JP3200457B2 - Liquid material vaporizer - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体製造にお
いて用いる四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ4 ) などのガスを、
液体材料を気化することによって供給する液体材料気化
供給装置に関する。The present invention relates, for example a gas such as silicon tetrachloride (SiCl 4) is used in semiconductor manufacturing,
The present invention relates to a liquid material vaporizing supply device that supplies a liquid material by vaporizing the liquid material.
【０００２】[0002]
【従来の技術】前記気化供給装置として、液体の原材料
を収容した気化槽を恒温槽内に設け、前記原材料内にお
いてキャリアガスをバブリングさせることにより、所定
の気化ガスを発生させるようにしたバブリング方式の液
体材料気化供給装置が知られている。2. Description of the Related Art A bubbling method in which a vaporization tank containing a liquid raw material is provided in a constant temperature bath as the vaporization supply device, and a predetermined vaporized gas is generated by bubbling a carrier gas in the raw material. Is known.
【０００３】そして、この種の気化供給装置において
は、気化槽内における温度、圧力およびキャリアガスの
流量が定常状態にあるものと仮定して、所定流量の反応
ガスを発生させるようにしていた。[0003] In this type of vaporization supply apparatus, a predetermined flow rate of reaction gas is generated on the assumption that the temperature, pressure and carrier gas flow rate in the vaporization tank are in a steady state.
【０００４】しかしながら、気化槽内では気化ガスの発
生によって気化熱が奪われるため、気化槽内における温
度、圧力をそれぞれ一定に保持することは非常に困難で
あり、たとえ質量流量コントローラなどによってキャリ
ヤガスの流量を一定に制御した場合でも、所定流量の気
化ガスを常に安定に発生させることは困難であった。However, since the heat of vaporization is deprived in the vaporization tank by the generation of vaporized gas, it is very difficult to keep the temperature and pressure in the vaporization tank constant, respectively. Even when the flow rate is controlled to be constant, it is difficult to always generate a predetermined flow rate of the vaporized gas stably.
【０００５】そこで、これに代わる方法として、図２に
示すような液体材料気化供給装置が提案されている。こ
のものは、液体流量コントローラ３１によって流量調整
された液体材料Ｌが流れる液体導入管３２Ａを、ヒータ
３３を内蔵した気化器３４に対してその一端側から挿入
し、これをヒータ３３によって加熱することにより液体
導入管３２Ｂ内において液体材料Ｌを気化させる。気化
によって生じたガスＧはキャリアガス導入管３５内に設
けられた質量流量コントローラ３６によって一定流量に
制御されたキャリアガスＫによって気化器34の他端側に
設けられた気化ガス導出管３７から導出するように構成
してある。ここで、３８, ３９は例えば半導体製造装置
（図外）や化学蒸着装置（図外）に気化ガスを供給する
ための気化ガス供給ライン、４０, ４１は開閉弁であ
る。Therefore, as an alternative method, a liquid material vaporizing / supplying device as shown in FIG. 2 has been proposed. In this apparatus, a liquid introduction pipe 32A through which a liquid material L whose flow rate is adjusted by a liquid flow rate controller 31 flows is inserted into a vaporizer 34 having a built-in heater 33 from one end thereof, and this is heated by the heater 33. Thereby, the liquid material L is vaporized in the liquid introduction pipe 32B. The gas G generated by the vaporization is led out of the vaporized gas outlet pipe 37 provided at the other end of the vaporizer 34 by the carrier gas K controlled at a constant flow rate by the mass flow controller 36 provided in the carrier gas inlet pipe 35. It is configured to do so. Here, reference numerals 38 and 39 denote vaporized gas supply lines for supplying a vaporized gas to, for example, a semiconductor manufacturing apparatus (not shown) or a chemical vapor deposition apparatus (not shown), and reference numerals 40 and 41 denote on-off valves.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上記液体材料気化供給
装置においては、ヒータ３３によって加熱された液体材
料Ｌは残らず気化し、その上、気化室内の温度管理も容
易であるため、液体材料を安定に気化させることができ
る。In the above-mentioned liquid material vaporizing and supplying apparatus, the liquid material L heated by the heater 33 is completely vaporized, and the temperature of the vaporizing chamber can be easily controlled. It can be vaporized stably.
【０００７】しかしながら、気化器３４内の圧力は、気
化器３４の温度と、キャリアガスＫおよび液体材料Ｌの
流量と、下流側の気化ガス供給ライン３８, ３９内の圧
力とに依存するため、上記構成のように、圧力の異なる
気化ガス供給ライン３８, ３９を設けて、この流路の切
換えを開閉弁４０，４１によって行うような場合には、
たとえキャリアガスＫおよび液体材料Ｌの流量を一定に
制御したとしても、開閉弁４０，４１の切換え時に気化
ガスＧの流量変動が生じて、気化器３４内の圧力も変動
する。その上、気化器３４内の圧力が安定するまでに時
間を要するため、延いては安定供給の点で問題があっ
た。However, the pressure in the vaporizer 34 depends on the temperature of the vaporizer 34, the flow rates of the carrier gas K and the liquid material L, and the pressure in the vaporized gas supply lines 38 and 39 on the downstream side. In the case where the vaporized gas supply lines 38 and 39 having different pressures are provided as in the above configuration and the flow paths are switched by the on-off valves 40 and 41 ,
Even if the flow rates of the carrier gas K and the liquid material L are controlled to be constant, the flow rate of the vaporized gas G fluctuates when the on-off valves 40 and 41 are switched, and the pressure in the vaporizer 34 also fluctuates. In addition, since it takes time until the pressure in the vaporizer 34 is stabilized, there is a problem in terms of stable supply.
【０００８】本発明は、上述の事柄に留意してなされた
もので、その目的とするところは、下流側に圧力の異な
るの複数の供給ラインが存在するにかかわらず、常に所
定流量の気化ガスを安定して発生することができ、併せ
て構造が簡単で、コンパクトでしかも廉価な液体材料気
化供給装置を提供することにある。The present invention has been made in consideration of the above-mentioned matters, and an object of the present invention is to provide a device having a different pressure on the downstream side.
The present invention provides a liquid material vaporizing and supplying apparatus which can stably generate a predetermined flow rate of vaporized gas regardless of the presence of a plurality of supply lines , and has a simple structure, is compact, and is inexpensive. It is in.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、本発明は、加熱により液体材料を直接気化させる気
化室の一端側に、液体材料源に接続されると共に、液体
流量コントローラを備えた液体導入管と、キャリアガス
源に接続されると共に、質量流量コントローラを備えた
キャリアガス導入管とを接続し、気化室の他端側には、
気化ガス導出管を接続すると共に、この気化ガス導出管
の下流側に圧力の異なる複数の供給ラインが接続され、
気化によって生じたガスを当該気化ガス導出管から下流
側の供給ラインへキャリアガスによって導出するように
した液体材料気化供給装置において、前記気化ガス導出
管に圧力センサと圧力調整のための弁を設け、圧力セン
サの検出出力に基づいて前記弁の開閉度合いを制御する
ようにして前記気化ガス導出管内の圧力を調整し、気化
室内の圧力を一定に保つようにしている。Means for Solving the Problems] To achieve the above object, the present onset Ming, at one end of the vaporizing chamber for vaporizing the liquid material directly by heating, is connected to the liquid material source, a liquid flow controller A liquid introduction pipe provided, connected to a carrier gas source and connected to a carrier gas introduction pipe equipped with a mass flow controller, and the other end of the vaporization chamber is
Connect the vaporized gas outlet pipe and this vaporized gas outlet pipe.
A plurality of supply lines with different pressures are connected downstream of
Downstream the gas produced by the vaporization of the vaporized gas outlet pipe
In the liquid material vaporization supply device, which is led out by the carrier gas to the supply line on the side, a pressure sensor and a valve for pressure adjustment are provided in the vaporization gas lead-out pipe, and the valve is opened and closed based on the detection output of the pressure sensor. The pressure in the vaporized gas outlet pipe is adjusted by controlling the degree ,
The room pressure is kept constant .
【００１０】[0010]
【作用】上記特徴構成によれば、圧力センサの検出出力
に基づいて、気化ガス導出管に設けられた弁の開閉度合
いを制御するようにして前記気化ガス導出管内の圧力を
調整し、気化室内の圧力を一定に保つようにしているの
で、常に所定流量の気化ガスを安定して供給することが
できる。したがって、圧力の異なる複数の気化ガス供給
ラインの切換え行って気化ガスの流量変動が生じても、
気化室内の圧力を一定に保つように働く。しかも、圧力
調整は、気化ガス導出管に設けられた弁の開閉度合いを
制御するようにして行われるので、基本的には弁以外の
他の圧力調整用の機器を必要としない。According to the above characteristic configuration, the pressure in the vaporized gas outlet pipe is adjusted by controlling the degree of opening and closing of a valve provided in the vaporized gas outlet pipe based on the detection output of the pressure sensor. Is kept constant, so that a predetermined flow rate of vaporized gas can always be supplied stably. Therefore, a plurality of vaporized gas supplies with different pressures
Even if the gas flow rate fluctuates due to line switching,
It works to keep the pressure inside the vaporization chamber constant. In addition, the pressure adjustment is performed by controlling the degree of opening and closing of a valve provided in the vaporized gas outlet pipe, so that basically no pressure adjusting device other than the valve is required.
【００１１】[0011]
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１２】図１は本発明に係る液体材料気化供給装置
の一例を示し、この図において、１は例えばステンレス
鋼など熱伝導性並びに耐腐食性の良好な金属よりなるパ
イプで、例えばアルミニウムなど熱伝導性の良好なヒー
タブロック２に開設された貫通孔３内を挿通するように
設けられている。ヒータブロック２内にはヒータブロッ
ク２およびパイプ１を加熱するためのヒータ４が内蔵さ
れている。FIG. 1 shows an example of a liquid material vaporizing / supplying apparatus according to the present invention. In this figure, reference numeral 1 denotes a pipe made of a metal having good thermal conductivity and corrosion resistance such as stainless steel, for example. The heater block 2 is provided so as to pass through the through hole 3 formed in the heater block 2 having good conductivity. A heater 4 for heating the heater block 2 and the pipe 1 is built in the heater block 2.
【００１３】そして、パイプ１のヒータブロック２内の
部分には、熱伝導性並びに耐腐食性の良好な粉体５が充
填されていると共に、その上流側の入口側には液体導入
管８（後述する）が挿入してあって、気化室６に形成し
てある。粉体５としては例えばステンレス鋼やチタンな
どの金属またはＳｉＣなどのセラミックスを、直径が１
００μｍ以上、好ましくは１２０μｍ程度の粉体に形成
したものが用いられる。７Ａ, ７Ｂは気化室６の両端部
近傍に設けられるメッシュ体で、粉体５が気化室６から
出ないようにするためにその網目の大きさは例えば２０
μｍ程度にしてあり、下流側のメッシュ体７Ｂはフィル
タとしても機能する。A portion of the pipe 1 inside the heater block 2 is filled with powder 5 having good thermal conductivity and corrosion resistance, and a liquid introduction pipe 8 (at the upstream inlet side). (To be described later) are inserted and formed in the vaporization chamber 6. Examples of the powder 5 include metals such as stainless steel and titanium or ceramics such as SiC.
What is formed into a powder having a size of 00 μm or more, preferably about 120 μm is used. 7A and 7B are mesh bodies provided near both ends of the vaporization chamber 6, and the mesh size thereof is, for example, 20 to prevent the powder 5 from coming out of the vaporization chamber 6.
The mesh 7B on the downstream side also functions as a filter.
【００１４】８は液体材料Ｌを気化室６内に導入するた
めのキャピラリのような細管９（内径が例えば０．４m
m）を備えた液体導入管で、パイプ１の上流側にこれと
同心状に設けられている。この液体導入管８の上流側は
液体流量コントローラ１０を介して液体材料源（図外）
に接続され、下流側は、上流側のメッシュ体７Ａを貫通
してこのメッシュ体７Ａよりも下流側、すなわち、気化
室６内に突設され、先端には粉体５の直径よりも小さい
内径（例えば０．１mm）を有する細径部１１が形成され
ており、この細径部１１は粉体５が充填された部分に挿
入されている。Reference numeral 8 denotes a capillary-like thin tube 9 (with an inner diameter of, for example, 0.4 m) for introducing the liquid material L into the vaporization chamber 6.
m), which is provided concentrically upstream of the pipe 1. A liquid material source (not shown) is provided upstream of the liquid introduction pipe 8 via a liquid flow controller 10.
The downstream side penetrates the mesh body 7A on the upstream side, and is provided downstream from the mesh body 7A, that is, protrudes into the vaporization chamber 6, and the tip has an inner diameter smaller than the diameter of the powder 5. A small-diameter portion 11 having a thickness of, for example, 0.1 mm is formed, and the small-diameter portion 11 is inserted into a portion filled with the powder 5.
【００１５】１２は接続部１３と気化室６との間におい
てパイプ１に接続されるブロック状の管継手で、熱伝導
性並びに耐腐食性の良好な金属（例えばステンレス鋼）
よりなり、その上流側にはキャリアガス源（図外）に接
続された曲がりくねったキャリアガス導入管１４が接続
されている。ここで用いられるキャリアガスとしては、
Ｈ2 ，Ｈｅ，Ｎ2 などがある。Reference numeral 12 denotes a block-shaped pipe joint which is connected to the pipe 1 between the connecting portion 13 and the vaporizing chamber 6, and is a metal having good thermal conductivity and corrosion resistance (for example, stainless steel).
A winding carrier gas inlet pipe 14 connected to a carrier gas source (not shown) is connected to the upstream side. As the carrier gas used here,
H 2 , He, N 2 and the like.
【００１６】キャリアガス導入管１４とキャリアガス源
（図外）との間には、キャリアガスの質量流量を測定す
ると共に、ガス流量を制御する質量流量コントローラ１
５が設けてある。また、１６はヒータブロック２、管継
手１１およびキャリアガス導入管１３を収容するための
断熱構造のハウジングである。A mass flow controller 1 for measuring the mass flow rate of the carrier gas and controlling the gas flow rate is provided between the carrier gas introduction pipe 14 and a carrier gas source (not shown).
5 are provided. Reference numeral 16 denotes a housing having a heat insulating structure for housing the heater block 2, the pipe joint 11, and the carrier gas introduction pipe 13.
【００１７】１７は圧力センサ１８および圧力調整器１
９を備えた気化ガス導出管で、その下流側には接続部２
０を介して気化ガス供給ライン２１, ２２が接続され、
この気化ガス供給ライン２１, ２２は、例えば半導体製
造装置（図外）や化学蒸着装置（図外）に気化ガスを供
給するように構成されている。なお、２３, ２４は開閉
弁、２５は気化ガスが再冷却によって液化されるのを防
止するためのヒータである。Reference numeral 17 denotes a pressure sensor 18 and a pressure regulator 1
9 is a vaporized gas discharge pipe provided with a connecting portion 2 downstream thereof.
0, the vaporized gas supply lines 21 and 22 are connected,
The vaporized gas supply lines 21 and 22 are configured to supply vaporized gas to, for example, a semiconductor manufacturing apparatus (not shown) or a chemical vapor deposition apparatus (not shown). Reference numerals 23 and 24 denote on-off valves, and reference numeral 25 a heater for preventing the vaporized gas from being liquefied by re-cooling.
【００１８】前記圧力センサ１８は、例えば半導体圧力
センサや静電容量式圧力センサよりなり、気化ガス導出
管１７内を流れる気化ガスの圧力を検出し、電気的な検
出出力ａを出力するものである。そして、圧力調整器１
９は、例えば圧電アクチュエータなどによって弁を開閉
するように構成されたピエゾバルブよりなり、前記圧電
アクチュエータに直流電圧を印加すると、その印加電圧
の大きさに応じて弁が開閉され、この弁の開閉の度合に
よって圧力を調整するものである。The pressure sensor 18 comprises, for example, a semiconductor pressure sensor or a capacitance type pressure sensor, detects the pressure of the vaporized gas flowing through the vaporized gas outlet pipe 17, and outputs an electric detection output a. is there. And the pressure regulator 1
Numeral 9 is a piezo valve configured to open and close a valve by, for example, a piezoelectric actuator. When a DC voltage is applied to the piezoelectric actuator, the valve is opened and closed according to the magnitude of the applied voltage. The pressure is adjusted according to the degree.
【００１９】２６は例えばコンピュータなどよりなる制
御部であり、前記出力信号ａが入力されると共に、内部
に予め記憶してある設定値と比較することによって、制
御信号ｂを出力する。そして、この制御信号ｂによって
圧電アクチュエータへの供給電圧が制御される。Reference numeral 26 denotes a control unit composed of, for example, a computer. The control unit 26 receives the output signal a and outputs a control signal b by comparing the output signal a with a set value stored in advance. The control signal b controls the voltage supplied to the piezoelectric actuator.
【００２０】而して、上記構成の液体材料気化供給装置
の動作について説明すると、先ず、ヒータ４を発熱させ
て気化室６内に充填された粉体５を所定の温度に加熱す
る。この状態において、質量流量コントローラ１５によ
って一定流量に制御されたキャリアガスＫをキャリアガ
ス導入管１４を経てパイプ１内に導入しながら液体導入
管８を介して液体流量コントローラ１０によって流量調
整された液体材料Ｌを気化室６に導入する。このとき、
液体材料Ｌは細径部１１を経て加熱された粉体５内に導
入されて粉体５と接触し、その接触面積が大きいため、
液体材料Ｌは短時間のうちに気化して所望のガスにな
る。The operation of the apparatus for vaporizing and supplying a liquid material having the above construction will be described. First, the heater 4 is heated to heat the powder 5 filled in the vaporizing chamber 6 to a predetermined temperature. In this state, while the carrier gas K controlled at a constant flow rate by the mass flow controller 15 is introduced into the pipe 1 through the carrier gas introduction pipe 14, the liquid whose flow rate has been adjusted by the liquid flow controller 10 through the liquid introduction pipe 8. The material L is introduced into the vaporization chamber 6. At this time,
The liquid material L is introduced into the heated powder 5 through the small-diameter portion 11 and comes into contact with the powder 5, and the contact area is large.
The liquid material L is vaporized in a short time to become a desired gas.
【００２１】そして、前記気化により発生したガスは、
パイプ１およびメッシュ体７Ａを経て気化室６内に導入
されているキャリアガスＫによって速やかに、下流側の
メッシュ体７Ｂを経て、下流側の気化ガス導出管１７に
導出され、圧力センサ１８および圧力調整器１９を介し
て下流側の気化ガス供給ライン２１, ２２に気化ガスＧ
が供給される。The gas generated by the vaporization is
By the carrier gas K introduced into the vaporization chamber 6 via the pipe 1 and the mesh body 7A , the downstream side
After passing through the mesh body 7B , the vaporized gas G is led to the vaporized gas outlet pipe 17 on the downstream side, and is supplied to the vaporized gas supply lines 21 and 22 on the downstream side via the pressure sensor 18 and the pressure regulator 19.
Is supplied.
【００２２】このとき、圧力センサ１８で測定される管
内の圧力を所定圧に保つように圧力調整器１９を調整す
ることにより、気化室６内の圧力を常に一定に保つこと
ができる。At this time, the pressure in the vaporization chamber 6 can be always kept constant by adjusting the pressure regulator 19 so that the pressure in the pipe measured by the pressure sensor 18 is kept at a predetermined pressure.
【００２３】上記圧力調整器１９の制御は、制御部２６
によって、圧力センサ１８の圧力変化に基づいて圧力調
整器１９の調整を行うことにより、気化室６内の圧力調
整を自動化することが可能である。The control of the pressure regulator 19 is performed by a control unit 26.
Thus, by adjusting the pressure regulator 19 based on the pressure change of the pressure sensor 18, the pressure adjustment in the vaporization chamber 6 can be automated.
【００２４】即ち、圧力センサ１８からの出力信号ａを
制御部２６に入力し、予め設定された圧力値との比較を
行う。そして、出力値と設定値とが異なる場合には、圧
力センサ１８の出力ａが所定の値に保たれるように制御
部２６からの制御信号ｂによって圧力調整器１９におけ
る圧電アクチュエータに印加する直流電圧を制御するこ
とで、弁は所定の開度に調整される。これによって、気
化室６内の圧力は一定に制御されるのである。That is, the output signal a from the pressure sensor 18 is input to the control unit 26 and is compared with a preset pressure value. When the output value is different from the set value, the DC signal applied to the piezoelectric actuator in the pressure regulator 19 is controlled by the control signal b from the control unit 26 so that the output a of the pressure sensor 18 is maintained at a predetermined value. By controlling the voltage, the valve is adjusted to a predetermined opening. As a result, the pressure in the vaporization chamber 6 is controlled to be constant.
【００２５】したがって、開閉弁２３, ２４を開閉する
ことによって気化ガス供給ライン２１, ２２の切換えを
行ったとしても、前記圧力調整器１９によって気化室６
内の圧力は一定に保たれているので、常に所定流量の気
化ガスＧを安定して供給することができるのである。Therefore, even if the vaporized gas supply lines 21 and 22 are switched by opening and closing the on-off valves 23 and 24, the vaporization chamber 6 is controlled by the pressure regulator 19.
Since the internal pressure is kept constant, the vaporized gas G at a predetermined flow rate can always be supplied stably.
【００２６】なお、上記実施例においては、ヒータブロ
ック２, 管継手１２およびキャリアガス導入管１４が断
熱構造のハウジング１６内に設けてあるので、外周の温
度に影響されることなく、液体材料Ｌの気化が行われ
る。特に、キャリアガス導入管１４がヒータブロック２
からの輻射熱によって加熱され、キャリアガスＫがある
程度の温度に保温されているので、気化ガスＧとの温度
差がほとんどなく、その上、ヒータ２５を設けてあるの
で、気化ガスＧが冷却されて液化されるといったことが
防止される。In the above embodiment, since the heater block 2, the pipe joint 12, and the carrier gas introducing pipe 14 are provided in the housing 16 having a heat insulating structure, the liquid material L is not affected by the temperature of the outer periphery. Is vaporized. In particular, the carrier gas introduction pipe 14 is
Since the carrier gas K is heated to a certain temperature by the radiant heat from the heater, there is almost no temperature difference from the vaporized gas G, and further, since the heater 25 is provided, the vaporized gas G is cooled. Liquefaction is prevented.
【００２７】[0027]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
圧力センサの検出出力に基づいて、気化ガス導出管に設
けられた弁の開閉度合いを制御するようにして前記気化
ガス導出管内の圧力を調整し、気化室内の圧力を一定に
保つようにしているので、常に所定流量の気化ガスを安
定して供給することができる。したがって、この気化ガ
ス導出管の下流側にある圧力の異なる複数の供給ライン
の切り換えを行って、気化ガスの流量変動が生じても、
気化室内の圧力を不必要に変動させる恐れがなくなり、
所定量の気化ガスを安定して発生できる。併せて、基本
的には、圧力の調整に弁以外の他の圧力調整用の機器を
必要としないので、液体材料気化供給装置そのものの構
造を簡単に、しかもコンパクトに纏めることができ、し
たがってまた、廉価に提供できる。As described above, according to the present invention,
Based on the detection output of the pressure sensor, the opening / closing degree of a valve provided in the vaporized gas outlet pipe is controlled to adjust the pressure in the vaporized gas outlet pipe so as to keep the pressure in the vaporizing chamber constant. Therefore, a predetermined flow rate of the vaporized gas can always be supplied stably. Therefore, this vaporizing gas
Supply lines at different pressures downstream of the outlet pipe
Even if the change of vaporized gas flow rate occurs by switching
There is no danger of unnecessarily fluctuating the pressure in the vaporization chamber,
A predetermined amount of vaporized gas can be generated stably. At the same time, basically, no other pressure adjusting device other than the valve is required for adjusting the pressure, so that the structure of the liquid material vaporizing and supplying device itself can be simply and compactly assembled. , Can be provided at a low price.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図１】本発明に係る液体材料気化供給装置の一例を示
す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of a liquid material vaporization supply device according to the present invention.
【図２】気化器を用いた液体材料気化供給装置の一例を
示す概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram illustrating an example of a liquid material vaporization supply device using a vaporizer.
６…気化室、８…液体導入管、１０…液体流量コントロ
ーラ、１４…キャリアガス導入管、１５…質量流量コン
トローラ、１７…気化ガス導出管、１８…圧力センサ、
１９…弁，２１，２２…気化ガス供給ライン。6 ... vaporization chamber, 8 ... liquid introduction pipe, 10 ... liquid flow controller, 14 ... carrier gas introduction pipe, 15 ... mass flow controller, 17 ... vaporized gas outlet pipe, 18 ... pressure sensor ,
19 ... valves, 21, 22 ... vaporized gas supply lines .
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−244332（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−47437（ＪＰ，Ａ) 実開 昭56−59134（ＪＰ，Ｕ) 社団法人日本機械学会編「機械工学便 覧」（Ｓ62−４−15）社団法人日本機械 学会ｐ．Ｂ１−166 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01D 1/00 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-60-244332 (JP, A) JP-A-64-47437 (JP, A) JP-A-56-59134 (JP, U) Japan Society of Mechanical Engineers “Mechanical Engineering Handbook” (S62-4-15), Japan Society of Mechanical Engineers, p. B1-166 (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B01D 1/00
Claims (1)
化室の一端側に、液体材料源に接続されると共に、液体
流量コントローラを備えた液体導入管と、キャリアガス
源に接続されると共に、質量流量コントローラを備えた
キャリアガス導入管とを接続し、気化室の他端側には、
気化ガス導出管を接続すると共に、この気化ガス導出管
の下流側に圧力の異なる複数の供給ラインが接続され、
気化によって生じたガスを当該気化ガス導出管から下流
側の供給ラインへキャリアガスによって導出するように
した液体材料気化供給装置において、前記気化ガス導出
管に圧力センサと圧力調整のための弁を設け、圧力セン
サの検出出力に基づいて前記弁の開閉度合いを制御する
ようにして前記気化ガス導出管内の圧力を調整し、気化
室内の圧力を一定に保つようにしたことを特徴とする液
体材料気化供給装置。At least one end of a vaporization chamber for directly vaporizing a liquid material by heating is connected to a liquid material source, connected to a liquid introduction pipe having a liquid flow controller, a carrier gas source, and has a mass. Connected to a carrier gas introduction pipe equipped with a flow rate controller, the other end of the vaporization chamber,
Connect the vaporized gas outlet pipe and this vaporized gas outlet pipe.
A plurality of supply lines with different pressures are connected downstream of
Downstream the gas produced by the vaporization of the vaporized gas outlet pipe
In the liquid material vaporization supply device, which is led out by the carrier gas to the supply line on the side, a pressure sensor and a valve for pressure adjustment are provided in the vaporization gas lead-out pipe, and the valve is opened and closed based on the detection output of the pressure sensor. The pressure in the vaporized gas outlet pipe is adjusted by controlling the degree ,
An apparatus for vaporizing and supplying a liquid material, wherein the pressure in the room is kept constant .
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| JPH05192501A JPH05192501A (en) | 1993-08-03 |
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