JP3180905U - タッチパネル - Google Patents
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Abstract
【課題】高屈折率の光学層を用いてタッチパネルの視覚上の残像現象を改善させ、斜面を有する遮光層を用いてタッチパネルのタッチ可能領域を改善させるタッチパネルを提供する。
【解決手段】透明基板31の下表面の少なくとも1つの周辺に設けられる遮光層32を備える。光学層34の屈折率は1.5より大きく、透明基板の表面に設けられる。タッチセンシング層は透明基板の下方に設けられる。
【選択図】図3B
【解決手段】透明基板31の下表面の少なくとも1つの周辺に設けられる遮光層32を備える。光学層34の屈折率は1.5より大きく、透明基板の表面に設けられる。タッチセンシング層は透明基板の下方に設けられる。
【選択図】図3B
Description
本考案は、高屈折率の光学層を有するタッチパネルに関する。
タッチパネルディスプレイは検知技術とディスプレイ技術とを結合させて入出力装置を形成させ、携帯式及び手持ち型の電子装置に普遍的に使用されている。
静電容量方式タッチパネルは普及するタッチパネルの一種で、静電容量結合効果を利用してタッチされた位置を検知させる。指が静電容量方式タッチパネルの表面に触れた時に、対応する位置の静電容量が変化することでタッチされた位置を検知させる。
図1は従来のタッチパネルのタッチセンシング層の上面図である。タッチセンシング層は垂直電極列11及び水平電極列12を備え、ガラス板の同じ面に形成され、絶縁ブリッジ素子13により互いに電気的に絶縁される。図1によれば従来のタッチセンシング層の垂直電極列11と水平電極列12との間にショートを起こさせないためには、垂直電極列11と水平電極列12との間には間隙(gap)が必要である。
しかしながら、前述した従来の技術では、ユーザーが上からタッチパネルを俯瞰した場合、視覚上の残像(trace)が発生するといった問題があった。
図2(A)及び図2(B)はそれぞれ従来のタッチパネルの上面図及び断面図である。ガラス基板21の下表面の周囲にはブラックマトリクス(black matrix、 BM)22が設けられ、ガラス基板21及びブラックマトリクス22の下表面にはタッチセンシング層23が設けられる。
タッチセンシング層23は検知部231及びレイアウト(routing)部232を備え、ブラックマトリクス22に被覆されない部分は検知部231であり、レイアウト部232はブラックマトリクス22の下方に位置される。理想としては、検知部231はアクティブ領域或いはタッチ可能領域24を有する。然しながら、タッチセンシング層23が薄いため、検知部231の外囲領域25(即ち、タッチ可能領域24と領域26との間に介在する領域)が断線する状況が発生する。
タッチセンシング層23は検知部231及びレイアウト(routing)部232を備え、ブラックマトリクス22に被覆されない部分は検知部231であり、レイアウト部232はブラックマトリクス22の下方に位置される。理想としては、検知部231はアクティブ領域或いはタッチ可能領域24を有する。然しながら、タッチセンシング層23が薄いため、検知部231の外囲領域25(即ち、タッチ可能領域24と領域26との間に介在する領域)が断線する状況が発生する。
そこで、本考案者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的設計で上記の課題を効果的に改善する本考案の提案に到った。
本考案は、このような従来の問題に鑑みてなされたものである。上記課題解決のため、本考案は、高屈折率の光学層を用いてタッチパネルの視覚上の残像現象を改善させ、斜面を有する遮光層を用いてタッチパネルのタッチ可能領域を改善させるタッチパネルを提供することを主目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本考案に係るタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板の下表面の少なくとも1つの周辺に設けられる遮光層と、屈折率は1.5より大きく、前記透明基板の表面に設けられる光学層と、前記透明基板の下方に設けられるタッチセンシング層を備えることを特徴とする。
本考案によれば、視覚上の残像を有する従来のタッチパネルを改善させるタッチパネルが得られる。
以下、本考案の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、本考案は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
まず、本考案のタッチパネルの一実施形態について説明する。
まず、本考案のタッチパネルの一実施形態について説明する。
本考案の一実施形態の構成を図3Aから図3Bに示す。図3A及び図3Bはそれぞれ本考案に係る一実施形態によるタッチパネルの上面図及び断面図である。分り易く説明するため、図式には本実施形態に関する部材のみ図示する。
図3A及び図3Bによると、まず透明基板31を提供し、その材質は高透光率の絶縁材料であり、例えばガラス、ポリカーボネート(Polycarbonate、PC)、ポリエチレンテレフタラート(Polyethylene terephthalate、PET)、ポリメタクリル酸メチル(Polymethyl methacrylate、PMMA)、環状オレフィンコポリマー(Cyclic olefin copolymer、COC)等である。
透明基板31の下表面の少なくとも1つの周辺には遮光層32が設けられる。図式中の遮光層32は透明基板31の4つの周辺に設けられるが、これに制限させるわけではない。本実施形態による遮光層32は一般的なブラックマトリクス(black matrix、BM)であるが、これに限られず、遮光機能を有する全ての導電材質或いは非導電材質が適合する。本明細書での、方位の上とはタッチパネルのタッチ面を指し、方位の下とはタッチ面とは反対の方向を指す。
この実施形態の特徴によれば、遮光層32は傾斜する側面(斜面と称する)を有する。実施形態では、遮光層32の斜面と透明基板31の底面との間には角度Aを有し、その値は50度より小さい。本明細書の後段に説明するが、遮光層32の斜面は本実施形態によるタッチパネルのタッチ領域を原始アクティブ領域33Bから拡大アクティブ領域33Aへと増大させる。
この実施形態の他の特徴によれば、透明基板31の表面(例えば下表面)には光学層34が設けられ、前記光学層34は透明且つ高屈折率を有し、例えば1.5より大きい。
本実施形態による光学層34の材質は、光依存性抵抗材料等の透光有機材料、或いはシリコン酸化物(例えば二酸化シリコン)や金属酸化物等の透光無機材料である。光学層34を形成させる方法は複数あり、例えば物理蒸気蒸着、化学蒸気蒸着、塗布(coating)、印刷、スピニング加工(spinning)等の製造工程がある。本実施形態では、光学層34は透明基板31の下表面を被覆させる以外、遮光層32の下表面も被覆させる。
本実施形態による光学層34の材質は、光依存性抵抗材料等の透光有機材料、或いはシリコン酸化物(例えば二酸化シリコン)や金属酸化物等の透光無機材料である。光学層34を形成させる方法は複数あり、例えば物理蒸気蒸着、化学蒸気蒸着、塗布(coating)、印刷、スピニング加工(spinning)等の製造工程がある。本実施形態では、光学層34は透明基板31の下表面を被覆させる以外、遮光層32の下表面も被覆させる。
図3Bによれば、光学層34の下表面にはタッチセンシング層35が設けられ、その材質は透明導電材料(例えば酸化インジウムスズ(ITO)や酸化インジウム亜鉛(IZO))であるが、これに限定されない。図3Bの概略図には一層のタッチセンシング層35のみ図示するが、複数の副層を備えてもよく、これら前記副層には単辺の単層、単辺の多層、或いは二辺の多層等のレイアウトが用いられる。
タッチセンシング層35は検知部351及びレイアウト(routing)部352を備える。検知部351とレイアウト部352との境界線は遮光層32の非斜面の下方に位置される。これにより検知部351は本実施形態の拡大アクティブ領域或いは拡大タッチ可能領域33Aを有する。従来のタッチパネル(例えば図2(A)及び図2(B))の傾斜する側面を有するブラックマトリクス22に比較し、本実施形態の遮光層32は斜面を有するため、前記斜面付近(即ち拡大アクティブ領域33Aと原始アクティブ領域33Bとの間)の領域では、検知部351が断線される状況が発生せず、タッチパネルのタッチ可能領域を増大させる。
タッチセンシング層35は検知部351及びレイアウト(routing)部352を備える。検知部351とレイアウト部352との境界線は遮光層32の非斜面の下方に位置される。これにより検知部351は本実施形態の拡大アクティブ領域或いは拡大タッチ可能領域33Aを有する。従来のタッチパネル(例えば図2(A)及び図2(B))の傾斜する側面を有するブラックマトリクス22に比較し、本実施形態の遮光層32は斜面を有するため、前記斜面付近(即ち拡大アクティブ領域33Aと原始アクティブ領域33Bとの間)の領域では、検知部351が断線される状況が発生せず、タッチパネルのタッチ可能領域を増大させる。
図3A及び図3Bによると、本実施形態のタッチパネルは、透明基板31の上表面に設けられて光線の反射を低下させる反射防止層36を更に備え、透明基板31が汚れるのを防ぐ。
このほか、本実施形態のタッチパネルは、タッチセンシング層35の下表面に設けられ、タッチセンシング層35を保護させる被覆(overcoating)層37を更に備える。上述のタッチパネルは単独で電子装置に用いられ、更にディスプレイパネル(図示せず)に結合されてタッチパネルディスプレイを形成させる。
このほか、本実施形態のタッチパネルは、タッチセンシング層35の下表面に設けられ、タッチセンシング層35を保護させる被覆(overcoating)層37を更に備える。上述のタッチパネルは単独で電子装置に用いられ、更にディスプレイパネル(図示せず)に結合されてタッチパネルディスプレイを形成させる。
図4は本考案に係る二実施形態のタッチパネルの断面図であり、その上面図は図3Aに類似するため省略する。本実施形態は一実施形態(図3B)に類似し、異なる点は、本実施形態は第一光学層34Aが透明基板31の下表面とタッチセンシング層35との間に設けられる以外、第二光学層34Bが透明基板31の上表面と反射防止層36との間に設けられる点である。
図5は本考案に係る三実施形態のタッチパネルの断面図であり、その上面図は図3Aに類似するため省略する。本実施形態は二実施形態(図4)に類似し、異なる点は、本実施形態は単層の光学層34Cが透明基板31の上表面と反射防止層36との間に設けられるのみで、透明基板31の下表面とタッチセンシング層35との間の光学層は省略され、タッチセンシング層35は透明基板31の下表面に直接設けられる。
上述の各実施形態では、高屈折率の光学層35を有しタッチセンシング層35の上方に直接的か間接的に設けられ、タッチセンシング層35のタッチセンサー電極に位置されるか隣り合うタッチセンサー電極の間の間隙に位置されるかに問わず、上方からタッチパネルを俯瞰した時に検知される反射光線には差異がほぼ無くなり(即ち反射率が実質同じ)、タッチパネルの視覚上の残像現象を改善させる。このほか、前述のように上述の実施形態による遮光層32は斜面を有することでタッチパネルのタッチ可能領域を増大させる。
以上、本考案はこのような実施形態に限定されるものではなく、考案の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の形態で実施することができる。
11 垂直電極列
12 水平電極列
13 絶縁ブリッジ素子
21 ガラス基板
22 ブラックマトリクス
23 タッチセンシング層
231 検知部
232 レイアウト部
24 アクティブ領域
25 検知部の外囲領域
26 領域
31 透明基板
32 遮光層
33A 拡大アクティブ領域
33B 原始アクティブ領域
34 光学層
34A 第一光学層
34B 第二光学層
34C 光学層
35 タッチセンシング層
351 検知部
352 レイアウト部
36 反射防止層
37 被覆層
A 角度
12 水平電極列
13 絶縁ブリッジ素子
21 ガラス基板
22 ブラックマトリクス
23 タッチセンシング層
231 検知部
232 レイアウト部
24 アクティブ領域
25 検知部の外囲領域
26 領域
31 透明基板
32 遮光層
33A 拡大アクティブ領域
33B 原始アクティブ領域
34 光学層
34A 第一光学層
34B 第二光学層
34C 光学層
35 タッチセンシング層
351 検知部
352 レイアウト部
36 反射防止層
37 被覆層
A 角度
Claims (7)
- 透明基板と、
前記透明基板の下表面の少なくとも1つの周辺に設けられる遮光層と、
屈折率は1.5より大きく、前記透明基板の表面に設けられる光学層と、
前記透明基板の下方に設けられるタッチセンシング層を備える事を特徴とする、タッチパネル。 - 前記遮光層はブラックマトリクス(BM)を備える事を特徴とする、請求項1に記載のタッチパネル。
- 前記遮光層は斜面を有する事を特徴とする、請求項1に記載のタッチパネル。
- 前記光学層の材質はシリコン酸化物である事を特徴とする、請求項1に記載のタッチパネル。
- 前記光学層は前記透明基板の下表面に設けられると共に前記遮光層の下表面に設けられる事を特徴とする、請求項1に記載のタッチパネル。
- 前記透明基板の上表面に設けられる第二光学層を更に備える事を特徴とする、請求項5に記載のタッチパネル。
- 前記光学層は前記透明基板の上表面に設けられる事を特徴とする、請求項1に記載のタッチパネル。
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2013
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