JP3196422B2 - I / O protection circuit - Google Patents
I / O protection circuitInfo
- Publication number
- JP3196422B2 JP3196422B2 JP12806893A JP12806893A JP3196422B2 JP 3196422 B2 JP3196422 B2 JP 3196422B2 JP 12806893 A JP12806893 A JP 12806893A JP 12806893 A JP12806893 A JP 12806893A JP 3196422 B2 JP3196422 B2 JP 3196422B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- input
- voltage
- gate
- transistor
- nmos transistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本願の発明は、半導体装置等の内
部回路を静電破壊から保護するための入出力保護回路に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an input / output protection circuit for protecting an internal circuit of a semiconductor device or the like from electrostatic breakdown.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体装置等における入出力保護素子と
して、ドレインを入出力端子に接続し、ソース及びゲー
トを接地したNMOSトランジスタがある。このNMO
Sトランジスタでは、そのチャネル幅が広いほど、放電
時の電流密度が小さく、静電破壊電圧が高くて、静電破
壊耐量が優れている。しかし、チャネル幅が例えば12
00μmと広いと、このNMOSトランジスタは非常に
細長くなり、半導体装置そのものを大きくする必要等が
生じる。2. Description of the Related Art As an input / output protection element in a semiconductor device or the like, there is an NMOS transistor having a drain connected to an input / output terminal and a source and a gate grounded. This NMO
In an S transistor, the larger the channel width, the lower the current density during discharge, the higher the electrostatic breakdown voltage, and the better the electrostatic breakdown strength. However, if the channel width is, for example, 12
If the width is as large as 00 μm, the NMOS transistor becomes very elongated, and the semiconductor device itself needs to be enlarged.
【0003】そこで、例えばチャネル幅が200μmの
NMOSトランジスタを6個並列に接続し、全体として
のチャネル幅を広くした入出力保護回路が考えられてい
る。図4は、この様な入出力保護回路の一従来例を示し
ている。この一従来例では、入出力端子11と内部回路
12との間で、6個のNMOSトランジスタ13のドレ
イン14同士及びソース15同士が同一のノードとして
並列に接続された状態で、ドレイン14が入出力端子1
1に接続されており、ソース15、ゲート16及び基板
17が接地されている。Therefore, an input / output protection circuit has been proposed in which six NMOS transistors each having a channel width of 200 μm are connected in parallel to increase the overall channel width. FIG. 4 shows a conventional example of such an input / output protection circuit. In this conventional example, the drain 14 is connected between the input / output terminal 11 and the internal circuit 12 in a state where the drains 14 and the sources 15 of the six NMOS transistors 13 are connected in parallel as the same node. Output terminal 1
1 and the source 15, gate 16 and substrate 17 are grounded.
【0004】この一従来例で、入出力端子11に高電圧
が印加されると、NMOSトランジスタ13において、
そのドレイン14がコレクタに、ソース15がエミッタ
に、基板17がベースに夫々相当する寄生バイポーラト
ランジスタが動作し、NMOSトランジスタ13を通し
て放電が行われる。このため、高電圧がそのまま内部回
路12に印加されることがなく、内部回路12が保護さ
れる。In this conventional example, when a high voltage is applied to the input / output terminal 11, the NMOS transistor 13
A parasitic bipolar transistor corresponding to the drain 14 as a collector, the source 15 as an emitter, and the substrate 17 as a base operates, and discharge is performed through the NMOS transistor 13. Therefore, the high voltage is not applied to the internal circuit 12 as it is, and the internal circuit 12 is protected.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、図4に示した
一従来例の様に複数個のNMOSトランジスタ13が並
列に接続されている場合、必ずしも総てのNMOSトラ
ンジスタ13で寄生バイポーラトランジスタが動作して
放電が行われる訳ではない。そして、寄生バイポーラト
ランジスタが動作するNMOSトランジスタ13の数が
少ないほど、有効なチャネル幅が狭くなり、放電時の電
流密度が大きくなる。However, when a plurality of NMOS transistors 13 are connected in parallel as in the conventional example shown in FIG. 4, a parasitic bipolar transistor does not necessarily operate in all the NMOS transistors 13. It does not mean that the discharge is performed. The smaller the number of NMOS transistors 13 in which the parasitic bipolar transistors operate, the narrower the effective channel width and the higher the current density at the time of discharge.
【0006】このため、発熱によってNMOSトランジ
スタ13自体が破壊に至り易く、静電破壊電圧が期待し
ていた値よりも低くなっていた。しかも、NMOSトラ
ンジスタ13がLDD構造やサリサイド構造である場合
は、シングルドレイン構造である場合に比べて更に静電
破壊電圧が低いことが知られている。For this reason, the NMOS transistor 13 itself is liable to break down due to heat generation, and the electrostatic breakdown voltage is lower than expected. In addition, it is known that when the NMOS transistor 13 has the LDD structure or the salicide structure, the electrostatic breakdown voltage is lower than when the NMOS transistor 13 has the single drain structure.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】請求項1の入出力保護回
路では、複数のNMOSトランジスタ13の各々のドレ
イン14が互いに並列に入出力端子11に接続されてお
り、前記複数のNMOSトランジスタ13の各々のソー
ス15が接地されており、前記複数のNMOSトランジ
スタ13の各々のゲート16が抵抗素子21を直列に介
して接地されている。In the input / output protection circuit according to the present invention, the drains of the plurality of NMOS transistors are connected to the input / output terminal in parallel with each other. Each source 15 is grounded, and each gate 16 of the plurality of NMOS transistors 13 is grounded via a resistor 21 in series.
【0008】請求項2の入出力保護回路では、請求項1
の入出力保護回路において、前記ドレイン14と前記ゲ
ート16との間または前記ソース15と前記ゲート16
との間の少なくとも一方に容量素子24、25が接続さ
れている。In the input / output protection circuit according to claim 2,
In the input / output protection circuit of the above, between the drain 14 and the gate 16 or between the source 15 and the gate 16
And capacitive elements 24 and 25 are connected to at least one of them.
【0009】請求項3の入出力保護回路では、請求項1
または2の入出力保護回路において、前記入出力端子側
11から電源側に対して順方向となる非線型素子31が
前記入出力端子11に接続されている。According to the input / output protection circuit of claim 3,
Alternatively, in the input / output protection circuit of No. 2, a non-linear element 31 which is forward from the input / output terminal side 11 to the power supply side is connected to the input / output terminal 11.
【0010】[0010]
【作用】請求項1の入出力保護回路では、NMOSトラ
ンジスタ13のゲート16が抵抗素子21を直列に介し
て接地されているので、立ち上がり時間の非常に短い正
の高電圧パルスが入出力端子11に印加されると、ゲー
ト16−ドレイン14間の寄生容量22とゲート16−
ソース15間の寄生容量23とでドレイン14−ソース
15間の電圧を分圧した電圧まで、ゲート電圧が上昇す
る。このため、放電時に、NMOSトランジスタ13が
導通状態かそれに近い状態になり、多くのNMOSトラ
ンジスタ13において寄生バイポーラトランジスタが動
作し易くなる。In the input / output protection circuit according to the first aspect, the gate 16 of the NMOS transistor 13 is grounded via the resistance element 21 in series, so that a positive high voltage pulse having a very short rise time is applied to the input / output terminal 11. Is applied, the parasitic capacitance 22 between the gate 16 and the drain 14 and the gate 16
The gate voltage rises to a voltage obtained by dividing the voltage between the drain 14 and the source 15 with the parasitic capacitance 23 between the source 15. For this reason, at the time of discharging, the NMOS transistor 13 is in a conductive state or a state close to the conductive state, and in many NMOS transistors 13, the parasitic bipolar transistor is easily operated.
【0011】しかも、NMOSトランジスタ13のゲー
ト電圧が上述の電圧まで上昇しても、ゲート16−ドレ
イン14間及びゲート16−ソース15間の寄生容量2
2、23と抵抗素子21との時定数によって、ゲート電
圧は0Vまで減衰する。このため、NMOSトランジス
タ13において寄生バイポーラトランジスタが動作し、
同時にNMOSトランジスタ13のチャネル電流が流れ
たとしても、このチャネル電流が流れ続けることはな
い。これによって、NMOSトランジスタ13の破壊が
防止される。 Moreover, even if the gate voltage of the NMOS transistor 13 rises to the above-mentioned voltage, the parasitic capacitance 2 between the gate 16 and the drain 14 and between the gate 16 and the source 15
The gate voltage attenuates to 0 V due to the time constant of the resistance elements 2 and 23 and the resistance element 21. Therefore, a parasitic bipolar transistor operates in the NMOS transistor 13, and
At the same time, the channel current of the NMOS transistor 13 flows
Even if this, the channel current does not continue to flow . As a result, the destruction of the NMOS transistor 13
Is prevented.
【0012】請求項2の入出力保護回路では、NMOS
トランジスタ13のゲート16に印加される電圧を容量
素子24、25で制御して適正化することができるの
で、放電時にNMOSトランジスタ13のチャネルを電
流が過大に流れるのを防止することができる。In the input / output protection circuit according to the second aspect, the NMOS
Since the voltage applied to the gate 16 of the transistor 13 can be controlled and optimized by the capacitors 24 and 25, an excessive current flowing through the channel of the NMOS transistor 13 during discharging can be prevented.
【0013】請求項3の入出力保護回路では、非線型素
子31によって、放電時に入出力端子11の電圧をNM
OSトランジスタ13のスナップバック電圧程度に保持
することなく速やかに低下させることができる。In the input / output protection circuit according to the third aspect, the voltage of the input / output terminal 11 is reduced by the non-linear element 31 during discharge.
It is possible to reduce the voltage quickly without holding the voltage around the snapback voltage of the OS transistor 13.
【0014】[0014]
【実施例】以下、本願の発明の第1〜第3実施例を、図
1〜3を参照しながら説明する。なお、図4に示した一
従来例と対応する構成部分には、同一の符号を付してあ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, first to third embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. Note that the same reference numerals are given to components corresponding to those in the conventional example shown in FIG.
【0015】図1が、第1実施例を示している。この第
1実施例は、ゲート16同士も同一のノードとして並列
に接続されており、且つこのノードが抵抗素子21を直
列に介して接地されていることを除いて、図4に示した
一従来例と実質的に同様の構成を有している。FIG. 1 shows a first embodiment. The first embodiment is different from the conventional one shown in FIG. 4 except that the gates 16 are also connected in parallel as the same node, and this node is grounded via a resistance element 21 in series. It has a configuration substantially similar to the example.
【0016】NMOSトランジスタ13のゲート16と
ドレイン14との間及びゲート16とソース15との間
には、オーバラップ容量等の寄生容量22、23が夫々
存在している。そして、ゲート16が抵抗素子21を直
列に介して接地されている。このため、立ち上がり時間
の非常に短い正の高電圧パルスが入出力端子11に印加
されると、ドレイン14とソース15との間の電圧を寄
生容量22、23で分圧した電圧まで、ゲート16の電
圧が上昇する。Parasitic capacitances 22 and 23 such as overlap capacitances exist between the gate 16 and the drain 14 and between the gate 16 and the source 15 of the NMOS transistor 13, respectively. The gate 16 is grounded via the resistor 21 in series. Therefore, when a positive high voltage pulse having a very short rise time is applied to the input / output terminal 11, the gate 16 is driven to a voltage obtained by dividing the voltage between the drain 14 and the source 15 by the parasitic capacitances 22 and 23. Voltage rises.
【0017】この様に、入出力端子11に高電圧が印加
された直後は、各NMOSトランジスタ13のゲート1
6に同じ正の電圧が印加されるので、各NMOSトラン
ジスタ13が導通状態かそれに近い状態になり、多くの
NMOSトランジスタ13において寄生バイポーラトラ
ンジスタが動作し易くなる。このため、並列に接続され
ている6個のNMOSトランジスタ13全体の有効なチ
ャネル幅が広く、放電時の電流密度が小さい。As described above, immediately after the high voltage is applied to the input / output terminal 11, the gate 1 of each NMOS transistor 13
Since the same positive voltage is applied to 6, each NMOS transistor 13 is in a conductive state or a state close to the conductive state, and in many NMOS transistors 13, a parasitic bipolar transistor easily operates. Therefore, the effective channel width of the entire six NMOS transistors 13 connected in parallel is wide, and the current density at the time of discharging is small.
【0018】一方、NMOSトランジスタ13が導通状
態であり続けると、そのチャネルを流れる電流が過大に
なり、NMOSトランジスタ13が破壊に至り易い。N
MOSトランジスタ13が破壊されると、この破壊され
たNMOSトランジスタ13を通してリーク電流が流れ
る原因にもなる。On the other hand, if the NMOS transistor 13 is kept conductive, the current flowing through its channel becomes excessive, and the NMOS transistor 13 is easily damaged. N
When the MOS transistor 13 is broken, a leak current may flow through the broken NMOS transistor 13.
【0019】しかし、この第1実施例では、抵抗素子2
1の抵抗値をRとし、寄生容量22、23の容量値を夫
々c1 、c2 とし、各NMOSトランジスタ13のサイ
ズが同一でC1 =c1 ×6、C2 =c2 ×6とすると、
τ=(C1 +C2 )Rの時定数で、ゲート16の電圧が
0Vまで減衰する。このため、NMOSトランジスタ1
3が導通状態であり続けることはない。However, in the first embodiment, the resistance element 2
1 is R, the capacitance values of the parasitic capacitances 22 and 23 are c 1 and c 2 , respectively, and the size of each NMOS transistor 13 is the same and C 1 = c 1 × 6 and C 2 = c 2 × 6. Then
With the time constant of τ = (C 1 + C 2 ) R, the voltage of the gate 16 attenuates to 0V. Therefore, the NMOS transistor 1
3 does not remain conductive.
【0020】この様に、並列に接続されている6個のN
MOSトランジスタ13全体の有効なチャネル幅が広く
て放電時の電流密度が小さく、しかもNMOSトランジ
スタ13が導通状態であり続けてそのチャネルを流れる
電流が過大になることもないので、発熱によってNMO
Sトランジスタ13が破壊に至ることが少なく、静電破
壊電圧が高い。Thus, the six Ns connected in parallel
Since the effective channel width of the entire MOS transistor 13 is wide and the current density at the time of discharge is small, and the current flowing through the channel of the NMOS transistor 13 does not become excessive, the NMO is not heated.
The S transistor 13 is less likely to break down and has a high electrostatic breakdown voltage.
【0021】なお、この第1実施例ではゲート16同士
を同一のノードとして並列に接続してから抵抗素子21
を直列に介して接地しているので、各NMOSトランジ
スタ13のゲート16の各々が抵抗素子21を直列に介
して接地している構造に比べて、等しいバイアス電圧を
ゲート16に印加することができる。In the first embodiment, after the gates 16 are connected in parallel as the same node,
Are serially grounded, it is possible to apply the same bias voltage to the gate 16 as compared with the structure in which each gate 16 of each NMOS transistor 13 is grounded via the resistance element 21 in series. .
【0022】図2が、第2実施例を示している。この第
2実施例は、ドレイン14とゲート16との間またはソ
ース15とゲート16との間の少なくとも一方に容量素
子24、25が接続されていることを除いて、図1に示
した第1実施例と実質的に同様の構成を有している。FIG. 2 shows a second embodiment. The second embodiment is different from the first embodiment shown in FIG. 1 except that capacitors 24 and 25 are connected to at least one of between the drain 14 and the gate 16 or between the source 15 and the gate 16. It has a configuration substantially similar to that of the embodiment.
【0023】ところで、放電時にNMOSトランジスタ
13のゲート16に印加される電圧は閾値電圧よりも少
し高い程度でよく、高すぎると、NMOSトランジスタ
13のチャネルを電流が過大に流れることもあり得る。
しかし、上述の第1実施例では、ゲート16に印加され
る電圧が寄生容量22、23によって決定されるので、
この印加電圧を適正な値に制御することが困難である。
これに対して、この第2実施例では、印加電圧を容量素
子24、25で制御して適正化することができる。The voltage applied to the gate 16 of the NMOS transistor 13 at the time of discharging may be slightly higher than the threshold voltage. If the voltage is too high, an excessive current may flow through the channel of the NMOS transistor 13.
However, in the above-described first embodiment, since the voltage applied to the gate 16 is determined by the parasitic capacitances 22 and 23,
It is difficult to control this applied voltage to an appropriate value.
On the other hand, in the second embodiment, the applied voltage can be controlled and optimized by the capacitors 24 and 25.
【0024】図3が、第3実施例を示している。この第
3実施例は、PMOSトランジスタ31のソース32が
入出力端子11に接続されており、ドレイン33、ゲー
ト34及び基板35が電源に接続されていることを除い
て、図2に示した第2実施例と実質的に同様の構成を有
している。FIG. 3 shows a third embodiment. The third embodiment is similar to the third embodiment shown in FIG. 2 except that the source 32 of the PMOS transistor 31 is connected to the input / output terminal 11 and the drain 33, the gate 34, and the substrate 35 are connected to a power supply. It has a configuration substantially similar to that of the two embodiments.
【0025】この様な第3実施例では、入出力端子11
に印加されている電圧が電源電圧よりも低ければ、PM
OSトランジスタ31のソース32と基板35とが逆バ
イアスされているので、これらのソース32と基板35
との間には電流が流れない。しかし、電源電圧よりも高
い電圧が入出力端子11に印加されると、ソース32と
基板35とが順バイアスされるので、これらのソース3
2と基板35との間に電流が流れる。従って、PMOS
トランジスタ31のソース32と基板35とは非線型素
子であるダイオードとして機能する。In the third embodiment, the input / output terminal 11
Is lower than the power supply voltage, PM
Since the source 32 of the OS transistor 31 and the substrate 35 are reverse-biased, the source 32 and the substrate 35
No current flows between them. However, when a voltage higher than the power supply voltage is applied to the input / output terminal 11, the source 32 and the substrate 35 are forward-biased.
A current flows between the substrate 2 and the substrate 35. Therefore, PMOS
The source 32 of the transistor 31 and the substrate 35 function as a diode which is a non-linear element.
【0026】また、電源電圧よりも高い電圧が入出力端
子11に印加されると、電源に接続されているゲート3
4の電圧よりもソース32の電圧が高くなるので、PM
OSトランジスタ31が導通状態になって、PMOSト
ランジスタ31としてのチャネルにも電流が流れる。When a voltage higher than the power supply voltage is applied to the input / output terminal 11, the gate 3 connected to the power supply
Since the voltage of the source 32 becomes higher than the voltage of
The OS transistor 31 becomes conductive, and a current also flows through the channel as the PMOS transistor 31.
【0027】ところで、上述の第1及び第2実施例で
は、正の高電圧パルスが入出力端子11に印加された
後、ドレイン14とソース15との間の電圧は、NMO
Sトランジスタ13のスナップバック電圧程度に保持さ
れる。しかし、この第3実施例では、上述の様にPMO
Sトランジスタ31に電流が流れるので、入出力端子1
1の電圧をNMOSトランジスタ13のスナップバック
電圧程度に保持することなく速やかに低下させることが
できる。In the first and second embodiments , the positive high voltage pulse is applied to the input / output terminal 11.
Later , the voltage between the drain 14 and the source 15 becomes NMO
It is maintained at about the snapback voltage of the S transistor 13. However, in the third embodiment, the PMO
Since a current flows through the S transistor 31, the input / output terminal 1
1 can be quickly reduced without holding the voltage of about 1 at about the snapback voltage of the NMOS transistor 13.
【0028】なお、上述の様に、PMOSトランジスタ
31のソース32と基板35とがダイオードとして機能
するが、このPMOSトランジスタ31の代わりにダイ
オードを作成するよりもPMOSトランジスタ31を作
成する方が、半導体装置の製造プロセスの全体をMOS
トランジスタの製造プロセスで統一することができて好
ましい。As described above, the source 32 of the PMOS transistor 31 and the substrate 35 function as a diode. However, it is more difficult to form the PMOS transistor 31 than to form a diode instead of the PMOS transistor 31. MOS for the entire device manufacturing process
This is preferable because it can be standardized in the transistor manufacturing process.
【0029】[0029]
【発明の効果】請求項1の入出力保護回路では、放電時
に多くのNMOSトランジスタにおいて寄生バイポーラ
トランジスタが動作し易いので、各NMOSトランジス
タにおける電流密度が小さく、しかも、NMOSトラン
ジスタにおいて寄生バイポーラトランジスタが動作し続
けることもない。このため、放電時に発熱によってNM
OSトランジスタが破壊に至ることが少なく、静電破壊
電圧が高い。In the input / output protection circuit according to the first aspect, the parasitic bipolar transistors easily operate in many NMOS transistors at the time of discharge, so that the current density in each NMOS transistor is small and the parasitic bipolar transistor operates in the NMOS transistor. I do not keep doing it. For this reason, NM occurs due to heat generation during discharge.
The OS transistor is less likely to break down and has a high electrostatic breakdown voltage.
【0030】請求項2の入出力保護回路では、放電時に
NMOSトランジスタのチャネルを電流が過大に流れる
のを防止することができるので、放電時に発熱によって
NMOSトランジスタが破壊に至ることが更に少なく、
静電破壊電圧が更に高い。In the input / output protection circuit according to the second aspect, excessive current can be prevented from flowing through the channel of the NMOS transistor at the time of discharging.
Higher electrostatic breakdown voltage.
【0031】請求項3の入出力保護回路では、放電時に
入出力端子の電圧をNMOSトランジスタのスナップバ
ック電圧程度に保持することなく速やかに低下させるこ
とができるので、放電時に発熱によってNMOSトラン
ジスタが破壊に至ることが更に少なく、静電破壊電圧が
更に高い。In the input / output protection circuit according to the third aspect, the voltage of the input / output terminal can be rapidly reduced without maintaining the voltage of the input / output terminal at the level of the snapback voltage of the NMOS transistor at the time of discharge. , And the electrostatic breakdown voltage is higher.
【図1】本願の発明の第1実施例の等価回路図である。FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of a first embodiment of the present invention.
【図2】第2実施例の等価回路図である。FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the second embodiment.
【図3】第3実施例の等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of a third embodiment.
【図4】本願の発明の一従来例を示しており、(a)は
等価回路図、(b)は平面図である。4A and 4B show a conventional example of the present invention, wherein FIG. 4A is an equivalent circuit diagram, and FIG. 4B is a plan view.
11 入出力端子 13 NMOSトランジスタ 14 ドレイン 15 ソース 16 ゲート 21 抵抗素子 24 容量素子 25 容量素子 31 PMOSトランジスタ Reference Signs List 11 input / output terminal 13 NMOS transistor 14 drain 15 source 16 gate 21 resistive element 24 capacitive element 25 capacitive element 31 PMOS transistor
Claims (3)
レインが互いに並列に入出力端子に接続されており、 前記複数のNMOSトランジスタの各々のソースが接地
されており、 前記複数のNMOSトランジスタの各々のゲートが抵抗
素子を直列に介して接地されていることを特徴とする入
出力保護回路。1. A drain of each of the plurality of NMOS transistors is connected to an input / output terminal in parallel with each other, a source of each of the plurality of NMOS transistors is grounded, and a gate of each of the plurality of NMOS transistors. An input / output protection circuit characterized in that: is grounded via a resistance element in series.
前記ソースと前記ゲートとの間の少なくとも一方に容量
素子が接続されていることを特徴とする請求項1記載の
入出力保護回路。2. The input / output protection circuit according to claim 1, wherein a capacitor is connected to at least one of between the drain and the gate or between the source and the gate.
方向となる非線型素子が前記入出力端子に接続されてい
ることを特徴とする請求項1または2記載の入出力保護
回路。3. The input / output protection circuit according to claim 1, wherein a non-linear element extending in a forward direction from the input / output terminal side to the power supply side is connected to the input / output terminal.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12806893A JP3196422B2 (en) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | I / O protection circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12806893A JP3196422B2 (en) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | I / O protection circuit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06318674A JPH06318674A (en) | 1994-11-15 |
JP3196422B2 true JP3196422B2 (en) | 2001-08-06 |
Family
ID=14975664
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12806893A Expired - Fee Related JP3196422B2 (en) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | I / O protection circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3196422B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100203900B1 (en) * | 1996-06-24 | 1999-06-15 | 김영환 | Semiconductor device with esd protection circuit |
JP3237110B2 (en) | 1998-03-24 | 2001-12-10 | 日本電気株式会社 | Semiconductor device |
JP5431791B2 (en) * | 2009-05-27 | 2014-03-05 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | ESD protection circuit |
-
1993
- 1993-04-30 JP JP12806893A patent/JP3196422B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06318674A (en) | 1994-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7224560B2 (en) | Destructive electrical transient protection | |
JP3174636B2 (en) | Electrostatic discharge protection for CMOS integrated circuits | |
US7589945B2 (en) | Distributed electrostatic discharge protection circuit with varying clamp size | |
US11315919B2 (en) | Circuit for controlling a stacked snapback clamp | |
US6233130B1 (en) | ESD Protection device integrated with SCR | |
US6479872B1 (en) | Dynamic substrate-coupled electrostatic discharging protection circuit | |
KR101034614B1 (en) | Electrostatic discharge protection circuit | |
US7889469B2 (en) | Electrostatic discharge protection circuit for protecting semiconductor device | |
US20050068702A1 (en) | Electro-static discharge protection circuit | |
US7098717B2 (en) | Gate triggered ESD clamp | |
US6091593A (en) | Early trigger of ESD protection device by a negative voltage pump circuit | |
US5982601A (en) | Direct transient-triggered SCR for ESD protection | |
KR100533559B1 (en) | Protection circuit for output drivers | |
US6744107B1 (en) | ESD protection circuit with self-triggered technique | |
US6304127B1 (en) | Negative-voltage-trigger SCR with a stack-gate ESD transient switch | |
US10381826B2 (en) | Integrated circuit electrostatic discharge protection | |
JP2006515960A (en) | Electrostatic discharge circuit and method therefor | |
JP3196422B2 (en) | I / O protection circuit | |
US5942931A (en) | Circuit for protecting an IC from noise | |
US6043967A (en) | Early trigger of ESD protection device by a voltage pump circuit | |
JP3471906B2 (en) | Semiconductor device | |
EP0132536B1 (en) | Transistor driver circuit | |
KR0154786B1 (en) | Esd protection circuit with high resisting voltage pmos | |
JP2871329B2 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
KR20240143598A (en) | Esd protection circuitry, and electronic device including esd protection circuitry |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |