JP3197817B2 - レーザービームによる対象物の同期式ｘｙ面走査装置及び方法 - Google Patents

レーザービームによる対象物の同期式ｘｙ面走査装置及び方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＸＹ平面で半導体基
板のような素材を光ビームにより走査する方法及び装
置、特に、ＸＹラスターパターンでレーザー走査する安
価で費用効果のよい方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光、特にレーザーを用いる走査システム
は多くの用途で使用される。例えば、レーザー走査はレ
ーザー印刷装置、マイクロ回路を作るための半導体基板
における穴開け、容器又は部品への英数字の刻み込み、
バーコードの読取り、マーキング、露光、刷り込み（ス
テンシリング）、型取り（パターンニング）及びその他
の関連したレーザー又は光プロセスで用いられる。走査
の目標は、規則正しく且つ好都合な方法で光源を有する
領域をＸＹ面に並べ、そしてコヒーレント及び非コヒー
レント源、例えばレーザー及び発光体光源の両者を含む
ことである。これらは最も多く用いられるシステムであ
るから、下記の記述は、便宜上、特にレーザー向けのも
のである。しかしながら、本発明は他の光源及び多くの
タイプのレーザー、例えばＮｄ：ＹＡＧ及びＨｅＮｅレ
ーザーシステムに用いうることを当業者は理解するであ
ろう。
【０００３】今日、対象物又はマスク作業ピースのレー
ザー走査に用いられる、種々の方法及び装置がある。こ
れらはレーザービームの位置を定めるためのガルバノメ
ータ、サーボ制御反射鏡、ポリゴン走査装置その他同種
類のものを含む。一般に、ビームはマスク面又は素材を
両方向にビーム走査する手段を提供する走査機構を通過
したのち完全に集束される。そして走査ビームは対物レ
ンズ及びマスク面を通過して作業ピース基板に向かう。
【０００４】１つの市販のレーザー走査装置は、ＸＹ軸
に沿ったレーザービームの精密な位置決めのために最適
化された、加工された反射鏡を有する一対の位置フィー
ドバック型の可動鉄片ガルバノメータを含むポスト対物
レンズ走査技術を用いる。走査装置内のコンピュータは
全ての平坦な面走査補正を計算し、そして素材上のベク
トル走査移動を指示する。ラスター走査はシミュレート
されリンク並行のベクトル移動を決定しうる。低価格の
光学検流計走査装置は、精密な位置決定のためのフィー
ドバックを定める位置決定センサーを含まない。これは
主として速度又は精度を必要としない低価格の代替装置
を意図したものである。典型的な用途はファクシミリ及
び光学位置入力又はトラッキングを含む。
【０００５】走査システムが有効であるためには対象面
での種々の走査速度、スポットサイズ、Ｙ軸インデキシ
ング及びＸ軸走査のために柔軟性が必要であり、そして
前記ＸＹ走査の実行に用いられる現在のシステムは複雑
且つ高価である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的
は、低価格で費用効果のよい、対象物をＸＹ面でレーザ
ー走査する装置及び方法を提供することにある。本発明
の第２の目的は、種々の走査速度、スポットサイズ、Ｙ
軸インデキシング及びＸ軸走査を容易且つ有効に用いう
るレーザー走査方法及び装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明はレーザービーム
によりＸＹラスターパターンで対象物を走査する新規の
方法及び装置を用いる。概して、本発明は対象面をラス
ター形式の光のスポットで走査する電気機械装置を用い
る。ラスター走査は直交的に配置された可動反射鏡とと
もに１つの可逆なモーターを用いて展開される。可動反
射鏡は、インデキシング用及び走査レーザービームラス
ターフォーマットの両者でレーザービームを面を横切っ
て指し向けるためにインデキシング及び走査機構に接続
されている。
【０００８】一般に、ラスター走査は与えられたＸＹ領
域を、その領域を横切る上向き又は下向きの段階的な矩
形パターンでカバーする。例えば、走査対象物の最上部
で開始する走査では、ビームは最初の方向でＸ軸の面に
沿った対象物の長さＸにわたって、長さＸが限界に達す
るまで移動される（「走査」と呼ばれる）。そしてビー
ムはＹ軸の面に沿って、所定の距離Ｙ／ｎだけ下方に移
動される（「インデキシング」と呼ばれる）。ここで、
ｎはＸＹ領域の走査に用いられるＸ走査線の数に等し
い。Ｙ／ｎが限界に達したとき、ビームは、ＸＹ領域の
長さＸが限界に達するまで、最初の方向と反対の方向で
ある２番目のＸ軸方向で走査する。そしてビームはＹ軸
に沿って更に長さＹ／ｎの下方移動をインデキシングさ
れる。上記手順はＸＹ領域の走査が終了するまで反復さ
れる。
【０００９】本発明では、レーザービームは走査装置に
入ったのち、最初の反射鏡、次いで２番目の反射鏡に順
次に突き当たる。反射鏡はどちらも同期式歯車に合わせ
たモーター軸の回転により相互に直交的に移動され、前
述のように走査対象物を段階的にＸＹインデキシングし
且つ走査ビームの移動を間欠的に行う。
【００１０】本発明の１つの態様では、レーザービーム
により対象物をＸＹ面ラスターパターンで同期走査する
方法は：レーザー経路に沿ってレーザービームを生成す
るステップと、回転運動を生成するステップと、第１の
対象物に、滑動できるように取付けられ、そして第１の
Ｘ軸に沿って前後に（両方向に）直線移動できるように
取付けられた第１の駆動装置を設けるステップと、前記
第１の駆動装置に取付けられた第１の反射鏡を設けるス
テップと、第２の対象物に、滑動できるように取付けら
れ、そして前記第１の軸と直交する第２のＹ軸に沿って
所定のＹ距離移動限界の間を前後に直線移動できるよう
に取付けられた第２の駆動装置を設けるステップと、前
記第２の駆動装置に取付けられた第２の反射鏡を設ける
ステップと、所定の走査距離Ｘだけ第１のＸ軸に沿った
第１の駆動装置の両方向移動を提供する第１の間欠的な
移動手段及び回転運動によるその移動を作動させ、第１
の駆動装置を移動するステップと、第２の間欠的な移動
手段及び回転運動による移動を作動させるステップと、
前記第２の間欠的な手段により第２の駆動装置に接続さ
れた第２のＹ軸移動手段を設け、第２の駆動装置の間欠
的な移動運動を第２のＹ軸に沿った特定の第１の方向に
与えるステップと、第２の駆動装置が第１の所定の移動
距離Ｙの限界に達した時点を知らせる標識手段を設ける
ステップと、第１の所定のＹ距離の移動限界に達したこ
とを標識手段が知らせたとき回転運動の方向が逆にされ
又は回転運動が停止されて所定の間隔で再開され、第２
の駆動装置が第２の所定の距離Ｙの限界に達するまで第
２のＹ軸に沿って第１の方向と反射の第２の方向に間欠
的に移動され、第２の所定距離Ｙの限界に達した時点で
回転運動の方向が再度反転されるように制御する手段を
設けるステップと、ラスター動作で走査されるようにレ
ーザービームを順次に反射鏡から反射させて対象物と接
触させるステップとを含むものである。
【００１１】本発明の別の態様では、ＸＹ面ラスターパ
ターンで対象物をレーザービームにより走査する装置
は：第１の対象物に、滑動できるように取付けられ、そ
して第１のＸ軸に沿って前後に直線移動できるように取
付けられた第１の駆動装置と、前記第１の駆動装置に取
付けられた第１の反射鏡と、第２の対象物に、滑動でき
るように取付けられ、そして前記第１の軸と直交する第
２のＹ軸に沿って所定のＹ距離移動限界の間を前後に直
線移動できるように取付けられた第２の駆動装置と、前
記第２の駆動装置に取付けられた第２の反射鏡と、反転
可能な回転軸を有するモーターと、前記回転軸及び第１
の駆動装置に接続され、第１のＸ軸に沿った前後（両方
向）運動を第１の駆動装置に与える第１の間欠移動手段
と、前記回転軸と噛み合わせでき、前記回転軸が連続的
に回転方向を変えるとき間欠移動する第１の間欠移動手
段と、前記第２の間欠移動手段及び第２の駆動装置に接
続され、第２のＹ軸に沿った特定の第１の方向で第２の
駆動装置に間欠移動運動を与える第２のＹ軸移動手段
と、第２の駆動装置が第１の所定の移動距離Ｙの限界に
達した時点を知らせる標識手段と、第１の所定の移動距
離Ｙの限界に達したことを標識手段が知らせたとき、モ
ータ回転軸の回転方向が逆にされ、第２の駆動装置が第
２の所定の限界に達するまで第２のＹ軸に沿って第２の
逆方向に間欠的に移動され、第２の所定の限界に達した
時点でモータ回転軸の回転方向が逆にされ又は回転が停
止されるように制御する手段と、を備える装置である。
【００１２】本発明の方法及び装置は種々のレーザー走
査に用いる低価格のレーザー（光学）配送システムであ
る。本発明は走査装置の複雑さ及び価格を抑えることに
よりレーザー走査の全体的な費用のかなりの減少を達成
する。本発明の装置及び方法を用いて広範囲のレーザー
ビーム又は他の光源を用いることができる。
【００１３】本発明の良好なレーザー走査方法及び装置
では、第１の駆動装置の移動及び指し向けられるレーザ
ービームは走査対象物のＸ面の限界を越えて広がる。別
の良好な実施例では、第２の駆動装置の移動及び指し向
けられるレーザービームは走査対象物のＹ面の限界を越
えて広がる。更に良好な方法及び装置では、第１の駆動
装置及び第２の駆動装置の両者の移動並びに指し向けら
れたレーザービームは、それぞれ、走査対象物のＸ面及
びＹ面の限界を越えて広がる。Ｘ面及びＹ面の限界は走
査対象物の活動状態の領域を定める。良好な方法及び装
置は、走査中の活動状態のＸＹ面でより高い一定ビーム
速度及びビームエネルギ密度を生成するために、この良
好な活動状態の領域の拡張走査を利用する。この方法で
は、組合わされた２つの反射鏡は、マスク又は基板面の
活動状態の領域で一定速度及び同期を維持しつつマスク
又は基板面でラスタータイプの走査を展開する。第１の
移動手段及び第２の移動手段は、走査対象物の活動状態
の領域からインデキシング（Ｙ軸に沿ったレーザービー
ムの上方及び下方移動）が起きるように、位置決めされ
制御される。それゆえ、良好な方法を用いる活動状態の
領域はマスク又は基板の活動状態の面で常に一定のエネ
ルギ及び走査速度を受取る。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の良好な実施例の説明にお
いて、図１乃至図４で本発明の同じ機構は同じ参照番号
で示される。本発明の構成は必ずしも共通の縮尺では図
示されない。
【００１５】図１は本発明の同期式ＸＹレーザー走査装
置１０及びレーザービーム３７を示す。走査装置１０は
ベース１１及びそれに取付けられた第１の対象物１２を
有する。第１の駆動装置１３は第１の対象物１２に、滑
動できるように取付けられ、そして第１の駆動装置１３
は第１の対象物１２の上をＸ軸に沿って直線移動する。
第２の対象物１４は第２の駆動装置１５／１５ａに、滑
動できるように取付けられ、第２の駆動装置１５／１５
ａは第２の対象物１４の上に、Ｙ軸に沿って直線移動で
きるように取付けられる。第１の反射鏡１６は第１の駆
動装置１３に取付けられ、そして第２の反射鏡１７は第
２の駆動装置１５／１５ａに取付けられる。第１の駆動
装置１３及び第２の駆動装置１５／１５ａは実質的に摩
擦がないことが望ましい。
【００１６】モーター１８は回転軸１９を有する並列可
変速度可逆ＤＣモーターであることが望ましい。３００
ｒｐｍまで及びそれよりも高い種々の速度は無数のラス
ター走査処理速度を与える。回転軸１９は、軸支持部２
０により、回転できるように支持される。回転軸１９に
取付けられるカム２１は、図示のように、８つのローブ
３５を有する。カム従動部２２はカム２１に噛み合わさ
れ、そして第１の駆動装置１３に連結される。歯車２３
は間欠的な運動で駆動される歯車であり、回転軸１９に
取付けられた突縁（フランジ）３８で精密ボールベアリ
ングカム従動部３４と図示のように噛み合わされる。カ
ム２１、歯車２３及び突縁３８の種々の設計を用いて、
後述のように異なるラスター走査パターンを提供するこ
とができる。
【００１７】図２及び図３はそれぞれ図１のレーザー走
査装置の上面図及び側面図を示す。間欠的に駆動される
歯車２３の支持部２８ａ及び２８ｂ（図１に図示せず）
は回転できるようにリードスクリュー２９で結合され
る。歯車２３はリードスクリュー２９に取付けられ、そ
してどちらも一緒に回転する。リードスクリュー２９及
び第２の駆動装置１５／１５ａはアーム３０により連結
される。リードスクリュー２９は第２の対象物１４のＹ
軸に沿った反射鏡１７の移動を可能にする。標識手段３
３は図示のように第２の駆動装置１５に、Ｙ軸の第１の
標識境界手段３１及び第２の標識境界手段３２と接触す
るように取付けられる。どちらかの標識境界手段と標識
手段３３との接触によりモーターは逆回転するので回転
軸１９の回転方向が逆になり、従って歯車２３及びリー
ドスクリュー２９は逆方向に移動するので、第２の駆動
装置１５はそれが前に移動していた方向と反対方向に移
動する。
【００１８】第１の標識境界手段３１及び第２の標識境
界手段３２はレーザービームで走査されるＹ軸の長さを
制御するように調整し、又は所定の間隔で走査を停止さ
せ開始させるために使用しうる。リードスクリュー２９
は異なるピッチのねじ山の使用によるインデキシングの
ためのＹ軸移動の長さを制御しうる。これはリードスク
リュー２９の１回転当りの第２の駆動装置１５及び反射
鏡１７の直線移動の量を変え、そして所望の走査タイプ
に応じて制御しうる。当業者に理解されるように、Ｘ方
向の走査の長さは異なるカム及びカム従動部の使用によ
り変えうる。
【００１９】動作中、図示のレーザービーム２４のよう
な光源が第１の反射鏡１６に、そして第２の反射鏡１７
に、指し向けられて反射され、そしてマスク面２５に指
し向けられる。モーター１８の回転により、モーターの
回転軸１９はカム２１を回転させ、カム従動部２２は、
第１の駆動装置１３及びそれに取付けられた第１の反射
鏡１６を、Ｘ軸に沿った第１の対象物１２の面に沿って
移動させる（走査）。カムのローブ（丸い突出部）３５
に達すると、第１の駆動装置はカム従動部の方向の変更
のためにその移動が中断され、そしてカム２１に合わせ
た間欠的な歯車２３の同期移動により、第２の反射鏡１
７がＹインデキシング方向に移動される。歯車２３の溝
３６がカム従動部２２、即ち突縁３８のドエルとしての
精密ボールベアリングカム従動部３４により噛み合わさ
れたとき、間欠的な歯車が移動する。これは歯車２３に
間欠的な移動を与える、従ってリードスクリュー２９、
第２の駆動装置１５／１５ａ及びそれに取付けられた反
射鏡１７に間欠的な直線移動を与える。間欠的な歯車２
３及びカム２１が順次に作動するように構成されること
により、第２の駆動装置１５／１５ａの移動が中断され
たとき、第１の駆動装置１３はカム２１及びカム従動部
２２により移動される。従って、第１の駆動装置１及び
第２の駆動装置１５／１５ａは別々に直交方向に移動
し、マスク面２５のＸＹラスター２５ａの走査を可能に
する。レーザービーム２４はマスク面２５、対物レンズ
２６を通過して作業基板２７に達する。
【００２０】カム２１及び間欠的な歯車２３がラスター
走査パターンを与えるように順次に作動することは本発
明の重要な特徴である。図示のように、カム２１は８つ
のローブを有する。回転軸１９の回転でカム２１が回転
すると、カム従動部２２はカム設計に従って第１の駆動
装置１３をＸ軸に沿って前後に移動させる。カム従動部
が隣接ローブ３５の間を移動すると、第１の駆動装置１
３は特定のＸ方向に移動される。ローブ３５の噛み合わ
せによりＸ方向の移動が中断された後、次の隣接ローブ
へのカム従動部の移動は第１の駆動装置１３を反対方向
に移動させる。従って、Ｘ軸に沿った走査の前後移動が
カム２１及びカム従動部２２により中断される。図示の
カム設計では、第１の駆動装置１３の完全な４サイクル
の前後移動、即ち８本の独立したＸ軸ラスター走査線を
与える８つのローブ３５がある。
【００２１】図示のように、間欠的な歯車２３は８つの
溝３６を有する。これらの歯車はゼネバ歯車及び他の間
欠的なタイプの歯車設計を含む。溝３６は突起部３４と
噛み合い、そして噛み合ったとき、歯車２３を、回転軸
１９の回転により回転させる。歯車２３が突起部３４と
そのように噛み合わないとき、歯車２３は静止している
ので、反射鏡１７のＹ方向の移動は静止している。歯車
２３はカム２１のようにいくつかの溝３６を有し、カム
２１及び歯車２３がラスター走査形式を提供するために
順次に動作するように構成されることを条件として反射
鏡１７の間欠的な移動を変更しうる。
【００２２】図４は本発明の走査装置及び方法により提
供された典型的なラスター走査を示す。ビーム２４によ
るマスク面２５の走査は拡張走査２５ｂに示されたよう
に行われる。図示のマスク面の活動状態の領域２５ａは
Ｘ軸走査線のみを有するが、Ｙ軸走査線もマスク面の活
動状態の領域の外側にある。前述のように、この拡張走
査方法はマスクの活動状態の面に一定のビームエネルギ
及び走査速度を与えるので、本発明の走査装置及び方法
を用いる大いに良好な方法である。
【００２３】まとめとして、本発明の構成に関して以下
の事項を開示する。 （１）レーザービームによる対象物の同期式ＸＹ走査装
置であって、第１の対象物に、第１のＸ軸に沿って前後
に移動できるように取付けられた第１の駆動装置と、前
記第１の駆動装置に取付けられた第１の反射鏡と、第２
の対象物に、第１のＸ軸と直交する第２のＹ軸に沿って
所定の移動限界の間を前後に移動できるように取付けら
れた第２の駆動装置と、第２の駆動装置に取付けられた
第２の反射鏡と、回転軸を有するモーターと、前記回転
軸及び第１の駆動装置に連結され、第１のＸ軸に沿って
第１の駆動装置を前後に移動する第１の間欠移動手段
と、前記回転軸に噛み合わせでき、前記回転軸が連続的
に回転しているとき間欠移動する第２の間欠移動手段
と、前記第２の間欠移動手段及び第２の駆動装置に連結
され、第２のＹ軸に沿った特定の第１の方向の間欠移動
運動を第２の駆動装置に提供する第２のＹ軸移動手段
と、第２の駆動装置が第１の所定の移動距離Ｙの限界に
達した時点を知らせる標識手段と、第１の所定の移動距
離Ｙの限界に達したことを標識手段が知らせたとき、モ
ータ回転軸の回転方向が逆にされ、第２の駆動装置が第
２の所定の限界に達するまで第２のＹ軸に沿って第２の
逆方向に間欠的に移動され、第２の所定の限界に達した
時点でモータ回転軸の回転方向が逆にされ又は回転が停
止されるように制御する手段と、を備える装置。 （２）前記モーターは可逆な可変速度ＤＣモーターであ
る、上記（１）に記載の装置。 （３）前記第１の間欠移動手段はカムである、上記
（１）に記載の装置。 （４）前記第２の間欠移動手段は間欠的な歯車である、
上記（１）に記載の装置。 （５）前記第２のＹ軸移動手段はリードスクリューであ
る、上記（１）に記載の装置。 （６）第１の間欠移動手段はカムであり、第２の間欠移
動手段は間欠的な歯車であり、そして第２の軸移動手段
はリードスクリューである、上記（１）に記載の装置。 （７）レーザービームによる対象物の同期式ＸＹ面ラス
ターパターン走査方法であって、レーザー経路に沿った
レーザービームを生成するステップと、回転運動を生じ
させるステップと、第１のＸ軸に沿って直線的に前後に
移動できるように、第１の対象物に取付けられた、第１
の駆動装置を設けるステップと、前記第１の駆動装置に
取付けられた第１の反射鏡を設けるステップと、第１の
Ｘ軸と直交する第２のＹ軸に沿って所定のＹ距離の移動
限界の間で直線的に前後に移動できるように、第２の対
象物に滑動できるように取付けられた、第２の駆動装置
を設けるステップと、前記第２の駆動装置に取付けられ
た第２の反射鏡を設けるステップと、第１のＸ軸に沿っ
た第１の駆動装置の所定のＸ走査距離の前後運動を提供
する第１の間欠移動手段を、第１の駆動装置を移動する
回転運動により移動させるステップと、回転運動により
第２の間欠移動手段を移動させるステップと、第２のＹ
軸に沿った特定の第１の方向で第２の駆動装置の間欠移
動運動を与えるために、前記第２の間欠移動手段により
第２の駆動装置に連結された第２のＹ軸移動手段を設け
るステップと、第２の駆動装置が第１の所定のＹ距離の
移動限界に達した時点を知らせる標識手段を設けるステ
ップと、第１の所定のＹ距離の移動限界に達したことを
標識手段が知らせたとき回転運動の方向が逆転され又は
回転運動が停止されて所定の間隔で再開され、第２の駆
動装置が第２の所定の距離Ｙの限界に達するまで第２の
Ｙ軸に沿って第１の方向と反対の第２の方向に間欠的に
移動され、第２の所定距離Ｙの限界に達した時点で回転
運動の方向が再度逆転されるように制御する手段を設け
るステップと、ラスター動作で走査されるようにレーザ
ービームを順次に反射鏡から反射させて対象物と関係を
とるステップとを含む方法。 （８）第１の間欠的移動手段はカムである、上記（７）
に記載の方法。 （９）第２の間欠的移動手段は間欠的な歯車である、上
記（７）に記載の方法。 （１０）第２のＹ軸移動手段はリードスクリューであ
る、上記（７）に記載の方法。 （１１）第１の間欠移動手段はカムであり、第２の間欠
移動手段は間欠的な歯車であり、そして第２のＹ軸移動
手段はリードスクリューである、上記（７）に記載の方
法。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の同期式ＸＹレーザー走査装置の斜視図
である。
【図２】図１のレーザー走査装置の上面図である。
【図３】図１のレーザー走査装置の側面図である。
【図４】本発明のレーザー走査装置のマスク面でのＸＹ
走査を、マスク面の活動状態の領域の拡張走査を含めて
示す図である。
【符号の説明】
１０ ＸＹレーザー走査装置 １１ ベース １２ 第１の対象物 １３ 第１の駆動装置 １４ 第２の対象物 １５ 第２の駆動装置 １５ａ 第２の駆動装置 １６ 第１の反射鏡 １７ 第２の反射鏡 １８ モーター １９ 回転軸 ２０ 軸支持部 ２１ カム ２２ カム従動部 ２３ 歯車 ２４ レーザービーム ２５ マスク面 ２５ａ ＸＹラスター ２６ 対物レンズ ２７ 作業基板 ３４ 精密ボールベアリングカム従動部、ド
エル ３５ ローブ ３６ 溝 ３７ レーザービーム ３８ 突縁（フラン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジェイムズ・ハワード・コベル、セカン ド アメリカ合衆国ニューヨーク州、プゥキ ープシー、クラマー・ロード 24 (72)発明者 フランツ・エックス・トポロベック アメリカ合衆国ニューヨーク州、アコー ド、クーパー・ストリート 357 (72)発明者 アルディス・アーティス・ジーミンズ アメリカ合衆国ニューヨーク州、プゥキ ープシー、スカイビュウ・ドライブ 59 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 26/10

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】レーザービームによる対象物の同期式ＸＹ
    走査装置であって、 第１の対象物に、第１のＸ軸に沿って前後に移動できる
    ように取付けられた第１の駆動装置と、 前記第１の駆動装置に取付けられた第１の反射鏡と、 第２の対象物に、第１のＸ軸と直交する第２のＹ軸に沿
    って所定の移動限界の間を前後に移動できるように取付
    けられた第２の駆動装置と、 第２の駆動装置に取付けられた第２の反射鏡と、 回転軸を有するモーターと、 前記回転軸及び第１の駆動装置に連結され、第１のＸ軸
    に沿って第１の駆動装置を前後に移動する第１の間欠移
    動手段と、 前記回転軸に噛み合わせでき、前記回転軸が連続的に回
    転しているとき間欠移動する第２の間欠移動手段と、 前記第２の間欠移動手段及び第２の駆動装置に連結さ
    れ、第２のＹ軸に沿った特定の第１の方向の間欠移動運
    動を第２の駆動装置に提供する第２のＹ軸移動手段と、 第２の駆動装置が第１の所定の移動距離Ｙの限界に達し
    た時点を知らせる標識手段と、 第１の所定の移動距離Ｙの限界に達したことを標識手段
    が知らせたとき、モータ回転軸の回転方向が逆にされ、
    第２の駆動装置が第２の所定の限界に達するまで第２の
    Ｙ軸に沿って第２の逆方向に間欠的に移動され、第２の
    所定の限界に達した時点でモータ回転軸の回転方向が逆
    にされ又は回転が停止されるように制御する手段と、 を備える装置。
  2. 【請求項２】前記モーターは可逆な可変速度ＤＣモータ
    ーである、請求項１に記載の装置。
  3. 【請求項３】前記第１の間欠移動手段はカムである、請
    求項１に記載の装置。
  4. 【請求項４】前記第２の間欠移動手段は間欠的な歯車で
    ある、請求項１に記載の装置。
  5. 【請求項５】前記第２のＹ軸移動手段はリードスクリュ
    ーである、請求項１に記載の装置。
  6. 【請求項６】第１の間欠移動手段はカムであり、第２の
    間欠移動手段は間欠的な歯車であり、そして第２の軸移
    動手段はリードスクリューである、請求項１に記載の装
    置。
  7. 【請求項７】レーザービームによる対象物の同期式ＸＹ
    面ラスターパターン走査方法であって、 レーザー経路に沿ったレーザービームを生成するステッ
    プと、 回転運動を生じさせるステップと、 第１のＸ軸に沿って直線的に前後に移動できるように、
    第１の対象物に取付けられた、第１の駆動装置を設ける
    ステップと、 前記第１の駆動装置に取付けられた第１の反射鏡を設け
    るステップと、 第１のＸ軸と直交する第２のＹ軸に沿って所定のＹ距離
    の移動限界の間で直線的に前後に移動できるように、第
    ２の対象物に滑動できるように取付けられた、第２の駆
    動装置を設けるステップと、 前記第２の駆動装置に取付けられた第２の反射鏡を設け
    るステップと、 第１のＸ軸に沿った第１の駆動装置の所定のＸ走査距離
    の前後運動を提供する第１の間欠移動手段を、第１の駆
    動装置を移動する回転運動により移動させるステップ
    と、 回転運動により第２の間欠移動手段を移動させるステッ
    プと、 第２のＹ軸に沿った特定の第１の方向で第２の駆動装置
    の間欠移動運動を与えるために、前記第２の間欠移動手
    段により第２の駆動装置に連結された第２のＹ軸移動手
    段を設けるステップと、 第２の駆動装置が第１の所定のＹ距離の移動限界に達し
    た時点を知らせる標識手段を設けるステップと、 第１の所定のＹ距離の移動限界に達したことを標識手段
    が知らせたとき回転運動の方向が逆転され又は回転運動
    が停止されて所定の間隔で再開され、第２の駆動装置が
    第２の所定の距離Ｙの限界に達するまで第２のＹ軸に沿
    って第１の方向と反対の第２の方向に間欠的に移動さ
    れ、第２の所定距離Ｙの限界に達した時点で回転運動の
    方向が再度逆転されるように制御する手段を設けるステ
    ップと、 ラスター動作で走査されるようにレーザービームを順次
    に反射鏡から反射させて対象物と関係をとるステップと
    を含む方法。
  8. 【請求項８】第１の間欠的移動手段はカムである、請求
    項７に記載の方法。
  9. 【請求項９】第２の間欠的移動手段は間欠的な歯車であ
    る、請求項７に記載の方法。
  10. 【請求項１０】第２のＹ軸移動手段はリードスクリュー
    である、請求項７に記載の方法。
  11. 【請求項１１】第１の間欠移動手段はカムであり、第２
    の間欠移動手段は間欠的な歯車であり、そして第２のＹ
    軸移動手段はリードスクリューである、請求項７に記載
    の方法。
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