JP3216836B2 - Multi-beam laser recorder - Google Patents
Multi-beam laser recorderInfo
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- JP3216836B2 JP3216836B2 JP26000392A JP26000392A JP3216836B2 JP 3216836 B2 JP3216836 B2 JP 3216836B2 JP 26000392 A JP26000392 A JP 26000392A JP 26000392 A JP26000392 A JP 26000392A JP 3216836 B2 JP3216836 B2 JP 3216836B2
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ディジタル複写機、レ
ーザービームプリンター等において使用されるレーザー
記録装置に関し、特に感光体面を同時に複数のレーザー
ビームで走査して情報を記録するマルチビームレーザー
記録装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser recording apparatus used in a digital copying machine, a laser beam printer, and the like, and more particularly, to a multi-beam laser recording apparatus for recording information by simultaneously scanning a photosensitive member surface with a plurality of laser beams. It is about.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば、レーザービームプリンターにお
いては、画像信号により変調されたレーザービームが高
速回転するポリゴンスキャナーに照射され、ポリゴンス
キャナーからの反射光が感光体面を走査し、感光体面に
静電潜像を形成する。この静電潜像は現像されてトナー
像となり、このトナー像は普通紙に転写、定着されて画
像を形成する。2. Description of the Related Art In a laser beam printer, for example, a laser beam modulated by an image signal is applied to a high-speed rotating polygon scanner, and the reflected light from the polygon scanner scans the surface of the photoconductor, and an electrostatic latent image is formed on the surface of the photoconductor. Form an image. The electrostatic latent image is developed into a toner image, and the toner image is transferred and fixed on plain paper to form an image.
【0003】このレーザービームプリンターの高精細度
化、高速化において最も問題となるのはポリゴンスキャ
ナーの回転速度に限界があることである。この問題を解
決するために複数のレーザービームによって感光体面を
一度に走査するマルチビームスキャン方式は既に公知の
ものである。この方式にあっては当然のことながら、複
数のレーザービームスポットをポリゴンスキャナーによ
る走査方向(以下、主走査方向と呼ぶ)と直角な方向
(以下、副走査方向と呼ぶ)に充分近接させなくてはな
らない。このために、複数の半導体レーザーを近接させ
て製造する努力がなされており、現在10μm間隔まで
近接させた半導体レーザーアレイが試作されている(た
とえば、特開平2ー39583号公報及び、R.L.T
hornton et al.,“Propertie
s of closely spaced indep
endently addressable lase
rsfabricated by impurity−
induced disordering”,App
l.Phys.Lett.56(17),1623−1
625(1990)参照)。The most important problem in increasing the definition and speed of the laser beam printer is that the rotation speed of the polygon scanner is limited. In order to solve this problem, a multi-beam scanning method in which the surface of the photosensitive member is scanned at once by a plurality of laser beams is already known. In this method, it is needless to say that a plurality of laser beam spots need not be brought sufficiently close to a direction perpendicular to a scanning direction (hereinafter, referred to as a main scanning direction) by a polygon scanner (hereinafter, referred to as a sub-scanning direction). Not be. For this reason, efforts have been made to manufacture a plurality of semiconductor lasers in close proximity, and a semiconductor laser array in which a plurality of semiconductor lasers are brought close to each other at an interval of 10 μm is currently being prototyped (for example, JP-A-2-39583 and RL). .T
Hornton et al. , "Property
s of closedly spaced indep
endly addressable race
rsfabricated by impurity-
induced disordering ”, App
l. Phys. Lett. 56 (17), 1623-1
625 (1990)).
【0004】しかしながら、10μm間隔まで半導体レ
ーザーを近接させても副走査方向に充分密にスポットを
並べるには不足である。このため、特公昭60ー330
19号公報に開示されているように、半導体レーザーア
レイを傾けて実効的に副走査方向のレーザービームスポ
ット間隔を小さくする傾斜方式のマルチビームレーザー
プリンターを採用することが考えられる。半導体レーザ
ーアレイを傾ければ、図5に示すようにふたつのレーザ
ースポットS1,S2の中心間隔は広いまま、副走査方
向のレーザースポットの間隔pすなわち走査線Iの間隔
を狭くすることができる。図中、Xはレーザービームの
移動方向を示す。10μm間隔の半導体レーザーアレイ
を用いるならば、後述のように主走査方向に対してレー
ザースポットの配列方向のなす角ωをω≒22°に傾け
れば良いことが計算される。なお、図5は後述のような
ビーム整形を施した場合を示している。However, even if the semiconductor lasers are brought close to each other at intervals of 10 μm, it is insufficient to arrange the spots sufficiently densely in the sub-scanning direction. For this reason, Japanese Patent Publication No. 60-330
As disclosed in Japanese Patent Publication No. 19, it is conceivable to employ a tilt type multi-beam laser printer that tilts a semiconductor laser array to effectively reduce the laser beam spot interval in the sub-scanning direction. If the semiconductor laser array is inclined, the interval p between the laser spots in the sub-scanning direction, that is, the interval between the scanning lines I can be reduced while the center interval between the two laser spots S1 and S2 is wide as shown in FIG. In the figure, X indicates the moving direction of the laser beam. If semiconductor laser arrays at intervals of 10 μm are used, it is calculated that the angle ω formed by the arrangement direction of laser spots with respect to the main scanning direction should be inclined to ω ≒ 22 ° as described later. FIG. 5 shows a case where beam shaping is performed as described later.
【0005】ところで、レーザービームプリンターでは
感光体面上のレーザースポットSの径は、図6に示すよ
うに副走査方向に長く主走査方向に短く設定されること
が多い。これは、矢印Xで示す主走査方向にレーザース
ポットSが移動するため、円形のレーザースポットを用
いると静電潜像として記録されるスポットが主走査方向
に長くなってしまうのを補うためである。通常は、主走
査方向のレーザースポット径は副走査方向のレーザース
ポット径r1 の約半分に設定され、かつ、レーザービー
ムにデューティー比50%程度の変調を行うことによ
り、記録されるスポットが主走査方向に長くなるのを防
いでいる。Incidentally, in a laser beam printer, the diameter of the laser spot S on the photosensitive member surface is often set to be longer in the sub-scanning direction and shorter in the main scanning direction as shown in FIG. This is because the laser spot S moves in the main scanning direction indicated by the arrow X, so that when a circular laser spot is used, the spot recorded as an electrostatic latent image becomes longer in the main scanning direction. . Normally, the laser spot diameter in the main scanning direction is set to approximately half of the laser spot diameter r 1 in the sub-scanning direction, and, by performing the modulation of the duty ratio of 50% to the laser beam, a main spot to be recorded The length in the scanning direction is prevented.
【0006】図7に示すように、半導体レーザー21よ
り出射するレーザービームは、接合面に平行方向では1
0°程度の比較的小さな拡がり角θ1 (1/e2 値)を
有し、接合面に垂直方向では30°から40°程度の比
較的大きな拡がり角θ2 (1/e2 値)を有する。すな
わち、レーザービームの楕円率は、3から4前後とな
る。このため、図7に示すような楕円のプロファイル
(ハッチングで示す)を有するレーザービームをそのま
まビーム整形を施さずに結像すると、接合面に垂直方向
に対応するスポット径を短径とする楕円状の結像スポッ
トが得られる。このことは次のようにして説明される。As shown in FIG. 7, the laser beam emitted from the semiconductor laser 21 is 1 in the direction parallel to the bonding surface.
It has a relatively small divergence angle θ 1 (1 / e 2 value) of about 0 °, and a relatively large divergence angle θ 2 (1 / e 2 value) of about 30 ° to 40 ° in the direction perpendicular to the joint surface. Have. That is, the ellipticity of the laser beam is about 3 to 4. For this reason, when an image of a laser beam having an elliptical profile (shown by hatching) as shown in FIG. 7 is formed without performing beam shaping as it is, an elliptical shape in which the spot diameter corresponding to the direction perpendicular to the bonding surface is the shorter diameter. Is obtained. This is explained as follows.
【0007】いま図8に示すような、半導体レーザー2
1からのレーザービームをコリメータ22、アパーチャ
ー23及結像レンズ24を介して感光体面25上に結像
させるレーザー光学系を考えると、結像スポット径dは
次式で与えられることが知られている。A semiconductor laser 2 as shown in FIG.
Considering a laser optical system that forms an image of the laser beam from No. 1 on the photoreceptor surface 25 through a collimator 22, an aperture 23 and an image forming lens 24, it is known that the image forming spot diameter d is given by the following equation. I have.
【0008】[0008]
【数2】 (1)式においてλはレーザービームの波長、θb は結
像面へのレーザービームの収束角、πは円周率、Aは光
学系の開口によって決まるアポダイゼーション係数であ
る。Aはトランケーション比T=a/Dの関数である。
aは光学系の開口(アパーチャーの径:図8参照)、D
は平行ビームに変換された時のビーム径(1/e2 値:
図8参照)である。図8ではa>Dとなっているが、こ
れは一例に過ぎない。トランケーション比Tとアポダイ
ゼーション係数Aの関係を図9に示す。なお、図9にお
いてPは通過パワー比で、アパーチャーを通過するエネ
ルギーの割合を示している。光学系の開口が十分大きけ
れば(T≒∞ならば)A≒1となる。なお、このような
結像関係の詳細については、本出願人によって出願され
た特願平3−158608号明細書に記載されている。
図8の光学系の横倍率βはf2 /f1 であるので、θa
≒βθb となる。これを(1)式に代入して次式を得
る。(Equation 2) In the equation (1), λ is the wavelength of the laser beam, θ b is the convergence angle of the laser beam on the image plane, π is the circular constant, and A is the apodization coefficient determined by the aperture of the optical system. A is a function of the truncation ratio T = a / D.
a is the aperture of the optical system (aperture diameter: see FIG. 8), D
Is the beam diameter when converted into a parallel beam (1 / e 2 value:
FIG. 8). Although a> D in FIG. 8, this is only an example. FIG. 9 shows the relationship between the truncation ratio T and the apodization coefficient A. In FIG. 9, P is a passing power ratio, which indicates a ratio of energy passing through the aperture. If the aperture of the optical system is sufficiently large (if T ≒ ∞), A ≒ 1. The details of such an imaging relationship are described in the specification of Japanese Patent Application No. 3-158608 filed by the present applicant.
Since the lateral magnification β of the optical system in FIG. 8 is f 2 / f 1 , θ a
≒ the βθ b. This is substituted into equation (1) to obtain the following equation.
【0009】[0009]
【数3】 (2)式は光源のレーザービームの拡がり角の増加に伴
って結像スポット径が小さくなることを意味している。
したがって、拡がり角の大きい半導体レーザーの接合面
に垂直方向に対応するスポット径の方が小さくなるので
ある。(Equation 3) Equation (2) means that the imaging spot diameter decreases as the divergence angle of the laser beam from the light source increases.
Therefore, the spot diameter corresponding to the direction perpendicular to the bonding surface of the semiconductor laser having a large divergence angle is smaller.
【0010】半導体レーザーより出射するレーザービー
ムの接合面に平行方向と垂直方向の拡がり角の比(レー
ザービームの楕円率)は、前述のように3から4前後で
ありかなり大きい。このため、従来のレーザービームプ
リンターの光学系では、プリズムやシリンドリカルレン
ズ等を用いて、レーザービームの楕円率を2程度に下げ
ていた。このようにレーザービームの楕円率を変えるこ
とをビーム整形と呼ぶ。レーザービームの楕円率とはレ
ーザービームのビーム径の長径と短径の比率のことであ
るが、上述の(2)式に示すようにレーザービームの拡
がり角とビーム径には反比例関係があることから、拡が
り角の比も楕円率として表すことができる。ただし、分
母と分子が反対になるので注意を要する。The ratio of the divergence angle of the laser beam emitted from the semiconductor laser in the direction parallel to and perpendicular to the bonding surface (ellipticity of the laser beam) is as large as about 3 to 4, as described above. Therefore, in the optical system of the conventional laser beam printer, the ellipticity of the laser beam is reduced to about 2 by using a prism, a cylindrical lens, or the like. Changing the ellipticity of the laser beam in this way is called beam shaping. The ellipticity of a laser beam is the ratio of the major axis to the minor axis of the laser beam diameter, and the divergence angle of the laser beam and the beam diameter have an inversely proportional relationship as shown in the above equation (2). Therefore, the ratio of the spread angle can also be expressed as the ellipticity. Note, however, that the denominator and numerator are opposite.
【0011】なお、上記の(2)式にθa =θ1 =12
°、β=10、A≒1.0(開口は十分大きいことを意
味する)を代入すると、光学的な結像スポット径d≒5
0μmと求まる。また、θa =θ2 =36°、β=10
を代入するとd≒17μmと求まる。現像した後に像と
して形成されるのはこの結像スポット径dとは異なり、
ある係数kでdを除した値となる。この係数kをスポッ
ト補正係数と呼び、通常は1.4≦k≦1.8の範囲で
あり、代表的なスポット補正係数kの値としてはk=
1.5である(例えば、太田、伊藤、龍岡、「飛び越し
走査方式LBP用LDアレイの素子間隔」、91年秋季
応用物理学会11p−ZM−19(1991)、あるい
は本出願人によって出願された前記特願平3−1586
08号明細書参照)。このため、短径33μmの像が1
00μm離れて形成されることになる。このことから、
感光体面上のレーザースポットの配列方向と主走査方向
のなす角度ω=sin-1(33/100)≒22°と計
算される。Note that in the above equation (2), θ a = θ 1 = 12
°, β = 10, A ≒ 1.0 (meaning that the aperture is sufficiently large), the optical imaging spot diameter d ≒ 5
0 μm is obtained. Also, θ a = θ 2 = 36 °, β = 10
Is obtained, d 17 μm. What is formed as an image after development is different from this imaging spot diameter d.
This is a value obtained by dividing d by a certain coefficient k. This coefficient k is called a spot correction coefficient, which is usually in the range of 1.4 ≦ k ≦ 1.8, and a typical value of the spot correction coefficient k is k =
1.5 (for example, Ota, Ito, Tatsuoka, "Element spacing of LD array for interlaced scanning LBP", Applied Physics Society of Japan, Fall 1991, 11p-ZM-19 (1991), or filed by the present applicant. Japanese Patent Application No. 3-1586
No. 08). Therefore, an image having a minor axis of 33 μm is 1
It will be formed at a distance of 00 μm. From this,
The angle ω = sin −1 (33/100) ≒ 22 ° between the arrangement direction of the laser spots on the photoconductor surface and the main scanning direction is calculated.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】以上を踏まえて、傾斜
方式のマルチビームレーザープリンターの光学系を考え
ると、以下に説明するように、傾斜方式のマルチビーム
レーザープリンターではビーム整形が容易ではないとい
う問題があることが判る。感光体面上の結像スポットが
円形で良いのならば、レーザービームの楕円率を1にす
るようなビーム整形を施せば良く、その場合は感光体面
上に複数の結像スポットは図5のように結像される。し
かし、楕円の結像スポットを得ようとすると問題が発生
する。すなわち、従来のビーム整形法を用いて単純に結
像スポットの配列方向を傾けると、図10に示されるよ
うに、結像スポットS1,S2の長軸がレーザービーム
の移動方向Xに対してなす角度ωが複数の結像スポット
S1,S2の配列方向と一致した状態で結像してしま
い、目的とする縦長の結像スポットを得ることができな
い。また、このように結像スポットS1,S2の長軸が
傾斜すると、結像スポット間のピッチ調整のために光源
となるマルチビームの半導体レーザを回転させると、結
像スポットの副走査方向のサイズが変化してしまうとい
う問題が生じる。Considering the above, considering the optical system of a tilt type multi-beam laser printer, beam shaping is not easy with a tilt type multi-beam laser printer as described below. It turns out that there is a problem. If the image spot on the surface of the photoreceptor may be circular, beam shaping may be performed so that the ellipticity of the laser beam is 1, and in this case, a plurality of image spots on the surface of the photoreceptor are as shown in FIG. Is imaged. However, a problem arises when trying to obtain an elliptical imaging spot. That is, when the arrangement direction of the imaging spots is simply tilted using the conventional beam shaping method, the major axes of the imaging spots S1 and S2 are formed with respect to the moving direction X of the laser beam as shown in FIG. An image is formed in a state where the angle ω coincides with the arrangement direction of the plurality of imaging spots S1 and S2, and a desired vertically long imaging spot cannot be obtained. When the major axes of the imaging spots S1 and S2 are tilted in this manner, when the multi-beam semiconductor laser serving as a light source is rotated for adjusting the pitch between the imaging spots, the size of the imaging spot in the sub-scanning direction is reduced. Is changed.
【0013】本発明は、主走査方向に短径を有する複数
の楕円スポットを主走査方向に対して傾斜させて結像す
る光学系を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an optical system for forming an image by inclining a plurality of elliptical spots having a minor axis in the main scanning direction with respect to the main scanning direction.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のマルチビームレーザー記録装置は、感光体面
上に複数のレーザースポットを主走査方向に対して傾斜
させて配列したマルチビームレーザー記録装置におい
て、該マルチビームレーザー記録装置の走査光学系は、
少なくとも、複数のレーザービームを放出するレーザー
アレイと、該レーザーアレイからの複数のレーザービー
ムが照射されるコリメーター光学系と、該コリメーター
光学系からのレーザービームを断面真円状のレーザービ
ームに変換する第1のビーム整形器と、該第1のビーム
整形器からのレーザービームを、その作用軸が主走査方
向に一致するように固定されている、断面楕円状のレー
ザービームに変換する第2のビーム整形器とを備えてい
ることを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a multi-beam laser recording apparatus according to the present invention comprises a multi-beam laser recording apparatus in which a plurality of laser spots are arranged on a photoreceptor surface while being inclined with respect to a main scanning direction. In the apparatus, a scanning optical system of the multi-beam laser recording apparatus includes:
At least, a laser array that emits a plurality of laser beams, a collimator optical system that is irradiated with the plurality of laser beams from the laser array, and a laser beam from the collimator optical system that forms a laser beam having a perfectly circular cross section. A first beam shaper to be converted, and a laser beam from the first beam shaper, the operation axis of which is set to a main scanning direction.
And a second beam shaper that converts the laser beam into a laser beam having an elliptical cross section , which is fixed so as to coincide with the direction .
【0015】前記レーザーアレイと前記コリメーター光
学系と前記第1のビーム整形器とを一体に設けるととも
に、この一体化された部分を前記第2のビーム整形器に
対して回転可能とすることができる。The laser array, the collimator optical system, and the first beam shaper may be provided integrally, and the integrated portion may be rotatable with respect to the second beam shaper. it can.
【0016】前記レーザーアレイのアレイ配列方向と主
走査方向とのなす角度をωとする時に、前記角度ωを次
式により定めることが望ましい。When the angle between the array direction of the laser array and the main scanning direction is ω, it is preferable that the angle ω be determined by the following equation.
【0017】[0017]
【数4】 ただし、λはレーザービームの波長、Aは光学系の開口
によって決まるアポダイゼーション係数、rはレーザー
アレイの間隔、kはスポット補正係数で1.4≦k≦
1.8、πは円周率、θ1 はレーザービームのアレイ配
列方向の広がり角。(Equation 4) Here, λ is the wavelength of the laser beam, A is the apodization coefficient determined by the aperture of the optical system, r is the distance between the laser arrays, k is the spot correction coefficient, and 1.4 ≦ k ≦
1.8, π is the pi, θ 1 is the spread angle of the laser beam in the array arrangement direction.
【0018】[0018]
【作用】レーザーアレイからのレーザービームは、コリ
メーター光学系と第1のビーム整形器によって一度真円
状のビームに変換されてから第2のビーム整形器によっ
てビーム整形がなされるので、レーザースポットの配列
方向に対して楕円ビームの光軸を任意の角度に設定する
ことができる。したがって、複数の結像スポットの配列
方向が主走査方向に対して傾斜し、かつ、楕円状の各レ
ーザースポットの短径方向を主走査方向になるように、
感光体面上に各レーザースポットを結像することができ
る。また、光源のレーザーアレイのアレイ配列方向と主
走査方向とのなす角度ωが(3)式を満たすように選ぶ
ことによって、良好な画像再現を得ることができる。The laser beam from the laser array is once converted into a perfect circular beam by the collimator optical system and the first beam shaper, and then shaped by the second beam shaper. The optical axis of the elliptical beam can be set to an arbitrary angle with respect to the arrangement direction. Therefore, the arrangement direction of the plurality of imaging spots is inclined with respect to the main scanning direction, and the minor axis direction of each elliptical laser spot is the main scanning direction.
Each laser spot can be imaged on the photoreceptor surface. Further, by selecting the angle ω between the array direction of the laser array of the light source and the main scanning direction so as to satisfy the expression (3), it is possible to obtain good image reproduction.
【0019】[0019]
【実施例】以下、図面を参照しながら実施例に基づいて
本発明の特徴を具体的に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The features of the present invention will be specifically described below based on embodiments with reference to the drawings.
【0020】図1に本発明のマルチビームレーザー記録
装置の光学系の一実施例を示す。この光学系は、半導体
レーザーアレイ1と、コリメーターを兼ねる第1のビー
ム整形器2からなる光源部11、シリンドリカルレンズ
3及び4からなる第2のビーム整形器12、アパーチャ
ー20、ポリゴンスキャナー7、f−θレンズと呼ばれ
る主結像レンズ8、シリンドリカルレンズ5及び9から
なる面倒れ補正光学系とから成り立っている。FIG. 1 shows an embodiment of an optical system of a multi-beam laser recording apparatus according to the present invention. This optical system includes a semiconductor laser array 1, a light source unit 11 including a first beam shaper 2 also serving as a collimator, a second beam shaper 12 including cylindrical lenses 3 and 4, an aperture 20, a polygon scanner 7, It is composed of a main imaging lens 8 called an f-θ lens, and a surface tilt correction optical system including cylindrical lenses 5 and 9.
【0021】半導体レーザーアレイ1から出射したレー
ザービームは感光体10を走査して走査線I1 ,I 2が
形成され、この走査線I1 ,I 2に沿って形成された静
電潜像が図示しない電子写真プロセスによって画像化さ
れる。感光体10は、矢印14の方向に一定速度で駆動
される。また、レーザービームはポリゴンスキャナー7
によって感光体10上を矢印13の方向に走査される。
矢印13の方向は主走査方向に、矢印14の方向は副走
査方向にそれぞれ対応する。また、ηは第1のビーム整
形器2の作用軸であり、これは半導体レーザーアレイ1
のアレイ配列方向と一致している。εは第2のビーム整
形器12の作用軸であり、これは主走査方向と一致して
いる。ωは作用軸ηと作用軸εのなす角である。なお、
作用軸とはビーム整形器がビーム径(拡がり角)を変化
させる方向のことである。[0021] Semiconductor laser laser beam emitted from the array 1 scan lines I 1 by scanning the photosensitive member 10, I 2 is formed, an electrostatic latent image formed along the scanning lines I 1, I 2 is The image is formed by an electrophotographic process (not shown). The photoconductor 10 is driven at a constant speed in the direction of arrow 14. Also, the laser beam is a polygon scanner 7
Scans the photosensitive member 10 in the direction of arrow 13.
The direction of arrow 13 corresponds to the main scanning direction, and the direction of arrow 14 corresponds to the sub-scanning direction. Further, η is the operating axis of the first beam shaper 2, which is the semiconductor laser array 1
In the array direction. ε is the working axis of the second beam shaper 12, which coincides with the main scanning direction. ω is the angle between the action axis η and the action axis ε. In addition,
The working axis is the direction in which the beam shaper changes the beam diameter (divergence angle).
【0022】図2に光源部11と第2のビーム整形器1
2の部分を拡大して示す。光軸方向周りに回転可能で所
望の回転位置で固定することが可能な支持台15の上に
半導体レーザーアレイ1と、コリメーターを兼ねる第1
のビーム整形器2とが固定されている。支持台15は図
示しない角度調整機構によって主走査方向に対してωの
角度に保持される(図1参照)。コリメーターを兼ねる
第1のビーム整形器2は、レンズの両面がそれぞれシリ
ンドリカルレンズ2a,2bとなっている。そして、そ
れぞれのシリンドリカルレンズ2a,2bの軸の方向は
直交している。第2のビーム整形器12は、シリンドリ
カルレンズ3及び4からなる逆望遠鏡光学系である。第
2のビーム整形器12は主走査の方向にのみ作用するの
で、副走査方向のレーザービーム径が拡げられ、その結
果、感光体面上では主走査方向が短径の楕円状のスポッ
トが結像する。第2のビーム整形器12の縮小倍率をγ
とおく。通常はγ=2前後に選ばれる。FIG. 2 shows the light source unit 11 and the second beam shaper 1.
2 is shown enlarged. A semiconductor laser array 1 and a first collimator serving as a collimator are placed on a support 15 that can rotate around the optical axis and can be fixed at a desired rotational position.
And the beam shaper 2 are fixed. The support 15 is held at an angle of ω with respect to the main scanning direction by an angle adjusting mechanism (not shown) (see FIG. 1). In the first beam shaper 2 also serving as a collimator, both surfaces of the lens are cylindrical lenses 2a and 2b, respectively. The directions of the axes of the cylindrical lenses 2a and 2b are orthogonal to each other. The second beam shaper 12 is an inverted telescope optical system including the cylindrical lenses 3 and 4. Since the second beam shaper 12 operates only in the main scanning direction, the laser beam diameter in the sub-scanning direction is expanded, and as a result, an elliptical spot whose main scanning direction is shorter in the main scanning direction is formed on the photoconductor surface. I do. The reduction magnification of the second beam shaper 12 is γ
far. Usually, γ is selected around 2.
【0023】もし、第2のビーム整形器12がない場合
には、図5に示すように直径r2 ’の真円のスポットが
結像するが、第2のビーム整形器12がある場合は、図
3に示すように、主走査方向が短径r2 の楕円のスポッ
ト(副走査方向の径はr2 ’(=r1 )のままである)
が結像する。また、スポット間隔がL’(図5参照)か
らLへと変化する。第2のビーム整形は縮小倍率γ=2
とすると、倍率1/2(=1/γ)の縮小投影光学系と
なるので、r2 =r2 ’/γ=r2 ’/2、r1 =
r2 ’、L=L’/γ=L’/2、となる(この場合、
γは楕円率と一致する)。スポット間隔が変化するのに
伴って複数のスポットの配列方向と主走査方向のなす角
度は、図5のωから図3のψに変化する。例えば、上記
の例ではγ=2であるとω=22°からψ=40°に変
化することになる。なお、この関係については詳しくは
後で述べる。If there is no second beam shaper 12, a perfect circular spot having a diameter r 2 ′ is formed as shown in FIG. 5, but if there is a second beam shaper 12, as shown in FIG. 3, the main scanning direction of the minor axis r 2 elliptical spot (in the sub-scanning direction size remains r 2 '(= r 1) )
Is imaged. Further, the spot interval changes from L ′ (see FIG. 5) to L. In the second beam shaping, the reduction ratio γ = 2
Then, a reduction projection optical system having a magnification of 1/2 (= 1 / γ) is obtained, so that r 2 = r 2 ′ / γ = r 2 ′ / 2 and r 1 =
r 2 ′, L = L ′ / γ = L ′ / 2 (in this case,
γ matches the ellipticity). As the spot interval changes, the angle between the arrangement direction of the plurality of spots and the main scanning direction changes from ω in FIG. 5 to ψ in FIG. For example, in the above example, when γ = 2, ω = 22 ° changes to ψ = 40 °. The details of this relationship will be described later.
【0024】上記の光学系では、図3に示すように、光
源部11の主走査方向に対する角度によらず、感光体面
上に結像するスポットは主走査方向が短径の楕円とな
る。これは光源部11から出射するレーザービームは略
真円形であるため、光源部11の角度が変化しても第2
のビーム整形器12に入射するレーザービーム形状に変
化がないからである。そして、第2のビーム整形器の作
用軸εが主走査方向に一致するように固定されているの
で、調整のために光源部11を傾ける角度を変えても、
感光体面上の結像スポットは主走査方向が短径の楕円の
ままである。In the above-mentioned optical system, as shown in FIG. 3, regardless of the angle of the light source unit 11 with respect to the main scanning direction, the spot formed on the photoreceptor surface is an ellipse having a short diameter in the main scanning direction. This is because the laser beam emitted from the light source unit 11 is substantially circular, so that the second
This is because there is no change in the shape of the laser beam incident on the beam shaper 12 of FIG. Since the working axis ε of the second beam shaper is fixed so as to coincide with the main scanning direction, even if the angle of tilting the light source unit 11 for adjustment is changed,
The imaging spot on the photoreceptor surface remains an ellipse having a short diameter in the main scanning direction.
【0025】ところで、従来技術の項で述べたように、
レーザービームの拡がり角と結像するレーザースポット
の径には所定の関係がある。したがって、このことを考
慮に入れて光学系を設計しないと、良好な画像再現を得
ることができない。そのために半導体レーザーアレイと
主走査方向のなす角度ωをどのように定めれば良いかを
次に述べる。By the way, as described in the section of the prior art,
There is a predetermined relationship between the divergence angle of the laser beam and the diameter of the laser spot to be imaged. Therefore, unless the optical system is designed taking this fact into consideration, good image reproduction cannot be obtained. The following describes how to determine the angle ω between the semiconductor laser array and the main scanning direction.
【0026】まず、図5のような場合について考える。
これは図1の実施例において第2のビーム整形器12が
ない場合に相当する。図5の円形スポットの直径r2 ’
に対して最終的に現像して得られる像の大きさは、従来
技術の項で述べたように、r2 ’/k(kはスポット補
正係数)の大きさになる。したがって、現像後に走査線
間に隙間や重なりが生じないようにするには走査線ピッ
チpは次式を満たす必要がある。First, consider the case as shown in FIG.
This corresponds to the case where the second beam shaper 12 is not provided in the embodiment of FIG. The diameter r 2 ′ of the circular spot in FIG.
, The size of the image finally developed is r 2 ′ / k (k is a spot correction coefficient) as described in the section of the prior art. Therefore, the scanning line pitch p needs to satisfy the following expression in order to prevent a gap or overlap from occurring between the scanning lines after development.
【0027】p=r2 ’/k ・・・・ (4) ここで、図5のレーザースポット配列方向(図5のη
軸)に注目する。θa =θ1 、r1 =d、β=β1 とし
て(2)式に代入すると走査線ピッチpは次式で表され
る。P = r 2 '/ k (4) Here, the laser spot arrangement direction in FIG. 5 (η in FIG. 5)
(Axis). By substituting θ a = θ 1 , r 1 = d, and β = β 1 into equation (2), the scanning line pitch p is expressed by the following equation.
【0028】[0028]
【数5】 ただし、β1 は図5のη軸方向の縦倍率である。したが
って、隣接するレーザースポットの感光体面上の間隔は
β1 rとなり、sinω=p/β1 rという関係が成り
立つ。このことから、ωは次式で与えられることにな
る。(Equation 5) Here, β 1 is the longitudinal magnification in the η-axis direction in FIG. Therefore, the interval between adjacent laser spots on the photoconductor surface is β 1 r, and the relationship of sin ω = p / β 1 r is established. From this, ω is given by the following equation.
【0029】[0029]
【数6】 (3)式は、レーザービームの波長λ、光学系の開口に
よって決まるアポダイゼーション係数A、半導体レーザ
ーアレイの間隔r、スポット補正係数k、半導体レーザ
ーアレイのアレイ配列方向のレーザービームの拡がり角
θ1 が決まれば半導体レーザーアレイと主走査方向のな
す角度ωが決まってしまうことを示す。(Equation 6) Equation (3) shows that the wavelength λ of the laser beam, the apodization coefficient A determined by the aperture of the optical system, the spacing r between the semiconductor laser arrays, the spot correction coefficient k, and the divergence angle θ 1 of the laser beam in the array direction of the semiconductor laser array. This indicates that the angle ω between the semiconductor laser array and the main scanning direction is determined.
【0030】上記各パラメーターの望ましい値は以下の
通りである。レーザービームの波長λは800nm以下
が望ましい。アポダイゼーション係数Aは1.00≦A
≦1.97の範囲が望ましく、特に1.34≦A≦1.
97の範囲が好ましい。具体的にはAの値はアパーチャ
ーの径を変えることによって変化させる。半導体レーザ
ーアレイの間隔rは10μm≦r≦100μmの範囲が
望ましい。スポット補正係数kは1.4≦k≦1.8の
範囲が望ましく、反転現像を用いる場合は1.4≦k≦
1.6、正転現像を用いる場合は1.6≦k≦1.8が
それぞれ望ましく、特に両者に共通k=1.5前後が好
ましい。レーザービームの拡がり角θ1は3°≦θ1 ≦
20°の範囲が望ましい。Desirable values of the above parameters are as follows. The wavelength λ of the laser beam is desirably 800 nm or less. Apodization coefficient A is 1.00 ≦ A
≦ 1.97 is desirable, especially 1.34 ≦ A ≦ 1.
A range of 97 is preferred. Specifically, the value of A is changed by changing the diameter of the aperture. The interval r between the semiconductor laser arrays is preferably in the range of 10 μm ≦ r ≦ 100 μm. The spot correction coefficient k is desirably in the range of 1.4 ≦ k ≦ 1.8, and when reversal development is used, 1.4 ≦ k ≦
1.6 and when forward development is used, 1.6 ≦ k ≦ 1.8 is desirable, and particularly, k = about 1.5 is preferred. The divergence angle θ 1 of the laser beam is 3 ° ≦ θ 1 ≦
A range of 20 ° is desirable.
【0031】次にωとψの関係の関係について述べる。
図1の実施例では第2のビーム整形器を備えているの
で、半導体レーザーアレイの主走査方向に対する傾斜角
ωと感光体面上のレーザースポット列の傾斜角ψとは一
致しない。ωとψの関係は図4に示すようになる。図4
(a)は第2のビーム整形器12がない場合を示し、同
図(b)は第2のビーム整形器12がある場合を示す。
すなわち、隣接するスポットの主走査方向の距離は1/
γになるが、副走査方向の距離は変化しない。このため
ψは次式で表されることになる。Next, the relationship between ω and ψ will be described.
In the embodiment of FIG. 1, since the second beam shaper is provided, the inclination angle ω of the semiconductor laser array with respect to the main scanning direction does not coincide with the inclination angle の of the laser spot array on the photosensitive member surface. The relationship between ω and ψ is as shown in FIG. FIG.
(A) shows a case without the second beam shaper 12, and (b) shows a case with the second beam shaper 12.
That is, the distance in the main scanning direction between adjacent spots is 1 /
γ, but the distance in the sub-scanning direction does not change. Therefore, ψ is expressed by the following equation.
【0032】[0032]
【数7】 λ=780nm、A=1.00、r=10μm、k=
1.5、θ1 =12°とすると(3)式よりω≒22°
と求まる。次に(6)式にω≒22°、γ=2を代入す
ればψ≒40°と求まる。この計算値は前述の通りであ
る。光学系の開口制限が無視できず例えばA=1.34
であるとすると、ω≒31°、ψ≒52°となる。(Equation 7) λ = 780 nm, A = 1.00, r = 10 μm, k =
Assuming that 1.5, θ 1 = 12 °, ω よ り 22 ° from the equation (3).
Is obtained. Next, by substituting ω ≒ 22 ° and γ = 2 into the equation (6), ψ ≒ 40 ° is obtained. This calculated value is as described above. The aperture limit of the optical system cannot be ignored, for example, A = 1.34
Then, ω ≒ 31 ° and ψ ≒ 52 °.
【0033】以上の関係を整理すると、まずλ、A、
r、k、θ1等のパラメータから(3)式によってωが
決まり、このωとγからψが(6)式によって決まるこ
とになる。言い換えるなら、ωの値がγによって変化す
ることはない。つまり、(3)式は第2のビーム整形器
12の有無によらず成り立つ関係式であり、円形ビーム
で感光体を走査する場合にも適用可能である。(3)式
を満たさない場合は、画像形成を行うことはできるが、
副走査方向の走査線の重なりが不適切になるので、良好
な画像再現を得ることが難しい。When the above relationships are arranged, first, λ, A,
ω is determined from the parameters such as r, k, and θ1 according to the equation (3), and ψ is determined from the ω and γ according to the equation (6). In other words, the value of ω does not change with γ. That is, Expression (3) is a relational expression that holds regardless of the presence or absence of the second beam shaper 12, and is also applicable to the case where the photosensitive member is scanned with a circular beam. If expression (3) is not satisfied, image formation can be performed,
Since the overlapping of the scanning lines in the sub-scanning direction becomes inappropriate, it is difficult to obtain good image reproduction.
【0034】なお、上記マルチビームレーザー記録装置
においては、副走査方向の結像スポット間隔Lが走査線
間隔pの整数倍となるようにアレイ間隔や光学系の倍率
を設計することが望ましい。こうすることにより特開昭
56−67277号公報に開示されているように画像信
号の制御が容易になるからである。In the above multi-beam laser recording apparatus, it is desirable to design the array interval and the magnification of the optical system so that the image spot interval L in the sub-scanning direction is an integral multiple of the scanning line interval p. This is because the control of the image signal is facilitated as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-67277.
【0035】[0035]
【発明の効果】本発明によれば、調整のために光源部を
傾ける角度を変えても、感光体面上の結像スポットは主
走査方向が短径の楕円のままであり、光学系の調整が容
易になるという効果がある。また、特定の関係式を満た
すように光源部の傾斜角度を選べば良好な画像再現を得
ることができる。According to the present invention, even if the angle of inclination of the light source unit is changed for adjustment, the image forming spot on the photoreceptor surface remains an ellipse having a short diameter in the main scanning direction. This has the effect of making it easier. Further, if the inclination angle of the light source unit is selected so as to satisfy a specific relational expression, good image reproduction can be obtained.
【図1】 本発明のマルチビームレーザー記録装置の一
実施例を示す概略斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view showing one embodiment of a multi-beam laser recording apparatus of the present invention.
【図2】 図1に示すレーザー記録装置における光源部
と第2のビーム整形器の部分を拡大した概略斜視図であ
る。FIG. 2 is an enlarged schematic perspective view of a light source unit and a second beam shaper in the laser recording apparatus shown in FIG.
【図3】 図1に示すレーザー記録装置の光学系におい
て感光体面上に結像するレーザースポットの様子を示す
説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating a state of a laser spot that forms an image on a photoconductor surface in the optical system of the laser recording apparatus illustrated in FIG. 1;
【図4】 第2のビーム整形器によって感光体面上での
レーザースポット列の主走査方向に対する傾きが変化す
ることを示す図である。FIG. 4 is a diagram showing that the inclination of the laser spot array on the photoconductor surface with respect to the main scanning direction is changed by a second beam shaper.
【図5】 真円状のビームを使用したマルチビームレー
ザー記録装置において感光体面上に結像するレーザース
ポットの様子を示す図である。FIG. 5 is a view showing a state of a laser spot formed on a photosensitive member surface in a multi-beam laser recording apparatus using a perfect circular beam.
【図6】 楕円のビームを使用した単一ビームレーザー
記録装置において感光体面上に結像するレーザースポッ
トの様子を示す図である。FIG. 6 is a view showing a state of a laser spot formed on a photosensitive member surface in a single-beam laser recording apparatus using an elliptical beam.
【図7】 半導体レーザーから出射するレーザービーム
のビーム形状を示す模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing a beam shape of a laser beam emitted from a semiconductor laser.
【図8】 レーザー結像光学系を示す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating a laser imaging optical system.
【図9】 トランケーション比とアポダイゼーション係
数及び通過パワー係数の関係を示すグラフである。FIG. 9 is a graph showing a relationship between a truncation ratio and an apodization coefficient and a passing power coefficient.
【図10】 従来のマルチビームレーザー記録装置の光
学系において半導体レーザーを傾斜させて取り付けた場
合に、感光体面上に結像するレーザースポットの様子を
示す図である。FIG. 10 is a view showing a state of a laser spot which forms an image on a photosensitive member surface when a semiconductor laser is attached at an angle in an optical system of a conventional multi-beam laser recording apparatus.
1…半導体レーザーアレイ、2…第1のビーム整形器、
3,4,5…シリンドリカルレンズ、7…ポリゴンスキ
ャナー、8…主結像レンズ、9…シリンドリカルレン
ズ、10…感光体、11…光源部、12…第2のビーム
整形器、13…主走査方向、14…副走査方向、15…
光源部の支持台、20…アパーチャー、21…半導体レ
ーザー、22…コリメーター、23…アパーチャー、2
4…結像レンズ、25…感光体面、I1 ,I2 …走査
線、θ1 …半導体レーザーの接合面に水平方向のレーザ
ービームの拡がり角、θ2 …半導体レーザーの接合面に
垂直方向のレーザービームの拡がり角、θa …レーザー
ビーム光源の拡がり角、θb …結像面へのレーザービー
ムの収束角、f1 …コリメーターレンズの焦点距離、f
2 …結像レンズの焦点距離、D…レーザービームの直
径、d…結像スポットの直径、η…第1のビーム整形器
の作用軸(半導体レーザーアレイのアレイ配列方向)、
ε…第2のビーム整形器の作用軸(主走査方向)、ω…
マルチビーム半導体レーザーと主走査方向のなす角(η
とεのなす角)、r1 …結像スポットの長径、r2 …結
像スポットの短径、r2 ’…真円に整形された結像スポ
ットの直径、L…ビームエキスパンダーがある場合の結
像スポット間隔、L’…ビームエキスパンダーがない場
合の結像スポット間隔1. Semiconductor laser array, 2. First beam shaper,
3, 4, 5: cylindrical lens, 7: polygon scanner, 8: main imaging lens, 9: cylindrical lens, 10: photoconductor, 11: light source unit, 12: second beam shaper, 13: main scanning direction , 14 ... sub-scanning direction, 15 ...
Support for light source unit, 20: aperture, 21: semiconductor laser, 22: collimator, 23: aperture, 2
4 imaging lens, 25 photoreceptor surface, I 1 , I 2 scanning line, θ 1 divergence angle of laser beam in horizontal direction to semiconductor laser junction surface, θ 2 vertical direction to semiconductor laser junction surface The divergence angle of the laser beam, θ a … the divergence angle of the laser beam light source, θ b … the convergence angle of the laser beam on the image plane, f 1 … the focal length of the collimator lens, f
2 : focal length of the imaging lens, D: diameter of the laser beam, d: diameter of the imaging spot, η: working axis of the first beam shaper (array direction of the semiconductor laser array),
ε: working axis (main scanning direction) of the second beam shaper, ω:
The angle between the multi-beam semiconductor laser and the main scanning direction (η
And the angle of the epsilon), r 1 ... imaging major axis of the spot, the short diameter of r 2 ... imaging spot, r 2 '... imaging spots of a diameter which is shaped into a true circle, when there is a L ... beam expander Focusing spot spacing, L ': Focusing spot spacing without beam expander
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41J 2/44 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) B41J 2/44
Claims (3)
主走査方向に対して傾斜させて配列したマルチビームレ
ーザー記録装置において、該マルチビームレーザー記録
装置の走査光学系は、少なくとも、複数のレーザービー
ムを放出するレーザーアレイと、該レーザーアレイから
の複数のレーザービームが照射されるコリメーター光学
系と、該コリメーター光学系からのレーザービームを断
面真円状のレーザービームに変換する第1のビーム整形
器と、該第1のビーム整形器からのレーザービームを、
その作用軸が主走査方向に一致するように固定されてい
る、断面楕円状のレーザービームに変換する第2のビー
ム整形器とを備えていることを特徴とするマルチビーム
レーザー記録装置。1. A multi-beam laser recording apparatus in which a plurality of laser spots are arranged on a photoreceptor surface so as to be inclined with respect to a main scanning direction, the scanning optical system of the multi-beam laser recording apparatus includes at least a plurality of laser beams. Array that emits light, a collimator optical system that is irradiated with a plurality of laser beams from the laser array, and a first beam that converts the laser beam from the collimator optical system into a laser beam having a perfectly circular cross section A shaper and a laser beam from the first beam shaper;
Its working axis is fixed so that it coincides with the main scanning direction.
A second beam shaper for converting the laser beam into a laser beam having an elliptical cross section.
光学系と前記第1のビーム整形器とを一体に設けるとと
もに、この一体化された部分を前記第2のビーム整形器
に対して回転可能としたことを特徴とする請求項1記載
のマルチビームレーザー記録装置。2. The laser array, the collimator optical system, and the first beam shaper are integrally provided, and the integrated portion is rotatable with respect to the second beam shaper. The multi-beam laser recording apparatus according to claim 1, wherein:
主走査方向とのなす角度をωとする時に、前記角度ωが
次式により定められたことを特徴とする請求項1記載の
マルチビームレーザー記録装置 【数1】 ただし、λはレーザービームの波長、Aは光学系の開口
によって決まるアポダイゼーション係数でA≧1の実
数、rはレーザーアレイの間隔、kはスポット補正係数
で1.4≦k≦1.8、πは円周率、θ1 はレーザービ
ームのアレイ配列方向の広がり角。3. The multi-beam laser recording according to claim 1, wherein the angle ω is defined by the following equation, where ω is the angle between the array direction of the laser array and the main scanning direction. Apparatus (Equation 1) Here, λ is the wavelength of the laser beam, A is an apodization coefficient determined by the aperture of the optical system and is a real number of A ≧ 1, r is the distance between laser arrays, k is a spot correction coefficient, 1.4 ≦ k ≦ 1.8, π Is the pi, and θ1 is the spread angle of the laser beam in the array direction.
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