JP3203686B2 - Coating solution and method for forming concavo-convex pattern using the same - Google Patents

Coating solution and method for forming concavo-convex pattern using the same

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JP3203686B2
JP3203686B2 JP14800391A JP14800391A JP3203686B2 JP 3203686 B2 JP3203686 B2 JP 3203686B2 JP 14800391 A JP14800391 A JP 14800391A JP 14800391 A JP14800391 A JP 14800391A JP 3203686 B2 JP3203686 B2 JP 3203686B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、微細な凹凸を有する押
型を用いて基体上の塗布膜にその凹凸を転写することに
より、微細凹凸パターンを有する基体を製造するのに好
適に用いられる塗布溶液に関し、さらにその塗布溶液を
用いて微細凹凸パターンを有する基体を製造する方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating method which is preferably used for producing a substrate having a fine uneven pattern by transferring the unevenness to a coating film on the substrate by using a pressing die having fine unevenness. The present invention relates to a solution, and further relates to a method for producing a substrate having a fine uneven pattern using the coating solution.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、微細な凹凸を有する押型を用いて
塗布膜に凹凸を転写し、微細パターンを有する基体を製
造する方法に用いられる塗布溶液としてたとえば、シリ
コンテトラエトキシド、チタニウムテトラn−ブトキシ
ド、エタノール、水、塩化水素、および平均分子量が6
00のポリエチレングリコールを含むものが、J.A
m.Ceram.Soc.,Vol.73(8)199
0に開示されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a coating solution used in a method of manufacturing a substrate having a fine pattern by transferring the unevenness to a coating film using a pressing die having fine unevenness, for example, silicon tetraethoxide, titanium tetra n- Butoxide, ethanol, water, hydrogen chloride and an average molecular weight of 6
Those containing polyethylene glycol of J. 00 A
m. Ceram. Soc. , Vol. 73 (8) 199
0.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の塗布溶液を用いた場合は、凹凸パターンを転写する
のに塗布膜に型を押し当ててから膜が十分硬化するまで
に長い時間、あるいは比較的高い温度での熱処理を必要
とし生産性が悪いという問題点があった。本発明の目的
は、上記従来の問題点を解決するためになされたもので
あって、型の微細な凹凸パターンの形状を忠実に室温の
ような低温で短時間に基体上の塗布膜に作業性良く形成
するのに適した塗布溶液およびそれを用いた凹凸パター
ン形成方法を提供するにある。
However, when the above-mentioned conventional coating solution is used, it takes a long time until the film is sufficiently cured after pressing the mold against the coating film to transfer the concavo-convex pattern. However, there is a problem that heat treatment at an extremely high temperature is required and productivity is low. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and works on a coating film on a substrate in a short time at a low temperature such as room temperature by faithfully forming the shape of a fine uneven pattern of a mold. It is an object of the present invention to provide a coating solution suitable for forming a film with good properties and a method for forming a concavo-convex pattern using the same.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、 塗布膜上に
表面凹凸パターンを有する型を押圧して該型の凹凸パタ
ーンを該塗布膜に転写し、その後該型を離型して凹凸パ
ターンが転写された塗布膜付き基体とし、しかるのち該
塗布膜付き基体を加熱して該塗布膜中の有機成分を燃焼
させることにより、基体上に凹凸パターンを形成するた
めに基体上に塗布する塗布溶液であって、該塗布溶液は
縮重合または加水分解し得る金属有機化合物と増粘剤と
アルコールを含、該増粘剤として下記の一般式で表さ
れるポリエーテルグリコールの2種以上が含まれ、該2
種以上のポリエーテルグリコールは該一般式の繰り返し
構造単位が同じで、かつ、平均分子量が相異なり、うち
混合比のもっとも少ないものの重量比が20%以上であ
り、混合比のもっとも多いものの重量比が80%以下で
ることを特徴とする塗布溶液である。 一般式:HO−(Cn2nO)m−H(n、mは正の整数)
According to the present invention, there is provided a method of forming a coating on a coating film.
By pressing a mold having a surface uneven pattern, the uneven pattern of the mold is pressed.
The mold is transferred to the coating film, and then the mold is released to form an uneven pattern.
The substrate with the coating film to which the turn has been transferred is used.
Heats the substrate with the coating film and burns the organic components in the coating film
To form an uneven pattern on the substrate.
A coating solution applied onto the substrate in order, the coating solution is seen containing a metal organic compound and a thickening agent and an alcohol capable of <br/> polycondensation or hydrolysis, the following general formula as the thickener Wherein at least two kinds of polyether glycols represented by
More polyether glycol type repeating structural units of the general formula are the same, and, unlike an average molecular weight of the phase, of which
The weight ratio of the mixture with the smallest mixing ratio is 20% or more.
If the weight ratio of the mixture with the highest mixing ratio is 80% or less,
Oh it is a coating solution and wherein the Rukoto. General formula: HO- (C n H 2n O ) m -H (n, m is a positive integer)

【0005】本発明の第2は、塗布溶液を用いて基体上
に塗布膜を形成し、該塗布膜上に表面に凹凸パターンを
有する型を押圧して該型の凹凸パターンを該塗布膜に転
写し、その後該型を離型して凹凸パターンが転写された
塗布膜付き基体とし、しかるのち該塗布膜付き基体を加
熱して該塗布膜中の有機成分を燃焼させることにより、
基体上に凹凸パターンを形成する方法であって、該塗布
溶液は縮重合または加水分解し得る金属有機化合物と増
粘剤とアルコールを含み、該増粘剤として下記の一般式
で表されるポリエーテルグリコールの2種以上が含ま
れ、前記2種以上の 一般式:HO−(Cn2nO)m−H(n、mは正の整数) ポリエーテルグリコールは上記一般式の繰り返し構造単
位が同じで、かつ、平均分子量が相異なり、うち混合比
のもっとも少ないものの重量比が20%以上であり、混
合比のもっとも多いものの重量比が80%以下であるこ
とを特徴とする方法である。
In the second aspect of the present invention, a coating film is formed on a substrate using a coating solution, and a mold having a concavo-convex pattern on the surface is pressed on the coating film to apply the concavo-convex pattern of the mold to the coating film. Transfer, then release the mold to form a substrate with a coating film on which the concavo-convex pattern has been transferred, and then heat the substrate with the coating film to burn the organic components in the coating film,
A method for forming a concavo-convex pattern on a substrate, wherein the coating solution contains a metal organic compound capable of polycondensation or hydrolysis, a thickener, and an alcohol, and the thickener is a poly (poly) represented by the following general formula: contains two or more kinds of ether glycols, the more general formula: HO- (C n H 2n O ) m -H (n, m is a positive integer) the polyether glycol repeating structural units of the general formula but the same, and, unlike an average molecular weight of the phase, of which the mixing ratio
Weight ratio of more than 20%
Most often the weight ratio of the slip ratio is a method characterized in der Rukoto 80% or less.

【0006】本発明の塗布溶液に用いられる金属有機化
合物は重縮合あるいは架橋反応が起こることによって溶
液の粘性を上昇させるような化合物であればとくに限定
されるものではない。例えばM(0R)n[Mは金属、
Rはアルキル基、nは1−4の整数]で示される通常ゾ
ルゲル法と呼ばれる方法に用いられる金属アルコキシ
ド、キレート錯体及び−Cl,−C00H,−C00
R,−NH2,化学式1、化学式2等の重縮合あるいは
架橋反応を行い得る官能基を含む金属有機化合物等が例
示できる。中でも金属アルコキシドが好まれて使用され
る。
[0006] The metal organic compound used in the coating solution of the present invention is not particularly limited as long as the compound increases the viscosity of the solution by a polycondensation or crosslinking reaction. For example, M (OR) n [M is a metal,
R is an alkyl group, n is an integer of 1-4], a metal alkoxide, a chelate complex and -Cl, -C00H, -C00 used in a method usually called a sol-gel method.
R, -NH 2, Formula 1, or polycondensation of 2 such as Structural Formula
Examples are metal organic compounds containing functional groups capable of performing a crosslinking reaction
Can be shown. Among them, metal alkoxides are preferred and used
You.

【0007】[0007]

【化1】 Embedded image

【0008】[0008]

【化2】 Embedded image

【0009】金属有機化合物の金属としては、シリコ
ン、チタニウムおよびジルコニウム等が例示できる。シ
リコンの金属有機化合物としては、シリコンテトラメト
キシド、シリコンテトラエトキシド、シリコンテトラプ
ロポキシド、シリコンテトラブトキシド等のシリコンの
アルコキシドが挙げられる。チタニウムの金属有機化合
物としては、チタニウムテトラメトキシド、チタニウム
テトラエトキシド、チタニウムテトラプロポキシド、チ
タニウムテトラブトキシド等のチタニウムのアルコキシ
ド、ジイソプロポキシビスアセチルアセトナートチタン
等のチタニウムアセチルアセトナート錯体、オクチル酸
チタン等の有機酸チタニウム塩が挙げられる。また、ジ
ルコニウムの有機化合物としては、ジルコニウムテトラ
メトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニ
ウムテトラプロポキシド、ジルコニウムテトラブトキシ
ド等の金属アルコキシド、ジルコニウムアセチルアセト
ナート錯体、有機酸ジルコニウム塩が挙げられる。
Examples of the metal of the metal organic compound include silicon, titanium and zirconium. Examples of the metal organic compound of silicon include silicon alkoxides such as silicon tetramethoxide, silicon tetraethoxide, silicon tetrapropoxide, and silicon tetrabutoxide. Examples of titanium metal organic compounds include titanium alkoxides such as titanium tetramethoxide, titanium tetraethoxide, titanium tetrapropoxide, and titanium tetrabutoxide, titanium acetylacetonate complexes such as diisopropoxybisacetylacetonatotitanium, and octylic acid. Organic acid titanium salts such as titanium are exemplified. Examples of the organic compound of zirconium include zirconium tetramethoxide, metal alkoxides such as zirconium tetraethoxide, zirconium tetrapropoxide, zirconium tetrabutoxide, zirconium acetylacetonate complex, and zirconium organic acid salt.

【0010】本発明の塗布溶液に含まれる金属有機化合
物は、単一の金属の有機化合物であってもよく、異なる
2種以上の金属有機化合物が混合物として、または重合
物として含まれていてもよい。本発明の塗布溶液を基体
上に塗布し、その塗布膜に表面に凹凸パターンを転写し
た後、転写パターン付き塗布膜を加熱焼成して塗布膜中
の有機成分を除去し無機酸化物から主としてなる凹凸膜
を有する光デイスク用ガラス基板とする場合は、該凹凸
膜の屈折率はガラス板の屈折率とほぼ同じようにするの
が好ましい。ガラス基板として屈折率が1.52のフロ
ートガラス板を用いるときは、上記の無機酸化物から主
として成る凹凸膜は二酸化珪素と二酸化チタニウムの混
合物からなる膜、二酸化珪素と二酸化ジルコニウムの混
合物からなる膜が、ガラス板との屈折率を同じにするこ
とができ、同時に二酸化珪素の単独成分からなる膜より
も耐候性がよくなるので好ましい。したがって本発明の
塗布膜に含まれる金属有機化合物としては、シリコン有
機化合物とチタニウム有機化合物の混合物または重合
物、あるいはシリコン有機化合物とジルコニウム有機化
合物の混合物または重合物であることが好ましい。
[0010] The metal organic compound contained in the coating solution of the present invention may be a single metal organic compound, or may contain two or more different metal organic compounds as a mixture or as a polymer. Good. After coating the coating solution of the present invention on a substrate and transferring a concavo-convex pattern to the surface of the coating film, the coating film with the transfer pattern is heated and baked to remove organic components in the coating film, and is mainly composed of an inorganic oxide. When a glass substrate for an optical disk having an uneven film is used, it is preferable that the refractive index of the uneven film is substantially the same as the refractive index of the glass plate. When a float glass plate having a refractive index of 1.52 is used as the glass substrate, the uneven film mainly composed of the above inorganic oxide is a film composed of a mixture of silicon dioxide and titanium dioxide, and a film composed of a mixture of silicon dioxide and zirconium dioxide. However, it is preferable because the refractive index of the glass plate can be made the same, and at the same time, the weather resistance is better than that of a film composed of a single component of silicon dioxide. Therefore, the metal organic compound contained in the coating film of the present invention is preferably a mixture or polymer of a silicon organic compound and a titanium organic compound, or a mixture or polymer of a silicon organic compound and a zirconium organic compound.

【0011】塗布溶液中の金属有機化合物がシリコン有
機化合物とチタニウム有機化合物からなるときは、シリ
コンとチタニウムの比率は塗布溶液の貯蔵安定性を低下
させない上から、上記の酸化物モル比でチタニウムが5
0%以下とするのが好ましく、さらに、ガラス板と屈折
率をほぼ同じようにする上で7〜27%にするのが好ま
しい。
When the metal organic compound in the coating solution is composed of a silicon organic compound and a titanium organic compound, the ratio of silicon to titanium does not reduce the storage stability of the coating solution, and the titanium is not added in the above molar ratio of oxides. 5
It is preferably 0% or less, and more preferably 7 to 27% in order to make the refractive index almost the same as that of the glass plate.

【0012】塗布溶液中の金属有機化合物がシリコン有
機化合物とジルコニウム有磯化合物からなるときは、シ
リコンとジルコニウムの比率は塗布溶液の貯蔵安定性を
低下させない上から、上記の酸化物モル比でジルコニウ
ムが50%以下とするのが好ましく、さらに、ガラス板
と屈折率をほぼ同じようにする上で10〜30%にする
のが好ましい。
When the metal organic compound in the coating solution is composed of a silicon organic compound and a zirconium organic compound, the ratio of silicon to zirconium does not lower the storage stability of the coating solution, and the ratio of zirconium to the above oxide molar ratio is not limited. Is preferably 50% or less, and more preferably 10 to 30% for making the refractive index almost the same as that of the glass plate.

【0013】本発明の塗布溶液には、溶液の粘性を増加
させて、基体上への塗布膜の形成を容易にし、引き続き
基体に型を押合するときまで塗布膜を軟らかい状態(適
度な粘性状態)に維持し、型の凹凸パターンを忠実に塗
布膜に転写するために、増粘剤が含有されている。該増
粘剤としては、互いに同じ繰り返し構造単位を有し、か
つ、平均分子量が相異なるポリエーテルグリコールの2
種以上が調合して用いられる。ポリエーテルグリコール
は下記の一般式で表され、なかでもnが2のポリエチレ
ングリコール、nが3のポリプロピレングリコール、n
が4のポリテトラメチレンエーテルグリコール等の鎖状
ポリエーテルが好まれて用いられる。そしてポリエチレ
ングリコールが最も好んで用いられる。 一般式:HO−(C n 2n O) m −H(n,mは正の整数)
In the coating solution of the present invention, the viscosity of the solution is increased to facilitate the formation of a coating film on the substrate, and the coating film is kept in a soft state (moderately viscous state) until a mold is pressed against the substrate. ), And a thickener is contained in order to faithfully transfer the concave and convex pattern of the mold to the coating film. Examples of the thickener include polyether glycols having the same repeating structural unit and different average molecular weights.
More than one species is used in combination. The polyether glycol is represented by the following general formula, wherein n is a polyethylene glycol of 2, n is a polypropylene glycol of 3, and n
A chain polyether such as polytetramethylene ether glycol having a molecular weight of 4 is preferably used. And polyethylene glycol is most preferably used. General formula: HO- (C n H 2n O ) m -H (n, m is a positive integer)

【0014】平均分子量が異なるポリエーテルグリコー
ルを2種調合して塗布溶液中に含ませる場合は、より小
さい平均分子量を有するポリエーテルグリコールの平均
分子量を200以下とし、より大きい平均分子量を有す
るポリエーテルグリコールの平均分子量を600以上と
するのが好ましい。
When two kinds of polyether glycols having different average molecular weights are mixed and contained in the coating solution, the average molecular weight of the polyether glycol having a smaller average molecular weight is set to 200 or less, and the polyether glycol having a larger average molecular weight is It is preferable that the average molecular weight of the glycol be 600 or more.

【0015】増粘剤の総重量は、金属有機化合物が完全
に金属酸化物に変化したと仮定したときの重量(換算酸
化物重量)の0.1〜10倍の範囲にするのが好まし
い。増粘剤の総重量が、換算酸化物の0.1倍未満の場
合、塗布膜の硬化が速く進むため型を塗布膜に押し当て
るときに、塗布膜がすでに硬くなりすぎて塑性変形を起
こすことができず、型の微細な凹凸パターンを塗布膜に
転写することが困難になる。一方、換算酸化物の10倍
を越える場合、塗布膜の硬化が非常に遅く進むため、型
と塗布膜の押合はできるが、離型後塗布膜に転写された
パターンが変形しない程度にまで硬化させるのに、長い
押合時間と比較的高い熱処理温度が必要になり生産性が
悪くなる。また、さらに増粘剤の総量が増大すると、凹
凸パターンの転写を行った後の塗布膜をガラス質の膜に
する高温焼成すると、パターンの収縮量が大きくなり、
転写の寸法精度が低下するので好ましくない。
The total weight of the thickener is preferably in the range of 0.1 to 10 times the weight (converted oxide weight) assuming that the metal organic compound has been completely converted to metal oxide. When the total weight of the thickener is less than 0.1 times the reduced oxide, the applied film is already hardened and undergoes plastic deformation when the mold is pressed against the applied film because the applied film is rapidly cured. And it becomes difficult to transfer the fine concave-convex pattern of the mold to the coating film. On the other hand, if it exceeds 10 times the equivalent oxide, curing of the coating film proceeds very slowly, so that the mold and the coating film can be pressed together, but after the release, the pattern transferred to the coating film is cured to the extent that it does not deform. However, a long pressing time and a relatively high heat treatment temperature are required, and productivity is deteriorated. Further, when the total amount of the thickener further increases, when the coating film after the transfer of the concavo-convex pattern is fired at a high temperature to form a vitreous film, the contraction amount of the pattern increases,
This is not preferable because the dimensional accuracy of the transfer decreases.

【0016】本発明に用いられるアルコールとしては特
に限定されないが、エタノール、プロパノール、ブタノ
ールなどの低級アルコールが好んで用いられる。
The alcohol used in the present invention is not particularly limited, but lower alcohols such as ethanol, propanol and butanol are preferably used.

【0017】本発明の塗布溶液には、必要に応じて水
や、加水分解反応や縮重合反応を促進する触媒として酸
を加えることが好ましい。酸は、塩酸,硝酸,酢酸,硫
酸,フッ酸等が挙げられる。アルコール等の有機溶媒、
上記増粘剤及び必要に応じて酸またはアルカリの加水分
解触媒と混合して塗布用溶液とされる。
The coating solution of the present invention is preferably added with water or an acid as a catalyst for promoting a hydrolysis reaction or a polycondensation reaction, if necessary. Examples of the acid include hydrochloric acid, nitric acid, acetic acid, sulfuric acid, and hydrofluoric acid. Organic solvents such as alcohols,
It is mixed with the above-mentioned thickener and, if necessary, an acid or alkali hydrolysis catalyst to form a coating solution.

【0018】[0018]

【作用】本発明の塗布溶液中に含まれるポリエーテルグ
リコールからなる増粘剤のうち、より大きい平均分子量
を有するポリエーテルグリコールは、基体上に塗布した
塗布膜の初期硬度を低くする。これにより、塗布膜を形
成後型を柔らかい塗布膜に押圧することが可能となるの
で、型の凹凸パターンの塗布膜表面への転写を忠実に行
うことができる。また、低い平均分子量を有するポリエ
ーテルグリコールは、型が押圧されて生じるゲルの塗
布膜の室温に近い温度での硬化速度を大きくする。これ
により、型を室温に近い温度で短時間押圧後離型を行
だけでも塗布膜に転写される型のくずれを生じることが
ない。したがって、室温のような低い温度で短時間に微
細な凹凸パターンを転写することがでまる。
The polyether glycol having a higher average molecular weight among the polyether glycol thickeners contained in the coating solution of the present invention lowers the initial hardness of the coating film applied on the substrate. This makes it possible to press the mold against the soft coating film after the formation of the coating film, so that it is possible to faithfully transfer the concave and convex pattern of the mold to the coating film surface. Further, the polyether glycol having a low average molecular weight, the type is to increase the cure rate at a temperature close to room temperature the gel coating film caused by being pressed. Thus, mold intends line short press after releasing near room temperature
Never cause collapse of the type also transferred to the coating film alone. Therefore, it is possible to transfer a fine concavo-convex pattern in a short time at a low temperature such as room temperature.

【0019】[0019]

【実施例】本発明の塗布溶液用いて微細な凹凸パター
ンをガラス基体上に形成した実施例を以下に説明する。
実施例に用いた塗布溶液の組成を表1にまとめて示す。
図1は、本発明の塗布溶液を用いて基体上に凹凸パター
ンを形成するときの工程を説明するための図で、図1
(a)は、基体1上に塗布膜2が塗られている。図1
(b)は、塗布膜2の表面に凹凸パターン4を有する型
3を押圧して型の凹凸パターンを塗布膜2に転写してい
る状態を示す。その後、型を離型(図1(c))する
と、基体1上に硬化した凹凸パターン5Aが形成された
基体6が得られる。さらに基体6を加熱焼成することに
より酸化物からなる凹凸パターン5Bが形成された基体
6となる。
EXAMPLE An example in which a fine concavo-convex pattern was formed on a glass substrate using the coating solution of the present invention will be described below.
Table 1 shows the compositions of the coating solutions used in the examples.
FIG. 1 is a view for explaining a step of forming a concavo-convex pattern on a substrate using the coating solution of the present invention.
1A, a coating film 2 is applied on a base 1. FIG.
(B) shows a state in which the mold 3 having the uneven pattern 4 on the surface of the coating film 2 is pressed to transfer the uneven pattern of the mold to the coating film 2. Thereafter, when the mold is released (FIG. 1 (c)), the substrate 6 having the cured concavo-convex pattern 5A formed on the substrate 1 is obtained. Further, the base 6 is heated and fired to form the base 6 on which the uneven pattern 5B made of an oxide is formed.

【0020】[0020]

【表1】 [Table 1]

【0021】実施例1 出発原料には、シリコンテトラエトキシド(Si(OC
254)及びチタニウムテトラノルマルブトキシド
(Ti(OC494)を用いた。前記金属有機化合物
が加熱焼成されて最終的にそれぞれSiO2とTiO2
のモル比が83.5:16.5になるよう原料比を決め
た。溶媒にはエタノール、加水分解触媒には、塩化水素
をそれぞれ用いた。加える水の量およびエタノールの量
は、シリコンテトラエトキシドに対してモル比でそれぞ
れ4倍および5倍とした。
Example 1 As a starting material, silicon tetraethoxide (Si (OC
Using 2 H 5) 4) and titanium tetra-n-butoxide (Ti (OC 4 H 9) 4). The metal organic compound was heated and fired, and the raw material ratio was determined so that the molar ratio of SiO 2 and TiO 2 was finally 83.5: 16.5. Ethanol was used as a solvent, and hydrogen chloride was used as a hydrolysis catalyst. The amount of water to be added and the amount of ethanol were 4 times and 5 times the molar ratio of silicon tetraethoxide, respectively.

【0022】シリコンテトラエトキシドのエタノール溶
液に、希塩酸(3wt%)を加え室温で15分間撹拌
し、さらにチタニウムテトラノルマルブトキシドのエタ
ノール溶液を加え、さらに15分間攪伴することにより
加水分解を行った。こうして得られた溶液は、無色透明
であり、塗布膜の膜厚を制御するために該溶液をエタノ
ールで更に希釈した。こうして得られた溶液に、平均分
子量600のポリエチレングリコール(PEG6)を、
最終生成酸化物であるTiO2とSiO2の合計量に対す
る重量比で(PEG6)/(TiO2+SiO2)=0.
375となるように、さらに平均分子量200のポリエ
チレングリコール(PEG2)を、最終生成酸化物であ
るTiO2とSiO2の合計量に対する重量比で(PEG
2)/(TiO2+SiO2)=0.375となるように
加え、均一に溶解したものを塗布溶液(表1のNo.1
の溶液)とした。
Dilute hydrochloric acid (3% by weight) was added to an ethanol solution of silicon tetraethoxide, and the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes. Further, an ethanol solution of titanium tetranormal butoxide was added, followed by stirring for 15 minutes to effect hydrolysis. . The solution thus obtained was colorless and transparent, and the solution was further diluted with ethanol to control the thickness of the coating film. To the solution thus obtained, polyethylene glycol (PEG6) having an average molecular weight of 600 was added
(PEG6) / (TiO 2 + SiO 2 ) = 0.0 in terms of weight ratio to the total amount of TiO 2 and SiO 2 which are final oxides.
Further, polyethylene glycol (PEG2) having an average molecular weight of 200 was added to the total amount of TiO 2 and SiO 2 , which is the final oxide, in a weight ratio of (PEG) to be 375.
2) / (TiO 2 + SiO 2 ) = 0.375 and uniformly dissolved, and the coating solution (No. 1 in Table 1)
Solution).

【0023】この塗布溶液を用いてスピンコート法によ
り、外径130mm、厚さ1.2mmの化学強化ソーダ
石灰ガラス製のディスク基板上に厚さ0.3μmの塗布
膜を形成した。次いで、この塗布膜付ガラス基板を真空
プレス装置中にいれ、約1×10-5Torrまで減圧し
た。そしてこの塗布膜付ガラス基板へ、峰高さ0.09
μm、峰幅0.7μm、峰間隔1.6μmのスパイラル
状の峰部を半径25mmから60mmの範囲に有する外
径130mm、厚さ1.2mmの型を接合し、ついでプ
レス圧力50kgf/cm2で押圧した。
Using this coating solution, a coating film having a thickness of 0.3 μm was formed on a disk substrate made of chemically reinforced soda-lime glass having an outer diameter of 130 mm and a thickness of 1.2 mm by spin coating. Next, the glass substrate with the coating film was placed in a vacuum press apparatus, and the pressure was reduced to about 1 × 10 −5 Torr. Then, a peak height of 0.09 was applied to the glass substrate with the coating film.
A mold having an outer diameter of 130 mm and a thickness of 1.2 mm having a spiral peak having a peak width of 0.7 μm and a peak interval of 1.6 μm in a range of a radius of 25 mm to 60 mm is joined, and then a pressing pressure of 50 kgf / cm 2. Was pressed.

【0024】その後このままの状態で加熱して、60℃
で種々の時間の熱処理を行い、塗布膜を硬化させた。検
討した熱処理時間は、5分、10分、15分である。所
定時間の熱処理後、型とガラスディスクの離型を行い、
さらにそれぞれのガラスディスクに対して350℃で1
5分間の最終の焼成を行った。この焼成操作により、い
ずれの硬化熱処理をおこなったものも、塗布膜はエタノ
ール及び水分等が飛散し、添加したPEGが燃焼分解し
てガラス体類似の約0.2μm厚の微細凹凸パターンを
有する非晶質膜となっていた。
Thereafter, heating is carried out in this state,
For various times to cure the coating film. The heat treatment times studied are 5 minutes, 10 minutes and 15 minutes. After the heat treatment for a predetermined time, the mold and the glass disk are released,
In addition, each glass disk is
A final bake of 5 minutes was performed. In any of the curing heat treatments performed by this baking operation, the coating film has a non-uniform pattern having a fine irregularity pattern having a thickness of about 0.2 μm, which is similar to a glass body, because ethanol and moisture are scattered and the added PEG is decomposed by combustion. It was a crystalline film.

【0025】上記操作により作製された溝付きガラスデ
ィスクの表面をSEMで観察したところ、5分、10
分、15分のいずれの熱処理によって凹凸パターンの転
写を行ったものも、溝深さ約0.75μm、溝幅約0.
7μm、溝間隔約1.6μmの良好な溝形状が全面に形
成されていることが判った。
When the surface of the grooved glass disk produced by the above operation was observed by SEM,
The transfer of the concavo-convex pattern by either heat treatment for 15 minutes or 15 minutes also results in a groove depth of about 0.75 μm and a groove width of about 0.1 μm.
It was found that a good groove shape of 7 μm and a groove interval of about 1.6 μm was formed on the entire surface.

【0026】ポリエチレングリコールと酸化物との重量
比を(PEG6+PEG2)/(TiO2十SiO2)=
0.75の一定とし、PEG6とPEG2の重量比を
0.25<(PEG6/PEG2)<4.0の範囲で変
化させ、表1に示す塗布溶液No.2、No.3を用い
た塗布溶液についても同様の結果が得られた。
The weight ratio between polyethylene glycol and oxide is calculated as (PEG6 + PEG2) / (TiO 2 / SiO 2 ) =
By keeping the weight ratio of PEG6 and PEG2 constant within a range of 0.25 <(PEG6 / PEG2) <4.0, the coating solution No. 2, No. Similar results were obtained for the coating solution using No. 3.

【0027】実施例2 実施例1と同様の方法で溶液を調製し、今度は、平均分
子量2000のポリエチレングリコール(PEG20)
を、最終生成酸化物であるTiO2とSiO2の合計量に
対する重量比で(PEG20)/(TiO2+SiO2
=0.375、さらにPEG2を、最終生成酸化物であ
るTiO2とSiO2の合計量に対する重量比で(PEG
2)/(TiO2+SiO2)=0.375となるように
加え、均一に溶解したものを塗布溶液(表1のNo.4
の溶液)とした。
Example 2 A solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that polyethylene glycol (PEG20) having an average molecular weight of 2000 was used.
Is expressed by a weight ratio of (PEG20) / (TiO 2 + SiO 2 ) to the total amount of TiO 2 and SiO 2 which are final oxides.
= 0.375, and PEG2 was added in a weight ratio of (PEG) to the total amount of TiO 2 and SiO 2 as final oxides.
2) / (TiO 2 + SiO 2 ) = 0.375, and uniformly dissolved to obtain a coating solution (No. 4 in Table 1).
Solution).

【0028】実施例1と同様にして、上記塗布溶液を用
いて塗布膜を形成した。次いで、この塗布膜付ガラス基
板を真空プレス装置中にいれ、約1×10-5Torrま
で減圧し、峰高さ0.09μm、峰幅0.7μm、峰間
隔1.6μmのスパイラル状の峰部を有する外径130
mm、厚さ1.2mmの型を接合し、ついでプレス圧力
50kgf/cm2で押圧した。
In the same manner as in Example 1, a coating film was formed using the above coating solution. Next, the glass substrate with the coating film is placed in a vacuum press apparatus, and the pressure is reduced to about 1 × 10 −5 Torr, and a spiral peak having a peak height of 0.09 μm, a peak width of 0.7 μm, and a peak interval of 1.6 μm is provided. Outer diameter 130 with section
A mold having a thickness of 1.2 mm and a thickness of 1.2 mm was joined, and then pressed at a pressing pressure of 50 kgf / cm 2 .

【0029】その後このままの状態で加熱して、60℃
で種々の時間の熱処理を行い塗布膜を硬化させた。検討
した熱処理時間は、5分、10分、15分である。所定
時間の熱処理後、型とガラスディスクの離型を行い、さ
らにそれぞれのガラスディスクに対して350℃で15
分間の最終の焼成を行った。これにより塗布膜は、ガラ
ス体類似の約0.2μm厚の微細パターンを有する非晶
質膜となっていた。
Thereafter, heating is carried out in this state,
For various times to cure the coating film. The heat treatment times studied are 5 minutes, 10 minutes and 15 minutes. After the heat treatment for a predetermined time, the mold and the glass disk are released, and each glass disk is subjected to 15 ° C. at 350 ° C.
A final bake of minutes was performed. As a result, the coating film was an amorphous film having a fine pattern having a thickness of about 0.2 μm similar to a glass body.

【0030】上記操作により作製された溝付きガラスデ
ィスクの表面をSEMで観察したところ、いずれの熱処
理温度でパターン転写を行ったものも、溝深さ約0.7
6μm、溝幅約0.7μm、溝間隔約1.6μmの良好
な溝形状が全面に転写されていることが判った。
When the surface of the grooved glass disk produced by the above operation was observed by SEM, it was found that the pattern transferred at any heat treatment temperature had a groove depth of about 0.7.
It was found that a good groove shape of 6 μm, a groove width of about 0.7 μm, and a groove interval of about 1.6 μm was transferred to the entire surface.

【0031】ポリエチレングリコールと酸化物との比率
(PEG20+PEG2)/(TiO2+SiO2)=
0.75の一定とし、PEG20とPEG2の重量比を
0.25<(PEG20+PEG2)<4.0の範囲で
変化させ、表1に示す塗布溶液No.5、No.6を用
いた塗布溶液についても同様の結果が得られた。
Ratio of polyethylene glycol to oxide (PEG20 + PEG2) / (TiO 2 + SiO 2 ) =
With the constant of 0.75, the weight ratio of PEG20 and PEG2 was changed within the range of 0.25 <(PEG20 + PEG2) <4.0. 5, no. Similar results were obtained for the coating solution using No. 6.

【0032】実施例3 実施例1と同様の方法で組成9TiO2・91SiO
2(モル%)の溶液を調製し、今度は、PEG6を、最
終生成酸化物であるTiO2とSiO2の合計量に対する
重量比で(PEG6)/(TiO2+SiO2)=0.3
5、さらにPEG2を、最終生成酸化物であるTiO2
十SiO2の合計量に対する重量比で(PEG2)/
(TiO2十SiO2)=0.35になるように加え、均
一に溶解したものを塗布溶液(表1に示すNo.7の溶
液)とした。
Example 3 In the same manner as in Example 1, the composition 9TiO 2 .91SiO
2 (mol%) solution, and this time, PEG6 was added in a weight ratio of (PEG6) / (TiO 2 + SiO 2 ) = 0.3 with respect to the total amount of TiO 2 and SiO 2 as the final product oxide.
5. Further, PEG2 was replaced with TiO 2 as the final oxide produced.
In a weight ratio to the total amount of ten SiO 2 (PEG2) /
It was added to a (TiO 2 tens SiO 2) = 0.35, a material obtained by uniformly dissolving the coating solution (a solution of No.7 in Table 1).

【0033】実施例1と同様にして、この塗布溶液を用
いて塗布膜を形成した。次いで、この塗布膜付ガラス基
板を真空プレス装置中にいれ、約1×10-5Torrま
で減圧し、峰高さ0.09μm、峰幅0.7μm、峰間
隔1.6μmのスパイラル状の峰部を有する外径130
mm、厚さ1.2mmの型を接合し、ついでプレス圧力
50kgf/cm2で押圧した。
In the same manner as in Example 1, a coating film was formed using this coating solution. Next, the glass substrate with the coating film is placed in a vacuum press apparatus, and the pressure is reduced to about 1 × 10 −5 Torr, and a spiral peak having a peak height of 0.09 μm, a peak width of 0.7 μm, and a peak interval of 1.6 μm is formed. Outer diameter 130 with section
A mold having a thickness of 1.2 mm and a thickness of 1.2 mm was joined, and then pressed at a pressing pressure of 50 kgf / cm 2 .

【0034】その後このままの状態で加熱して、60℃
で種々の時間の熱処理を行い、塗布膜を硬化させた。検
討した熱処理時間は、5分、10分、15分である。所
定時間の熱処理後、型とガラスディスクの離型を行い、
さらにそれぞれのガラスディスクに対して350℃で1
5分間の最終焼成を行った。塗布膜は、ガラス体類似の
約0.2μm厚の微細パターンを有する非晶質膜となっ
ていた。
Thereafter, heating is carried out in this state,
For various times to cure the coating film. The heat treatment times studied are 5 minutes, 10 minutes and 15 minutes. After the heat treatment for a predetermined time, the mold and the glass disk are released,
In addition, each glass disk is
A final bake of 5 minutes was performed. The coating film was an amorphous film having a fine pattern having a thickness of about 0.2 μm similar to a glass body.

【0035】上記操作により作製された溝付きガラスデ
ィスクの表面をSEMで観察したところ、いずれの熱処
理温度でパターン転写を行ったものも、溝深さ約0.7
6μm、溝幅約0.7μm、溝間隔約1.6μmの良好
な溝形状が全面に転写されていることが判った。
When the surface of the grooved glass disk produced by the above operation was observed by SEM, it was found that the pattern transfer at any heat treatment temperature had a groove depth of about 0.7.
It was found that a good groove shape of 6 μm, a groove width of about 0.7 μm, and a groove interval of about 1.6 μm was transferred to the entire surface.

【0036】ポリエチレングリコールと酸化物の合計量
との比率を(PEG6+PEG2)/(TiO2+Si
2)=0.70の一定とし、PEG6とPEG2の重
量比を0.25<(PEG6/PEG2)<4.0の範
囲で変化させ、表1に示す塗布溶液No.8、No.9
を用いた塗布溶液についても同様の結果が得られた。
The ratio of polyethylene glycol to the total amount of oxides is expressed as (PEG6 + PEG2) / (TiO 2 + Si
O 2 ) = 0.70 and the weight ratio of PEG6 to PEG2 was changed within the range of 0.25 <(PEG6 / PEG2) <4.0. 8, no. 9
The same results were obtained for the coating solution using.

【0037】比較例1 実施例1と同様の手法により、PEG6を、最終生成酸
化物であるTiO2とSiO2の合計量に対する重量比を
(PEG6)/(TiO2+SiO2)=0.75となる
ように溶解した塗布溶液を調製した。
Comparative Example 1 In the same manner as in Example 1, the weight ratio of PEG6 to the total amount of the final oxides TiO 2 and SiO 2 was (PEG6) / (TiO 2 + SiO 2 ) = 0.75. A coating solution was prepared by dissolving such that

【0038】上記塗布溶液を実施例1と同様のパターン
転写実験を行った。微細パターン転写時の型押合中の熱
処理条件は、60℃−5分、60℃−10分、60℃−
15分、80℃−5分、100℃−5分とした。
Using the above coating solution, a pattern transfer experiment was performed in the same manner as in Example 1. The heat treatment conditions during die pressing during the transfer of the fine pattern are 60 ° C.-5 minutes, 60 ° C.-10 minutes, and 60 ° C.
15 minutes, 80 ° C. for 5 minutes, and 100 ° C. for 5 minutes.

【0039】作製された溝付きガラスディスクの表面を
SEMで観察したところ、良好な溝形状が全面に形成さ
れていたのは、100℃−5分で熱処理を行ったものだ
けであった。他の条件で成形を行ったものは、離型時に
塗布膜の硬度が不十分で塗布膜の再変形による欠陥が生
じていた。
When the surface of the manufactured grooved glass disk was observed with an SEM, it was found that only a film subjected to heat treatment at 100 ° C. for 5 minutes had a good groove shape formed on the entire surface. In the case of molding under other conditions, the hardness of the coating film at the time of release was insufficient, and defects due to re-deformation of the coating film occurred.

【0040】比較例2 実施例1と同様の手法により、PEG2を、最終生成酸
化物であるTiO2とSiO2の合計量に対する重量比で
(PEG2)/(TiO2+SiO2)=0.75となる
ように溶解した塗布溶液を調製した。
Comparative Example 2 In the same manner as in Example 1, PEG2 was converted to (PEG2) / (TiO 2 + SiO 2 ) = 0.75 by weight ratio with respect to the total amount of TiO 2 and SiO 2 , which are final oxides. A coating solution was prepared by dissolving such that

【0041】上記塗布溶液を実施例1と同様のパターン
転写実験を行った。微細パターン転写時の型押合中の熱
処理条件は、60℃−5分、60℃−10分、60℃−
15分、80℃−5分、100℃−5分とした。
Using the above coating solution, a pattern transfer experiment similar to that in Example 1 was performed. The heat treatment conditions during die pressing during the transfer of the fine pattern are 60 ° C.-5 minutes, 60 ° C.-10 minutes, and 60 ° C.
15 minutes, 80 ° C. for 5 minutes, and 100 ° C. for 5 minutes.

【0042】作製された溝付きガラスディスクの表面を
SEMで観察したところ、いずれのガラスディスクにも
良好な微細パターンは、形成されていなかった。いずれ
の場合も型を塗布膜に押合するときに既に膜の硬度が高
すぎて、型を押し当てても塗布膜が塑性変形しなかった
ためである。
Observation of the surface of each of the grooved glass discs by SEM revealed that no fine pattern was formed on any of the glass discs. In either case, the hardness of the film was already too high when the mold was pressed against the coating film, and the coating film was not plastically deformed even when the die was pressed.

【0043】比較例3 比較例2においてPEG2の添加量を、さらに多くした
成形実験を行った。PEG2を、最終生成酸化物である
TiO2とSiO2の合計量に対する重量比で(PEG
2)/(TiO2+SiO2)=1.0となるように溶解
した塗布溶液を調製した。
Comparative Example 3 A molding experiment was performed in Comparative Example 2 in which the added amount of PEG2 was further increased. PEG2 is obtained by weight ratio (PEG) to the total amount of TiO 2 and SiO 2 which are final oxides.
2) A coating solution was prepared which was dissolved so that / (TiO 2 + SiO 2 ) = 1.0.

【0044】上記塗布溶液を用いて実施例1と同様のパ
ターン転写実験を行った。微細パターン転写時の型押合
中の熱処理条件は、60℃−5分、80℃−5分、10
0℃−5分とした。
A pattern transfer experiment similar to that of Example 1 was performed using the above coating solution. The heat treatment conditions during die pressing during the transfer of the fine pattern are 60 ° C. for 5 minutes, 80 ° C. for 5 minutes,
0 ° C.-5 minutes.

【0045】作製された溝付きガラスディスクの表面を
SEMで観察したところ、いずれの転写ガラスディスク
にも良好な微細パターンは、形成されていなかった。い
ずれの場合も型を塗布膜に押合するときに既に膜の硬度
が高すぎて、型を押し当てても塗布膜が塑性変形しなか
ったためである。
When the surface of each of the grooved glass disks was observed by SEM, no good fine pattern was formed on any of the transfer glass disks. In either case, the hardness of the film was already too high when the mold was pressed against the coating film, and the coating film was not plastically deformed even when the die was pressed.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明の塗布溶液から得られる塗布膜
は、初期硬度が低く、熱処理により膜硬度が急峻に増大
する。従って本発明の塗布溶液を用いて微細な凹凸のパ
ターンを転写することにより、作業性、パターン品質を
損なうことなく低温短時間で基体上に所望の微細凹凸
パターンを形成することが可能になる。
The coating film obtained from the coating solution of the present invention has a low initial hardness, and the film hardness sharply increases by heat treatment. Therefore, by transferring a fine uneven pattern using the coating solution of the present invention, it is possible to form a desired fine uneven pattern on a substrate in a short time at a low temperature without impairing workability and pattern quality. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の塗布溶液を用いて基体上に凹凸パター
ンを形成する方法を説明する図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a method for forming a concavo-convex pattern on a substrate using a coating solution of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・基体、2・・・塗布膜、3・・・型、4・・・
型表面の凹凸パターン、5A・・・硬化された凹凸パタ
ーン。5B・・・酸化物からなる凹凸パターン、6・・
・凹凸パターン付き基体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base, 2 ... Coating film, 3 ... Type, 4 ...
Uneven pattern on the mold surface, 5A ... cured uneven pattern. 5B: an uneven pattern made of an oxide, 6 ...
・ Substrate with uneven pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−235465(JP,A) 特開 平4−68023(JP,A) 特開 昭59−134705(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09D 1/00 - 201/10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-61-235465 (JP, A) JP-A-4-68023 (JP, A) JP-A-59-134705 (JP, A) (58) Survey Field (Int.Cl. 7 , DB name) C09D 1/00-201/10

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】塗布膜上に表面凹凸パターンを有する型を
押圧して該型の凹凸パターンを該塗布膜に転写し、その
後該型を離型して凹凸パターンが転写された塗布膜付き
基体とし、しかるのち該塗布膜付き基体を加熱して該塗
布膜中の有機成分を燃焼させることにより、基体上に凹
凸パターンを形成するために基体上に塗布する塗布溶液
であって、該塗布溶液は縮重合または加水分解し得る金
属有機化合物と増粘剤とアルコールを含み、該有機金属
化合物はシリコン有機化合物、チタニウム有機化合物、
ジルコニウム有機化合物のいずれかを含み、かつ該増粘
剤は下記の一般式で表されるポリエーテルグリコール 一般式:HO−(Cn2nO)m−H(n、mは正の整数) の2種以上が含まれ、該2種以上のポリエーテルグリコ
ールは上記の一般式の繰り返し構造単位が同じで、か
つ、平均分子量が相異なり、うち混合比のもっとも少な
いものの重量比が20%以上であり、混合比のもっとも
多いものの重量比が80%以下であることを特徴とする
塗布溶液。
1. A mold having an uneven surface pattern on a coating film.
Press to transfer the concave and convex pattern of the mold to the coating film,
After the mold is released, with a coating film on which the uneven pattern is transferred
And then heating the substrate with the coating film to form the substrate.
By burning the organic components in the cloth film, the concave
Coating solution applied on a substrate to form a convex pattern
Wherein the coating solution comprises a metal organic compound capable of polycondensation or hydrolysis, a thickener and an alcohol,
The compound is a silicon organic compound, a titanium organic compound,
Comprise any of a zirconium organic compound, and said thickener is a polyether glycol the general formula represented by the following general formula: HO- (C n H 2n O ) m -H (n, m is a positive integer) contains 2 or more, two or more polyether glycol the repeating structural units of the above general formula are the same, and, unlike an average molecular weight of the phase, most small inner mixing ratio
The weight ratio of the food is more than 20%,
Coating solution weight ratios of those often characterized der Rukoto 80% or less.
【請求項2】該金属有機化合物として、チタニウム有機
化合物とジルコニウム有機化合物の少なくとも1つとシ
リコン有機化合物とが含まれることを特徴とする請求項
1に記載の塗布溶液。
2. The organic compound according to claim 1, wherein said metal organic compound includes at least one of a titanium organic compound, a zirconium organic compound, and a silicon organic compound.
2. The coating solution according to 1 .
【請求項3】塗布溶液を用いて基体上に塗布膜を形成
し、該塗布膜上に表面に凹凸パターンを有する型を押圧
して該型の凹凸パターンを該塗布膜に転写し、その後該
型を離型して凹凸パターンが転写された塗布膜付き基体
とし、しかるのち該塗布膜付き基体を加熱して該塗布膜
中の有機成分を燃焼させることにより、基体上に凹凸パ
ターンを形成する方法であって、該塗布溶液は縮重合ま
たは加水分解し得る金属有機化合物と増粘剤とアルコー
ルを含み、該有機金属化合物はシリコン有機化合物、チ
タニウム有機化合物、ジルコニウム有機化合物のいずれ
かを含み、かつ該増粘剤は下記の一般式で表されるポリ
エーテルグリコール 一般式:HO−(Cn2nO)m−H(n,mは正の整数) の2種以上からなり、かつ、該2種以上のポリエーテル
グリコールは、上記の一般式の繰り返し構造単位が同じ
で、かつ、平均分子量が相異なり、うち混合比のもっと
も少ないものの重量比が20%以上であり、混合比のも
っとも多いものの重量比が80%以下であることを特徴
とする方法。
3. A coating film is formed on a substrate using a coating solution, and a mold having an uneven pattern on the surface is pressed on the coating film to transfer the uneven pattern of the mold to the coating film. The mold is released to form a substrate with a coating film on which the concave / convex pattern is transferred, and thereafter, the substrate with the coated film is heated to burn the organic components in the coated film, thereby forming a concave / convex pattern on the substrate. The coating solution comprises a metal organic compound capable of polycondensation or hydrolysis, a thickener and an alcohol, wherein the organic metal compound is a silicon organic compound,
Tantalum organic compound or zirconium organic compound
Include or and the thickener is a polyether glycol the general formula represented by the following general formula: HO- (C n H 2n O ) m -H (n, m is a positive integer) from two or more becomes, and, two or more polyether glycols said the repeating structural unit of the above general formula are the same, and, unlike an average molecular weight of the phase, the out mixing ratio more
Although the weight ratio is less than 20%, the mixing ratio
Wherein the der Rukoto than 80 percent by weight of those many Innovation.
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