JP3197871U - 流体力学的反応器 - Google Patents

Abstract

【課題】触媒システムの存在下においてメタノールおよび／またはその反応性誘導体のカルボニル化を利用した酢酸の生成に用いられる反応器の不十分な気体／液体混合結果および液体反応媒質中での不十分な気体滞留時間を解消する流体力学的反応器を提供する。【解決手段】反応器は、円筒部分１と上部格納機構２および底部格納機構３を含む垂直円筒形の構造体として構成されている。反応器内部には、液体注入孔４、液体注入ノズル５、気体排出口６、バッフル７、水平基底要素１１、垂直および傾斜外周壁１２、１３、気体注入孔８、気体分配器９および液体排出口１０等の要素が、気相分散充填および液相散布充填というアプローチを組み合わせて配置されており、これにより利用可能な反応容積と反応器に供給される反応物質の効率的な利用が確保される。【選択図】図１

Description

本考案は流体力学的反応器に関するものである。

ロジウムもしくはイリジウムを基礎とする触媒システムの存在下におけるメタノールおよび／またはその反応性誘導体のカルボニル化の利用はよく知られており、またそれは酢酸の生成において世界的に商業的に利用されている。ロジウム触媒の存在下におけるメタノールおよび／またはその反応性誘導体のカルボニル化による酢酸の生産は、例えば、ＧＢ−Ａ−１，２３３，１２１、ＥＰ ０３８４６５２およびＥＰ ０３９１６８０といった特許文献に述べられている。イリジウム触媒の存在下におけるメタノールおよび／またはその反応性誘導体のカルボニル化による酢酸の生産は、例えば、ＧＢ−Ａ−１，２３４，６４１、ＵＳ−Ａ−３７７２３８０、ＥＰ ０６１６９９７、ＥＰ ０６１８１８４、ＥＰ ０７８６４４７、ＥＰ ０６４３０３４、およびＥＰ ０７５２４０６といった特許文献に述べられている。酢酸生産のためのそれらの工程では、カルボニル反応は液相で生じており、したがって、気相状態にある一酸化炭素反応物質を液相状態にあるメタノールおよび／またはその反応性誘導体と混合することが必要となる。一般的には、完全な気体−液体および液体−液体混合を達成するため、反応器内における機械的手段が採用されている。しかしながら、酢酸合成工程中に存在する大量の腐食性構成物質のため、高いレベルの腐食が機械的に回転する機械部分のシールや混合装置を侵し、混合装置を損傷させ、また装置を停止させるという結果をもたらし、連続操業を困難とする潜在的な可能性が存在する。このことから、酢酸合成に利用するための優れた気体／液体混合を達成可能な新しい反応器の設計に対する需要が生じている。

特許文献であるＣＮ２０３２０９０６１Ｕは一つの流体力学的反応器を開示しており、それは一つの気体排出口、一つのバッフル、一つの液体散布モジュール、一つの気体注入孔、一つの気体分配器、一つの液体排出口および一つの液体注入孔を含んでいて、気体注入孔は反応器の下部側部に、気体排出口は反応器の上部に位置し、また液体注入孔は反応器の基底部に位置しており、そこには複数の液体排出口が反応器の底端部カバーの二つの側面上で対称的に配置されており、さらに気体分配器はバッフルと液体散布モジュールの間に配置され、そのバッフルは反応器の上端カバーの直ぐ下に配置されていて、そのバッフルには複数の気体排出孔が開けられている。上記特許文献ＣＮ２０３２０９０６１Ｕに与えられている反応器の設計では、バッフル・パンより上方での気体と液体の混合において理想的な混合を達成できない可能性があり、バッフルより上方において一酸化炭素が欠乏する状態を導く可能性がある。そして、液体および気体のいずれについても上方に向かう流れを生じさせてしまう可能性もあり、このことは一酸化炭素を液体反応媒質表面から散逸させてしまい、その液相中に一酸化炭素を溶解させてカルボニル化反応で消費するのに必要な十分な時間だけ一酸化炭素を滞留させられないことを意味する。そこで、液相媒体中の一酸化炭素の濃度が欠乏し、したがってカルボニル化反応が生じ得ないような反応器内の容積部分を最小化、あるいは除去し得るような、および／または一酸化炭素を液体反応媒質表面から散逸させてしまい、その液相中に一酸化炭素を溶解させてカルボニル化反応で消費するのに必要な十分な時間だけ一酸化炭素を滞留させられないことを最小化、あるいは除去し得るような反応器の設計が依然として求められている。

現在の技術に関連する技術的問題であって、本考案が解決すべき課題として捉えているものは、不十分な気体／液体混合結果および液体反応媒質中での不十分な気体滞留時間である。本考案によって提供される反応器は、良好な気体／液体混合と気相および液体反応媒質中に溶解した気体の滞留時間を最大化することを目的とする。

上述の技術的問題を解決するため、本考案の技術的構想は、一つの流体力学的反応器であって、該反応器は、一つの円筒部分（１）、上部格納機構（２）および一つの底部格納機構（３）を含む垂直円筒形の構造体として構成されており、底部格納機構（３）は下方に延在する一つの曲面状の格納機構であり、そして反応器は、一つの液体注入孔（４）、一つの液体注入ノズル（５）、一つの気体排出口（６）、一つのバッフル（７）、一つの気体注入孔（８）、一つの気体分配器（９）および一つの液体排出口（１０）を含むものであり、ここで
−液体注入孔（４）は、反応器の上部に配置され、反応器の円筒部分（１）の上部もしくは近傍において半径方向の中心位置に配置された液体注入ノズル（５）に接続され、そして液体を下方に放出するように構成されており；
−気体放出孔（６）は、反応器の上部格納機構の中に配置されており；
−バッフル（７）は、反応器の底部格納機構（３）の中において半径方向の中心位置に配置されており、バッフル（７）は、一つの水平基底要素（１１）、該水平基底要素（１１）に関して上方に延在する一つの垂直外周壁（１２）、および水平基底要素（１１）と垂直外周壁（１２）を接続する一つの傾斜外周壁（１３）を含み；
−気体注入孔（８）は、反応器の底部に配置されていて、かつ気体分配器（９）に接続されており；
−気体分配器（９）は、バッフル（７）の垂直外周壁（１２）によって規定される直径上の半径方向の中心位置、かつ水平基底要素（１１）に比べ低くなく、および垂直外周壁（１２）の最上部より高くない垂直位置に配置されるか、もしくはバッフル（７）の垂直外周壁（１２）によって規定される直径上の半径方向の中心位置、かつ垂直外周壁（１２）の最上部より高い垂直位置に配置され、気体分配器（９）が、バッフル（７）内に規定される空間（容積）に向けて気体を放出するように構成されており；
−液体排出口（１０）は、反応器の底部格納機構（３）の最底部において半径方向の中心位置に配置されており；
−反応器の円筒部分（１）の直径（Ｄ）の、反応器の円筒部分（１）の高さ（Ｂ）に対する比が１．５：１から１：３の範囲内にあるとともに、反応器の円筒部分（１）の高さ（Ｂ）の、反応器の全高（Ｃ）に対する比が１：１から１：３の範囲にあり；
−バッフル（７）の水平基底要素（１１）の半径（Ｎ）の、バッフル（７）の垂直外周壁（１２）の半径（Ｏ）に対する比が０．３：１から０．９５：１の範囲内にあるとともに、バッフル（７）の垂直外周壁（１２）の高さ（Ｊ）の、バッフル（７）の垂直外周壁（１２）の半径（Ｏ）に対する比が１：１５から１：５の範囲にあり；かつ、
−底部格納機構（３）の内表面と垂直外周壁（１２）および傾斜外周壁（１３）が交わる部分である接線との間に第一のギャップ（Ｋ）が設けられ、かつ、底部格納機構（３）の内表面と傾斜外周壁（１３）と水平基底要素（１１）が交わる部分である接線との間に第二のギャップ（Ｌ）が設けられ、さらに反応器の円筒部分（１）の直径（Ｄ）の、第一ギャップ（Ｋ）の長さに対する比が１０：１から８０：１の範囲内にあり、かつ反応器の円筒部分（１）の直径（Ｄ）の、第二ギャップ（Ｌ）に対する比が１０：１から８０：１の範囲内にあるように、前記バッフル（７）が配置される流体力学的反応器、を含む。

一つの好ましい配置では、気体分配器（９）は、水平基底要素（１１）より上方およびバッフル（７）の外周壁（１）の最上部より下方に垂直配置される。

一つの好ましい配置では、気体分配器（９）は一つのリング型気体分配器である。このリング型気体分配器との用語には、二重リング型気体分配器および他の気体分配器における多重リング形態が含まれる。

一つの特別の実施例では、気体分配器（９）は一つのリング型気体分配器であって、該気体分配器（９）の半径（Ｍ）はバッフル（７）の水平基底要素（１１）の半径（Ｎ）よりも大きく、かつバッフル（７）の垂直外周壁（１２）の半径（Ｏ）よりも小さい。

もう一つの特別の実施例では、気体分配器（９）は、一つのリング型気体分配器であって、該気体分配器（９）の半径（Ｍ）はバッフル（７）の水平基底要素（１１）の半径（Ｎ）よりも小さく、かつバッフル（７）の垂直外周壁（１２）の半径（Ｏ）よりも小さい。

さらに、もう一つの特別の実施例では、気体分配器（９）は、一つのリング型気体分配器であって、該気体分配器（９）の半径（Ｍ）の、バッフル（７）の垂直外周壁（１２）の半径（Ｏ）に対する比が０．７５：１から０．９５：１の範囲にある。

一つの好ましい配置では、バッフル（７）の水平基底要素（１１）の上方に位置する気体分配器（９）の高さ（Ｅ）の、垂直外周壁（１２）の半径（Ｏ）に対する比が０．１５：１から０．５：１の範囲にある。

一つの好ましい配置では、バッフル（７）の水平基底要素（１１）は反応器の円筒部分（１）の最底部から第一距離（Ｈ）だけ下方に位置し、かつバッフル（７）の垂直外周壁（１２）の最上部は反応器の円筒部分（１）の最底部より第二距離（Ｉ）だけ下方に位置しており、ここで、第一距離（Ｈ）の、反応器の円筒部分（１）の高さ（Ｂ）に対する比が０．１５：１から０．５：１の範囲内にあるとともに、第二距離（Ｉ）の、反応器の円筒部分（１）の高さ（Ｂ）に対する比が０．１：１から０．３：１の範囲内にある。

一つの好ましい配置では、液体注入ノズル（５）の直径（Ｇ）の、反応器の円筒部分（１）の直径（Ｄ）に対する比が１：１００から１：５の範囲内にあるとともに、液体注入ノズル（５）が反応器の円筒部分（１）の最上部から距離（Ａ）だけ下に位置しており、ここで、該距離（Ａ）の、反応器の円筒部分（１）の高さ（Ｂ）に対する比が１：１０から１：２．５の範囲内にある。

一つの好ましい配置では、液体排出口（１０）の直径（Ｆ）の、反応器の円筒部分（１）の直径（Ｄ）に対する比が１：２０から１：５の範囲内にある。

一つの好ましい配置では、上部格納機構（２）は上方に延在する半球面状の格納機構であるとともに、下部各納機構（３）は下方に延在する半球面状の格納機構である。

本考案によれば、液体散布モジュールの下向きの散布は、液体反応媒体中における自然な上方向の気体の流れとは正反対の向きとなる。液体の下向きの流れの結果、気体分配器から放たれる気体の少なくとも一部はバッフルの中に向かう液体の流れの中に運ばれ、バッフルに衝突する該液体は、その結果、気体分配器から放たれた気体（気泡あるいは溶解のいずれか）を、液体の流れの中に運ぶ上方向に向きを変えさせる。液体反応媒体は、反応器の最底部に位置する液体排出口を経て反応器から取り除かれる。反応器の中に導入された液体の下向きの流れの配置、バッフルの位置および構成、液体排出口の位置の結果、反応器のあらゆる場所において良好な気体／液体混合が達成される。前述した液体散布モジュールの液相散布は垂直方向下向きに噴き出され、一方、レディゥーシング・パイプ（ｒｅｄｕｃｉｎｇ ｐｉｐｅ）により流速の増加が引き起こされる；前述の気体分配器は、好ましくは一つのリング型気体分配器であり、互いに均等に隔てられた複数の排気孔を有しているため、気相の均一な分布を促進させる。気相分散充填と液相散布充填というアプローチを組み合わせること、およびバッフルの効果とも相まって、本考案は、反応堆積を最大化させ、また反応器内での効果的な気体／液体混合を達成するものであり、よって機械的混合において生じる不安定性問題を除去するとともに反応器内のいわゆるデッドゾーンを減少させる。本考案に係る流体力学的反応器は、ロジウムあるいはイリジウムを基礎とする触媒システムの存在下において、メタノールおよび／またはその反応性誘導体のカルボニル化による酢酸の液相製造で用いることを目的とするものであり、また高い酢酸収量と高い一酸化炭素変換を達成することが可能である。

図１は、本考案に係る反応器の側面図であり、その断面を図示するものである。 図２は、本考案に係るバッフルと気体分配器の配置を図示する上面図である。

図１および２において、要素番号（１）は反応器の円筒部分、要素番号（２）は上部格納機構、要素番号（３）は底部格納機構、要素番号（４）は液体注入孔、要素番号（５）は液体ノズル、要素番号（６）は気体排出口、要素番号（７）はバッフル、要素番号（８）は気体注入孔、要素番号（９）は気体分配器、要素番号（１０）は液体排出口、要素番号（１１）は水平基底要素、要素番号（１２）はバッフル（７）の垂直外周壁、要素番号（１３）はバッフル（７）の傾斜外周壁、要素指標（Ａ）は液体ノズル（５）が円筒部分（１）より下方に位置する距離、要素指標（ｂ）は円筒部分（１）の高さ、要素指標（Ｃ）は反応器の全高、要素指標（Ｄ）は円筒部分（１）の直径、要素指標（Ｅ）は水平基底要素（１１）の上方に位置する気体分配器（９）の高さ、要素指標（Ｆ）は液体放出口（１０）の直径、要素指標（Ｇ）は液体ノズル（５）の直径、要素指標（Ｈ）は反応器の円筒部分（１）の最底部から下方に向かう第一距離、要素指標（Ｉ）は反応器の円筒部分（１）の最底部から下方に向かう第二距離、要素指標（Ｊ）は垂直外周壁（１２）の高さ、要素指標（Ｋ）は底部格納機構（３）の内表面と垂直外周壁（１２）および傾斜外周壁（１３）が交わる部分である接線との間の第一のギャップ、要素指標（Ｌ）は底部格納機構（３）の内表面と傾斜外周壁（１３）と水平基底要素（１１）が交わる部分である接線との間の第二のギャップ、要素指標（Ｍ）は気体分配器（９）の直径、要素指標（Ｎ）は水平基底要素（１１）の直径、および要素指標（Ｏ）は垂直外周壁（１２）の半径である。

本考案に係る反応器は主に：一つの反応器であって、一つの円筒部分（１）、一つの上部格納機構（２）および一つの底部格納機構（３）からなる反応器；一つの液体注入孔であって、一つの液体ノズル（５）に接続された液体注入孔（４）；一つの気体放出口（６）；一つのバッフルであって、一つの水平基底要素（１１）を含むバッフル（７）；一つの垂直外周壁（１２）および一つの傾斜外周壁（１３）；一つの気体注入孔であって、一つの気体分配器（９）に接続された気体注入口（８）；および、一つの液体放出口（１０）を含む。カルボニル化工程において本反応器を使用すると、反応器は液体反応媒体によって満たされ、その高さは液体ノズル（５）の放出孔よりも上にあり、典型的には反応器の円筒部分（１）の最上部となる。液体の反応物質、例えば一酸化炭素、を含む液体反応媒体の流れは、バッフル（７）の上部に位置する気体分配器（９）を通って反応器に入る。液体反応物質、例えば、メタノールおよび／またはその反応性誘導体、を含む液体反応媒体の下向きの流れは、液体ノズル（５）から下向きの流れに乗って反応器内に入り、その流れはバッフル（７）に衝突する。気体状の反応物質、例えば、一酸化炭素、は、バッフル（７）の上方に配置された気体分配器（９）を通って反応器の中に入る。液体反応媒体の下向きの流れは、気体状の反応媒体が反応器内に導入される領域に流れ込み、そして液体反応媒体の流れは少なくとも気体状の反応媒体の一部をその流れの中に取り込んで、バッフル（７）に衝突する。バッフル（７）に衝突する液体反応媒体の流れは、該バッフル（７）の上でその水平基底要素（１１）を横切るように向きを変えられ、またバッフル（７）の傾斜外周壁（１３）の傾斜角度および垂直外周壁（１２）を介して上方にその向きを変えられ、実質的な後方混合が形成されて液体反応部媒体の中に気体状の反応物質が滞留する時間を増加させる。液体および気体は混合され、そしてバッフル（７）の上方に存在する反応器の領域全体に循環させられるが、これは上述のバッフル（７）に衝突する液体反応媒質の下向きの流れの結果として生じるものである。反応生成物、例えば、カルボニル化反応の生成物、を含む液体反応媒質は、反応器の最底部に位置する液体排出口（１０）を通って反応器から引き出される。バッフル（７）の下方に位置する液体排出口（１０）を経て行われる液体反応媒体の連続的な引き出しは、高さ制御を介して反応器の円筒部分（１）の最上部に液面高さを一定に維持し、液体ノズル（５）が液面に沈んでいるように保つとともに、反応器内で気体状の反応物質を含む液体反応媒体を循環させる。液体ノズル（５）を通って反応器内に流入する液体の流入速度は、バッフル（７）の位置と同様に、調節することができるとともに、気体分配器（９）および液体ノズル（５）も、反応器全体にわたる完全な混合を確かにするように設定することができ、これにより一酸化炭素が欠乏して、反応が一切生じなくなるようなデッドスポットが反応器内に生じることがないようになり、また過混合も生じない。この「過混合」との用語は、反応器内の液体反応媒質の表面が広範囲にわたってかき混ぜられ、または撹拌されるほど気体および液体が混合されることを意味し、そのような過混合は、反応器に供給される気体状の反応物質が、反応器の液相の中に溶解するための時間を持つことができないため、液体反応媒質の表面を通って散逸してしまう速度を増加させる。気体排出口（６）を介する気体の放出によって反応器内の圧力を調節することができる。

以下の実施例により、本考案をさらに詳しく説明する。

上述した特徴の全てと図１および２に示した構成および下記表１に与えた寸法を有する流体力学的反応器を一酸化炭素とともにメタノールのカルボニル化反応によって酢酸を生成する工程で利用することにより、一酸化炭素が欠乏してしまうような液体反応媒質の局所領域が反応器内に生じることのない、良好な気体／液体混合を容易に達成することができ、したがって、利用可能な反応容積と反応器に供給される一酸化炭素の効率的な利用が確保される。

Claims (10)

1. 一つの流体力学的反応器であって、該反応器は、一つの円筒部分（１）と一つの上部格納機構（２）および一つの底部格納機構（３）を含む垂直円筒形の構造体として構成されており、前記底部格納機構（３）は下方に延在する一つの曲面状の格納機構であり、そして前記反応器は、一つの液体注入孔（４）、一つの液体注入ノズル（５）、一つの気体排出口（６）、一つのバッフル（７）、一つの気体注入孔（８）、一つの気体分配器（９）および一つの液体排出口（１０）を含むものであり、ここで
   −前記液体注入孔（４）は、前記反応器の上部に配置され、前記反応器の円筒部分（１）の上部もしくは近傍において半径方向の中心位置に配置された前記液体注入ノズル（５）に接続され、そして液体を下方に放出するように構成されており；
   −前記気体放出孔（６）は、前記反応器の前記上部格納機構の中に配置されており；
   −前記バッフル（７）は、前記反応器の前記底部格納機構（３）の中において半径方向の中心位置に配置されており、前記バッフル（７）は、一つの水平基底要素（１１）、該水平基底要素（１１）に関して上方に延在する一つの垂直外周壁（１２）、および前記水平基底要素（１１）と前記垂直外周壁（１２）を接続する一つの傾斜外周壁（１３）を含み；
   −前記気体注入孔（８）は前記反応器の底部に配置されていて、かつ前記気体分配器（９）に接続されており；
   −前記気体分配器（９）は、前記バッフル（７）の前記垂直外周壁（１２）によって規定される直径上の半径方向の中心位置、かつ前記水平基底要素（１１）に比べ低くなく、かつ前記垂直外周壁（１２）の最上部より高くない垂直位置に配置されるか、もしくは前記バッフル（７）の前記垂直外周壁（１２）によって規定される直径上の半径方向の中心位置、かつ前記垂直外周壁（１２）の最上部より高い垂直位置に配置され、前記気体分配器（９）が、前記バッフル（７）内に規定される空間に向けて気体を放出するように構成されており；
   −前記液体排出口（１０）は、前記反応器の前記底部格納機構（３）の最底部において半径方向の中心位置に配置されており；
   −前記反応器の前記円筒部分（１）の直径（Ｄ）の、前記反応器の前記円筒部分（１）の高さ（Ｂ）に対する比が１．５：１から１：３の範囲内にあるとともに、前記反応器の前記円筒部分（１）の前記高さ（Ｂ）の前記反応器の全高（Ｃ）に対する比が１：１から１：３の範囲にあり；
   −前記バッフル（７）の前記水平基底要素（１１）の半径（Ｎ）の、前記バッフル（７）の前記垂直外周壁（１２）の半径（Ｏ）に対する比が０．３：１から０．９５：１の範囲内にあるとともに、前記バッフル（７）の前記垂直外周壁（１２）の高さ（Ｊ）の、前記バッフル（７）の前記垂直外周壁（１２）の前記半径（Ｏ）に対する比が１：１５から１：５の範囲にあり；かつ、
   −前記底部格納機構（３）の内表面と前記垂直外周壁（１２）および前記傾斜外周壁（１３）が交わる部分である接線との間に第一のギャップ（Ｋ）が設けられ、かつ、前記底部格納機構（３）の内表面と前記傾斜外周壁（１３）と前記水平基底要素（１１）が交わる部分である接線との間に第二のギャップ（Ｌ）が設けられ、さらに前記反応器の前記円筒部分（１）の前記直径（Ｄ）の、前記第一ギャップ（Ｋ）の長さに対する比が１０：１から８０：１の範囲内にあり、かつ前記反応器の前記円筒部分（１）の前記直径（Ｄ）の、前記第二ギャップ（Ｌ）に対する比が１０：１から８０：１の範囲内にあるように、前記バッフル（７）が配置される、
   流体力学的反応器。
2. 前記気体分配器（９）は、垂直方向において前記水平基底要素（１１）の上、かつ前記バッフル（７）の前記外周壁（１２）の最上部より下に配置される、
   請求項１に記載の流体力学的反応器。
3. 前記気体分配器（９）は一つのリング型気体分配器である、
   請求項１または２に記載の流体力学的反応器。
4. 前記気体分配器（９）の半径（Ｍ）は前記バッフル（７）の前記垂直外周壁（１２）の前記半径（Ｏ）より小さい、請求項３に記載の流体力学的反応器。
5. 前記気体分配器（９）の前記半径（Ｍ）の、前記垂直外周壁（１２）の前記半径（Ｏ）に対する比が０．７５：１から０．９５：１の範囲内にある、
   請求項３または４に記載の流体力学的反応器。
6. 前記バッフル（７）の前記水平基底要素（１１）の上方に配置された前記気体分配器（９）の高さ（Ｅ）の、前記垂直外周壁（１２）の前記半径（Ｏ）に対する比が０．１５：１から０．５：１の範囲内にある、
   請求項１ないし５のいずれか一項に記載の流体力学的反応器。
7. 前記バッフル（７）の前記水平基底要素（１１）が前記反応器の前記円筒部分（１）の最底部から第一距離（Ｈ）だけ下に位置しているとともに、前記バッフル（７）の前記垂直外周壁（１２）の最上部が前記反応器の前記円筒部分（１）の最底部から第二距離（Ｉ）だけ下に位置しており、ここで
   前記第一距離（Ｈ）の、前記反応器の前記円筒部分（１）の前記高さ（Ｂ）に対する比が０．１５：１から０．５：１の範囲内にあるとともに、前記第二距離（Ｉ）の、前記反応器の前記円筒部分（１）の前記高さ（Ｂ）に対する比が０．１：１から０．３：１の範囲内にある、
   請求項１ないし６のいずれか一項に記載の流体力学的反応器。
8. 前記液体注入ノズル（５）の直径（Ｇ）の、前記反応器の前記円筒部分（１）の前記直径（Ｄ）に対する比が１：１００から１：５の範囲内にあるとともに、前記液体注入ノズル（５）が前記反応器の前記円筒部分（１）の最上部から距離（Ａ）だけ下に位置しており、ここで
   前記距離（Ａ）の、前記反応器の前記円筒部分（１）の前記高さ（Ｂ）に対する比が１：１０から１：２．５の範囲内にある、
   請求項１ないし７のいずれか一項に記載の流体力学的反応器。
9. 前記液体排出口（１０）の直径（Ｆ）の、前記反応器の前記円筒部分（１）の前記直径（Ｄ）に対する比が１：２０から１：５の範囲内にある、
   請求項１ないし８のいずれか一項に記載の流体力学的反応器。
10. 前記上部格納機構（２）が上方に延在する半球面状の格納機構であるとともに、前記株格納機構（３）が下方に延在する半球面状の格納機構である、
    請求項１ないし９のいずれか一項に記載の流体力学的反応器。
    
    

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