in the vapor deposition device 11 (hereinafter, this program is referred to as a conversion program) is registered. Therefore, the loaded process program is automatically converted into a process program that can be used in the vapor deposition apparatus 11 by the registered conversion program. Then, the lot conversion information including the changed process program is loaded from the information conversion device 20 to the control terminal 17. Then, the loaded lot processing information is displayed on the screen of the control terminal 17. At this time, the fact that the process program has been changed is also displayed.

【0022】作業者は制御端末機17の画面の表示を確
認する。該当するロット処理情報がないことが制御端末
機17の画面に表示された場合には終了する。当該ロッ
トを再度処理しようとする場合には始めに戻る。該当す
るロット処理情報が表示された場合には、作業者は表示
されたロット処理情報の正誤を確認する。そしてロット
処理情報に誤りがある場合には、上記同様にして終了し
て始めに戻る。ロット処理情報に誤りがない場合には、
制御端末機17にロードしたプロセスプログラム(変更
したプロセスプログラムを含む)を該当する蒸着装置1
1に設定して記憶させる。そして、蒸着装置11を処理
ができる状態にする。またプロセスプログラムの設定が
完了したことを制御端末機17の画面に表示する。この
とき、作業者は該当する蒸着装置11にロット番号を入
力したロットを仕掛ける。
The operator checks the display on the screen of the control terminal 17. When it is displayed on the screen of the control terminal 17 that there is no corresponding lot processing information, the process ends. If the lot is to be processed again, the process returns to the beginning. When the corresponding lot processing information is displayed, the operator checks whether the displayed lot processing information is correct or not. If there is an error in the lot processing information, the process is terminated and the process returns to the beginning in the same manner as described above. If the lot processing information is correct,
The process program loaded into the control terminal 17 (including the changed process program) is applied to the deposition apparatus 1
Set to 1 and store. Then, the vapor deposition apparatus 11 is brought into a state in which processing can be performed. Further, the completion of the setting of the process program is displayed on the screen of the control terminal 17. At this time, the operator sets a lot in which the lot number is input to the corresponding vapor deposition apparatus 11.

【0023】その後蒸着装置11によってロットの処理
が可能になってから、作業者は制御端末機17より蒸着
装置11にプロセス処理開始の指令を行う。プロセス処
理開始の指令を受けた蒸着装置11はプロセスプログラ
ムに基づいてプロセス処理を行う。
Thereafter, after the lot can be processed by the vapor deposition device 11, the operator issues a command to start the process processing to the vapor deposition device 11 from the control terminal 17. The vapor deposition device 11 that has received the instruction to start the process performs the process based on the process program.

【0024】上記プロセス処理の開始とともに、制御端
末機17より主制御装置18にプロセス処理を開始した
ことを通知する。主制御装置18では、通知されたロッ
ト番号とプロセス処理内容に基づいてロットの進捗状況
を記憶するとともに当該ロットの処理を行っている蒸着
装置11に他のロットが仕掛からないようにステータス
の変更を行う。
At the same time as the start of the process, the control terminal 17 notifies the main controller 18 of the start of the process. The main controller 18 stores the progress of the lot based on the notified lot number and the content of the process processing, and changes the status so that another lot is not in process in the vapor deposition apparatus 11 that is processing the lot. I do.

【0025】そしてプロセス処理が終了した後に、プロ
セス処理が終了したことを制御端末機17の画面に表示
する。作業者は画面に表示されたプロセス処理終了の表
示を確認した後、蒸着装置11より処理したロットを取
り除く。また蒸着装置11が行ったプロセス処理のデー
タとプロセス処理で使用したプロセスプログラムとプロ
セス処理が終了したこととを制御端末機17より主制御
装置18に通知する。主制御装置18では、プロセス処
理のデータを収集しかつこのデータに対応させて使用し
たプロセスプログラムを収集して記憶する。それととも
に、プロセス処理を行った蒸着装置11がロット待ちの
状態になるように主制御装置18のステータスの変更を
行う。
After the end of the process, the control terminal 17 displays the end of the process on the screen. After confirming the display of the end of the process processing displayed on the screen, the operator removes the processed lot from the vapor deposition apparatus 11. The control terminal 17 notifies the main controller 18 of the data of the process performed by the vapor deposition apparatus 11, the process program used in the process, and the end of the process. The main controller 18 collects process processing data and collects and stores a process program used in accordance with the data. At the same time, the status of the main controller 18 is changed so that the vapor deposition apparatus 11 that has performed the process processing is in a lot waiting state.

【0026】このようにして、一つのロットの処理が完
了する。連続してロットを処理する場合には、上記図2
に示した流れ図にしたがって、ロットの処理を繰り返せ
ばよい。
Thus, the processing of one lot is completed. If you want to process lots continuously,
The lot processing may be repeated according to the flowchart shown in FIG.

【0027】次に上記情報変換装置20によってプロセ
スプログラムを変更する方法の一例を図3により説明す
る。情報変換装置20にロードしたプロセスプログラム
は、変換プログラムにしたがって蒸着装置11で使用可
能なプロセスプログラムに変換する。上記変換プログラ
ムには、例えばファンクションF1としてプログラムを
追加する機能,ファンクションF2としてプログラムを
交換する機能,ファンクションF3としてプログラムを
削除する機能およびファンクションF4として変換プロ
グラムを終了する機能が備えられている。変換プログラ
ムによってプロセスプログラムを変換するには、まずフ
ァンクションF1ないしF3より変換プログラムが指定
するファンクションを選択する。そして変換プログラム
の指示にしたがってファンクションF1ないしF3によ
ってプロセスプログラムの変換を行う。
Next, an example of a method of changing a process program by the information conversion device 20 will be described with reference to FIG. The process program loaded into the information conversion device 20 is converted into a process program usable in the vapor deposition device 11 according to the conversion program. The conversion program has, for example, a function of adding a program as a function F1, a function of exchanging a program as a function F2, a function of deleting a program as a function F3, and a function of ending the conversion program as a function F4. To convert the process program by the conversion program, first, a function specified by the conversion program is selected from the functions F1 to F3. Then, the process program is converted by the functions F1 to F3 according to the instruction of the conversion program.

【0028】次に各ファンクションF1ないしF4の各
機能を詳しく説明する。ファンクションF1では、変換
プログラムにしたがってプロセスプログラムの不足して
いる部分を補うプログラムを追加する。プログラムの追
加を行うには、まずプロセスプログラムのID(識別番
号)を変換プログラムに入力する。次いで入力したプロ
セスプログラムの不足している部分に必要なプログラム
を追加して、別のプロセスプログラムに変換する。そし
て、変換したプロセスプログラムのIDを入力して、蒸
着装置で使用するプロセスプログラムとして登録する。
Next, each of the functions F1 to F4 will be described in detail. In the function F1, a program for supplementing the missing part of the process program is added according to the conversion program. In order to add a program, first, the ID (identification number) of the process program is input to the conversion program. Next, the necessary program is added to the missing part of the input process program, and converted to another process program. Then, the ID of the converted process program is input and registered as a process program used in the vapor deposition apparatus.

【0029】ファンクションF2では、変換プログラム
にしたがってプロセスプログラムの異なっている部分を
別のプログラムに交換する。交換を行うには、変換プロ
グラムに対して該当する交換式のNo.を入力し、続い
てプロセスプログラムのIDを入力する。そして選択し
た交換式に基づいてプロセスプログラムの異なっている
部分を別のプログラムに変換する。その後交換したプロ
セスプログラムのIDを入力して、蒸着装置で使用する
プロセスプログラムとして登録する。
In the function F2, different parts of the process program are exchanged for another program in accordance with the conversion program. In order to perform the exchange, the exchange type No. corresponding to the conversion program is used. , Followed by the process program ID. Then, different parts of the process program are converted into another program based on the selected interchangeable formula. Thereafter, the ID of the exchanged process program is input and registered as a process program used in the vapor deposition apparatus.

【0030】ファンクションF3では、変換プログラム
にしたがってプロセスプログラムの余分な部分を削除す
る。削除するには、変換プログラムに対して削除したい
変換式のNo.を入力し、続いて変換式の確認を行った
後、当該プロセスプログラムの余分な部分の削除を行
う。その後、削除したプロセスプログラムのIDを入力
して、蒸着装置で使用するプロセスプログラムとして登
録する。
In the function F3, an extra part of the process program is deleted according to the conversion program. To delete the conversion program, the conversion program No. Then, after confirming the conversion formula, an unnecessary portion of the process program is deleted. Thereafter, the ID of the deleted process program is input and registered as a process program used in the vapor deposition apparatus.

【0031】そして、プロセスプログラムに対して上記
プログラムの追加,プログラムの交換,プログラムの削
除等を行う必要がない場合には、ファンクションF4の
終了を実行して、プロセスプログラムの変換を終了す
る。
When it is not necessary to add the above-mentioned program, exchange the program, delete the program, etc. to the process program, the function F4 is terminated, and the conversion of the process program is terminated.

【0032】プロセスプログラムに対するプログラムの
追加,プログラムの交換,プログラムの削除等は、変換
プログラムに定められた順序にしたがって行われる。こ
れらの順序は、ロードしたプロセスプログラムが蒸着装
置11で使用するプロセスプログラムに変換されるよう
に設定されている。
Addition of a program to a process program, exchange of a program, deletion of a program, and the like are performed in an order determined by a conversion program. The order is set so that the loaded process program is converted into a process program used in the vapor deposition apparatus 11.

【0033】例えば、ロードしたプロセスプログラムN
o.1を蒸着装置11で使用可能なプロセスプログラム
No.11に変換する一例を説明する。ロードしたプロ
セスプログラムNo.1のプログラム内容を1A−1B
−1Cとする。また蒸着装置11で使用可能なプロセス
プログラムNo.11のプログラム内容を11A−11
B−11Cとする。変換プログラムには、予め種々の内
容のファンクションF1ないしF3が設定されている。
For example, the loaded process program N
o. 1 is a process program no. An example of conversion to 11 will be described. The loaded process program No. 1 program content of 1A-1B
-1C. In addition, the process programs No. 11A-11 contents of 11 programs
B-11C. Functions F1 to F3 of various contents are set in the conversion program in advance.

【0034】例えば、ファンクションF1にはプロセス
プログラムNo.1の最後に1Dのプログラムを追加す
るプログラムが設定されている。またファンクションF
2にはプログラム内容が1A−1B−1C−1Dのプロ
セスプログラムをプログラム内容が11A−11B−1
1C−11Dのプロセスプログラムに変換するプログラ
ムが設定されている。さらにファンクションF3にはプ
ログラム内容が11A−11B−11C−11Dのプロ
セスプログラムより11Dのプログラムを削除するプロ
グラムが設定されている。
For example, the function F1 includes a process program No. A program for adding a 1D program at the end of 1 is set. Also function F
2 is a process program having a program content of 1A-1B-1C-1D and a program content of 11A-11B-1.
A program to be converted into a 1C-11D process program is set. Further, in the function F3, a program for deleting the 11D program from the process program having the program contents of 11A-11B-11C-11D is set.

【0035】プロセスプログラムNo.1をプロセスプ
ログラムNo.11に変換するには、予め変換プログラ
ムに設定されているファンクションの実行によって行わ
れる。例えばファンクションF1によって、プロセスプ
ログラムNo.1の1Cの後に1Dのプログラムを追加
する。次にファンクションF2によってプログラム内容
が1A−1B−1C−1Dのプロセスプログラムをプロ
グラム内容が11A−11B−11C−11Dのプロセ
スプログラムに変換する。その後ファンクションF3に
よって、プログラム内容が11A−11B−11C−1
1Dのプロセスプログラムのうちより11Dのプログラ
ムを削除する。そしてファンクションF4を実行する。
上記の如くして、プログラム内容が1A−1B−1Cの
プロセスプログラムNo.1をプログラム内容が11A
−11B−11CのプロセスプログラムNo.11に自
動的に変換する。
Process program No. 1 is the process program No. Conversion to 11 is performed by executing a function set in the conversion program in advance. For example, by the function F1, the process program No. 1D program is added after 1C. Next, the process program having the program contents 1A-1B-1C-1D is converted into the process program having the program contents 11A-11B-11C-11D by the function F2. Then, the program content is changed to 11A-11B-11C-1 by the function F3.
11D programs are deleted from the 1D process programs. Then, the function F4 is executed.
As described above, the process program No. whose program content is 1A-1B-1C. 1 for program content 11A
-11B-11C process program No. 11 automatically.

【0036】上記変換プログラムによって実行されるプ
ログラムの追加,プログラムの交換,プログラムの削除
等の内容は、各ファンクションF1ないしF4の実行ご
とに制御端末機17の画面に表示される。
The contents of addition, exchange, and deletion of programs executed by the conversion program are displayed on the screen of the control terminal 17 each time each of the functions F1 to F4 is executed.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
製造処理装置それぞれに対応して情報判定装置と情報変
換装置とを設けたので、特定の製造処理装置で主制御装
置からの共通の処理情報に基づく処理ができなくなった
場合でも、情報変換装置によってその処理情報を自動的
に使用できる処理情報に変換することが可能になる。こ
の結果、処理情報を変換した製造処理装置では変換した
処理情報に基づいて処理を行うことができ、処理情報を
変換しない他の製造処理装置では共通の処理情報で処理
を行うことができる。すなわち、主制御装置からの処理
情報自体は変更する必要はなく、個々の製造処理装置に
おいて対応することが可能になる。よって作業効率の向
上が図れる。また共通の処理情報の変更を間違えなく行
うことができる。
As described above, according to the present invention,
Since an information determination device and an information conversion device are provided for each of the manufacturing processing devices, even if a specific manufacturing processing device cannot perform processing based on the common processing information from the main control device, the information conversion device does not. The processing information can be automatically converted into usable processing information. As a result, the manufacturing processing apparatus that has converted the processing information can perform processing based on the converted processing information, and other manufacturing processing apparatuses that do not convert the processing information can perform processing with common processing information. That is, it is not necessary to change the processing information itself from the main control device, and it is possible to cope with each manufacturing processing device. Therefore, work efficiency can be improved. In addition, the common processing information can be changed without mistake.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】制御システムの概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a control system.

【図2】ロットの処理方法を説明する流れ図である。FIG. 2 is a flowchart illustrating a lot processing method.

【図3】プロセスプログラムの変換方法を説明する流れ
図である。
FIG. 3 is a flowchart illustrating a method of converting a process program.

【図4】従来例の制御システムの概略構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a conventional control system.

【図5】従来例のロットの処理方法を説明する流れ図で
ある。
FIG. 5 is a flowchart illustrating a conventional lot processing method.

【図6】通常のプロセスプログラムの流れ図である。FIG. 6 is a flowchart of a normal process program.

【図7】別のプロセスプログラムの流れ図である。FIG. 7 is a flowchart of another process program.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 蒸着装置 17 制御端末機 18 主制御装置 19 情報判定装置 20 情報変換装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Evaporation apparatus 17 Control terminal 18 Main control apparatus 19 Information judgment apparatus 20 Information conversion apparatus

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G05B 15/02 B23Q 41/08 C23C 14/54 G06F 17/60 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G05B 15/02 B23Q 41/08 C23C 14/54 G06F 17/60

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数の製造処理装置と、 前記複数の製造処理装置に対して共通の処理情報を供給
する主制御装置と、 前記複数の製造処理装置それぞれに対応して設けられ、
前記主制御装置から供給された前記処理情報がそれぞれ
の対応する前記製造処理装置で実行可能か否かを判定す
る複数の情報判定装置と、 前記複数の製造処理装置それぞれに対応して設けられ、
前記情報判定装置によって前記主制御装置から供給され
た前記処理情報が対応する前記製造処理装置で実行不可
能と判定された場合、前記処理情報をその製造処理装置
で実行可能な別の処理情報に変換する複数の情報変換装
置と、 を含むことを特徴とする製造処理装置の制御システム。
A plurality of manufacturing processing apparatuses; a main control unit for supplying common processing information to the plurality of manufacturing processing apparatuses; a main control apparatus provided for each of the plurality of manufacturing processing apparatuses;
A plurality of information determination devices that determine whether the processing information supplied from the main control device can be executed by each corresponding manufacturing processing device; and a plurality of information determining devices provided for each of the plurality of manufacturing processing devices;
When the processing information supplied from the main control device is determined to be unexecutable by the corresponding manufacturing processing device by the information determination device, the processing information is converted into another processing information executable by the manufacturing processing device. A control system for a manufacturing processing device, comprising: a plurality of information conversion devices for converting.
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