JP3205325B2 - 容量性圧力センサ及び容量性差圧センサ - Google Patents

容量性圧力センサ及び容量性差圧センサ

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JP3205325B2 JP2000082457A JP2000082457A JP3205325B2 JP 3205325 B2 JP3205325 B2 JP 3205325B2 JP 2000082457 A JP2000082457 A JP 2000082457A JP 2000082457 A JP2000082457 A JP 2000082457A JP 3205325 B2 JP3205325 B2 JP 3205325B2
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pressure sensor
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マリア シュミット エルケ
ヘグナー フランク
ヴェルテン トーマス
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エンヴェック メス− ウント レーゲルテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー
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    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0072Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance
    • G01L9/0075Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance using a ceramic diaphragm, e.g. alumina, fused quartz, glass

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、容量性圧力センサ
及び容量性差圧センサに関する。
【0002】
【従来の技術】通常はこのような圧力センサはセラミッ
ク、ガラス又は単結晶材料(例えばサフィア)から成る
基板及びセラミック、ガラス又は単結晶材料(例えばサ
フィア)から成るダイヤフラムを含み、このダイヤフラ
ムは基板をカバーし、このダイヤフラムとこのダイヤフ
ラムに面した基板の面との間に測定チャンバが形成され
るようにこの基板から間隔をおいて設けられる。
【0003】基板とダイヤフラムの互いに面した面には
電極が設けられ、これらの電極のうちのそれぞれ互いに
対向配置された電極がコンデンサを形成し、これらの電
極は例えばスパッタリングによってデポジットされう
る。
【0004】弾力性を有するダイヤフラムの上にこのダ
イヤフラムを変形するプロセス媒体の圧力が作用する
と、電極の間の間隔が変化し、この結果上記のコンデン
サのキャパシタンスが変化する。このキャパシタンス変
化は圧力を表す電気信号であり、この電気信号は評価電
子装置において後続処理される。
【0005】よって、例えばUS-A5050035に
は容量性圧力センサが記述されている。この容量性圧力
センサは次のものを含む。すなわち、第1の及び第2の
表面ならびに周面を有する酸化アルミニウムセラミック
から成る基板を含み、第1の表面の上に導電性材料から
なる第1の電極を含み、基板を貫通して第1の電極から
第2の表面に導かれる第1のスルーコネクションを含
み、酸化アルミニウムから成るダイヤフラムを含み、こ
のダイヤフラムは基板の上に接合材料によって接合箇所
に沿って固定されており、このダイヤフラムは第1の電
極に面した表面において第2の電極によって被覆されて
おり、この第2の電極は接合箇所を介して及びこの接合
箇所に接続された、第2の表面に導かれる第2のスルー
コネクションを介して接続されており、電極、スルーコ
ネクション及び接合材料はシルクスクリーン印刷法でデ
ポジットされた抵抗ペースト又は導電ペーストから成
る。
【0006】2つの圧力の差、以下において差圧(diff
erential pressure)と呼ぶ、を測定するためには、通
常は各々の圧力に対して測定チャンバが使用される。こ
れらの測定チャンバは互いに空間的に及び機械的に接続
されており、それぞれ少なくとも1つの測定キャパシタ
ンスを備えている。このやり方で一方の測定チャンバに
作用する圧力と他方の測定チャンバに作用する圧力との
差に相応する電気信号を発生することが可能である。
【0007】上記のシルクスクリーン印刷技術による電
極のデポジションも電極のスパッタデポジションも器具
に関して非常にコスト高である。というのも、後者は例
えば真空装置を必要とするからである。さらに、これら
両方の方法ではマスクを使用しなければならず、これら
のマスクによって電極の形式が決定される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、電極をシルクスクリーン印刷法又はスパッタリング
とは別のやり方で製造する、容量性圧力センサ乃至は容
量性差圧センサを提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題は、本発明にお
いて次の容量性圧力センサによって解決される。すなわ
ち、容量性圧力センサにおいて、この容量性圧力センサ
は次のものを含む、すなわち、第1の及び第2の表面な
らびに周面を有するセラミック、ガラス又は単結晶材料
から成る基板を含み、導電性材料からなるプレート状の
第1の電極を含み、このプレート状の第1の電極は、第
1の表面に形成される切欠部に第1の接合材料によっ
て、耐高圧に及び高真空気密に固定されており、基板を
貫通して第1の電極から第2の表面に又は周面に導かれ
るスルーコネクションを含み、セラミック、ガラス又は
単結晶材料から成るダイヤフラムを含み、このダイヤフ
ラムは基板の上に切欠部の外側に第2の接合材料によっ
て接合箇所に沿って固定されており、ダイヤフラムはそ
れ自体で第2の電極を形成するか又は第1の電極に面し
た表面において第2の電極によって被覆されており、こ
の第2の電極は接合箇所を貫通して接続されていること
によって解決される。
【0010】上記課題は、本発明において次の容量性差
圧センサによって解決される。すなわち、容量性差圧セ
ンサにおいて、この容量性差圧センサは次のものを含
む、すなわち、第1の及び第2の表面ならびに周面を有
するセラミック、ガラス又は単結晶材料から成る第1の
基板を含み、導電性材料からなるプレート状の第1の電
極を含み、このプレート状の第1の電極は、第1の表面
に形成される第1の切欠部に第1の接合材料によって、
耐高圧に及び高真空気密に固定されており、第1の基板
を貫通して第1の電極から第2の表面に又は周面に導か
れる第1のスルーコネクションを含み、第1の及び第2
の表面ならびに周面を有するセラミック、ガラス又は単
結晶材料から成る第2の基板を含み、導電性材料からな
るプレート状の第2の電極を含み、このプレート状の第
2の電極は、第2の基板の第1の表面に形成される第2
の切欠部に第1の接合材料によって、耐高圧に及び高真
空気密に固定されており、第2の基板を貫通して第2の
電極から第2の基板の第2の表面に又は第2の基板の周
面に導かれる第2のスルーコネクションを含み、セラミ
ック、ガラス又は単結晶材料から成るダイヤフラムを含
み、このダイヤフラムは第1の基板の上に第1の切欠部
の外側に第2の接合材料によって第1の接合箇所に沿っ
て固定されており、このダイヤフラムは第2の基板の上
に第2の切欠部の外側に第2の接合材料によって第2の
接合箇所に沿って固定されており、このダイヤフラムは
それ自体で第3の電極を形成するか、又は第1の電極に
面した表面において第3の電極によって被覆されてお
り、この第3の電極は第1の接合箇所を貫通して接続さ
れており、このダイヤフラムは第2の電極に面した表面
において第4の電極によって被覆されており、この第4
の電極は第2の接合箇所を貫通して接続されていること
によって解決される。
【0011】また、上記課題は、本発明の他の実施形態
において次の容量性差圧センサによって解決される。す
なわち、容量性差圧センサにおいて、この容量性差圧セ
ンサは次のものを含む、すなわち、第1の及び第2の表
面ならびに周面を有するセラミック、ガラス又は単結晶
材料から成る基板を含み、導電性材料からなるプレート
状の第1の電極を含み、このプレート状の第1の電極
は、第1の表面に形成される第1の切欠部に第1の接合
材料によって、耐高圧に及び高真空気密に固定されてお
り、導電性材料からなるプレート状の第2の電極を含
み、このプレート状の第2の電極は、第2の表面に形成
される第2の切欠部に第1の接合材料によって、耐高圧
に及び高真空気密に固定されており、基板を貫通して第
1の電極から周面に導かれる第1のスルーコネクション
を含み、基板を貫通して第2の電極から周面に導かれ
る、第1のスルーコネクションとは別個の第2のスルー
コネクションを含み、セラミック、ガラス又は単結晶材
料から成る第1のダイヤフラムを含み、この第1のダイ
ヤフラムは基板の上に第1の切欠部の外側に第2の接合
材料によって第1の接合箇所に沿って固定されており、
第1のダイヤフラムはそれ自体で第3の電極を形成する
か又は第1の電極に面した表面において第3の電極によ
って被覆されており、この第3の電極は第1の接合箇所
を貫通して接続されており、セラミック、ガラス又は単
結晶材料から成る第2のダイヤフラムを含み、この第2
のダイヤフラムは基板の上に第2の切欠部の外側に第2
の接合材料によって第2の接合箇所に沿って固定されて
おり、第2のダイヤフラムはそれ自体で第4の電極を形
成するか又は第2の電極に面した表面において第4の電
極によって被覆されており、この第4の電極は第2の接
合箇所を貫通して接続されていることによって解決され
る。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の有利な実施形態では、プ
レート状電極乃至は複数のプレート状電極は金属から成
り、この金属の熱膨張係数はセラミック乃至はガラス乃
至は単結晶材料の熱膨張係数に適合されている。
【0013】本発明の有利な実施形態では、プレート状
電極乃至は複数のプレート状電極は導電性セラミック又
は導電性ガラスから成る。
【0014】本発明の他の有利な実施形態では、導電性
セラミックはサーメットである。
【0015】本発明の他の有利な実施形態では、導電性
セラミックは分散性セラミックである。
【0016】本発明の他の有利な実施形態では、プレー
ト状電極乃至は複数のプレート状電極は炭化珪素、炭化
チタン、窒化チタン、二ホウ化チタン、二ケイ化モリブ
デン、炭化タングステン又は炭化ジルコニウムから成
る。
【0017】本発明の他の有利な実施形態では、プレー
ト状電極乃至は複数のプレート状電極は第1の接合材料
なしで焼結されている。
【0018】本発明の利点は次の点に存する。すなわ
ち、基板の(例えばスルーコネクション又はオイル充填
のための)孔部は、もはや冒頭に挙げた従来技術のよう
に耐高圧及び高真空気密である必要はない。さらに、基
板のこのような孔部の直径は従来技術の圧力センサ乃至
は差圧センサの場合よりも大きく選択でき、この結果、
これらの孔部は、比較的簡単に、例えばドライプレスに
よってこの基板の焼結されていない基板において製造す
ることができる。
【0019】
【実施例】本発明を実施例に基づいて詳しく説明する。
この実施例は図面においてスケール通りには図示されて
いない。同一の部材は全ての図面で同一の参照符号を付
けた。わかりやすくするために、既述の参照符号は省略
されていることがある。
【0020】図1には、概略的に断面図の形式で本発明
の第1の実施例に相応する容量性圧力センサ10の基板
1が図示されている。この基板1は第1の表面11及び
第2の表面12ならびに周面13を有する。
【0021】導電性材料から成るプレート状の第1の電
極14は第1の表面11に形成された切欠部15に接合
材料16によって耐高圧に及び高真空気密に固定されて
いる。
【0022】基板1を貫いて電極14から第2の表面1
2までスルーコネクション17が貫通している。このス
ルーコネクション17によって電極14は外部から電気
的にアクセスすることができる。表面12の代わりにこ
のスルーコネクション17は周面13に導かれていても
よい。
【0023】図2には、概略的に断面図の形式で容量性
圧力センサ10のためのダイヤフラム2によって補完さ
れた図1の基板1が図示されている。このダイヤフラム
2は、基板1の上に切欠部15の外部において接合箇所
18に沿って第2の接合材料26によって固定されてい
る。
【0024】このダイヤフラム2はそれ自体で第2の電
極を形成するか又は第1の電極14に面した表面におい
て第2の電極24によって被覆されている。これら両方
のケースにおいて電極24は接合箇所18を貫通して接
続されているが、これは図2では図示されていない。従
って、電極24は外部から電気的にアクセスでき、これ
らの電極14、24によって形成されるコンデンサは評
価電子装置に接続されうる。
【0025】図3には、概略的に断面図の形式で、本発
明の第2の実施例による唯一のダイヤフラム2′及び2
つの基板1′、1″を有する容量性差圧センサ10′が
図示されている。各基板1′乃至は1″はセラミック、
ガラス又は単結晶材料から成り、第1の表面11′乃至
は11″、第2の表面12′乃至は12″及び周面1
3′乃至は13″を有する。
【0026】導電性材料から成るプレート状の第1の電
極14′は第1の表面11′に形成された基板1′の切
欠部15′に第1の接合材料16′によって耐高圧に及
び高真空気密に固定されている。
【0027】「耐高圧に(High-pressure-resistan
t)」とは、本発明の目的のために、接合部が500b
arまでの圧力に耐えることができることを意味する。
「高真空気密に(high-vacuum-tight)」とは、本発明
の目的のために、接合部が10-12barの圧力を有す
る真空においても気密であることを意味する。
【0028】基板1′を貫いて電極14′から第2の表
面12′までスルーコネクション17′が貫通してい
る。このスルーコネクション17′によって電極14′
は外部から電気的にアクセスすることができる。表面1
2′の代わりにこのスルーコネクション17′は周面1
3′に導かれていてもよい。
【0029】導電性材料から成るプレート状の第2の電
極14″は第1の表面11″に形成された基板1″の切
欠部15″に第1の接合材料16′によって耐高圧に及
び高真空気密に固定されている。
【0030】基板1″を貫いて電極14″から第2の表
面12″までスルーコネクション17″が貫通してい
る。このスルーコネクション17″によって電極14″
は外部から電気的にアクセスすることができる。表面1
2″の代わりにこのスルーコネクション17″は周面1
3″に導かれていてもよい。このスルーコネクション1
7″はスルーコネクション17′と如何なる種類の電気
的接続も持たない。
【0031】このダイヤフラム2′は、基板1′の上に
切欠部15′の外部において接合箇所18′に沿って第
2の接合材料26′によって固定されている。
【0032】このダイヤフラム2′は、それ自体で第3
の電極を形成するか又は第1の電極14′に面した表面
において第3の電極34及び第2の電極14″に面した
表面において第4の電極44によって被覆されている。
【0033】このダイヤフラム2′がそれ自体で第3の
電極を形成する前者のケースでは、このダイヤフラム
2′は接合箇所18′及び/又は接合箇所18″を貫通
して接続されている。このダイヤフラム2′が第3の電
極34及び第4の電極44によって被覆されている後者
のケースでは、電極34は接合箇所18′を貫通して及
び電極44は接合箇所18″を貫通して接続されてい
る。従って、第3の電極乃至はこれらの電極34、44
は外部から電気的にアクセスすることができ、電極1
4′及び第3の電極乃至は電極14″及び第3の電極乃
至は電極14′、34乃至は14″、44によって形成
されるコンデンサは評価電子装置に接続されうる。
【0034】図4には、概略的に断面図の形式で、本発
明の第3の実施例による2つのダイヤフラム2″、2*
及び唯一の基板1*を有する容量性差圧センサが図示さ
れている。各基板1*は第1の表面11*、第2の表面1
2*ならびに周面13*を有する。
【0035】導電性材料から成るプレート状の第1の電
極14*は第1の表面11*に形成された切欠部15*に
第1の接合材料16*によって耐高圧に及び高真空気密
に固定されている。
【0036】導電性材料から成るプレート状の第2の電
極14#は第2の表面12*に形成された切欠部15#
に第1の接合材料16*によって耐高圧に及び高真空気
密に固定されている。
【0037】基板1*を貫いて電極14*から周面13*
まで第1のスルーコネクション17*が貫通しており、
さらに電極14#から周面13*まで第2のスルーコネ
クション17#が貫通している。これらのスルーコネク
ション17*及び17#によって電極14*乃至は14#
は外部から電気的にアクセスすることができる。これら
両方のスルーコネクション17*、17#は互いに電気
的に分離されている。
【0038】第1のダイヤフラム2″は、基板1*の上
に切欠部15*の外部において接合箇所18*に沿って第
2の接合材料26*によって固定されている。このダイ
ヤフラム2″は、それ自体で第3の電極を形成するか又
は第1の電極14*に面した表面において第3の電極5
4によって被覆されている。これら両方のケースのいず
れにおいても、電極54は接合箇所18*を貫通して接
続されている。従って、電極54は外部から電気的にア
クセスでき、これらの電極14*、54によって形成さ
れるコンデンサは評価電子装置に接続されうる。
【0039】第2のダイヤフラム2*は、基板1*の上に
切欠部15#の外部において接合箇所18#に沿って接
合材料26*によって固定されている。このダイヤフラ
ム2*は、それ自体で第4の電極を形成するか又は第2
の電極14#に面した表面において第4の電極64によ
って被覆されている。これら両方のケースのいずれにお
いても、電極64は接合箇所18#を貫通して接続され
ている。従って、電極64は外部から電気的にアクセス
でき、これらの電極14#、64によって形成されるコ
ンデンサは評価電子装置に接続されうる。
【0040】本発明では、基板乃至は複数の基板がセラ
ミック(例えば96重量%のAl23を有する酸化アル
ミニウムセラミック)、ガラス又は単結晶材料から成
る。ダイヤフラム乃至は複数のダイヤフラムもこれらの
材料のうちの1つから成る。
【0041】プレート状電極14、14′、14″、1
4*、14#は金属から成り、この金属の熱膨張係数は
セラミックの乃至はガラスの熱膨張係数に適合されてい
る。これには例えばルテニウム、パラジウム、オスミウ
ム、白金、タングステン、モリブデン金属のうちの1つ
だけ又はこれらの金属の合金が適当である。
【0042】基板1、1′、1″、1*の相応の切欠部
15、15′、15″、15*、15#にこのようなプ
レート状電極14、14′、14″、14*、14#を
耐高圧に及び高真空気密に固定するための第1の接合材
料16、16′、16″、16#としては、金属ろう、
例えば活性硬ろう(active brazing solder)、導電性
接着剤、プラスチック又はガラスフリットが使用でき
る。
【0043】プレート状電極14、14′、14″、1
4*、14#は他方で導電性セラミック、とりわけサー
メット、分散性セラミック、炭化珪素、炭化チタン、窒
化チタン、二ホウ化チタン、二ケイ化モリブデン、炭化
タングステン又は炭化ジルコニウム又は導電性ガラスか
ら成る。
【0044】サーメットはセラミックであり、このセラ
ミックの組織には金属微粒子が含まれている。分散性セ
ラミックの場合には、基本材料のマトリックスに、例え
ば酸化アルミニウムマトリックスに、他のセラミックの
微粒子、例えば炭化チタンが含まれている。
【0045】このような電極は、プレート状金属電極1
4、14′、14″、14*、14#において言及した
第1の接合材料16、16′、16″、16#の代わり
に相応の切欠部15、15′、15″、15*、15#
に焼結される。ここでも電極材料の選択の際に基板材料
を顧慮してこれらの材料の互いにできるだけ等しい熱膨
張係数に注意するべきである。
【0046】ダイヤフラム2、2′、2″、2*も同様
に上記の接合材料によって相応の基板に固定される。
【0047】スルーコネクション17、17′、1
7″、17*、17#は例えばそれぞれ所属の孔部に挿
入される又は焼結される金属ピンによって実現される。
しかし、これの代わりに、導電性プラスティックを使用
することもできる。
【0048】この場合、それぞれのスルーコネクション
17、17′、17″、17*、17#が、もし存在す
るならば第1の接合材料16、16′、16″、16*
を貫通し、所属のプレート状電極14、14′、1
4″、14*、14#の裏面においてほんの僅かにこの
所属のプレート状電極14、14′、14″、14*、
14#の中に入り込めば十分である。相応するダイヤフ
ラム電極に面したこの電極の表面にまで達する必要はな
い。この結果、この表面は不連続な箇所を持たない。
【0049】本発明では次のことが前提とされる。すな
わち、プレート状電極14、14′、14″、14*、
14#は基板1、1′、1″、1*の所属の表面に、こ
の電極がはめ込まれた状態においてこの表面から突出し
ないようにはめ込まれていることが前提とされる。もし
そうでない場合には、電極の突出した部分は研磨して除
去される。
【0050】図面に図示された実施例では、互いに対向
配置された電極の表面は平坦であり、前述の接合箇所乃
至は複数の接合箇所における各接合材料は、これらの所
属の電極が冒頭に挙げたコンデンサを形成できるよう
に、各ダイヤフラム2、2′、2″、2*と各基板1、
1′、1″、1*との間に予め設定され限定された間隔
を作り出すために使用される。
【0051】通常はダイヤフラム2、2′、2″、2*
及び各基板1、1′、1″、1*はリング状に接合さ
れ、この結果、密封された気密なチャンバが形成され
る。このチャンバは接合中に真空にされ、この結果、絶
対圧力センサが形成される。
【0052】相対圧力センサを製造するか又はセンサが
差圧センサである場合には、基板乃至は複数の基板にお
いてこのチャンバ乃至は複数のチャンバにまで達する各
孔部が設けられる。この結果、このチャンバは必要な場
合にはオイルで充填される。
【0053】この場合、基板における相応の孔部の直径
は、プレート状電極における所属の孔部の直径よりも大
きくてよい。この結果、基板における孔部は容易にドラ
イプレスによって上記の基板に製造できる。しかし、プ
レート状電極における孔部もこのやり方で製造してもよ
い。
【0054】ドライプレスによって基板に製造される孔
部の最小直径はこの基板の厚さのほぼ十分の一に等し
く、この電極の厚さはほぼ2mmであるので、セラミッ
ク電極においてほぼ0.2mmの直径の非常に微細な孔
部が製造される。
【0055】この孔部とは別のこの基板の孔部には、使
用されるオイル量を低減するためにオイルに周囲を洗わ
れた充填材が挿入される。
【0056】本発明は、平坦な表面を有する電極を有す
る圧力センサ又は差圧センサだけではなく、非平坦電極
表面を有する圧力センサ又は差圧センサにも適用可能で
ある。
【0057】これらの圧力センサ乃至は差圧センサにお
いて重要なことは、各ダイヤフラムに面した基板の表面
が平坦に形成されているのではなく、ダイヤフラムベッ
ドとして凹面が設けられていることであり、従って、ダ
イヤフラムと基板とはリング状に互いに上下に設けられ
ならびに互いに接触しており、この重なり個所の外側で
は基板の周面まで接合されていることである。
【0058】最大許容圧力の場合に、ダイヤフラムベッ
ドにはダイヤフラムが接触する。従って、このダイヤフ
ラムは許容圧力よりも大きな圧力における破裂から保護
されている。
【0059】上記のダイヤフラムベッドを有する圧力セ
ンサ乃至は差圧センサにおける本発明の適用は次のよう
に行われる。すなわち、相応の切欠部15、15′、1
5″、15*、15#にはめ込まれるプレート状電極1
4、14′、14″、14*、14#の露出した表面に
おいてダイヤフラムベッドが例えば研磨によって形成さ
れる。さらに、ダイヤフラム2、2′、2″、2*と基
板1、1′、1″、1*とがようやく上記のリング状の
重なり箇所の外側において互いに接合される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例による容量性圧力センサ
の基板の概略的な断面図である。
【図2】容量性圧力センサのためのダイヤフラムによっ
て補完された図1の基板の概略的な断面図である。
【図3】本発明の第2の実施例による唯一のダイヤフラ
ム及び2つの基板を有する容量性差圧センサの概略的な
断面図である。
【図4】本発明の第3の実施例による2つのダイヤフラ
ム及び唯一の基板を有する容量性差圧センサの概略的な
断面図である。
【符号の説明】
1、1′、1″、1* 基板 2、2′、2″、2* ダイヤフラム 10 圧力センサ 10′、10″ 差圧センサ 11、11′、11″、11* 第1の表面 12、12′、12″、12* 第2の表面 13、13′、13″、13* 周面 14、14′、14″、14*、14# プレート状電
極 15、15′、15″、15*、15# 切欠部 16、16′、16″、16* 第1の接合材料 17、17′、17″、17*、17# スルーコネク
ション 18、18′、18″、18*、18# 接合箇所 24、34、44、54、64 電極 26、26′、26″、26* 第2の接合材料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (73)特許権者 594204055 Colmarer Strasse6, D−79576Weil am Rhein, Germany (72)発明者 アンドレアス ロスベルク ドイツ連邦共和国 バート ゼッキンゲ ン アルベルト−ゲルスバッハ アレー 5 (72)発明者 エルケ マリア シュミット ドイツ連邦共和国 ショプフハイム ヴ ァルシュトラーセ 5 (72)発明者 フランク ヘグナー ドイツ連邦共和国 レルラッハ クリシ ョナシュトラーセ 41 (72)発明者 トーマス ヴェルテン ドイツ連邦共和国 ヴェーア クロイツ マットシュトラーセ 3デー (56)参考文献 特開 平7−49277(JP,A) 特開 平8−5487(JP,A) 特開 平8−43225(JP,A) 特開 昭63−300930(JP,A) 米国特許4227419(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01L 9/12 G01L 13/06

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 容量性圧力センサ(10)において、該
    容量性圧力センサ(10)は次のものを含む、すなわ
    ち、 第1の及び第2の表面(11、12)ならびに周面(1
    3)を有するセラミック、ガラス又は単結晶材料から成
    る基板(1)を含み、 導電性材料からなるプレート状の第1の電極(14)を
    含み、 該プレート状の第1の電極(14)は、前記第1の表面
    に形成される切欠部(15)に第1の接合材料(16)
    によって、耐高圧に及び高真空気密に固定されており、 前記基板(1)を貫通して前記第1の電極(14)から
    前記第2の表面(12)に又は前記周面(13)に導か
    れるスルーコネクション(17)を含み、 セラミック、ガラス又は単結晶材料から成るダイヤフラ
    ム(2)を含み、 該ダイヤフラム(2)は前記基板(1)の上に前記切欠
    部(15)の外側に第2の接合材料(26)によって接
    合箇所(18)に沿って固定されており、 前記ダイヤフラム(2)はそれ自体で第2の電極を形成
    するか、 又は前記第1の電極(14)に面した表面において第2
    の電極(24)によって被覆されており、 該第2の電極(24)は前記接合箇所(18)を貫通し
    て接続されている、容量性圧力センサ(10)。
  2. 【請求項2】 容量性差圧センサ(10´)において、
    該容量性差圧センサ(10´)は次のものを含む、すな
    わち、 第1の及び第2の表面(11´、12´)ならびに周面
    (13´)を有するセラミック、ガラス又は単結晶材料
    から成る第1の基板(1´)を含み、 導電性材料からなるプレート状の第1の電極(14´)
    を含み、 該プレート状の第1の電極(14´)は、前記第1の表
    面に形成される第1の切欠部(15´)に第1の接合材
    料(16´)によって、耐高圧に及び高真空気密に固定
    されており、 前記第1の基板(1´)を貫通して前記第1の電極(1
    4´)から前記第2の表面(12´)に又は前記周面
    (13´)に導かれる第1のスルーコネクション(17
    ´)を含み、 第1の及び第2の表面(11″、12″)ならびに周面
    (13″)を有するセラミック、ガラス又は単結晶材料
    から成る第2の基板(1″)を含み、 導電性材料からなるプレート状の第2の電極(14″)
    を含み、 該プレート状の第2の電極(14″)は、前記第2の基
    板(1″)の前記第1の表面(11″)に形成される第
    2の切欠部(15″)に第1の接合材料(16´)によ
    って、耐高圧に及び高真空気密に固定されており、 前記第2の基板(1″)を貫通して前記第2の電極(1
    4″)から前記第2の基板(1″)の前記第2の表面
    (12″)に又は前記第2の基板(1″)の前記周面
    (13″)に導かれる第2のスルーコネクション(1
    7″)を含み、 セラミック、ガラス又は単結晶材料から成るダイヤフラ
    ム(2´)を含み、 該ダイヤフラム(2´)は前記第1の基板(1´)の上
    に前記第1の切欠部(15´)の外側に第2の接合材料
    (26´)によって第1の接合箇所(18´)に沿って
    固定されており、 前記ダイヤフラム(2´)は前記第2の基板(1″)の
    上に前記第2の切欠部(15″)の外側に第2の接合材
    料(26´)によって第2の接合箇所(18″)に沿っ
    て固定されており、 前記ダイヤフラム(2´)はそれ自体で第3の電極を形
    成するか又は前記第1の電極(14´)に面した表面に
    おいて第3の電極(34)によって被覆されており、 該第3の電極(34)は前記第1の接合箇所(18´)
    を貫通して接続されており、 前記ダイヤフラム(2´)は前記第2の電極(14″)
    に面した表面において第4の電極(44)によって被覆
    されており、 該第4の電極(44)は前記第2の接合箇所(18″)
    を貫通して接続されている、容量性差圧センサ(10
    ´)。
  3. 【請求項3】 容量性差圧センサ(10″)において、
    該容量性差圧センサ(10″)は次のものを含む、すな
    わち、 第1の及び第2の表面(11*、12*)ならびに周面
    (13*)を有するセラミック、ガラス又は単結晶材料
    から成る基板(1*)を含み、 導電性材料からなるプレート状の第1の電極(14*)
    を含み、 該プレート状の第1の電極(14*)は、前記第1の表
    面に形成される第1の切欠部(15*)に第1の接合材
    料(16*)によって、耐高圧に及び高真空気密に固定
    されており、 導電性材料からなるプレート状の第2の電極(14#)
    を含み、 該プレート状の第2の電極(14#)は、前記第2の表
    面に形成される第2の切欠部(15#)に第1の接合材
    料(16*)によって、耐高圧に及び高真空気密に固定
    されており、 前記基板(1*)を貫通して前記第1の電極(14*)か
    ら前記周面(13*)に導かれる第1のスルーコネクシ
    ョン(17*)を含み、 前記基板(1*)を貫通して前記第2の電極(14#)
    から前記周面(13*)に導かれる、前記第1のスルー
    コネクションとは別個の第2のスルーコネクション(1
    7#)を含み、 セラミック、ガラス又は単結晶材料から成る第1のダイ
    ヤフラム(2″)を含み、 該第1のダイヤフラム(2″)は前記基板(1*)の上
    に前記第1の切欠部(15*)の外側に第2の接合材料
    (26*)によって第1の接合箇所(18*)に沿って固
    定されており、 前記第1のダイヤフラム(2″)はそれ自体で第3の電
    極を形成するか、 又は前記第1の電極(14*)に面した表面において第
    3の電極(54)によって被覆されており、 該第3の電極(54)は前記第1の接合箇所(18*)
    を貫通して接続されており、 セラミック、ガラス又は単結晶材料から成る第2のダイ
    ヤフラム(2*)を含み、 該第2のダイヤフラム(2*)は前記基板(1*)の上に
    前記第2の切欠部(15#)の外側に第2の接合材料
    (26*)によって第2の接合箇所(18#)に沿って
    固定されており、 前記第2のダイヤフラム(2*)はそれ自体で第4の電
    極を形成するか、 又は前記第2の電極(14#)に面した表面において第
    4の電極(64)によって被覆されており、 該第4の電極(64)は前記第2の接合箇所(18#)
    を貫通して接続されている、容量性差圧センサ(1
    0″)。
  4. 【請求項4】 プレート状電極(14)乃至はプレート
    状電極(14′、14″、14*、14#)は金属から
    成り、該金属の熱膨張係数はセラミックの乃至はガラス
    の乃至は単結晶材料の熱膨張係数に適合されていること
    を特徴とする請求項1から3のうちの1項記載の圧力セ
    ンサ乃至は差圧センサ。
  5. 【請求項5】 プレート状電極(14)乃至はプレート
    状電極(14′、14″、14*、14#)は導電性セ
    ラミック又は導電性ガラスから成ることを特徴とする請
    求項1から3のうちの1項記載の圧力センサ乃至は差圧
    センサ。
  6. 【請求項6】 導電性セラミックはサーメットであるこ
    とを特徴とする請求項5記載の圧力センサ乃至は差圧セ
    ンサ。
  7. 【請求項7】 導電性セラミックは分散性セラミックで
    あることを特徴とする請求項5記載の圧力センサ乃至は
    差圧センサ。
  8. 【請求項8】 プレート状電極(14)乃至はプレート
    状電極(14′、14″、14*、14#)は、炭化珪
    素、炭化チタン、窒化チタン、二ホウ化チタン、二ケイ
    化モリブデン、炭化タングステン又は炭化ジルコニウム
    から成ることを特徴とする請求項5項記載の圧力センサ
    乃至は差圧センサ。
  9. 【請求項9】 プレート状電極(14)乃至はプレート
    状電極(14′、14″、14*、14#)は第1の接
    合材料(16、16′、16*)なしで焼結されること
    を特徴とする請求項5から8のうちの1項記載の圧力セ
    ンサ乃至は差圧センサ。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4974424B2 (ja) * 2001-07-26 2012-07-11 京セラ株式会社 圧力検出装置用パッケージ
DE10212947C1 (de) * 2002-03-22 2003-09-18 Nord Micro Ag & Co Ohg Drucksensor, insbesondere zur kapazitiven Bestimmung des Absolutdrucks
EP1682859A4 (en) * 2003-08-11 2007-08-22 Analog Devices Inc CAPACITIVE SENSOR
JP2005134221A (ja) * 2003-10-29 2005-05-26 Kyocera Corp 圧力検出装置用パッケージ
JP4508666B2 (ja) * 2004-01-28 2010-07-21 京セラ株式会社 圧力検出装置用パッケージ
JP2005214735A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Kyocera Corp 圧力検出装置用パッケージ
DE102006021203B3 (de) 2006-05-06 2008-01-17 Tyco Electronics Austria Gmbh Elektrisches Relais
DE102007026243A1 (de) * 2007-06-04 2008-12-11 Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg Kapazitiver Drucksensor
DE102010048903B4 (de) * 2010-10-08 2014-10-30 Hydac Electronic Gmbh Elektrische Durchführung für Hochdruckanwendungen als Träger für Sensoren
DE102010063723A1 (de) 2010-12-21 2012-06-21 Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg Keramischer Drucksensor mit Überlastschutz
CN102539049B (zh) * 2012-01-16 2014-07-02 中北大学 电容式压力测试仪
DE102012110152A1 (de) * 2012-07-11 2014-05-15 Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg Verfahren zum Fügen von Keramikkörpern mittels eines Aktivhartlots, Baugruppe mit mindestens zwei miteinander gefügten Keramikkörpern, insbesondere Druckmesszelle
DE102012106236A1 (de) * 2012-07-11 2014-01-16 Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg Verfahren zum Fügen von Keramikkörpern mittels eines Aktivhartlots, Baugruppe mit mindestens zwei miteinander gefügten Keramikkörpern, insbesondere Druckmesszelle
WO2022080038A1 (ja) * 2020-10-12 2022-04-21 株式会社村田製作所 圧力センサ用チップ及び圧力センサ
CN114459666B (zh) * 2022-02-14 2023-03-17 北京航空航天大学 一种电容式压差传感器、制造方法及其应用

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2125167B (en) * 1982-07-15 1986-06-04 Tekflo Ltd Electrical fluid pressure transducer diaphragms
DE3404262A1 (de) * 1983-03-09 1984-09-13 Fuji Electric Co., Ltd., Kawasaki Kapazitiver messfuehler
DE3909185A1 (de) * 1989-03-21 1990-09-27 Endress Hauser Gmbh Co Kapazitiver drucksensor und verfahren zu seiner herstellung
DK0516579T3 (da) * 1991-05-26 1994-09-26 Endress Hauser Gmbh Co Gennemgående forbindelse i en isolationsmaterialedel
DE19653427A1 (de) * 1996-12-20 1998-07-02 Siemens Ag Kraftsensor

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