JP3210498U - 内視鏡装置のプロセッサ - Google Patents

Abstract

【課題】高周波処置具を使用する内視鏡作業時においても、電磁ノイズの影響を抑える内視鏡装置のプロセッサを提供する。【解決手段】プロセッサ１００の側面１００Ｓに、凹部２１０を形成し、絶縁部材２３０に挿通された帰還端子３５を凹部２１０に設置する。帰還端子３５の先端面３５Ｔは、プロセッサ１００の側面１００Ｓから突出しておらず、側面１００Ｓよりもプロセッサ内部側に位置する。【選択図】図２

Description

本考案は、スコープ（内視鏡）を使って体内器官などの被写体を撮像し、処置等を行う内視鏡装置に関し、特に、高周波処置具を使用可能な内視鏡装置のプロセッサに関する。

内視鏡装置では、内視鏡作業中に鉗子やメスなどを使って患部切除や止血など行うことができる。例えば、高周波電流を流す高周波電気メスをスコープの挿通用チャネルに通し、スコープ先端部からメス先端部を出して患部切除などを行う。

このような高周波処置具を使用する場合、スコープの挿入部に設けられた金属部材に誘導電流が流れるやすくなり、誘導電流によって撮影画像にノイズが発生する。これを防ぐため、スコープのコネクタ部分に帰還端子が設けられている。帰還端子は、ケーブルさらにはコンデンサボックスを介して、内視鏡プロセッサ筐体面に設けられたグラウンド端子と接続されている。これによって、誘導電流がアースに逃がれる（例えば、特許文献１参照）。

特開２００４−１３０１２６号公報

スコープのコネクタ部に帰還端子を設けた場合、洗浄時などにおいて内視鏡挿入部が接触し、破損する恐れがある。また、鉗子などの金属部材が作業時に接触すると、意図しない電流が流れてしまう。

したがって、内視鏡作業の障害とならないように、帰還端子を設置することが求められる。

本考案の内視鏡装置のプロセッサは、高周波電流を用いる高周波処置具を挿通可能なスコープが着脱自在に接続され、プロセッサ筐体面に形成される凹部と、凹部に設置される帰還端子とを備え、帰還端子が、プロセッサ筐体面から突出していない。帰還端子は、例えば凹部の中心部に設けられる。また、帰還端子を覆うカバー部材をさらに設けることができる。

あるいは他の態様における本考案の内視鏡装置のプロセッサは、高周波電流を用いる高周波処置具を挿通可能なスコープが着脱自在に接続され、プロセッサ筐体面から突出する帰還端子と、帰還端子を囲む環状の第１絶縁部材とを備え、帰還端子が、第１絶縁部材から突出していない。例えば帰還端子は、第１絶縁部材の中心部に設けられる。また、帰還端子を覆うカバー部材をさらに設けることができる。

例えば、帰還端子は、コンデンサボックスを介して、プロセッサに設けられたグラウンド端子と接続される。帰還端子は、スコープの挿入部に設けられた金属部材に対し、スコープ内に設けられた金属基材および帰還配線と、プロセッサ内に設けられた中継配線とを介して、電気的に接続されるように構成することができる。このような内視鏡装置のプロセッサにより、帰還端子にオペレータあるいは処置具が接触するのを防ぐことができる。

絶縁性を確保するため、帰還端子周囲には、帰還端子が挿通される環状の第２絶縁部材を設けることができる。例えば第２絶縁部材の径方向幅は、規格に従って４ｍｍ以上に定めればよい。

オペレータが帰還端子に配線接続しやすいようにするため、例えば凹部が、プロセッサ筐体面端から離れて形成される。あるいは、凹部の製造を容易にするため、凹部の端部が、プロセッサ表面端と一致するようにしてもよい。また、スコープ接続の障害とならないようにするため、凹部は、スコープのコネクタ部分と向かい合うプロセッサ筐体面とは異なるプロセッサ筐体面に形成することができる。

このように本考案によれば、高周波処置具を使用する内視鏡作業時においても、電磁ノイズの影響を抑えることができる。

第１の実施形態における内視鏡システムのブロック図である。 プロセッサの平面図である。 帰還端子設置個所の変形例を示したプロセッサの平面図である。 第２の実施形態におけるプロセッサの平面図である。

以下では、図面を参照して本実施形態である内視鏡装置について説明する。

図１は、第１の実施形態における内視鏡システムのブロック図である。

内視鏡システム１０は、プロセッサ１００、スコープ２００を備えた内視鏡装置と、高周波処置具４００、高周波電源５００を備え、プロセッサ１００にはモニタ３００が接続されている。

スコープ２００は、体内に挿入される挿入部２１、オペレータに操作される操作部２３、ユニバーサルチューブ２５、コネクタ部２７などを備え、挿入部２１の先端部２１ａには、撮像素子および光学系（いずれも図示せず）が配置されている。また、スコープ２００内には、照明光をプロセッサ側からスコープ先端側へ導くライトガイド（図示せず）が設けられている。

スコープ２００は、コネクタ部２７を介してプロセッサ１００に着脱自在に接続されている。プロセッサ１００は、光源装置を備えるとともに画像処理装置を備え、先端部２１ａの撮像素子から読み出される画素信号に基づいてカラーの画像信号を生成する。これによって、観察画像がモニタ３００に表示される。

可撓性をもつ挿入部２１の表面は、樹脂材料などで成形された保護チューブによって被覆されている。また挿入部２１には、金属部材２１ｃが操作部２３内の金属基材２３ｃから先端部２１ａ付近まで延びている。

高周波処置具４００は、ここでは高周波電気メスであり、高周波電源５００から高周波電流が供給される。内視鏡作業時、オペレータは、高周波処置具４００をスコープ２００に設けられた処置具チャネル２９に挿入し、観察画像を見ながら高周波処置具４００を操作して患部切断などを行う。

高周波処置具４００はモノポーラタイプの処置具であり、患者に対して患者対極板４１が貼り付けられる。高周波処置具４００が体内組織に触れると、高周波処置具４００に供給されている電流が患者の体を介して患者対極板４１に流れる。これによって、高周波処置具４００からジュール熱が発生し、患部処置が行われる。

操作部２３の金属基材２３ｃは、帰還配線３１を介してコネクタ部２７と接続されている。スコープ２００がプロセッサ１００に接続されると、帰還配線３１は、コネクタ部２７を介して中継配線３３と接続される。プロセッサ１００には、帰還端子３５が設けられており、帰還端子３５は中継配線３３と接続されている。したがって、スコープ２００がプロセッサ１００に接続されると、スコープ２００の挿入部２１に設けられた金属部材２１ｃが帰還端子３５と電気的に接続される。

帰還端子３５には、コンデンサボックス３７が接続されている。コンデンサボックス３７から延びる一方の配線３７ａが帰還端子３５と接続し、他方の配線３７ｂがグラウンド端子３９に接続されている。グラウンド端子３９は、フレームグラウンドＦＧに接続されている。

高周波処置具４００の使用によってジュール熱が発生すると、電磁ノイズが発生し、金属部材２１ｃに高周波の誘導電流を発生させる場合がある。このとき、金属部材２１ｃがコンデンサボックス３７を介して接地する。すなわち、金属部材２１ｃがフレームグラウンドＦＧにＡＣ結合することにより、高周波電流をプロセッサ１００のフレームグラウンドＦＧに逃すことができる。

次に、図２を用いて、帰還端子の設置構成について説明する。

図２は、プロセッサの平面図である。図２では、プロセッサの帰還端子周囲の構成を、帰還端子先端面側（Ａ）および先端面横方向（Ｂ）から概略的に示している。

プロセッサ１００の側面１００Ｓには、側面１００Ｓからプロセッサ内部側にへこんだ矩形状の凹部２１０が形成されている。側面１００Ｓは、スコープ２００のコネクタ部２７が接続される筐体面とは異なる筐体面であり、側面隅近くで側面端から離れた箇所に形成されている。

凹部２１０の底面２１５は側面１００Ｓと平行な底面であり、帰還端子３５は底面２１５の中心部、すなわち凹部２１０の中心部に設置され、底面２１５に垂直な方向に沿って延びている。なお、図１では、便宜上、帰還端子３５を図２のように示していない。

凹部２１０の底面２１５には、中央部に窪み部分が形成されており、樹脂製である環状の絶縁部材（第２絶縁部材）２３０がその窪み部分に固定されている。帰還端子３５は絶縁部材２３０に挿通された状態で、凹部２１０に固定されている。絶縁部材２３０は、凹部２１０の端部２１０Ｔから所定距離間隔離れているとともに、絶縁部材２３０の径方向幅は、規格に従って所定距離間隔（ここでは４ｍｍ以上）に定められている。

帰還端子３５の先端面３５Ｔは、プロセッサ１００の側面１００Ｓから突出しておらず、側面１００Ｓよりもプロセッサ内部側に位置する。凹部２１０の高さＨは、帰還端子３５が凹部２１０に収容されるように凹部２１０の高さ以下に定められており、凹部２１０のサイズに合わせた矩形状のカバー部材２５０によって、凹部２１０を覆うことができる。

このように帰還端子３５をプロセッサ１００の凹部２１０に配置することにより、医師などのオペレータ、あるいは鉗子といった金属製処置具などが、帰還端子３５に接触するのを防ぐことができる。

なお、図３に示すように、凹部２１０をプロセッサ１００の側面端１００Ｔに沿って形成してもよい。この場合、凹部２１０の１つの端部２１０Ｔがプロセッサ側面端１００Ｔと一致する。

次に、図４を用いて第２の実施形態である内視鏡システムについて説明する。第２の実施形態では、帰還端子周囲を囲む絶縁部材を設ける。

図４は、第２の実施形態におけるプロセッサの平面図である。

帰還端子３５を保持する絶縁部材２３０は、プロセッサ１００の側面１００Ｓに形成された円状窪み部に接着固定されており、帰還端子３５が絶縁部材２３０に挿通され、側面１００Ｓに固定されている。そして、絶縁部材２３０の周囲には、環状の絶縁部材（第１絶縁部材）３３０が配置されている。絶縁部材３３０は、側面１００Ｓに形成された環状の窪み部に対して接着固定されており、帰還端子３５は、絶縁部材３３０の中心部に位置する。なお、接着固定の代わりにねじ込み固定するようにしてもよい。

帰還端子３５は、絶縁部材３３０から突出していない。絶縁部材３３０の側面１００Ｓからの高さＨ１は、帰還端子３５の先端面３５Ｔが絶縁部材３３０の端面３３０Ｔの高さ以下に定められている。これによって、オペレータあるいは金属処置具などが帰還端子３５に接触するのを防ぐことができる。また、絶縁部材３３０のサイズに合わせた円板状のカバー部材３５０は、絶縁部材３３０全体を覆うように絶縁部材３３０に嵌まることができる。

凹部２１０、絶縁部材２３０、絶縁部材３３０の形状、サイズは任意であり、コネクタボックスを介さずに帰還端子３５をグラウンドに接地させてもよい。

３５ 帰還端子
１００ プロセッサ
１００Ｓ プロセッサ側面（プロセッサ筐体面）
２００ スコープ
２１０ 凹部
２３０ 絶縁部材（第２絶縁部材）
３３０ 絶縁部材（第１絶縁部材）
４００ 高周波処置具

Claims (12)

1. 高周波電流を用いる高周波処置具を挿通可能なスコープが着脱自在に接続され、
   プロセッサ筐体面に形成される凹部と、
   前記凹部に設置される帰還端子とを備え、
   前記帰還端子が、プロセッサ筐体面から突出していないことを特徴とする内視鏡装置のプロセッサ。
2. 高周波電流を用いる高周波処置具を挿通可能なスコープが着脱自在に接続され、
   プロセッサ筐体面から突出する帰還端子と、
   前記帰還端子を囲む環状の第１絶縁部材とを備え、
   前記帰還端子が、前記第１絶縁部材から突出していないことを特徴とする内視鏡装置のプロセッサ。
3. 前記帰還端子が挿通される環状の第２絶縁部材をさらに備えることを特徴とする請求項１または２に記載の内視鏡装置のプロセッサ。
4. 前記第２絶縁部材の径方向幅が、４ｍｍ以上であることを特徴とする請求項３に記載の内視鏡装置のプロセッサ。
5. 前記帰還端子が、前記凹部の中心部に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の内視鏡装置のプロセッサ。
6. 前記帰還端子が、前記第１絶縁部材の中心部に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の内視鏡装置のプロセッサ。
7. 前記凹部が、プロセッサ筐体面端から離れて形成されていることを特徴とする請求項１に記載の内視鏡装置のプロセッサ。
8. 前記凹部の端部が、プロセッサ表面端と一致することを特徴とする請求項１に記載の内視鏡装置のプロセッサ。
9. 前記凹部が、前記スコープのコネクタ部分と向かい合うプロセッサ筐体面とは異なるプロセッサ筐体面に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の内視鏡装置のプロセッサ。
10. 前記帰還端子を覆うカバー部材をさらに備えることを特徴とする請求項１または２に記載の内視鏡装置のプロセッサ。
11. 前記帰還端子が、コンデンサボックスを介して、前記プロセッサに設けられたグラウンド端子と接続されていることを特徴とする請求項１または２に記載の内視鏡装置のプロセッサ。
12. 前記帰還端子が、前記スコープの挿入部に設けられた金属部材に対し、前記スコープ内に設けられた金属基材および帰還配線と、前記プロセッサ内に設けられた中継配線とを介して、電気的に接続されていることを特徴とする請求項１または２に記載の内視鏡装置のプロセッサ。

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