JP3210187B2 - Scanning method of scanning probe microscope - Google Patents

Scanning method of scanning probe microscope

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JP3210187B2 JP22666894A JP22666894A JP3210187B2 JP 3210187 B2 JP3210187 B2 JP 3210187B2 JP 22666894 A JP22666894 A JP 22666894A JP 22666894 A JP22666894 A JP 22666894A JP 3210187 B2 JP3210187 B2 JP 3210187B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、走査型トンネル顕微
鏡、原子間力顕微鏡等の走査型プローブ顕微鏡の走査方
式に関し、特に、広範囲の試料表面にわたって原子レベ
ルの像を得るための走査方式に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a scanning system for a scanning probe microscope such as a scanning tunnel microscope and an atomic force microscope, and more particularly to a scanning system for obtaining an atomic level image over a wide range of sample surfaces.

【0002】[0002]

【従来の技術】探針を利用する顕微鏡には、走査型トン
ネル顕微鏡(STM)、原子間力顕微鏡(AFM)、そ
の他がある。STMもAFMも原子レベルの分解能
(0.1nm以下)があることが知られている。STM
は、探針先端と試料間のトンネル電流が間隙の大きさに
非常に敏感であることを利用し、深針を試料表面に沿う
X、Y方向に走査しながらトンネル電流が一定になるよ
うに探針の高さ(Z方向)を制御することにより、表面
の凹凸像を得るものある。また、AFMは、マイクロビ
ーム(微小な梁)の先端と試料表面間に働く原子間力に
より変形したマイクロビームの微小変形を光学的方法な
いしマイクロビームに従属したSTMにより検出しなが
ら、マイクロビームの変形が一定になるようにZ方向の
位置を補正しながら、試料又はマイクロビームをX、Y
方向に走査することにより、試料の表面形状を得るもの
である。上記の何れの顕微鏡においても、プローブの走
査とその方向の位置制御には、一般的に圧電体が用いら
れている。
2. Description of the Related Art Microscopes using a probe include a scanning tunneling microscope (STM), an atomic force microscope (AFM), and others. It is known that both STM and AFM have an atomic level resolution (0.1 nm or less). STM
Utilizes the fact that the tunnel current between the tip of the probe and the sample is very sensitive to the size of the gap, so that the tunnel current is kept constant while scanning the deep needle in the X and Y directions along the sample surface. In some cases, by controlling the height (Z direction) of the probe, an uneven image of the surface is obtained. In addition, the AFM detects the micro-deformation of the micro-beam deformed by the atomic force acting between the tip of the micro-beam (micro-beam) and the sample surface by an optical method or an STM dependent on the micro-beam, and detects the micro-beam. While correcting the position in the Z direction so that the deformation becomes constant, the sample or microbeam is
The surface shape of the sample is obtained by scanning in the direction. In any of the microscopes described above, a piezoelectric body is generally used for scanning the probe and controlling the position in the direction.

【0003】ここで、STMの概略の構成を図6に示
す。図中、42は試料、43は探針、44はヘッド、4
6はZ軸方向圧電素子、48はX軸方向圧電素子、49
はY軸方向圧電素子、45と47は絶縁板、51は電
極、52はXY走査回路、53はサーボ回路、54はト
ンネル電流電圧変換回路、55はバイアス電源、56は
マイクロコンピュータ、57はメモリ、58は表示装置
を示す。
FIG. 6 shows a schematic configuration of the STM. In the figure, 42 is a sample, 43 is a probe, 44 is a head,
6 is a Z-axis direction piezoelectric element, 48 is an X-axis direction piezoelectric element, 49
Is a Y-axis direction piezoelectric element, 45 and 47 are insulating plates, 51 is an electrode, 52 is an XY scanning circuit, 53 is a servo circuit, 54 is a tunnel current voltage conversion circuit, 55 is a bias power supply, 56 is a microcomputer, and 57 is a memory. , 58 indicate a display device.

【0004】図6において、STMユニットは、ヘッド
44に探針43が装着され、ヘッド44が絶縁板45、
47及び圧電素子46、48、49により支持されてい
る。圧電素子46、48、49は、X軸、Y軸、Z軸か
らなる3次元アクチュエータを構成し、圧電素子46が
Z軸、圧電素子48がX軸、圧電素子49がY軸を駆動
するものである。3次元アクチュエータを構成する圧電
素子46、48、49のそれぞれ両側に配置された電極
51には駆動電圧が印加される。3次元アクチュエータ
の制御には、XY走査回路52によりX軸、Y軸方向圧
電素子48、49に対する印加電圧を掃引することによ
り探針43をX軸、Y軸方向に移動させて2次元走査
し、この走査をしながらトンネル電流が一定になるよう
にサーボ回路53を通してZ軸方向圧電素子46に対す
る電圧を制御する。そこで、その制御電圧値をマイクロ
コンピュータ56により探針43の走査に同期してサン
プリングしてメモリ57に記憶しながら表示装置58に
表示することによって、試料42の表面形状(凹凸像)
を観察することができるものである。
In FIG. 6, a probe 43 is mounted on a head 44 of an STM unit.
47 and piezoelectric elements 46, 48, 49. The piezoelectric elements 46, 48, and 49 constitute a three-dimensional actuator including an X axis, a Y axis, and a Z axis. The piezoelectric element 46 drives the Z axis, the piezoelectric element 48 drives the X axis, and the piezoelectric element 49 drives the Y axis. It is. A driving voltage is applied to the electrodes 51 disposed on both sides of the piezoelectric elements 46, 48, and 49 constituting the three-dimensional actuator. To control the three-dimensional actuator, the probe 43 is moved in the X-axis and Y-axis directions by sweeping the voltage applied to the piezoelectric elements 48 and 49 in the X-axis and Y-axis directions by the XY scanning circuit 52 to perform two-dimensional scanning. The voltage to the Z-axis direction piezoelectric element 46 is controlled through the servo circuit 53 so that the tunnel current becomes constant while performing this scanning. Therefore, the control voltage value is sampled by the microcomputer 56 in synchronization with the scanning of the probe 43 and is displayed on the display device 58 while being stored in the memory 57, so that the surface shape (concavo-convex image) of the sample 42 is obtained.
Can be observed.

【0005】上記したように、STM及びAFMは、原
子レベルの分解能が得られることが知られているが、探
針の最大走査範囲(200nm〜100μm)で走査を
行うと、原子レベルの分解能を得ることは不可能であ
る。なぜなら、通常、このような走査型プローブ顕微鏡
の縦横の分解能は、メモリの容量の関係から、最大51
2(9bit)×512(9bit)程度の画素で構成
されるため、200nmの最大走査範囲で走査を行う
と、2画素間の距離は約0.4nmとなり、原子1個の
大きさよりも大きくなってしまうためである。したがっ
て、通常、原子レベルでの像を得る場合は、走査範囲を
小さくして走査する必要がある。
As described above, it is known that the STM and the AFM can obtain an atomic level resolution. However, when scanning is performed in the maximum scanning range (200 nm to 100 μm) of the probe, the atomic level resolution is reduced. It is impossible to get. Because, usually, the vertical and horizontal resolution of such a scanning probe microscope is a maximum of 51 due to the capacity of the memory.
Since it is composed of pixels of about 2 (9 bits) × 512 (9 bits), when scanning is performed in the maximum scanning range of 200 nm, the distance between the two pixels is about 0.4 nm, which is larger than the size of one atom. This is because Therefore, in general, when obtaining an image at the atomic level, it is necessary to scan with a reduced scanning range.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従来、試料表明の広範
囲にわたって原子レベルの像を得ようとする場合は、原
子レベルでの分解能が得られる程度(最大50nm程
度)まで走査範囲を小さくして走査を行い、次に、試料
を移動させて観察視野を移動させ、再度同様の走査を行
うことを繰り返して、最後に得られた画像をつなぎ合わ
せることにより行っている。
Conventionally, when an atomic level image is to be obtained over a wide range of the sample expression, the scanning range is reduced to such an extent that the resolution at the atomic level can be obtained (up to about 50 nm). Then, the observation field of view is moved by moving the sample, and the same scanning is repeated again, thereby joining the images obtained last.

【0007】このような方法では、1つの走査範囲につ
いて走査を行って、次の走査範囲を決定するには、オペ
レータがパラメータ等の設定を行う必要があり、多くの
時間と労力が必要となっている。このための時間がかか
ると、この間に試料がドリフトして安定した観察ができ
ない等が問題となってくる。
In such a method, in order to scan one scanning range and determine the next scanning range, it is necessary for the operator to set parameters and the like, which requires much time and labor. ing. If it takes a long time for this, there arises a problem that the sample drifts during this time and stable observation cannot be performed.

【0008】本発明はこのような従来技術の問題点を解
決するためになされたものであり、その目的は、ST
M、AFM等の走査型プローブ顕微鏡の探針の最大走査
範囲内をいくつかの部分領域に分けて順次走査を行い、
得られた画像をつなぎ合わせることによって探針の最大
走査範囲内で原子レベルの高分解能を持った画像を得る
走査方式を提供することである。
The present invention has been made to solve such problems of the prior art.
M, AFM, etc. are divided into several partial areas within the maximum scanning range of the probe of the scanning probe microscope, and sequentially scanned.
An object of the present invention is to provide a scanning method for obtaining an image having an atomic-level high resolution within the maximum scanning range of the probe by joining the obtained images.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の走査型プローブ顕微鏡の走査方式は、試料表面に沿
って圧電素子により深針を走査させることによって試料
表面の凹凸に関する信号を得る走査型プローブ顕微鏡に
おいて、前記圧電素子に、前記探針の最大走査範囲をn
分した部分領域を順次変更させるためのオフセット信号
と、このオフセット信号が1つの部分領域にある間に、
その部分領域内を走査するための走査信号とを重畳して
印加するようにしたことを特徴とするものである。
According to the scanning method of the scanning probe microscope of the present invention which achieves the above object, a scanning method for obtaining a signal relating to irregularities on a sample surface by scanning a deep needle with a piezoelectric element along the sample surface. In the scanning probe microscope, the maximum scanning range of the probe is
An offset signal for sequentially changing the divided partial areas, and while this offset signal is in one partial area,
A scanning signal for scanning the partial area is superimposed and applied.

【0010】この場合、部分領域が隣接する部分領域と
一部重なるように、オフセット信号及び走査信号の少な
くとも一方の値が設定されるようにしてもよい。
In this case, the value of at least one of the offset signal and the scanning signal may be set so that the partial area partially overlaps the adjacent partial area.

【0011】[0011]

【作用】本発明においては、探針を走査する圧電素子
に、探針の最大走査範囲をn分した部分領域を順次変更
させるためのオフセット信号と、このオフセット信号が
1つの部分領域にある間に、その部分領域内を走査する
ための走査信号とを重畳して印加するようにしたので、
部分領域で原子レベルの高分解能が得られるようにな
る。この部分領域の画像をつなぎ合わせることにより最
大走査範囲全域で高分解能が得られることになる。ま
た、このように最大走査範囲を分割して所定の順で各部
分領域の画像を得るので、取り込んだ画像のつなぎ合わ
せが自動化でき、マニュアルでの調整、設定が必要でな
くなり、短時間で探針の最大走査範囲内で原子レベルの
高分解能を持った画像を得ることができる。
According to the present invention, there is provided an offset signal for causing the piezoelectric element for scanning the probe to sequentially change a partial area obtained by dividing the maximum scanning range of the probe by n, and a method of controlling the offset signal while the offset signal is present in one partial area. And a scanning signal for scanning the partial area is superimposed and applied.
High resolution at the atomic level can be obtained in a partial region. By connecting the images of the partial areas, a high resolution can be obtained over the entire maximum scanning range. Further, since the image of each partial area is obtained in a predetermined order by dividing the maximum scanning range in this manner, the joining of the captured images can be automated, and manual adjustment and setting are not required, and the search can be performed in a short time. An image with atomic-level high resolution can be obtained within the maximum scanning range of the needle.

【0012】[0012]

【実施例】本発明の基本原理は、図2に示すように、走
査型プローブ顕微鏡の探針の最大走査範囲を自動的にn
等分して、その部分領域を順次走査して、得られた各画
像をつなぎ合わせことによって探針の最大走査範囲内で
原子レベルの高分解能を持った画像を得るようにするこ
とである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The basic principle of the present invention is that, as shown in FIG. 2, the maximum scanning range of the probe of the scanning probe microscope is automatically set to n.
That is, the partial area is sequentially scanned, and the obtained images are joined together to obtain an image having a high resolution at the atomic level within the maximum scanning range of the probe.

【0013】以下、STMを例にあげて説明するが、A
FMについても同様である。図1に1実施例のSTMの
概略の構成を示すが、図6に示した従来例と異なる点
は、XY走査回路52から出力されるX方向、Y方向駆
動信号として、後記するようなXオフセット信号、X
走査信号、Yオフセット信号、Y走査信号の4つ
の信号が出力されること、及び、この中、Xオフセット
信号とX走査信号が図のような加算回路11により
重畳されてX軸方向圧電素子48に印加されること、Y
オフセット信号とY走査信号が図のような加算回路
12により重畳されてY軸方向圧電素子49に印加され
ることだけであり、その他の点では同じである。
Hereinafter, the STM will be described as an example.
The same applies to FM. FIG. 1 shows a schematic configuration of an STM according to one embodiment. The difference from the conventional example shown in FIG. 6 is that the X-direction and Y-direction drive signals output from the XY scanning circuit 52 are X-direction and X-direction drive signals as described later. Offset signal, X
A scan signal, a Y offset signal, and a Y scan signal are output, and among these, the X offset signal and the X scan signal are superimposed by an adder circuit 11 as shown in the figure to form an X-axis direction piezoelectric element 48. , Y
The only difference is that the offset signal and the Y scanning signal are superimposed by the adding circuit 12 as shown in the figure and applied to the Y-axis direction piezoelectric element 49, and the other points are the same.

【0014】そして、上記XY走査回路52からは、図
3に例示するような波形のXオフセット信号、X走査
信号、Yオフセット信号、Y走査信号が出力され
る。ただし、この例の場合は、X方向、Y方向それぞれ
を3等分する場合で、信号電圧1は分割された3等分の
1辺を走査するのに必要な電圧とする。
The XY scanning circuit 52 outputs an X offset signal, an X scanning signal, a Y offset signal, and a Y scanning signal having waveforms as illustrated in FIG. However, in the case of this example, the X direction and the Y direction are each divided into three equal parts, and the signal voltage 1 is a voltage necessary to scan the divided one-third side.

【0015】すなわち、XY走査回路52から出力され
るXオフセット信号、Yオフセット信号は、最大走
査範囲をそれぞれの方向にn等分した最大走査範囲内の
部分領域を順次変更させるための信号である。そして、
XY走査回路52から出力されるX走査信号、Y走査
信号は、Xオフセット信号、Yオフセット信号が
1つの部分領域にある間に、その部分領域内を2次元掃
引走査するための信号であり、従来と同様のものであ
る。したがって、各部分領域の走査範囲は最大走査範囲
に比べて1辺方向にn分の1になるため、サーボ回路5
3を通してZ軸方向圧電素子46に印加される制御電圧
値のサンプリング点の間隔はその分だけ小さくでき、分
解能が上がることになる。
That is, the X offset signal and the Y offset signal output from the XY scanning circuit 52 are signals for sequentially changing the partial area within the maximum scanning range obtained by equally dividing the maximum scanning range into n parts in each direction. . And
The X-scanning signal and the Y-scanning signal output from the XY scanning circuit 52 are signals for performing two-dimensional sweep scanning in the partial area while the X-offset signal and the Y-offset signal are in one partial area. It is the same as the conventional one. Therefore, the scanning range of each partial area becomes 1 / n in one side direction compared to the maximum scanning range.
The interval between the sampling points of the control voltage value applied to the Z-axis direction piezoelectric element 46 through 3 can be reduced accordingly, and the resolution increases.

【0016】図4(a)は図3のXオフセット信号と
X走査信号を合成した波形図、図4(b)は図3のY
オフセット信号とY走査信号を合成した波形図であ
り、このような探針駆動信号による走査により得られる
各部分領域の凹凸画像は、マイクロコンピュータ56を
介して順にメモリ57に取り込まれ、全べての部分領域
の走査が完了した時点で、それらの画像信号はマイクロ
コンピュータ56でつなぎ合わされ、表示装置58に表
示される。このようにして、図4(c)に示すように、
全体の観察領域が探針の最大走査範囲へ広がり、かつ、
その全範囲で、探針の最大走査範囲内を一度に走査して
得られる分解能よりn倍高い例えば原子レベルの高分解
能が得られる。
FIG. 4A is a waveform diagram in which the X offset signal and the X scanning signal shown in FIG. 3 are combined, and FIG.
FIG. 9 is a waveform diagram in which an offset signal and a Y scanning signal are synthesized. The uneven images of each partial region obtained by scanning with such a probe driving signal are sequentially taken into a memory 57 via a microcomputer 56, and When the scanning of the partial area is completed, those image signals are connected by the microcomputer 56 and displayed on the display device 58. In this way, as shown in FIG.
The entire observation area extends to the maximum scanning range of the probe, and
In the entire range, a high resolution, for example, an atomic level, which is n times higher than the resolution obtained by scanning the maximum scanning range of the probe at a time, can be obtained.

【0017】ところで、走査装置の特性により、実際に
走査を行った部分領域の画像をつなぎ合わせて表示を行
った場合に、画像が不連続になったり、また、一部で重
なって走査が行われることが考えられる。これを防ぐた
めに、図5に示すように、各部分領域の走査範囲を若干
広げて走査範囲が隣接する部分領域と一部重複するよう
に走査し、表示の時にその重複部を重複させて表示する
ようにしてもよい。このような重複のある走査をするに
は、オフセット信号、又は走査信号、の少なく
とも一方の電圧値、振幅を調整すればよい。
By the way, due to the characteristics of the scanning device, when the images of the partial areas actually scanned are connected and displayed, the images become discontinuous or partially overlapped. It can be considered. In order to prevent this, as shown in FIG. 5, the scanning range of each partial area is slightly widened and scanning is performed so that the scanning range partially overlaps with the adjacent partial area, and the overlapped portion is overlapped during display. You may make it. To perform such overlapping scanning, the voltage value and the amplitude of at least one of the offset signal and the scanning signal may be adjusted.

【0018】以上、本発明の走査型プローブ顕微鏡の走
査方式をいくつかの実施例に基づいて説明してきたが、
本発明はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能で
ある。
The scanning method of the scanning probe microscope of the present invention has been described based on several embodiments.
The present invention is not limited to these embodiments, and various modifications are possible.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の走査型プローブ顕微鏡の走査方式によると、探針を走
査する圧電素子に、探針の最大走査範囲をn分した部分
領域を順次変更させるためのオフセット信号と、このオ
フセット信号が1つの部分領域にある間に、その部分領
域内を走査するための走査信号とを重畳して印加するよ
うにしたので、部分領域で原子レベルの高分解能が得ら
れるようになる。この部分領域の画像をつなぎ合わせる
ことにより最大走査範囲全域で高分解能が得られること
になる。また、このように最大走査範囲を分割して所定
の順で各部分領域の画像を得るので、取り込んだ画像の
つなぎ合わせが自動化でき、マニュアルでの調整、設定
が必要でなくなり、短時間で探針の最大走査範囲内で原
子レベルの高分解能を持った画像を得ることができる。
As is apparent from the above description, according to the scanning method of the scanning probe microscope of the present invention, the partial area obtained by dividing the maximum scanning range of the probe by n is sequentially provided on the piezoelectric element for scanning the probe. Since the offset signal for changing the offset signal and the scanning signal for scanning the partial area while the offset signal is in one partial area are superimposed and applied, the partial area has an atomic level. High resolution can be obtained. By connecting the images of the partial areas, a high resolution can be obtained over the entire maximum scanning range. Further, since the image of each partial area is obtained in a predetermined order by dividing the maximum scanning range in this manner, the joining of the captured images can be automated, and manual adjustment and setting are not required, and the search can be performed in a short time. An image with atomic-level high resolution can be obtained within the maximum scanning range of the needle.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の1実施例の走査方式を行う走査型トン
ネル顕微鏡の概略の構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a scanning tunneling microscope that performs a scanning method according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の基本原理を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a basic principle of the present invention.

【図3】図1のXY走査回路から出力される信号の波形
図である。
FIG. 3 is a waveform diagram of a signal output from the XY scanning circuit in FIG. 1;

【図4】図3のオフセット信号とX走査信号を合成した
波形図と合成画面を示す図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a waveform diagram and a synthesized screen obtained by synthesizing the offset signal and the X-scan signal of FIG. 3;

【図5】別の実施例の図4と同様な図である。FIG. 5 is a view similar to FIG. 4 of another embodiment.

【図6】従来の走査型トンネル顕微鏡の概略の構成を示
す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional scanning tunneling microscope.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11、12…加算回路 42…試料 43…探針 44…ヘッド 46…Z軸方向圧電素子 48…X軸方向圧電素子 49…Y軸方向圧電素子 45、47…絶縁板 51…電極 52…XY走査回路 53…サーボ回路 54…トンネル電流電圧変換回路 55…バイアス電源 56…マイクロコンピュータ 57…メモリ 58…表示装置 …Xオフセット信号 …X走査信号 …Yオフセット信号 …Y走査信号 11, 12 Adder circuit 42 Sample 43 Probe 44 Head Z-axis piezoelectric element 48 X-axis piezoelectric element 49 Y-axis piezoelectric element 45, 47 Insulating plate 51 Electrode 52 XY scanning Circuit 53 Servo circuit 54 Tunnel current voltage conversion circuit 55 Bias power supply 56 Microcomputer 57 Memory 58 Display device X offset signal X scanning signal Y offset signal Y scanning signal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−281002(JP,A) 特開 平1−216204(JP,A) 特開 平6−34313(JP,A) 特開 平6−160076(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 13/10 - 13/24 G12B 21/00 - 21/24 G01B 11/30 G01B 21/30 H01J 37/28 JICSTファイル(JOIS)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-63-281002 (JP, A) JP-A-1-216204 (JP, A) JP-A-6-34313 (JP, A) JP-A-6-31313 160076 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01N 13/10-13/24 G12B 21/00-21/24 G01B 11/30 G01B 21/30 H01J 37/28 JICST file (JOIS)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 試料表面に沿って圧電素子により深針を
走査させることによって試料表面の凹凸に関する信号を
得る走査型プローブ顕微鏡において、前記圧電素子に、
前記探針の最大走査範囲をn分した部分領域を順次変更
させるためのオフセット信号と、このオフセット信号が
1つの部分領域にある間に、その部分領域内を走査する
ための走査信号とを重畳して印加するようにしたことを
特徴とする走査型プローブ顕微鏡の走査方式。
1. A scanning probe microscope which obtains a signal related to irregularities on a sample surface by scanning a deep needle with a piezoelectric element along a sample surface.
An offset signal for sequentially changing a partial area obtained by dividing the maximum scanning range of the probe by n is superimposed on a scanning signal for scanning the partial area while the offset signal is in one partial area. A scanning method of a scanning probe microscope, wherein the scanning method is applied.
【請求項2】 部分領域が隣接する部分領域と一部重な
るように、前記オフセット信号及び走査信号の少なくと
も一方の値が設定されていることを特徴とする請求項1
記載の走査型プローブ顕微鏡の走査方式。
2. The method according to claim 1, wherein at least one of the offset signal and the scanning signal is set so that a partial area partially overlaps an adjacent partial area.
The scanning method of the scanning probe microscope described.
JP22666894A 1994-09-21 1994-09-21 Scanning method of scanning probe microscope Expired - Fee Related JP3210187B2 (en)

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